JP2006153971A - Manufacturing apparatus of display panel and detecting method of conduction toner - Google Patents

Manufacturing apparatus of display panel and detecting method of conduction toner Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing apparatus of a display panel and a detecting method of conduction toner, in which an application status of applied conduction toner is correctly recognized and reliability and production efficiency are improved. <P>SOLUTION: A top end section 13a of a supply nozzle 13 has a first face e1 parallel to an array substrate and a second face e2 formed aslant to the array substrate. A supply hole 16 for supplying the conduction toner is opened and when supplying the conduction toner, the top end section contacts the array substrate and moves freely up and down so as to be separated from the array substrate after supplying. A lamp mechanism 14 is united with the nozzle and supported at the first face side of the nozzle top end so that a light axis d1 may face an array substrate contact position of the nozzle top end section, in a state that the nozzle is separated from the array substrate. A camera mechanism 15 is united with the nozzle and supported at the second face side of the nozzle top end section and imaging is performed by receiving reflected light on the array substrate from the lamp mechanism. A detecting unit 11 performs image processing by receiving an imaging signal of the camera mechanism and detects the application status of the conduction toner. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、アレイ基板に対して導通剤を塗布する塗布構造を改良した表示パネルの製造装置および、この表示パネルの製造装置を用いて導通剤の塗布状態を検出する導通剤の検出方法に関する。   The present invention relates to a display panel manufacturing apparatus having an improved coating structure for applying a conductive agent to an array substrate, and a conductive agent detection method for detecting a conductive agent application state using the display panel manufacturing apparatus.

表示ぱねるである、たとえば液晶基板は、ガラス基板上の表示領域となる部分に、TFT(Thin Film Transistor)が設けられるアレイ基板に配向膜を形成し、この配向膜に対して配向処理が施される。上記表示領域を囲むようにシール剤が塗布され、このシール剤を介して対向基板が貼り合されてなる。また、アレイ基板と対向基板とは短絡バンプ電極を介して接続され、この短絡バンプ電極によってアレイ基板の電極と対向基板とが同電位に設定される。   For example, a liquid crystal substrate, which is a display panel, forms an alignment film on an array substrate provided with TFTs (Thin Film Transistors) in a portion to be a display region on a glass substrate, and the alignment film is subjected to alignment treatment. Is done. A sealing agent is applied so as to surround the display area, and the counter substrate is bonded through the sealing agent. The array substrate and the counter substrate are connected via a short-circuit bump electrode, and the electrode of the array substrate and the counter substrate are set to the same potential by the short-circuit bump electrode.

このような液晶基板を製造する製造装置において、アレイ電極を構成する電極に、たとえば銀ペーストからなる導通剤を塗布して、上記短絡バンプ電極を形成する工程がある。具体的には、導通剤供給源に連通する複数のノズルが一列に揃えられ、各ノズルから導通剤がアレイ基板の電極上に所定量、供給塗布される。導通剤の塗布工程が終了したあとは、導通剤の塗布状態を検出する工程が行われる。   In a manufacturing apparatus for manufacturing such a liquid crystal substrate, there is a step of forming the short-circuit bump electrode by applying a conductive agent made of, for example, silver paste to the electrodes constituting the array electrode. Specifically, a plurality of nozzles communicating with the conductive agent supply source are arranged in a line, and a predetermined amount of conductive agent is supplied and applied from each nozzle onto the electrode of the array substrate. After the conductive agent application step is completed, a step of detecting the conductive agent application state is performed.

従来、検出工程を行うために、導通剤に対してランプ(照明手段)とカメラ(撮像手段)が互いに同軸上に配置される。ランプで導通剤を照明するとともにカメラで撮像し、その撮像信号が検出装置(検出手段)へ送られる。検出装置においては取込んだ画像を明暗(黒・白)の閾値による2値化処理なし、その結果から所定量の導通剤が塗布された否かを判断する。   Conventionally, in order to perform the detection process, a lamp (illuminating unit) and a camera (imaging unit) are coaxially arranged with respect to the conducting agent. The conducting agent is illuminated by the lamp and the image is taken by the camera, and the image pickup signal is sent to the detection device (detection means). In the detection apparatus, the captured image is not binarized by a light / dark (black / white) threshold value, and it is determined from the result whether or not a predetermined amount of the conductive agent has been applied.

しかしながら、アレイ基板を支持する基板ステージおよび電極の色、濃度、素材等の条件によって誤検出が発生し易いものであった。たとえば、基板ステージは黒色処理をなしたアルミニュウム材から構成され、銀ペーストである導通剤とは反対色であるので認識し易かったが、アンローディングのためピンでアレイ基板を突き上げる際の摩擦で静電気が発生し、アレイ基板に実装されるTFT等に悪影響を及ぼすことが判明した。   However, erroneous detection is likely to occur depending on conditions such as the substrate stage supporting the array substrate and the color, density, and material of the electrodes. For example, the substrate stage is made of an aluminum material with black treatment and is easy to recognize because it is the opposite color to the conductive agent that is silver paste, but it is static due to friction when pushing up the array substrate with pins for unloading. It has been found that the TFTs mounted on the array substrate are adversely affected.

そのため、近時、基板ステージをセラミックス材に変更し、静電摩擦の発生を防止する対策がとられるようになった。ところが、セラミックス材は白色をなし、銀色の導通剤に極く近い色であり、アレイ基板を構成する透明ガラス板から白色の基板ステージが見えて互いに濃淡の差が小さく、導通剤の画像処理がし難いものとなっている。   Therefore, recently, measures have been taken to prevent the occurrence of electrostatic friction by changing the substrate stage to a ceramic material. However, the ceramic material is white and has a color very close to the silver conductive agent. The white substrate stage can be seen from the transparent glass plate that constitutes the array substrate, and the difference in density is small. It is difficult to do.

そこで、[特許文献1]にあるような半田付け領域抽出装置や、[特許文献2]にあるような塗布面検査装置及び塗布システムが提供されるに至った。いずれも、液晶基板の製造とは直接的には係り合いがないが、塗布対象物に対して確実な認識を得ることを目的とする点で一致している。
特開平 4−65200号公報 特開平11− 2610号公報
Therefore, a soldering area extracting device as in [Patent Document 1] and a coated surface inspection device and a coating system as in [Patent Document 2] have been provided. None of these are directly related to the production of the liquid crystal substrate, but they are consistent in that the objective is to obtain a reliable recognition of the object to be coated.
JP-A-4-65200 JP-A-11-2610

[特許文献1]では、プリント基板上の半田付け領域を基板とは異なる色で照明する第1のカラー照明手段と、この照明色と異なる色で照明する第2のカラー照明手段と、半田付け領域を撮像するカラー撮像手段と、このカラー撮像手段の撮像信号を色変換する色変換手段を具備し、第1のカラー照明手段による投光色近傍の色領域を抽出する。
しかしながら、[特許文献1]では、互いに異なる色の複数の照明手段を備えるために構成が複雑化し、各照明手段を配置するスペースが必要で、抽出装置自体が大型化する。色変換手段は各カラー撮像手段の撮像信号を色変換するが、実際には、第1のカラー照明手段による投光色近傍の色領域を抽出するので、抽出制御が複雑となる。
In [Patent Document 1], first color illumination means for illuminating a soldering region on a printed board with a color different from that of the board, second color illumination means for illuminating with a color different from the illumination color, and soldering A color imaging means for imaging the area and a color conversion means for color-converting the image signal of the color imaging means are provided, and a color area in the vicinity of the color projected by the first color illumination means is extracted.
However, in [Patent Document 1], since a plurality of illumination units having different colors are provided, the configuration is complicated, a space for arranging each illumination unit is required, and the extraction apparatus itself is enlarged. The color conversion means performs color conversion on the image pickup signal of each color image pickup means, but in practice, since the color region near the color projected by the first color illumination means is extracted, the extraction control becomes complicated.

[特許文献2]は、鉛板ガラスの面上に、鉛板ガラスと薄膜の分光特性を加味した照明光を照射する照明装置と、照明光の反射光を受光する受光装置と、この受光装置に入射した反射光の光強度を演算して薄膜の塗布状態データを生成し、塗布状態が予め設定されているか否かを判別する演算処理・判別処理とで構成される。
しかしながら、この[特許文献2]は、鉛板ガラスの全面に亘って塗布された塗布パターンの線や面の状態を撮らえる装置であって、先に背景技術の欄で説明したように、アレイ基板に、いわゆるスポット状に導通剤を塗布し、それぞれの導通剤の塗布状態を検出する装置とは構成上の相違が大である。
[Patent Document 2] discloses an illumination device that irradiates illumination light that takes into account spectral characteristics of lead plate glass and a thin film on a surface of the lead plate glass, a light receiving device that receives reflected light of the illumination light, and enters the light receiving device. The light intensity of the reflected light is calculated, thin film application state data is generated, and calculation processing / discrimination processing for determining whether or not the application state is preset is configured.
However, this [Patent Document 2] is an apparatus that can capture the state of the lines and surfaces of the coating pattern applied over the entire surface of the lead plate glass, and as described in the background section above, the array substrate. In addition, there is a great difference in configuration from a device that applies a conductive agent in a so-called spot shape and detects the application state of each conductive agent.

本発明は上記事情に着目してなされたものであり、その目的とするところは、アレイ基板の電極や基板ステージの色、素材等の条件に係り合うことなく、塗布された導通剤の塗布状態を正確に認識でき、信頼性および生産効率の向上化を得られる表示パネルの製造装置および導通剤の検出方法を提供しようとするものである。   The present invention has been made paying attention to the above circumstances, and the purpose of the present invention is to apply the applied conductive agent without regard to conditions such as the color of the electrode of the array substrate and the substrate stage, and the material. It is an object of the present invention to provide a display panel manufacturing apparatus and a conductive agent detection method capable of accurately recognizing and improving reliability and production efficiency.

上記目的を達成するため本発明の導通剤から形成される短絡バンプ電極を介してアレイ基板と対向基板とが接続される表示パネルを製造する表示パネルの製造装置は、ノズルの先端部がアレイ基板に対して平行な第1の面およびアレイ基板に対して斜めに形成される第2の面を有し、アレイ基板に導通剤を供給する供給孔が開口され、導通剤供給時は先端部をアレイ基板に接触し、供給後は先端部をアレイ基板から離間するよう昇降自在に駆動され、照明手段がノズル先端部の第1の面側にノズルと一体に支持してノズル先端部がアレイ基板から離間した状態でノズル先端部のアレイ基板接触位置に対し斜め方向から光軸を向け、撮像手段がノズル先端部の第2の面側にノズルと一体に支持して照明手段から投光されアレイ基板で反射した光を受けて撮像し、検出手段が撮像手段の撮像信号を受けて画像処理し導通剤の塗布状態を検出する。   In order to achieve the above object, a display panel manufacturing apparatus for manufacturing a display panel in which an array substrate and a counter substrate are connected via a short-circuit bump electrode formed from the conductive agent of the present invention is such that the tip of the nozzle is the array substrate. A supply hole for supplying a conducting agent to the array substrate is opened, and a tip is provided when supplying the conducting agent. After contact with the array substrate, it is driven so as to move up and down so that the tip is separated from the array substrate, and the illumination means is integrally supported with the nozzle on the first surface side of the nozzle tip, and the nozzle tip is the array substrate. The optical axis is directed obliquely with respect to the array substrate contact position of the nozzle tip in a state of being separated from the nozzle, and the imaging means is projected from the illumination means while being supported integrally with the nozzle on the second surface side of the nozzle tip. Light reflected from the board Receiving imaged, detection means for detecting the applied state of the image processing conducted agent receives the imaging signal of the imaging means.

そして、上記目的を達成するため本発明の導通剤の検出方法は、第1の工程で上記表示パネルの製造装置を用いてアレイ基板に導通剤を塗布する以前の導通剤塗布予定部位の撮像をなし画像信号を取り込んで画像処理し、第2の工程でアレイ基板に導通剤を塗布したあとの塗布状態を撮像し撮像信号を取込んで画像処理し、第3の工程で第2の工程で得られた導通剤塗布前の画像面積から第1の工程で得られた導通剤塗布前の画像面積の差分を求め、この差分から塗布された導通剤のみの画像面積を抽出し、第4の工程で第3の工程において抽出した導通剤画像を予め記憶している標準パターンと比較し、その比較値から導通剤の塗布状態を判断する。   In order to achieve the above object, the method for detecting a conductive agent according to the present invention performs imaging of a portion where a conductive agent is to be applied before applying the conductive agent to the array substrate using the display panel manufacturing apparatus in the first step. No image signal is captured and image processing is performed. After the conductive agent is applied to the array substrate in the second step, the application state is imaged, the imaging signal is captured and image processing is performed. In the third step, the second step is performed. The difference between the image areas before applying the conductive agent obtained in the first step is obtained from the image area before applying the conductive agent, and the image area of only the applied conductive agent is extracted from the difference, In the step, the conductive agent image extracted in the third step is compared with a standard pattern stored in advance, and the application state of the conductive agent is determined from the comparison value.

本発明によれば、塗布された導通剤の塗布状態を正確に認識でき、信頼性および生産効率の向上化を得られる等の効果を奏する。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, there exists an effect that the application | coating state of the apply | coated conductive agent can be recognized correctly and the improvement of reliability and production efficiency can be acquired.

以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図1は、表示パネルとして、たとえば液晶基板の製造装置を構成する導通剤塗布装置Sを概略的に示している。
この導通剤塗布装置Sには、ガラス基板上の表示領域となる部分にTFT(Thin Film Transistor)が形成されるアレイ基板が搬入される。このアレイ基板には配向膜が形成され、この配向膜に対して配向処理が施されている。上記表示領域を囲むようにシール剤が塗布され、導通剤塗布装置Sの搬出側において上記シール剤を介して対向基板が貼り合せられ、液晶基板が形成される。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 schematically shows a conductive agent coating apparatus S that constitutes, for example, a liquid crystal substrate manufacturing apparatus as a display panel.
In this conductive agent coating apparatus S, an array substrate on which TFTs (Thin Film Transistors) are formed in a portion serving as a display area on the glass substrate is carried. An alignment film is formed on the array substrate, and an alignment process is performed on the alignment film. A sealing agent is applied so as to surround the display area, and a counter substrate is bonded to the conductive agent applying device S on the carry-out side via the sealing agent to form a liquid crystal substrate.

上記導通剤塗布装置Sは、筐体1上面に設けられるX軸テーブル2と、このX軸テーブル2上に載置されるY軸テーブル3と、このY軸テーブル上に載置固定される基板ステージ4を備えている。
さらに、筐体1上面の左右両側部に図示しない支柱が立設され、これら支柱間に横架フレーム5が設けられている。この横架フレーム5にはZ軸駆動機構である昇降機構6を介して塗布機構7が設けられる。
The conductive agent coating apparatus S includes an X-axis table 2 provided on the upper surface of the housing 1, a Y-axis table 3 placed on the X-axis table 2, and a substrate placed and fixed on the Y-axis table. Stage 4 is provided.
Furthermore, support columns (not shown) are erected on both the left and right sides of the upper surface of the housing 1, and a horizontal frame 5 is provided between these support columns. The horizontal frame 5 is provided with a coating mechanism 7 via an elevating mechanism 6 that is a Z-axis drive mechanism.

上記基板ステージ4は、後述するアレイ基板を載置するためのものであり、セラミックス素材(白色)から構成されることには変わりがない。したがって、アレイ基板に導通剤を塗布した後、図示しないピンがアレイ基板を突き上げて基板ステージ4から剥離する際の静電摩擦の発生はない。   The substrate stage 4 is for placing an array substrate, which will be described later, and is made of a ceramic material (white). Therefore, after applying the conductive agent to the array substrate, there is no generation of electrostatic friction when a pin (not shown) pushes up the array substrate and peels from the substrate stage 4.

上記塗布機構7は、ここでは両側部の2組が仮止め剤を塗布するための、仮止め剤塗布ヘッド8と、これら仮止め剤塗布ヘッドに挟まれた複数(4組)の、導通剤を塗布するための導通剤塗布ヘッド9とから構成される。仮止め剤塗布ヘッド8および導通剤塗布ヘッド9とも個々に上記昇降機構6に設けられているので、Z軸方向に個々に昇降制御されるようになっている。   Here, the application mechanism 7 includes a temporary fixing agent application head 8 for applying a temporary fixing agent to two sets on both sides, and a plurality (four sets) of conductive agents sandwiched between these temporary fixing agent application heads. And a conductive agent coating head 9 for coating the liquid. Since both the temporary fixing agent application head 8 and the conductive agent application head 9 are individually provided in the elevating mechanism 6, the elevating control is individually performed in the Z-axis direction.

上記横架フレーム5の背面側には、仮止め剤塗布ヘッド8および導通剤塗布ヘッド9を個々に運転制御するための制御装置10が設けられていて、これら制御装置には後述するように導通剤の塗布状態を検出する検出装置(検出手段)11を内蔵している。   On the back side of the horizontal frame 5, there are provided control devices 10 for individually controlling the operation of the temporary fixing agent application head 8 and the conductive agent application head 9. A detection device (detection means) 11 for detecting the application state of the agent is incorporated.

図2は、上記導通剤塗布ヘッド9を拡大し、かつ概略的な正面図である。
上記昇降機構6に対して、導通剤塗布ヘッド9を構成するヘッド本体12が直接的に支持される。このヘッド本体12の下部に供給ノズル13が取付けられていて、導通剤(たとえば銀ペースト)を貯溜する図示しない貯溜部と配管を介して連通している。
FIG. 2 is an enlarged schematic view of the conductive agent application head 9.
A head main body 12 constituting the conductive agent application head 9 is directly supported on the lifting mechanism 6. A supply nozzle 13 is attached to the lower portion of the head body 12 and communicates with a reservoir (not shown) that stores a conductive agent (for example, silver paste) via a pipe.

ヘッド本体12に設けられる供給ノズル13の側方部位(右側)にはランプ機構(照明手段)14が取付けられるとともに、供給ノズル13を介してランプ機構14の反対側部位(左側)にはカメラ機構(撮像手段)15が取付けられる。これらランプ機構14とカメラ機構15および供給ノズル13は、全てヘッド本体12に取付けられるところから、一体に昇降駆動される。   A lamp mechanism (illuminating means) 14 is attached to a side portion (right side) of the supply nozzle 13 provided in the head body 12, and a camera mechanism is attached to the opposite side portion (left side) of the lamp mechanism 14 via the supply nozzle 13. An (imaging means) 15 is attached. The lamp mechanism 14, the camera mechanism 15, and the supply nozzle 13 are all driven up and down as they are attached to the head body 12.

上記供給ノズル13は、先端部13aが垂直下方に向けられていて、この先端部13aから導通剤を供給できるようになっている。また、上記ランプ機構14のランプ14aは、その光軸d1が供給ノズル13の中心軸d2に向けられ、供給ノズル中心軸d2とランプ光軸d1との交差位置が、供給ノズル先端部13a端面から所定距離α(たとえば、3mm)だけ下方部位になるよう設定されている。   The supply nozzle 13 has a tip portion 13a directed vertically downward, and can supply a conducting agent from the tip portion 13a. The lamp 14a of the lamp mechanism 14 has its optical axis d1 directed toward the central axis d2 of the supply nozzle 13, and the intersection position of the supply nozzle central axis d2 and the lamp optical axis d1 is from the end surface of the supply nozzle tip 13a. It is set to be a lower part by a predetermined distance α (for example, 3 mm).

一方、上記カメラ機構15は、この先端部に設けられる受光レンズ15aの光軸d3が、供給ノズル中心軸d2とランプ光軸d1との交差位置に向くように設定されている。すなわち、カメラ機構光軸d3と供給ノズル中心軸d2との交差する位置が、供給ノズル先端部13aの端面から所定距離α(たとえば3mm)だけ下方部位になるよう角度調整して取付けられる。   On the other hand, the camera mechanism 15 is set so that the optical axis d3 of the light receiving lens 15a provided at the tip thereof is directed to the intersection of the supply nozzle central axis d2 and the lamp optical axis d1. In other words, the camera mechanism optical axis d3 and the supply nozzle central axis d2 are attached with the angle adjusted so that the position where the camera mechanism optical axis d3 and the supply nozzle central axis d2 intersect is a predetermined distance α (for example, 3 mm) from the end surface of the supply nozzle tip 13a.

図3は供給ノズル13を拡大するとともに、供給ノズル13に対するランプ機構14のランプ14aとカメラ機構15の受光レンズ15aの配置関係を概略的に示す図であり、図4(A)は供給ノズル先端部13aを拡大した断面図、図4(B)はノズル先端部13aの上面図である。   FIG. 3 is an enlarged view of the supply nozzle 13 and schematically shows the positional relationship between the lamp 14a of the lamp mechanism 14 and the light receiving lens 15a of the camera mechanism 15 with respect to the supply nozzle 13, and FIG. FIG. 4B is an enlarged cross-sectional view of the portion 13a, and FIG. 4B is a top view of the nozzle tip portion 13a.

上記供給ノズル13は、上記ヘッド本体12に取付けられるフランジ部13bを備え、このフランジ部13bから先端部(下端部)13aに亘って漸次尖鋭状に形成される。中心軸d2に沿って導通剤を供給するための供給孔16が設けられ、先端部13a端面にて開口される。   The supply nozzle 13 includes a flange portion 13b attached to the head main body 12, and is formed to be gradually sharpened from the flange portion 13b to the tip end portion (lower end portion) 13a. A supply hole 16 for supplying a conductive agent is provided along the central axis d2, and is opened at the end surface of the tip portion 13a.

特に、供給ノズル13の先端部13aは、所定の均一な細径に形成されるとともに、端面一部が斜めに切欠加工される。なお説明すれば、ノズル先端部13a端面を中心軸d2を介して2つ割り状態にしたとき、その一方側を中心軸d2とは直交する方向である、上記アレイ基板a面と平行に形成した面となし、これを第1の面e1と呼び、他方側を第1の面e1に対して斜め45°に傾斜した面となし、これを第2の面e2と呼ぶ。   In particular, the tip portion 13a of the supply nozzle 13 is formed to have a predetermined uniform small diameter, and a part of the end surface is obliquely cut out. In other words, when the end surface of the nozzle tip portion 13a is divided into two through the central axis d2, one side thereof is formed in parallel to the surface of the array substrate a, which is a direction orthogonal to the central axis d2. This is called a first surface e1, and the other side is a surface inclined at an angle of 45 ° with respect to the first surface e1, and this is called a second surface e2.

上記供給孔16は、その半分面積が第1の面e1に開口され、残りの半分面積が第2の面e2に開口される。このことから、ノズル先端部13a端面をアレイ基板aに当接して供給孔16から導通剤を供給する状態で、第1の面e1がアレイ基板aに密に接触するようになっている。また、第2の面e2は、アレイ基板aに対して斜めに隙間が形成されていて、第2の面e2側からより多くの量の導通剤cを供給できるようになっている。   A half area of the supply hole 16 is opened in the first surface e1, and the remaining half area is opened in the second surface e2. Therefore, the first surface e1 comes into close contact with the array substrate a in a state in which the end surface of the nozzle tip 13a is in contact with the array substrate a and the conductive agent is supplied from the supply hole 16. Further, the second surface e2 has a gap formed obliquely with respect to the array substrate a, so that a larger amount of the conductive agent c can be supplied from the second surface e2 side.

上記ランプ機構14は、ノズル先端部13aの第1の面e1側に配置され、上記カメラ機構15は第2の面e2側に配置される。そして、上述したように供給ノズル13の中心軸d2に対するランプ機構14のランプ14a光軸d1と、カメラ機構15の受光レンズ15a光軸d3の向き設定がなされている。実際に、ランプ機構14とカメラ機構15の、それぞれの光軸d1,d3におけるアレイ基板aに対する傾斜は、たとえば45°に傾けられる。   The ramp mechanism 14 is disposed on the first surface e1 side of the nozzle tip 13a, and the camera mechanism 15 is disposed on the second surface e2 side. As described above, the orientations of the optical axis d1 of the lamp 14a of the lamp mechanism 14 and the optical axis d3 of the light receiving lens 15a of the camera mechanism 15 with respect to the central axis d2 of the supply nozzle 13 are set. Actually, the inclination of the lamp mechanism 14 and the camera mechanism 15 with respect to the array substrate a in the respective optical axes d1 and d3 is inclined, for example, 45 °.

再び図1に示すように、上記制御装置10は、X軸テーブル2と、Y軸テーブル3と、昇降機構6を駆動制御するとともに、上記ランプ機構14の点灯−消灯切換え制御およびカメラ機構15の撮像タイミングの制御をなす。上記検出装置11は、上記カメラ機構15から送られる撮像信号を受けて画像の明暗(黒・白)となる閾値で2値化処理を行い、その撮像パターンを予め記憶された標準パターンと比較して撮像対象の認識を行う。   As shown in FIG. 1 again, the control device 10 drives and controls the X-axis table 2, the Y-axis table 3, and the elevating mechanism 6, and turns on / off switching control of the lamp mechanism 14 and the camera mechanism 15. Control imaging timing. The detection device 11 receives the imaging signal sent from the camera mechanism 15 and performs binarization processing with a threshold value that makes the image light and dark (black / white), and compares the imaging pattern with a pre-stored standard pattern. To recognize the imaging target.

図5は、たとえば携帯電話用として複数の液晶画面a1が形成された液晶基板Aの平面図であり、図6(A)は1つの液晶画面a1を拡大した図であり、図6(B)は導通剤cである短絡バンプ電極Cを介してアレイ基板aと対向基板bが接続される状態を模式的に示す断面図である。   FIG. 5 is a plan view of a liquid crystal substrate A on which a plurality of liquid crystal screens a1 are formed, for example, for a cellular phone. FIG. 6A is an enlarged view of one liquid crystal screen a1, and FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a state where the array substrate a and the counter substrate b are connected via a short-circuit bump electrode C which is a conductive agent c.

図5に示すように、液晶画面a1を構成する線は、配線パターンの区切りを表現している。図6(A)に示すように、導通剤cは1つの液晶画面a1の隅部に1点だけ塗布され、アレイ基板aと対向基板bを接続した状態で短絡バンプ電極Cとなる。実際には、図6(B)に示すように、アレイ基板aに設けられる電極f上に導通剤cが塗布され、対向基板bとアレイ基板電極fとを接続することにより、アレイ基板aと対向基板bとを同電位にする。   As shown in FIG. 5, the lines constituting the liquid crystal screen a1 represent the separation of the wiring pattern. As shown in FIG. 6A, the conductive agent c is applied to only one corner of one liquid crystal screen a1, and becomes a short-circuit bump electrode C in a state where the array substrate a and the counter substrate b are connected. Actually, as shown in FIG. 6B, a conductive agent c is applied on the electrode f provided on the array substrate a, and the counter substrate b and the array substrate electrode f are connected to each other. The counter substrate b is set to the same potential.

図7(A)は導通剤cの塗布状態を説明する図であり、ここではランプ機構14とカメラ機構15は図示していない。図7(B)は塗布された導通剤cの検出状態を説明する図、図7(C)は塗布された導通剤cの平面図である。   FIG. 7A is a diagram for explaining the application state of the conductive agent c. Here, the lamp mechanism 14 and the camera mechanism 15 are not shown. FIG. 7B is a diagram for explaining a detection state of the applied conductive agent c, and FIG. 7C is a plan view of the applied conductive agent c.

供給ノズル13が下降してアレイ基板電極fの所定位置に当接し、下降を停止する。タイミングをとって、供給孔16から導通剤cである銀ペーストが供給される。このとき、ノズル先端部13aの端面に形成される第1の面e1がアレイ基板電極fに当接し、第2の面e2はアレイ基板電極fと斜めの隙間が形成される。   The supply nozzle 13 descends and comes into contact with a predetermined position of the array substrate electrode f and stops descending. At a timing, the silver paste as the conductive agent c is supplied from the supply hole 16. At this time, the first surface e1 formed on the end surface of the nozzle tip portion 13a contacts the array substrate electrode f, and the second surface e2 forms an oblique gap with the array substrate electrode f.

したがって、第1の面e1側において導通剤cの塗布量は僅かであるのに対して、第2の面e2側において導通剤cの塗布量は極めて大になる。なお説明すると、第1の面e1側では供給孔16の半分の開口面積分しか供給されないが、第2の面e2側ではアレイ基板電極fと第2の面e2との隙間からはみ出した状態で塗布される。   Therefore, while the application amount of the conductive agent c is small on the first surface e1 side, the application amount of the conductive agent c is extremely large on the second surface e2 side. In other words, only half of the opening area of the supply hole 16 is supplied on the first surface e1 side, but the second surface e2 side protrudes from the gap between the array substrate electrode f and the second surface e2. Applied.

導通剤cの塗布状態を正面視で見ると、ノズル先端部13aの第1の面e1側から第2の面e2にかけて、第2の面e2の傾斜に沿って斜めに盛り上がり、この外形位置はノズル先端部13aの外形よりも外側へ膨出している。導通剤cの平面塗布状態は、第1の面e1側では上記供給孔16の内径に沿う半円形状であるのに対して、第2の面e2側では扇状に形成される。   When the application state of the conductive agent c is viewed from the front, the nozzle tip 13a swells obliquely along the inclination of the second surface e2 from the first surface e1 side to the second surface e2, and this outer shape position is It bulges outward from the outer shape of the nozzle tip 13a. The planar application state of the conductive agent c is a semicircular shape along the inner diameter of the supply hole 16 on the first surface e1 side, whereas it is formed in a fan shape on the second surface e2 side.

上記供給ノズル13の供給孔16から所定量の導通剤cが塗布されたあと、供給ノズル13は所定量αだけ上昇して停止する。第1の面e1側に配置され、供給ノズル13と一体に上昇したランプ機構14はタイミングをとって点灯される。ランプ機構14の光軸d1は供給ノズル13の先端部13a端面がアレイ基板電極に接触した位置に向けられているので、この接触位置に塗布された導通剤cを照明する。   After a predetermined amount of the conductive agent c is applied from the supply hole 16 of the supply nozzle 13, the supply nozzle 13 rises by a predetermined amount α and stops. The lamp mechanism 14 disposed on the first surface e1 side and raised integrally with the supply nozzle 13 is lit at a timing. Since the optical axis d1 of the lamp mechanism 14 is directed to the position where the end surface 13a end surface of the supply nozzle 13 is in contact with the array substrate electrode, the conductive agent c applied to the contact position is illuminated.

第2の面e2側に配置され、供給ノズル13およびランプ機構14とともに上昇するカメラ機構15は、ランプ機構14から導通剤cへ投光され、この導通剤で反射した光を受けて撮像する。カメラ機構15の撮像信号は検出装置11へ送られ、2値化画像処理がなされる。   The camera mechanism 15 disposed on the second surface e2 side and rising together with the supply nozzle 13 and the lamp mechanism 14 projects light from the lamp mechanism 14 to the conducting agent c and receives and reflects light reflected by the conducting agent. The imaging signal of the camera mechanism 15 is sent to the detection device 11 and binarized image processing is performed.

図8(A)は塗布された導通剤cを拡大した断面図、図8(B)は塗布された導通剤cを拡大した平面図で、いずれもランプ機構14の照明による明暗状態を説明する図である。ここでは、矢印は照明光を示し、小×印は影を示す。×印の数が少ない部分ほど薄い影であり、×印の数が多い部分ほど濃い影を表現している。   8A is an enlarged cross-sectional view of the applied conductive agent c, and FIG. 8B is an enlarged plan view of the applied conductive agent c, both of which explain the bright and dark state by illumination of the lamp mechanism 14. FIG. Here, an arrow indicates illumination light, and a small x mark indicates a shadow. A portion with a small number of X marks represents a lighter shadow, and a portion with a larger number of X marks represents a darker shadow.

塗布された導通剤cは、ランプ機構14の照明光を直接的に受ける部分と、ランプ機構14の照明光をほとんど受けない部分とに、略二極分化される。ランプ機構14の照明光を直接的に受ける部分は、ランプ機構14が供給ノズル先端部13a端面に形成される第1の面e1側に配置され、かつ斜め位置から照明するところから、主として第1の面e1側に塗布される部分であって、照明光を受けて全反射し白く光る。   The applied conductive agent c is roughly divided into a part that directly receives the illumination light of the lamp mechanism 14 and a part that hardly receives the illumination light of the lamp mechanism 14. The portion that directly receives the illumination light of the lamp mechanism 14 is mainly the first because the lamp mechanism 14 is disposed on the first surface e1 side formed on the end surface of the supply nozzle tip 13a and illuminates from an oblique position. The surface is applied to the surface e1 side, receives the illumination light, totally reflects and shines white.

ランプ機構14による照明光をほとんど受けない部分は、主として第2の面e2側から塗布される部分であり、しかも導通剤c自体の陰となる部分であって、拡散反射して黒く見える。そして、カメラ機構15は第2の面e2側に配置され、導通剤cに向けて光軸d3が設定されているので、導通剤cおよびその周辺の電極f部分を濃淡のコントラストが鮮明になった状態で撮像できる。   A portion that hardly receives illumination light from the lamp mechanism 14 is a portion that is applied mainly from the second surface e2 side, and is a portion that is a shadow of the conductive agent c itself, and appears to be black due to diffuse reflection. The camera mechanism 15 is disposed on the second surface e2 side, and the optical axis d3 is set toward the conductive agent c. Therefore, the contrast between the conductive agent c and the surrounding electrode f portion becomes clear. You can take an image in the state.

上記カメラ機構15および検出装置11は制御装置10によって制御され、以下に述べる導通剤cの検出方法が実行される。
すなわち、供給ノズル13がアレイ基板電極fの所定距離α分だけ上方にあり、導通剤cを塗布する以前に、カメラ機構15は導通剤塗布予定部位の撮像をなす。その撮像信号は検出装置11へ送られ、検出装置は画像信号を取込んで明暗(黒・白)の閾値による2値化画像処理をなし、その画像面積を記憶する第1の工程が行われる。
The camera mechanism 15 and the detection device 11 are controlled by the control device 10, and the detection method of the conductive agent c described below is executed.
That is, the supply nozzle 13 is above the array substrate electrode f by a predetermined distance α, and before applying the conductive agent c, the camera mechanism 15 images the planned conductive agent application site. The image pickup signal is sent to the detection device 11, and the detection device takes in the image signal, performs binarized image processing with a threshold value of light and dark (black / white), and performs a first step of storing the image area. .

そして、供給ノズル13がアレイ基板電極fに導通剤cを塗布したあと所定距離α分だけ上昇し、かつランプ機構14が点灯したあとでカメラ機構15は塗布部分を撮像する。その撮像信号は検出装置11へ送られ、ここではカメラ機構15からの画像信号を取り込んで2値化画像処理をなし、その画像面積を記憶する第2の工程が行われる。   Then, after the supply nozzle 13 has applied the conductive agent c to the array substrate electrode f, the supply mechanism 13 is raised by a predetermined distance α, and after the lamp mechanism 14 is turned on, the camera mechanism 15 images the application portion. The image pickup signal is sent to the detection device 11, and here, a second step is performed in which the image signal from the camera mechanism 15 is taken in, binarized image processing is performed, and the image area is stored.

ついで、検出装置11において、導通剤塗布後の画像面積と塗布前の画像面積との差を求める演算を行う第3の工程が行われる。このようにして、塗布後画像面積と塗布前画像面積との差分から、導通剤cのみの画像面積を抽出する。
最後に、抽出した導通剤画像を予め記憶している標準パターンと比較する第4の工程が行われる。この比較値が所定の範囲内にあるとき、制御装置10は導通剤cが所定量塗布されているか否かの、塗布状態を判断して作業者に報知する。
Next, in the detection device 11, a third step of performing a calculation for obtaining a difference between the image area after applying the conductive agent and the image area before applying is performed. In this way, the image area of only the conductive agent c is extracted from the difference between the image area after application and the image area before application.
Finally, a fourth step of comparing the extracted conductive agent image with a previously stored standard pattern is performed. When the comparison value is within a predetermined range, the control device 10 determines the application state of whether or not a predetermined amount of the conductive agent c is applied and notifies the operator.

以上説明した導通剤cの塗布状態を検出する第1ないし第4の工程は、導通剤塗布ヘッド8が次の塗布位置へ移動する間に行われ、完了する。そして、導通剤塗布ヘッド8が次の塗布位置へ移動すれば、再び第1の工程から順次繰り返えされる。
このように、基板ステージ3がセラミックス素材で白色をなしていて、基板ステージ上に載置されるアレイ基板aの電極f間から基板ステージ3がそのまま見える。電極f自体を黒色処理しても、電極f上に塗布される銀ペーストからなる導通剤cは銀色をなし、通常であれば基板ステージ3の影響で白濁した画像となってしまう。
The first to fourth steps for detecting the application state of the conductive agent c described above are performed and completed while the conductive agent application head 8 moves to the next application position. When the conductive agent application head 8 moves to the next application position, the process is repeated again from the first step.
Thus, the substrate stage 3 is white with a ceramic material, and the substrate stage 3 can be seen as it is from between the electrodes f of the array substrate a placed on the substrate stage. Even if the electrode f itself is black-processed, the conductive agent c made of a silver paste applied on the electrode f has a silver color, and normally, the image becomes cloudy due to the influence of the substrate stage 3.

しかしながら本発明では、供給ノズル13の先端部13a端面を、アレイ基板aに対して平行な第1の面e1と、アレイ基板aに対して斜めに形成される第2の面e2から形成し、かつ第1の面e1側にランプ機構14を斜めにして取付け、第2の面e2側にランプ機構から投光されアレイ基板電極fで反射した光を受けて撮像するカメラ機構15を備えている。   However, in the present invention, the end surface 13a end surface of the supply nozzle 13 is formed from a first surface e1 parallel to the array substrate a and a second surface e2 formed obliquely to the array substrate a, A lamp mechanism 14 is mounted obliquely on the first surface e1 side, and a camera mechanism 15 is provided on the second surface e2 side for receiving and imaging light projected from the lamp mechanism and reflected by the array substrate electrode f. .

このことから、塗布された導通剤cの形状が、ランプ機構14に照明されて白く光る部分と、影になって黒くなる部分との濃淡のコントラストが鮮明になる。そのため、2値化画像処理をなした状態で、導通剤cの塗布状態を正確に認識でき、信頼性の向上を得られる。
また、導通剤cの検出方法として、導通剤塗布予定部位を撮像し画像処理する第1の工程と、塗布された導通剤cを撮像し画像処理する第2の工程と、導通剤塗布後の画像と塗布前の画像との差分から導通剤cのみの画像を抽出する第3の工程および、抽出した導通剤画像を予め記憶している標準パターンと比較し導通剤の塗布状態を判断する第4の工程を具備したから、導通剤cが所定量塗布されているか否かの塗布状態を正確に認識でき、生産効率の向上を得られる。
From this, the contrast of the contrast between the part where the shape of the applied conductive agent c is illuminated by the lamp mechanism 14 and glows white and the part which becomes shadow and becomes black becomes clear. Therefore, the application state of the conductive agent c can be accurately recognized in the state where the binarized image processing is performed, and the improvement in reliability can be obtained.
In addition, as a method for detecting the conductive agent c, a first step of imaging and image-processing a conductive agent application scheduled site, a second step of imaging and image-processing the applied conductive agent c, A third step of extracting an image of only the conductive agent c from the difference between the image and the image before application, and a comparison of the extracted conductive agent image with a pre-stored standard pattern to determine the application state of the conductive agent Since the process 4 is provided, it is possible to accurately recognize the application state as to whether or not a predetermined amount of the conductive agent c is applied, thereby improving the production efficiency.

なお、上述の実施の形態では表示パネルとして液晶基板を適用して説明したが、これに限定されるものではない。すなわち、表示パネルとは表示装置の表示を行う板状構造物であるから、液晶表示装置やEL表示装置に用いられるTFTアレイ基板や、プラズマディスプレイあるいは電界効果型表示装置のアレイ基板にも利用可能であることは、勿論である。   In the above-described embodiment, the liquid crystal substrate is used as the display panel. However, the present invention is not limited to this. In other words, since the display panel is a plate-like structure that displays the display device, it can be used for TFT array substrates used in liquid crystal display devices and EL display devices, and array substrates for plasma displays or field effect display devices. Of course.

そして、本発明は上述した実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。そして、上述した実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより種々の発明を形成できる。   The present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the scope of the invention in the implementation stage. Various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the above-described embodiments.

本発明の実施の形態に係る、表示パネルである液晶基板の製造装置を構成する導通剤塗布装置の外観斜視図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is an external perspective view of a conductive agent coating device constituting a liquid crystal substrate manufacturing apparatus that is a display panel according to an embodiment of the present invention. 同実施の形態に係る、導通剤塗布装置に備えられる塗布ヘッドの概略の正面図。The schematic front view of the application | coating head with which the electrically conductive agent application | coating apparatus based on the embodiment is equipped. 同実施の形態に係る、導通剤を塗布する供給ノズルと、ランプ機構およびカメラ機構の配置を説明する図。The figure explaining arrangement | positioning of the supply nozzle which apply | coats a conductive agent, a lamp mechanism, and a camera mechanism based on the embodiment. 同実施の形態に係る、供給ノズルの先端部を拡大した断面図。Sectional drawing which expanded the front-end | tip part of the supply nozzle based on the embodiment. 同実施の形態に係る、アレイ基板の平面図。The top view of the array substrate based on the embodiment. 同実施の形態に係る、アレイ基板の一画面を拡大した図と、アレイ基板電極と対向基板とを短絡バンプ電極を介して接続する状態を模式的に表す図。The figure which expanded the screen of the array substrate based on the embodiment, and the figure which represents typically the state which connects an array substrate electrode and a counter substrate via a short circuit bump electrode. 同実施の形態に係る、供給ノズルから導通剤をアレイ基板電極に塗布する状態を表す図と、塗布された導通剤に対する照明と撮像の状態を説明する図および塗布された導通剤の平面図。The figure showing the state which apply | coats a conductive agent to an array substrate electrode from a supply nozzle based on the embodiment, the figure explaining the illumination with respect to the applied conductive agent, and the state of imaging, and the top view of the apply | coated conductive agent. 同実施の形態に係る、導通剤を拡大した断面図および平面図。Sectional drawing and the top view which expanded the electrically conductive agent based on the embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

c…導通剤、C…短絡バンプ電極、a…アレイ基板、b…対向基板、e1…第1の面、e2…第2の面、16…供給孔、13…供給ノズル、14…ランプ機構(照明手段)、15…カメラ機構(撮像手段)、10…検出装置(検出手段)。   c ... conductive agent, C ... short-circuit bump electrode, a ... array substrate, b ... counter substrate, e1 ... first surface, e2 ... second surface, 16 ... supply hole, 13 ... supply nozzle, 14 ... lamp mechanism ( Illuminating means), 15... Camera mechanism (imaging means), 10... Detecting device (detecting means).

Claims (3)

導通剤から形成される短絡バンプ電極を介してアレイ基板と対向基板とが接続される表示パネルを製造する表示パネルの製造装置において、
先端部が、上記アレイ基板に対して平行な第1の面およびアレイ基板に対して斜めに形成される第2の面を有するとともに、アレイ基板に導通剤を供給する供給孔が開口され、導通剤供給時は先端部をアレイ基板に接触し、供給後は先端部をアレイ基板から離間するよう昇降自在に駆動されるノズルと、
このノズル先端部の第1の面側に、ノズルと一体に支持され、ノズル先端部がアレイ基板から離間した状態で、ノズル先端部のアレイ基板接触位置に対して斜め方向から光軸を向ける照明手段と、
上記ノズル先端部の第2の面側に、ノズルと一体に支持され、上記照明手段から投光されアレイ基板で反射した光を受けて撮像する撮像手段と、
この撮像手段の撮像信号を受けて画像処理し、導通剤の塗布状態を検出する検出手段とを具備することを特徴とする表示パネルの製造装置。
In a display panel manufacturing apparatus for manufacturing a display panel in which an array substrate and a counter substrate are connected via a short-circuit bump electrode formed from a conductive agent,
The front end portion has a first surface parallel to the array substrate and a second surface formed obliquely with respect to the array substrate, and a supply hole for supplying a conductive agent to the array substrate is opened. When supplying the agent, the tip is brought into contact with the array substrate, and after supply, the nozzle is driven to be movable up and down so as to separate the tip from the array substrate;
Illumination that is supported integrally with the nozzle on the first surface side of the nozzle tip and directs the optical axis from an oblique direction with respect to the array substrate contact position of the nozzle tip with the nozzle tip separated from the array substrate Means,
An imaging unit that is supported integrally with the nozzle on the second surface side of the nozzle tip, receives and projects light projected from the illumination unit and reflected by the array substrate; and
An apparatus for manufacturing a display panel, comprising: a detecting unit that receives an imaging signal of the imaging unit and performs image processing to detect an application state of the conductive agent.
上記ノズルの先端部は、ノズルの中心軸を介して2つ割りにした状態で、その一方側を第1の面とし、他方側を第2の面としたことを特徴とする請求項1記載の表示パネルの製造装置。   The tip of the nozzle is divided into two via the central axis of the nozzle, and one side thereof is defined as a first surface and the other side is defined as a second surface. Display panel manufacturing equipment. 請求項1記載の上記表示パネルの製造装置を用いて、アレイ基板に導通剤を塗布する以前の、導通剤塗布予定部位の撮像をなし、画像信号を取り込んで画像処理する第1の工程と、
アレイ基板に導通剤を塗布したあと、その塗布状態を撮像し、撮像信号を取込んで画像処理する第2の工程と、
第2の工程で得られた導通剤塗布後の画像面積から、第1の工程で得られた導通剤塗布前の画像面積の差分を求め、この差分から塗布された導通剤のみの画像面積を抽出する第3の工程と、
第3の工程で抽出した導通剤画像を、予め記憶している標準パターンと比較し、その比較値から導通剤の塗布状態を判断する第4の工程と
を具備することを特徴とする導通剤の検出方法。
Using the display panel manufacturing apparatus according to claim 1, imaging a conductive agent application planned site before applying the conductive agent to the array substrate, capturing an image signal, and performing image processing;
After applying the conductive agent to the array substrate, the second step of imaging the application state, capturing the imaging signal, and image processing;
From the image area after applying the conductive agent obtained in the second step, the difference in the image area before applying the conductive agent obtained in the first step is obtained, and the image area of only the applied conductive agent is obtained from this difference. A third step of extracting;
A conducting agent comprising: a conducting agent image extracted in the third step, and a fourth step of comparing the preliminarily stored standard pattern and judging the application state of the conducting agent from the comparison value. Detection method.
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