JP2006152130A - Coating agent composition and optical information medium using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、各種物体の表面に、帯電防止性に優れる保護コート層を形成するために有用なコーティング剤組成物に関する。 The present invention relates to a coating composition useful for forming a protective coating layer having excellent antistatic properties on the surface of various objects.
また、本発明は、前記コーティング剤組成物を用いて形成された帯電防止性に優れる保護コート層を表面に有する物体に関する。表面に保護コート層の付与が必要とされる物体としては、光情報媒体、光学レンズ、光学フィルター、反射防止膜、及び液晶ディスプレー、ＣＲＴディスプレー、プラズマディスプレー、ＥＬディスプレー等の各種表示素子等が含まれる。 The present invention also relates to an object having on its surface a protective coating layer that is formed using the coating agent composition and has excellent antistatic properties. Objects that require a protective coating layer on the surface include optical information media, optical lenses, optical filters, antireflection films, and various display elements such as liquid crystal displays, CRT displays, plasma displays, EL displays, etc. It is.
特に、本発明は、前記コーティング剤組成物を用いて形成された保護コート層を表面に有する、再生専用光ディスク、光記録ディスク、光磁気記録ディスク等の光情報媒体に関し、より特別には、記録及び／又は再生ビーム入射側表面の帯電防止性にも優れる光情報媒体に関する。 In particular, the present invention relates to an optical information medium such as a reproduction-only optical disc, an optical recording disc, or a magneto-optical recording disc having a protective coating layer formed using the coating agent composition on the surface, and more particularly, recording. In addition, the present invention relates to an optical information medium having excellent antistatic properties on the reproduction beam incident side surface.
再生専用光ディスク、光記録ディスク、光磁気記録ディスク等の光情報媒体の表面には、塵埃や大気中のオイルミスト等の付着を防ぐために帯電防止性が要求される。 The surface of an optical information medium such as a read-only optical disk, an optical recording disk, or a magneto-optical recording disk is required to have antistatic properties in order to prevent adhesion of dust or oil mist in the atmosphere.
また、光情報媒体以外について見れば、例えば、光学レンズ、光学フィルター、反射防止膜、及び液晶ディスプレー、ＣＲＴディスプレー、プラズマディスプレー、ＥＬディスプレー等の各種表示素子等の表面にも、光ディスクの場合と同様に、塵埃や大気中のオイルミスト等の付着を防ぐために帯電防止性が要求される。 In addition to optical information media, for example, optical lenses, optical filters, antireflection films, and the surface of various display elements such as liquid crystal displays, CRT displays, plasma displays, EL displays, etc. are the same as in the case of optical disks. In addition, antistatic properties are required to prevent adhesion of dust and oil mist in the atmosphere.
光ディスクや上記各種物体の表面には、通常、紫外線硬化性材料の硬化物からなる保護コート層が設けられる。このような保護コート層は絶縁性であり、静電気による帯電現象が起こる。 A protective coat layer made of a cured product of an ultraviolet curable material is usually provided on the surface of the optical disk or the above various objects. Such a protective coating layer is insulative and causes a charging phenomenon due to static electricity.
特開平３−１５３７６９号公報には、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、又はこれらの誘導体をセグメントとして含有する（メタ）アクリレート化合物（Ａ）と、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩又はプロトン酸の少なくとも１種（Ｂ）と、（Ａ）以外のエチレン性不飽和基含有化合物（Ｃ）とを含む帯電防止性樹脂組成物ないしは光ディスク用材料が開示されている。（Ｂ）成分のうち、アルカリ金属塩としては、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、ヨウ化ナトリウム（ＮａＩ）、ヨウ化リチウム（ＬｉＩ）、過塩素酸リチウム（ＬｉＣｌＯ4 ）、チオシアン酸ナトリウム（ＮａＳＣＮ）、チオシアン酸カリウム（ＫＳＣＮ）、チオシアン酸セシウム（ＣｓＳＣＮ）、トリフッ化メタンスルホン酸リチウム（ＬｉＣＦ3 ＳＯ3 ）、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ4 ）、ヘキサフッ化リン酸リチウム（ＬｉＰＦ6 ）が挙げられ、好ましいものとして過塩素酸リチウム、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウムが挙げられている。 JP-A-3-153769 discloses a (meth) acrylate compound (A) containing polyethylene glycol, polypropylene glycol, or a derivative thereof as a segment, and at least one of an alkali metal salt, an alkaline earth metal salt, or a protonic acid. An antistatic resin composition or an optical disc material containing a seed (B) and an ethylenically unsaturated group-containing compound (C) other than (A) is disclosed. Among the components (B), alkali metal salts include lithium fluoride (LiF), sodium iodide (NaI), lithium iodide (LiI), lithium perchlorate (LiClO 4 ), sodium thiocyanate (NaSCN), Preferred examples include potassium thiocyanate (KSCN), cesium thiocyanate (CsSCN), lithium trifluoromethanesulfonate (LiCF 3 SO 3 ), lithium borofluoride (LiBF 4 ), and lithium hexafluorophosphate (LiPF 6 ). As lithium perchlorate, sodium thiocyanate, and potassium thiocyanate.
特開平６−３２９８１９号公報は帯電防止性保護膜のコーティング方法に関し、[0007]には、帯電防止剤が、分子内にアクリロイル基を少なくとも１個有するアミド化合物等であり、前記化合物は、紫外線照射で硬化し、紫外線硬化性樹脂の保護膜中に固定されることが開示されている。[0017]には、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミドが挙げられている。 JP-A-6-329819 relates to a method for coating an antistatic protective film. [0007] In [0007], the antistatic agent is an amide compound having at least one acryloyl group in the molecule, and the compound is an ultraviolet ray. It is disclosed that it is cured by irradiation and fixed in a protective film of an ultraviolet curable resin. [0017] includes N, N-dimethyl (meth) acrylamide.
特開２００３−１７３５７５号公報には、記録／再生レーザー光が薄膜カバー層（Ｘ）を通して記録層に照射される光ディスクにおいて、光ディスク支持基体上に記録層が形成され、記録層上に５０〜１５０μｍ厚の薄膜カバー層（Ｘ）が形成され、薄膜カバー層（Ｘ）上に０．０５〜２０μｍ厚のハードコート層（Ｙ）が形成され、薄膜カバー層（Ｘ）は特定の活性エネルギー線硬化性組成物（Ｐ）の硬化物層であり、ハードコート層（Ｙ）は修飾コロイド状シリカを含む特定の活性エネルギー線硬化性組成物（Ｑ）の硬化物層である光ディスクが開示されている。[0027]には、組成物（Ｐ）には帯電防止剤が含まれてもよいこと、[0044]には、組成物（Ｑ）には帯電防止剤が含まれてもよいことが開示され、[0031]には、帯電防止剤として、ノニオン系帯電防止剤、カチオン系帯電防止剤、アニオン系帯電防止剤が挙げられている。 In JP-A-2003-173575, a recording layer is formed on an optical disc support base in an optical disc in which recording / reproducing laser light is irradiated onto the recording layer through a thin film cover layer (X), and 50 to 150 μm is formed on the recording layer. A thin film cover layer (X) having a thickness is formed, and a hard coat layer (Y) having a thickness of 0.05 to 20 μm is formed on the thin film cover layer (X). The thin film cover layer (X) is cured with a specific active energy ray. An optical disc is disclosed in which a hardened layer (Y) is a hardened layer of a specific active energy ray-curable composition (Q) containing a modified colloidal silica. . [0027] discloses that the composition (P) may contain an antistatic agent, and [0044] discloses that the composition (Q) may contain an antistatic agent. , [0031] include nonionic antistatic agents, cationic antistatic agents, and anionic antistatic agents as antistatic agents.
しかしながら、上記の従来技術では、十分な帯電防止性を有する保護コート層は得られなかった。特に、光ディスクや各種表示素子の使用環境下における長期の使用によっても十分な帯電防止性を維持しうる保護コート層は得られなかった。 However, the above-described conventional technology cannot provide a protective coating layer having sufficient antistatic properties. In particular, a protective coating layer capable of maintaining sufficient antistatic properties even when used for a long period of time in an environment where optical disks and various display elements are used has not been obtained.
そこで、本発明の目的は、各種物体の表面に、帯電防止性に優れる保護コート層を形成するために有用なコーティング剤組成物を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a coating agent composition useful for forming a protective coating layer having excellent antistatic properties on the surface of various objects.
また、本発明の目的は、前記コーティング剤組成物を用いて形成された帯電防止性に優れる保護コート層を表面に有する物体を提供することにある。 Moreover, the objective of this invention is providing the object which has the protective coating layer excellent in the antistatic property formed using the said coating agent composition on the surface.
特に、本発明の目的は、記録及び／又は再生ビーム入射側表面の帯電防止性に優れる光情報媒体を提供することにある。 In particular, an object of the present invention is to provide an optical information medium having excellent antistatic properties on the recording and / or reproducing beam incident side surface.
本発明者らは、鋭意検討した結果、アルカリ金属塩とアクリルアミド誘導体とを共に用いることによって、帯電防止性に非常に優れる保護コート層を形成することのできるコーティング剤組成物が得られることを見いだした。 As a result of intensive studies, the present inventors have found that a coating agent composition capable of forming a protective coating layer having excellent antistatic properties can be obtained by using both an alkali metal salt and an acrylamide derivative. It was.
本発明には、以下の発明が含まれる。
(1) アルカリ金属塩（Ａ）と、下記一般式（Ｉ）：
ＣＨ2 ＝Ｃ（Ｒ1 ）ＣＯＮＲ2 Ｒ3 （Ｉ）
（式（１）において、Ｒ1 は、水素原子又はメチル基を表し、
Ｒ2 及びＲ3 は、同一又は異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表し、ただし、Ｒ2 及びＲ3 の両者が水素原子であることはない。）
で示されるアクリルアミド誘導体（Ｂ）と、分子内に２つ以上の活性エネルギー線重合性基を有する硬化性化合物（Ｃ）とを含むコーティング剤組成物。
The present invention includes the following inventions.
(1) Alkali metal salt (A) and the following general formula (I):
CH 2 = C (R 1 ) CONR 2 R 3 (I)
(In the formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group,
R 2 and R 3 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group, provided that both R 2 and R 3 are not hydrogen atoms. )
The coating agent composition containing the acrylamide derivative (B) shown by (2), and the sclerosing | hardenable compound (C) which has two or more active energy ray polymeric groups in a molecule | numerator.
(2) アルカリ金属塩（Ａ）は、イミド化合物のアルカリ金属塩である、(1) に記載のコーティング剤組成物。 (2) The coating agent composition according to (1), wherein the alkali metal salt (A) is an alkali metal salt of an imide compound.
(3) 前記コーティング剤組成物は、組成物中の不揮発分１００重量部に対して、アルカリ金属塩（Ａ）０．４重量部以上５重量部以下、アクリルアミド誘導体（Ｂ）０．２重量部以上１５重量部以下を含む、(1) 又は(2) に記載のコーティング剤組成物。不揮発分には、アルカリ金属塩（Ａ）、アクリルアミド誘導体（Ｂ）及び硬化性化合物（Ｃ）の他、後述する無機微粒子、光重合開始剤、各種添加剤等の任意成分が含まれる。 (3) The coating agent composition comprises 0.4 to 5 parts by weight of the alkali metal salt (A) and 0.2 parts by weight of the acrylamide derivative (B) with respect to 100 parts by weight of the nonvolatile content in the composition. The coating agent composition according to (1) or (2), comprising 15 parts by weight or less. In addition to the alkali metal salt (A), the acrylamide derivative (B), and the curable compound (C), the nonvolatile component includes optional components such as inorganic fine particles, a photopolymerization initiator, and various additives described later.
(4) アルカリ金属塩（Ａ）は、スルホンイミド化合物のアルカリ金属塩である、(1) 〜(3) のうちのいずれかに記載のコーティング剤組成物。 (4) The coating agent composition according to any one of (1) to (3), wherein the alkali metal salt (A) is an alkali metal salt of a sulfonimide compound.
(5) アルカリ金属塩（Ａ）は、フッ素化アルキルスルホンイミド化合物のリチウム塩である、(1) 〜(4) のうちのいずれかに記載のコーティング剤組成物。 (5) The coating agent composition according to any one of (1) to (4), wherein the alkali metal salt (A) is a lithium salt of a fluorinated alkylsulfonimide compound.
以上のコーティング剤組成物は、各種表示素子の保護コート層材料、特に光情報媒体用の保護コート層材料として有用である。 The above coating agent composition is useful as a protective coat layer material for various display elements, particularly as a protective coat layer material for optical information media.
(6) (1) 〜(5) のうちのいずれかに記載のコーティング剤組成物の硬化物を含む保護コート層が表面に付与された物体。
本発明において、表面にハードコート層の付与が必要とされる物体としては、例えば、光情報媒体、光学レンズ、光学フィルター、反射防止膜、及び液晶ディスプレー、ＣＲＴディスプレー、プラズマディスプレー、ＥＬディスプレー等の各種表示素子等が含まれる。
(6) An object having a surface provided with a protective coating layer containing a cured product of the coating agent composition according to any one of (1) to (5).
In the present invention, examples of the object requiring a hard coat layer on the surface include optical information media, optical lenses, optical filters, antireflection films, liquid crystal displays, CRT displays, plasma displays, EL displays, and the like. Various display elements are included.
(7) 支持基体上に、少なくとも記録層又は反射層を含む、１層又は複数層から構成される膜体を有する光情報媒体であって、前記支持基体側表面及び前記膜体側表面のうちの少なくとも一方の表面が、(1) 〜(5) のうちのいずれかに記載のコーティング剤組成物の硬化物を含む保護コート層によって形成されている光情報媒体。 (7) An optical information medium having a film body composed of one layer or a plurality of layers including at least a recording layer or a reflective layer on a support substrate, wherein the support substrate side surface and the film body side surface An optical information medium in which at least one surface is formed by a protective coating layer containing a cured product of the coating agent composition according to any one of (1) to (5).
(8) 支持基体上に情報記録層と、情報記録層上の光透過層とを有し、光透過層上に、(1) 〜(5) のうちのいずれかに記載のコーティング剤組成物の硬化物を含む保護コート層を有する光情報媒体。 (8) The coating composition according to any one of (1) to (5), having an information recording layer on a support substrate and a light transmission layer on the information recording layer, An optical information medium having a protective coating layer containing a cured product of the above.
(9) 前記光透過層は、活性エネルギー線硬化性材料の硬化物から構成されている、(8) に記載の光情報媒体。 (9) The optical information medium according to (8), wherein the light transmission layer is formed of a cured product of an active energy ray curable material.
本発明において、光情報媒体には、再生専用光ディスク、光記録ディスク、光磁気記録ディスク等の各種の媒体が含まれる。 In the present invention, the optical information medium includes various media such as a read-only optical disk, an optical recording disk, and a magneto-optical recording disk.
本発明によれば、各種物体の表面に、帯電防止性に優れる保護コート層を形成するために有用なコーティング剤組成物が提供される。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the coating agent composition useful in order to form the protective coating layer excellent in antistatic property on the surface of various objects is provided.
また、本発明によれば、前記コーティング剤組成物を用いて形成された帯電防止性に優れる保護コート層を表面に有する物体が提供される。 Moreover, according to this invention, the object which has the protective coating layer excellent in the antistatic property formed using the said coating agent composition on the surface is provided.
特に、本発明によれば、記録及び／又は再生ビーム入射側表面の帯電防止性に優れる光情報媒体が提供される。 In particular, according to the present invention, an optical information medium having excellent antistatic properties on the recording and / or reproducing beam incident side surface is provided.
まず、本発明のコーティング剤組成物について説明する。 First, the coating agent composition of the present invention will be described.
本発明のコーティング剤組成物は、アルカリ金属塩（Ａ）と、前記一般式（Ｉ）で示されるアクリルアミド誘導体（Ｂ）と、分子内に２つ以上の活性エネルギー線重合性基を有する硬化性化合物（Ｃ）とを含む。 The coating agent composition of the present invention is a curable resin having an alkali metal salt (A), an acrylamide derivative (B) represented by the general formula (I), and two or more active energy ray polymerizable groups in the molecule. Compound (C).
硬化性化合物（Ｃ）は、アクリルアミド誘導体（Ｂ）以外のものであり、コーティング剤組成物における硬化性成分の主成分であり、硬化後に得られる保護コート層の主構成成分である。コーティング剤組成物は、硬化性化合物（Ｃ）として、硬化性化合物（Ｃ）を基準として、分子内に３つ以上の活性エネルギー線重合性基を有する硬化性化合物（Ｃｔ）６５〜１００重量％、及び分子内に２つの活性エネルギー線重合性基を有する硬化性化合物（Ｃｄ）０〜３５重量％を含むことが好ましい。 The curable compound (C) is other than the acrylamide derivative (B), is a main component of the curable component in the coating agent composition, and is a main component of the protective coat layer obtained after curing. The coating agent composition is a curable compound (C) having a curable compound (Ct) of 65 to 100% by weight based on the curable compound (C) having three or more active energy ray polymerizable groups in the molecule. And a curable compound (Cd) having 0 to 35% by weight having two active energy ray polymerizable groups in the molecule.
活性エネルギー線硬化性化合物（Ｃｔ）は、分子内に３つ以上の活性エネルギー線重合性基を有するので、硬化後に、それ自体で保護コート層として十分な硬度が得られる。一方、活性エネルギー線硬化性化合物（Ｃｄ）は、活性エネルギー線重合性基を分子内に２つのみしか有していないため、硬化後に、それ自体では保護コート層として十分な硬度は得られにくい。そのため、硬化性化合物（Ｃｔ）を硬化性化合物（Ｃ）の主成分として用いて、硬化性化合物（Ｃｄ）を用いる場合には、上記重量範囲内で用いることが好ましい。 Since the active energy ray-curable compound (Ct) has three or more active energy ray-polymerizable groups in the molecule, sufficient hardness as a protective coating layer can be obtained by itself after curing. On the other hand, since the active energy ray-curable compound (Cd) has only two active energy ray polymerizable groups in the molecule, it is difficult to obtain sufficient hardness as a protective coating layer by itself after curing. . Therefore, when the curable compound (Cd) is used as the main component of the curable compound (C) and the curable compound (Cd) is used, it is preferably used within the above weight range.
硬化性化合物（Ｃ）は、分子内に２つ以上、好ましくは２つ以上の活性エネルギー線重合性基を有する化合物であれば、多官能モノマーもしくはオリゴマーであってもよく、特にその構造は限定されない。硬化性化合物（Ｃ）が有する活性エネルギー線重合性基は、（メタ）アクリロイル基、ビニル基及びメルカプト基の中から選択される。 The curable compound (C) may be a polyfunctional monomer or oligomer as long as it has two or more, preferably two or more active energy ray polymerizable groups in the molecule, and its structure is particularly limited. Not. The active energy ray polymerizable group possessed by the curable compound (C) is selected from (meth) acryloyl groups, vinyl groups and mercapto groups.
このような活性エネルギー線硬化性化合物（Ｃ）のうち、（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、エステルアクリレート等が挙げられ、具体的には、1,6-ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、3-（メタ）アクリロイルオキシグリセリンモノ（メタ）アクリレート等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。 Among such active energy ray-curable compounds (C), examples of the compound having a (meth) acryloyl group include urethane acrylate, epoxy acrylate, ester acrylate, and the like, specifically, 1,6-hexanediol. Di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide modified bisphenol A di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, 3- (meth) acryloyloxyglycerin mono (meth) acrylate, etc. There is no intention to be limited thereto.
本発明のコーティング剤組成物において、活性エネルギー線硬化性化合物（Ｃｔ）として１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、活性エネルギー線硬化性化合物（Ｃｄ）を併用する場合には、硬化性化合物（Ｃｄ）として１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 In the coating agent composition of the present invention, only one type of active energy ray-curable compound (Ct) may be used, or two or more types may be used in combination. Moreover, when using an active energy ray curable compound (Cd) together, only 1 type may be used as a sclerosing | hardenable compound (Cd), and 2 or more types may be used together.
また、コーティング剤組成物において、硬化性成分として、硬化性化合物（Ｃ）以外に、保護コート層としての十分な硬度を維持できる範囲内で単官能モノマーが用いられてもよい。 Moreover, in a coating agent composition, a monofunctional monomer may be used as a sclerosing | hardenable component within the range which can maintain sufficient hardness as a protective coat layer other than a sclerosing | hardenable compound (C).
アルカリ金属塩（Ａ）は、帯電防止機能のために用いられる。アルカリ金属塩（Ａ）としては、限定されないが、例えば、アルカリ金属の過塩素酸塩、テトラフルオロ硼酸塩、ヘキサフルオロ燐酸塩、スルホン酸塩、イミド塩等が挙げられる。これらの中でも、特にイミド化合物のアルカリ金属塩が好ましい。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム等が挙げられる。 The alkali metal salt (A) is used for an antistatic function. Examples of the alkali metal salt (A) include, but are not limited to, alkali metal perchlorates, tetrafluoroborates, hexafluorophosphates, sulfonates, and imide salts. Among these, alkali metal salts of imide compounds are particularly preferable. Examples of the alkali metal include lithium, sodium, potassium, cesium and the like.
アルカリ金属塩（Ａ）としては、スルホンイミド化合物のアルカリ金属塩が好ましく、フッ素化アルキルスルホンイミド化合物のリチウム塩がより好ましい。より具体的には、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホン）イミドＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 、リチウムビス（ペンタフルオロエタンスルホン）イミドＬｉＮ（Ｃ2 Ｆ5 ＳＯ2 ）2 等が挙げられる。これらのスルホンイミド化合物は、リチウムイオン伝導性、耐熱性、耐水性に優れ、また、コーティング剤組成物の希釈溶剤として用いられる非水溶媒に対する溶解性や、硬化性化合物（Ｃ）との相溶性にも優れている。 As the alkali metal salt (A), an alkali metal salt of a sulfonimide compound is preferable, and a lithium salt of a fluorinated alkyl sulfonimide compound is more preferable. More specifically, lithium bis (trifluoromethanesulfone) imide LiN (CF 3 SO 2 ) 2 , lithium bis (pentafluoroethanesulfone) imide LiN (C 2 F 5 SO 2 ) 2 and the like can be mentioned. These sulfonimide compounds are excellent in lithium ion conductivity, heat resistance and water resistance, and are soluble in a non-aqueous solvent used as a diluting solvent of the coating agent composition and compatible with the curable compound (C). Also excellent.
アルカリ金属塩（Ａ）としては、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 As an alkali metal salt (A), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
アクリルアミド誘導体（Ｂ）は、帯電防止機能を有するが、ハードコート層のように架橋密度の高い層に添加した場合には、それ自身のみでは帯電防止機能をほとんど示さない。本発明において、アクリルアミド誘導体（Ｂ）は、ハードコート層の表面近傍に存在するアルカリ金属塩（Ａ）のＬｉ+ が、ハードコート層の深部に拡散することを防ぐ効果（トラップ効果）を有するために用いられる。 The acrylamide derivative (B) has an antistatic function, but when added to a layer having a high crosslink density such as a hard coat layer, the acrylamide derivative (B) hardly exhibits the antistatic function by itself. In the present invention, the acrylamide derivative (B) has an effect (trap effect) for preventing Li + of the alkali metal salt (A) existing in the vicinity of the surface of the hard coat layer from diffusing deep in the hard coat layer. Used for.
アクリルアミド誘導体（Ｂ）は、下記一般式（Ｉ）：
ＣＨ2 ＝Ｃ（Ｒ1 ）ＣＯＮＲ2 Ｒ3 （Ｉ）
で示される。式（１）において、Ｒ1 は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2 及びＲ3 は、同一又は異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表し、ただし、Ｒ2 及びＲ3 の両者が水素原子であることはない。
The acrylamide derivative (B) has the following general formula (I):
CH 2 = C (R 1 ) CONR 2 R 3 (I)
Indicated by In the formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 and R 3 may be the same or different, each represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent, However, both R 2 and R 3 are not hydrogen atoms.
Ｒ2 及びＲ3 が表すアルキル基には、炭素数１〜６の直鎖状又は分枝状アルキル基が含まれ、具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル基等が例示される。 The alkyl group represented by R 2 and R 3 includes a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, specifically, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, Examples include isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, n-hexyl group and the like.
Ｒ2 及びＲ3 が表すアルキル基は適宜、置換基を有していてもよい。例えば、１，１−ジメチル−４−オン−ブチル基（-C(CH3)2-CH2COCH3 ）、トリス（ヒドロキシメチル）メチル基（-C(CH2OH)3）、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ｎ−ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基等が例示される。 The alkyl group represented by R 2 and R 3 may optionally have a substituent. For example, 1,1-dimethyl-4-one-butyl group (—C (CH 3 ) 2 —CH 2 COCH 3 ), tris (hydroxymethyl) methyl group (—C (CH 2 OH) 3 ), methoxymethyl group Ethoxymethyl group, n-butoxymethyl group, isobutoxymethyl group and the like.
また、Ｒ2 及びＲ3 が表すアルキル基は、置換基として、−ＮＲ4 Ｒ5 基（Ｒ4 及びＲ5 は、同一又は異なっていてもよく、炭素数１〜６の直鎖状又は分枝状アルキル基を表す。）を有しているものも好ましい。例えば、３−（ジメチルアミノ）プロピル基等が例示される。 In addition, the alkyl group represented by R 2 and R 3 may be a —NR 4 R 5 group (R 4 and R 5 may be the same or different, and may be a linear or branched group having 1 to 6 carbon atoms. Those having a branched alkyl group are also preferred. For example, a 3- (dimethylamino) propyl group is exemplified.
アクリルアミド誘導体（Ｂ）の具体例としては、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−［トリス（ヒドロキシメチル）メチル］（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］（メタ）アクリルアミド等が例示される。また、２官能性のＮ，Ｎ’−メチレンビス（メタ）アクリルアミドを用いることもできる。 Specific examples of the acrylamide derivative (B) include N-tert-butyl (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, N- [tris (hydroxymethyl) methyl] (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-methoxymethyl (meth) acrylamide, N-ethoxymethyl (meth) acrylamide, Nn-butoxymethyl (meth) acrylamide, N-isobutoxymethyl (meth) acrylamide, N -[3- (dimethylamino) propyl] (meth) acrylamide and the like are exemplified. Bifunctional N, N'-methylenebis (meth) acrylamide can also be used.
アクリルアミド誘導体（Ｂ）としては、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 As an acrylamide derivative (B), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
このようなアクリルアミド誘導体（Ｂ）は、コーティング剤組成物の活性エネルギー線重合の際に、重合反応して保護コート層中に固定される。そして、アクリルアミド基由来のアミド基の存在によって、アルカリ金属塩（Ａ）の拡散を抑制しつつアルカリ金属イオンの伝導性を円滑に行わせると考えられる。従って、本発明において、コーティング剤組成物中にアルカリ金属塩（Ａ）とアクリルアミド誘導体（Ｂ）の両者を含ませることによって、非常に良好な帯電防止性を有した保護コート層が得られる。アルカリ金属塩（Ａ）のみでは、それ自身が拡散しやすく、長期の使用によって帯電防止性は低下する。 Such an acrylamide derivative (B) is fixed in the protective coating layer through a polymerization reaction during the active energy ray polymerization of the coating agent composition. The presence of an amide group derived from an acrylamide group is considered to facilitate the conductivity of alkali metal ions while suppressing the diffusion of the alkali metal salt (A). Therefore, in the present invention, by including both the alkali metal salt (A) and the acrylamide derivative (B) in the coating agent composition, a protective coating layer having very good antistatic properties can be obtained. The alkali metal salt (A) alone is easy to diffuse, and the antistatic property is lowered by long-term use.
本発明において、前記コーティング剤組成物は、組成物中の不揮発分１００重量部に対して、アルカリ金属塩（Ａ）０．４重量部以上５重量部以下、アクリルアミド誘導体（Ｂ）０．２重量部以上１５重量部以下を含むことが好ましい。ここで、不揮発分は、硬化後の保護コート層中に残存する成分であり、アルカリ金属塩（Ａ）、アクリルアミド誘導体（Ｂ）及び硬化性化合物（Ｃ）の他、単官能モノマー、後述する無機微粒子（Ｄ）、光重合開始剤、各種添加剤等の任意成分が含まれる。 In the present invention, the coating agent composition is used in an amount of 0.4 to 5 parts by weight of the alkali metal salt (A) and 0.2 parts by weight of the acrylamide derivative (B) with respect to 100 parts by weight of the nonvolatile content in the composition. It is preferable to contain 15 parts by weight or more. Here, the non-volatile component is a component remaining in the protective coating layer after curing, and in addition to the alkali metal salt (A), the acrylamide derivative (B), and the curable compound (C), a monofunctional monomer, an inorganic material to be described later Optional components such as fine particles (D), a photopolymerization initiator, and various additives are included.
アルカリ金属塩（Ａ）の添加量が、好ましくは０．４重量部以上、より好ましくは０．９重量部以上であると、高い帯電防止効果が得られる。一方、アルカリ金属塩（Ａ）の添加量に上限は特にないが、帯電防止効果に優れ且つ溶解性の高いリチウム塩は高価であることを考慮すると、好ましくは５重量部以下、より好ましくは３重量部以下とするとよい。また、リチウム塩を過剰に添加すると、硬化して得られた保護コート層の強度や光学特性の低下を招く場合もあるため、必要量を超えて添加することは好ましくない。 When the addition amount of the alkali metal salt (A) is preferably 0.4 parts by weight or more, more preferably 0.9 parts by weight or more, a high antistatic effect can be obtained. On the other hand, there is no particular upper limit to the amount of the alkali metal salt (A) added, but in view of the high cost of lithium salts having excellent antistatic effects and high solubility, preferably 5 parts by weight or less, more preferably 3 It may be less than or equal to parts by weight. Moreover, since excessive addition of lithium salt may cause a decrease in strength and optical properties of the protective coating layer obtained by curing, it is not preferable to add more than the necessary amount.
アクリルアミド誘導体（Ｂ）の添加量が０．２重量部以上であると、アルカリ金属塩（Ａ）の拡散抑制効果がほぼ十分となり、高い帯電防止効果が持続される。また、アクリルアミド誘導体（Ｂ）自身の帯電防止効果も期待される。しかしながら、アクリルアミド誘導体（Ｂ）の添加量が過剰となると、アルカリ金属塩の移動が過度に抑制され、その結果、アルカリ金属塩本来の帯電防止効果が十分に発現されにくくなる。この観点から、アクリルアミド誘導体（Ｂ）の添加量は１５重量部以下とするとよい。 When the addition amount of the acrylamide derivative (B) is 0.2 parts by weight or more, the diffusion suppressing effect of the alkali metal salt (A) becomes almost sufficient, and a high antistatic effect is maintained. Moreover, the antistatic effect of the acrylamide derivative (B) itself is also expected. However, when the amount of the acrylamide derivative (B) added is excessive, the movement of the alkali metal salt is excessively suppressed, and as a result, the original antistatic effect of the alkali metal salt is not sufficiently exhibited. From this viewpoint, the amount of the acrylamide derivative (B) added is preferably 15 parts by weight or less.
本発明のコーティング剤組成物は、平均粒子径１００ｎｍ以下の無機微粒子（Ｄ）を含むことが好ましい。無機微粒子（Ｄ）の平均粒子径は、保護コート層の透明性を確保するために平均粒子径１００ｎｍ以下、好ましくは２０ｎｍ以下であり、コロイド溶液製造上の制約から、好ましくは５ｎｍ以上である。 The coating agent composition of the present invention preferably contains inorganic fine particles (D) having an average particle diameter of 100 nm or less. The average particle diameter of the inorganic fine particles (D) is 100 nm or less, preferably 20 nm or less in order to ensure the transparency of the protective coat layer, and is preferably 5 nm or more due to restrictions on colloidal solution production.
無機微粒子（Ｄ）は、例えば、金属（又は半金属）酸化物の微粒子、又は金属（又は半金属）硫化物の微粒子である。無機微粒子の金属又は半金属としては、例えば、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ等が挙げられる。また、酸化物、硫化物の他に、Ｓｅ化物、Ｔｅ化物、窒化物、炭化物を用いることもできる。無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア等の微粒子が挙げられ、シリカ微粒子が好ましい。このような無機微粒子をコーティング剤組成物に添加しておくことにより、保護コート層の耐摩耗性をより高めることができる。 The inorganic fine particles (D) are, for example, fine particles of metal (or metalloid) oxide or fine particles of metal (or metalloid) sulfide. Examples of the metal or semimetal of the inorganic fine particles include Si, Ti, Al, Zn, Zr, In, Sn, and Sb. In addition to oxides and sulfides, Se, Te, nitrides, and carbides can also be used. Examples of the inorganic fine particles include fine particles of silica, alumina, zirconia, titania and the like, and silica fine particles are preferable. By adding such inorganic fine particles to the coating agent composition, the abrasion resistance of the protective coating layer can be further improved.
前記シリカ微粒子の中でも、活性エネルギー線反応性基を有する加水分解性シラン化合物によって表面修飾されたものが好ましく用いられる。このような反応性シリカ微粒子は、コーティング剤層を硬化させる際の活性エネルギー線照射によって、架橋反応を起こし、ポリマーマトリックス中に固定される。このような反応性シリカ微粒子として、例えば特開平９−１００１１１号公報に記載された反応性シリカ粒子があり、本発明において好ましく用いることができる。 Among the silica fine particles, those having a surface modified with a hydrolyzable silane compound having an active energy ray reactive group are preferably used. Such reactive silica fine particles undergo a crosslinking reaction by irradiation with active energy rays when the coating agent layer is cured, and are fixed in the polymer matrix. Examples of such reactive silica fine particles include reactive silica particles described in JP-A-9-100111, and can be preferably used in the present invention.
本発明のコーティング剤組成物において、無機微粒子（Ｄ）が用いる場合には、硬化性化合物（Ｃ）１００重量部に対して、無機微粒子（Ｄ）５重量部以上５００重量部以下を含むことが好ましく、無機微粒子（Ｄ）２０重量部以上２００重量部以下を含むことがより好ましい。無機微粒子（Ｄ）を５００重量部よりも多く含有させると、保護コート層の膜強度が弱くなりやすく、一方、５重量部未満では、無機微粒子（Ｄ）添加による保護コート層の耐摩耗性向上効果が弱い。 In the coating agent composition of the present invention, when the inorganic fine particles (D) are used, the inorganic fine particles (D) may contain 5 parts by weight or more and 500 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the curable compound (C). Preferably, it contains 20 to 200 parts by weight of inorganic fine particles (D). If the inorganic fine particles (D) are contained in an amount of more than 500 parts by weight, the film strength of the protective coating layer tends to be weak, whereas if it is less than 5 parts by weight, the abrasion resistance of the protective coating layer is improved by adding the inorganic fine particles (D). The effect is weak.
本発明のコーティング剤組成物は、公知の光重合開始剤を含んでもよい。光重合開始剤は、活性エネルギー線として電子線を用いる場合には特に必要はないが、紫外線を用いる場合には必要となる。光重合開始剤は、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すればよい。光重合開始剤のうち、光ラジカル開始剤としては、例えば、ダロキュア1173、イルガキュア651 、イルガキュア184 、イルガキュア907 （いずれもチバスペシャルティケミカルズ社製）が挙げられる。光重合開始剤の含有量は、例えば、コーティング剤組成物中において、前記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）の総和に対して、０．５〜５重量％程度である。 The coating agent composition of the present invention may contain a known photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator is not particularly required when an electron beam is used as the active energy ray, but is required when ultraviolet rays are used. The photopolymerization initiator may be appropriately selected from ordinary ones such as acetophenone, benzoin, benzophenone, and thioxanthone. Among the photopolymerization initiators, examples of the photo radical initiator include Darocur 1173, Irgacure 651, Irgacure 184, and Irgacure 907 (all manufactured by Ciba Specialty Chemicals). Content of a photoinitiator is about 0.5 to 5 weight% with respect to the sum total of said (A), (B), (C) and (D) in a coating agent composition, for example. .
また、本発明のコーティング剤組成物はさらに、必要に応じて、非重合性の希釈溶剤、有機フィラー、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、消泡剤、レベリング剤などを含んでいても差し支えない。 In addition, the coating agent composition of the present invention may further include a non-polymerizable diluent solvent, an organic filler, a polymerization inhibitor, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antifoaming agent, a leveling agent, etc., if necessary. May be included.
コーティング剤組成物は、上記の各成分を常法により混合して製造することができる。コーティング剤組成物は塗布に適した粘度に調整するとよい。以上のようにして、本発明のコーティング剤組成物が構成される。 The coating agent composition can be produced by mixing the above-described components by a conventional method. The coating agent composition may be adjusted to a viscosity suitable for application. The coating agent composition of this invention is comprised as mentioned above.
次に、図面を参照して、前記コーティング剤組成物を用いた本発明の光情報媒体（以下、光ディスクと略記することがある）及びその製造方法について説明する。 Next, with reference to the drawings, an optical information medium of the present invention (hereinafter sometimes abbreviated as an optical disk) using the coating agent composition and a method for producing the same will be described.
本発明の光情報媒体は、支持基体上に、少なくとも記録層又は反射層を含む、１層又は複数層から構成される膜体を有し、前記支持基体側表面及び前記膜体側表面のうちの少なくとも一方の表面が、前記コーティング剤組成物の硬化物を含む保護コート層によって形成されている。本発明の光情報媒体において、前記支持基体側表面及び前記膜体側表面のうちの少なくとも一方の表面、好ましくは記録／再生ビーム入射側とされる表面が、前記コーティング剤組成物の硬化物からなる保護コート層によって形成されていることが好ましい。 The optical information medium of the present invention has a film body composed of one layer or a plurality of layers including at least a recording layer or a reflective layer on a support substrate, and the support substrate side surface and the film body side surface At least one surface is formed by a protective coat layer containing a cured product of the coating agent composition. In the optical information medium of the present invention, at least one of the support substrate side surface and the film body side surface, preferably the recording / reproducing beam incident side, is made of a cured product of the coating agent composition. It is preferably formed by a protective coat layer.
光情報媒体の例として、膜体側表面が記録／再生ビーム入射側表面とされる光情報媒体について、図１及び２を参照して説明する。 As an example of the optical information medium, an optical information medium whose film body side surface is the recording / reproducing beam incident side surface will be described with reference to FIGS.
図１は、本発明の光ディスクの層構成の一例を示す概略断面図である。この光ディスクは記録媒体であり、比較的剛性の高い支持基体(20)上に情報記録層としての記録層(4) を有し、記録層(4) 上に光透過層(7) を有し、光透過層(7) 上に光透過性保護コート層(8) を有する。保護コート層(8) が記録／再生ビーム入射側とされ、記録又は再生のためのレーザービームは保護コート層(8) 及び光透過層(7) を通して記録層(4) に入射する。光透過層(7) の厚さは、保護コート層(8) を含めて、好ましくは３０〜１５０μｍ、より好ましくは７０〜１５０μｍである。このような光ディスクは、例えば Blu-ray Disc である。保護コート層(8) 側の鉛筆硬度試験でＢ以上の硬さを有する。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the optical disc of the present invention. This optical disc is a recording medium having a recording layer (4) as an information recording layer on a relatively rigid support base (20) and a light transmission layer (7) on the recording layer (4). And a light-transmitting protective coat layer (8) on the light-transmitting layer (7). The protective coating layer (8) is on the recording / reproducing beam incident side, and a laser beam for recording or reproducing is incident on the recording layer (4) through the protective coating layer (8) and the light transmission layer (7). The thickness of the light transmission layer (7) including the protective coating layer (8) is preferably 30 to 150 μm, more preferably 70 to 150 μm. Such an optical disc is, for example, a Blu-ray Disc. It has a hardness of B or more in the pencil hardness test on the protective coat layer (8) side.
なお、図示されていないが、記録層(4) の上にスペーサー層を介して更に記録層が設けられ、２層以上の記録層を有する光ディスクも、本発明に含まれる。この場合には、光ディスクは、支持基体(20)から最も遠い記録層の上に、光透過層(7) 及び保護コート層(8) を有する。 Although not shown, an optical disc having two or more recording layers in which a recording layer is further provided on the recording layer (4) via a spacer layer is also included in the present invention. In this case, the optical disc has a light transmission layer (7) and a protective coat layer (8) on the recording layer farthest from the support base (20).
本発明は、記録層の種類によらず適用できる。すなわち、例えば、相変化型記録媒体であっても、ピット形成タイプの記録媒体であっても、光磁気記録媒体であっても適用できる。なお、通常は、記録層の少なくとも一方の側に、記録層の保護や光学的効果を目的として誘電体層や反射層が設けられるが、図１では図示が省略されている。また、本発明は、図示するような記録可能タイプに限らず、再生専用タイプにも適用可能である。その場合、支持基体(20)と一体的にピット列が形成され、そのピット列を被覆する反射層（金属層又は誘電体多層膜）が、情報記録層を構成する。 The present invention can be applied regardless of the type of the recording layer. That is, for example, it can be applied to a phase change recording medium, a pit formation type recording medium, and a magneto-optical recording medium. Normally, a dielectric layer and a reflective layer are provided on at least one side of the recording layer for the purpose of protecting the recording layer and optical effects, but the illustration is omitted in FIG. Further, the present invention is not limited to the recordable type as shown in the figure, but can be applied to a reproduction-only type. In that case, a pit row is formed integrally with the support substrate (20), and a reflective layer (metal layer or dielectric multilayer film) covering the pit row forms an information recording layer.
本発明の相変化型記録媒体の場合の光情報媒体について説明する。
図２は、本発明の光ディスクの層構成の一例を示す概略断面図である。図２において、光ディスクは、支持基体(20)の情報ピットやプリグルーブ等の微細凹凸が形成されている側の面上に、反射層(3) 、第２誘電体層(52)、相変化記録材料層(4) 及び第１誘電体層(51)をこの順で有し、第１誘電体層(51)上に光透過層(7) を有し、光透過層(7) 上に保護コート層(8) を有する。この例では、反射層(3) 、第２誘電体層(52)、相変化記録材料層(4) 及び第１誘電体層(51)が情報記録層を構成する。また、前記情報記録層及び光透過層(7) が、記録又は再生のために必要な膜体を構成する。この光ディスクは、保護コート層(8) 及び光透過層(7) を通して、すなわち膜体側から、記録又は再生のためのレーザー光が入射するように使用される。
The optical information medium in the case of the phase change recording medium of the present invention will be described.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the optical disc of the present invention. In FIG. 2, the optical disk has a reflective layer (3), a second dielectric layer (52), a phase change on the surface of the support substrate (20) on which fine irregularities such as information pits and pregrooves are formed. The recording material layer (4) and the first dielectric layer (51) are provided in this order, the light transmission layer (7) is provided on the first dielectric layer (51), and the light transmission layer (7) is provided on the light transmission layer (7). It has a protective coat layer (8). In this example, the reflective layer (3), the second dielectric layer (52), the phase change recording material layer (4), and the first dielectric layer (51) constitute an information recording layer. The information recording layer and the light transmission layer (7) constitute a film body necessary for recording or reproduction. This optical disk is used so that laser light for recording or reproduction enters through the protective coating layer (8) and the light transmission layer (7), that is, from the film body side.
支持基体(20)は、厚さ０．３〜１．６ｍｍ、好ましくは厚さ０．４〜１．３ｍｍであり、記録層(4) が形成される側の面に、情報ピットやプリグルーブ等の微細な凹凸が形成されている。 The support base (20) has a thickness of 0.3 to 1.6 mm, preferably 0.4 to 1.3 mm, and has information pits and pregrooves on the surface on which the recording layer (4) is formed. Etc. are formed.
支持基体(20)としては、上記のように膜体側からレーザー光が入射するように使用されるので光学的に透明である必要はないが、透明な材料としては、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のアクリル系樹脂、ポリオレフィン樹脂等の各種プラスチック材料等が使用できる。あるいは、ガラス、セラミックス、金属等を用いても良い。凹凸パターンは、プラスチック材料を用いる場合には、射出成形することにより作成されることが多く、プラスチック材料以外の場合には、フォトポリマー法（２Ｐ法）によって成形される。 The support substrate (20) is used so that the laser beam is incident from the side of the film body as described above. Therefore, the support substrate (20) does not need to be optically transparent, but as the transparent material, polycarbonate resin, polymethyl methacrylate ( Various plastic materials such as acrylic resins such as PMMA) and polyolefin resins can be used. Alternatively, glass, ceramics, metal, or the like may be used. In the case of using a plastic material, the concavo-convex pattern is often created by injection molding, and in the case of other than the plastic material, it is formed by a photopolymer method (2P method).
支持基体(20)上には、通常、反射層(3) がスパッタリング法により形成される。反射層の材料としては、金属元素、半金属元素、半導体元素又はそれらの化合物を単独あるいは複合させて用いる。具体的には、例えばＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｐｄ等の周知の反射層材料から選択すればよい。反射層は、厚さ２０〜２００ｎｍの薄膜として形成することが好ましい。 On the support substrate (20), the reflective layer (3) is usually formed by sputtering. As a material for the reflective layer, a metal element, a metalloid element, a semiconductor element, or a compound thereof is used alone or in combination. Specifically, for example, a known reflective layer material such as Au, Ag, Cu, Al, or Pd may be selected. The reflective layer is preferably formed as a thin film having a thickness of 20 to 200 nm.
反射層(3) 上に、あるいは反射層のない場合には支持基体(20)上に直接、第２誘電体層(52)、相変化記録材料層(4) 、第１誘電体層(51)がこの順でスパッタリング法により形成される。 The second dielectric layer (52), the phase change recording material layer (4), the first dielectric layer (51) directly on the reflective layer (3) or directly on the support base (20) when there is no reflective layer. ) Are formed in this order by sputtering.
相変化記録材料層(4) は、レーザー光照射によって結晶状態とアモルファス状態とに可逆的に変化し、両状態の間で光学特性が異なる材料により形成される。例えば、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ、Ｓｎ−Ｓｅ−Ｔｅ、Ｇｅ−Ｔｅ−Ｓｎ、Ｉｎ−Ｓｅ−Ｔｌ、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ等が挙げられる。さらに、これらの材料に、Ｃｏ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｖ、Ｗ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｂｉ、Ｉｎ等から選ばれる金属のうちの少なくとも１種を微量に添加してもよく、窒素等の還元性ガスを微量に添加してもよい。記録材料層(4) の厚さは、特に限定されることなく、例えば、３〜５０ｎｍ程度である。 The phase change recording material layer (4) is reversibly changed between a crystalline state and an amorphous state by laser light irradiation, and is formed of a material having different optical characteristics between the two states. For example, Ge—Sb—Te, In—Sb—Te, Sn—Se—Te, Ge—Te—Sn, In—Se—Tl, In—Sb—Te, and the like can be given. Further, these materials contain a trace amount of at least one of metals selected from Co, Pt, Pd, Au, Ag, Ir, Nb, Ta, V, W, Ti, Cr, Zr, Bi, In, and the like. It may be added, or a reducing gas such as nitrogen may be added in a trace amount. The thickness of the recording material layer (4) is not particularly limited and is, for example, about 3 to 50 nm.
第２誘電体層(52)及び第１誘電体層(51)は、記録材料層(4) の上下両面側にこれを挟んで形成される。第２誘電体層(52)及び第１誘電体層(51)は、記録材料層(4) の機械的、化学的保護の機能と共に、光学特性を調整する干渉層としての機能を有する。第２誘電体層(52)及び第１誘電体層(51)はそれぞれ、単層からなっていてもよく、複数層からなっていてもよい。 The second dielectric layer (52) and the first dielectric layer (51) are formed on both sides of the upper and lower surfaces of the recording material layer (4). The second dielectric layer (52) and the first dielectric layer (51) have a function as an interference layer for adjusting optical characteristics as well as a mechanical and chemical protection function of the recording material layer (4). Each of the second dielectric layer (52) and the first dielectric layer (51) may be composed of a single layer or a plurality of layers.
第２誘電体層(52)及び第１誘電体層(51)はそれぞれ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｖ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｇから選ばれる金属のうちの少なくとも１種を含む酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物、あるいはこれらの複合物から形成されることが好ましい。また、第２誘電体層(52)及び第１誘電体層(51)のそれぞれの消衰係数ｋは、０．１以下であることが好ましい。 The second dielectric layer (52) and the first dielectric layer (51) are respectively Si, Zn, Al, Ta, Ti, Co, Zr, Pb, Ag, Zn, Sn, Ca, Ce, V, Cu, It is preferably formed from an oxide, nitride, sulfide, fluoride, or a composite thereof containing at least one of metals selected from Fe and Mg. The extinction coefficient k of each of the second dielectric layer (52) and the first dielectric layer (51) is preferably 0.1 or less.
第２誘電体層(52)の厚さは、特に限定されることなく、例えば、２０〜１５０ｎｍ程度が好ましい。第１誘電体層(51)の厚さは、特に限定されることなく、例えば、２０〜２００ｎｍ程度が好ましい。両誘電体層(52)(51)の厚さをこのような範囲で選択することにより、反射の調整ができる。 The thickness of the second dielectric layer (52) is not particularly limited, and is preferably about 20 to 150 nm, for example. The thickness of the first dielectric layer (51) is not particularly limited, and is preferably about 20 to 200 nm, for example. The reflection can be adjusted by selecting the thicknesses of the two dielectric layers (52) and (51) within such a range.
第１誘電体層(51)上に、光透過層(7) を活性エネルギー線硬化性材料を用いて、あるいはポリカーボネートシート等の光透過性シートを用いて形成する。 On the first dielectric layer (51), the light transmission layer (7) is formed using an active energy ray curable material or a light transmission sheet such as a polycarbonate sheet.
光透過層(7) に用いる活性エネルギー線硬化性材料としては、光学的に透明で、使用されるレーザー波長領域での光学吸収や反射が少なく、複屈折が小さいことを条件として、紫外線硬化性材料及び電子線硬化性材料から選択する。 The active energy ray-curable material used for the light transmissive layer (7) is UV curable on the condition that it is optically transparent, has little optical absorption and reflection in the used laser wavelength region, and has low birefringence. Select from materials and electron beam curable materials.
具体的には、活性エネルギー線硬化性材料は、紫外線（電子線）硬化性化合物やその重合用組成物から構成されることが好ましい。このようなものとしては、アクリル酸やメタクリル酸のエステル化合物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートのようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合等の紫外線照射によって架橋あるいは重合する基を分子中に含有又は導入したモノマー、オリゴマー及びポリマー等を挙げることができる。これらは多官能、特に３官能以上であることが好ましく、１種のみ用いても２種以上併用してもよい。また、単官能のものを必要に応じて用いてもよい。 Specifically, the active energy ray curable material is preferably composed of an ultraviolet ray (electron beam) curable compound or a composition for polymerization thereof. Examples of such compounds include ester compounds of acrylic acid and methacrylic acid, acrylic double bonds such as epoxy acrylate and urethane acrylate, allyl double bonds such as diallyl phthalate, and unsaturated double bonds such as maleic acid derivatives. Mention may be made of monomers, oligomers, polymers, etc. containing or introduced in the molecule a group which is crosslinked or polymerized by ultraviolet irradiation such as bonding. These are preferably polyfunctional, particularly trifunctional or more, and may be used alone or in combination of two or more. Moreover, you may use a monofunctional thing as needed.
紫外線硬化性モノマーとしては、分子量２０００未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量２０００〜１００００のものが好適である。これらはスチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールメタクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタクリレート等も挙げられるが、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ) アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ) アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ) アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ) アクリレート、フェノールエチレンオキシド付加物の（メタ) アクリレート等が挙げられる。この他、紫外線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体等が挙げられる。 As the UV curable monomer, a compound having a molecular weight of less than 2000 is preferable, and as the oligomer, a molecular weight of 2000 to 10,000 is preferable. Examples of these include styrene, ethyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol methacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, and the like. Examples thereof include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, (meth) acrylate of phenol ethylene oxide adduct, and the like. . In addition, examples of the ultraviolet curable oligomer include oligoester acrylate and an acrylic modified product of urethane elastomer.
紫外線（電子線）硬化性材料は、公知の光重合開始剤を含んでもよい。光重合開始剤は、活性エネルギー線として電子線を用いる場合には特に必要はないが、紫外線を用いる場合には必要となる。光重合開始剤は、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すればよい。光重合開始剤のうち、光ラジカル開始剤としては、例えば、ダロキュア1173、イルガキュア651 、イルガキュア184 、イルガキュア907 （いずれもチバスペシャルティケミカルズ社製）が挙げられる。光重合開始剤の含有量は、例えば、前記紫外線（電子線）硬化性成分に対して、０．５〜５重量％程度である。 The ultraviolet (electron beam) curable material may contain a known photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator is not particularly required when an electron beam is used as the active energy ray, but is required when ultraviolet rays are used. The photopolymerization initiator may be appropriately selected from ordinary ones such as acetophenone, benzoin, benzophenone, and thioxanthone. Among the photopolymerization initiators, examples of the photo radical initiator include Darocur 1173, Irgacure 651, Irgacure 184, and Irgacure 907 (all manufactured by Ciba Specialty Chemicals). The content of the photopolymerization initiator is, for example, about 0.5 to 5% by weight with respect to the ultraviolet (electron beam) curable component.
また、紫外線硬化性材料としては、脂環式エポキシ化合物等のエポキシ化合物、及び光カチオン重合触媒を含有する組成物も好適に使用される。光カチオン重合触媒は、公知のいずれのものを用いてもよく、特に制限はない。 Moreover, as an ultraviolet curable material, the composition containing epoxy compounds, such as an alicyclic epoxy compound, and a photocationic polymerization catalyst is used suitably. Any known photocationic polymerization catalyst may be used without any particular limitation.
光透過層(7) の形成において、第１誘電体層(51)上への活性エネルギー線硬化性材料の塗布はスピンコーティング法により行うとよい。 In the formation of the light transmission layer (7), the application of the active energy ray-curable material on the first dielectric layer (51) may be performed by a spin coating method.
あるいは、本発明において、ポリカーボネートシート等の光透過性樹脂シートを用いて光透過層を形成することもできる。この場合には、第１誘電体層(51)上に、光透過層用と同様の活性エネルギー線硬化性材料を塗布し、未硬化の樹脂材料層を形成する。未硬化の樹脂材料層上に、光透過層(7) としての光透過性シートを載置し、その後、紫外線等の活性エネルギー線を照射して樹脂材料層を硬化することにより、光透過性シートを接着し光透過層(7) とする。 Or in this invention, a light transmissive layer can also be formed using light transmissive resin sheets, such as a polycarbonate sheet. In this case, an active energy ray-curable material similar to that for the light transmission layer is applied on the first dielectric layer (51) to form an uncured resin material layer. A light transmissive sheet as a light transmissive layer (7) is placed on the uncured resin material layer, and then the resin material layer is cured by irradiating with active energy rays such as ultraviolet rays. The sheet is adhered to form a light transmission layer (7).
光透過層(7) 上に前記コーティング剤組成物を用いて保護コート層(8) を形成する。すなわち、光透過層(7) 上に前記コーティング剤組成物を塗布し、未硬化の保護コート層を形成し、その後、紫外線、電子線、可視光等の活性エネルギー線を照射して未硬化層を硬化して、保護コート層(8) とする。 A protective coating layer (8) is formed on the light transmission layer (7) using the coating agent composition. That is, the coating composition is applied on the light transmission layer (7) to form an uncured protective coating layer, and then irradiated with active energy rays such as ultraviolet rays, electron beams, visible light, etc. Is cured to form a protective coat layer (8).
塗布方法は、限定されることなく、スピンコート法、ディップコート法、グラビアコート法等の各種塗布方法を用いるとよい。あるいは、光透過層(7) として光透過性シートを使用する場合、長尺状の光透過性シート原反に予め上記と同様の方法で保護コート層(8) を形成しておき、この原反をディスク形状に打ち抜いた後、前記のように未硬化の樹脂材料層上に載置し樹脂材料層を硬化させてもよい。 The coating method is not limited, and various coating methods such as spin coating, dip coating, and gravure coating may be used. Alternatively, when a light-transmitting sheet is used as the light-transmitting layer (7), a protective coat layer (8) is formed in advance on the long light-transmitting sheet raw material in the same manner as described above, and this original After punching the substrate into a disc shape, it may be placed on an uncured resin material layer as described above to cure the resin material layer.
以上のように、膜体側表面が記録／再生ビーム入射側表面とされる光情報媒体として、図２に例示する相変化型光記録ディスクが得られる。 As described above, the phase change type optical recording disk illustrated in FIG. 2 is obtained as an optical information medium in which the film body side surface is the recording / reproducing beam incident side surface.
光透過層(7) が活性エネルギー線硬化性材料の硬化物から構成されている場合には、ポリカーボネートシート等の光透過性シートから構成されている場合に比べると、光透過層(7) 上に形成された保護コート層(8) 中に含まれるアルカリ金属塩（Ａ）の光透過層(7) への拡散が起こりやすい。しかしながら、本発明においては、コーティング剤組成物中にアルカリ金属塩（Ａ）の他にアクリルアミド誘導体（Ｂ）が含まれているので、アルカリ金属塩（Ａ）の拡散が抑制される。そのため、保護コート層(8) は長期使用にわたって十分な帯電防止性を維持しうる。このように、本発明は、光透過層(7) が活性エネルギー線硬化性材料の硬化物から構成されている場合に用いる利点が大きい。 When the light-transmitting layer (7) is composed of a cured product of an active energy ray-curable material, the light-transmitting layer (7) has an upper surface compared to the case where it is composed of a light-transmitting sheet such as a polycarbonate sheet. The alkali metal salt (A) contained in the protective coating layer (8) formed on the substrate tends to diffuse into the light transmission layer (7). However, in the present invention, since the acrylamide derivative (B) is contained in addition to the alkali metal salt (A) in the coating agent composition, the diffusion of the alkali metal salt (A) is suppressed. Therefore, the protective coat layer (8) can maintain sufficient antistatic properties over a long period of use. Thus, the present invention has a great advantage when the light transmission layer (7) is made of a cured product of the active energy ray curable material.
また、本発明の前記コーティング剤組成物は、支持基体側表面が記録／再生ビーム入射側表面とされる光情報媒体にももちろん適用することができる。このような光情報媒体としては、従来から、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＤＶＤ−ＲＷ等の種々のものが商品化されている。さらに、本発明の前記コーティング剤組成物は、記録／再生ビームとして青色レーザービームが用いられる次世代ＨＤ−ＤＶＤにも好適に適用することができる。これら光情報媒体では、支持基体の一方の面上に情報記録層が形成され、支持基体の他方の面上に、本発明の前記コーティング剤組成物を用いて光透過性保護コート層が形成される。 The coating composition of the present invention can also be applied to an optical information medium in which the support substrate side surface is the recording / reproducing beam incident side surface. Conventionally, various optical information media such as DVD-ROM, DVD-R, DVD-RAM, and DVD-RW have been commercialized. Furthermore, the coating agent composition of the present invention can be suitably applied to the next generation HD-DVD in which a blue laser beam is used as a recording / reproducing beam. In these optical information media, an information recording layer is formed on one surface of a supporting substrate, and a light-transmitting protective coating layer is formed on the other surface of the supporting substrate using the coating agent composition of the present invention. The
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
［ディスクサンプルＮｏ．１の作製］
図２に示す層構成の光記録ディスクサンプルＮｏ．１を次のように作製した。
情報記録のためにグルーブが形成されたディスク状支持基体(20)（ポリカーボネート製、直径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍ）のグルーブが形成された面上に、Ａｌ98Ｐｄ1 Ｃｕ1 （原子比）からなる厚さ１００ｎｍの反射層(3) をスパッタリング法により形成した。前記グルーブの深さは、波長λ＝４０５ｎｍにおける光路長で表してλ／６とした。グルーブ記録方式における記録トラックピッチは、０．３２μｍとした。
[Disc Sample No. Preparation of 1]
The optical recording disk sample No. 1 having the layer structure shown in FIG. 1 was produced as follows.
Al 98 Pd 1 Cu 1 (atomic ratio) is formed on the surface of the disk-shaped support base (20) (made of polycarbonate, diameter 120 mm, thickness 1.1 mm) on which grooves are formed for information recording. A reflective layer (3) having a thickness of 100 nm was formed by sputtering. The depth of the groove was λ / 6 expressed by the optical path length at the wavelength λ = 405 nm. The recording track pitch in the groove recording system was 0.32 μm.
次いで、反射層(3) 表面に、Ａｌ2 Ｏ3 ターゲットを用いてスパッタリング法により、厚さ２０ｎｍの第２誘電体層(52)を形成した。第２誘電体層(52)表面に、相変化材料からなる合金ターゲットを用いてスパッタリング法により、厚さ１２ｎｍの記録層(4) を形成した。記録層(4) の組成（原子比）は、Ｓｂ74Ｔｅ18（Ｇｅ7 Ｉｎ1 ）とした。記録層(4) 表面に、ＺｎＳ（８０モル％）−ＳｉＯ2 （２０モル％）ターゲットを用いてスパッタリング法により、厚さ１３０ｎｍの第１誘電体層(51)を形成した。 Next, a second dielectric layer (52) having a thickness of 20 nm was formed on the surface of the reflective layer (3) by sputtering using an Al 2 O 3 target. A recording layer (4) having a thickness of 12 nm was formed on the surface of the second dielectric layer (52) by sputtering using an alloy target made of a phase change material. The composition (atomic ratio) of the recording layer (4) was Sb 74 Te 18 (Ge 7 In 1 ). The recording layer (4) surface, ZnS (80 mol%) - by SiO 2 (20 mol%) sputtering method using a target, thereby forming a first dielectric layer having a thickness of 130 nm (51).
次いで、第１誘電体層(51)表面に、下記組成のラジカル重合性の紫外線硬化性材料をスピンコート法により塗布して、照射強度１６０Ｗ／ｃｍ、ランプとの距離１１ｃｍ、積算光量３Ｊ／ｃｍ2 にて紫外線を照射して、硬化後の厚さ９８μｍとなるように光透過層(7) を形成した。 Next, a radical polymerizable ultraviolet curable material having the following composition was applied to the surface of the first dielectric layer (51) by spin coating, the irradiation intensity was 160 W / cm, the distance from the lamp was 11 cm, and the integrated light quantity was 3 J / cm. The light transmitting layer (7) was formed by irradiating ultraviolet rays at 2 so that the thickness after curing was 98 μm.
（光透過層：紫外線硬化性材料の組成）
ウレタンアクリレートオリゴマー ５０重量部
（三菱レイヨン（株）製、ダイヤビームＵＫ６０３５）
イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート １０重量部
（東亜合成（株）製、アロニックスＭ３１５）
イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート ５重量部
（東亜合成（株）製、アロニックスＭ２１５）
テトラヒドロフルフリルアクリレート ２５重量部
光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン） ３重量部
(Light transmission layer: Composition of UV curable material)
50 parts by weight of urethane acrylate oligomer (Made by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., Diabeam UK6035)
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate 10 parts by weight (Aronix M315, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
Isocyanuric acid EO-modified diacrylate 5 parts by weight (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., Aronix M215)
Tetrahydrofurfuryl acrylate 25 parts by weight Photopolymerization initiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone) 3 parts by weight
次いで、光透過層(7) 上に、下記組成の紫外線硬化性コーティング剤をスピンコート法により塗布して被膜とし、大気中で６０℃で３分間加熱することにより被膜内部の希釈溶剤を除去し、その後、照射強度１６０Ｗ／ｃｍ、ランプとの距離１１ｃｍ、積算光量３Ｊ／ｃｍ2 にて紫外線を照射して、硬化後の厚さ２．４μｍの保護コート層(8) を形成した。 Next, an ultraviolet curable coating agent having the following composition is applied onto the light transmission layer (7) by spin coating to form a film, and the diluted solvent inside the film is removed by heating at 60 ° C. for 3 minutes in the air. Thereafter, ultraviolet rays were irradiated at an irradiation intensity of 160 W / cm, a distance from the lamp of 11 cm, and an integrated light quantity of 3 J / cm 2 to form a 2.4 μm-thick protective coating layer (8).
（コーティング剤の組成）
反応性基修飾コロイダルシリカ（分散媒：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、不揮発分：５０重量％） ６０重量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ６５重量部
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド ５重量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ７０重量部
（非反応性希釈溶剤）
リチウムビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド １重量部
光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン） ２．８重量部
エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド変性シリコーン
（信越化学工業（株）製、ＫＦ−６０１２） ０．５重量部
(Composition of coating agent)
Reactive group-modified colloidal silica (dispersion medium: propylene glycol monomethyl ether acetate, nonvolatile content: 50% by weight) 60 parts by weight dipentaerythritol hexaacrylate 65 parts by weight N, N-dimethylacrylamide 5 parts by weight propylene glycol monomethyl ether 70 parts by weight (Non-reactive diluent solvent)
Lithium bis (trifluoromethanesulfone) imide 1 part by weight photopolymerization initiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone) 2.8 parts by weight ethylene oxide / propylene oxide modified silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KF-6012) 0. 5 parts by weight
以上のようにしてディスクサンプルＮｏ．１を作製した。 As described above, the disk sample No. 1 was produced.
［ディスクサンプルＮｏ．２〜１３の作製］
表１に示す組成のコーティング剤を用いた以外は、ディスクサンプルＮｏ．１におけるのと全く同様にしてディスクサンプルＮｏ．２〜１３をそれぞれ作製した。反応性基修飾コロイダルシリカ、光重合開始剤については、ディスクサンプルＮｏ．１と同じものを用いた。なお、表１において、便宜のために、ディスクサンプルＮｏ．８は２回記載されている。
[Disc Sample No. Production of 2 to 13]
Except that the coating agent having the composition shown in Table 1 was used, the disk sample No. In the same manner as in No. 1, disc sample No. 2 to 13 were produced. For the reactive group-modified colloidal silica and the photopolymerization initiator, the disk sample No. The same as 1 was used. In Table 1, for convenience, the disk sample No. 8 is described twice.
［ディスクサンプルの評価］
作製した各ディスクサンプルについて、以下に示す性能試験を行った。
[Evaluation of disk sample]
The performance test shown below was performed on each manufactured disk sample.
（帯電半減期の測定）
ＪＩＳ Ｌ１０９４に準拠して、各ディスクサンプルの保護コート表面における半減期の測定を行った。具体的には、各ディスクサンプルから３５ｍｍ×３５ｍｍの大きさの試験片を切り出し、温度２５℃、相対湿度１０％に設定された試験室において、得られた試験片を測定器にセットし、１２０分の測定時間まで測定を行った以外は上記測定方法に従った。この半減期測定を、初期と、温度８０℃、相対湿度８５％の環境下での５０時間保存後、及び同環境下での１００時間保存後についてそれぞれ行った。測定結果は、試験片の帯電圧が１／２に減衰するまでの時間、すなわち半減期（分）として得られ、この時間が短いほど、帯電防止性能に優れている。結果を表１に示す。
(Measurement of charging half-life)
In accordance with JIS L1094, the half-life of each disk sample on the protective coat surface was measured. Specifically, a test piece having a size of 35 mm × 35 mm was cut out from each disk sample, and the obtained test piece was set in a measuring instrument in a test room set at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 10%. The measurement method was followed except that the measurement was performed up to the measurement time of minutes. This half-life measurement was performed at the initial stage, after storage for 50 hours in an environment of a temperature of 80 ° C. and a relative humidity of 85%, and after storage for 100 hours in the same environment. The measurement result is obtained as the time until the charged voltage of the test piece decays to ½, that is, the half-life (minutes). The shorter this time, the better the antistatic performance. The results are shown in Table 1.
（硬度の評価）
各ディスクサンプルの保護コート表面の鉛筆硬度を、ＪＩＳ Ｋ５４００に準じて測定した。いずれのディスクサンプルについても、鉛筆硬度ＨＢであった。
(Evaluation of hardness)
The pencil hardness of the protective coat surface of each disk sample was measured according to JIS K5400. All the disk samples had a pencil hardness HB.
表１から、本発明に合致する各ディスクサンプルＮｏ．１、２、５〜１０、１２、１３はいずれも、保護コート表面の硬度を維持しつつ、帯電防止性能に優れていた。特に、高温高湿環境下での長時間保存後にも優れた帯電防止性を維持していた。 From Table 1, each disk sample No. consistent with the present invention is shown. All of 1, 2, 5 to 10, 12 and 13 were excellent in antistatic performance while maintaining the hardness of the surface of the protective coat. In particular, excellent antistatic properties were maintained even after long-term storage in a high temperature and high humidity environment.
これに対して、比較の各ディスクサンプルＮｏ．３、４では、リチウム塩は用いられたが、アクリルアミド誘導体は用いられなかったために、初期の帯電防止性能は良いが高温高湿環境下での長時間保存後の帯電防止性に非常に劣っていた。比較のディスクサンプルＮｏ．１１では、リチウム塩が用いられなかったために、初期の帯電防止性能に劣っていた。 In contrast, each disk sample No. In Nos. 3 and 4, the lithium salt was used but the acrylamide derivative was not used, so the initial antistatic performance was good, but the antistatic property after long-term storage in a high temperature and high humidity environment was very poor. It was. Comparison disk sample No. In No. 11, since the lithium salt was not used, the initial antistatic performance was inferior.
上記実施例では、相変化型光ディスクへの保護コート層の付与を示した。しかしながら、本発明は、記録層が相変化型の光ディスクのみならず、再生専用型光ディスクや、追記型光ディスクにも適用される。さらに、本発明は、光ディスクのみならず、その他の種々の物体表面への保護コート層の付与にも適用される。そのため、前述の実施例はあらゆる点で単なる例示にすぎず、限定的に解釈してはならない。さらに、特許請求の範囲の均等範囲に属する変更は、すべて本発明の範囲内のものである。 In the above embodiment, the application of the protective coat layer to the phase change type optical disk is shown. However, the present invention is applied not only to a phase change type optical disc but also to a read-only optical disc and a write once optical disc. Furthermore, the present invention is applied not only to optical discs but also to the application of protective coating layers to various other object surfaces. For this reason, the above-described embodiment is merely an example in all respects and should not be interpreted in a limited manner. Further, all modifications belonging to the equivalent scope of the claims are within the scope of the present invention.
(20)：支持基体
(3) ：反射層
(52)：第２誘電体層
(4) ：記録層
(51)：第１誘電体層
(7) ：光透過層
(8) ：保護コート層
(20): Support base
(3): Reflective layer
(52): Second dielectric layer
(4): Recording layer
(51): First dielectric layer
(7): Light transmission layer
(8): Protective coat layer
Claims (7)
ＣＨ2 ＝Ｃ（Ｒ1 ）ＣＯＮＲ2 Ｒ3 （Ｉ）
（式（１）において、Ｒ1 は、水素原子又はメチル基を表し、
Ｒ2 及びＲ3 は、同一又は異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表し、ただし、Ｒ2 及びＲ3 の両者が水素原子であることはない。）
で示されるアクリルアミド誘導体（Ｂ）と、分子内に２つ以上の活性エネルギー線重合性基を有する硬化性化合物（Ｃ）とを含むコーティング剤組成物。 Alkali metal salt (A) and the following general formula (I):
CH 2 = C (R 1 ) CONR 2 R 3 (I)
(In the formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group,
R 2 and R 3 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group, provided that both R 2 and R 3 are not hydrogen atoms. )
The coating agent composition containing the acrylamide derivative (B) shown by (2), and the sclerosing | hardenable compound (C) which has two or more active energy ray polymeric groups in a molecule | numerator.
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