JP2006167985A - Optical recording head and image forming apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To relatively freely set the arrangement, the size and the shape of openings which emit a recording light, obtain a good spot diameter by a relatively high intensity and facilitate assembly and manufacture in an optical recording head and image forming apparatus,. <P>SOLUTION: In the optical recording head 1 where a plurality of light emitting sources independently driven when a driving voltage is applied by a driving control part 19 are formed on a glass substrate 2, an ITO electrode 4, an organic EL layer 5 and an aluminum electrode 7 are layered in this order, and an optical waveguide layer is formed by the ITO electrode 4 and organic EL layer 5. The recording light which propagates in the optical waveguide layer except an opening 7a is constrained in by a reflecting layer 3a, a clad layer 3b and the aluminum electrode 7. A scattering part 6 is formed in the optical waveguide layer located at the opening 7a. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光記録ヘッドおよび画像形成装置に関する。   The present invention relates to an optical recording head and an image forming apparatus.

従来、電子写真方式の画像形成装置、例えば、光プリンタ、デジタル複写機などにおいて、静電潜像を形成するための露光手段として、有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子と略称する)を記録画素に応じて複数配置し、記録画素ごとの画像信号に応じて各発光素子を点灯制御するようにした光記録ヘッドを備えたものが知られている。
有機EL素子は、ディスプレイ装置などでは、面発光素子として発光層の法線方向に光を出射するようにしているが、光プリンタの必要露光量は、ディスプレイ装置の光量よりも高いため、画素面積よりも広い面積の発光層を形成し、発光された光を発光層が延びる側面方向に集めることにより発光強度を増大させる端面発光型の素子が提案されている。
例えば、特許文献1には、そのような端面発光型のEL素子により多階調記録が可能な光記録ヘッド及びこれを用いた光プリンタが記載されている。すなわち、このEL素子は、反射率良好な金属製のベース電極、対向電極との間に絶縁層を介して発光層が形成された層状断面構造が帯状に延されており、それらEL素子が絶縁性基板上に所定ピッチで多数並列されて光記録ヘッドが構成されている。そして、各EL素子の発光層で発生した光は、絶縁層、ベース電極または対向電極により反射されながら帯状の長手方向の端部に到達して、外部に出射されるようになっている。
特開平2−48965号公報(第5−10頁、図2−4)
Conventionally, in an electrophotographic image forming apparatus such as an optical printer or a digital copying machine, an organic electroluminescence element (abbreviated as an organic EL element) is used as a recording pixel as an exposure means for forming an electrostatic latent image. A plurality of optical recording heads which are arranged in response to each other and whose lighting elements are controlled to be turned on according to an image signal for each recording pixel are known.
The organic EL element emits light in the normal direction of the light emitting layer as a surface light emitting element in a display device or the like, but since the required exposure amount of the optical printer is higher than the light amount of the display device, the pixel area There has been proposed an edge-emitting element that forms a light-emitting layer with a larger area and collects emitted light in the side surface direction in which the light-emitting layer extends to increase the light emission intensity.
For example, Patent Document 1 describes an optical recording head capable of multi-tone recording using such an edge-emitting EL element and an optical printer using the same. That is, in this EL element, a layered cross-sectional structure in which a light emitting layer is formed through an insulating layer between a metal base electrode having a good reflectance and a counter electrode extends in a band shape, and the EL element is insulated. A large number of optical recording heads are arranged in parallel at a predetermined pitch on a conductive substrate. The light generated in the light emitting layer of each EL element reaches the end in the longitudinal direction of the belt while being reflected by the insulating layer, the base electrode, or the counter electrode, and is emitted to the outside.
JP-A-2-48965 (page 5-10, FIG. 2-4)

しかしながら、上記のような従来の光記録ヘッドおよび画像形成装置には以下のような問題があった。
特許文献1に記載の技術では、光記録ヘッドは、出射光を形成するEL素子の端部がそれらを配置するガラス基板などの絶縁性基板の側端面に整列された構成となっている。そのため、EL素子から放射される記録光を集光するレンズなどの集光素子を保持するスペースが絶縁性基板の厚み程度の狭いものとなり、直接的に設置することが困難となる。そのため、例えば両者を別の保持部材上に位置合わせして取り付けるといったことが必要となり、構成が複雑で、製造効率が劣ってしまうという問題がある。
また、EL素子の発光層の層厚は極めて薄いので、光量を確保するためには、層厚に直交する方向の開口幅を広げなければならないが、開口部の幅を広げると、発光面が扁平になりすぎ、集光素子を介しても光記録面に良好なスポット径を結像できなくなるという問題がある。例えば、集光素子としてアナモフックレンズなどを採用することも考えられるが、各画素にそのような特殊な集光素子を設けると高価な装置となってしまうという問題がある。
However, the conventional optical recording head and image forming apparatus as described above have the following problems.
In the technique described in Patent Document 1, the optical recording head has a configuration in which end portions of EL elements that form emitted light are aligned with side end surfaces of an insulating substrate such as a glass substrate on which they are arranged. For this reason, a space for holding a condensing element such as a lens for condensing recording light emitted from the EL element is as narrow as the thickness of the insulating substrate, and it is difficult to directly install the condensing element. For this reason, for example, it is necessary to align and attach the two on another holding member, and there is a problem that the configuration is complicated and the manufacturing efficiency is inferior.
In addition, since the light emitting layer thickness of the EL element is extremely thin, in order to secure the light amount, the opening width in the direction perpendicular to the layer thickness must be widened. There is a problem that the image becomes too flat and a good spot diameter cannot be formed on the optical recording surface even through the light condensing element. For example, an anamorphic lens or the like may be adopted as a light condensing element, but there is a problem that providing such a special light condensing element for each pixel results in an expensive device.

本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、記録光を出射する開口の配置、大きさ、形状を比較的自由に設定することができ、比較的高強度で良好なスポット径が得られるとともに、組立・製造が容易となる光記録ヘッドおよび画像形成装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and the arrangement, size, and shape of the aperture for emitting recording light can be set relatively freely, and it has a relatively high intensity and a good spot. It is an object of the present invention to provide an optical recording head and an image forming apparatus which can obtain a diameter and can be easily assembled and manufactured.

上記の課題を解決するために、請求項1に記載の発明では、基準電位に設定された第1の電極に対向して配置され、画像信号に応じて駆動電圧を印加する第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極の間に挟まれ、前記駆動電圧に応じて記録光を発生する発光層と、前記記録光を外部に出射する開口とを有する複数の発光源が、ベース基板の板面上に形成されるとともに前記ベース基板の板面に沿う方向において前記各開口が光記録面の画素位置に応じて配列された光記録部を備える光記録ヘッドであって、前記各発光源に、前記発光層が発生する記録光を前記発光層の層厚方向と直交する方向に伝搬可能とする光導波層が形成され、前記各発光源の前記発光層の層厚方向視の面積が、対応する各開口の開口面積より大きく設定され、前記各開口が、前記光導波層を伝搬する記録光を前記発光層の層厚方向に出射可能な位置に設けられ、前記光導波層の周囲に、前記記録光の前記開口以外からの出射光を前記光導波層内に閉じ込める光封止手段が設けられ、前記開口に位置された光導波層に、該光導波層内を伝搬する前記記録光の光路を乱す散乱手段が設けられた構成とする。
この発明によれば、第2の電極に画像信号に応じた駆動電圧を印加することにより、発光層から記録光が発生される。そして、この記録光が開口以外では、光封止手段により光導波層内に閉じ込められるので、光導波層内での反射を繰り返すことにより層厚方向と直交する方向への伝搬を繰り返し、散乱手段に到達すると光路が乱されて開口へ向かう記録光が増大し、その記録光が開口から外部に出射される。これを繰り返すことにより、発光層で発生した記録光が一部の減衰光を除いて開口から出射される。
すなわち、開口より広い面積内で発生する記録光が発光層の層厚方向と直交する方向の開口から外部に出射するので、開口の大きさに比べて大きな光量が得られる。
そして、各発光源がベース基板の板面上に形成されるとともに開口がベース基板の板面に沿う方向に2次元的に配列できるので、開口の配置位置の自由度が高く、光記録面の画素位置に応じて配列しやすくなる。また、集光素子などを配置する場合、開口の前面に配置するためにベース基板上に取り付けることができる。
また、開口を発光層の厚みに依存することなく発光層の面積の範囲で、自由な形状、例えば縦横比の差が少ない矩形や、円形、楕円形などの形状に設定することができるから、集光したときのスポット径を良好とすることが容易となる。
In order to solve the above-described problem, in the invention described in claim 1, the second electrode is disposed opposite to the first electrode set to the reference potential and applies a driving voltage in accordance with the image signal. A plurality of light emitting sources sandwiched between the first electrode and the second electrode and having a light emitting layer for generating recording light according to the driving voltage and an opening for emitting the recording light to the outside An optical recording head comprising an optical recording portion formed on the plate surface of the base substrate and in which the openings are arranged in accordance with the pixel positions of the optical recording surface in a direction along the plate surface of the base substrate, Each light emitting source is formed with an optical waveguide layer capable of propagating recording light generated by the light emitting layer in a direction perpendicular to the layer thickness direction of the light emitting layer, and the layer thickness direction of the light emitting layer of each light emitting source The visual area is set larger than the opening area of each corresponding opening, Each opening is provided at a position where the recording light propagating through the optical waveguide layer can be emitted in the thickness direction of the light emitting layer, and the emitted light from other than the opening of the recording light is disposed around the optical waveguide layer. An optical sealing means for confining in the optical waveguide layer is provided, and a scattering means for disturbing the optical path of the recording light propagating in the optical waveguide layer is provided in the optical waveguide layer positioned in the opening. .
According to this invention, recording light is generated from the light emitting layer by applying a driving voltage corresponding to the image signal to the second electrode. Since the recording light is confined in the optical waveguide layer by the optical sealing means except for the aperture, the reflection in the optical waveguide layer is repeatedly propagated in the direction perpendicular to the layer thickness direction, and the scattering means. When the light beam reaches, the optical path is disturbed, and the recording light traveling toward the opening increases, and the recording light is emitted from the opening to the outside. By repeating this, the recording light generated in the light emitting layer is emitted from the opening except for some attenuated light.
That is, since the recording light generated in an area wider than the opening is emitted to the outside from the opening in the direction perpendicular to the layer thickness direction of the light emitting layer, a large amount of light can be obtained compared to the size of the opening.
Since each light source is formed on the plate surface of the base substrate and the openings can be two-dimensionally arranged in a direction along the plate surface of the base substrate, the degree of freedom of the arrangement position of the openings is high, and the optical recording surface It becomes easy to arrange according to the pixel position. Moreover, when arrange | positioning a condensing element etc., in order to arrange | position to the front surface of opening, it can attach on a base substrate.
In addition, the opening can be set to a free shape within a range of the area of the light emitting layer without depending on the thickness of the light emitting layer, for example, a rectangle with a small difference in aspect ratio, a shape such as a circle, an ellipse, etc. It becomes easy to make the spot diameter good when condensed.

ここで、光封止手段は、光を閉じ込めるために内部側に光を反射する手段でもよいし、屈折率を変えて光路を屈曲させることにより光を閉じ込める手段であってもよい。   Here, the light sealing means may be a means for reflecting light to the inside in order to confine light, or a means for confining light by bending the optical path by changing the refractive index.

請求項2に記載の発明では、請求項1に記載の光記録ヘッドにおいて、前記散乱手段が、前記光導波層と屈折率が異なる複数の粒状体からなる構成とする。
この発明によれば、光導波層に光導波層と屈折率が異なる複数の粒状体を配置することにより、記録光が粒状体に入射すると、一部が屈折されて伝搬方向を変えて透過し、その他が粒状体の表面で反射されて種々の方向に散乱される。そして記録光の光路が乱される。
また、このような構成によれば光導波層に粒状体を配置するだけでよいので、製造容易な散乱手段となる。
According to a second aspect of the present invention, in the optical recording head of the first aspect, the scattering means is composed of a plurality of granular materials having a refractive index different from that of the optical waveguide layer.
According to the present invention, by arranging a plurality of granular materials having a refractive index different from that of the optical waveguide layer in the optical waveguide layer, when recording light is incident on the granular material, a part of the recording light is refracted and transmitted while changing the propagation direction. Others are reflected on the surface of the granular material and scattered in various directions. Then, the optical path of the recording light is disturbed.
In addition, according to such a configuration, it is only necessary to dispose the granular material in the optical waveguide layer, so that the scattering means can be easily manufactured.

請求項3に記載の発明では、請求項2に記載の光記録ヘッドにおいて、前記粒状体が、前記記録光の波長により光が励起される蛍光体からなる構成とする。
この発明によれば、記録光の波長により光が励起される蛍光体により粒状体を構成するので、粒状体として記録光を散乱するとともに、記録光の強度に応じた光量の励起光が蛍光体から発生する。そのため、開口から出射される記録光の光量を増大させることができる。
According to a third aspect of the present invention, in the optical recording head according to the second aspect, the granular material is composed of a phosphor whose light is excited by the wavelength of the recording light.
According to this invention, since the granular material is constituted by the phosphor whose light is excited by the wavelength of the recording light, the recording light is scattered as the granular material, and the excitation light having a light amount corresponding to the intensity of the recording light is emitted from the phosphor. Arising from. For this reason, the amount of recording light emitted from the opening can be increased.

請求項4に記載の発明では、請求項1に記載の光記録ヘッドにおいて、前記散乱手段が、回折格子からなる構成とする。
この発明によれば、回折格子を設けることにより、記録光の波長と、回折格子に対する入射角に応じて記録光が回折され、高次光を発生するので記録光の光路を乱すことができる。その結果、0次光が開口から出射されない場合でも、高次光が出射される可能性が高くなるので、開口から出射される記録光を増大させることができる。
According to a fourth aspect of the present invention, in the optical recording head according to the first aspect, the scattering means comprises a diffraction grating.
According to the present invention, by providing the diffraction grating, the recording light is diffracted according to the wavelength of the recording light and the incident angle with respect to the diffraction grating to generate higher-order light, so that the optical path of the recording light can be disturbed. As a result, even when the 0th-order light is not emitted from the opening, the possibility that high-order light is emitted is increased, so that the recording light emitted from the opening can be increased.

請求項5に記載の発明では、請求項1に記載の光記録ヘッドにおいて、前記散乱手段が、前記開口に位置された光導波層の前記開口側層表面およびそれと対向する層底面の少なくともいずれかに設けられた凹凸からなる構成とする。
この発明によれば、開口に位置された光導波層に開口側層表面およびそれと対向する層底面の少なくともいずれかに凹凸が設けられるので、その凹凸により記録光の反射、屈折が乱されて光路が散乱される。そのため、内部から開口に向けて透過する記録光を増大させることができる。
According to a fifth aspect of the present invention, in the optical recording head according to the first aspect, the scattering means is at least one of the opening-side layer surface of the optical waveguide layer positioned in the opening and the bottom surface of the layer facing it. It is set as the structure which consists of unevenness | corrugation provided in.
According to the present invention, since the optical waveguide layer positioned in the opening is provided with irregularities on at least one of the surface of the opening side layer and the bottom surface of the layer facing it, the reflection and refraction of the recording light are disturbed by the irregularities, and the optical path Is scattered. For this reason, it is possible to increase the recording light transmitted from the inside toward the opening.

ここで、凹凸とは、凹面、凸面のいずれかを含むことを意味し、それぞれは、滑らかな曲面であってもよいし、底部または頂部が尖った溝状、山形状などの形状であってもよい。
これらの形状を製作するには、例えば光導波層を略一定厚みで形成する製造プロセスにおいては、光導波層が形成される下地層を削ったり、エッチングしたりして、凹凸を形成することにより製作できる。また例えば、光導波層を形成後、開口を形成する前に、光導波層の表面を削ったり、エッチングしたりして、直接凹凸を形成することにより製作することもできる。
Here, the unevenness means including either a concave surface or a convex surface, each of which may be a smooth curved surface, or a shape such as a groove shape or a mountain shape with a sharp bottom or top. Also good.
In order to manufacture these shapes, for example, in a manufacturing process in which the optical waveguide layer is formed with a substantially constant thickness, the underlying layer on which the optical waveguide layer is formed is cut or etched to form irregularities. Can be produced. Further, for example, after forming the optical waveguide layer and before forming the opening, the surface of the optical waveguide layer can be shaved or etched to directly form irregularities.

請求項6に記載の発明では、請求項1〜5のいずれかに記載の光記録ヘッドにおいて、前記発光層が有機EL層からなり、前記第1および第2の電極の一方が、前記記録光を透過する透明電極からなり、前記第1および第2の電極の他方が、前記記録光を反射する光反射性の電極からなり、前記発光層と前記前記第1および第2の電極の一方とが前記光導波層を構成し、前記開口が第1および第2の電極の他方に形成された構成とする。
この発明によれば、発光層が、比較的層厚が薄い有機EL層であっても、透明電極と合わせた層厚を有する光導波層を形成し、有機EL層全体で発光された記録光を伝搬させ、散乱手段により層厚方向に配置された開口から効率的に取り出すことができる。
また光反射性の第1および第2の電極の他方により開口を形成する部材と光封止手段とを兼用することができるから、簡素な構成とすることができる。
According to a sixth aspect of the present invention, in the optical recording head according to any one of the first to fifth aspects, the light emitting layer comprises an organic EL layer, and one of the first and second electrodes is the recording light. And the other of the first and second electrodes is a light-reflecting electrode that reflects the recording light, and the light-emitting layer and one of the first and second electrodes Constitutes the optical waveguide layer, and the opening is formed in the other of the first and second electrodes.
According to this invention, even if the light emitting layer is an organic EL layer having a relatively thin layer thickness, the recording light emitted from the entire organic EL layer is formed by forming the optical waveguide layer having the layer thickness combined with the transparent electrode. Can be efficiently extracted from the opening arranged in the layer thickness direction by the scattering means.
In addition, since the member that forms the opening by the other of the light-reflective first and second electrodes and the light sealing means can be used together, a simple configuration can be achieved.

請求項7に記載の発明では、請求項6に記載の光記録ヘッドにおいて、前記透明電極の厚みが50nm以上1000nm以下とされた構成とする。
この発明によれば、透明電極の厚みが適切となるので、光導波の効率が向上し、光量損失を低減することができる。
なお、透明電極の厚みは、上記範囲より狭いことがより好ましく、例えば上限値を、600nmとすることが好ましい。
According to a seventh aspect of the present invention, in the optical recording head according to the sixth aspect, the transparent electrode has a thickness of 50 nm to 1000 nm.
According to the present invention, since the thickness of the transparent electrode becomes appropriate, the efficiency of optical waveguide can be improved and the light quantity loss can be reduced.
The thickness of the transparent electrode is more preferably narrower than the above range, and for example, the upper limit is preferably 600 nm.

請求項8に記載の発明では、光導電性の光記録面を有する感光体に露光手段を用いて静電潜像を形成し、該静電潜像を現像手段により現像して可視像を形成する画像形成装置であって、前記露光手段が、請求項1〜7のいずれかに記載の光記録ヘッドを備える構成とする。
この発明によれば、請求項1〜7のいずれかに記載の光記録ヘッドを用いた画像形成装置とすることができる。そのため、請求項1〜7のいずれかに記載の発明と同様の作用効果を有する。
In the invention described in claim 8, an electrostatic latent image is formed on a photosensitive member having a photoconductive optical recording surface by using an exposure means, and the electrostatic latent image is developed by a developing means to form a visible image. An image forming apparatus to be formed, wherein the exposure unit includes the optical recording head according to claim 1.
According to the present invention, an image forming apparatus using the optical recording head according to any one of claims 1 to 7 can be obtained. Therefore, it has the same effect as that of the invention according to any one of claims 1 to 7.

本発明の光記録ヘッドおよび画像形成装置によれば、ベース基板上に形成された光導波層を含む複数の光源を、ベース基板の板面に沿う方向に配列し、発光層の層厚方向に発光層よりも広い面積の開口を設けるので、開口の配置位置、大きさ、形状を比較的自由に設定することができるから、比較的高強度で良好なスポット径を容易に得ることができるとともに、例えば開口側に集光素子など部材が配置しやすいなど組立・製造が容易となるという効果を奏する。   According to the optical recording head and the image forming apparatus of the present invention, the plurality of light sources including the optical waveguide layer formed on the base substrate are arranged in the direction along the plate surface of the base substrate, and the light emitting layer is arranged in the layer thickness direction. Since an opening having a larger area than that of the light emitting layer is provided, the arrangement position, size, and shape of the opening can be set relatively freely, so that it is possible to easily obtain a good spot diameter with relatively high intensity. For example, there is an effect that assembly and manufacture are facilitated, for example, a member such as a condensing element is easily arranged on the opening side.

以下では、本発明の実施の形態について添付図面を参照して説明する。すべての図面において、実施形態が異なる場合であっても、同一または相当する部材には同一の符号を付し、共通する説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In all the drawings, even if the embodiments are different, the same or corresponding members are denoted by the same reference numerals, and common description is omitted.

[第1の実施形態]
本発明の第1の実施形態に係る光記録ヘッドについて説明する。
図1(a)は、本発明の第1の実施形態に係る光記録ヘッドの主要部の構成について説明するための平面視の模式説明図である。ただし、模式図のため駆動制御部19など一部の断面の図示を省略している。図1(b)は、図1(a)におけるA−A断面図である。図1(c)は、図1(a)におけるB−B断面図である。図2(a)は、本発明の第1の実施形態に係る光記録ヘッドに用いる散乱手段について説明するための図1(a)のA−A線に沿う断面視の模式説明図である。
[First Embodiment]
An optical recording head according to a first embodiment of the present invention will be described.
FIG. 1A is a schematic explanatory view in plan view for explaining the configuration of the main part of the optical recording head according to the first embodiment of the present invention. However, for the schematic view, the illustration of a part of the cross section such as the drive control unit 19 is omitted. FIG.1 (b) is AA sectional drawing in Fig.1 (a). FIG.1 (c) is BB sectional drawing in Fig.1 (a). FIG. 2A is a schematic explanatory view of a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1A for describing the scattering means used in the optical recording head according to the first embodiment of the present invention.

本実施形態の光記録ヘッド1は、光記録面上の画素に対応して独立に発光駆動可能な発光源がガラス基板2(ベース基板)上に複数配置され、画像信号に応じて点灯制御できるようにしたものであり、例えば画像形成装置の露光手段として好適となるものである。
光記録ヘッド1の概略構成は、図1(a)に示すように、画像信号もしくは画像信号に適宜の信号処理を施した駆動制御信号に応じて点灯制御を行う駆動制御部19と、駆動制御部19に接続された複数の発光源がガラス基板2上に適宜ピッチをおいて配置された記録部17とからなる。
電源部18は、駆動制御部19に駆動電圧として直流電圧を供給するためのもので、光記録ヘッド1に内蔵されていてもよいし、外部に設けられていてもよい。
駆動制御部19は、記録部17の発光源ごとに駆動電圧を印加するもので、例えばオン/オフ制御するためのスイッチング手段からなる。
In the optical recording head 1 of the present embodiment, a plurality of light emitting sources that can be independently driven to emit light corresponding to the pixels on the optical recording surface are arranged on the glass substrate 2 (base substrate), and lighting control can be performed according to an image signal. For example, it is suitable as an exposure unit of an image forming apparatus.
As shown in FIG. 1A, the schematic configuration of the optical recording head 1 includes a drive control unit 19 that performs lighting control according to an image signal or a drive control signal obtained by performing appropriate signal processing on the image signal, and drive control. A plurality of light emitting sources connected to the unit 19 includes a recording unit 17 arranged on the glass substrate 2 with an appropriate pitch.
The power supply unit 18 is for supplying a DC voltage as a drive voltage to the drive control unit 19, and may be built in the optical recording head 1 or provided outside.
The drive control unit 19 applies a drive voltage to each light emission source of the recording unit 17 and includes, for example, switching means for on / off control.

記録部17を構成する発光源の構成について説明する。
それぞれの発光源の概略構成は、図1(b)、(c)に断面構成を示すように、絶縁体基板であるガラス基板2上に、反射層3a(光封止手段)、クラッド層3b(光封止手段)、ITO(Indium Tin Oxide)電極4(第2の電極)、有機EL層5(発光層)、アルミ電極7(第1の電極)、封止膜8、および散乱部6(散乱手段)からなる。
ガラス基板2は、例えばコーニング社製Corning1737などが採用できる。
The configuration of the light source constituting the recording unit 17 will be described.
The schematic configuration of each light emitting source is as shown in FIGS. 1B and 1C, with a reflection layer 3a (light sealing means) and a cladding layer 3b on a glass substrate 2 which is an insulator substrate. (Light sealing means), ITO (Indium Tin Oxide) electrode 4 (second electrode), organic EL layer 5 (light emitting layer), aluminum electrode 7 (first electrode), sealing film 8, and scattering portion 6 (Scattering means).
As the glass substrate 2, for example, Corning 1737 manufactured by Corning Corporation can be used.

反射層3aは、上部で発生される記録光を反射してガラス基板2を透過する漏れ光を防止するための金属反射膜層であり、ガラス基板2上に設けられている。金属の種類としては、必要な反射率が得られれば、どのような金属でもよいが、例えば、クロムを採用することができる。その場合、膜厚は、例えば、100nm程度とするとよい。
クラッド層3bは、その上層のITO電極4よりも屈折率が小さい透明膜でありITO電極4内を伝搬する記録光を反射するために設けられるものである。クラッド層3bの材質は、例えば、SiO膜を採用することができる。
クラッド層3bの層厚は、150nm〜500nmが好適である。
The reflection layer 3 a is a metal reflection film layer for preventing leakage light that reflects recording light generated at the upper portion and passes through the glass substrate 2, and is provided on the glass substrate 2. As the type of metal, any metal can be used as long as a necessary reflectance can be obtained. For example, chromium can be used. In that case, the film thickness is preferably about 100 nm, for example.
The clad layer 3b is a transparent film having a refractive index smaller than that of the ITO electrode 4 thereabove, and is provided to reflect recording light propagating through the ITO electrode 4. As the material of the clad layer 3b, for example, a SiO 2 film can be adopted.
The layer thickness of the clad layer 3b is preferably 150 nm to 500 nm.

なお、反射層3a、クラッド層3bは、光封止手段としてガラス基板2への漏れ光を効率的に低減し、透明電極内で記録光が効率的に光導波されるように設けられているが、いずれか一方のみで、ガラス基板2側への漏れ光の量を十分規制できれば、いずれか一方のみを設ける構成としてもよい。
例えば、透明電極の抵抗値が高い場合には、クラッド層3bを設けずに、反射層3aの上に直接透明電極を形成してもよい。その場合には、記録光は反射層3aに反射することにより光導波される。
The reflective layer 3a and the clad layer 3b are provided as an optical sealing means so as to efficiently reduce the leakage light to the glass substrate 2 and to efficiently guide the recording light in the transparent electrode. However, if only one of them can sufficiently regulate the amount of light leaked to the glass substrate 2 side, only one of them may be provided.
For example, when the resistance value of the transparent electrode is high, the transparent electrode may be formed directly on the reflective layer 3a without providing the cladding layer 3b. In that case, the recording light is optically guided by being reflected by the reflective layer 3a.

ITO電極4は、インジウムスズ酸化物(Indium Tin Oxide)から構成された陽極となる透明電極であり、クラッド層3b上に短冊状に形成され、駆動制御部19を介して電源部18に接続されている。そして、画素信号に応じて各発光源への駆動電圧が印加できるようになっている。
各発光源のITO電極4は、平面視で短手方向に後述する所定ピッチをおいて、互いに平行に配置されている。
また、ITO電極4の屈折率は、約2.1程度である。また、ITO電極4の層厚は、50nm〜1000nmの範囲が好適であり、50nm〜600nmの範囲であることがより好ましい。本実施形態では、層厚は約0.4μmとしている。
The ITO electrode 4 is a transparent electrode serving as an anode made of indium tin oxide, is formed in a strip shape on the cladding layer 3 b, and is connected to the power supply unit 18 via the drive control unit 19. ing. A drive voltage can be applied to each light source in accordance with the pixel signal.
The ITO electrodes 4 of the respective light emission sources are arranged in parallel to each other with a predetermined pitch, which will be described later, in the short direction in plan view.
The refractive index of the ITO electrode 4 is about 2.1. The layer thickness of the ITO electrode 4 is preferably in the range of 50 nm to 1000 nm, and more preferably in the range of 50 nm to 600 nm. In this embodiment, the layer thickness is about 0.4 μm.

ここで、ITO電極4の厚さの範囲について、シミュレーション結果を参照して説明する。
簡単のために、ガラス基板2、ITO電極4、有機EL層5、アルミ電極7がこの順に積層された場合の2次元導波路モデルの場合で考察する。ここで、有機EL層5は、アルミ電極7による光量損失を防ぐためのバッファ層となっている。計算を簡単にするために、有機EL層5は、他の層に比べて十分厚いものとする。また、ITO電極4は光導波層となっている
ガラス基板2、ITO電極4、有機EL層5の屈折率を、それぞれ、1.5、2.0、1.7とする。
このとき、マックスウェルの方程式からTEモードについて固有値方程式を解くと、光導波される光をカットオフする光導波層の厚さTが次式のように求められる。
T=0.15・(0.76+m・π)・λ ・・・(1)
ここで、λは光の波長λ、mは導波モード番号である。
Here, the thickness range of the ITO electrode 4 will be described with reference to simulation results.
For simplicity, the case of a two-dimensional waveguide model in which the glass substrate 2, the ITO electrode 4, the organic EL layer 5, and the aluminum electrode 7 are laminated in this order will be considered. Here, the organic EL layer 5 is a buffer layer for preventing light loss due to the aluminum electrode 7. In order to simplify the calculation, the organic EL layer 5 is sufficiently thicker than the other layers. Further, the refractive indexes of the glass substrate 2, the ITO electrode 4, and the organic EL layer 5 that are the optical waveguide layers of the ITO electrode 4 are 1.5, 2.0, and 1.7, respectively.
At this time, when the eigenvalue equation for the TE mode is solved from the Maxwell equation, the thickness T of the optical waveguide layer that cuts off the light guided is obtained as follows.
T = 0.15 · (0.76 + m · π) · λ (1)
Here, λ is the wavelength of light λ, and m is the waveguide mode number.

式(1)により、波長λが500nm〜650nmの範囲における厚さTを算出すると次表が得られる。

Figure 2006167985
When the thickness T in the range of the wavelength λ of 500 nm to 650 nm is calculated by the equation (1), the following table is obtained.
Figure 2006167985

表1より、57nm〜993nmの範囲で各波長ごとに光をカットオフする最適な層厚が存在することが分かる。波長範囲を表1の範囲から若干広げれば、50nm〜1000nmの範囲に好適な値が存在することが分かる。
このように、ITO電極4の層厚には、波長、導波モード番号により飛び飛びの最適値が存在するが、有機EL層5の発光波長にバラツキがあり、導波モードも種々のモードが混在することを考慮すると、このような範囲内の層厚とすれば、良好な光導波層を得ることができるものである。
From Table 1, it can be seen that there is an optimum layer thickness for cutting off light for each wavelength in the range of 57 nm to 993 nm. If the wavelength range is slightly expanded from the range shown in Table 1, it can be seen that a suitable value exists in the range of 50 nm to 1000 nm.
As described above, the layer thickness of the ITO electrode 4 has an optimum value depending on the wavelength and the waveguide mode number, but the emission wavelength of the organic EL layer 5 varies, and the waveguide mode also includes various modes. Considering this, if the layer thickness is within such a range, a good optical waveguide layer can be obtained.

有機EL層5は、ITO電極4、アルミ電極7により駆動電圧を印加することにより発光可能であればどのような層構成でもよいが、例えば、正孔輸送材料としてTPD(テトラフェニルジアミン誘導体)、蛍光性材料としてAlq3(aluminato-tris-8-hydroxyquinolate、アルミニウムキノリノール錯体)をこの順にそれぞれ50nm〜70nm程度の2層構造としてITO電極4上に形成し、平面視では、ITO電極4に重なる範囲に延されている構成を採用することができる。
この構成の場合、TPDは正孔輸送層を構成し、Alq3は狭義の発光層と電子輸送層とを兼ねている。
このような有機EL層5は、記録光が透過可能であり、屈折率は約1.7程度である。
このように、ITO電極4と有機EL層5とは、有機EL層5により発光された記録光を伝搬する光導波層を構成している。
The organic EL layer 5 may have any layer configuration as long as it can emit light by applying a driving voltage with the ITO electrode 4 and the aluminum electrode 7. For example, TPD (tetraphenyldiamine derivative) as a hole transport material, As a fluorescent material, Alq3 (aluminato-tris-8-hydroxyquinolate, aluminum quinolinol complex) is formed on the ITO electrode 4 in this order as a two-layer structure of about 50 nm to 70 nm, and in a range overlapping with the ITO electrode 4 in plan view. An extended configuration can be employed.
In this configuration, TPD constitutes a hole transport layer, and Alq3 serves as both a light-emitting layer and an electron transport layer in a narrow sense.
Such an organic EL layer 5 can transmit recording light and has a refractive index of about 1.7.
Thus, the ITO electrode 4 and the organic EL layer 5 constitute an optical waveguide layer that propagates the recording light emitted by the organic EL layer 5.

アルミ電極7は、ITO電極4との間で有機EL層5を挟持するように設けられた光反射性の陰極を形成する部材であり、各発光源の間で同電位(基準電位)となるように互いに導通されるとともに、電源部18の負極に接続されている。アルミ電極7の層厚は、150nm程度が好適である。
本実施形態では、ITO電極4の短冊形状に対応して有機EL層5の上面および側面を覆うB−B断面視で略コ字状に設けられた画素電極部7b…と、画素電極部7b…の長手方向の端部において、それぞれを導通させる導通部7cとからなり、各画素電極部7bの長手方向の略中央の上面に、例えば矩形状の開口7aが形成されている。
そのため、アルミ電極7は、開口7aを除いて、光導波層を略覆い、光導波層と伝搬する記録光を反射できるようになっている。そのため、反射層3a、クラッド層3bとともに、光導波層を伝搬する記録光を封止する光封止手段を構成している。
The aluminum electrode 7 is a member that forms a light-reflective cathode provided so as to sandwich the organic EL layer 5 with the ITO electrode 4, and has the same potential (reference potential) between the light emitting sources. Are connected to each other and connected to the negative electrode of the power supply unit 18. The layer thickness of the aluminum electrode 7 is preferably about 150 nm.
In the present embodiment, the pixel electrode portions 7b... Provided in a substantially U shape in a BB sectional view covering the upper surface and the side surface of the organic EL layer 5 corresponding to the strip shape of the ITO electrode 4, and the pixel electrode portion 7b. .. At the end in the longitudinal direction, and a conducting portion 7c for conducting each of them. For example, a rectangular opening 7a is formed on the upper surface of the approximate center in the longitudinal direction of each pixel electrode portion 7b.
Therefore, the aluminum electrode 7 substantially covers the optical waveguide layer except for the opening 7a, and can reflect the recording light propagating through the optical waveguide layer. Therefore, the light sealing means for sealing the recording light propagating through the optical waveguide layer is configured together with the reflective layer 3a and the clad layer 3b.

開口7a間のピッチは、光記録面の画素の配列ピッチそのもの、あるいは記録部17と光記録面のとの間に集光素子が配置される場合にはその倍率などに応じた適宜値に設定される。本実施形態では、例えば20μmピッチとしている。この配列ピッチは、1つの発光源の短手方向の配列ピッチにもなっている。
したがって、開口7aの平面視の大きさは、このピッチの範囲内で適宜に設定できるが、できるだけ大きくすることが好ましい。
また、形状は、矩形に限定されるものではなく、例えば、正方形状、円形状、楕円状などの適宜の形状とすることができる。
The pitch between the openings 7a is set to an appropriate value according to the pixel arrangement pitch of the optical recording surface itself, or in the case where a condensing element is disposed between the recording unit 17 and the optical recording surface. Is done. In this embodiment, for example, the pitch is 20 μm. This arrangement pitch is also an arrangement pitch in the short direction of one light emitting source.
Accordingly, the size of the opening 7a in plan view can be set as appropriate within the range of this pitch, but it is preferable to make it as large as possible.
Further, the shape is not limited to a rectangle, and may be an appropriate shape such as a square shape, a circular shape, or an elliptical shape.

このような構成によれば、発光層の面積が開口と一致する場合と比べてより大きな光出力を取り出すことができる。
また、開口上に集光素子を配置して光記録面に結像する場合、例えば開口の縦横比が大きく発光像が扁平な場合などに比べると、球面レンズなどの簡素な集光素子により整った形状のスポットが得られ、スポット径の大きさや形状も比較的容易に設定できるという利点がある。
According to such a configuration, a larger light output can be extracted as compared with the case where the area of the light emitting layer coincides with the opening.
In addition, when an image is formed on the optical recording surface by arranging a condensing element on the aperture, for example, a simple condensing element such as a spherical lens is arranged compared to a case where the aspect ratio of the aperture is large and the light emission image is flat. The advantage is that a spot having a different shape can be obtained, and the size and shape of the spot diameter can be set relatively easily.

封止膜8は、記録部17の上面全体を覆って保護するための透明膜であり、例えば、Al/SiO膜を約50nm程度蒸着したものを採用することができる。 The sealing film 8 is a transparent film for covering and protecting the entire upper surface of the recording unit 17, and for example, an Al 2 O 3 / SiO 2 film deposited by about 50 nm can be employed.

散乱部6は、一定の入射角で入射する記録光を反射したり屈折したりすることにより、記録光を反射層3a(クラッド層3b)に対する正反射光の光路と異なる方向に散乱するための部材である。
図2(a)に示すのは、光導波層と屈折率が異なる粒状体11…をクラッド層3b上かつ開口7aの下方に配置することにより散乱部6を構成した例である。図2(a)は模式図のため、単純化して描いているが、粒状体11…は、クラッド層3b上に直に配置してもよいし、層状に配置してもよいし、光導波層内に分散して配置してもよい。また記録光が通る光導波層内であれば、ITO電極4、有機EL層5のいずれに配置してもよい。
粒状体11は、記録光に対する反射率を高め、散乱させやすくするために、光導波層に比べて屈折率が大きい微粒子とすることが好ましい。
例えば、二酸化チタンTiOの微粒子、例えば粒径30nm〜50nmのものを採用することができる。TiOの屈折率は、可視光波長域において約2.4以上であり、ITO電極4、有機EL層5のいずれに比べても大きいものである。
The scattering unit 6 scatters the recording light in a direction different from the optical path of the regular reflection light with respect to the reflection layer 3a (cladding layer 3b) by reflecting or refracting the recording light incident at a constant incident angle. It is a member.
FIG. 2A shows an example in which the scattering portion 6 is configured by disposing granular bodies 11... Having a refractive index different from that of the optical waveguide layer on the cladding layer 3b and below the opening 7a. Although FIG. 2A is a schematic diagram, it is drawn in a simplified manner. However, the granular bodies 11 may be arranged directly on the cladding layer 3b, may be arranged in layers, or may be an optical waveguide. You may disperse | distribute and arrange | position in a layer. Moreover, as long as it is in the optical waveguide layer through which the recording light passes, it may be arranged in either the ITO electrode 4 or the organic EL layer 5.
The granular material 11 is preferably a fine particle having a refractive index larger than that of the optical waveguide layer in order to increase the reflectance with respect to the recording light and facilitate the scattering.
For example, fine particles of titanium dioxide TiO 2 , for example, those having a particle size of 30 nm to 50 nm can be employed. The refractive index of TiO 2 is about 2.4 or more in the visible light wavelength region, and is higher than both the ITO electrode 4 and the organic EL layer 5.

本実施形態の光記録ヘッド1の製造方法について、記録部17の製造方法を中心にして説明する。
まず、ガラス基板2に、反射層3aとして、必要に応じてパターニングを行って、Cr(クロム)を蒸着し、膜厚100nm程度の金属層を形成する。
その上にクラッド層3bとして、膜厚150nm〜500nm程度のSiO層を形成する。
A method for manufacturing the optical recording head 1 of the present embodiment will be described focusing on the method for manufacturing the recording unit 17.
First, the reflective layer 3a is patterned on the glass substrate 2 as necessary, and Cr (chromium) is deposited to form a metal layer having a thickness of about 100 nm.
A SiO 2 layer having a thickness of about 150 nm to 500 nm is formed thereon as the cladding layer 3b.

次に、散乱部6を設ける部分に粒状体11の層をパターニングする。
例えば、TiO微粒子をIPAに15wt%分散させた溶液に、TiOのアルコラート(例えば、高純度化学社製SYM−T105)を5〜30%程度混合した溶液をインクジェット方により所定部分に滴下する。そして、180℃で20分間乾燥させる。
このようにして、TiOの微粒子が極薄膜TiO層として、ガラス基板2上に固着され、散乱部6が形成される。
Next, the layer of the granular material 11 is patterned in the part where the scattering part 6 is provided.
For example, a solution in which about 5 to 30% of a TiO 2 alcoholate (for example, SYM-T105 manufactured by Koyo Chemical Co., Ltd.) is mixed in a solution in which 15 wt% of TiO 2 fine particles are dispersed in IPA is dropped onto a predetermined portion by an inkjet method. . Then, it is dried at 180 ° C. for 20 minutes.
In this way, as the TiO 2 fine particles extremely thin TiO 2 layer is secured on the glass substrate 2, scattering portion 6 is formed.

次にITO電極4を形成する。
まず、ITOをスパッタ法により、厚み約0.4μm程度に膜付けし、散乱部6が各ITO電極4の略中央に来るような所定の配置パターンに従ってエッチングする。
そして、ITO電極4の上面を覆うように有機EL層5を形成する。すなわち、真空蒸着により、例えば成膜速度0.1nm/sで、TPDを形成し、その上面に同様の成膜速度でAlq3を形成する。いずれの場合も特にパターニングしなくともよい。
その後、連続して、アルミ電極7を形成するために、メタルマスクを用いて、画素電極部7bによりITO電極4、有機EL層5の上面側とそれらの側方とを覆い、所定の開口7a、導通部7cを形成するような所定のパターンにパターニングしてアルミを蒸着する。成膜速度は0.05nm/s程度が好適である。
このようにして、記録部17を形成することができる。
Next, the ITO electrode 4 is formed.
First, ITO is formed into a film with a thickness of about 0.4 μm by a sputtering method, and etched according to a predetermined arrangement pattern in which the scattering portion 6 comes to substantially the center of each ITO electrode 4.
Then, the organic EL layer 5 is formed so as to cover the upper surface of the ITO electrode 4. That is, by vacuum deposition, for example, TPD is formed at a film formation rate of 0.1 nm / s, and Alq3 is formed on the upper surface thereof at the same film formation rate. In either case, patterning is not particularly required.
Thereafter, in order to continuously form the aluminum electrode 7, the pixel electrode portion 7b covers the ITO electrode 4 and the organic EL layer 5 on the upper surface side and the sides thereof using a metal mask, and a predetermined opening 7a. Then, aluminum is deposited by patterning into a predetermined pattern so as to form the conductive portion 7c. The film formation rate is preferably about 0.05 nm / s.
In this way, the recording unit 17 can be formed.

駆動制御部19は、詳細の説明は省略するが、必要な回路パターンを記録部17とともにガラス基板2上に形成することにより製作できる。そして、適宜の電源部18を配線し、必要に応じて開口7a上に不図示の集光素子を配置し、適宜の筐体などに収納することにより、光記録ヘッド1が製作される。
集光素子は、例えば合成樹脂のモールド成形品などをからなるレンズアレイなどを採用することができる。この場合、光軸方向を開口7aが形成された面の法線方向、すなわちガラス基板2の法線方向に合わせて配置する。そのため、ガラス基板2上に回路領域などを避けた取付領域を設けることにより、取付用または位置決め用の脚部を接着するなどして容易かつ位置決め容易に集光素子を取り付けることができる。
Although a detailed description is omitted, the drive control unit 19 can be manufactured by forming a necessary circuit pattern on the glass substrate 2 together with the recording unit 17. The optical recording head 1 is manufactured by wiring an appropriate power supply unit 18, arranging a condensing element (not shown) on the opening 7 a as necessary, and storing the condensing element in an appropriate housing or the like.
As the light condensing element, for example, a lens array made of a synthetic resin molded product or the like can be used. In this case, the optical axis direction is arranged according to the normal direction of the surface where the opening 7 a is formed, that is, the normal direction of the glass substrate 2. Therefore, by providing an attachment area on the glass substrate 2 that avoids a circuit area or the like, it is possible to attach the light collecting element easily and easily by attaching an attachment or positioning leg.

次に、本実施形態の光記録ヘッド1の作用について説明する。
図3は、本発明の第1の実施形態に係る光記録ヘッド1の作用について説明するための層厚方向断面の模式説明図である。
Next, the operation of the optical recording head 1 of this embodiment will be described.
FIG. 3 is a schematic explanatory diagram of a cross section in the layer thickness direction for explaining the operation of the optical recording head 1 according to the first embodiment of the present invention.

画像信号が駆動制御部19に入力され、特定の発光源がスイッチングされると、その発光源のITO電極4、アルミ電極7の間に駆動電圧が印加される。
それにより、有機EL層5では、アルミ電極7側から電子が移動し、ITO電極4側から正孔が移動し、有機EL層5の内部で、それらが再結合する結果、エレクトロルミネッセンス発光が行われる。
すなわち、有機EL層5は面発光源として有機EL層5の内部から外部に向かって種々の方向に光を放射する。
When an image signal is input to the drive control unit 19 and a specific light source is switched, a drive voltage is applied between the ITO electrode 4 and the aluminum electrode 7 of the light source.
Thereby, in the organic EL layer 5, electrons move from the aluminum electrode 7 side, holes move from the ITO electrode 4 side, and they recombine inside the organic EL layer 5, resulting in electroluminescence emission. Is called.
That is, the organic EL layer 5 emits light in various directions from the inside to the outside of the organic EL layer 5 as a surface light source.

有機EL層5で放射された光は、図1(b)、(c)に示すように、開口7aを通して、外部に出射される記録光9aと、ITO電極4、有機EL層5からなる光導波層の内部で繰り返し反射される記録光9bとに分かれる。そして記録光9bのうち、光導波層を透過する角度で開口7aに入射するものが記録光9aとして開口7aから出射されていく。
その際、本実施形態では、散乱部6を備えるので、それを備えない場合に比べて記録光9bが開口7aから出射される割合を増大することができる。
As shown in FIGS. 1B and 1C, the light emitted from the organic EL layer 5 is a recording light 9 a emitted to the outside through the opening 7 a, a light beam composed of the ITO electrode 4 and the organic EL layer 5. The recording light 9b is repeatedly reflected inside the wave layer. Of the recording light 9b, the light incident on the opening 7a at an angle that passes through the optical waveguide layer is emitted from the opening 7a as the recording light 9a.
At this time, since the scattering portion 6 is provided in the present embodiment, the ratio of the recording light 9b emitted from the opening 7a can be increased as compared with the case where the scattering portion 6 is not provided.

この点について図3を用いて説明する。
ITO電極4、有機EL層5は、屈折率が異なるので、その境界面で屈折、反射が起こるが、簡単のために、以下の説明ではこれらの光導波層内では光が直進するとして説明する。
This point will be described with reference to FIG.
Since the ITO electrode 4 and the organic EL layer 5 have different refractive indexes, they are refracted and reflected at their boundary surfaces. For simplicity, the following description will be made assuming that light travels straight in these optical waveguide layers. .

図3に示すように、散乱部6(図示破線)を有しない場合、記録光9bを閉じ込めるクラッド層3b、反射層3aが均一な反射面を形成し、アルミ電極7と対向して平行反射面が形成されている。側面方向は、図1に示すようにアルミ電極7により光が閉じ込められている。
記録光9bが光線Rのように比較的大きな入射角θで入射すると、出射角θで反射され、光導波層の層厚方向に直交する方向へ光伝搬が繰り返される。入射角θの余角が臨界角を超えていれば、反射層3a、クラッド層3bが存在しなくても全反射して、同様な伝搬が起こる。
また、記録光9bが光線Rのように比較的小さな入射角θで入射すると、出射角θで反射される光線Rと、屈折してクラッド層3b内を屈折角θ(θ>θ)で進む光線Rに分かれる。光線Rは反射層3aにより反射され、入射角がθよりも大きな光線として、光導波層内に反射される。
As shown in FIG. 3, when there is no scattering portion 6 (broken line in the drawing), the clad layer 3b that confines the recording light 9b and the reflective layer 3a form a uniform reflective surface, facing the aluminum electrode 7 and parallel reflective surfaces. Is formed. In the lateral direction, light is confined by the aluminum electrode 7 as shown in FIG.
When the recording light 9b is incident at a relatively large incident angle theta 1 as light R 4, is reflected by the exit angle theta 1, light propagation is repeated in the direction perpendicular to the thickness direction of the optical waveguide layer. If the incident angle θ 1 exceeds the critical angle, even if the reflection layer 3a and the clad layer 3b are not present, total reflection occurs and similar propagation occurs.
Further, when the recording light 9b is incident at a relatively small incident angle theta 2 as rays R 1, a ray R 3 is reflected by the exit angle theta 2, the refraction angle theta 3 cladding layer 3b is refracted (theta 3 > θ 2 ), and the light ray R 2 travels. Rays R 2 are reflected by the reflective layer 3a, the incident angle is as large light than theta 2, is reflected in the optical waveguide layer.

記録光9bは、種々の入射角を有するものの、光導波層が平行反射面に挟まれているので、定常的な反射光路での伝搬を繰り返す。そのため、比較的小さな入射角を有する記録光9bは反射点のピッチが短く、開口7aの近傍に到達したとき、開口7aから出射されて記録光9aとなるが、比較的大きな入射角を有する光路の記録光9bでは反射点のピッチが大きいため、開口7aに到達して出射される確率が少ないものである。また、入射角が全反射条件を満たす場合には全反射を繰り返して閉じ込められることになる。
そのため、光導波層を伝搬する記録光9bの多くが記録光9aとして開口7aから出射されないことになる。
Although the recording light 9b has various incident angles, since the optical waveguide layer is sandwiched between the parallel reflection surfaces, the recording light 9b repeats propagation in a steady reflected light path. Therefore, the recording light 9b having a relatively small incident angle has a short reflection point pitch, and when it reaches the vicinity of the opening 7a, the recording light 9b is emitted from the opening 7a to become the recording light 9a, but an optical path having a relatively large incident angle. In the recording light 9b, since the pitch of the reflection points is large, the probability of reaching and exiting the opening 7a is small. Further, when the incident angle satisfies the total reflection condition, the total reflection is repeatedly confined.
Therefore, most of the recording light 9b propagating through the optical waveguide layer is not emitted from the opening 7a as the recording light 9a.

一方、本実施形態の場合、破線で示すように粒状体11…からなる散乱部6が、クラッド層3b上かつ開口7aの下方に配置されるので、散乱部6に入射した光線R、Rが、粒状体11…により散乱されてそれぞれ入射角とは無関係な方向、例えば比較的小さな出射角で出射される光線S、Sとして伝搬する。粒状体11の粒径を適宜に設定すれば、散乱部6はその位置に点光源を分布させたのと同様となる。
そのため、これらが開口7aから出射されて記録光9aに加わり、記録光9bの中から記録光9aとして出射される割合が増大される。
その結果、有機EL層5で発光された光は、多くが開口7aから記録光9aとして出射されるようになる。
On the other hand, in the case of the present embodiment, as shown by the broken line, the scattering portion 6 made of the granular material 11 is disposed on the cladding layer 3b and below the opening 7a, so that the light rays R 1 and R incident on the scattering portion 6 are disposed. 4 propagate as light rays S 1 and S 2 that are scattered by the particles 11 and emitted in directions that are independent of the incident angle, for example, with a relatively small exit angle. If the particle size of the granular material 11 is set appropriately, the scattering unit 6 is the same as the point light source distributed at that position.
Therefore, these are emitted from the opening 7a and added to the recording light 9a, and the ratio of the recording light 9b emitted from the recording light 9b is increased.
As a result, most of the light emitted from the organic EL layer 5 is emitted as the recording light 9a from the opening 7a.

このように、本実施形態の光記録ヘッド1によれば、開口7aより広い有機EL層5で発光された光が光導波層内を伝搬し、高効率で開口7aから出射される。そのため発光層が開口7aと同程度の面積の発光源に比べて高出力の発光源を形成できる。
したがって、例えば、潜像形成のために高出力が要求される画像形成装置の露光手段などに好適に用いることができる。
また、開口7aを、記録光が発光層の層厚方向に出射可能な位置に設けるので、開口を発光層の側端面に設ける場合に比べて、大きい面積に設定できる。
また開口の形状も自由度が高くなり、光記録面に集光する場合に整ったスポット径が形成できる。例えば、縦横比が1に近い矩形とすれば、特別な収差補正を行わなくても集光側の像も略矩形となるので、簡素な集光素子を用いることができる。
Thus, according to the optical recording head 1 of the present embodiment, the light emitted from the organic EL layer 5 wider than the opening 7a propagates in the optical waveguide layer and is emitted from the opening 7a with high efficiency. Therefore, a high-output light source can be formed as compared with a light source whose light emitting layer has the same area as the opening 7a.
Therefore, for example, it can be suitably used as an exposure unit of an image forming apparatus that requires high output for forming a latent image.
Further, since the opening 7a is provided at a position where the recording light can be emitted in the layer thickness direction of the light emitting layer, the opening 7a can be set to have a larger area compared to the case where the opening is provided on the side end surface of the light emitting layer.
In addition, the shape of the opening has a high degree of freedom, and a spot diameter that is uniform when focusing on the optical recording surface can be formed. For example, if the aspect ratio is a rectangle close to 1, the image on the condensing side is also substantially rectangular without special aberration correction, so that a simple condensing element can be used.

また、記録光9aを集光する集光素子を設ける場合に、ガラス基板2の表面上に設けることができるので、回路領域などを避けた取付領域を設けやすく設置の自由度が高くなる。そのため、組立容易な光記録ヘッド1とすることができる。   Further, in the case of providing a condensing element that condenses the recording light 9a, it can be provided on the surface of the glass substrate 2, so that it is easy to provide an attachment area avoiding a circuit area and the like, and the degree of freedom of installation is increased. Therefore, the optical recording head 1 can be easily assembled.

次に、本実施形態の第1変形例について説明する。
本変形例は、図2(a)に示すように、第1の実施形態の光記録ヘッド1において、有機EL層5に代えて有機EL層5Aを備え、同じく散乱部6において、粒状体11に代えて、蛍光体粒子12を備えるものである。
Next, a first modification of the present embodiment will be described.
In this modification, as shown in FIG. 2A, the optical recording head 1 of the first embodiment includes an organic EL layer 5 </ b> A instead of the organic EL layer 5. Instead, the phosphor particles 12 are provided.

有機EL層5Aは、蛍光体粒子12の励起波長となる光を発光するようにしたもので、例えば、正孔輸送層としてTPD、発光層と電子輸送層とを兼ねる蛍光性材料としてトリアゾール(Triazole)誘導体(DA−TAZなど)を積層した構成を採用している。
このような有機EL層5Aによれば、発光波長が400nm〜460nm近辺となる。
The organic EL layer 5A emits light having an excitation wavelength of the phosphor particles 12. For example, TPD as a hole transport layer, and triazole (Triazole) as a fluorescent material serving as both a light-emitting layer and an electron transport layer. ) A structure in which a derivative (such as DA-TAZ) is laminated is adopted.
According to such an organic EL layer 5A, the emission wavelength is around 400 nm to 460 nm.

蛍光体粒子12は、有機EL層5Aで発生する光の波長により発光する蛍光体からなる微粒子である。粒径は、例えば粒状体11と同程度とすることができるが、光導波層内に配置できる大きさであれば、粒状体11よりも大きくてもよい。蛍光体粒子12の発光波長は光記録面の波長感度領域に含まれる範囲で設定する。
本変形例では、励起波長が460nm付近の青色領域にあり、570nm帯域で発光する蛍光体粒子を採用している。このような蛍光体粒子として、例えば、化成オプトニクス社製YAG系蛍光体P46−Y3などを挙げることができる。
波長570nmは、例えば複写機や光プリンタなどに用いられる感光体ドラムに対して十分な感度を有している。
The phosphor particles 12 are fine particles made of a phosphor that emits light with the wavelength of light generated in the organic EL layer 5A. The particle size can be, for example, approximately the same as that of the granular material 11, but may be larger than the granular material 11 as long as it can be disposed in the optical waveguide layer. The emission wavelength of the phosphor particles 12 is set within a range included in the wavelength sensitivity region of the optical recording surface.
This modification employs phosphor particles that have an excitation wavelength in the blue region near 460 nm and emit light in the 570 nm band. Examples of such phosphor particles include YAG phosphor P46-Y3 manufactured by Kasei Optonix.
The wavelength of 570 nm has sufficient sensitivity for a photosensitive drum used in, for example, a copying machine or an optical printer.

このような構成によれば、上記実施形態の製造方法において、Alq3、粒状体11に代えて、トリアゾール誘導体、蛍光体粒子12を置き換えるのみで、同様にして製造することができる。   According to such a configuration, in the manufacturing method of the above embodiment, the triazole derivative and the phosphor particles 12 can be replaced in place of Alq3 and the granular material 11, and the same manufacturing can be performed.

本変形例によれば、散乱部6に入射する記録光9bは、一部が蛍光体粒子12により散乱されるとともに、その他が蛍光体粒子12に吸収される。記録光9bは、波長が400nm〜460nm近辺にあるため、励起波長が460nm付近の青色領域にある蛍光体粒子12を励起して、波長570nmの光を発生する。励起光の出射角は記録光9bの入射角に依存せず、ランダム方向に放射されるので、散乱光と同様に開口7aから出射されやすくなっている。出射された励起光は、光記録面において光記録を行うことが可能となる。
このように、本変形例では、光導波層を伝搬する記録光9bを励起光としても用いて開口7aから出射するので、記録光9bをより効率的に記録光9aに変換することができる。
According to this modification, a part of the recording light 9 b incident on the scattering portion 6 is scattered by the phosphor particles 12 and the other is absorbed by the phosphor particles 12. Since the recording light 9b has a wavelength in the vicinity of 400 nm to 460 nm, it excites the phosphor particles 12 in the blue region having an excitation wavelength near 460 nm to generate light having a wavelength of 570 nm. Since the exit angle of the excitation light does not depend on the incident angle of the recording light 9b and is emitted in a random direction, it is easily emitted from the opening 7a like the scattered light. The emitted excitation light can be optically recorded on the optical recording surface.
Thus, in this modification, since the recording light 9b propagating through the optical waveguide layer is also used as the excitation light and emitted from the opening 7a, the recording light 9b can be converted into the recording light 9a more efficiently.

次に、本実施形態の第2変形例について説明する。
図2(b)は、本発明の第1の実施形態の第2変形例の光記録ヘッドに用いる散乱手段について説明するための図1(a)のA−A線に沿う断面視の模式説明図である。
本変形例は、図2(b)に示すように、第1の実施形態の光記録ヘッド1の散乱部6において、粒状体11に代えて、回折格子13を備えるものである。
Next, a second modification of the present embodiment will be described.
FIG. 2B is a schematic explanation of a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1A for explaining the scattering means used in the optical recording head of the second modified example of the first embodiment of the present invention. FIG.
In this modification, as shown in FIG. 2B, the scattering portion 6 of the optical recording head 1 of the first embodiment includes a diffraction grating 13 instead of the granular material 11.

回折格子13は、入射する記録光9bを種々の方向に回折して光路を変えるために設けられるもので、例えばグレーティング周期を波長の数倍から数十倍の周期でチャープして出射光の出射方向を適宜の角度範囲で連続的に可変できるようにしたチャープトグレーティングからなる。このようなチャープトグレーティングにより光路および拡散範囲を制御する技術は、例えば、特開2004−95138公報などに記載されている技術を好適に採用することができる。   The diffraction grating 13 is provided for diffracting the incident recording light 9b in various directions to change the optical path. For example, the grating 13 is chirped with a period of several to several tens of wavelengths to emit outgoing light. It consists of a chirped grating in which the direction can be continuously varied within an appropriate angle range. As a technique for controlling the optical path and the diffusion range by using such chirped grating, for example, a technique described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-95138 can be suitably employed.

本変形例の製造方法は、上記第1の実施形態において、粒状体11の層をパターニングする代わりに、回折格子13を形成する。すなわち、散乱部6を形成する開口7aの下方の製造工程を次のように変更する。
ITO電極4を形成する前までに、例えば、EB描画装置を用いてレジストをパターニングし、開口7aの下方に位置するガラス基板2をエッチングして、所定のグレーティング周期で深さ0.1μm程度の格子溝を形成する。
例えば、格子溝を形成する部分以外を耐フッ酸性のレジストで覆うようにパターニングし、フッ酸にてエッチング処理を行い、格子溝が浸食された後、レジストを剥離する。
そして、その上に直接、ITO電極4を形成することにより、屈折率分布型の回折格子を形成する。
このようなグレーティング周期Λを設定することにより、効率的な回折を行うことができるので、記録光9bにより、高次回折光が多く発生し、種々の方向へ光を散乱することが可能となる。
In the manufacturing method of this modification, the diffraction grating 13 is formed instead of patterning the layer of the granular material 11 in the first embodiment. That is, the manufacturing process below the opening 7a forming the scattering portion 6 is changed as follows.
Before the ITO electrode 4 is formed, for example, a resist is patterned by using an EB drawing apparatus, and the glass substrate 2 located below the opening 7a is etched to have a depth of about 0.1 μm at a predetermined grating period. A lattice groove is formed.
For example, patterning is performed so as to cover a portion other than the portion where the lattice grooves are formed with a hydrofluoric acid resistant resist, etching is performed using hydrofluoric acid, and the resist is removed after the lattice grooves are eroded.
Then, the ITO electrode 4 is directly formed thereon, thereby forming a refractive index distribution type diffraction grating.
By setting such a grating period Λ, efficient diffraction can be performed. Therefore, a large amount of high-order diffracted light is generated by the recording light 9b, and light can be scattered in various directions.

本変形例によれば、種々の入射角で散乱部6に入射する記録光9bを回折することで、高次光により種々の方向に散乱させることができる。そのため、記録光9bの波長に応じてグレーティング周期を調整することにより、容易に散乱度合いを可変することができるという利点がある。また、屈折率分布型の回折格子とするため、パターニングにより容易に製造できるという利点がある。   According to this modification, the recording light 9b incident on the scattering unit 6 at various incident angles can be diffracted and scattered in various directions by high-order light. Therefore, there is an advantage that the degree of scattering can be easily varied by adjusting the grating period according to the wavelength of the recording light 9b. Further, since the refractive index distribution type diffraction grating is used, there is an advantage that it can be easily manufactured by patterning.

次に、本実施形態の第3変形例について説明する。
図2(c)は、本発明の第1の実施形態の第3変形例の光記録ヘッドに用いる散乱手段について説明するための図1(a)のA−A線に沿う断面視の模式説明図である。
本変形例は、図2(c)に示すように、第1の実施形態の光記録ヘッド1の散乱部6を開口7aに位置する有機EL層5の上面に配置した例である。そして、散乱部6として、回折格子14を形成したものである。
Next, a third modification of the present embodiment will be described.
FIG. 2C is a schematic description of a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1A for explaining the scattering means used in the optical recording head of the third modified example of the first embodiment of the present invention. FIG.
In this modification, as shown in FIG. 2C, the scattering portion 6 of the optical recording head 1 of the first embodiment is arranged on the upper surface of the organic EL layer 5 located in the opening 7a. A diffraction grating 14 is formed as the scattering portion 6.

回折格子14は、クラッド層3b、反射層3aなどにより反射された記録光9bのうち、開口7aを通る光を回折し、比較的入射角が大きい記録光9bの一部を、より小さな出射角で出射されるようにするものである。つまり、0次光は、回折格子14がない場合と同様に出射されるが、高次光は0次光と異なる角度で出射される。そのため、高次光により出射角が小さく、集光しやすい記録光9aが増大される。   The diffraction grating 14 diffracts the light passing through the opening 7a out of the recording light 9b reflected by the cladding layer 3b, the reflection layer 3a, etc. It is made to radiate | emit with. That is, the 0th-order light is emitted in the same manner as when the diffraction grating 14 is not provided, but the high-order light is emitted at an angle different from that of the 0th-order light. Therefore, the recording light 9a that has a small emission angle and is easy to collect is increased by the high-order light.

本変形例の製造方法は、第1の実施形態において、開口7aの下方に散乱部6を形成する代わりに、有機EL層5を形成後、式(1)から決まるグレーティング周期で、ITO電極4と屈折率の異なる材料、例えばSiOをエッチングして格子を形成する。 In the manufacturing method of this modification, in the first embodiment, instead of forming the scattering portion 6 below the opening 7a, the organic EL layer 5 is formed, and then the ITO electrode 4 has a grating period determined by the equation (1). A grating is formed by etching a material having a refractive index different from that of, for example, SiO 2 .

次に、本実施形態の第4変形例について説明する。
図2(d)は、本発明の第1の実施形態の第4変形例の光記録ヘッドに用いる散乱手段について説明するための図1(a)のA−A線に沿う断面視の模式説明図である。
本変形例は、図2(d)に示すように、第3変形例の回折格子14に代えて、開口7aに位置する有機EL層5の上面に拡散層60を形成したものである。
Next, a fourth modification of the present embodiment will be described.
FIG. 2D is a schematic explanation of a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1A for explaining the scattering means used in the optical recording head of the fourth modified example of the first embodiment of the present invention. FIG.
In the present modification, as shown in FIG. 2D, a diffusion layer 60 is formed on the upper surface of the organic EL layer 5 located in the opening 7a, instead of the diffraction grating 14 in the third modification.

拡散層60は、クラッド層3b、反射層3aなどにより反射された記録光9bのうち、開口7aを通る光を透過させる際、拡散光として外部に出射するためのものである。
拡散層60としては、例えば、高い屈折率を有するTiOの膜層を採用することができる。
The diffusion layer 60 is used to emit the diffused light to the outside when transmitting the light passing through the opening 7a among the recording light 9b reflected by the cladding layer 3b, the reflective layer 3a, and the like.
As the diffusion layer 60, for example, a film layer of TiO 2 having a high refractive index can be employed.

本変形例の製造方法は、第1の実施形態において、開口7aの下方に散乱部6を形成する代わりに、有機EL層5を形成後、アルミ電極7を形成し、開口7aを覆うようにパターニングされたTiO膜をEB蒸着することにより製造できる。TiO膜の膜厚は拡散光の拡がりが適宜範囲となるように設定する。 In the manufacturing method of this modification, in the first embodiment, instead of forming the scattering portion 6 below the opening 7a, after forming the organic EL layer 5, the aluminum electrode 7 is formed to cover the opening 7a. It can be manufactured by EB deposition of a patterned TiO 2 film. The film thickness of the TiO 2 film is set so that the spread of the diffused light is in an appropriate range.

次に、本実施形態の第5変形例について説明する。
図4(a)は、本発明の第1の実施形態の第5変形例の光記録ヘッドに用いる散乱手段について説明するための図1(a)のA−A線に沿う断面視の模式説明図である。
Next, a fifth modification of the present embodiment will be described.
FIG. 4A is a schematic explanation of a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1A for explaining the scattering means used in the optical recording head of the fifth modified example of the first embodiment of the present invention. FIG.

本変形例は、散乱手段として、上記実施形態の光記録ヘッド1の散乱部6に代えて、凹凸部15a、15b(凹凸)を形成したものである。
凹凸部15aは、図4(a)に示すように、開口7aに位置する有機EL層5に設けられ、凹部の深さが、0.2μm〜20μm、より好ましくは0.4μm〜5.0μmとされる。
図4(a)は模式図のため、断面山形状に描かれているが、凹凸が形成されていれば、断面形状は山形に限定されるものではない。例えば凹部がU字溝状であってもよいし、凸部が曲面から構成されていてもよい。また凹凸部15の平面視の形状は、線状につながっていてもよいし、点状に分散されていてもよい。
また本変形例の凹凸部15aは、同様の形状の凹凸部15bがガラス基板2上に形成され、反射層3a、クラッド層3b、ITO電極4、有機EL層5のそれぞれに同様の凹凸が形成されている。
In this modification, uneven portions 15a and 15b (uneven portions) are formed as scattering means instead of the scattering portion 6 of the optical recording head 1 of the above embodiment.
As shown in FIG. 4A, the uneven portion 15a is provided in the organic EL layer 5 located in the opening 7a, and the depth of the recessed portion is 0.2 μm to 20 μm, more preferably 0.4 μm to 5.0 μm. It is said.
Although FIG. 4A is a schematic diagram, it is drawn in a cross-sectional mountain shape, but the cross-sectional shape is not limited to a mountain shape as long as irregularities are formed. For example, the concave portion may be a U-shaped groove, or the convex portion may be formed of a curved surface. Further, the shape of the concavo-convex portion 15 in plan view may be connected linearly or may be dispersed in the form of dots.
In the uneven portion 15a of this modification, the uneven portion 15b having the same shape is formed on the glass substrate 2, and the same unevenness is formed on each of the reflective layer 3a, the clad layer 3b, the ITO electrode 4, and the organic EL layer 5. Has been.

このような凹凸部15a、15bを製作するには、まず、ガラス基板2に凹凸部15bの凹部を形成する部分以外を耐フッ酸性のレジストで覆うようにパターニングし、フッ酸にてエッチング処理を行う。この結果、レジストで覆われない部分のガラス基板2がエッチングされ、凹型に浸食される。
この後、レジストを剥離し、第1の実施形態と同様にして、反射層3a、クラッド層3b、ITO電極4、有機EL層5を形成する。
その結果、これら各層がガラス基板2上の凹凸に沿って略平行に形成され、凹凸部15aが形成される。
In order to manufacture such uneven portions 15a and 15b, first, the glass substrate 2 is patterned so as to cover a portion other than the portion where the concave portions of the uneven portion 15b are formed with a hydrofluoric acid resistant resist, and then etched with hydrofluoric acid. Do. As a result, the portion of the glass substrate 2 that is not covered with the resist is etched and eroded into a concave shape.
Thereafter, the resist is peeled off, and the reflective layer 3a, the clad layer 3b, the ITO electrode 4, and the organic EL layer 5 are formed in the same manner as in the first embodiment.
As a result, each of these layers is formed substantially in parallel along the unevenness on the glass substrate 2, and the uneven portion 15a is formed.

本変形例の散乱手段である凹凸部15a、15bの作用について説明する。
図5は、本発明の第1の実施形態の第4変形例の光記録ヘッド1の作用について説明するための層厚方向断面の模式説明図である。
The operation of the concavo-convex portions 15a and 15b, which are the scattering means of this modification, will be described.
FIG. 5 is a schematic explanatory view of a cross section in the layer thickness direction for explaining the operation of the optical recording head 1 of the fourth modified example of the first embodiment of the present invention.

図3の場合と同様、簡単のために、ITO電極4、有機EL層5の境界面で屈折、反射が起こらないとして説明する。
図5に示すように、クラッド層3b(反射層3a)、アルミ電極7に対して比較的大きな入射角θで入射することにより、それらの間で反射を繰り返しながら発光層内を伝搬して定常的な反射光路を形成する光線R、Rを考える。
これら光線R、Rは、凹凸部15a、15bが存在しない場合には、開口7aに到達する機会が少ないか、到達しても全反射される可能性が高い(図示破線)。
As in the case of FIG. 3, for the sake of simplicity, description will be made assuming that refraction and reflection do not occur at the interface between the ITO electrode 4 and the organic EL layer 5.
As shown in FIG. 5, a cladding layer 3b (reflective layer 3a), by entering a relatively large incident angle theta 1 with respect to the aluminum electrode 7, and propagates the light-emitting layer while being repeatedly reflected between them Consider the rays R 4 and R 5 that form a steady reflected light path.
When the uneven portions 15a and 15b are not present, the light rays R 4 and R 5 have a low chance of reaching the opening 7a or are highly likely to be totally reflected even if they reach (shown broken lines).

一方、本実施形態の場合、ガラス基板2に凹凸部15b、有機EL層5の表面に凹凸部15aが形成されるので、光線R、Rでも、入射角が小さくなる確率が高くなる。
例えば光線Rは、開口7aの傾斜面に対して入射角θ(ただし、θ<θ)で入射するため、開口7aから光線Pとして出射される。また、例えば光線Rは、クラッド層3b(反射層3a)に対して入射角θ(ただし、θ<θ)で入射するため、光路が層厚方向側に変換され、開口7aから出射される。また、出射後、凹凸部15aの表面で再反射される場合もある。
このように、凹凸部15a、15bにより、開口7aの下方で記録光9bが散乱され、開口7aから記録光9aとして出射される割合が増大するものである。
逆に、凹凸部15a、15bがなければ記録光9aとして出射されていた光の一部が全反射されて光導波層内に戻る場合も生じるが、それが引き続いて全反射される確率は少ないので、全体としては散乱効果が生じて記録光9aが増大する。
On the other hand, in the case of this embodiment, since the uneven part 15b is formed on the glass substrate 2 and the uneven part 15a is formed on the surface of the organic EL layer 5, the probability that the incident angle is reduced also with the light rays R 4 and R 5 increases.
For example, since the light ray R 4 is incident on the inclined surface of the opening 7 a at an incident angle θ 3 (where θ 31 ), the light ray R 4 is emitted from the opening 7 a as the light ray P 4 . Further, for example, the light ray R 5 is incident on the cladding layer 3b (reflective layer 3a) at an incident angle θ 4 (where θ 41 ), so that the optical path is converted to the layer thickness direction side, and the light passes through the opening 7a. Emitted. Moreover, it may be re-reflected by the surface of the uneven part 15a after emission.
As described above, the recording light 9b is scattered below the opening 7a by the concave and convex portions 15a and 15b, and the ratio of the recording light 9a emitted from the opening 7a is increased.
On the contrary, if there is no uneven portion 15a, 15b, a part of the light emitted as the recording light 9a may be totally reflected and return to the optical waveguide layer, but there is a low probability that it will be totally reflected subsequently. Therefore, as a whole, a scattering effect occurs and the recording light 9a increases.

本変形例では、凹凸部15a、15bの凹部の深さやピッチを可変することにより、散乱の仕方を適宜に設定できるという利点がある。
なお、本変形例では、凹凸部15a、15bがともに形成された場合で説明したが、いずれか一方のみが形成されていてもよい。その場合でも散乱手段となり得るのは明らかである。
In this modification, there is an advantage that the scattering method can be appropriately set by changing the depth and pitch of the concave portions of the concave and convex portions 15a and 15b.
In addition, in this modification, although the case where both the uneven | corrugated | grooved parts 15a and 15b were formed was demonstrated, only any one may be formed. Even in that case, it is clear that it can be a scattering means.

次に、本実施形態の第6変形例について説明する。
図4(b)は、本発明の第1の実施形態の第6変形例の光記録ヘッドに用いる散乱手段について説明するための図1(a)のA−A線に沿う断面視の模式説明図である。
Next, a sixth modification of the present embodiment will be described.
FIG. 4B is a schematic description of a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1A for explaining the scattering means used in the optical recording head of the sixth modified example of the first embodiment of the present invention. FIG.

本変形例は、散乱手段として、第4変形例の凹凸部15a、15bに代えて、凹部のみの凹穴部16a、16bを備えたものである。
凹穴部16aは、図4(b)に示すように、開口7aの下方の有機EL層5に、0.2μm〜20μm、より好ましくは0.4μm〜5.0μm程度の凹部を形成したものである。凹部の形状は、例えば球面などの滑らかな曲面でもよいが、特にそれに限定されるものではなく適宜の曲面または平面の集まりでもよい。また、表面が滑らかでなくてもよい。
そして、凹凸部15aと同様にガラス基板2の表面を窪ませて凹穴部16bを形成し、反射層3a、クラッド層3b、ITO電極4もともに凹型としている。
In this modification, instead of the concavo-convex parts 15a and 15b of the fourth modification, the concave holes 16a and 16b having only concave parts are provided as scattering means.
As shown in FIG. 4B, the recessed hole portion 16a is formed by forming a recessed portion of about 0.2 μm to 20 μm, more preferably about 0.4 μm to 5.0 μm in the organic EL layer 5 below the opening 7a. It is. The shape of the recess may be a smooth curved surface such as a spherical surface, but is not particularly limited thereto, and may be an appropriate curved surface or a collection of flat surfaces. Moreover, the surface may not be smooth.
And the surface of the glass substrate 2 is recessed like the uneven | corrugated | grooved part 15a, the recessed hole part 16b is formed, and the reflection layer 3a, the clad layer 3b, and the ITO electrode 4 are also concave.

本変形例によれば、凹穴部16aにより、有機EL層5の境界面が傾斜するので、第4変形例と同様にして、記録光9bが開口7aに向けて透過しやすくなる。また、凹穴部16bが形成されることにより、反射層3a、クラッド層3bが凹型に形成されるので、そこへ入射する記録光9bが凹部の曲率に応じて反射、散乱され、凹部がない場合に比べて開口7aに向かう光の光量が増大する。
そして、本変形例によれば、簡素な形状を備えるので、製造が容易となるという利点がある。また、多重反射による光量損失を低減できるという利点がある。
According to the present modification, the boundary surface of the organic EL layer 5 is inclined by the recessed hole portion 16a, so that the recording light 9b is easily transmitted toward the opening 7a as in the fourth modification. Further, since the reflection hole 3b and the cladding layer 3b are formed in a concave shape by forming the concave hole portion 16b, the recording light 9b incident thereon is reflected and scattered according to the curvature of the concave portion, and there is no concave portion. Compared to the case, the amount of light toward the opening 7a increases.
And according to this modification, since a simple shape is provided, there exists an advantage that manufacture becomes easy. In addition, there is an advantage that light loss due to multiple reflection can be reduced.

[第2の実施形態]
次に、本発明の第2の実施形態に係る画像形成装置について説明する。
図6は、本発明の第2の実施形態に係る画像形成装置の主要部の構成について説明するための模式説明図である。
[Second Embodiment]
Next, an image forming apparatus according to a second embodiment of the present invention will be described.
FIG. 6 is a schematic explanatory diagram for explaining the configuration of the main part of the image forming apparatus according to the second embodiment of the present invention.

本実施形態の光プリンタ100(画像形成装置)は、1成分非接触現像方式による電子写真を用いて、印字媒体28上に印字するための装置であり、その主要部は、図6に示すように、感光ドラム20(感光体)、帯電ローラ21、光記録ヘッド200(露光手段)、現像器30(現像手段)、転写ローラ27、信号処理部31、および電源部18からなる。   The optical printer 100 (image forming apparatus) of this embodiment is an apparatus for printing on a print medium 28 using electrophotography by a one-component non-contact developing method, and the main part thereof is as shown in FIG. The image forming apparatus includes a photosensitive drum 20 (photosensitive member), a charging roller 21, an optical recording head 200 (exposure unit), a developing device 30 (developing unit), a transfer roller 27, a signal processing unit 31, and a power supply unit 18.

感光ドラム20は、表面に光導電性の感光体層が形成され一定の波長範囲に波長感度を有する光記録面を備える円筒ドラムであり、不図示の駆動手段により、図示矢印の方向に回転駆動される。
帯電ローラ21は、感光ドラム20に当接して回転する導電性ゴムローラであり、ローラ軸が不図示の高圧電源に電気的に接続され、感光ドラム20の表面を均一に帯電させるものである。
The photosensitive drum 20 is a cylindrical drum having a photoconductive photosensitive layer formed on the surface and an optical recording surface having wavelength sensitivity in a certain wavelength range. The photosensitive drum 20 is rotationally driven in a direction indicated by an arrow by a driving unit (not shown). Is done.
The charging roller 21 is a conductive rubber roller that rotates in contact with the photosensitive drum 20. The roller shaft is electrically connected to a high voltage power source (not shown) and uniformly charges the surface of the photosensitive drum 20.

光記録ヘッド200の概略構成は、記録光を光記録面上に所定スポット径で結像するレンズ1a(集光素子)、記録部17、駆動制御部19からなり、信号処理部31から送出される画像信号により各発光源から発光される記録光を光記録面である感光ドラム20に照射する露光手段である。
記録光の露光部分は、感光体層の電荷が放電されるので、画像信号に対応して分布する露光部分と非露光部分とによる表面電位の差が記録され、いわゆる静電潜像が形成される。露光位置は、帯電ローラ21の下流側の所定位置に設けられる。
記録光の波長は、可視光域の適宜の波長範囲とすることができるが、例えば550nm近辺の周波数とすることができる。感光ドラム20の波長感度をその範囲に持たせることは容易である。
The schematic configuration of the optical recording head 200 includes a lens 1a (light condensing element) that forms an image of recording light on the optical recording surface with a predetermined spot diameter, a recording unit 17, and a drive control unit 19, and is sent from a signal processing unit 31. Exposure means for irradiating the photosensitive drum 20, which is an optical recording surface, with recording light emitted from each light source in response to an image signal.
In the exposed portion of the recording light, the charge on the photoreceptor layer is discharged, so that the difference in surface potential between the exposed portion and the non-exposed portion distributed corresponding to the image signal is recorded, and a so-called electrostatic latent image is formed. The The exposure position is provided at a predetermined position on the downstream side of the charging roller 21.
The wavelength of the recording light can be set to an appropriate wavelength range in the visible light range, and can be set to a frequency around 550 nm, for example. It is easy to give the wavelength sensitivity of the photosensitive drum 20 within the range.

光記録ヘッド200は、第1の実施形態に記載された光記録ヘッド1のすべての構成、あるいはそれらを適宜組み合わせた構成を採用することができる。
各開口7aは、例えば、光記録面の画素密度に合わせたピッチで、直線状に配置することができる。
レンズ1aは、例えば合成樹脂のモールド成形品などをからなるレンズアレイなどを採用することができる。そして、各レンズの光軸を記録部17の開口7a…の中心に配置した状態で、ガラス基板2上の非回路領域に設けられた取付領域に、例えば接着などにより固定されている。
The optical recording head 200 can adopt all the configurations of the optical recording head 1 described in the first embodiment or a configuration in which they are appropriately combined.
Each opening 7a can be arranged linearly at a pitch that matches the pixel density of the optical recording surface, for example.
As the lens 1a, for example, a lens array made of a synthetic resin molded product or the like can be used. The optical axis of each lens is fixed to the attachment region provided in the non-circuit region on the glass substrate 2 with, for example, adhesion, with the optical axis of each lens being arranged at the center of the opening 7a.

現像器30は、例えば帯電極性が負であるトナー26を帯電させて、感光ドラム20上にされた静電潜像を可視化するための機構であり、露光位置の下流側に感光ドラム1に近接して設けられている。その概略構成は、導電性ゴムローラからなる現像ローラ22、現像ローラ上に帯電されたトナー26の薄層を形成する現像ブレード23、現像ローラ22にトナー26を供給する供給ローラ24、トナー26を摩擦帯電させて供給ローラ24に搬送する攪拌翼25からなる。
現像ローラ22には、感光ドラム20との一定の隙間を確保するためのキャップスペーサカラー29が設けられ、またトナー26を静電潜像へ選択的に移動させる電界を得るため、不図示の高圧電源に電気的に接続されている。
The developing device 30 is a mechanism for, for example, charging the toner 26 having a negative charging polarity to visualize the electrostatic latent image formed on the photosensitive drum 20, and is close to the photosensitive drum 1 on the downstream side of the exposure position. Is provided. The schematic configuration includes a developing roller 22 made of a conductive rubber roller, a developing blade 23 that forms a thin layer of charged toner 26 on the developing roller, a supply roller 24 that supplies the toner 26 to the developing roller 22, and a friction of the toner 26 It comprises a stirring blade 25 that is charged and conveyed to the supply roller 24.
The developing roller 22 is provided with a cap spacer collar 29 for ensuring a certain gap with the photosensitive drum 20, and a high voltage (not shown) is used to obtain an electric field for selectively moving the toner 26 to the electrostatic latent image. It is electrically connected to the power source.

転写ローラ27は、現像器30の下流に設けられ、印字媒体28が到達したタイミングで転写電圧を印加し、感光ドラム20上で現像されたトナー像(可視像)を印字媒体28側に静電吸着するための導電性ローラである。そして、不図示の高圧電源に電気的に接続されている。   The transfer roller 27 is provided downstream of the developing device 30 and applies a transfer voltage when the print medium 28 arrives, so that the toner image (visible image) developed on the photosensitive drum 20 is statically transferred to the print medium 28 side. A conductive roller for electroadsorption. And it is electrically connected to a high voltage power supply (not shown).

このような構成によれば、信号処理部31から送出される画像信号に応じて、光記録ヘッド200の各発光源を点灯制御して、感光ドラム20上に静電潜像を形成し、現像器30により現像することができる。そしてそのトナー像を転写ローラ27により印字媒体28に転写し、不図示の定着手段により定着して、画像形成を行うことができる。
本実施形態の光プリンタ100によれば、第1の実施形態の光記録ヘッドの構成を有する光記録ヘッド200を用いるので、第1の実施形態に係る光記録ヘッドの作用効果を有する画像形成装置とすることができる。
According to such a configuration, each light source of the optical recording head 200 is controlled to be turned on in accordance with an image signal sent from the signal processing unit 31 to form an electrostatic latent image on the photosensitive drum 20 and developed. It can be developed by the device 30. Then, the toner image can be transferred to the print medium 28 by the transfer roller 27 and fixed by a fixing means (not shown) to form an image.
According to the optical printer 100 of the present embodiment, since the optical recording head 200 having the configuration of the optical recording head of the first embodiment is used, the image forming apparatus having the effects of the optical recording head according to the first embodiment. It can be.

なお、上記の説明では、ベース基板と第2の電極との間にクラッド層および反射層のいずれかを配置した例で説明したが、ベース基板への漏れ光が許容範囲であれば、両方とも省略してもよい。   In the above description, the example in which either the clad layer or the reflective layer is arranged between the base substrate and the second electrode has been described. It may be omitted.

また、上記の説明では、開口を光反射性の電極に設けた例で説明したが、透明電極を有する場合、透明電極の上に光反射層を設け、その光反射層に開口を設ける構成としてもよい。   In the above description, the example in which the opening is provided in the light reflective electrode has been described. However, when the transparent electrode is provided, the light reflecting layer is provided on the transparent electrode, and the light reflecting layer is provided with the opening. Also good.

また、上記の説明では、開口を所定ピッチだけ離して直線的に配置した例で説明したが、開口はベース基板の板面に沿う方向に設けられるので、回路パターンを適宜レイアウトすることにより2次元的に配置してもよい。例えば、千鳥状に配置したり、複数列で直線的に延はしたりする配置などでもよい。   In the above description, the openings are linearly arranged with a predetermined pitch apart. However, since the openings are provided in a direction along the plate surface of the base substrate, the two-dimensional layout can be obtained by appropriately laying out the circuit pattern. May be arranged. For example, it may be arranged in a zigzag pattern or linearly extended in a plurality of rows.

また、上記の説明では、各散乱手段を個別に設けた例で説明したが、可能ならば、これら散乱手段を組み合わせた構成としてもよい。   In the above description, the example in which each scattering unit is provided individually has been described. However, if possible, the scattering unit may be combined.

また、上記の説明では、第2の電極として、透明電極を用いたため、光導波層を発光層と透明電極で構成する例で説明したが、第1、第2の電極で挟まれる発光層を含む層が光導波可能であれば、第2の電極が光反射性の電極から構成されていてもよい。
また、上記の説明では、発光層が有機EL層からなる場合で説明したが、そのような構成に限定されるものではなく、面発光できる発光層であれば他の構成も採用できる。例えば、無機ELなどでもよい。
In the above description, since the transparent electrode is used as the second electrode, the example in which the optical waveguide layer is configured by the light emitting layer and the transparent electrode has been described. However, the light emitting layer sandwiched between the first and second electrodes is described. The second electrode may be composed of a light-reflective electrode as long as the containing layer can be guided in light.
In the above description, the case where the light emitting layer is formed of an organic EL layer has been described. However, the present invention is not limited to such a configuration, and other configurations may be employed as long as the light emitting layer can emit light. For example, inorganic EL may be used.

また、上記の説明では、透明電極として、ITOを用いた例で説明したが、材質はITOに限定されるものではない。例えば、IZO(Indium Zinc Oxide)なども好適に採用できる。   In the above description, ITO is used as the transparent electrode. However, the material is not limited to ITO. For example, IZO (Indium Zinc Oxide) can also be suitably employed.

本発明の第1の実施形態に係る光記録ヘッドの主要部の構成について説明するための平面視の模式説明図、そのA−A断面図およびB−B断面図である。FIG. 2 is a schematic explanatory view in plan view for explaining the configuration of the main part of the optical recording head according to the first embodiment of the present invention, its AA sectional view and BB sectional view. 本発明の第1の実施形態およびその第1〜第4変形例に係る光記録ヘッドに用いる散乱手段について説明するための図1(a)のA−A線に沿う断面視の模式説明図である。FIG. 4 is a schematic explanatory view in cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1A for describing the scattering means used in the optical recording head according to the first embodiment of the present invention and the first to fourth modifications thereof. is there. 本発明の第1の実施形態に係る光記録ヘッド1の作用について説明するための層厚方向断面の模式説明図である。FIG. 3 is a schematic explanatory diagram of a cross section in the layer thickness direction for explaining the operation of the optical recording head 1 according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態の第5および第6変形例の光記録ヘッドに用いる散乱手段について説明するための図1(a)のA−A線に沿う断面視の模式説明図である。It is a schematic explanatory drawing of the cross-sectional view in alignment with the AA of FIG. 1 (a) for demonstrating the scattering means used for the optical recording head of the 5th and 6th modification of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態の第5変形例の光記録ヘッド1の作用について説明するための層厚方向断面の模式説明図である。FIG. 10 is a schematic explanatory diagram of a cross section in the layer thickness direction for explaining the operation of the optical recording head 1 of the fifth modified example of the first embodiment of the present invention. 本発明の第2の実施形態に係る画像形成装置の主要部の構成について説明するための模式説明図である。FIG. 6 is a schematic explanatory diagram for explaining a configuration of a main part of an image forming apparatus according to a second embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 光記録ヘッド
2 ガラス基板(ベース基板)
3a 反射層
3b クラッド層
4 ITO電極(第2の電極)
5 有機EL層(発光層)
6 散乱部(散乱手段)
7 アルミ電極(第1の電極)
7a 開口
9a、9b 記録光
11 粒状体(散乱手段)
12 蛍光体粒子(散乱手段)
13、14 回折格子(散乱手段)
15a、15b 凹凸部(凹凸)
16a、16b 凹穴部(凹凸)
17 記録部
18 電源部
19 駆動制御部
20 感光ドラム(感光体)
30 現像器(現像手段)
31 信号処理部
60 拡散層(散乱手段)
100 光プリンタ(画像形成装置)
200 光記録ヘッド(露光手段)
1 Optical recording head 2 Glass substrate (base substrate)
3a Reflective layer 3b Clad layer 4 ITO electrode (second electrode)
5 Organic EL layer (light emitting layer)
6 Scattering part (scattering means)
7 Aluminum electrode (first electrode)
7a Apertures 9a, 9b Recording light 11 Granules (scattering means)
12 Phosphor particles (scattering means)
13, 14 Diffraction grating (scattering means)
15a, 15b Uneven portion (unevenness)
16a, 16b Recessed hole (unevenness)
17 Recording section 18 Power supply section 19 Drive control section 20 Photosensitive drum (photoconductor)
30 Developer (Developing means)
31 Signal processor 60 Diffusion layer (scattering means)
100 Optical printer (image forming apparatus)
200 Optical recording head (exposure means)

Claims (8)

基準電位に設定された第1の電極に対向して配置され、画像信号に応じて駆動電圧を印加する第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極の間に挟まれ、前記駆動電圧に応じて記録光を発生する発光層と、前記記録光を外部に出射する開口とを有する複数の発光源が、ベース基板の板面上に形成されるとともに前記ベース基板の板面に沿う方向において前記各開口が光記録面の画素位置に応じて配列された光記録部を備える光記録ヘッドであって、
前記各発光源に、前記発光層が発生する記録光を前記発光層の層厚方向と直交する方向に伝搬可能とする光導波層が形成され、
前記各発光源の前記発光層の層厚方向視の面積が、対応する各開口の開口面積より大きく設定され、
前記各開口が、前記光導波層を伝搬する記録光を前記発光層の層厚方向に出射可能な位置に設けられ、
前記光導波層の周囲に、前記記録光の前記開口以外からの出射光を前記光導波層内に閉じ込める光封止手段が設けられ、
前記開口に位置された光導波層に、該光導波層内を伝搬する前記記録光の光路を乱す散乱手段が設けられたことを特徴とする光記録ヘッド。
A second electrode disposed opposite to the first electrode set to a reference potential and applying a drive voltage in accordance with an image signal; and sandwiched between the first electrode and the second electrode; A plurality of light emitting sources having a light emitting layer for generating recording light in response to the driving voltage and an opening for emitting the recording light to the outside are formed on the plate surface of the base substrate and the plate surface of the base substrate An optical recording head including an optical recording unit in which the openings are arranged in accordance with pixel positions on the optical recording surface in a direction along
Each light emitting source is formed with an optical waveguide layer capable of propagating recording light generated by the light emitting layer in a direction perpendicular to the layer thickness direction of the light emitting layer,
The area in the thickness direction of the light emitting layer of each light emitting source is set to be larger than the opening area of each corresponding opening,
Each opening is provided at a position where recording light propagating through the optical waveguide layer can be emitted in the layer thickness direction of the light emitting layer,
Around the optical waveguide layer, there is provided a light sealing means for confining the emitted light from other than the opening of the recording light in the optical waveguide layer,
An optical recording head characterized in that a scattering means for disturbing an optical path of the recording light propagating in the optical waveguide layer is provided in the optical waveguide layer positioned in the opening.
前記散乱手段が、前記光導波層と屈折率が異なる複数の粒状体からなることを特徴とする請求項1に記載の光記録ヘッド。   The optical recording head according to claim 1, wherein the scattering unit includes a plurality of granular materials having different refractive indexes from the optical waveguide layer. 前記粒状体が、前記記録光の波長により光が励起される蛍光体からなることを特徴とする請求項2に記載の光記録ヘッド。   The optical recording head according to claim 2, wherein the granular body is made of a phosphor whose light is excited by the wavelength of the recording light. 前記散乱手段が、回折格子からなることを特徴とする請求項1に記載の光記録ヘッド。   The optical recording head according to claim 1, wherein the scattering unit includes a diffraction grating. 前記散乱手段が、前記開口に位置された光導波層の前記開口側層表面およびそれと対向する層底面の少なくともいずれかに設けられた凹凸からなることを特徴とする請求項1に記載の光記録ヘッド。   2. The optical recording according to claim 1, wherein the scattering unit includes irregularities provided on at least one of a surface of the opening-side layer of the optical waveguide layer positioned in the opening and a bottom surface of the layer facing the surface. head. 前記発光層が有機EL層からなり、
前記第1および第2の電極の一方が、前記記録光を透過する透明電極からなり、
前記第1および第2の電極の他方が、前記記録光を反射する光反射性の電極からなり、
前記発光層と前記前記第1および第2の電極の一方とが前記光導波層を構成し、
前記開口が第1および第2の電極の他方に形成されたことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の光記録ヘッド。
The light emitting layer is composed of an organic EL layer,
One of the first and second electrodes comprises a transparent electrode that transmits the recording light,
The other of the first and second electrodes is a light reflective electrode that reflects the recording light,
The light emitting layer and one of the first and second electrodes constitute the optical waveguide layer,
The optical recording head according to claim 1, wherein the opening is formed in the other of the first and second electrodes.
前記透明電極の厚みが50nm以上1000nm以下とされたことを特徴とする請求項6に記載の光記録ヘッド。   The optical recording head according to claim 6, wherein the transparent electrode has a thickness of 50 nm to 1000 nm. 光導電性の光記録面を有する感光体に露光手段を用いて静電潜像を形成し、該静電潜像を現像手段により現像して可視像を形成する画像形成装置であって、
前記露光手段が、請求項1〜7のいずれかに記載の光記録ヘッドを備えることを特徴とする光記録ヘッドを用いた画像形成装置。
An image forming apparatus that forms an electrostatic latent image on a photosensitive member having a photoconductive optical recording surface by using an exposure unit, and develops the electrostatic latent image by a developing unit to form a visible image.
An image forming apparatus using an optical recording head, wherein the exposure unit includes the optical recording head according to claim 1.
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