JP2006183098A - Method for forming vapor deposition film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、希土類系永久磁石などの被処理物の表面にアルミニウムなどの蒸着被膜を形成する方法に関する。 The present invention relates to a method for forming a deposited film such as aluminum on the surface of an object to be processed such as a rare earth permanent magnet.
Nd−Fe−B系永久磁石に代表されるR−Fe−B系永久磁石などの希土類系永久磁石は、高い磁気特性を有しており、今日様々な分野で使用されている。しかしながら、希土類系永久磁石は、大気中で酸化腐食されやすい金属種(特にR)を含む。それ故、表面処理を行わずに使用した場合には、わずかな酸やアルカリや水分などの影響によって表面から腐食が進行して錆が発生し、それに伴って、磁気特性の劣化やばらつきを招くことになる。さらに、磁気回路などの装置に組み込んだ磁石に錆が発生した場合、錆が飛散して周辺部品を汚染する恐れがある。以上の点に鑑み、希土類系永久磁石に優れた耐食性を付与することを目的として、その表面にアルミニウムや亜鉛などの金属蒸着被膜を形成することが行われている。特に、アルミニウム被膜は、耐食性や量産性に優れていることに加え、部品組み込み時に必要とされる接着剤との接着信頼性に優れている(接着剤が本質的に有する破壊強度に達するまでに被膜と接着剤との間で剥離が生じにくい)ので、強い接着強度が要求される希土類系永久磁石に対しても広く適用されている。 Rare earth permanent magnets such as R-Fe-B permanent magnets represented by Nd-Fe-B permanent magnets have high magnetic properties and are used in various fields today. However, rare earth-based permanent magnets contain metal species (particularly R) that are susceptible to oxidative corrosion in the atmosphere. Therefore, when used without surface treatment, corrosion progresses from the surface due to the influence of slight acid, alkali, moisture, etc., and rust is generated, resulting in deterioration and dispersion of magnetic properties. It will be. Furthermore, when rust is generated in a magnet incorporated in a device such as a magnetic circuit, the rust may be scattered and contaminate peripheral components. In view of the above points, for the purpose of imparting excellent corrosion resistance to rare earth-based permanent magnets, forming a metal vapor-deposited film such as aluminum or zinc on the surface thereof has been performed. In particular, the aluminum coating has excellent corrosion resistance and mass productivity, as well as excellent adhesion reliability with the adhesive required when assembling parts (by reaching the fracture strength inherent to the adhesive). Therefore, it is also widely applied to rare earth permanent magnets that require high adhesive strength.
希土類系永久磁石の表面に金属蒸着被膜を形成するために使用される、真空処理室内に、蒸着材料の蒸発部と、その表面に蒸着材料が蒸着される被処理物を収容するための多孔性周面を有する筒型バレルを備え、筒型バレルを横設して水平方向の回転軸線を中心に回転させながら被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させる蒸着被膜形成装置としては、例えば、特許文献1に記載の装置がある。図1は、その一例の、図略の真空排気系に連なる真空処理室1の内部の模式的正面図(一部透視図)である。その室内上方には、水平方向の回転軸線上の回転シャフト6を中心に回転自在とした支持部材7が2個併設されており、この支持部材7の回転シャフト6の周方向の外方に6個のステンレス製のメッシュ金網で形成された円筒形バレル5が支持軸8によって公転自在に環状に支持されている(図2は円筒形バレル5の一例を示す模式的斜視図であり、図3は支持部材7に支持された円筒形バレル5の一例を示す模式的斜視図である)。また、その室内下方には、蒸着材料であるアルミニウムを蒸発させる蒸発部であるボート2が、支持テーブル3上に立設されたボート支持台4上に複数個配置されている。支持テーブル3の下方内部には、蒸着材料であるアルミニウムのワイヤー9が繰り出しリール10に巻回保持されている。アルミニウムワイヤー9の先端はボート2の内面に向かって臨ませた耐熱性の保護チューブ11によってボート2の上方に案内されている。保護チューブ11の一部には切り欠き窓12が設けられており、この切り欠き窓12に対応して設けられた繰り出しギア13がアルミニウムワイヤー9に直接接触し、アルミニウムワイヤー9を繰り出すことによってボート2内にアルミニウムが絶えず供給されるように構成されている。そして、この装置によれば、被処理物である希土類系永久磁石30を円筒形バレル5内に多数収容し、矢示のごとく回転シャフト6を中心に支持部材7を回転させると、支持部材7の回転シャフト6の周方向の外方に支持軸8によって支持されている円筒形バレル5は、これに対応して、回転シャフト6を中心に公転運動し、図略の加熱手段によって所定温度に加熱されたボート2から蒸発させたアルミニウムが、円筒形バレル5内の希土類永久磁石30の表面に蒸着され、アルミニウム被膜が形成される。
図1に示す蒸着被膜形成装置は、大量処理が可能であり、生産性に優れたものである。しかしながら、希土類系永久磁石のサイズが大きくなると(例えば縦40mm×横15mm×厚み5mmを超えるような板状磁石)、時として、蒸着被膜形成時に、磁石の欠けや、いったん形成された蒸着被膜の磁石からのはがれ(被膜ハガレ)が顕著となり、生産性の悪化を引き起こす場合がある。
そこで本発明は、サイズの大きい被処理物に対しても、被処理物の欠けや被膜ハガレの発生率を抑えて、その表面に蒸着被膜を効率的に形成することができる、蒸着被膜形成方法を提供することを目的とする。
The vapor deposition film forming apparatus shown in FIG. 1 is capable of mass processing and is excellent in productivity. However, when the size of the rare earth permanent magnet increases (for example, a plate-shaped magnet exceeding 40 mm in length, 15 mm in width, and 5 mm in thickness), sometimes, when a vapor-deposited film is formed, the magnet is missing or once the vapor-deposited film is formed. Peeling from the magnet (coating peeling) becomes prominent and may cause deterioration in productivity.
Accordingly, the present invention provides a vapor deposition film forming method capable of efficiently forming a vapor deposition film on a surface of a large size object to be processed while suppressing the occurrence of chipping or film peeling. The purpose is to provide.
本発明者らは、上記の点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、図1に示す蒸着被膜形成装置を用いて被処理物の表面に蒸着被膜を形成する際、円筒形バレル内に金属製スプリング部材を多数収容するか、円筒形バレル内に金属製スプリングをテンションを付加して架設することで、円筒形バレル内での被処理物の自由運動を制御することにより、被処理物の欠けや被膜ハガレの発生率を抑えて、その表面に蒸着被膜を効率的に形成することができることを見出した。 As a result of intensive studies in view of the above points, the present inventors have found that when a deposited film is formed on the surface of an object to be processed using the deposited film forming apparatus shown in FIG. A large number of spring members can be accommodated, or a metal spring can be installed in the cylindrical barrel with tension applied to control the free movement of the workpiece in the cylindrical barrel. The present inventors have found that a deposition film can be efficiently formed on the surface of the film while suppressing the rate of occurrence of film peeling.
上記の知見に基づいてなされた本発明の蒸着被膜形成方法は、請求項1記載の通り、真空処理室内に、蒸着材料の蒸発部と、その表面に蒸着材料が蒸着される被処理物を収容するための多孔性周面を有する筒型バレルを備え、筒型バレルを横設して水平方向の回転軸線を中心に回転させながら被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させる蒸着被膜形成装置を用いた蒸着被膜形成方法であって、被処理物と金属製スプリング部材を、筒型バレル内にそれぞれ多数収容し、被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させることを特徴とする。
また、本発明の蒸着被膜形成方法は、請求項2記載の通り、真空処理室内に、蒸着材料の蒸発部と、その表面に蒸着材料が蒸着される被処理物を収容するための多孔性周面を有する筒型バレルを備え、筒型バレルを横設して水平方向の回転軸線を中心に回転させながら被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させる蒸着被膜形成装置を用いた蒸着被膜形成方法であって、金属製スプリングをテンションを付加して架設した筒型バレル内に、被処理物を多数収容し、被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させることを特徴とする。
また、請求項3記載の蒸着被膜形成方法は、請求項1または2記載の蒸着被膜形成方法において、蒸着材料がアルミニウムであることを特徴とする。
また、請求項4記載の蒸着被膜形成方法は、請求項1乃至3のいずれかに記載の蒸着被膜形成方法において、被処理物が板状体であることを特徴とする。
また、請求項5記載の蒸着被膜形成方法は、請求項1乃至4のいずれかに記載の蒸着被膜形成方法において、被処理物が希土類系永久磁石であることを特徴とする。
The vapor deposition film forming method of the present invention made on the basis of the above knowledge, according to claim 1, accommodates an evaporation portion of the vapor deposition material and an object to be vapor deposited on the surface thereof in the vacuum processing chamber. A vapor deposition film forming apparatus comprising a cylindrical barrel having a porous peripheral surface for performing vapor deposition on a surface of an object to be processed while horizontally rotating the cylindrical barrel and rotating around a horizontal rotation axis The vapor deposition film forming method used is characterized in that a large number of workpieces and metal spring members are accommodated in a cylindrical barrel, and a vapor deposition material is vapor deposited on the surface of the workpiece.
In addition, the vapor deposition film forming method of the present invention, as described in
The vapor deposition film forming method according to
The vapor deposition film forming method according to claim 4 is the vapor deposition film forming method according to any one of claims 1 to 3, wherein the object to be processed is a plate-like body.
The vapor deposition film forming method according to
本発明によれば、サイズの大きい被処理物に対しても、被処理物の欠けや被膜ハガレの発生率を抑えて、その表面に蒸着被膜を効率的に形成することができる、蒸着被膜形成方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to efficiently form a vapor deposition film on the surface of a large size object to be processed while suppressing the occurrence of chipping of the object to be processed and film peeling. A method can be provided.
まず、本発明の第一の蒸着被膜形成方法について説明する。この方法は、真空処理室内に、蒸着材料の蒸発部と、その表面に蒸着材料が蒸着される被処理物を収容するための多孔性周面を有する筒型バレルを備え、筒型バレルを横設して水平方向の回転軸線を中心に回転させながら被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させる蒸着被膜形成装置を用いた蒸着被膜形成方法であって、被処理物と金属製スプリング部材を、筒型バレル内にそれぞれ多数収容し、被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させることを特徴とする。以下に、この方法の一例を、図面を用いながら説明する。 First, the 1st vapor deposition film forming method of this invention is demonstrated. In this method, a vacuum barrel is provided with a cylindrical barrel having an evaporation portion for vapor deposition material and a porous peripheral surface for accommodating an object to be processed on which vapor deposition material is deposited. A vapor deposition film forming method using a vapor deposition film forming apparatus that deposits a vapor deposition material on the surface of the object to be processed while rotating around a horizontal rotation axis, the object to be processed and a metal spring member, A large number of each is accommodated in a cylindrical barrel, and a vapor deposition material is vapor-deposited on the surface of the workpiece. Hereinafter, an example of this method will be described with reference to the drawings.
図4は、被処理物とともに筒型バレル内に収容する、金属製スプリング部材の一例の模式的側面図である。筒型バレル内に収容する金属製スプリング部材は、被処理物と略同一大とすることが望ましい。筒型バレル内での被処理物の自由運動を適度に制御する緩衝部材としての機能を発揮させるのに好都合であり、被処理物の欠けや被膜ハガレの発生率を抑えて、その表面に蒸着被膜を効率的に形成することができるからである。例えば、被処理物の体積を1とした場合、金属製スプリング部材の体積(外接円筒の体積と見なすことができる)が0.5〜2.5であれば、金属製スプリング部材は被処理物と略同一大であるとすることができる。図5は、被処理物とともに筒型バレル内に収容する、金属製スプリング部材のその他の例の模式的側面図である。この金属製スプリング部材は、部材を構成する線状材の一部にスプリングを巻回したものである。 FIG. 4 is a schematic side view of an example of a metal spring member housed in a cylindrical barrel together with an object to be processed. It is desirable that the metal spring member accommodated in the cylindrical barrel is approximately the same size as the object to be processed. It is convenient for exhibiting the function as a buffering member that appropriately controls the free movement of the object to be processed in the cylindrical barrel, and suppresses the occurrence of chipping of the object to be processed and film peeling, and deposits on the surface. It is because a film can be formed efficiently. For example, if the volume of the object to be processed is 1, and the volume of the metal spring member (which can be regarded as the volume of the circumscribed cylinder) is 0.5 to 2.5, the metal spring member is the object to be processed. And approximately the same size. FIG. 5 is a schematic side view of another example of a metal spring member housed in a cylindrical barrel together with an object to be processed. This metal spring member is obtained by winding a spring around a part of a linear material constituting the member.
図6は、例えば、被処理物である板状の希土類系永久磁石30と金属製スプリング部材31を、それぞれ多数収容した円筒形バレル5内の模式的部分拡大斜視図である。円筒形バレル5内への磁石30と金属製スプリング部材31の収容個数は、磁石30を100個とした場合、金属製スプリング部材31は90個〜110個とすることが望ましい。両者をこのような比率で円筒形バレル5内に収容することで、円筒形バレル5内での磁石30の自由運動が適度に制御され、磁石30の欠けや被膜ハガレの発生率を抑えて、その表面に蒸着被膜を効率的に形成することができる。
FIG. 6 is a schematic partial enlarged perspective view of the
次に、本発明の第二の蒸着被膜形成方法について説明する。この方法は、真空処理室内に、蒸着材料の蒸発部と、その表面に蒸着材料が蒸着される被処理物を収容するための多孔性周面を有する筒型バレルを備え、筒型バレルを横設して水平方向の回転軸線を中心に回転させながら被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させる蒸着被膜形成装置を用いた蒸着被膜形成方法であって、金属製スプリングをテンションを付加して架設した筒型バレル内に、被処理物を多数収容し、被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させることを特徴とする。以下に、この方法の一例を、図面を用いながら説明する。 Next, the second deposited film forming method of the present invention will be described. In this method, a vacuum barrel is provided with a cylindrical barrel having an evaporation portion for vapor deposition material and a porous peripheral surface for accommodating an object to be processed on which vapor deposition material is deposited. A vapor deposition film forming method using a vapor deposition film forming apparatus that deposits a vapor deposition material on the surface of an object to be processed while rotating about a horizontal rotation axis. A large number of objects to be processed are accommodated in the cylindrical barrel, and a deposition material is deposited on the surface of the object to be processed. Hereinafter, an example of this method will be described with reference to the drawings.
図7は、例えば、4本の金属製スプリング32を両端面間にテンションを付加して架設した円筒形バレル5の模式的斜視図であり、図8は、被処理物である板状の希土類系永久磁石30を多数収容したこの円筒形バレル5内の模式的部分拡大斜視図である。このような構成とすることで、金属製スプリング32の存在により、円筒形バレル5内での磁石30の自由運動が適度に制御され、磁石30の欠けや被膜ハガレの発生率を抑えて、その表面に蒸着被膜を効率的に形成することができる。
FIG. 7 is a schematic perspective view of a
本発明の蒸着被膜形成方法を適用することができる被処理物は、特に限定されるものではなく、蒸着処理によって蒸着被膜の形成が可能なものであればどのようなものでも構わない。しかしながら、本発明の蒸着被膜形成方法は、縦40mm×横15mm×厚み5mmを超えるような板状の希土類系永久磁石や、単重が20gを超えるような弓形の希土類系永久磁石などの、サイズの大きい希土類系永久磁石の表面に、膜厚が1μm〜15μmの蒸着被膜を形成する際などに特に適している。 The to-be-processed object which can apply the vapor deposition film formation method of this invention is not specifically limited, What kind of thing may be used if a vapor deposition film can be formed by vapor deposition treatment. However, the vapor deposition film forming method of the present invention has a size such as a plate-like rare earth-based permanent magnet exceeding 40 mm in length, 15 mm in width, and 5 mm in thickness, or an arc-shaped rare earth-based permanent magnet having a unit weight exceeding 20 g. Particularly suitable for forming a deposited film having a film thickness of 1 μm to 15 μm on the surface of a rare earth permanent magnet having a large thickness.
また、本発明の蒸着被膜形成方法は、真空蒸着法のように蒸着材料を単に加熱によって蒸発させて蒸着被膜を形成する場合にも適用することができるし、例えば、イオンプレーティング法のように蒸発したものをイオン化させて蒸着被膜を形成する場合にも適用することができる。 The vapor deposition film forming method of the present invention can also be applied to a case where a vapor deposition material is formed by simply evaporating a vapor deposition material by heating, such as a vacuum vapor deposition method. For example, an ion plating method can be used. The present invention can also be applied to the case where the evaporated film is ionized to form a vapor deposition film.
また、本発明の蒸着被膜形成方法は、金属やその合金などの蒸着材料を用いた蒸着被膜形成に適用することができるが、中でも、軟質金属や軟質金属成分を含む合金、例えば、アルミニウム、亜鉛、錫、マグネシウム、これらの金属成分の少なくとも1成分を含む合金などを使用した蒸着被膜形成に好適に適用することができる。 The vapor deposition film forming method of the present invention can be applied to vapor deposition film formation using a vapor deposition material such as a metal or an alloy thereof. Among them, a soft metal or an alloy containing a soft metal component, for example, aluminum or zinc , Tin, magnesium, and an alloy containing at least one of these metal components can be suitably applied to the formation of a deposited film.
また、本発明の蒸着被膜形成方法を実施するために使用される、真空処理室内に、蒸着材料の蒸発部と、その表面に蒸着材料が蒸着される被処理物を収容するための多孔性周面を有する筒型バレルを備え、筒型バレルを横設して水平方向の回転軸線を中心に回転させながら被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させる蒸着被膜形成装置としては、図1に示した装置の他、例えば、米国特許4116161号公報やGraham Legge :"Ion VaporDeposited Coatings for Improved Corrosion Protection": Reprinted from Industrial Heating, September, 135-140, 1994に記載の装置が挙げられる。図9は、その一例の、図略の真空排気系に連なる真空処理室101の内部の模式的正面図(一部透視図)である。その室内上方には、例えば、ステンレス製のメッシュ金網で形成された円筒形バレル105が水平方向の回転軸線上の回転シャフト106を中心に回転自在に2個併設されている。また、その室内下方には、蒸着材料であるアルミニウムを蒸発させる蒸発部であるボート102が、支持テーブル103上に立設されたボート支持台104上に複数個配置されている。そして、この装置によれば、被処理物である希土類系永久磁石130を円筒形バレル105内に多数収容し、この円筒形バレルを矢示のごとく回転シャフト106を中心に回転させながら、図略の加熱手段によって所定温度に加熱されたボート102からアルミニウムを蒸発させることで、円筒形バレル105内の希土類永久磁石130の表面にアルミニウム被膜が形成される。
In addition, a porous surrounding for accommodating an evaporation portion of the vapor deposition material and an object to be vapor deposited on the surface thereof in a vacuum processing chamber used for carrying out the vapor deposition film forming method of the present invention. A vapor deposition film forming apparatus that includes a cylindrical barrel having a surface, and that deposits a vapor deposition material on the surface of an object to be processed while rotating the horizontal barrel about the horizontal barrel axis is shown in FIG. In addition to the above-mentioned apparatuses, for example, there are apparatuses described in US Pat. FIG. 9 is a schematic front view (partially perspective view) of the inside of the
以下、本発明を実施例と比較例によってさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定して解釈されるものではない。なお、以下の実施例と比較例は、例えば、米国特許4770723号公報や米国特許4792368号公報に記載されているようにして、公知の鋳造インゴットを粉砕し、微粉砕後に成形、焼結、熱処理、表面加工を行うことによって得られた14Nd−79Fe−6B−1Co組成(at%)の縦42mm×横18mm×厚み6mmで単重36gの板状焼結磁石(以下、磁石体試験片と称する)を用いて行った。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, this invention is limited to this and is not interpreted. In the following examples and comparative examples, for example, as described in US Pat. No. 4,770,723 and US Pat. No. 4,792,368, a known cast ingot is pulverized, and after pulverization, molding, sintering, and heat treatment are performed. A plate-like sintered magnet having a composition of 14Nd-79Fe-6B-1Co (at%) obtained by performing surface processing, 42 mm long x 18 mm wide x 6 mm thick and having a unit weight of 36 g (hereinafter referred to as a magnet test piece). ).
実施例1:
図2に示したような、直径110mm×長さ575mmのステンレス製のメッシュ金網で形成された円筒形バレル内に、磁石体試験片80個と、直径15mm×長さ20mmのステンレス製スプリング部材(磁石体試験片の体積を1とした場合の体積は0.8)80個を収容し、図1に示した蒸着被膜形成装置により、磁石体試験片の表面にアルミニウム被膜を形成した(円筒形バレルの装置への装着方法は図3に示した方法を採用したことから、装置全体では24個の円筒形バレルを装着したので、一度に処理した磁石体試験片の総数は1920個である)。なお、蒸着条件は、蒸着時間35分、円筒形バレル回転数4.7rpmとした。
Example 1:
As shown in FIG. 2, in a cylindrical barrel formed of a stainless steel mesh wire net having a diameter of 110 mm × a length of 575 mm, 80 magnet specimens and a stainless spring member having a diameter of 15 mm × a length of 20 mm ( The volume of the magnetic test piece is 0.8, and the volume is 0.8), and 80 pieces are accommodated, and an aluminum film is formed on the surface of the magnetic test piece by the vapor deposition film forming apparatus shown in FIG. Since the method shown in FIG. 3 was adopted for mounting the barrel to the apparatus, 24 cylindrical barrels were mounted in the entire apparatus, so the total number of magnetic test pieces processed at one time was 1920) . The vapor deposition conditions were a vapor deposition time of 35 minutes and a cylindrical barrel rotation speed of 4.7 rpm.
実施例2:
図7に示したような、4本の直径15mmのステンレス製スプリングを、両端面間にテンションを付加して架設した、直径110mm×長さ575mmのステンレス製のメッシュ金網で形成された円筒形バレル内に、磁石体試験片80個を収容し、図1に示した蒸着被膜形成装置により、磁石体試験片の表面にアルミニウム被膜を形成した(円筒形バレルの装置への装着方法は図3に示した方法を採用したことから、装置全体では24個の円筒形バレルを装着したので、一度に処理した磁石体試験片の総数は1920個である)。なお、蒸着条件は、実施例1と同様の条件とした。
Example 2:
Cylindrical barrel made of stainless steel mesh wire with a diameter of 110 mm and a length of 575 mm, with four stainless steel springs with a diameter of 15 mm as shown in FIG. Inside, 80 magnet body test pieces were accommodated, and an aluminum film was formed on the surface of the magnet body test piece by the vapor deposition film forming apparatus shown in FIG. 1 (the mounting method of the cylindrical barrel in the apparatus is shown in FIG. 3). Since the entire apparatus was equipped with 24 cylindrical barrels because the method shown was adopted, the total number of magnet specimens processed at one time was 1920). The vapor deposition conditions were the same as those in Example 1.
比較例:
図2に示したような、直径110mm×長さ575mmのステンレス製のメッシュ金網で形成された円筒形バレル内に、磁石体試験片80個を収容し、図1に示した蒸着被膜形成装置により、磁石体試験片の表面にアルミニウム被膜を形成した(円筒形バレルの装置への装着方法は図3に示した方法を採用したことから、装置全体では24個の円筒形バレルを装着したので、一度に処理した磁石体試験片の総数は1920個である)。なお、蒸着条件は、実施例1と同様の条件とした。
Comparative example:
In a cylindrical barrel formed of a stainless steel mesh wire net having a diameter of 110 mm and a length of 575 mm as shown in FIG. 2, 80 magnet body test pieces are accommodated, and the vapor deposition film forming apparatus shown in FIG. An aluminum coating was formed on the surface of the magnet test piece (since the method shown in FIG. 3 was used for mounting the cylindrical barrel on the apparatus, 24 cylindrical barrels were mounted on the entire apparatus. The total number of magnet specimens processed at one time is 1920). The vapor deposition conditions were the same as those in Example 1.
評価項目とその結果:
実施例1、実施例2、比較例それぞれについて、磁石体試験片の表面に形成されたアルミニウム被膜の膜厚(n=10:断面観察による)を表1に示す。また、アルミニウム被膜が表面に形成された磁石体試験片10000個について調べた、磁石体試験片の欠けと被膜ハガレの発生率と、磁石体試験片の欠けと被膜ハガレが認められず良品と判断されたアルミニウム被膜が表面に形成された磁石体試験片に対するプレッシャークッカ試験(PCT試験:条件は温度125℃×相対湿度85%×2atmの環境下に60時間放置)の結果(n=5)を表1に示す。
Evaluation items and results:
Table 1 shows the film thickness (n = 10: by cross-sectional observation) of the aluminum coating formed on the surface of the magnet specimen for each of Example 1, Example 2, and Comparative Example. Further, 10,000 magnet test pieces having an aluminum film formed on the surface thereof were examined, and the occurrence rate of chipping and film peeling of the magnetic body test pieces, and the determination of non-defective products without chipping and film peeling of the magnet test piece. Pressure cooker test (PCT test: conditions are left for 60 hours in an environment of temperature 125 ° C. × relative humidity 85% × 2 atm) (n = 5) with respect to a magnet specimen having an aluminum coating formed thereon. Table 1 shows.
表1から明らかなように、実施例1と実施例2で得られたアルミニウム被膜が表面に形成された磁石体試験片は、比較例で得られたアルミニウム被膜が表面に形成された磁石体試験片よりも、磁石体試験片の欠けと被膜ハガレの発生率が大幅に減少しており、実施例1と実施例2の蒸着被膜形成方法は、優れた方法であることがわかった。 As is apparent from Table 1, the magnet body test piece on which the aluminum coating obtained in Example 1 and Example 2 was formed was the magnet body test in which the aluminum coating obtained in the comparative example was formed on the surface. The occurrence rate of chipping of the magnetic body test piece and film peeling was significantly reduced as compared with the piece, and it was found that the deposited film forming methods of Example 1 and Example 2 were excellent methods.
本発明は、サイズの大きい被処理物に対しても、被処理物の欠けや被膜ハガレの発生率を抑えて、その表面に蒸着被膜を効率的に形成することができる、蒸着被膜形成方法を提供することができる点において産業上の利用可能性を有する。 The present invention provides a vapor deposition film forming method capable of efficiently forming a vapor deposition film on the surface of a large size object to be processed while suppressing the occurrence of chipping or film peeling. It has industrial applicability in that it can be provided.
1,101 真空処理室
2,102 ボート
3,103 支持テーブル
4,104 ボート支持台
5,105 円筒形バレル
6,106 回転シャフト
7 支持部材
8 支持軸
9 アルミニウムワイヤー
10 繰り出しリール
11 保護チューブ
12 切り欠き窓
13 ギア
30,130 希土類系永久磁石
31 金属製スプリング部材
32 金属製スプリング
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,101 Vacuum processing chamber 2,102 Boat 3,103 Support table 4,104 Boat support stand 5,105 Cylindrical barrel 6,106
Claims (5)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004378205A JP4483574B2 (en) | 2004-12-27 | 2004-12-27 | Deposition film forming method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004378205A JP4483574B2 (en) | 2004-12-27 | 2004-12-27 | Deposition film forming method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006183098A true JP2006183098A (en) | 2006-07-13 |
JP4483574B2 JP4483574B2 (en) | 2010-06-16 |
Family
ID=36736428
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004378205A Active JP4483574B2 (en) | 2004-12-27 | 2004-12-27 | Deposition film forming method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4483574B2 (en) |
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2004
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140402 Year of fee payment: 4 |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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