JP3904028B2 - Wavelength selective absorption filter - Google Patents

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Description

本発明は、近赤外線及びネオン光を吸収する光学フィルターに関するものであり、詳しくは近赤外領域に幅広く大きな吸収を有し、さらにネオン光を吸収し、かつ他の可視光領域の光線透過率が高く、さらに高温高湿下で保管しても光学特性の経時変化が少ない耐久性に優れる波長選択吸収フィルターに関するものである。   The present invention relates to an optical filter that absorbs near-infrared light and neon light, and more specifically, has a wide and large absorption in the near-infrared region, absorbs neon light, and transmits light in other visible light regions. The present invention relates to a wavelength selective absorption filter that is high in durability and has excellent durability with little change in optical characteristics over time even when stored at high temperature and high humidity.

近赤外線の吸収能を有する光学フィルターは、近赤外線を遮断し、可視光を通過させる性質を有しており、各種の用途に使用されている。   An optical filter having near-infrared absorption ability has a property of blocking near-infrared light and allowing visible light to pass therethrough, and is used in various applications.

近年、薄型大画面ディスプレイとしてプラズマディスプレイが注目されているが、プラズマディスプレイから放出される近赤外線により、近赤外線リモコンを使用する電子機器が誤動作を起こす問題があり、プラズマディスプレイの前面に近赤外線吸収フィルターが設けられている。   In recent years, plasma displays have attracted attention as thin, large-screen displays. However, there is a problem that electronic devices that use near-infrared remote controls malfunction due to near-infrared rays emitted from plasma displays. A filter is provided.

近赤外線吸収フィルターとしては、(1)燐酸系ガラスに、銅や鉄などの金属イオンを含有したフィルター、(2)屈折率の異なる層を積層し、透過光を干渉させることで特定の波長を透過させる干渉フィルター、(3)共重合体に銅イオンを含有するアクリル系樹脂フィルター、(4)樹脂に赤外線吸収色素を分散又は溶解した層を積層したフィルター、が提案されている。   As a near-infrared absorption filter, (1) a filter containing metal ions such as copper or iron on phosphoric acid glass, and (2) a layer having a different refractive index is laminated, and a specific wavelength is set by causing interference with transmitted light. Proposed interference filters, (3) acrylic resin filters containing copper ions in copolymers, and (4) filters in which a layer in which an infrared absorbing dye is dispersed or dissolved in a resin are laminated.

これらの中で(4)のフィルターは、加工性、生産性が良好で、光学設計の自由度も比較的大きいため、当該フィルターを製造する各種の方法が提案されている(例えば、特許文献1〜9参照)。
特開2002− 82219号公報 特開2002−214427号公報 特開2002−303720号公報 特開2002−333517号公報 特開2003− 82302号公報 特開2003− 96040号公報 特開平11−305033号公報 特開平11−326629号公報 特開平11−326631号公報 特開2000−227515号公報 特開2002−264278号公報 国際公開第97/38855号パンフレット 特開2003−114323号公報 特開2002−138203号公報
Among these, the filter (4) has good processability and productivity, and has a relatively large degree of freedom in optical design, and therefore various methods for producing the filter have been proposed (for example, Patent Document 1). To 9).
JP 2002-82219 A JP 2002-214427 A JP 2002-303720 A JP 2002-333517 A JP 2003-82302 A Japanese Patent Laid-Open No. 2003-96040 Japanese Patent Laid-Open No. 11-305033 JP-A-11-326629 Japanese Patent Laid-Open No. 11-326631 JP 2000-227515 A JP 2002-264278 A International Publication No. 97/38855 Pamphlet JP 2003-114323 A JP 2002-138203 A

これらの方法の中には、プラズマディスプレイから放出される近赤外線を十分に遮断する能力を有するものもあるが、高温高湿下で長時間使用した場合、光学特性の経時安定性は不十分であった。   Some of these methods have the ability to sufficiently block the near-infrared rays emitted from the plasma display. However, when used for a long time under high temperature and high humidity, the optical properties are not stable over time. there were.

高温高湿下で長時間使用した場合の光学特性の経時安定性を抑制する方法として、近赤外線吸収層を構成する樹脂のガラス転移温度を、近赤外線吸収フィルターを利用する機器の使用保障温度以上とする方法(例えば、特許文献7〜10を参照)、近赤外線吸収層の残留溶剤量を低減させる方法(例えば、特許文献10、11を参照)が提案されている。   As a method to suppress the temporal stability of the optical characteristics when used for a long time under high temperature and high humidity, the glass transition temperature of the resin constituting the near infrared absorption layer is higher than the guaranteed use temperature of the equipment using the near infrared absorption filter (For example, refer to Patent Documents 7 to 10) and a method for reducing the amount of residual solvent in the near-infrared absorbing layer (for example, refer to Patent Documents 10 and 11).

また、近赤外線吸収色素として用いられる芳香族ジインモニウム化合物系色素は、一般的に熱に弱いことが知られている(例えば、特許文献12の第17頁を参照)。   In addition, it is known that aromatic diimmonium compound-based dyes used as near-infrared absorbing dyes are generally vulnerable to heat (see, for example, page 17 of Patent Document 12).

そこで、ジインモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収層において、熱による色素の変質を抑制する技術として、ジインモニウム系化合物を精製して、DSC測定において温度220℃以上に吸熱ピークを有する特定のジインモニウム系化合物を近赤外線吸収層に含有させる方法(例えば、特許文献13参照)、融点が190℃以上のジインモニウム系化合物を近赤外線遮蔽層に含有させる方法(例えば、特許文献14を参照)なども提案されている。   Therefore, as a technique for suppressing dye alteration due to heat in a near-infrared absorbing layer containing a diimmonium compound, the diimmonium compound is purified and a specific diimmonium compound having an endothermic peak at a temperature of 220 ° C. or higher in DSC measurement. Have also been proposed (for example, see Patent Document 13), a method for containing a diimmonium compound having a melting point of 190 ° C. or higher in the near-infrared shielding layer (for example, see Patent Document 14), and the like. Yes.

さらに、プラズマディスプレイは、ネオンオレンジ光(波長600nm付近)も発光するため、近赤外線吸収層の経時安定性を保つのみでは、当該ディスプレイの鮮やかな演色性や画像の鮮明性が損なわれるといった問題があった。   Furthermore, since the plasma display also emits neon orange light (wavelength of around 600 nm), there is a problem that the vivid color rendering property and the sharpness of the image of the display are impaired only by maintaining the temporal stability of the near infrared absorption layer. there were.

本発明の目的は、近赤外領域に大きく、幅広い吸収を有し、さらにネオン光も吸収する一方で、他の可視光領域の光線透過率が高い選択吸収光学フィルターにおいて、光学特性の経時変化が少なく、耐久性に優れる波長選択吸収フィルターを提供することにある。   The purpose of the present invention is to change optical characteristics over time in a selective absorption optical filter that has a large and broad absorption in the near infrared region, absorbs neon light, and has a high light transmittance in other visible light regions. The object of the present invention is to provide a wavelength-selective absorption filter having a small amount and excellent durability.

本発明者らは上記の課題を解決するため、鋭意研究した結果、ついに本発明を完成するに到った。即ち、本発明は、以下の通りである。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have finally completed the present invention. That is, the present invention is as follows.

第1の発明は、ポリエステル系フィルムを透明基材とし、当該透明基材上に、樹脂、近赤外線吸収色素(A)、及び色素(B)を含有する単層または複層の波長選択吸収層を積層してなり、かつ、波長800〜1200nm及び波長550〜620nmに極大吸収を有する波長選択吸収フィルターであって、
前記近赤外線吸収色素(A)の1つがビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸を対イオンとする芳香族ジインモニウム系色素(a)であり、
前記色素(B)の1つがポルフィリン系色素またはアザポルフィリン系色素(b)であることを特徴とする波長選択吸収フィルターである。
The first invention uses a polyester-based film as a transparent substrate, and a single-layer or multiple-layer wavelength-selective absorption layer containing a resin, a near-infrared absorbing dye (A), and a dye (B) on the transparent substrate. A wavelength-selective absorption filter having a maximum absorption at a wavelength of 800 to 1200 nm and a wavelength of 550 to 620 nm,
One of the near-infrared absorbing dyes (A) is an aromatic diimmonium dye (a) having bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid as a counter ion,
One of the dyes (B) is a porphyrin dye or an azaporphyrin dye (b).

第2の発明は、複層の波長選択吸収層が、樹脂及び近赤外線吸収色素(A)を含有する近赤外線吸収層と、樹脂及び色素(B)を含有するネオンカット層がこの順に透明基材上に形成させてなることを特徴とする第1の発明に記載の波長選択吸収フィルターである。   In the second invention, the multi-layer wavelength selective absorption layer includes a near-infrared absorption layer containing a resin and a near-infrared absorption dye (A), and a neon cut layer containing a resin and a dye (B) in this order. The wavelength selective absorption filter according to the first invention, wherein the wavelength selective absorption filter is formed on a material.

第3の発明は、波長選択吸収層が、前記芳香族ジインモニウム系色素(a)100質量部に対して、前記ポルフィリン系色素またはアザポルフィリン系色素(b)5〜100質量部(質量比)含むことを特徴とする第1の発明に記載の波長選択吸収フィルターである。   In a third invention, the wavelength selective absorption layer contains 5 to 100 parts by mass (mass ratio) of the porphyrin dye or azaporphyrin dye (b) with respect to 100 parts by mass of the aromatic diimmonium dye (a). A wavelength selective absorption filter according to the first aspect of the invention.

第4の発明は、波長選択吸収層を構成する樹脂がアクリル系樹脂であることを特徴とする第1の発明に記載の波長選択吸収フィルターである。   A fourth invention is the wavelength selective absorption filter according to the first invention, wherein the resin constituting the wavelength selective absorption layer is an acrylic resin.

第5の発明は、単層の波長選択吸収層が、前記透明基材上に、有機溶剤、樹脂、芳香族系ジインモニウム系色素(a)、ポルフィリン系色素またはアザポルフィリン系色素(b)を含有する塗布液Aを、塗布、乾燥させて形成させることを特徴とするものである第1の発明に記載の波長選択吸収フィルターである。   In a fifth aspect of the invention, the single wavelength selective absorption layer contains an organic solvent, a resin, an aromatic diimmonium dye (a), a porphyrin dye or an azaporphyrin dye (b) on the transparent substrate. The wavelength selective absorption filter according to the first invention, wherein the coating liquid A is formed by coating and drying.

第6の発明は、複層の波長選択吸収層が、前記透明基材上に、有機溶剤、樹脂、および芳香族系ジインモニウム系色素(a)を含有する塗布液Bを、塗布、乾燥させて形成させた近赤外線吸収層と、該近赤外線吸収層の直上に、有機溶剤および樹脂と、ポルフィリン系色素またはアザポルフィリン系色素(b)を含有する塗布液Cを、塗布、乾燥させて形成させたネオンカット層を含むことを特徴とする第1の発明に記載の波長選択吸収フィルターである。   In a sixth aspect of the present invention, a multilayer wavelength selective absorption layer is formed by applying and drying a coating liquid B containing an organic solvent, a resin, and an aromatic diimmonium dye (a) on the transparent substrate. The formed near-infrared absorbing layer, and a coating liquid C containing an organic solvent and a resin and a porphyrin-based dye or an azaporphyrin-based dye (b) are formed by coating and drying immediately above the near-infrared absorbing layer. The wavelength selective absorption filter according to the first aspect of the invention is characterized by including a neon cut layer.

第7の発明は、塗布液AまたはBが、さらにHLBが2〜12の界面活性剤を含有することを特徴とする第5または6の発明に記載の波長選択吸収フィルターである。   A seventh invention is the wavelength selective absorption filter according to the fifth or sixth invention, wherein the coating liquid A or B further contains a surfactant having an HLB of 2 to 12.

第8の発明は、界面活性剤がシリコーン系界面活性剤またはフッ素系界面活性剤であることを特徴とする第7の発明に記載の波長選択吸収フィルター。
第9の発明は、前記透明基材と波長選択吸収層との間に、粒子を含有する中間層を備えた第1〜8の発明のいずれかに記載の波長選択吸収フィルター。
第10の発明は、前記粒子が、シリカ、カオリナイト、タルク、炭酸カルシウム、ゼオライト、アルミナ、アクリル、PMMA、ナイロン、スチレン、ポリエステル、ベンゾグアナミン・ホルマリン縮合物から選択されるものである第9の発明に記載の波長選択吸収フィルター。
An eighth invention is the wavelength selective absorption filter according to the seventh invention, wherein the surfactant is a silicone surfactant or a fluorine surfactant.
A ninth invention is the wavelength selective absorption filter according to any one of the first to eighth inventions, wherein an intermediate layer containing particles is provided between the transparent substrate and the wavelength selective absorption layer.
According to a tenth aspect, in the ninth aspect, the particles are selected from silica, kaolinite, talc, calcium carbonate, zeolite, alumina, acrylic, PMMA, nylon, styrene, polyester, and benzoguanamine / formalin condensate. The wavelength selective absorption filter described in 1.

本発明による波長選択吸収フィルターをプラズマディプレイの前面に設置した場合、従来の波長選択吸収フィルターと同様に、ディスプレイから放出される不要な近赤外線を吸収し、精密機器の誤動作を防ぐことができるだけでなく、不要なネオン光を吸収しているため画像の鮮明度が高く、かつ、温度や湿度による変化が少なく、プラズマディスプレイの高画質の経時変化を低減することが可能になる。   When the wavelength selective absorption filter according to the present invention is installed on the front surface of the plasma display, it can absorb unnecessary near-infrared rays emitted from the display and prevent the malfunction of precision instruments as in the case of the conventional wavelength selective absorption filter. In addition, since unnecessary neon light is absorbed, the sharpness of the image is high, and the change due to temperature and humidity is small, and it is possible to reduce the temporal change of the high quality of the plasma display.

本発明の波長選択吸収フィルターとは、透明基材上に、樹脂、近赤外線吸収色素(A)、及び色素(B)を含有する単層または複層の波長選択吸収層を積層してなり、かつ、波長800〜1200nm及び波長550〜620nmに極大吸収を有する波長選択吸収フィルターであって、前記近赤外線吸収色素(A)の1つがビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸を対イオンとする芳香族ジインモニウム系色素(a)であり、前記色素(B)の1つがポルフィリン系色素またはアザポルフィリン系色素(b)であるところに特徴を有するものである。   The wavelength selective absorption filter of the present invention is formed by laminating a single-layer or multiple-layer wavelength selective absorption layer containing a resin, a near-infrared absorbing dye (A), and a dye (B) on a transparent substrate, And it is a wavelength selective absorption filter which has maximum absorption in wavelength 800-1200 nm and wavelength 550-620 nm, Comprising: One of the said near-infrared absorption pigment | dyes (A) is aromatic which uses bis (trifluoromethanesulfonyl) imido acid as a counter ion It is a diimmonium dye (a), and is characterized in that one of the dyes (B) is a porphyrin dye or an azaporphyrin dye (b).

以下、本発明を詳細に説明する。
(透明基材)
本発明において、透明基材は特に限定されるものではないが、全光線透過率が80%以上で、かつヘイズが5%以下であることが好ましい。基材が透明性に劣る場合には、ディスプレイの輝度を低下させるだけでなく、画像のシャープさが不良となる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
(Transparent substrate)
In the present invention, the transparent substrate is not particularly limited, but preferably has a total light transmittance of 80% or more and a haze of 5% or less. When the substrate is inferior in transparency, not only the brightness of the display is lowered, but the sharpness of the image becomes poor.

このような透明基材としては、例えばポリエステル系、アクリル系、セルロース系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリカーボネート、フェノール系、ウレタン系等のプラスチックフィルム又はシート、ガラス及びこれらの任意の2種類以上を貼り合わせたものが挙げられる。好ましくは、耐熱性、柔軟性のバランスが良好なポリエステル系フィルムであり、より好ましくはポリエチレンテレフタレートフィルムである。   Examples of such transparent substrates include polyester-based, acrylic-based, cellulose-based, polyethylene-based, polypropylene-based, polyolefin-based, polyvinyl chloride-based, polycarbonate, phenol-based, urethane-based plastic films or sheets, glass, and the like. The thing which bonded two or more arbitrary types of these is mentioned. A polyester film having a good balance between heat resistance and flexibility is preferable, and a polyethylene terephthalate film is more preferable.

本発明で用いる透明基材として好適なポリエステル系フィルムとは、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸又はそのエステルと、グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコールなどを用いてエステル化反応又はエステル交換反応を行い、次いで重縮合反応させて得たポリエステルチップを乾燥後、押出機で溶融し、Tダイからシート状に押し出して得た未延伸シートを少なくとも1軸方向に延伸し、次いで熱固定処理、緩和処理を行うことにより製造されるフィルムである。   Polyester film suitable as a transparent substrate for use in the present invention, as dicarboxylic acid component, aromatic dicarboxylic acid or ester thereof such as terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, and glycol component, ethylene glycol, diethylene glycol, The polyester chip obtained by performing esterification reaction or transesterification reaction using 1,4-butanediol, neopentyl glycol, etc., and then polycondensation reaction is dried and then melted in an extruder, and converted from a T die to a sheet. It is a film produced by stretching an unstretched sheet obtained by extrusion in at least one axial direction, followed by heat setting treatment and relaxation treatment.

前記フィルムは、強度等の点から、二軸延伸フィルムが特に好ましい。延伸方法としては、チューブラ延伸法、同時二軸延伸法、逐次二軸延伸法等が挙げられるが、平面性、寸法安定性、厚みムラ等から逐次二軸延伸法が好ましい。逐次二軸延伸フィルムは、例えば、長手方向にポリエステルのガラス転移温度(Tg)以上(Tg+30℃以下)の温度で、2.0倍以上5.0倍以下の倍率で長手方向にロール延伸する。引き続き、テンターで予熱後、120℃以上150℃以下の温度で1.2倍以上5.0倍以下の倍率で幅方向に延伸する。さらに、この二軸延伸フィルムに220℃以上(融点−10℃以下)の温度で、熱固定処理を行う。次いで、幅方向に3%〜8%緩和させることによって、本発明で用いる透明基材として好適なポリエステル系フィルム製造することができる。また、フィルムの長手方向の寸法安定性をさらに改善するために、縦弛緩処理を併用してもよい。   The film is particularly preferably a biaxially stretched film from the viewpoint of strength. Examples of the stretching method include a tubular stretching method, a simultaneous biaxial stretching method, a sequential biaxial stretching method, and the like, but a sequential biaxial stretching method is preferable in view of flatness, dimensional stability, thickness unevenness, and the like. The sequential biaxially stretched film is, for example, roll-stretched in the longitudinal direction at a glass transition temperature (Tg) or higher (Tg + 30 ° C. or lower) of the polyester in the longitudinal direction at a magnification of 2.0 to 5.0 times. Subsequently, after preheating with a tenter, the film is stretched in the width direction at a temperature of 120 ° C. or more and 150 ° C. or less and a magnification of 1.2 times or more and 5.0 times or less. Further, the biaxially stretched film is subjected to heat setting treatment at a temperature of 220 ° C. or higher (melting point −10 ° C. or lower). Next, by relaxing 3% to 8% in the width direction, a polyester film suitable as a transparent substrate used in the present invention can be produced. Further, in order to further improve the dimensional stability in the longitudinal direction of the film, a longitudinal relaxation treatment may be used in combination.

フィルムには、ハンドリング性(例えば、積層後の巻取り性)を付与するために、粒子を含有させてフィルム表面に突起を形成させることが好ましい。フィルムに含有させる粒子としては、シリカ、カオリナイト、タルク、炭酸カルシウム、ゼオライト、アルミナ、等の無機粒子、アクリル、PMMA、ナイロン、ポリスチレン、ポリエステル、ベンゾグアナミン・ホルマリン縮合物、等の耐熱性高分子粒子が挙げられる。透明性の点から、フィルム中の粒子の含有量は少ないことが好ましく、例えば1ppm以上1000ppm以下であることが好ましい。さらに、透明性の点から使用する樹脂と屈折率の近い粒子を選択することが好ましい。また、フィルムには必要に応じて各種機能を付与するために、耐光剤(紫外線防止剤)、色素、帯電防止剤などを含有させてもよい。   In order to provide the film with handleability (for example, rollability after lamination), it is preferable to incorporate particles and form protrusions on the film surface. As particles to be included in the film, inorganic particles such as silica, kaolinite, talc, calcium carbonate, zeolite, alumina, etc., heat resistant polymer particles such as acrylic, PMMA, nylon, polystyrene, polyester, benzoguanamine / formalin condensate, etc. Is mentioned. From the viewpoint of transparency, the content of particles in the film is preferably small, for example, preferably 1 ppm or more and 1000 ppm or less. Furthermore, it is preferable to select particles having a refractive index close to that of the resin used from the viewpoint of transparency. Moreover, in order to provide various functions as needed, the film may contain a light-resistant agent (ultraviolet ray inhibitor), a pigment, an antistatic agent, and the like.

本発明で用いる透明基材は、単層フィルムであっても、表層と中心層を積層した2層以上の複合フィルムであっても構わない。複合フィルムの場合、表層と中心層の機能を独立して設計することができる利点がある。例えば、厚みの薄い表層にのみ粒子を含有させて表面に凹凸を形成することでハンドリング性を維持しながら、厚みの厚い中心層には粒子を実質上含有させないことで、複合フィルム全体として透明性をさらに向上させることができる。前記複合フィルムの製造方法は特に限定されるものではないが、生産性を考慮すると、表層と中心層の原料を別々の押出機から押出し、1つのダイスに導き未延伸シートを得た後、少なくとも1軸方向に配向させる、いわゆる共押出法により製造するのが特に好ましい。   The transparent substrate used in the present invention may be a single layer film or a composite film of two or more layers in which a surface layer and a center layer are laminated. In the case of a composite film, there is an advantage that the functions of the surface layer and the center layer can be designed independently. For example, by containing particles only on the thin surface layer and forming irregularities on the surface, the handling property is maintained, but the thick central layer does not substantially contain particles, so that the composite film as a whole is transparent. Can be further improved. The method for producing the composite film is not particularly limited. However, in consideration of productivity, the raw material for the surface layer and the central layer are extruded from separate extruders, led to one die, and after obtaining an unstretched sheet, at least It is particularly preferable to produce by a so-called coextrusion method in which it is oriented in a uniaxial direction.

透明基材の厚みは素材により異なるが、ポリエステルフィルムを用いる場合には、35μm以上が好ましく、より好ましくは50μm以上である。一方、厚みは260μm以下が好ましく、より好ましくは200μm以下である。厚みが薄い場合には、ハンドリング性が不良となるばかりか、波長選択吸収層中の残留溶媒量を低減するための乾燥時に加熱した場合に、フィルムに熱シワが発生して平面性が不良となりやすい。一方、厚みが厚い場合にはコスト面で問題があるだけでなく、ロール状に巻き取って保存した場合に巻き癖による平面性不良が発生しやすくなる。   Although the thickness of a transparent base material changes with raw materials, when using a polyester film, 35 micrometers or more are preferable, More preferably, it is 50 micrometers or more. On the other hand, the thickness is preferably 260 μm or less, more preferably 200 μm or less. When the thickness is small, not only the handling property becomes poor, but also when heated at the time of drying to reduce the amount of residual solvent in the wavelength selective absorption layer, heat wrinkles occur on the film, resulting in poor flatness. Cheap. On the other hand, when the thickness is large, not only is there a problem in terms of cost, but flatness due to curling tends to occur when the material is wound and stored in a roll shape.

(中間層)
本発明の波長選択吸収フィルターは、透明基材上に単層または複層の波長選択吸収層を積層した構成を有するものであるが、透明基材と波長選択吸収層の密着性の向上や透明基材の透明性向上を目的として中間層を設けてもよい。なお、フィルム中に粒子を含有させない場合、フィルム製造時に、粒子を含有する中間層を同時に設けることにより、ハンドリング性を維持しながら高度な透明性を得ることができる。
(Middle layer)
The wavelength selective absorption filter of the present invention has a structure in which a single layer or multiple layers of a wavelength selective absorption layer is laminated on a transparent substrate. An intermediate layer may be provided for the purpose of improving the transparency of the substrate. In addition, when not containing particle | grains in a film, high transparency can be obtained, maintaining handling property by providing the intermediate | middle layer containing particle | grains simultaneously at the time of film manufacture.

前記中間層を構成する樹脂としては、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステルウレタン樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂などが挙げられるが、基材および波長選択吸収層との密着性が良好である様に選択することが重要であり、例えば、基材及び波長選択吸収層を構成する樹脂がエステル系であれば、類似した構造を有するポリエステル系、ポリエステルウレタン系を選定することが好ましい。   Examples of the resin constituting the intermediate layer include polyester resins, polyurethane resins, polyester urethane resins, acrylic resins, melamine resins, etc., so that the adhesion to the substrate and the wavelength selective absorption layer is good. It is important to select, for example, if the resin constituting the substrate and the wavelength selective absorption layer is an ester, it is preferable to select a polyester or polyester urethane having a similar structure.

前記中間層には、密着性の向上、耐水性の向上を目的に架橋剤を含有させて架橋構造を形成させても構わない。架橋剤としては、尿素系、エポキシ系、メラミン系、イソシアネート系が挙げられる。特に、樹脂が高温・高湿度下で白化や強度低下を起こす場合には、架橋剤による効果が顕著である。なお、架橋剤を用いる代わりに、樹脂として自己架橋性を有するグラフト共重合樹脂を用いてもよい。   The intermediate layer may contain a crosslinking agent for the purpose of improving adhesion and improving water resistance to form a crosslinked structure. Examples of the crosslinking agent include urea, epoxy, melamine, and isocyanate. In particular, when the resin undergoes whitening or strength reduction under high temperature and high humidity, the effect of the crosslinking agent is remarkable. Instead of using a crosslinking agent, a graft copolymer resin having self-crosslinking property may be used as the resin.

中間層には、表面に凹凸を形成させて滑り性を改善する目的で、各種の粒子を含有させてもよい。中間層中に含有させる粒子としては、例えば、シリカ、カオリナイト、タルク、炭酸カルシウム、ゼオライト、アルミナ、等の無機粒子、アクリル、PMMA、ナイロン、スチレン、ポリエステル、ベンゾグアナミン・ホルマリン縮合物、等の有機粒子が挙げられる。なお、透明性の点から使用する樹脂と屈折率の近い粒子を選択することが好ましい。   The intermediate layer may contain various kinds of particles for the purpose of forming irregularities on the surface and improving slipperiness. Examples of the particles to be included in the intermediate layer include inorganic particles such as silica, kaolinite, talc, calcium carbonate, zeolite, and alumina, organic materials such as acrylic, PMMA, nylon, styrene, polyester, and benzoguanamine / formalin condensate. Particles. In addition, it is preferable to select particles having a refractive index close to that of the resin used from the viewpoint of transparency.

さらに、中間層に各種機能を付与するために、界面活性剤、帯電防止剤、色素、紫外線吸収剤等を含有させてもよい。   Furthermore, in order to give various functions to the intermediate layer, a surfactant, an antistatic agent, a dye, an ultraviolet absorber, or the like may be contained.

中間層は目的とする機能を有する場合は単層でも構わないが、必要に応じて2層以上に積層しても構わない。   The intermediate layer may be a single layer if it has the desired function, but may be laminated in two or more layers as necessary.

中間層の厚みは、目的とする機能を有すれば特に限定されるものではないが、0.01μm以上5μm以下が好ましい。厚みが薄い場合には中間層としても機能が発現し難くなり、逆に、厚い場合には透明性が不良となりやすくなる。   The thickness of the intermediate layer is not particularly limited as long as it has a desired function, but is preferably 0.01 μm or more and 5 μm or less. When the thickness is small, the function as an intermediate layer is hardly exhibited. On the contrary, when the thickness is thick, the transparency tends to be poor.

中間層は塗布法により設けるのが好ましい。塗布法としては、グラビアコート方式、キスコート方式、ディップ方式、スプレイコート方式、カーテンコート方式、エアナイフコート方式、ブレードコート方式、リバースロールコート方式などの公知の塗布方法を用いて、フィルムの製造工程で塗布層を設けるインラインコート方式、フィルム製造後に塗布層を設けるオフラインコート方式などを採用することができる。これらの方式のうち、インラインコート方式は、コスト面で優れるだけでなく、塗布層に粒子を含有させることで、透明基材に粒子を含有させる必要がなくなるため、透明性を高度に改善することができるため好ましい。   The intermediate layer is preferably provided by a coating method. As the coating method, using a known coating method such as gravure coating method, kiss coating method, dip method, spray coating method, curtain coating method, air knife coating method, blade coating method, reverse roll coating method, etc. An in-line coating method in which a coating layer is provided, an offline coating method in which a coating layer is provided after film production, and the like can be employed. Among these methods, the in-line coating method not only excels in cost, but also makes the coating layer contain particles so that it is not necessary to contain particles in the transparent base material, so that the transparency is highly improved. Is preferable.

(波長選択吸収層)
本発明の波長選択吸収フィルターは、透明基材上に直接あるいは中間層を介して近赤外線吸収能を有する色素を含む、単層または複層の層構成からなる波長選択吸収層を積層する。
(Wavelength selective absorption layer)
In the wavelength selective absorption filter of the present invention, a wavelength selective absorption layer composed of a single layer or a multi-layer structure including a dye having near infrared absorption ability is laminated on a transparent substrate directly or via an intermediate layer.

近赤外線吸収色素とは、波長800nm以上1200nm以下の近赤外線領域に極大吸収を有する色素であって、ジインモニウム系、フタロシアニン系、ジチオール金属錯体系、ナフタロシアニン系、アゾ系、ポリメチン系、アントラキノン系、ナフトキノン系、ピリリウム系、チオピリリウム系、スクアリリウム系、クロコニウム系、テトラデヒドロコリン系、トリフェニルメタン系、シアニン系、アゾ系、アミニウム系等の化合物が挙げられる。これらの化合物は単独で又は2種以上を混合して使用されるが、本発明において、近赤外線領域の吸収が大きく、かつ吸収域も広く、さらに可視光領域の透過率も高い下式(I)で示すジイモニウム塩化合物を含むことが必要である。   The near-infrared absorbing dye is a dye having a maximum absorption in the near-infrared region having a wavelength of 800 nm or more and 1200 nm or less. Examples include naphthoquinone, pyrylium, thiopyrylium, squarylium, croconium, tetradehydrocholine, triphenylmethane, cyanine, azo, and aminium compounds. These compounds are used alone or in admixture of two or more. In the present invention, the following formula (I) has a large absorption in the near infrared region, a wide absorption region, and a high transmittance in the visible light region. It is necessary to contain the diimonium salt compound shown by this.

Figure 0003904028
Figure 0003904028

前記の一般式(I)中のR1〜R8の具体例としては、(1)メチル基、エチル基、n‐プロピル基、iso‐プロピル基、n‐ブチル基、iso‐ブチル基、tert‐ブチル基、n‐アミル基、n‐ヘキシル基、n‐オクチル基、2‐ヒドロキシエチル基、2‐シアノエチル基、3‐ヒドロキシプロピル基、3‐シアノプロピル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基などのアルキル基、(2)フェニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、トリル基、ジエチルアミノフェニル、ナフチル基などのアリール基、(3)ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基などのアルケニル基、(4)ベンジル基、p‐フルオロベンジル基、p‐クロロフェニル基、フェニルプロピル基、ナフチルエチル基などのアラルキル基、が挙げられる。 Specific examples of R 1 to R 8 in the general formula (I) include (1) methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, tert -Butyl group, n-amyl group, n-hexyl group, n-octyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-cyanopropyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group, Alkyl groups such as butoxyethyl groups, (2) aryl groups such as phenyl groups, fluorophenyl groups, chlorophenyl groups, tolyl groups, diethylaminophenyl, naphthyl groups, (3) vinyl groups, propenyl groups, butenyl groups, pentenyl groups, etc. Alkenyl group, (4) benzyl group, p-fluorobenzyl group, p-chlorophenyl group, phenylpropyl group, naphthylethyl group, etc. Aralkyl group, and the like.

また、R9〜R12としては、水素、フッ素、塩素、臭素、ジエチルアミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、メチル基、エチル基、プロピル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などが挙げられる。 R 9 to R 12 include hydrogen, fluorine, chlorine, bromine, diethylamino group, dimethylamino group, cyano group, nitro group, methyl group, ethyl group, propyl group, trifluoromethyl group, methoxy group, and ethoxy group. And propoxy group.

式(I)中、X-は、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、過塩素酸塩イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸イオンなどが挙げられる。尚、本発明では、ネオンカット色素としてアザポルフィリン系色素などを用いるため(後述する)、上記X-がビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸イオンである近赤外線吸収色素を含む必要がある。この化合物は市販品として入手可能であり、例えば、日本カーリット製CIR−1085、CIR−RL、日本化薬製IRG−068が挙げられる。 In the formula (I), X represents fluorine ion, chlorine ion, bromine ion, iodine ion, perchlorate ion, hexafluoroantimonate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, bis (trifluoromethane) Sulfonyl) imido ion and the like. In the present invention, since an azaporphyrin-based dye or the like is used as a neon cut dye (described later), it is necessary to include a near-infrared absorbing dye in which X is a bis (trifluoromethanesulfonyl) imido ion. This compound is commercially available, and examples thereof include CIR-1085 and CIR-RL manufactured by Nippon Carlit, and IRG-068 manufactured by Nippon Kayaku.

本発明の波長選択吸収フィルターは、前記の式(I)で示されるジイモニウム塩系化合物以外に、近赤外線領域の吸収域の拡大および調整を目的として、他の近赤外線吸収色素を加えることもできる。好ましくは、ジインモニウム塩系色素の劣化を促進させないものがよく、具体的には、800nm以上1200nm以下に吸収ピークを有するフタロシアニン系、シアニン色素、ジチオール金属錯体系が挙げられる。   In addition to the diimonium salt compound represented by the above formula (I), the wavelength selective absorption filter of the present invention can be added with other near infrared absorbing dyes for the purpose of expanding and adjusting the absorption region in the near infrared region. . Preferably, those that do not promote the deterioration of the diimmonium salt dye are specifically mentioned, and specific examples include phthalocyanine, cyanine dye, and dithiol metal complex systems having an absorption peak at 800 nm or more and 1200 nm or less.

本発明において、目的とする近赤外線領域の吸収、可視光領域での透過率を制御するために、近赤外線吸収色素の量が、波長選択吸収層の厚み方向における任意の面で0.01g/m2以上1.0g/m2以下となるように調整することが好ましい。近赤外線吸収色素の量が少ない場合には、近赤外線領域での吸収能が不足し、逆に、多い場合には可視光領域での透明性が不足してディスプレイの輝度が低下する問題がある。 In the present invention, in order to control the target absorption in the near-infrared region and the transmittance in the visible light region, the amount of the near-infrared-absorbing dye is 0.01 g / in any surface in the thickness direction of the wavelength selective absorption layer. it is preferably adjusted so that m 2 or more 1.0 g / m 2 or less. When the amount of the near-infrared absorbing dye is small, the absorption ability in the near-infrared region is insufficient, and conversely, when it is large, the transparency in the visible light region is insufficient and the brightness of the display is lowered. .

本発明において、波長選択吸収層中にはネオンカット色素を含有させる必要がある。プラズマディスプレイは、600nm付近を中心とするいわゆるネオンオレンジ光を発光し、赤色にオレンジ色が混ざり鮮やかな赤色が得られない欠点がある。ネオンカット色素を含有させることにより、上記の問題が解決できる。   In the present invention, the wavelength selective absorption layer needs to contain a neon cut dye. The plasma display emits so-called neon orange light centered around 600 nm, and has a drawback that a bright red color cannot be obtained because the orange color is mixed with the red color. By including a neon cut pigment, the above problem can be solved.

本発明においてネオンカット色素とは、550nm以上620nm以下の波長域に最大吸収を有する色素であり、具体的には、シアニン系、スクアリリウム系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系、アゾ系、フタロシアニン系、キノン系、アズレニウム系、ピリリウム系、クロコニウム系、ジチオール金属錯体系、ピロメテン系、アザポルフィリン系等が挙げられる。これらの色素は、単独または2種以上を混合して使用することができるが、本発明においては、ポルフィリン系色素またはアザポルフィリン系色素を用いることが必要である。   In the present invention, the neon cut dye is a dye having a maximum absorption in a wavelength range of 550 nm or more and 620 nm or less. Specifically, cyanine, squarylium, azomethine, xanthene, oxonol, azo, phthalocyanine Quinone, azurenium, pyrylium, croconium, dithiol metal complex, pyromethene, azaporphyrin, and the like. These dyes can be used alone or in admixture of two or more. In the present invention, it is necessary to use a porphyrin dye or an azaporphyrin dye.

ポルフィリン系色素またはアザポルフィリン系色素とは、下式(II)、(III)に示される色素である。式(II)及び式(III)中のR11〜R14およびR15〜R22の具体例は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数1〜20のアルキル基、ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキルチオ基、又は、アリールチオ基が挙げられ、それぞれが、各々独立に連結基を介して、芳香族環を除く環を形成しても構わない。Mは2個の水素原子、2価の金属原子、3価1置換金属原子、4価2置換金属原子、又はオキシ金属原子が挙げられる。 A porphyrin pigment or an azaporphyrin pigment is a pigment represented by the following formulas (II) and (III). Specific examples of R 11 to R 14 and R 15 to R 22 in formula (II) and formula (III) are hydrogen atom, halogen atom, nitro group, cyano group, hydroxy group, amino group, carboxyl group, sulfonic acid Group, alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, halogenoalkyl group, alkoxy group, alkoxyalkoxy group, aryloxy group, monoalkylamino group, dialkylamino group, aralkyl group, aryl group, heteroaryl group, alkylthio group, or An arylthio group is mentioned, and each may independently form a ring excluding an aromatic ring via a linking group. M includes two hydrogen atoms, a divalent metal atom, a trivalent mono-substituted metal atom, a tetravalent di-substituted metal atom, or an oxy metal atom.

Figure 0003904028
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この化合物は、市販品として入手可能であり、例えば、山田化学工業製TAP−2、TAP−5、TAP−9、TAP−10、TAP−12、三井化学製PD−319、PD−311が挙げられる。   This compound is available as a commercial product, and examples thereof include TAP-2, TAP-5, TAP-9, TAP-10, TAP-12 manufactured by Yamada Chemical Industry, PD-319, PD-311 manufactured by Mitsui Chemicals. It is done.

ネオンカット色素の含有量は、得られた波長選択吸収フィルターが550nm以上620nm以下の波長領域にシャープな吸収を有し、且つ、最大の吸収波長での透過率が30%以下になるように調整するのが好ましい。具体的には、透明基材上に、ネオンカット色素を0.001g/m2以上0.1g/m2以下の範囲で存在させることが好ましい。 The neon-cut dye content is adjusted so that the obtained wavelength selective absorption filter has sharp absorption in the wavelength region of 550 nm to 620 nm and the transmittance at the maximum absorption wavelength is 30% or less. It is preferable to do this. Specifically, on a transparent substrate, it is preferable to present the neon-cut dye 0.001 g / m 2 or more 0.1 g / m 2 or less.

本発明において、波長選択吸収層は単層または複層の層構成から構成される。波長選択吸収層としては、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸を対イオンとする芳香族ジインモニウム系色素(a)と、ポルフィリン系色素又はアザポルフィリン系色素(b)の2種類の色素を同じ塗工層中に混在させた単層構成とすることが好ましい。   In the present invention, the wavelength selective absorption layer is composed of a single layer or multiple layers. As the wavelength selective absorption layer, two types of dyes, the aromatic diimmonium dye (a) having bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid as a counter ion and the porphyrin dye or azaporphyrin dye (b), are applied in the same manner. It is preferable to have a single layer structure mixed in the layer.

本発明において、単層の波長選択吸収層に、近赤外線吸収色素としてビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸を対イオンとする芳香族ジインモニウム系色素と、ネオンカット色素としてポルフィリン系色素又はアザポルフィリン系色素を採用することを必須としているのは、これらの2種類の色素を同じ塗工層中に混在させることにより、該波長選択吸収層の耐久性が向上する効果が得られるからである。なお、耐久性が向上する機構は明確ではないが、ジインモニウム系色素の対イオンであるビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸とアザポルフィリン系色素(又はポルフィリン系色素)が何らかの相互作用が働き、湿度及び温度による色素の劣化が抑えられると推測される。   In the present invention, an aromatic diimmonium dye having bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid as a counter ion as a near-infrared absorbing dye and a porphyrin dye or azaporphyrin dye as a neon cut dye in a single wavelength selective absorption layer The reason why it is essential to adopt is that mixing these two kinds of pigments in the same coating layer provides an effect of improving the durability of the wavelength selective absorption layer. Although the mechanism for improving durability is not clear, bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid, which is a counter ion of diimmonium dye, and azaporphyrin dye (or porphyrin dye) have some interaction, and humidity and It is estimated that the deterioration of the dye due to temperature can be suppressed.

また、本発明において、波長選択吸収層として、樹脂及び近赤外線吸収色素(A)を含有する近赤外線吸収層と、樹脂及び色素(B)を含有するネオンカット層がこの順に透明基材上に形成させてなる複層の構成からなる波長選択吸収層を用いることができる。波長選択吸収層としてビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸を対イオンとする芳香族ジインモニウム系色素(a)とポルフィリン系色素又はアザポルフィリン系色素(b)をそれぞれ単独で含有する層を積層した複層構成とすることによっても、単層の波長選択吸収層と同様に耐久性の改善効果が得られる。この理由は明確ではないが、近赤外線吸収層とネオンカット層の界面で色素(a)と色素(b)の間で相互作用が働くとともに、前記の界面で色素の移動が起こり、同一の層の中に色素(a)と色素(b)を存在させる場合と同様の効果が得られる。   Moreover, in this invention, as a wavelength selection absorption layer, the near-infrared absorption layer containing resin and a near-infrared absorption pigment | dye (A), and the neon cut layer containing resin and pigment | dye (B) are in this order on a transparent base material. A wavelength selective absorption layer having a multilayer structure formed can be used. A multilayer comprising a layer containing an aromatic diimmonium dye (a) and a porphyrin dye or azaporphyrin dye (b) each containing bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid as a counter ion as a wavelength selective absorption layer. Also with the configuration, the effect of improving the durability can be obtained as in the case of the single wavelength selective absorption layer. The reason for this is not clear, but the interaction between the dye (a) and the dye (b) works at the interface between the near-infrared absorbing layer and the neon cut layer, and the movement of the dye occurs at the interface, and the same layer The same effect as in the case where the pigment (a) and the pigment (b) are present in the glass is obtained.

アザポルフィリン系色素(又はポルフィリン系色素)は、ジインモニウム系色素に100質量部に対して、5質量部以上含有させるのが好ましく、より好ましくは10質量部以上である。上限は100質量部であるのが好ましく、より好ましくは50質量部以下である。芳香族ジインモニウム系色素に対するアザポルフィリン系色素などの比率が好ましい範囲にない場合には、上述の相互作用が働かず耐久性の向上が得られ難い場合がある。   The azaporphyrin-based dye (or porphyrin-based dye) is preferably contained in the diimmonium-based dye in an amount of 5 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more, with respect to 100 parts by mass. The upper limit is preferably 100 parts by mass, more preferably 50 parts by mass or less. When the ratio of the azaporphyrin dye to the aromatic diimmonium dye is not in the preferred range, the above-mentioned interaction does not work and it may be difficult to improve the durability.

本発明において、近赤外線吸収色素またはネオンカット色素は、樹脂中に分散あるいは溶解した状態で、塗布法により、透明基材上に積層される。樹脂としては、近赤外線吸収色素またはネオンカット色素を均一に溶解あるいは分散できるものであれば特に限定されないが、ポリエステル系、アクリル系、ポリアミド系、ポリウレタン系、ポリオレフィン系、ポリカーボネート系の樹脂を好適に用いることができる。中でも、色素混合時の透明性、耐熱性、耐溶剤性に優れるアクリル系樹脂が好ましく、特に、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸を対イオンとして有するジインモニウム系色素を用いる場合には、基材との密着性や色素との親和性の観点からアクリル系樹脂を採用するのが好ましい。   In the present invention, the near-infrared absorbing dye or the neon cut dye is laminated on the transparent substrate by a coating method in a state of being dispersed or dissolved in the resin. The resin is not particularly limited as long as it can dissolve or disperse the near-infrared absorbing dye or neon cut dye uniformly, but a polyester-based, acrylic-based, polyamide-based, polyurethane-based, polyolefin-based, or polycarbonate-based resin is preferably used. Can be used. Among them, an acrylic resin excellent in transparency, heat resistance, and solvent resistance at the time of dye mixing is preferable, and in particular, when using a diimmonium dye having bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid as a counter ion, It is preferable to employ an acrylic resin from the viewpoint of the adhesion of the resin and the affinity with the pigment.

また、上記の樹脂のガラス転移温度は、波長選択吸収フィルターが用いられる機器の使用保証温度以上であることが好ましい。上記の樹脂のガラス転移温度が、波長選択吸収フィルターが用いられる機器の使用温度以下であると、樹脂中に分散された色素同士が反応しやすくなると共に、樹脂が外気中の水分等を吸収し色素や樹脂の劣化が大きくなる。また、本発明において、樹脂のガラス転移温度は、波長選択吸収フィルターが用いられる機器の使用温度以上であれば特に限定されないが、特に85℃以上160℃以下であるのが好ましい。   Moreover, it is preferable that the glass transition temperature of said resin is more than the use guarantee temperature of the apparatus in which the wavelength selection absorption filter is used. When the glass transition temperature of the resin is equal to or lower than the operating temperature of the device in which the wavelength selective absorption filter is used, the pigments dispersed in the resin are likely to react with each other, and the resin absorbs moisture in the outside air. Deterioration of dyes and resins increases. In the present invention, the glass transition temperature of the resin is not particularly limited as long as it is equal to or higher than the operating temperature of the equipment in which the wavelength selective absorption filter is used, but it is particularly preferably 85 ° C. or higher and 160 ° C. or lower.

上記の樹脂のガラス転移温度が85℃未満の場合、色素と樹脂との相互作用、色素間の相互作用等が起こり、色素の変性が発生する。また、ガラス転移温度が160℃を超える場合、該樹脂を溶媒に溶解し、透明基材上に塗布する時に十分な乾燥をしようとすれば高温にしなければならず、基材の熱シワによる平面性不良、更には、色素の劣化が発生する。また、低温で乾燥する場合は、乾燥に長時間を要するため生産性が悪くなり、生産性が不良となる。また、十分な乾燥ができない可能性もあり、溶媒が多量に塗膜中に残留する場合には、前述のガラス転移温度が、波長選択吸収フィルターが用いられる機器の使用温度以下であるときと同様に、耐久性が劣るジインモニウム塩系色素の変性を引き起こす。   When the glass transition temperature of the resin is less than 85 ° C., the interaction between the dye and the resin, the interaction between the dyes, and the like occur, and the modification of the dye occurs. If the glass transition temperature exceeds 160 ° C., the resin must be dissolved in a solvent and heated to a sufficient temperature when applied on a transparent substrate. Poor property and further deterioration of the dye occurs. Moreover, when drying at low temperature, since drying requires a long time, productivity will worsen and productivity will become bad. In addition, there is a possibility that sufficient drying cannot be performed, and when the solvent remains in the coating film in a large amount, it is the same as when the above-mentioned glass transition temperature is equal to or lower than the operating temperature of the device in which the wavelength selective absorption filter is used. Furthermore, it causes modification of diimmonium salt pigments with poor durability.

複層の層構成からなる波長選択吸収層を用いる場合には、ネオンカット層に用いる樹脂は、ジインモニウム塩系色素と異なり、ポリフィリン系色素またはアザポルフィリン系色素(b)自体が耐久性に優れているため、樹脂のガラス転移温度や乾燥条件の影響が小さい。しかしながら、ネオンカット層に用いる樹脂として、アミンのような極性の強い樹脂を用いた場合、ネオンカット層と、ジインモニウム塩系色素を含有する近赤外線吸収層との界面で、ジインモニウム塩系色素の耐久性を悪化させることがある。   When a wavelength selective absorption layer having a multilayer structure is used, the resin used for the neon cut layer is different from the diimmonium salt dye, and the porphyrin dye or azaporphyrin dye (b) itself has excellent durability. Therefore, the influence of the glass transition temperature and drying conditions of the resin is small. However, when a resin having a strong polarity such as amine is used as the resin used for the neon cut layer, the durability of the diimonium salt dye at the interface between the neon cut layer and the near infrared absorbing layer containing the diimmonium salt dye is used. May worsen sex.

ジインモニウム塩系色素を含有しないネオンカット層に用いられる樹脂としては、ポリエステル系、アクリル系、ポリアミド系、ポリウレタン系、ポリオレフィン系、ポリカーボネート系の樹脂を好適に用いることができる。これらの樹脂のなかでも、色素混合時の透明性、耐熱性に優れるアクリル系樹脂が好ましい。また、反射防止フィルム、ガラス、電磁波防止フィルムと貼り合わせる際には、粘着剤を樹脂として用いても構わない。   As the resin used for the neon cut layer not containing a diimmonium salt dye, polyester-based, acrylic-based, polyamide-based, polyurethane-based, polyolefin-based, and polycarbonate-based resins can be suitably used. Among these resins, an acrylic resin that is excellent in transparency and heat resistance when the pigment is mixed is preferable. Moreover, when bonding with an antireflection film, glass, and an electromagnetic wave prevention film, you may use an adhesive as resin.

粘着剤としては、公知のアクリル系接着剤、シリコーン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤(PVB)、エチレン−酢酸ビニル系接着剤(EVA)等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等が挙げられる。これらの粘着剤のなかでも、透明性等の点からアクリル系粘着剤が好適である。   Examples of the pressure-sensitive adhesive include known acrylic adhesives, silicone adhesives, urethane adhesives, polyvinyl butyral adhesives (PVB), ethylene-vinyl acetate adhesives (EVA), polyvinyl ethers, saturated amorphous polyesters, A melamine resin etc. are mentioned. Among these pressure-sensitive adhesives, acrylic pressure-sensitive adhesives are preferable from the viewpoint of transparency.

アクリル系粘着剤は、例えばアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル等を主体にした樹脂からなる。また、粘着剤は、必要に応じて、硬化剤として、例えば金属キレート系、イソシアネート系、エポキシ系の架橋剤を1種あるいは2種以上を前記の粘着性樹脂とともに混合して用いることができる。   The acrylic pressure-sensitive adhesive is made of, for example, a resin mainly composed of acrylic acid ester or methacrylic acid ester. In addition, the pressure-sensitive adhesive can be used as a curing agent, for example, by mixing one or more metal chelate-based, isocyanate-based, and epoxy-based crosslinking agents together with the above-mentioned pressure-sensitive resin.

波長選択吸収層における近赤外線吸収色素の量は、樹脂に対し1質量%以上10質量%以下であることが好ましい。樹脂中の近赤外線吸収色素の量が少ない場合には、目的とする近赤外線吸収能を達成するために波長選択吸収層の塗工量を増やす必要があり、これに伴って十分な乾燥をするには高温及び/又は長時間を要し、色素の劣化や基材の平面性不良などが起こりやすくなる。逆に、樹脂中の近赤外線吸収色素の量が多い場合には、色素間の相互作用が強くなり、残留溶媒を少なくしたとしても色素の経時的な変性が起こりやすくなる。   The amount of the near-infrared absorbing dye in the wavelength selective absorption layer is preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less based on the resin. When the amount of the near-infrared absorbing dye in the resin is small, it is necessary to increase the coating amount of the wavelength selective absorption layer in order to achieve the target near-infrared absorbing ability, and in accordance with this, sufficient drying is performed. Requires a high temperature and / or a long time, and is liable to cause deterioration of the pigment or poor flatness of the substrate. On the contrary, when the amount of the near-infrared absorbing dye in the resin is large, the interaction between the dyes becomes strong, and even if the residual solvent is reduced, the dye is likely to be denatured over time.

本発明において、単層の層構成からなる波長選択吸収層は、有機溶剤、樹脂、芳香族系ジインモニウム系色素(a)、ポルフィリン系色素またはアザポルフィリン系色素(b)を含有する塗布液Aを、透明基材上に塗布、乾燥させて形成される。また、複層の層構成からなる波長選択吸収層が、有機溶剤、樹脂、および芳香族系ジインモニウム系色素(a)を含有する塗布液Bを、透明基材上に、塗布、乾燥させて形成させた近赤外線吸収層と、該近赤外線吸収層の直上に、有機溶剤および樹脂と、ポルフィリン系色素またはアザポルフィリン系色素(b)を含有する塗布液Cを、塗布、乾燥させて形成させたネオンカット層を含む。   In the present invention, the wavelength selective absorption layer having a single layer structure comprises a coating solution A containing an organic solvent, a resin, an aromatic diimmonium dye (a), a porphyrin dye or an azaporphyrin dye (b). It is formed by applying and drying on a transparent substrate. A wavelength selective absorption layer having a multilayer structure is formed by coating and drying a coating liquid B containing an organic solvent, a resin, and an aromatic diimmonium dye (a) on a transparent substrate. A coating liquid C containing an organic solvent and a resin and a porphyrin-based dye or an azaporphyrin-based dye (b) was applied and dried immediately above the near-infrared absorbing layer and the near-infrared absorbing layer. Includes a neon cut layer.

この際に、前記塗布液AまたはB中に界面活性剤を含有させることが好ましい。また、塗布液Cにおいても界面活性剤を含有させることができるが、樹脂として粘着剤を用いる場合には、界面活性剤を含有させなくてもよい。   At this time, it is preferable to contain a surfactant in the coating solution A or B. The coating liquid C can also contain a surfactant. However, when a pressure-sensitive adhesive is used as the resin, the surfactant need not be contained.

波長選択吸収層の形成に用いる塗布液に界面活性剤を含有させることにより、波長選択吸収層の塗工外観、特に、微小な泡によるヌケ、異物等の付着より凹み、乾燥工程でのハジキが改善される。更には、波長選択吸収層(塗布層)中の界面活性剤は、塗布層の乾燥時の加熱処理により表面にブリードする。その結果、塗布層の表面に滑り性を付与することができる。加えて、波長選択吸収層あるいは/及び反対面に、透明性の悪化原因となる粒子を含有させて表面凹凸を形成しなくともハンドリング性が良好となり、ロール状に巻取ることが容易になる。   By including a surfactant in the coating solution used for forming the wavelength selective absorption layer, the coating appearance of the wavelength selective absorption layer, in particular, dents from adhesion of foreign matter, etc. due to minute bubbles, dents, repelling in the drying process Improved. Furthermore, the surfactant in the wavelength selective absorption layer (coating layer) bleeds to the surface by heat treatment during drying of the coating layer. As a result, slipperiness can be imparted to the surface of the coating layer. In addition, the handling property is improved and the film can be easily wound into a roll shape even if the surface of the wavelength selective absorption layer and / or the opposite surface is made to contain particles that cause deterioration of transparency and the surface unevenness is not formed.

本発明において、界面活性剤のHLBは2以上12以下であることが重要である。HLBの下限値は好ましくは3であり、特に好ましくは4である。一方、HLBの上限値は好ましくは11であり、特に好ましくは10である。HLBが低い場合には界面活性能の不足によりレベリング性が不足する。逆に、HLBが高い場合には、滑り性が不足するだけでなく、波長選択吸収層が水分を吸収しやすくなり、ジインモニウム系色素の経時安定性が不良となる。   In the present invention, it is important that the HLB of the surfactant is 2 or more and 12 or less. The lower limit value of HLB is preferably 3, particularly preferably 4. On the other hand, the upper limit value of HLB is preferably 11, particularly preferably 10. When the HLB is low, the leveling property is insufficient due to insufficient surface activity. On the other hand, when the HLB is high, not only the slipping property is insufficient, but also the wavelength selective absorption layer easily absorbs moisture, and the time stability of the diimmonium dye becomes poor.

なお、HLBとはアメリカのAtlas Powder社のW.C.GriffinがHydorophil Lyophile Balanceと名付けて界面活性剤の分子中に含まれる親水基と親油基のバランスを特性値として指標化した値でこの値が低いほど親油性が、逆に高いほど親水性が高くなる。   The HLB is a W.A. of Atlas Powder, Inc. of the United States. C. Griffin named Hydrophile Lyophile Balance and indexed the balance of hydrophilic groups and lipophilic groups contained in the surfactant molecules as characteristic values. The lower the value, the more hydrophilic the higher the hydrophilicity. Get higher.

界面活性剤の含有量は、波長選択吸収層を構成する樹脂に対して0.01質量%以上2質量%以下であることが重要である。界面活性剤の含有量が少ない場合には、塗工外観の向上や滑り性付与の効果が不足し、逆に、多い場合には波長選択吸収層が水分を吸収しやすくなり、色素の劣化が促進される。   It is important that the content of the surfactant is 0.01% by mass or more and 2% by mass or less with respect to the resin constituting the wavelength selective absorption layer. When the surfactant content is low, the effect of improving the coating appearance and imparting slipperiness is insufficient. Conversely, when the surfactant content is high, the wavelength-selective absorption layer tends to absorb moisture, resulting in deterioration of the dye. Promoted.

界面活性剤は、カチオン系、アニオン系、ノニオン系の公知のものを好適に使用できるが、近赤外線吸収色素との劣化等の問題から極性基を有していないノニオン系が好ましく、更には、界面活性能に優れるシリコーン系又はフッ素系界面活性剤が好ましい。   As the surfactant, a known cationic, anionic, or nonionic surfactant can be suitably used, but a nonionic surfactant that does not have a polar group is preferred in view of problems such as deterioration with a near-infrared absorbing dye. A silicone-based or fluorine-based surfactant having excellent surface activity is preferable.

シリコーン系界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、アミノシラン、アクリルシラン、ビニルベンジルシラン、ビニルベンジルアミノシラン、グリシドシラン、メルカプトシラン、ジメチルシラン、ポリジメチルシロキサン、ポリアルコキシシロキサン、ハイドロジエン変性シロキサン、ビニル変性シロキサン、ヒドロキシ変性シロキサン、アミノ変性シロキサン、カルボキシル変性シロキサン、ハロゲン化変性シロキサン、エポキシ変性シロキサン、メタクリロキシ変性シロキサン、メルカプト変性シロキサン、フッ素変性シロキサン、アルキル基変性シロキサン、フェニル変性シロキサン、アルキレンオキシド変性シロキサンなどが挙げられる。   Silicone surfactants include dimethyl silicone, amino silane, acrylic silane, vinyl benzyl silane, vinyl benzyl amino silane, glycid silane, mercapto silane, dimethyl silane, polydimethyl siloxane, polyalkoxy siloxane, hydrodiene modified siloxane, vinyl modified siloxane, hydroxy Examples include modified siloxane, amino-modified siloxane, carboxyl-modified siloxane, halogenated-modified siloxane, epoxy-modified siloxane, methacryloxy-modified siloxane, mercapto-modified siloxane, fluorine-modified siloxane, alkyl group-modified siloxane, phenyl-modified siloxane, and alkylene oxide-modified siloxane.

フッ素系界面活性剤としては、4フッ化エチレン、パーフルオロアルキルアンモニウム塩、パーフルオロアルキルスルホン酸アミド、パーフルオロアルキルスルホン酸ナトリウム、パーフルオロアルキルカリウム塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキルアミノスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルアルキル化合物、パーフルオロアルキルアルキルベタイン、パーフルオロアルキルハロゲン化物などが挙げられる。   Fluorosurfactants include ethylene tetrafluoride, perfluoroalkyl ammonium salt, perfluoroalkyl sulfonic acid amide, sodium perfluoroalkyl sulfonate, perfluoroalkyl potassium salt, perfluoroalkyl carboxylate, perfluoroalkyl sulfone. Acid salts, perfluoroalkyl ethylene oxide adducts, perfluoroalkyl trimethyl ammonium salts, perfluoroalkyl amino sulfonates, perfluoroalkyl phosphate esters, perfluoroalkyl alkyl compounds, perfluoroalkyl alkyl betaines, perfluoroalkyl halides, etc. Is mentioned.

本発明において、波長選択吸収層は、樹脂、近赤外線吸収色素、界面活性剤を含む塗布液を透明基材上に塗布・乾燥することにより積層されるが、該塗布液は、塗工性の観点からは有機溶媒により希釈することが必要である。   In the present invention, the wavelength selective absorption layer is laminated by applying and drying a coating liquid containing a resin, a near-infrared absorbing dye, and a surfactant on a transparent substrate. From the viewpoint, it is necessary to dilute with an organic solvent.

該有機溶媒としては、(1)メチルアルコール、エチルアルコール、n‐プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n‐ブチルアルコール、トリデシルアルコール、シクロヘキシルアルコール、2‐メチルシクロヘキシルアルコール等のアルコール類、(2)エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン等のグリコール類、(3)エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチレンエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルアセテート、エチレングリコールモノブチルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルアセテート等のグリコールエーテル類、(4)酢酸エチル、酢酸イソプロピレン、酢酸n‐ブチル等のエステル類、(5)アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソホロン、ジアセトンアルコール等のケトン類、を例示することができ、これら単独あるいは2種以上を混合して使用することができる。   Examples of the organic solvent include (1) alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, tridecyl alcohol, cyclohexyl alcohol, 2-methylcyclohexyl alcohol, and (2) ethylene glycol. , Glycols such as diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, glycerin, (3) ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethylene ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether , Diethylene glycol butyl ether, ethylene glycol monomethyl Glycol ethers such as ether acetate, ethylene glycol monoethyl acetate, ethylene glycol monobutyl acetate, diethylene glycol monomethyl acetate, diethylene glycol monoethyl acetate, diethylene glycol monobutyl acetate, (4) ethyl acetate, isopropylene acetate, n-butyl acetate, etc. Examples include esters, (5) ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, isophorone, diacetone alcohol, etc. These may be used alone or in combination of two or more. Can do.

好ましくは、色素の溶解性に優れるケトン類を、塗布液に使用する全有機溶媒に対し、30質量%以上80質量%以下含有させ、その他の有機溶媒は、レベリング性、乾燥性を考慮して選定することが好ましい。また、有機溶媒の沸点は、60℃以上180℃以下が好ましい。沸点が低い場合には、塗工中に塗布液の固形分濃度が変化し、塗工厚みが安定化しにくい。逆に、沸点が高い場合には、塗膜中に残存する有機溶媒量が増え、経時安定性が不良となる。   Preferably, ketones having excellent dye solubility are contained in an amount of 30% by mass to 80% by mass with respect to the total organic solvent used in the coating solution, and other organic solvents are considered in view of leveling properties and drying properties. It is preferable to select. The boiling point of the organic solvent is preferably 60 ° C. or higher and 180 ° C. or lower. When the boiling point is low, the solid content concentration of the coating solution changes during coating, and the coating thickness is difficult to stabilize. On the other hand, when the boiling point is high, the amount of the organic solvent remaining in the coating film increases and the temporal stability becomes poor.

近赤外線吸収色素および樹脂を有機溶媒中に溶解あるいは分散する方法としては、加温下での攪拌、分散及び粉砕の方法が挙げられる。加温することにより色素及び樹脂の溶解性を向上することができ、未溶解物等による塗工外観への不良が妨げられる。また、分散及び粉砕して樹脂及び色素を0.3μm以下の微粒子状態で塗布液中に分散することにより、透明性に優れる層を形成することが可能となる。分散機及び粉砕機としては、公知のものを用いることができ、具体的には、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、ホモミキサー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー、バタフライミキサー、プラネタリーミキサー、ヘンシェルミキサー等が挙げられる。   Examples of the method for dissolving or dispersing the near-infrared absorbing dye and the resin in an organic solvent include stirring, dispersion and pulverization methods under heating. By heating, the solubility of the pigment and the resin can be improved, and a defect in the coating appearance due to undissolved substances or the like is prevented. Moreover, it becomes possible to form a layer having excellent transparency by dispersing and pulverizing the resin and the pigment in the coating liquid in a fine particle state of 0.3 μm or less. As the disperser and pulverizer, known ones can be used. Specifically, a ball mill, a sand mill, an attritor, a roll mill, an agitator, a colloid mill, an ultrasonic homogenizer, a homomixer, a pearl mill, a wet jet mill, a paint Examples include a shaker, a butterfly mixer, a planetary mixer, a Henschel mixer, and the like.

塗布液中にコンタミや1μm以上の未溶解物が存在した場合、塗布後の外観が不良になるため、塗布する前に、フィルター等で除去する必要がある。フィルターとして、各種のものが好適に使用できるが、1μmの大きさのものを99%以上除去するものを用いることが好ましい。1μm以上のコンタミや未溶解物を含む塗布液を塗布し乾燥した場合には、その周囲に凹み等が発生し、100μm以上1000μm以下のサイズの欠点になる場合がある。   When contamination or undissolved material of 1 μm or more is present in the coating solution, the appearance after coating becomes poor. Therefore, it is necessary to remove it with a filter or the like before coating. Various filters can be suitably used as the filter, but it is preferable to use a filter that removes 99% or more of a 1 μm size filter. When a coating solution containing 1 μm or more of contamination or undissolved material is applied and dried, a dent or the like is generated around the coating liquid, which may be a defect of a size of 100 μm or more and 1000 μm or less.

塗布液中に含まれる樹脂及び色素等の固形分濃度は、10質量%以上30重量%以下とすることが好ましい。固形分濃度が低い場合には、塗布後の乾燥に時間が掛かり、生産性が劣るばかりか、塗膜中に残存する溶媒量が増加し、経時安定性が不良となる。逆に、固形分濃度が高い場合には、塗布液の粘度が高くなりレベリング性が不足して塗工外観が不良となる。塗布液の粘度を10cps以上300cps以下に調整することが、塗工外観の面で好ましく、この範囲になるように固形分濃度、有機溶媒等を調整することが好ましい。   It is preferable that solid content concentration, such as resin and a pigment | dye contained in a coating liquid, shall be 10 to 30 weight%. When the solid content concentration is low, it takes time to dry after coating, resulting in poor productivity and an increase in the amount of solvent remaining in the coating film, resulting in poor temporal stability. On the other hand, when the solid content concentration is high, the viscosity of the coating solution becomes high and the leveling property is insufficient, resulting in a poor coating appearance. Adjusting the viscosity of the coating solution to 10 cps or more and 300 cps or less is preferable in terms of coating appearance, and it is preferable to adjust the solid content concentration, the organic solvent, and the like so as to be in this range.

本発明で、波長選択吸収層を透明基材上に塗布する方法としては、グラビアコート方式、キスコート方式、ディップ方式、スプレイコート方式、カーテンコート方式、エアナイフコート方式、ブレードコート方式、リバースロールコート方式、バーコート方式、リップコート方式など通常用いられている方法が適用できる。これらのなかで、均一に塗布することのできるグラビアコート方式、特にリバースグラビア方式が好ましい。また、グラビアの直径は、80mm以下であることが好ましい。直径が大きい場合には流れ方向にうねスジが発生する頻度が増える。   In the present invention, as a method for coating the wavelength selective absorption layer on the transparent substrate, gravure coating method, kiss coating method, dip method, spray coating method, curtain coating method, air knife coating method, blade coating method, reverse roll coating method Ordinarily used methods such as a bar coating method and a lip coating method can be applied. Among these, a gravure coating method that can be applied uniformly, particularly a reverse gravure method is preferable. The diameter of the gravure is preferably 80 mm or less. When the diameter is large, the frequency of occurrence of ridges in the flow direction increases.

波長選択吸収層の乾燥後の塗布量は特に限定されないが、下限は1g/m2が好ましい、より好ましくは3g/m2であり、上限は50g/m2が好ましく、より好ましくは30g/m2である。乾燥後の塗布量が少ない場合には、近赤外線の吸収力が不足しやすくなる。そのため、樹脂中の近赤外線吸収色素の存在量を増やすと、表面及びアンカー層の界面に存在する色素量が多くなり、外気やアンカー層の樹脂の影響を受けやすくなる。その結果、色素の劣化等が起こりやすくなり、経時安定性が不良となる。逆に、乾燥後の塗布量が多い場合には、近赤外線の吸収能は十分であるが、可視光領域での透明性が低下し、ディスプレイの輝度が低下する。そのため、樹脂中の近赤外線吸収色素の存在量を低減すると、光学特性は調節できるが、乾燥が不十分になりやすくなる。その結果、塗膜中の残留溶媒により色素の経時安定性が不良となる。一方、乾燥を十分にした場合には基材の平面性が不良となる。 The coating amount of the wavelength selective absorption layer after drying is not particularly limited, but the lower limit is preferably 1 g / m 2 , more preferably 3 g / m 2 , and the upper limit is preferably 50 g / m 2 , more preferably 30 g / m. 2 . When the coating amount after drying is small, the near-infrared absorbing power tends to be insufficient. For this reason, when the amount of the near-infrared absorbing dye in the resin is increased, the amount of the dye present at the interface between the surface and the anchor layer is increased, and the resin is easily influenced by the outside air and the resin of the anchor layer. As a result, the deterioration of the dye is likely to occur, and the temporal stability becomes poor. Conversely, when the coating amount after drying is large, the near-infrared absorbing ability is sufficient, but the transparency in the visible light region is lowered, and the brightness of the display is lowered. Therefore, if the amount of the near-infrared absorbing dye in the resin is reduced, the optical characteristics can be adjusted, but drying tends to be insufficient. As a result, the temporal stability of the dye becomes poor due to the residual solvent in the coating film. On the other hand, when the drying is sufficient, the flatness of the substrate becomes poor.

塗布液を透明基材上に塗布し、乾燥する方法としては、公知の熱風乾燥、赤外線ヒーター等が挙げられるが、乾燥速度が早い熱風乾燥が好ましい。   As a method for applying the coating liquid on the transparent substrate and drying, known hot air drying, an infrared heater, and the like can be mentioned. Hot air drying with a high drying speed is preferable.

塗布後の、初期の恒率乾燥の段階では、20℃以上80℃以下で、2m/秒〜30m/秒の熱風を用いて乾燥することが好ましい。初期乾燥を強く行う(熱風温度が高い、熱風の風量が大きい)場合には、泡由来の微小なコートヌケ、微小なハジキ、クラック等の塗膜の微小な欠点が発生しやすくなる。逆に、初期乾燥を弱くする(熱風温度が低い、熱風の風量が小さい)場合には、外観は良好になるが乾燥時間が掛かりコスト面で問題がある。塗布液に界面活性剤を添加しない場合には、上記の微小な欠点が発生しやすく、初期乾燥をかなり弱くする必要がある。   In the initial constant rate drying stage after coating, it is preferably dried at 20 ° C. or more and 80 ° C. or less using hot air of 2 m / sec to 30 m / sec. When the initial drying is performed strongly (the hot air temperature is high and the hot air volume is large), minute defects of the coating such as fine coating removal from foam, fine repellency, and cracks tend to occur. Conversely, when the initial drying is weakened (the hot air temperature is low and the hot air volume is small), the appearance is good, but the drying time is long and there is a problem in terms of cost. When a surfactant is not added to the coating solution, the above minute defects are likely to occur, and the initial drying needs to be considerably weakened.

減率乾燥の工程では、初期乾燥よりも高温にし、塗膜中の溶媒を減少させる必要があり、好ましい温度は、120℃以上180℃以下である。特に好ましくは、下限値が140℃であり、上限値は170℃である。温度が低い場合には、塗膜中の溶媒が減少しにくくなり、残留溶媒となって色素の経時的な安定性が不十分となる。逆に、高温の場合には、熱シワにより基材の平面性が不良となるだけでなく、近赤外線吸収色素が熱により劣化する。また、通過時間としては、5秒以上180秒以下であることが好ましい。時間が短い場合には塗膜中の残留する溶媒が多くなり経時安定性が不良となり、逆に時間が長い場合には、生産性が不良となるだけでなく、基材に熱シワが発生して平面性が不良となる。通過時間の上限は、生産性と平面性の点から、30秒とすることが特に好ましい。   In the reduction drying process, it is necessary to make the temperature higher than the initial drying and to reduce the solvent in the coating film. Particularly preferably, the lower limit is 140 ° C and the upper limit is 170 ° C. When the temperature is low, the solvent in the coating film is difficult to decrease and becomes a residual solvent, resulting in insufficient stability of the dye over time. On the other hand, when the temperature is high, not only the flatness of the base material becomes poor due to heat wrinkles, but also the near-infrared absorbing dye is deteriorated by heat. The passing time is preferably 5 seconds or more and 180 seconds or less. If the time is short, the amount of solvent remaining in the coating film will increase, resulting in poor stability over time. Conversely, if the time is long, not only will the productivity be poor, but heat wrinkles will occur on the substrate. Therefore, the flatness becomes poor. The upper limit of the passage time is particularly preferably 30 seconds from the viewpoint of productivity and flatness.

乾燥の最終段階では、熱風温度を樹脂のガラス転移温度以下にし、フラットの状態で基材の実温を樹脂のガラス転移温度以下にすることが好ましい。高温のままでは乾燥炉を出た場合には、塗工面がロール表面に接触した際に滑りが不良となり、キズ等が発生するだけでなく、カール等が発生する場合がある。   In the final stage of drying, it is preferable that the hot air temperature is lower than the glass transition temperature of the resin, and the actual temperature of the substrate is lower than the glass transition temperature of the resin in a flat state. When leaving the drying furnace at a high temperature, when the coated surface comes into contact with the roll surface, slippage is poor, and not only scratches but also curls may occur.

(波長選択吸収フィルター)
本発明において波長選択吸収フィルターとは、波長800〜1200nm及び波長550〜620nmに極大吸収を有する光学フィルターである。この波長選択吸収フィルターは、波長800nm以上1200nm以下の近赤外領域における透過率は低いほど好ましい。具体的には、近赤外領域の透過率は20%以下であることが好ましく、特に好ましくは10%以下である。透過率が高い場合には、プラズマディスプレイから放出される近赤外線の吸収が不足し、近赤外線リモコンを用いる電子機器の誤動作を防止することができない。
(Wavelength selective absorption filter)
In the present invention, the wavelength selective absorption filter is an optical filter having maximum absorption at wavelengths of 800 to 1200 nm and wavelengths of 550 to 620 nm. The wavelength selective absorption filter is preferably as low as possible in the near infrared region having a wavelength of 800 nm to 1200 nm. Specifically, the transmittance in the near infrared region is preferably 20% or less, and particularly preferably 10% or less. When the transmittance is high, absorption of near infrared rays emitted from the plasma display is insufficient, and malfunction of electronic equipment using the near infrared remote controller cannot be prevented.

また、可視領域の平均透過率は近赤外領域の平均透過率よりも高く、かつ波長550nm以上620nm以下、更には、波長570nm〜600nmに、シャープな吸収を有することが好ましい。具体的には、前記の波長範囲内における最大吸収波長での透過率が40%以下であることが好ましく、特に好ましくは30%以下である。この領域での透過率が高い場合には、プラズマディスプレイから放出されるネオン光を吸収し、赤の発色を良くするという効果が得られ難くなる。また、この領域の吸収が広い場合には、可視光領域の全体の透過率が下がる為、ディスプレイの輝度が低下する傾向がある。波長550nm以上620nm以下を除く可視光領域の透過率は、高ければ高いほどよく、好ましくは50%以上、特に好ましくは60%以上である。透過率が低い場合には、ディスプレイの発色を妨げ、輝度の低い映像となる。   Further, it is preferable that the average transmittance in the visible region is higher than the average transmittance in the near-infrared region, and has sharp absorption at a wavelength of 550 nm to 620 nm, and further at a wavelength of 570 nm to 600 nm. Specifically, the transmittance at the maximum absorption wavelength within the above wavelength range is preferably 40% or less, particularly preferably 30% or less. When the transmittance in this region is high, it becomes difficult to obtain the effect of absorbing the neon light emitted from the plasma display and improving the red color. In addition, when the absorption in this region is wide, the overall transmittance of the visible light region is lowered, so that the brightness of the display tends to be lowered. The transmittance in the visible light region excluding the wavelength of 550 nm to 620 nm is preferably as high as possible, preferably 50% or more, particularly preferably 60% or more. When the transmittance is low, the color of the display is hindered and the image has a low luminance.

透過率の調整は、波長選択吸収層の塗布量、単位面積あたりの近赤外線吸収色素の存在量により変更することができる。   The adjustment of the transmittance can be changed depending on the coating amount of the wavelength selective absorption layer and the abundance of the near infrared absorbing dye per unit area.

波長選択吸収フィルターの色調としては、Lab表色系で表現すると、a値は−10.0〜+10.0、b値は−10.0〜+10.0であることが好ましい。この範囲であれば、プラズマディスプレイの前面に設置した場合でもナチュラル色となり好ましい。   As the color tone of the wavelength selective absorption filter, when expressed in the Lab color system, the a value is preferably -10.0 to +10.0, and the b value is preferably -10.0 to +10.0. If it is this range, even if it installs in the front surface of a plasma display, it becomes a natural color and is preferable.

色調を調整する方法としては、波長選択吸収層の塗布量、単位面積あたりの近赤外線吸収色素の存在量、更には、他の色素の混合、または乾燥条件の適正化により達成できる。なお、後述の波長選択吸収フィルターの前面または裏面に着色された粘着層や他の光学フィルターが存在する場合には、それも含めてナチュラル色に波長選択吸収フィルターの色調を調整することが好ましい。   The method for adjusting the color tone can be achieved by coating the wavelength selective absorption layer, the abundance of the near-infrared absorbing dye per unit area, mixing other dyes, or optimizing drying conditions. In addition, when the adhesion layer and other optical filter colored on the front surface or back surface of the wavelength selective absorption filter mentioned later exist, it is preferable to adjust the color tone of the wavelength selective absorption filter to a natural color including that.

波長選択吸収層の塗工外観としては、最大径が300μm以上、より好ましくは100μmのサイズの欠点を存在しないようにしなければならない。300μm以上の欠点は、プラズマディスプレイの前面に設置すると輝点の様になり、欠点が顕著化される。また、塗工層の薄いスジ、ムラ等もディスプレイ前面では顕著化されて問題となる。   As for the coating appearance of the wavelength selective absorption layer, it is necessary to avoid the disadvantage that the maximum diameter is 300 μm or more, more preferably 100 μm. The defect of 300 μm or more becomes like a bright spot when installed on the front surface of the plasma display, and the defect becomes noticeable. Also, streaks, unevenness, etc. with a thin coating layer become prominent on the front surface of the display and become a problem.

波長選択吸収フィルターは、高温、高湿度下に長期間放置されても、近赤外線の透過率、可視光の透過率が変化しないことが好ましい。高温、高湿度下の経時安定性が不良の場合には、ディスプレイの映像の色調が変化するばかりか、近赤外線リモコンを用いた電子機器の誤動作を防止する本発明の効果がなくなる場合がある。   It is preferable that the wavelength selective absorption filter does not change the transmittance of near-infrared rays and the transmittance of visible light even when left for a long period of time under high temperature and high humidity. When the temporal stability under high temperature and high humidity is poor, not only the color tone of the image on the display changes, but also the effect of the present invention for preventing malfunction of the electronic device using the near infrared remote controller may be lost.

経時安定性は、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸を対イオンとする芳香族ジインモニウム系色素(a)とポルフィリン系色素またはアザポルフィリン系色素(b)を混在させることにより良好となるが、他にも塗布液で使用する有機溶媒の種類、塗布層の厚み、乾燥条件等を制御することで波長選択吸収層中の残留溶媒量を低減すること、あるいは樹脂中の色素の含有量を調整することにより更に良好にすることが可能となる。   The stability over time is improved by mixing an aromatic diimmonium dye (a) with a bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid as a counter ion and a porphyrin dye or azaporphyrin dye (b). Reduce the amount of residual solvent in the wavelength selective absorption layer by adjusting the type of organic solvent used in the coating solution, the thickness of the coating layer, drying conditions, etc., or adjust the content of the dye in the resin It becomes possible to make it still better.

また、前記のように、樹脂及びビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸を対イオンとする芳香族ジインモニウム系色素(a)を含有する近赤外線吸収層と、樹脂及びポルフィリン系色素またはアザポルフィリン系色素(b)を含有するネオンカット層がこの順に透明基材上に形成させてなる複層の構成からなる波長選択吸収層を用いることも、経時安定性の点から好ましい実施形態である。   Further, as described above, a near-infrared absorbing layer containing an aromatic diimmonium dye (a) having a resin and bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid as a counter ion, a resin and a porphyrin dye or an azaporphyrin dye ( It is also a preferred embodiment from the viewpoint of temporal stability that a wavelength selective absorption layer having a multilayer structure in which the neon cut layer containing b) is formed in this order on a transparent substrate is used.

また、波長選択吸収層の残留溶媒の量は、少なければ少ないほどよいが、3質量%以下にすることが好ましい。3質量%以下になれば、実質的に経時安定性に差がなくなる。しかしながら、さらに残留溶媒量を低下させるために、例えば、乾燥を過酷な条件とすると、フィルターの平面性が不良になる等の弊害が発生し、減圧乾燥のような方法では生産性が低下する。   Further, the amount of residual solvent in the wavelength selective absorption layer is preferably as small as possible, but is preferably 3% by mass or less. If the amount is 3% by mass or less, there is substantially no difference in stability over time. However, in order to further reduce the amount of residual solvent, for example, if drying is performed under severe conditions, problems such as poor planarity of the filter occur, and productivity such as reduced pressure drying decreases.

本発明において、ディスプレイから放出される有害な電磁波を遮断する目的で、赤外線吸収層と同一面、ないしは、反対面に導電層を直接或いは粘着剤を介して設けてもよい。該導電層は金属メッシュと導電薄膜の何れを用いても良く、金属メッシュを用いた場合、開口率が50%以上の金属メッシュ導電層を有している必要がある。金属メッシュの開口率が低ければ電磁波シールド性は良好となるが光線透過率が低下する問題が有る。この為、良好な光線透過率を得る為には開口率が50%以上は必要となる。本発明に用いられる金属メッシュとしては、電気電導性の高い金属箔にエッチング処理を施して、メッシュ状にしたものや、金属繊維を使った織物状のメッシュや、高分子繊維の表面に金属をメッキ等の手法を用いて付着させた繊維を用いてもよい。該電磁波吸収層に使われる金属は、電気電導性が高く、安定性が良ければいかなる金属でも良く特に限定されるものではないが、加工性、コストなどの観点より、好ましくは、銅、ニッケル、タングステンなどがよい。   In the present invention, for the purpose of blocking harmful electromagnetic waves emitted from the display, a conductive layer may be provided on the same surface as the infrared absorbing layer or on the opposite surface directly or via an adhesive. Either a metal mesh or a conductive thin film may be used for the conductive layer. When a metal mesh is used, it is necessary to have a metal mesh conductive layer having an aperture ratio of 50% or more. If the aperture ratio of the metal mesh is low, the electromagnetic shielding property is good, but there is a problem that the light transmittance is lowered. Therefore, an aperture ratio of 50% or more is necessary to obtain a good light transmittance. As the metal mesh used in the present invention, a metal foil having high electrical conductivity is subjected to etching treatment to form a mesh, a woven mesh using metal fibers, or metal on the surface of polymer fibers. You may use the fiber adhered using methods, such as plating. The metal used for the electromagnetic wave absorbing layer is not particularly limited as long as it has high electrical conductivity and good stability, but is not particularly limited, but from the viewpoint of workability, cost, etc., preferably copper, nickel, Tungsten etc. are good.

また、導電薄膜を用いた場合、透明導電層はいかなる導電膜でもよいが、好ましくは、金属酸化物であることが好ましい。これによって、より高い可視光線透過率を得ることが出来る。また、本発明において透明導電層の導電率を向上させたい場合は、金属酸化物/金属/金属酸化物の3層以上の繰り返し構造であることが好ましい。金属を多層化することで、高い可視光線透過率を維持しながら、電導性を得ることができる。本発明に用いられる。金属酸化物は、電導性と可視光線透過性が有していれば如何なる金属酸化物でもよい。一例として、酸化錫、インジウム酸化物、インジウム錫酸化物、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ビスマスなどがある。以上は一例であり、特に限定されるものではない。また、本発明に用いられる金属層は、導電性の観点より、金、銀及びそれらを含む化合物が好ましい。   When a conductive thin film is used, the transparent conductive layer may be any conductive film, but is preferably a metal oxide. Thereby, a higher visible light transmittance can be obtained. Further, in the present invention, when it is desired to improve the conductivity of the transparent conductive layer, it is preferably a repeating structure of three or more layers of metal oxide / metal / metal oxide. Conductivity can be obtained while maintaining a high visible light transmittance by multilayering the metal. Used in the present invention. The metal oxide may be any metal oxide as long as it has electrical conductivity and visible light transmittance. Examples include tin oxide, indium oxide, indium tin oxide, zinc oxide, titanium oxide, and bismuth oxide. The above is an example and is not particularly limited. The metal layer used in the present invention is preferably gold, silver or a compound containing them from the viewpoint of conductivity.

更に、導電層を多層化した場合、例えばくり返し層数が3層の場合、銀層の厚さは50Å〜200Åが好ましく、より好ましくは50Å〜100Åである。これよりも膜厚が厚い場合は、光線透過率が低下し、薄い場合は抵抗値が上がってしまう。また、金属酸化物層の厚さとしては、好ましくは、100Å〜1000Å、より好ましくは、100Å〜500Åである。この厚さより厚い場合には着色して色調が変ってしまい、薄い場合には抵抗値が上がってしまう。さらに、3層以上多層化する場合、例えば、金属酸化物/銀/金属酸化物/銀/金属酸化物のように5層とした場合、中心の金属酸化物の厚さは、それ以外の金属酸化物層の厚さよりも厚いことが好ましい。この様にすることで、多層膜全体の光線透過率が向上する。   Further, when the conductive layer is formed into multiple layers, for example, when the number of repeated layers is 3, the thickness of the silver layer is preferably 50 to 200 mm, more preferably 50 to 100 mm. When the film thickness is thicker than this, the light transmittance decreases, and when it is thin, the resistance value increases. The thickness of the metal oxide layer is preferably 100 to 1000 mm, more preferably 100 to 500 mm. If it is thicker than this, it will be colored to change its color tone, and if it is thin, the resistance value will increase. In addition, when three or more layers are formed, for example, when five layers are formed such as metal oxide / silver / metal oxide / silver / metal oxide, the thickness of the central metal oxide is the other metal. It is preferable that it is thicker than the thickness of the oxide layer. By doing so, the light transmittance of the entire multilayer film is improved.

本発明では、波長選択吸収フィルターの波長選択吸収層と同一面、ないしは、反対面に反射防止層、きらつき防止層を直接或いは粘着剤を介して設けてもよい。また、複数の層構成からなる波長選択吸収層において、ネオンカット層に粘着性樹脂を用い、ネオンカット層に粘着層の機能を付与して、ガラス板、樹脂シートに貼り合わせてもよいし、直接ディスプレイに貼り合わせてもよい。また、単層の波長選択吸収層の表面に粘着剤層を形成させてもよい。   In the present invention, an antireflection layer or an anti-flicker layer may be provided directly or via an adhesive on the same surface as the wavelength selective absorption layer of the wavelength selective absorption filter or on the opposite surface. Moreover, in the wavelength selective absorption layer consisting of a plurality of layers, an adhesive resin is used for the neon cut layer, the function of the adhesive layer is given to the neon cut layer, and the glass plate may be bonded to a resin sheet, It may be attached directly to the display. Further, an adhesive layer may be formed on the surface of the single wavelength selective absorption layer.

本発明の波長選択吸収フィルターでは耐光性を向上させる目的で、紫外線吸収能を有する層を設けてもよい。紫外線吸収能を付与するためには、波長選択吸収層、透明基材、粘着剤層、反射防止層、ぎらつき防止層のいずれかに紫外線吸収剤を添加すればよい。紫外線吸収剤は、有機系紫外線防止剤、無機系紫外線防止剤等の公知のものが使用可能である。   In the wavelength selective absorption filter of the present invention, a layer having an ultraviolet absorbing ability may be provided for the purpose of improving light resistance. In order to impart ultraviolet absorbing ability, an ultraviolet absorber may be added to any of the wavelength selective absorption layer, the transparent substrate, the pressure-sensitive adhesive layer, the antireflection layer, and the glare prevention layer. As the UV absorber, known ones such as organic UV inhibitors and inorganic UV inhibitors can be used.

次に本発明の実施例及び比較例を示す。また、本発明で使用した特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである。   Next, examples and comparative examples of the present invention will be shown. The characteristic value measurement method and effect evaluation method used in the present invention are as follows.

<塗布液の粘度>
20℃に塗布液を調節し、東京計器製のB型粘度計(BL)を用いて、ローター回転数60rpmにて測定した。
<Viscosity of coating liquid>
The coating solution was adjusted to 20 ° C. and measured using a B-type viscometer (BL) manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd., at a rotor rotational speed of 60 rpm.

<全光線透過率、ヘイズ>
ヘイズメータ(日本電色工業製、NDH2000)を用いて、全光線透過率およびヘイズを測定した。
<Total light transmittance, haze>
Using a haze meter (Nippon Denshoku Industries, NDH2000), the total light transmittance and haze were measured.

<光線透過率>
分光光度計(日立製作所製、U−3500型)を用い、波長1100nm〜200nmの範囲で、波長選択吸収層側に光が照射するようにして、室内の空気を透過率の参照として測定した。
<Light transmittance>
Using a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, U-3500 type), the air in the range of 1100 nm to 200 nm was irradiated with light on the wavelength selective absorption layer side, and indoor air was measured as a reference for transmittance.

<色調>
色差計(日本電色工業製、ZE−2000)を用い、波長選択吸収層側に光が照射するようにして、Lab表色系のa値、b値を、標準光としてC光源、2度視野角で測定した。
<Color tone>
Using a color difference meter (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., ZE-2000), the wavelength selective absorption layer side is irradiated with light, and the a color value and b value of the Lab color system are used as standard light, C light source, 2 degrees. Measured at viewing angle.

<経時安定性>
温度80℃、湿度95%雰囲気中で48時間放置した後、上記の透過率、色調を測定した。色調の変化量として、下式1よりΔEを求めた。尚、ΔEは値が小さい程、色調の変化が少ないことを表す。
<Stability over time>
After leaving for 48 hours in an atmosphere of temperature 80 ° C. and humidity 95%, the transmittance and color tone were measured. As the amount of change in color tone, ΔE was obtained from Equation 1 below. Note that ΔE indicates that the smaller the value, the less the change in color tone.

ΔE=√((処理前a値―処理後a値)2+(処理前b値―処理後b値)2
・・・(1)
ΔE = √ ((a value before processing−a value after processing) 2 + (b value before processing−b value after processing) 2 )
... (1)

次に、透過率の経時処理前後の変化量ΔTは、下式2より求めた。ΔTは値が小さいほど、変化量が少ないことを表す。   Next, the amount of change ΔT before and after the temporal treatment of the transmittance was obtained from the following equation 2. ΔT indicates that the smaller the value, the smaller the amount of change.

変化量(%)=(|処理後の透過率−処理前の透過率|/処理前の透過率)×100
・・・(2)
Change amount (%) = (| transmittance after processing−transmittance before processing | / transmittance before processing) × 100
... (2)

<塗膜の外観>
(1)微小欠点
波長選択吸収層形成後のフィルターを白色フィルム上に置き、3波長の蛍光灯下で目視観察し、下記の評価を行った。なお、微小欠点は、面積100m2あたりの300μm以上の大きさの欠点の個数を計測し、以下の判断基準に従ってランク付けを行った。
◎:微小欠点が1個未満
○:微小欠点が1個以上5個未満
△:微小欠点が5個以上10個未満
×:微小欠点が10個以上
<Appearance of coating film>
(1) Minute defects The filter after the formation of the wavelength selective absorption layer was placed on a white film, visually observed under a three-wavelength fluorescent lamp, and the following evaluation was performed. The micro defects were ranked according to the following criteria by measuring the number of defects having a size of 300 μm or more per 100 m 2 area.
◎: Less than 1 micro defect ○: 1 or more and less than 5 △: Micro defect is 5 or more and less than 10 ×: 10 or more micro defects

(2)塗工不良
塗工斑、スジなどの塗工不良の有無については、波長選択吸収フィルターを白色フィルム上に置き、3波長の蛍光灯の下で波長選択吸収層面を目視観察し、以下の判断基準に従ってランク付けを行った。
◎:波長選択吸収フィルターを動かしながら観察しても、塗工不良が見られない
○:波長選択吸収フィルターを動かしながら観察すると、塗工不良が若干分かる
△:波長選択吸収フィルターを動かしながら観察すると、塗工不良が分かる
×:波長選択吸収フィルターを静止した状態でも、塗工不良が分かる
(2) Coating failure For coating defects such as coating spots and streaks, place the wavelength selective absorption filter on a white film and visually observe the wavelength selective absorption layer surface under a 3-wavelength fluorescent lamp. Ranking was performed according to the criteria.
◎: Coating failure is not observed even when observing while moving the wavelength selective absorption filter ○: Slightly known coating failure is observed when observing while moving the wavelength selective absorption filter △: When observing while moving the wavelength selective absorption filter , Coating failure can be found ×: coating failure can be understood even when the wavelength selective absorption filter is stationary

<密着性>
JIS K 5400の8.5.1の規定に準じた試験方法で密着性を測定した。具体的には、波長選択吸収層を積層した側から100個の升目状の切りキズを、隙間間隔2mmのカッターガイドを用いて付け、セロハン粘着テープ(ニチバン社製「405番」、24mm幅)を、升目状の切りキズ面に貼り付け、アクリル板(住友化学社製「スミペックス」)で擦って完全に付着させた後、垂直に引き剥がした時の状況を目視により観察して観察した。
○:剥離した升目なし
△:剥離した枡目が存在するが、剥離した升目が10枡目未満
×:10枡目以上が剥離
<Adhesion>
The adhesion was measured by a test method in accordance with the provisions of JIS K 5400 8.5.1. Specifically, 100 grid-shaped cut scratches are attached from the side where the wavelength selective absorption layer is laminated using a cutter guide with a gap interval of 2 mm, and cellophane adhesive tape (Nichiban Co., Ltd. “No. 405”, 24 mm width) After being attached to the grid-like cut scratched surface and rubbed with an acrylic plate (“Sumipex” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), the situation when peeled off vertically was observed and observed.
○: No peeled-off squares Δ: Peeled-off squares exist, but peeled-off squares are less than 10 squares ×: 10 or more squares peeled

実施例1
(基材の作製)
固有粘度0.62dl/gのポリエチレンテレフタレート樹脂を2軸スクリュー押出機に投入し、T‐ダイスから290℃で溶融押出しし、冷却回転金属ロール上で静電印加を付与しながら密着固化させ、未延伸シートを得た。
Example 1
(Preparation of base material)
A polyethylene terephthalate resin having an intrinsic viscosity of 0.62 dl / g is charged into a twin screw extruder, melt-extruded from a T-die at 290 ° C., solidified while applying electrostatic force on a cooled rotating metal roll, A stretched sheet was obtained.

次いで、該未延伸シートをロール延伸機で90℃に加熱して、3.5倍で縦延伸を行った後、縦延伸フィルム上に下記塗布液Aを乾燥後の塗布量が0.5g/m2となるように、前記縦延伸フィルムの両面に塗布し、風速10m/秒、120℃の熱風下で20秒通過させて、中間塗布層を形成させた。さらに、テンターで140℃に加熱して3.7倍横延伸したあと、235℃で幅(横)方向に5%緩和させながら熱処理して、両面に中間塗布層を有する二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを得た。得られたフィルムは、厚みが100μm、全光線透過率が90.2%で、ヘイズが0.5%であった。 Next, the unstretched sheet was heated to 90 ° C. with a roll stretching machine and longitudinally stretched by 3.5 times, and then the coating amount after drying the following coating liquid A on the longitudinally stretched film was 0.5 g / as will be m 2, it was coated on both surfaces of the longitudinally stretched film, wind speed 10 m / sec and passed through 20 seconds under hot air at 120 ° C., to form an intermediate coating layer. Further, the film was heated by a tenter to 140 ° C. and then stretched 3.7 times, and then heat treated while relaxing 5% in the width (transverse) direction at 235 ° C., and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having an intermediate coating layer on both sides Got. The obtained film had a thickness of 100 μm, a total light transmittance of 90.2%, and a haze of 0.5%.

(中間塗布層用塗布液Aの組成)
・イオン交換水 50.0質量%
・イソプロピルアルコール 28.9質量%
・アクリル−メラミン樹脂 10.0質量%
(日本カーバイド工業(株)製、A−08、固形分濃度:46質量%)
・ポリエステル系樹脂 10.0質量%
(東洋紡績製、バイロナールMD−1250、固形分濃度:30質量%)
・ポリメタクリル酸メチル系架橋物粒子 1.0質量%
(日本触媒製、エポスターMA1001)
・シリコーン系界面活性剤 0.1質量%
(ダウコーニング製、ペインタッド32)
(Composition of coating liquid A for intermediate coating layer)
・ Ion-exchanged water 50.0% by mass
・ Isopropyl alcohol 28.9% by mass
・ Acrylic-melamine resin 10.0% by mass
(Nippon Carbide Industries Co., Ltd., A-08, solid content concentration: 46 mass%)
・ Polyester resin 10.0% by mass
(Toyobo, Vironal MD-1250, solid content: 30% by mass)
・ Polymethyl methacrylate cross-linked particles 1.0% by mass
(Nippon Shokubai, Eposta MA1001)
・ Silicon surfactant 0.1% by mass
(Dow Corning, Paintad 32)

(波長選択吸収層用の塗布液Bの調整)
下記の質量比でトルエン、メチルエチルケトン、樹脂を混合し、加温下で攪拌して樹脂を溶解した後、色素および界面活性剤を添加して30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精度1μmのフィルターで未溶解物を除去して塗布液Bを調整した。
・トルエン 39.995質量%
・メチルエチルケトン 40.000質量%
・アクリル系樹脂 18.776質量%
(三菱レイヨン製、BR−80、Tg=105℃)
・芳香族系ジインモニウム系色素 0.695質量%
(日本カーリット製、CIR1085、対イオン:ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸)
・フタロシアニン系色素 0.357質量%
(日本触媒製、IR−10A)
・アザポルフィリン系色素 0.118質量%
(山田化成製、TAP−2)
・シリコーン系界面活性剤 0.059質量%
(ダウコーニング製、ペインタッド57、HLB=6.7)
(Adjustment of coating liquid B for wavelength selective absorption layer)
Toluene, methyl ethyl ketone, and a resin were mixed at the following mass ratio and stirred under heating to dissolve the resin, and then a dye and a surfactant were added and stirred for 30 minutes or more. Next, the coating solution B was prepared by removing undissolved substances with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 μm.
・ Toluene 39.995% by mass
・ Methyl ethyl ketone 40.000% by mass
-Acrylic resin 18.7776% by mass
(Made by Mitsubishi Rayon, BR-80, Tg = 105 ° C)
・ Aromatic diimmonium pigment 0.695% by mass
(Nippon Carlit, CIR1085, counter ion: bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid)
・ Phthalocyanine pigment 0.357% by mass
(Nippon Shokubai, IR-10A)
・ Azaporphyrin pigment 0.118% by mass
(Yamada Kasei TAP-2)
・ Silicone surfactant 0.059% by mass
(Dow Corning, Paintad 57, HLB = 6.7)

(波長選択吸収フィルターの作製)
前記の塗布液B(固形分濃度:20質量%、粘度:40cps)を前記の中間塗布層の一方に、乾燥後の950nmの透過率が4.3%(乾燥後の塗布量で8.0g/m2)になるように直径60cmの斜線グラビアを用いてリバースで塗工し、40℃で5m/秒の熱風で20秒間、150℃で20m/秒の熱風で20秒間、さらに、90℃で20m/秒の熱風で10秒間通過させて乾燥し、波長選択吸収フィルターを得た。なお、波長選択吸収層における、芳香族ジインモニウム系色素(a)とアザポルフィリン系色素(b)との質量比は、(a)/(b)=100/17であった。
(Production of wavelength selective absorption filter)
The coating liquid B (solid content concentration: 20 mass%, viscosity: 40 cps) is applied to one of the intermediate coating layers, and the transmittance at 950 nm after drying is 4.3% (coating amount after drying is 8.0 g). / M 2 ), using a slanted gravure with a diameter of 60 cm, and coating with reverse, 20 seconds with hot air of 5 m / second at 40 ° C., 20 seconds with hot air of 20 m / second at 150 ° C., and 90 ° C. And dried with passing through hot air of 20 m / sec for 10 seconds to obtain a wavelength selective absorption filter. The mass ratio of the aromatic diimmonium dye (a) to the azaporphyrin dye (b) in the wavelength selective absorption layer was (a) / (b) = 100/17.

得られた波長選択吸収フィルターは、近赤外領域の吸収が強く、可視光領域での透過率が高く、更に590nm付近にシャープな吸収を有していた。更に、経時安定性や塗工外観も良好であった。
波長選択吸収層に用いた色素の種類を表1に、得られた波長選択吸収フィルターの物性を表2及び表3に示す。
The obtained wavelength selective absorption filter had strong absorption in the near infrared region, high transmittance in the visible light region, and sharp absorption near 590 nm. Furthermore, stability over time and coating appearance were also good.
Table 1 shows the types of dyes used in the wavelength selective absorption layer, and Tables 2 and 3 show the physical properties of the obtained wavelength selective absorption filter.

実施例2
下記の塗布液Cを用いたこと以外は、実施例1と同様にして波長選択吸収フィルターを得た。なお、波長選択吸収層における、芳香族ジインモニウム系色素(a)とアザポルフィリン系色素(b)との質量比は、(a)/(b)=100/17であった。
Example 2
A wavelength selective absorption filter was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating liquid C was used. In the wavelength selective absorption layer, the mass ratio of the aromatic diimmonium dye (a) to the azaporphyrin dye (b) was (a) / (b) = 100/17.

(波長選択吸収層用の塗布液Cの調整)
下記の質量比でトルエン、シクロペンタノン、樹脂を混合し、加温下で攪拌して樹脂を溶解した後、色素および界面活性剤を添加して30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精度1μmのフィルターで未溶解物を除去して塗布液Cを調製した。
・トルエン 40.088質量%
・シクロペンタノン 40.088質量%
・フルオレン骨格を有する共重合ポリエステル樹脂 18.776質量%
(カネボウ製、O−PET、Tg=150℃)
・芳香族系ジインモニウム系色素 0.695質量%
(日本カーリット製、CIR1085、対イオン:ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸)
・フタロシアニン系色素 0.176質量%
(日本触媒製、IR−12)
・アザポルフィリン系色素 0.118質量%
(山田化成製、TAP−2)
・シリコーン系界面活性剤 0.059質量%
(ダウコーニング製、ペインタッド57、HLB=6.7)
(Adjustment of coating liquid C for wavelength selective absorption layer)
Toluene, cyclopentanone, and a resin were mixed at the following mass ratio and stirred under heating to dissolve the resin, and then a dye and a surfactant were added and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 μm to prepare a coating solution C.
・ Toluene 40.088 mass%
・ Cyclopentanone 40.088% by mass
-Copolyester resin having a fluorene skeleton 18.7876% by mass
(Kanebo, O-PET, Tg = 150 ° C.)
・ Aromatic diimmonium pigment 0.695% by mass
(Nippon Carlit, CIR1085, counter ion: bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid)
-Phthalocyanine pigment 0.176% by mass
(Nippon Shokubai, IR-12)
・ Azaporphyrin pigment 0.118% by mass
(Yamada Kasei TAP-2)
・ Silicone surfactant 0.059% by mass
(Dow Corning, Paintad 57, HLB = 6.7)

得られた波長選択吸収フィルターは、実施例1と同様に、近赤外領域の吸収が強く、可視光領域での透過率が高く、更に590nm付近にシャープな吸収を有していた。更に、経時安定性や塗工外観も良好であった。しかしながら、基材との密着性がやや不良であった。
波長選択吸収層に用いた色素の種類を表1に、得られた波長選択吸収フィルターの物性を表2及び表3に示す。
The obtained wavelength selective absorption filter had a strong absorption in the near-infrared region, a high transmittance in the visible light region, and a sharp absorption near 590 nm, as in Example 1. Furthermore, stability over time and coating appearance were also good. However, the adhesion with the substrate was slightly poor.
Table 1 shows the types of dyes used in the wavelength selective absorption layer, and Tables 2 and 3 show the physical properties of the obtained wavelength selective absorption filter.

比較例1
下記の塗布液Dを用いたこと以外は、実施例1と同様にして波長選択吸収フィルターを得た。
(波長選択吸収層用の塗布液Dの調整)
下記の質量比でトルエン、メチルエチルケトン、樹脂を混合し、加温下で攪拌して樹脂を溶解した後、色素および界面活性剤を添加して30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精度1μmのフィルターで未溶解物を除去して塗布液Dを作成した。
・トルエン 39.998質量%
・メチルエチルケトン 39.998質量%
・アクリル系樹脂 18.825質量%
(三菱レイヨン製、BR−80)
・芳香族系ジインモニウム系色素 0.697質量%
(日本カーリット製、CIR1085、対イオン:ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸)
・フタロシアニン系色素 0.358質量%
(日本触媒製、IR−10A)
・スクアリリウム系色素 0.065質量%
(協和発酵製、SD184)
・シリコーン系界面活性剤 0.059質量%
(ダウコーニング製、ペインタッド57、HLB=6.7)
Comparative Example 1
A wavelength selective absorption filter was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating solution D was used.
(Adjustment of coating liquid D for wavelength selective absorption layer)
Toluene, methyl ethyl ketone, and a resin were mixed at the following mass ratio and stirred under heating to dissolve the resin, and then a dye and a surfactant were added and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 μm to prepare a coating solution D.
・ Toluene 39.998% by mass
・ Methyl ethyl ketone 39.998 mass%
-Acrylic resin 18.825 mass%
(Made by Mitsubishi Rayon, BR-80)
・ Aromatic diimmonium pigment 0.697% by mass
(Nippon Carlit, CIR1085, counter ion: bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid)
-Phthalocyanine pigment 0.358% by mass
(Nippon Shokubai, IR-10A)
・ Squarylium pigment 0.065% by mass
(Kyowa Hakko, SD184)
・ Silicone surfactant 0.059% by mass
(Dow Corning, Paintad 57, HLB = 6.7)

得られた波長選択吸収フィルターは、実施例1と同様に、近赤外領域の吸収が強く、可視光領域での透過率が高く、更に590nm付近にシャープな吸収を有していた。しかしながら、経時安定性は不良であった。
波長選択吸収層に用いた色素の種類を表1に、得られた波長選択吸収フィルターの物性を表2及び表3に示す。
The obtained wavelength selective absorption filter had a strong absorption in the near-infrared region, a high transmittance in the visible light region, and a sharp absorption near 590 nm, as in Example 1. However, the temporal stability was poor.
Table 1 shows the types of dyes used in the wavelength selective absorption layer, and Tables 2 and 3 show the physical properties of the obtained wavelength selective absorption filter.

比較例2
下記の塗布液Eを用いたこと以外は、実施例1と同様にして波長選択吸収フィルターを得た。なお、波長選択吸収層における、芳香族ジインモニウム系色素(a)とアザポルフィリン系色素(b)との質量比は、(a)/(b)=100/19であった。
Comparative Example 2
A wavelength selective absorption filter was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating solution E was used. The mass ratio of the aromatic diimmonium dye (a) to the azaporphyrin dye (b) in the wavelength selective absorption layer was (a) / (b) = 100/19.

(波長選択吸収層用の塗布液Eの調整)
下記の質量比でトルエン、メチルエチルケトン、樹脂を混合し、加温下で攪拌して樹脂を溶解した後、色素および界面活性剤を添加して30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精度1μmのフィルターで未溶解物を除去して塗布液Eを作成した。
・トルエン 40.002質量%
・メチルエチルケトン 40.002質量%
・アクリル系樹脂 18.839質量%
(三菱レイヨン製、BR−80)
・芳香族系ジインモニウム系色素 0.622質量%
(日本触媒製、IRG022、対イオン:ヘキサフルオロアンチモン酸)
・フタロシアニン系色素 0.358質量%
(日本触媒製、IR−10A)
・アザポルフィリン系色素 0.118質量%
(山田化成製、TAP−2)
・シリコーン系界面活性剤 0.059質量%
(ダウコーニング製、ペインタッド57、HLB=6.7)
(Adjustment of coating liquid E for wavelength selective absorption layer)
Toluene, methyl ethyl ketone, and a resin were mixed at the following mass ratio and stirred under heating to dissolve the resin, and then a dye and a surfactant were added and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 μm to prepare a coating solution E.
・ Toluene 40.002% by mass
・ Methyl ethyl ketone 40.002 mass%
・ Acrylic resin 18.839% by mass
(Made by Mitsubishi Rayon, BR-80)
・ Aromatic diimonium dye 0.622% by mass
(Nippon Shokubai, IRG022, counter ion: hexafluoroantimonic acid)
-Phthalocyanine pigment 0.358% by mass
(Nippon Shokubai, IR-10A)
・ Azaporphyrin pigment 0.118% by mass
(Yamada Kasei TAP-2)
・ Silicone surfactant 0.059% by mass
(Dow Corning, Paintad 57, HLB = 6.7)

得られた波長選択吸収フィルターは、実施例1と同様に、近赤外領域の吸収が強く、可視光領域での透過率が高く、更に590nm付近にシャープな吸収を有していた。しかしながら、経時安定性は不良であった。
波長選択吸収層に用いた色素の種類を表1に、得られた波長選択吸収フィルターの物性を表2及び表3に示す。
The obtained wavelength selective absorption filter had a strong absorption in the near-infrared region, a high transmittance in the visible light region, and a sharp absorption near 590 nm, as in Example 1. However, the temporal stability was poor.
Table 1 shows the types of dyes used in the wavelength selective absorption layer, and Tables 2 and 3 show the physical properties of the obtained wavelength selective absorption filter.

実施例3
(波長選択吸収層における近赤外線吸収層用の塗布液Fの調整)
下記の質量比でトルエン、メチルエチルケトン、樹脂を混合し、加温下で攪拌して樹脂を溶解した後、色素および界面活性剤を添加して30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精度1μmのフィルターで未溶解物を除去して塗布液Fを調整した。
・トルエン 40.056質量%
・メチルエチルケトン 40.057質量%
・アクリル系樹脂 18.776質量%
(三菱レイヨン製、BR−80、Tg=105℃)
・芳香族系ジインモニウム系色素 0.695質量%
(日本カーリット製、CIR1085、対イオン:ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸)
・フタロシアニン系色素 0.357質量%
(日本触媒製、IR−10A)
・シリコーン系界面活性剤 0.059質量%
(ダウコーニング製、ペインタッド57、HLB=6.7)
Example 3
(Adjustment of coating solution F for near-infrared absorbing layer in wavelength selective absorbing layer)
Toluene, methyl ethyl ketone, and a resin were mixed at the following mass ratio and stirred under heating to dissolve the resin, and then a dye and a surfactant were added and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 μm to prepare the coating solution F.
・ Toluene 40.56 mass%
・ Methyl ethyl ketone 40.57 mass%
-Acrylic resin 18.7776% by mass
(Made by Mitsubishi Rayon, BR-80, Tg = 105 ° C)
・ Aromatic diimmonium pigment 0.695% by mass
(Nippon Carlit, CIR1085, counter ion: bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid)
・ Phthalocyanine pigment 0.357% by mass
(Nippon Shokubai, IR-10A)
・ Silicone surfactant 0.059% by mass
(Dow Corning, Paintad 57, HLB = 6.7)

(波長選択吸収層におけるネオンカット層用の塗布液Gの調整)
下記の質量比で混合後、30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精度1μmのフィルターで未溶解物を除去して塗布液Gを調整した。
・メチルエチルケトン 49.808質量%
・アクリル系粘着剤 49.847質量%
(総研化学製、SKダイン1435、固形分30重量%)
・アザポルフィリン系色素 0.045質量%
(山田化成製、TAP−2)
・硬化剤 0.150質量%
(総研化学製、L−45)
・硬化剤 0.150質量%
(総研化学製、TD−75)
(Adjustment of coating liquid G for neon cut layer in wavelength selective absorption layer)
After mixing at the following mass ratio, the mixture was stirred for 30 minutes or more. Next, the undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 μm to prepare the coating solution G.
・ Methyl ethyl ketone 49.808% by mass
・ Acrylic adhesive 49.847% by mass
(Soken Chemicals, SK Dyne 1435, solid content 30% by weight)
・ Azaporphyrin pigment 0.045% by mass
(Yamada Kasei TAP-2)
・ Curing agent 0.150% by mass
(Soken Chemical, L-45)
・ Curing agent 0.150% by mass
(TD-75, manufactured by Soken Chemical)

(波長選択吸収フィルターの作製)
実施例1と同様に得た中間塗布層形成面に、前記の塗布液Fを乾燥後の950nmにおける透過率が4.3%(乾燥後の塗布量で8.0g/m2)になるように直径60cmの斜線グラビアを用いてリバースで塗工し、40℃で5m/秒の熱風で20秒間、150℃で20m/秒の熱風で20秒間、さらに、90℃で20m/秒の熱風で10秒間通過させて乾燥し、近赤外線吸収層を形成させた。次いで、前記の塗布液Gを近赤外線吸収層上にリップコーターを用いて、乾燥後の塗工量が16g/m2になるように塗工し、40℃で5m/秒の熱風で20秒間、150℃で20m/秒の熱風で20秒間、さらに、90℃で20m/秒の熱風で10秒間通過させて乾燥し、ネオンカット層を形成させた。すなわち、近赤外線吸収層とネオンカット層の2層の構成からなる波長選択吸収層を有する波長選択吸収フィルターを得た。なお、波長選択吸収層における、芳香族ジインモニウム系色素(a)とアザポルフィリン系色素(b)との質量比は、(a)/(b)=100/17であった。
(Production of wavelength selective absorption filter)
On the intermediate coating layer forming surface obtained in the same manner as in Example 1, the transmittance at 950 nm after drying the coating solution F is 4.3% (the coating amount after drying is 8.0 g / m 2 ). The film was applied in reverse using a diagonal gravure with a diameter of 60 cm, heated at 40 ° C. with hot air of 5 m / second for 20 seconds, 150 ° C. with hot air of 20 m / second for 20 seconds, and further heated at 90 ° C. with hot air of 20 m / second. It was allowed to pass for 10 seconds and dried to form a near-infrared absorbing layer. Next, the coating solution G is applied onto the near infrared absorbing layer using a lip coater so that the coating amount after drying is 16 g / m 2 , and heated at 40 ° C. with hot air of 5 m / second for 20 seconds. A neon cut layer was formed by passing for 20 seconds at 150 ° C. with hot air of 20 m / sec for 20 seconds and further passing at 90 ° C. with hot air of 20 m / sec for 10 seconds. That is, a wavelength selective absorption filter having a wavelength selective absorption layer composed of two layers of a near infrared absorption layer and a neon cut layer was obtained. In the wavelength selective absorption layer, the mass ratio of the aromatic diimmonium dye (a) to the azaporphyrin dye (b) was (a) / (b) = 100/17.

得られた波長選択吸収フィルターは、近赤外領域の吸収が強く、可視光領域での透過率が高く、更に590nm付近にシャープな吸収を有していた。更に、経時安定性や塗工外観も良好であった。
波長選択吸収層に用いた色素の種類を表1に、得られた波長選択吸収フィルターの物性を表2及び表3に示す。
The obtained wavelength selective absorption filter had strong absorption in the near infrared region, high transmittance in the visible light region, and sharp absorption near 590 nm. Furthermore, stability over time and coating appearance were also good.
Table 1 shows the types of dyes used in the wavelength selective absorption layer, and Tables 2 and 3 show the physical properties of the obtained wavelength selective absorption filter.

Figure 0003904028
Figure 0003904028

Figure 0003904028
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本発明の波長選択吸収フィルターは、近赤外領域及びネオン光領域の透過率が低く、可視光領域の透過率が高く、かつ、光学特性の経時変化が少なく、耐久性に優れるため、プラズマディスプレイの前面に設置することにより良好が映像を安定して表現でき、かつ、近赤外線リモコンを用いて精密機器の誤動作を防止することができ、産業界に大きく寄与することができる。   The wavelength selective absorption filter of the present invention has a low transmittance in the near-infrared region and neon light region, a high transmittance in the visible light region, little change in optical characteristics over time, and excellent durability. It is possible to stably display an image that is good by being installed on the front side of the camera, and it is possible to prevent malfunction of precision equipment using a near-infrared remote controller, which can greatly contribute to the industry.

Claims (10)

ポリエステル系フィルムを透明基材とし、当該透明基材上に、樹脂、近赤外線吸収色素(A)、及び色素(B)を含有する単層または複層の波長選択吸収層を積層してなり、かつ、波長800〜1200nm及び波長550〜620nmに極大吸収を有する波長選択吸収フィルターであって、
前記近赤外線吸収色素(A)の1つがビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸を対イオンとする芳香族ジインモニウム系色素(a)であり、
前記色素(B)の1つがポルフィリン系色素またはアザポルフィリン系色素(b)であることを特徴とする波長選択吸収フィルター。
A polyester-based film is used as a transparent substrate, and a single-layer or multiple-layer wavelength selective absorption layer containing a resin, a near-infrared absorbing dye (A), and a dye (B) is laminated on the transparent substrate, And the wavelength selective absorption filter which has maximum absorption in wavelength 800-1200nm and wavelength 550-620nm,
One of the near-infrared absorbing dyes (A) is an aromatic diimmonium dye (a) having bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid as a counter ion,
One of the dyes (B) is a porphyrin dye or an azaporphyrin dye (b).
複層の波長選択吸収層が、樹脂及び近赤外線吸収色素(A)を含有する近赤外線吸収層と、樹脂及び色素(B)を含有するネオンカット層がこの順に透明基材上に形成させてなることを特徴とする請求項1に記載の波長選択吸収フィルター。   A multi-layer wavelength selective absorption layer is formed on a transparent substrate in this order, a near-infrared absorption layer containing a resin and a near-infrared absorption dye (A), and a neon cut layer containing a resin and a dye (B). The wavelength selective absorption filter according to claim 1, wherein 波長選択吸収層が、前記芳香族ジインモニウム系色素(a)100質量部に対して、前記ポルフィリン系色素またはアザポルフィリン系色素(b)5〜100質量部(質量比)含むことを特徴とする請求項1に記載の波長選択吸収フィルター。   The wavelength selective absorption layer contains 5 to 100 parts by mass (mass ratio) of the porphyrin dye or azaporphyrin dye (b) with respect to 100 parts by mass of the aromatic diimmonium dye (a). Item 2. The wavelength selective absorption filter according to Item 1. 波長選択吸収層を構成する樹脂がアクリル系樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の波長選択吸収フィルター。   The wavelength selective absorption filter according to claim 1, wherein the resin constituting the wavelength selective absorption layer is an acrylic resin. 単層の波長選択吸収層が、前記透明基材上に、有機溶剤、樹脂、芳香族系ジインモニウム系色素(a)、ポルフィリン系色素またはアザポルフィリン系色素(b)を含有する塗布液Aを、塗布、乾燥させて形成させることを特徴とする請求項1に記載の波長選択吸収フィルター。   A single-layer wavelength selective absorption layer comprises a coating solution A containing an organic solvent, a resin, an aromatic diimmonium dye (a), a porphyrin dye or an azaporphyrin dye (b) on the transparent substrate. 2. The wavelength selective absorption filter according to claim 1, wherein the wavelength selective absorption filter is formed by coating and drying. 複層の波長選択吸収層が、前記透明基材上に、有機溶剤、樹脂、および芳香族系ジインモニウム系色素(a)を含有する塗布液Bを、塗布、乾燥させて形成させた近赤外線吸収層と、該近赤外線吸収層の直上に、有機溶剤および樹脂と、ポルフィリン系色素またはアザポルフィリン系色素(b)を含有する塗布液Cを、塗布、乾燥させて形成させたネオンカット層を含むことを特徴とする請求項1に記載の波長選択吸収フィルター。   Near-infrared absorption formed by coating and drying a coating liquid B containing an organic solvent, a resin, and an aromatic diimmonium dye (a) on the transparent base material. A neon cut layer formed by coating and drying a coating liquid C containing an organic solvent and a resin and a porphyrin-based dye or azaporphyrin-based dye (b) immediately above the near-infrared absorbing layer The wavelength selective absorption filter according to claim 1. 塗布液AまたはBが、さらにHLBが2〜12の界面活性剤を含有することを特徴とする請求項5または6に記載の波長選択吸収フィルター。   The wavelength selective absorption filter according to claim 5 or 6, wherein the coating liquid A or B further contains a surfactant having an HLB of 2 to 12. 界面活性剤がシリコーン系界面活性剤またはフッ素系界面活性剤であることを特徴とする請求項7に記載の波長選択吸収フィルター。   The wavelength selective absorption filter according to claim 7, wherein the surfactant is a silicone-based surfactant or a fluorine-based surfactant. 前記透明基材と波長選択吸収層との間に、粒子を含有する中間層を備えた請求項1〜8のいずれかに記載の波長選択吸収フィルター。The wavelength selective absorption filter according to any one of claims 1 to 8, further comprising an intermediate layer containing particles between the transparent substrate and the wavelength selective absorption layer. 前記粒子が、シリカ、カオリナイト、タルク、炭酸カルシウム、ゼオライト、アルミナ、アクリル、PMMA、ナイロン、スチレン、ポリエステル、ベンゾグアナミン・ホルマリン縮合物から選択されるものである請求項9に記載の波長選択吸収フィルター。The wavelength selective absorption filter according to claim 9, wherein the particles are selected from silica, kaolinite, talc, calcium carbonate, zeolite, alumina, acrylic, PMMA, nylon, styrene, polyester, and benzoguanamine / formalin condensate. .
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