JP2006154593A - 液晶表示装置用基板およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 液晶配向制御用突起とスペーサー柱の簡便な形成方法を提供する。
【解決手段】 対向する基板との間で液晶を挟持する液晶表示装置を構成する、少なくとも配向制御用突起とスペーサー柱を有する基板の製造において、感光性樹脂組成物層が設けられた基体にデジタル・マイクロミラー・デバイスにより制御されたレーザー光を用いて露光し、所定のパターンを描画して感光させる工程と、該感光性樹脂組成物を現像する工程とすることで、配向制御用突起とスペーサー柱とを、一度の工程で同時に精度良く形成することが可能となる。

Description

本発明は、垂直配向（ＶＡ、Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｅｄ）型液晶ディスプレイ（ＬＣＤ、Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）に係り、さらに詳しくは配向分割垂直配向（ＭＶＡ、Ｍｕｌｔｉ−Ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型ＬＣＤに用いられる配向制御用突起を有する基板及びそれを用いた液晶表示装置に関するものである。

ＭＶＡ−ＬＣＤ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ−Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ、配向分割垂直配向型液晶表示装置、特許文献１および２、非特許文献１参照）は、１画素内で液晶分子の傾斜方向が複数になるように制御し、全方位で均一な中間調表示が出来るようにした垂直配向型液晶表示装置であり、優れたコントラスト、視野角特性、応答速度を兼ね備えた液晶表示装置と言われている。

図１（ａ）、（ｂ）は、ＭＶＡ−ＬＣＤの動作をその断面で模式的に示した説明図である。図１（ａ）、（ｂ）に示す様に、一般的なＭＶＡ−ＬＣＤ（１０）は、液晶分子（１５）を介して配向制御用突起（１３）が設けられたＴＦＴ側基板（１１）と、配向制御用突起（１４）が設けられたカラーフィルタ側基板（１２）とを配置した構造であるが、配向制御用突起（１３）と配向制御用突起（１４）は互い違いの位置になるようになっている。

図１（ａ）は、電圧無印加時の状態を示し、電圧無印加時に液晶分子（１５）は、両基板間で垂直に配向するが、配向制御用突起（１３）部及び配向制御用突起（１４）部の液晶分子は突起の斜面の影響によってわずかに傾斜している。図１（ｂ）は、電圧印加時の状態を示し、電圧を印加すると突起の斜面の液晶分子が傾斜し始め、傾斜部分以外の液晶分子も順次に同一の配向をするようになる。即ち、ラビング処理に代わり、突起を設けることによって液晶分子の配向を制御するものである。また図２（ｃ）、（ｄ）に示すスペーサー柱（２６）は対向する基板間のセルギャップを保つ部材である。

従来はスペーサー柱と配向制御用突起とを別に形成していたため、感光性樹脂組成物層の形成、露光、現像の工程をそれぞれ繰り返し２回行わなくてはならなかった。そのため、作業工程が増加して不良品の発生数も高まり、コストが嵩んでしまった。また、これらの工程は樹脂組成物や現像液の入れ替え、ラインの洗浄など費用と時間を費やしてしまうことや、さらには廃棄する薬液の量が約２倍になることから環境的な負荷も大きなものとなる。

この問題を解決するために配向制御用突起とスペーサー柱の一括形成方法が検討されており、この方法として例えば、複数回露光することにより露光量に差をつける方法（特許文献３参照）、着色画素層と遮光層のうち少なくとも２層以上を重ねることであらかじめスペーサー柱形成部を高くしておく方法（特許文献４参照）、光感度の異なる感光性樹脂組成物層を２層重ねて波長選択性マスクで露光する方法（特許文献５参照）等が報告されている。しかし、これらはいずれも露光回数が２回以上必要であるため露光時のアラインメントが困難、着色画素層を重ねるためにスペーサー柱の高さ精度を保つのが困難、感光性樹脂組成物層形成のプロセスが増える等の問題があった。

さらに従来スペーサー柱および配向制御用突起を形成する方法として、（１）フォトマスクを直接感光性樹脂組成物面に接触させて露光するコンタクト露光方式、（２）フォトマスクと感光性樹脂組成物面に間隙を設けて露光するプロキシミティ露光方式、（３）凸及び凹面鏡を使用したミラー光学系を用い、フォトマスクと感光性樹脂組成物面をそれぞれ移動させながら露光を行うミラープロジェクション露光方式、（４）フォトマスクと感光性樹脂組成物面間に投影レンズを配置し照射面を分割して露光を行う分割露光（またはステッパー）方式等が挙げられるが、いずれにおいてもフォトマスクが必要であり、昨今のパネルサイズの大型化に伴い、フォトマスク方式での露光精度の低下、フォトマスク作製のコストの増大の問題を抱えていた。

特許第２９４７３５０号公報 特開平１１−２４８９２１号公報 特開２００２−２３６３７１号公報 特許第３２５５１０７号公報 特開２００３−２４８３２３号公報 Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｊｏｕｒｎａｌ １９９７年１０月号Ｐ．３３

本発明は、上記問題点に鑑み考案されたもので、配向制御用突起及びスペーサー柱の形成工程を簡略化し、さらにフォトマスクを用いず、時間およびコストを大幅に削減した、安価で表示品質の優れた液晶表示装置用基板及びその製造方法を提供することを目的とする。

上記問題を解決するための本願の請求項１に記載の発明は、対向する基板との間で液晶を挟持する液晶表示装置を構成する、少なくとも配向制御用突起とスペーサー柱を有する液晶表示装置用基板の製造方法において、（Ａ）少なくとも１層の感光性樹脂組成物層が設けられた基体に制御されたレーザー光を用いて、配向制御用突起とスペーサーのパターンを描画して感光させる工程と、
（Ｂ）該感光性樹脂組成物層を現像する工程と、を有することを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法である。

請求項２に記載の発明は、前記（Ａ）工程において、光源より射出されたレーザー光がデジタル・マイクロミラー・デバイスにより制御され、該感光性樹脂組成物表面への照射量が調節されていることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置用基板の製造方法である。

請求項３に記載の発明は、前記（Ａ）工程において、レーザー光が半導体レーザーを光源とすることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置用基板の製造方法である。

請求項４に記載の発明は、請求項１から３のいずれかに記載の方法によって作製されたことを特徴とする液晶表示装置用基板である。

請求項５に記載の発明は、対向する基板との間で液晶を挟持する液晶表示装置において、
請求項４に記載の液晶表示装置用基板を対向する基板の少なくとも一方に用いたことを特徴とする液晶表示装置である。

本発明は、スペーサー柱と配向制御用突起の形成において、照射量が調節可能なレーザー光により露光を行うことにより、異なる高さと形状をもつ配向制御用突起とスペーサー柱を同時に精度よく形成することが可能となるため、時間とコストを大幅に削減することができる。

本発明によれば、従来の方法においては必要不可欠であったフォトマスクを用いないため、フォトマスクの作製にかかる時間とコストを削減することができる。また照射量が調節可能なレーザー光により、露光を行うことで、より短時間で要求品質を満たす配向制御用突起を一括形成することが可能となり、様々な仕様に対応した高付加価値の液晶表示装置用基板を安価に提供することができる。
またフォトマスクによらず露光を行うので、液晶表示装置の基板の仕様変更などにも柔軟に対応することができる。

以下に、本発明の実施形態について詳細に説明する。
本発明は対向する基板との間で液晶を挟持する液晶表示装置を構成する、少なくとも配向制御用突起とスペーサー柱を有する基板の製造方法あるいはそれを用いた液晶表示装置に関するものであって、特に配向分割垂直配向型ＬＣＤに用いられる液晶表示装置であることを特徴とするものである。

本発明では、感光性樹脂組成物層が設けられた基体に制御されたレーザー光を照射し、所定のパターンを描画して感光させる工程と、該感光性樹脂組成物を現像する工程とを有し、配向制御用突起とスペーサー柱とを、ただ一度の露光、現像工程によって同時に精度良く形成することができた。なお感光性樹脂材料は１層構成に限定されるものではなく、同種又は異種の２層以上の構成を取る事が可能であり、その場合も同様に制御されたレーザー光を用いて露光を行うことができる。
また本発明の最良の実施の形態として、制御されたレーザー光として、デジタル・マイクロミラー・デバイスにより制御されたレーザー光を用いることができるが、これに限定されるものではなく、制御されたレーザー光であれば他の形態を用いることも可能である。

以下、本明細書では、透光性を有する基板上に着色画素層を設け、この上に配向制御用突起を形成した基板について主に述べているが、これは本発明による基板または液晶表示装置が、着色画素層を必ず具備しなければならないわけではない。

本発明の液晶表示装置用基板を構成する基板としては、透光性を有する板状のものが好ましく、ガラス、あるいはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルサルフォンやポリアクリレートなどのプラスチックのシートあるいはフィルムが挙げられる。
また、配向制御用突起およびスペーサー柱を形成した後、加熱工程を行うことから、耐熱性に優れたガラス基板が好ましく、さらには熱膨張率が小さく加熱工程での寸法安定性に優れたガラスを選択することが好ましい。

一般的にカラーフィルタとは透光性を有する基板上にコントラスト向上のためのブラックマトリックス（Ｋ、遮光層）、次いで赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色画素層を形成せしめたものであり、これを液晶用とする場合は、さらに透明導電層、配向膜層を順次積層せしめたものであり、例えば薄膜トランジスタのような電極を形成した対向基板と対置させ液晶層を介してＬＣＤを構成するものである。
この明細書中では、このブラックマトリックスと赤、緑、青の着色画素層を合わせてカラーフィルタ層とする。

カラーフィルタ層を構成するブラックマトリックスは既に公知の方法を用いて形成することができる。例えば、クロムやチタンなどの金属あるいは金属酸化物の薄膜をスパッタ等の方法により基板上に形成し、それをエッチングなどの手法によりパターニングを施し形成するもの。あるいは、感光性樹脂組成物中にカーボンブラックや金属酸化物などの遮光性微粒子や複数種からなる顔料あるいは染料などの着色剤を混在させ、これを基板上に感光性樹脂組成物層として形成しフォトリソグラフィー法により形成するもの、などが挙げられるが本発明においてはいずれの方法により形成しても良い。

着色画素層は前記ブラックマトリックスの開口部に設けられ、通常赤色画素パターン（Ｒ）、緑色画素パターン（Ｇ）、および青色画素パターン（Ｂ）の３原色からなる画素パターンが所望の形状により配置されたものである。その形成方法としては顔料分散法、染料法、電着法、印刷法、転写法やインクジェットにより各画素を形成する方法など既に公知の方法が挙げられ、本発明においてはいずれの方法により形成しても良い。

本発明における配向制御用突起とスペーサー柱を有する基板の一形態としては、これらカラーフィルタ層上または透明導電層上に、配向制御用突起およびスペーサー柱を設けた構成を取ることができる。またはカラーフィルタ層、透明導電層、配向制御用突起およびスペーサー柱、配向膜層の順に形成した構成、もしくは必要ならばこのいずれかの層の間に保護膜層を設けた複数の層構成を取ることができる。

透明導電膜層は液晶表示装置に用いる、対向する基板との間で液晶を挟持する基板の少なくともいずれか一方に必須の構成である。通常は液晶の配向方向を規制する配向膜層あるいは配向制御用突起の直下に形成され、電気信号を伝達することで基板の間に挟持された液晶の挙動を制御する。もしくは配向制御用突起の上層に蒸着等で設けることも可能である。
透明導電層は、透明で導電性があり薄膜状に形成できる物質が用いられ、通常ＩＴＯ（インジウムと錫の複合酸化物）膜が、他にはＩＺＯ（インジウムと亜鉛の複合酸化物）やＳｎＯ_２（二酸化錫）膜などが選択され、各々スパッタ法、真空蒸着法などの手法にて形成される。

次に、本発明の配向制御用突起とスペーサー柱の形成方法について説明する。透光性を有する基板上に、あるいは必要であれば上述した方法によって、カラーフィルタ層、透明導電層、保護膜層が積層された基板上に、後述する感光性樹脂組成物を、バーコーター、アプリケーター、スピンコーター、ロールコーター、スリットコーター、カーテンコーター、ダイコーター、コンマコーター等の公知の塗工方法を用いて積層する。あるいは、後述する感光性樹脂組成物を公知の方法でドライフィルム化し、ラミネーターを用いて基板上に転写し積層してもよい。

本発明で用いる感光性樹脂組成物層は、о−ナフトキノンジアジドとアルカリ可溶性樹脂からなる。なお、о−ナフトキノンジアジドは、о−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物の総称である。通常多価フェノールまたはアミノ基含有化合物のо−ナフトキノンジアジドスルホニルクロライドによるエステル化、アニリド化反応により、各種のо−ナフトキノンジアジドを合成することができる。о−ナフトキノンジアジドは、放射線照射により窒素を放出し、カルベン、ケテンを経てＷｏｌｆｆ転移を行い３−インデンカルボン酸となってカルボキシル基を現出する。

о−ナフトキノンジアジドのうちでは、 ２，３，４−トリオキシベンゾフェノン−３，４−ビス（ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸）エステル、２，３，４−トリオキシベンゾフェノン−２，３，４−トリス（ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸）エステル、 ２，３，４，４’−テトラオキシベンゾフェノン−２，３，４，４’−テトラキス（ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸）エステル、ｐ−（ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルオキシ）トルエン、 ３，４，５−トリス（ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルオキシ）安息香酸メチルなどが挙げられる。これらは、１種単独で、または複数を組み合わせて用いることができる。

アルカリ可溶性樹脂としては、主鎖あるいは側鎖にカルボン酸またはフェノール性水酸基を有するものがアルカリ現像可能なため、作業の安全性や環境性の点から好ましい。具体的には、フェノール、クレゾール、ヒドロキシメチルフェノール、ビスフェノールなどのノボラック樹脂あるいはレゾール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が挙げられる。

その後レーザー光を直接感光性樹脂組成物面に照射し、次いで現像を行い、不必要部分を溶解除去することで配向制御用突起とスペーサー柱を一括形成する。このレーザー光照射の工程において、デジタル・マイクロミラー・デバイスによって該感光性樹脂組成物面への照射量を調節することで異なる形状を有するパターンの形成が可能となる。即ち、非パターン形成部へは完全照射し、スペーサー柱形成部へは照射せず、配向制御用突起形成部へは照射量を非パターン形成部とスペーサー柱形成部の中間量とする。その後現像工程を施すことで、完全照射部は溶解して非パターン形成部となり、スペーサー柱形成部はほぼ忠実な柱状のレジストパターンが形成され、配向制御用突起形成部はスペーサー柱よりも高さの低いパターンが形成される。

この時の完全照射部の露光量とは、現像液に対して感光性樹脂組成物が完全に溶解できるまでに要する露光量を指し、配向制御用突起を形成するのに必要な照射量として好ましくは、完全照射量の８０％以下、２０％以上の間の照射量であり、この範囲を超えるとパターンが溶解してしまう恐れがあり、以下であるとスペーサー柱より高さの低いパターンの形成が困難になる。この範囲の光照射を行うと、様々な高さと形状を有する配向制御用突起パターンの形成が可能となり、形成される配向制御用突起の形状をなめらかな球状とすることができる。

露光用の光源としては、３５０〜４５０ｎｍの紫外域を含む可視光領域の波長光を出すレーザー光源を用いることができる。例えば、窒化ガリウムなどの半導体レーザー、Ａｒ、Ｋｒ、Ｈｅ−Ｃｄなどのガスレーザーを用いることができる。特に、小型で高出力、長寿命な半導体レーザーが好ましいが、これに限定されるものではない。

現像液としては、有機溶剤系またはアルカリ水溶液系が一般的であるが、作業の安全性、環境安全性の確保の観点からアルカリ水溶液系のものが好ましく、特に無機アルカリ系が好ましい。ただし、ＴＦＴアレイ基板上に画像を形成する場合は、無機アルカリ水溶液中のＮａやＫイオンが汚染の原因となるので有機アルカリ現像液を使用することが好ましい。またこれらは、アルコール、界面活性剤等の公知の種々の添加物を混合することもできる。

本発明においては、上記現像工程後に加熱工程を施すことにより、該配向制御用突起とスペーサー柱の硬化を促進し基板との密着性を向上せしめ、さらに耐溶剤性、耐薬品性を付与することができる。加熱工程は、ホットプレート、熱風炉あるいは遠赤外線炉等で熱硬化成分が十分反応する温度と時間、例えば２００〜２５０℃で１５〜１００分行えばよい。

ここで、配向制御用突起はカラーフィルタ基板の着色画素層上の透明導電膜上、もしくは対向基板の着色画素に対応する部分の透明導電膜上に形成され、形状としては、ドット状、ストライプ状、ジグザグ状のように規則性があることが好ましく、その断面が半円状、半楕円形状、あるいは三角形などのような多角形状であることが好ましい。またスペーサー柱はカラーフィルタ基板の着色画素層を除く遮光層上の透明導電膜上、もしくは対向基板の遮光層に対応する部分の透明導電膜上に形成され、その形状は円柱ないし多角柱が一般的である。

本発明の液晶表示装置を構成する基板の少なくとも一方には、配向膜層が設けられ、これと配向制御用突起とはまた別のものである。配向膜層には、ネガ型液晶化合物を垂直配向させ、かつ透明で絶縁性の物質が用いられる。通常ポリイミド樹脂が用いられる。ポリイミド樹脂用液、ポリアミック酸溶液などを公知の塗布方法あるいは印刷方法にて形成し、その後焼成することにより形成される。

必要に応じて設けられる保護膜層は、遮光層及び着色画素層を形成したときに生ずる段差を平坦化するため、あるいは遮光層や着色画素層中に含まれる成分が液晶層へ混入するのを防ぐものであり、透明性が要求される。該保護膜層を形成する材料としては、光硬化型、熱硬化型、光及び熱硬化型の樹脂組成物、エポキシ、アクリルやポリイミドなどの樹脂硬化物、あるいはスパッタや蒸着による無機化合物等、前述の目的を達成できる材料であればよい。カラーフィルタ層の表面状態を考慮して０．５から３μｍの範囲にて形成することができる。

以下、本発明の実施の形態について具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明は下述する実施例に限定されるものではない。また、本発明で用いる感光性樹脂組成物層は光に対して極めて敏感であるため、自然光など不必要な光による感光を防ぐ必要があり、全ての作業を黄色、または赤色灯下で行うことは言うまでもない。

まず、無アルカリガラスからなる透明基板（２１Ａ）上にアクリル系樹脂にカーボンブラックを分散した黒色の感光性樹脂を、スピンナーを用いて塗布し、黒色感光性樹脂組成物層を形成し、露光・現像等のパターニング処理、加熱処理を行い、遮光層（２２）を形成した。

次に、アクリル系樹脂にジアントラキノン系顔料を分散した感光性樹脂を、スピンナーを用いて塗布し、赤色感光性樹脂組成物層を形成し、所定の露光マスクを使って露光・現像等のパターニング処理、加熱処理を行って、赤色画素層（２３Ｒ）を形成した。同様に、アクリル系樹脂にフタロシアニングリーン系顔料を分散した感光性樹脂を、スピンナーを用いて塗布し、緑色感光性樹脂組成物層を形成し、所定の露光マスクを使って露光、現像等のパターニング処理、加熱処理を行って、緑色画素層（２３Ｇ）を形成した。同様に、アクリル系樹脂にフタロシアニンブルー系顔料を分散した感光性樹脂を、スピンナーを用いて塗布し、青色感光性樹脂組成物層を形成し、所定の露光マスクを使って露光、現像等のパターニング処理、加熱処理を行って、青色画素層（２３Ｂ）を形成した。

次に、酸化インジウム系のターゲットをスパッタリングして、赤色、緑色、青色からなる画素層（２３）及び遮光層（２２）上に透明導電膜（２４Ａ）を形成した。

次に、感光性樹脂組成物、ＡＺ Ｐ１３５０（３ＣＰ）レジスト（クラリアントジャパン（株）社製）をスピンナーで塗布し、透明導電膜（２４Ａ）上に厚さ３．６μｍの感光性樹脂組成物層を形成し、デジタル・マイクロミラー・デバイスを備えたレーザー光照射機により、非パターン形成部に１００ｍＪ／ｃｍ^２、配向制御用突起部に４０ｍＪ／ｃｍ^２をそれぞれ照射し、スペーサー柱形成部となる部分には光照射を行わなかった。

次に、アルカリ現像液で現像処理を行った後、２４０℃のオーブンで６０分間加熱処理を行い、ブラックマトリックス（２２）上の透明導電膜（２４Ａ）上にスペーサー柱（２６）、及び赤色、緑色、青色からなる着色画素層（２３）上の透明導電膜（２４Ａ）上に配向制御用突起（２５）を形成し、本発明の液晶表示装置用カラーフィルタ（２０）を得た。

得られたパターンの形状を観察したところ、スペーサー柱は上面１０μｍ角、下面１８μｍ角、高さ３．５μｍ、高さ精度０．１μｍ未満、台形状の断面であり、一方、配向制御用突起は幅１０μｍのストライプ形状、高さ１．５μｍ、半円形状の断面で、いずれも要求特性を十分に満たすものであった。

実施例１における、配向制御用突起部に対する照射量を７０ｍＪ／ｃｍ^２とした以外は実施例１と同様の操作を行った。得られた配向制御用突起は幅１０μｍのストライプ形状、高さ２．１μｍの半円状の断面で本発明の液晶表示装置用カラーフィルタ（２０）を得られた。

図２（ｃ）に示すように、本発明の実施例１の液晶表示装置用カラーフィルタ（２０）及び透明基板（２１Ｂ）上に液晶駆動素子アレイ（２４Ｂ）が形成されたアレイ基板（３０）の双方に配向膜を形成し、周辺部をシールして貼り合わせ、液晶セルを作製した。さらに、液晶を液晶セル内に封入して本発明のカラー液晶表示装置（４０）を得た。これを用いたところ、高精細で視野角の優れたものであった。

配向制御用突起を形成したＭＶＡ−ＬＣＤ用基板を示す説明図。 本発明によって配向制御用突起とスペーサー柱を形成したＭＶＡ−ＬＣＤ用基板を示す説明図。

符号の説明

１０ …ＭＶＡ−ＬＣＤ
１１ …ＴＦＴ側基板
１２ …カラーフィルタ側基板
１３ …配向制御用突起
１４ …配向制御用突起
１５ …液晶分子
２０、３０……液晶表示装置用カラーフィルタ
２１Ａ、２１Ｂ、２７Ａ、２７Ｂ……透明基板
２２……遮光層、ブラックマトリックス
２３Ｒ……赤色画素層
２３Ｇ……緑色画素層
２３Ｂ……青色画素層
２４Ａ、２４Ｂ、２８Ａ、２８Ｂ……透明導電膜
２５……液晶配向制御用突起
２６……スペーサー柱
３０……アレイ基板
４０……カラー液晶表示装置

Claims (5)

1. 対向する基板との間で液晶を挟持する液晶表示装置を構成する、少なくとも配向制御用突起とスペーサー柱を有する液晶表示装置用基板の製造方法において、
   （Ａ）少なくとも１層の感光性樹脂組成物層が設けられた基体に制御されたレーザー光を用いて、配向制御用突起とスペーサーのパターンを描画して感光させる工程と、
   （Ｂ）該感光性樹脂組成物層を現像する工程と、
   を有することを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
2. 前記（Ａ）工程において、光源より射出されたレーザー光がデジタル・マイクロミラー・デバイスにより制御され、該感光性樹脂組成物表面への照射量が調節されていることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
3. 前記（Ａ）工程において、レーザー光が半導体レーザーを光源とすることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
4. 請求項１から３のいずれかに記載の方法によって作製されたことを特徴とする液晶表示装置用基板。
5. 対向する基板との間で液晶を挟持する液晶表示装置において、
   請求項４に記載の液晶表示装置用基板を対向する基板の少なくとも一方に用いたことを特徴とする液晶表示装置。

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