JP2006150882A - Electro-optical device, image forming apparatus, and image reader - Google Patents

Electro-optical device, image forming apparatus, and image reader Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electro-optical device which can be manufactured at a low cost. <P>SOLUTION: The electro-optical device 10 comprises a transparent substrate 12, a plurality of OLED elements 14 formed in the substrate 12, a sealing member 24 larger than the substrate 12 and attached to the substrate 12 so as to seal the OLED elements 14 in cooperation with the substrate 12, a circuit element 28 to drive or to control the OLED elements 14, and power lines 20A, 20B, 20C for supplying power to the circuit element 28 and the OLED elements 14. The circuit element 28 and power cable lines 20A, 20B, 20C are provided to the sealing member 24 so as not to be overlapped on the substrate 12. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、自発光素子を備えた電気光学装置、ならびにこの電気光学装置を備えた画像形成装置および画像読み取り装置に関する。   The present invention relates to an electro-optical device including a self-luminous element, and an image forming apparatus and an image reading device including the electro-optical device.

近年、液晶素子に代わる次世代の発光デバイスとして、有機エレクトロルミネッセンス素子や発光ポリマー素子などと呼ばれる有機発光ダイオード(Organic Light Emitting Diode、以下適宜「OLED」と略称する)素子が注目されている。OLED素子は、例えば特許文献1および特許文献2に開示されているように、表示装置として使われる。   2. Description of the Related Art In recent years, organic light emitting diodes (hereinafter referred to as “OLEDs” where appropriate) called organic electroluminescent elements and light emitting polymer elements have attracted attention as next-generation light emitting devices that replace liquid crystal elements. The OLED element is used as a display device as disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2, for example.

また、多数のOLED素子を配列したラインヘッドを露光手段すなわち潜像書き込み器として用いる電子写真方式の画像形成装置が開発されている。このようなラインヘッドでは、OLED素子の他、これを駆動するためのトランジスタを含む画素回路が複数配置される。例えば、特許文献3および特許文献4にはこのようなラインヘッドが開示されている。   In addition, an electrophotographic image forming apparatus has been developed that uses a line head in which a large number of OLED elements are arranged as exposure means, that is, a latent image writer. In such a line head, a plurality of pixel circuits including an OLED element and a transistor for driving the OLED element are arranged. For example, Patent Document 3 and Patent Document 4 disclose such a line head.

特開2000−58255号公報JP 2000-58255 A 特開2001−343933号公報JP 2001-343933 A 特開平11−274569号公報JP 11-27469 A 特開2001−130048号公報JP 2001-130048 A

上記のラインヘッドに代表される電気光学装置はOLED素子が形成された基板を構成要素としている。従来の技術では、この基板の面積をある程度以上の大きさとする必要がある。例えば、特許文献1および特許文献4の技術では、この基板にOLED素子を駆動または制御する回路素子を配置しているので、この基板の面積をある程度以上の大きさとせざるを得ない。この基板は多数のOLED素子が形成された元の基板から切り出して得られるものであるから、1つの電気光学装置を構成する基板が大きければ大きいほど、元の基板から得られる枚数は少なくなる。   An electro-optical device typified by the above-described line head includes a substrate on which an OLED element is formed as a constituent element. In the conventional technique, the area of the substrate needs to be larger than a certain size. For example, in the techniques of Patent Document 1 and Patent Document 4, since circuit elements for driving or controlling OLED elements are arranged on this substrate, the area of the substrate must be made a certain size or larger. Since this substrate is obtained by cutting out from an original substrate on which a large number of OLED elements are formed, the larger the substrate constituting one electro-optical device, the smaller the number of sheets obtained from the original substrate.

現状、OLED素子の形成には多くの材料や多くのプロセスが必要となる。また、OLED素子に特有の、コストや時間のかかるプロセスもある。このような事情により、元の基板にOLED素子を形成するコスト、すなわち元の基板の製造コストは他の基板の製造コストよりも高くなっている。よって、1つの電気光学装置を構成する基板(OLED素子が形成された基板)が大きければ大きいほど、電気光学装置の製造コストが高くなる。以上より、従来の技術では1つの電気光学装置を構成する基板(OLED素子が形成された基板)の面積をある程度以上の大きさとする必要があるために電気光学装置の製造コストを十分に低減することができない。   Currently, many materials and many processes are required to form an OLED element. There are also costly and time consuming processes unique to OLED elements. Under such circumstances, the cost of forming the OLED element on the original substrate, that is, the manufacturing cost of the original substrate is higher than the manufacturing cost of other substrates. Accordingly, the larger the substrate (the substrate on which the OLED element is formed) constituting one electro-optical device, the higher the manufacturing cost of the electro-optical device. As described above, according to the conventional technique, the area of the substrate (substrate on which the OLED element is formed) constituting one electro-optical device needs to be set to a certain size or more, so that the manufacturing cost of the electro-optical device is sufficiently reduced. I can't.

そこで、本発明は、より安価に製造可能な電気光学装置、ならびにこの電気光学装置を備えた画像形成装置および画像読み取り装置を提供する。   Accordingly, the present invention provides an electro-optical device that can be manufactured at a lower cost, and an image forming apparatus and an image reading apparatus including the electro-optical device.

本発明に係る電気光学装置は、基板と、上記基板に形成された複数の自発光素子と、上記基板より大きく上記基板と協働して上記自発光素子を封止するように上記基板に取り付けられた封止体と、上記基板に重ならないように上記封止体に設けられ上記自発光素子を駆動または制御するための回路と、上記基板に重ならないように上記封止体に設けられ少なくとも上記回路および上記自発光素子の一方に給電するための電源線とを備える。
この配置によれば、回路および電源線は封止体に設けられるから、両者の少なくとも一方を基板に設ける場合に比較して基板を小さくすることが可能である。したがって、1つの元の基板から切り出すことができる基板の数を増加させることができる。その一方で、この増加分だけ、1つの元の基板から切り出し可能な封止体の数が減少する。したがって、電気光学装置の製造コストを低減することができるか否かは、上記の増加分に応じたコストの低下分が上記の減少分に応じたコストの上昇分を上回るか否かに依存する。一般に、基板が切り出される元の基板の単価は封止体が切り出される元の基板の単価よりも高くなる。したがって、上記の増加分に応じたコストの低下分は上記の減少分に応じたコストの上昇分を上回ることになる。以上より、この配置によれば電気光学装置の製造コストを低減することができる。
また、この配置によれば、回路および電源線が基板に重ならない。したがって、電気光学装置のタイプが、自発光素子からの光が基板を通過して進行するタイプ(ボトムエミッションタイプ)であっても、封止体を通過して進行するタイプ(トップエミッションタイプ)であっても、自発光素子からの光が回路や電源線によって遮られることはない。つまり、両方のタイプに適用可能である。
The electro-optical device according to the present invention is attached to the substrate so as to seal the self-light-emitting element in cooperation with the substrate, the plurality of self-light-emitting elements formed on the substrate, and the substrate larger than the substrate. And a circuit for driving or controlling the light-emitting element provided on the sealing body so as not to overlap the substrate, and at least provided on the sealing body so as not to overlap the substrate. A power line for supplying power to one of the circuit and the self-luminous element.
According to this arrangement, since the circuit and the power supply line are provided in the sealing body, it is possible to make the substrate smaller than when at least one of them is provided on the substrate. Therefore, the number of substrates that can be cut out from one original substrate can be increased. On the other hand, the number of sealing bodies that can be cut out from one original substrate is reduced by this increase. Therefore, whether or not the manufacturing cost of the electro-optical device can be reduced depends on whether or not the decrease in cost according to the increase exceeds the increase in cost according to the decrease. . In general, the unit price of the original substrate from which the substrate is cut out is higher than the unit price of the original substrate from which the sealing body is cut out. Therefore, the decrease in cost corresponding to the above increase exceeds the increase in cost corresponding to the above decrease. As described above, according to this arrangement, the manufacturing cost of the electro-optical device can be reduced.
Further, according to this arrangement, the circuit and the power supply line do not overlap with the substrate. Therefore, even if the electro-optical device type is a type in which light from the self-luminous element travels through the substrate (bottom emission type), it is a type in which the light travels through the sealing body (top emission type). Even if it exists, the light from the self-luminous element is not blocked by the circuit or the power line. That is, it is applicable to both types.

好ましい形態において、上記回路は上記基板または上記封止体上に形成された積層体である。この形態では、一部の接続端子による電気的接続が不要になるので、電気光学装置の製造工程が簡略になる。また、一部の接続端子による電気的接続が不要になることにより、導通不良の発生確率が減るので、電気光学装置の信頼性が向上する。また、回路素子を封止体に取り付ける場合に比較して電気光学装置を小さくすることができる。   In a preferred embodiment, the circuit is a laminate formed on the substrate or the sealing body. In this embodiment, since the electrical connection by some of the connection terminals is unnecessary, the manufacturing process of the electro-optical device is simplified. In addition, since the electrical connection by some of the connection terminals is not necessary, the probability of occurrence of a conduction failure is reduced, and the reliability of the electro-optical device is improved. In addition, the electro-optical device can be made smaller than when the circuit element is attached to the sealing body.

また上記の電気光学装置において、上記封止体に取り付けられ伝導してきた熱を外気中に熱を放出する放熱機構を備えるようにしてもよい。これにより、電源線および回路から発せられた熱が外気中に放出され易くなるから、電源線および回路から自発光素子に伝わる熱を低減することができる。よって、電源線および回路の熱が自発光素子に与える悪影響を小さくすることができる。   The electro-optical device may further include a heat dissipation mechanism that releases heat that has been attached to and transmitted from the sealing body into the outside air. Accordingly, heat generated from the power line and the circuit is easily released into the outside air, so that heat transmitted from the power line and the circuit to the self-light emitting element can be reduced. Therefore, it is possible to reduce the adverse effect of the power line and circuit heat on the self-luminous element.

本発明に係る画像形成装置は、像担持体と、上記像担持体を帯電する帯電器と、複数の上記自発光素子が配列され、上記像担持体の帯電された面に複数の上記自発光素子により光を照射して潜像を形成する上記の電気光学装置と、上記潜像にトナーを付着させることにより上記像担持体に顕像を形成する現像器と、上記像担持体から上記顕像を他の物体に転写する転写器とを備える。上記のように本発明に係る電気光学装置では自発光素子が形成される基板を節約して製造コストを低減することができるので、この電気光学装置を備える画像形成装置についても製造コストの低減が可能である。   An image forming apparatus according to the present invention includes an image carrier, a charger for charging the image carrier, and a plurality of the self-light emitting elements, and a plurality of the self-light-emitting elements on a charged surface of the image carrier. The electro-optical device that forms a latent image by irradiating light from an element, the developing device that forms a visible image on the image carrier by attaching toner to the latent image, and the developer from the image carrier. A transfer unit that transfers the image to another object. As described above, in the electro-optical device according to the present invention, it is possible to reduce the manufacturing cost by saving the substrate on which the self-luminous element is formed. Therefore, the manufacturing cost of the image forming apparatus including the electro-optical device can be reduced. Is possible.

本発明に係る画像読み取り装置は、複数の上記自発光素子が配列された上記の電気光学装置と、上記自発光素子から発して読み取り対象で反射した光を電気信号に変換する受光装置とを備える。上記のように本発明に係る電気光学装置では自発光素子が形成される基板を節約して製造コストを低減することができるので、この電気光学装置を備える画像読み取り装置についても製造コストの低減が可能である。   An image reading apparatus according to the present invention includes the electro-optical device in which a plurality of the self-light-emitting elements are arranged, and a light-receiving device that converts light emitted from the self-light-emitting elements and reflected by a reading target into an electric signal. . As described above, the electro-optical device according to the present invention can reduce the manufacturing cost by saving the substrate on which the self-light-emitting element is formed. Therefore, the manufacturing cost of the image reading apparatus including the electro-optical device can be reduced. Is possible.

以下、添付の図面を参照しながら本発明に係る様々な実施の形態を説明する。なお、図面においては、各部の寸法の比率は実際のものとは適宜に異ならせてある。   Hereinafter, various embodiments according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the ratio of dimensions of each part is appropriately changed from the actual one.

<第1の実施の形態>
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る電気光学装置を示す断面図であり、図2はこの電気光学装置の部分平面図である。この電気光学装置は、電子写真方式を利用した画像形成装置における像担持体に潜像を書き込むためのライン型の光ヘッドとして用いられる。これらの図に示すように、電気光学装置10は、透明な基板12と、基板12に形成された複数のOLED素子(自発光素子)14を備える。基板12は好ましくはガラス、石英またはプラスチックにより形成された平板であり、基板12の上には多数のOLED素子(自発光素子)14が一列またはその他の適切なパターンで配列されている。図示の形態では、各OLED素子14から発せられた光が、透明な基板12を通過して図1の下方に進行する。すなわち、この電気光学装置はボトムエミッションタイプである。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an electro-optical device according to a first embodiment of the invention, and FIG. 2 is a partial plan view of the electro-optical device. This electro-optical device is used as a line-type optical head for writing a latent image on an image carrier in an image forming apparatus using an electrophotographic system. As shown in these drawings, the electro-optical device 10 includes a transparent substrate 12 and a plurality of OLED elements (self-emitting elements) 14 formed on the substrate 12. The substrate 12 is preferably a flat plate made of glass, quartz, or plastic, and a large number of OLED elements (self-emitting elements) 14 are arranged on the substrate 12 in a row or other appropriate pattern. In the illustrated form, light emitted from each OLED element 14 passes through the transparent substrate 12 and travels downward in FIG. That is, this electro-optical device is a bottom emission type.

基板12上には、OLED素子14に給電するための接続端子18AL,18BLならびにOLED素子14と接続端子18AL,18BLを接続する配線16が形成されている。
また、基板12と協働してこれらのOLED素子14を封止するように基板12には封止体24が取り付けられる。この封止は、OLED素子14を外気、特に水分および酸素から隔離してその劣化を抑制する。封止体24は、基板12よりも大きく、例えばガラス、金属、セラミック、またはプラスチックから形成されうる。もちろん、電気光学装置が、OLED素子から発せられた光が封止体14を通過して図1の上方に進行するトップエミッションタイプの場合には、封止体12は透明でなければならず、その材料として金属を採用することはできない。封止体24にはOLED素子14に給電するための接続端子18AU,18BUが基板12に対向する面に形成されている。基板12への封止体24の取り付けには、好ましくは接着剤22が用いられる。その際、接続端子間の電気的接続には、好ましくは異方性導電材料133が用いられる。接着剤としては、例えば熱硬化型接着剤または紫外線硬化型接着剤が用いられる。
On the substrate 12, connection terminals 18AL and 18BL for supplying power to the OLED element 14 and wiring 16 for connecting the OLED element 14 and the connection terminals 18AL and 18BL are formed.
Further, a sealing body 24 is attached to the substrate 12 so as to seal these OLED elements 14 in cooperation with the substrate 12. This sealing isolates the OLED element 14 from the outside air, particularly moisture and oxygen, and suppresses its deterioration. The sealing body 24 is larger than the substrate 12, and may be formed of, for example, glass, metal, ceramic, or plastic. Of course, when the electro-optical device is a top emission type in which light emitted from the OLED element passes through the sealing body 14 and travels upward in FIG. 1, the sealing body 12 must be transparent, Metal cannot be adopted as the material. In the sealing body 24, connection terminals 18 AU and 18 BU for supplying power to the OLED element 14 are formed on the surface facing the substrate 12. An adhesive 22 is preferably used for attaching the sealing body 24 to the substrate 12. At that time, an anisotropic conductive material 133 is preferably used for electrical connection between the connection terminals. As the adhesive, for example, a thermosetting adhesive or an ultraviolet curable adhesive is used.

OLEDの分野で使用される封止の種類には、基板12の一面全体を接着剤22により封止体24に接合する膜封止と、基板12の周縁部を接着剤22により封止体24に接合してOLED素子14の周囲に封止体24と基板12とで画定される空間を設けるキャップ封止がある。キャップ封止ではこの空間内に乾燥剤が配置される。この実施の形態は、膜封止とキャップ封止のいずれを利用してもよい。ただし、いずれの封止を用いるにせよ、接続端子18ALと接続端子18AUの電気的接続および接続端子18BLと接続端子18BUとの電気的接続には、接着剤22ではなく異方性導電材料133を用いる。なお、OLED素子14をさらに外気から隔離して保護するために一つ以上のパッシベーション層をOLED素子14の上層に設けてもよい。   The types of sealing used in the field of OLED include film sealing in which the entire surface of the substrate 12 is bonded to the sealing body 24 by the adhesive 22, and the peripheral portion of the substrate 12 is sealed by the adhesive 22. There is a cap sealing that provides a space defined by the sealing body 24 and the substrate 12 around the OLED element 14. In the cap sealing, a desiccant is disposed in this space. This embodiment may use either film sealing or cap sealing. However, regardless of which seal is used, the anisotropic conductive material 133 is used instead of the adhesive 22 for electrical connection between the connection terminal 18AL and the connection terminal 18AU and electrical connection between the connection terminal 18BL and the connection terminal 18BU. Use. One or more passivation layers may be provided in the upper layer of the OLED element 14 in order to further isolate and protect the OLED element 14 from the outside air.

封止体24には、OLED素子14を駆動するために電源線20A,20B,20Cおよび接続端子30AU,30BU,32AU,32BU,32CUが基板12に対向する面上の基板12に重ならない位置に形成されている。さらに、詳細な図示は省略するが、この面上には、電源線20A,20B,20Cと接続端子32AU,32BU,32CUを接続する配線と保護膜(絶縁膜)が設けられ、互いに接続すべきでない電源線と配線の間にはこの保護膜が介在している。接続端子32AU,32BU,32CUのうち、電源線20Aと導通しているのは接続端子32AUであり、電源線20Bと導通しているのは接続端子32BUであり、電源線20Cと導通しているのは接続端子32CUである。また、詳細な図示は省略するが、この面上には、接続端子30AU,30BUと接続端子18AU,18BUを接続する配線が設けられている。接続端子30AU,30BUのうち接続端子18AUと導通しているのは接続端子30AUであり、接続端子18BUと導通しているのは接続端子30BUである。   In the sealing body 24, the power supply lines 20 </ b> A, 20 </ b> B, 20 </ b> C and the connection terminals 30 </ b> AU, 30 </ b> BU, 32 </ b> AU, 32 </ b> BU, 32 </ b> CU are not positioned on the surface facing the substrate 12 in order to drive the OLED element 14. Is formed. Further, although detailed illustration is omitted, wirings for connecting the power supply lines 20A, 20B, and 20C and the connection terminals 32AU, 32BU, and 32CU and a protective film (insulating film) are provided on this surface and should be connected to each other. This protective film is interposed between the non-power supply line and the wiring. Of the connection terminals 32AU, 32BU, and 32CU, the connection terminal 32AU is electrically connected to the power line 20A, and the connection terminal 32BU is electrically connected to the power line 20B, and is electrically connected to the power line 20C. Is the connection terminal 32CU. Further, although not shown in detail, wirings for connecting the connection terminals 30AU and 30BU and the connection terminals 18AU and 18BU are provided on this surface. Of the connection terminals 30AU and 30BU, the connection terminal 30AU is electrically connected to the connection terminal 18AU, and the connection terminal 30BU is electrically connected to the connection terminal 18BU.

封止体24には、複数のOLED素子14を駆動するためのドライバICすなわち回路素子28が基板12に対向する面に取り付けられている。封止体24への回路素子28の取り付けには、好ましくは接着剤26および異方性導電材料131,132が用いられる。接着剤としては、例えば熱硬化型接着剤または紫外線硬化型接着剤が用いられる。   A driver IC for driving the plurality of OLED elements 14, that is, a circuit element 28 is attached to the sealing body 24 on the surface facing the substrate 12. For the attachment of the circuit element 28 to the sealing body 24, the adhesive 26 and the anisotropic conductive materials 131 and 132 are preferably used. As the adhesive, for example, a thermosetting adhesive or an ultraviolet curable adhesive is used.

後述するように、回路素子28は、複数のOLED素子14への給電のための配線と、これらのOLED素子14への通電のオン・オフ切替を行う要素を内蔵する。回路素子28は、封止体24に対向する面に接続端子30AL,30BL,32AL,32BL,32CLを有する。接続端子30AL,30BLは、異方性導電材料132を介して封止体24上の接続端子30AU,30BUにそれぞれ接続され、最終的にOLED素子14の陰極および陽極にそれぞれ接続されている。   As will be described later, the circuit element 28 includes a wiring for supplying power to the plurality of OLED elements 14 and an element for switching on / off the energization of these OLED elements 14. The circuit element 28 has connection terminals 30AL, 30BL, 32AL, 32BL, and 32CL on the surface facing the sealing body 24. The connection terminals 30AL and 30BL are connected to the connection terminals 30AU and 30BU on the sealing body 24 via the anisotropic conductive material 132, respectively, and finally connected to the cathode and the anode of the OLED element 14, respectively.

電源線20AはOLED素子14および回路素子28に対する共通の低電位電源線である。電源線20BはOLED素子14に対する高電位電源線である。電源線20Cは回路素子28に対する高電位電源線である。これらの電源線20A,20B,20Cは、図示しないフレキシブル基板を介して電源装置に接続される。
配線16、接続端子18AL,18AU,18BL,18BU,30AL,30AU,30BL,30BU,32AL,32AU,32BL,32BU,32CL,32CU、および電源線20A,20B,20Cは、例えばアルミニウムのような導電材料から形成されている。
The power line 20A is a common low potential power line for the OLED element 14 and the circuit element 28. The power supply line 20 </ b> B is a high potential power supply line for the OLED element 14. The power supply line 20C is a high potential power supply line for the circuit element 28. These power supply lines 20A, 20B, and 20C are connected to a power supply device via a flexible substrate (not shown).
The wiring 16, the connection terminals 18AL, 18AU, 18BL, 18BU, 30AL, 30AU, 30BL, 30BU, 32AL, 32AU, 32BL, 32BU, 32CL, 32CU and the power supply lines 20A, 20B, 20C are made of a conductive material such as aluminum. Formed from.

図3は、各OLED素子14の詳細を示す断面図である。OLED素子14は、透明なITO(Indium Tin Oxide)製の陽極42上に成膜された正孔注入層46と、その上に成膜された発光層48と、その上に成膜された陰極49を有する。正孔注入層46および発光層48は、絶縁層40および隔壁44で画定された凹部内に形成されている。絶縁層40の材料には例えばSiOがあり、隔壁44の材料には例えばポリイミドがある。 FIG. 3 is a cross-sectional view showing details of each OLED element 14. The OLED element 14 includes a hole injection layer 46 formed on a transparent anode 42 made of ITO (Indium Tin Oxide), a light emitting layer 48 formed thereon, and a cathode formed thereon. 49. The hole injection layer 46 and the light emitting layer 48 are formed in a recess defined by the insulating layer 40 and the partition wall 44. The material of the insulating layer 40 is, for example, SiO 2 , and the material of the partition wall 44 is, for example, polyimide.

陽極42は図3で示されていない導線を介して接続端子18BLに接続されており、詳細には図3で示されていないが接続端子18BLの背後にある接続端子18ALに陰極49は導線を介して接続されている。これらの導線は、図1に概略的に配線16として示されている。この実施の形態の各OLED素子14の構成は上記の通りであるが、本発明に係るOLED素子のバリエーションとしては、陰極と発光層の間に電子注入層を設けたタイプや、陽極と透明基板の間に絶縁層を設けたタイプなど他の層を有するタイプであってもよい。   The anode 42 is connected to the connection terminal 18BL via a conductor not shown in FIG. 3, and the cathode 49 is connected to the connection terminal 18AL behind the connection terminal 18BL, although not shown in detail in FIG. Connected through. These leads are shown schematically as wiring 16 in FIG. The configuration of each OLED element 14 of this embodiment is as described above, but variations of the OLED element according to the present invention include a type in which an electron injection layer is provided between a cathode and a light emitting layer, and an anode and a transparent substrate. It may be a type having another layer such as a type in which an insulating layer is provided between them.

図4は、電気光学装置10の駆動系統を示すブロック図である。図4に示すように、上述した回路素子28は、複数本、例えば128本のデータ線L0〜L127および選択回路280を備える。回路素子28にはデータ信号D0〜D127の他、各種の制御信号CTL、第1電源電位VICおよびグランド電位GNDが供給される。データ信号D0〜D127は図示しないデータ制御回路からデータ線L0〜L127に与えられる。第1電源電位VICは回路素子28に対する高電位電源線20Cから与えられ、グランド電位GNDはOLED素子14および回路素子28に対する共通の低電位電源線20Aから与えられる。   FIG. 4 is a block diagram illustrating a drive system of the electro-optical device 10. As shown in FIG. 4, the circuit element 28 described above includes a plurality of, for example, 128 data lines L0 to L127 and a selection circuit 280. In addition to the data signals D0 to D127, the circuit element 28 is supplied with various control signals CTL, a first power supply potential VIC, and a ground potential GND. Data signals D0 to D127 are applied to data lines L0 to L127 from a data control circuit (not shown). The first power supply potential VIC is supplied from the high potential power supply line 20C for the circuit element 28, and the ground potential GND is supplied from the common low potential power supply line 20A for the OLED element 14 and the circuit element 28.

図4に示された画素ブロックB1〜B40の各々は、一つの単位時間に駆動される複数個、例えば128個の画素回路Pの集合である。選択回路280には制御信号CTLとしてクロック信号が供給され、選択回路280はクロック信号に従って、選択信号SEL1〜SEL40を順次出力する。選択信号SEL1〜SEL40は、それぞれ画素ブロックB1〜B40に入力され、対応する画素ブロック内の128個の画素回路Pに供給される。各選択信号SEL1〜SEL40は、潜像書き込みの主走査期間の1/40の期間(選択期間)アクティブとなる。   Each of the pixel blocks B1 to B40 shown in FIG. 4 is a set of a plurality of, for example, 128 pixel circuits P that are driven in one unit time. The selection circuit 280 is supplied with a clock signal as the control signal CTL, and the selection circuit 280 sequentially outputs selection signals SEL1 to SEL40 in accordance with the clock signal. The selection signals SEL1 to SEL40 are input to the pixel blocks B1 to B40, respectively, and are supplied to 128 pixel circuits P in the corresponding pixel block. Each of the selection signals SEL1 to SEL40 becomes active for a period (selection period) of 1/40 of the main scanning period for latent image writing.

選択信号SEL1〜SEL40によって第1〜第40画素ブロックB1〜B40が排他的に順次選択される。このように主走査期間を複数の選択期間(書込期間)に分割して、画素ブロックB1〜B40を時分割駆動するので5120個(128×40)の画素回路Pのそれぞれに専用のデータ線を設ける必要がなく、データ線の本数を削減することができる。すなわち128本のデータ線L0〜L127で5120個の画素回路Pを制御することができる。第1〜第4画素ブロックB1〜B40の各々は、データ線L0〜L127にそれぞれ対応する128個の画素回路Pを備える。これらの画素回路Pには第2電源電位VELとグランド電位GNDが供給される。第2電源電位VELはOLED素子14に対する高電位電源線20Bから与えられ、グランド電位GNDはOLED素子14および回路素子28に対する共通の低電位電源線20Aから与えられる。そして、各選択期間においてデータ線L0〜L127を介して供給されるデータ信号D0〜D127が画素回路Pに取り込まれる。なお、この例のデータ信号D0〜D127はOLED素子の点灯・消灯を指示する2値の信号である。   The first to forty pixel blocks B1 to B40 are exclusively and sequentially selected by the selection signals SEL1 to SEL40. In this way, the main scanning period is divided into a plurality of selection periods (writing periods), and the pixel blocks B1 to B40 are driven in a time-sharing manner. Therefore, a dedicated data line is provided for each of the 5120 (128 × 40) pixel circuits P. The number of data lines can be reduced. That is, 5120 pixel circuits P can be controlled by 128 data lines L0 to L127. Each of the first to fourth pixel blocks B1 to B40 includes 128 pixel circuits P corresponding to the data lines L0 to L127, respectively. These pixel circuits P are supplied with the second power supply potential VEL and the ground potential GND. The second power supply potential VEL is supplied from the high potential power supply line 20B for the OLED element 14, and the ground potential GND is supplied from the common low potential power supply line 20A for the OLED element 14 and the circuit element 28. Then, the data signals D0 to D127 supplied via the data lines L0 to L127 in each selection period are taken into the pixel circuit P. The data signals D0 to D127 in this example are binary signals for instructing to turn on / off the OLED element.

図5は各画素回路Pの回路図である。各画素回路Pは、保持トランジスタ281、駆動トランジスタ282およびOLED素子14を備える。図中、回路素子28に内蔵されている部分を符号28で示している。これから明らかなように、保持トランジスタ281および駆動トランジスタ282は回路素子28に内蔵されている。保持トランジスタ281のゲートには選択回路280から選択信号SEL1〜SEL40のいずれかが供給され、そのソースはデータ線L0〜L127のいずれかと接続されることによりデータ信号D0〜D127のいずれかがソースに供給される。保持トランジスタ281のドレインと駆動トランジスタ282のゲートは接続線によって接続されている。接続線には浮遊容量が付随しており、この容量が保持容量として作用する。保持容量には選択期間において2値の電圧が書き込まれ、次の選択期間まで書き込まれた電圧が保持される。従って、保持トランジスタを選択信号SEL1〜SEL40により選択した期間においてデータ信号D0〜D127がOLED素子14の点灯を指示する信号である期間のみOLED素子14が発光することになる。   FIG. 5 is a circuit diagram of each pixel circuit P. Each pixel circuit P includes a holding transistor 281, a driving transistor 282, and the OLED element 14. In the figure, the part built in the circuit element 28 is denoted by reference numeral 28. As is clear from this, the holding transistor 281 and the driving transistor 282 are built in the circuit element 28. One of the selection signals SEL1 to SEL40 is supplied from the selection circuit 280 to the gate of the holding transistor 281 and the source thereof is connected to one of the data lines L0 to L127, so that one of the data signals D0 to D127 becomes the source. Supplied. The drain of the holding transistor 281 and the gate of the driving transistor 282 are connected by a connection line. A stray capacitance is attached to the connection line, and this capacitance acts as a holding capacitance. In the storage capacitor, a binary voltage is written in the selection period, and the written voltage is held until the next selection period. Therefore, the OLED element 14 emits light only during a period in which the data signals D0 to D127 are signals for instructing the lighting of the OLED element 14 in the period in which the holding transistors are selected by the selection signals SEL1 to SEL40.

駆動トランジスタ282のドレインには、高電位電源線20Bから接続端子32BU,32BLを介して第2電源電位VELが供給される。駆動トランジスタ282のソースは、接続端子30BL,30BU,18BU,18BLを介してOLED素子14の陽極と接続される。駆動トランジスタ282は、保持容量に書き込まれた電圧(2値)に応じた駆動電流をOLED素子14に供給する。OLED素子14の陰極には、低電位電源線20Aから接続端子32AU,32AL,30AL,30AU,18AU,18ALを介してグランド電位GNDが供給される。OLED素子14は駆動電流の大きさに応じた量の光を発光する。   The second power supply potential VEL is supplied to the drain of the drive transistor 282 from the high potential power supply line 20B through the connection terminals 32BU and 32BL. The source of the drive transistor 282 is connected to the anode of the OLED element 14 through the connection terminals 30BL, 30BU, 18BU, 18BL. The drive transistor 282 supplies a drive current corresponding to the voltage (binary value) written in the storage capacitor to the OLED element 14. The ground potential GND is supplied to the cathode of the OLED element 14 from the low potential power line 20A through the connection terminals 32AU, 32AL, 30AL, 30AU, 18AU, and 18AL. The OLED element 14 emits an amount of light corresponding to the magnitude of the drive current.

以上のように、回路素子28には、どの画素ブロックを通電可能にするかを選択する選択回路280と、選択された画素ブロック中のOLED素子14に通電するか否かを指令する(OLED素子14への通電のオン・オフ切替を行う)画素回路P(より正確には保持トランジスタ281および駆動トランジスタ282)を内蔵する。但し、選択回路280と同等の回路を回路素子28の外部に設けてもよいし、データ信号D0〜D127または各種の制御信号CTLを生成する制御回路を回路素子28の内部に設けてもよい。更に画素回路PをOLED素子14と同一の基板上に設ける事も可能であり、これらのバリエーションも本発明の範囲内にある。またこれらの回路素子28の構成要素は、一つの素子すなわちICチップに設けてもよいし、複数の素子に配分してもよい。   As described above, the circuit element 28 is instructed to select which pixel block can be energized and whether to energize the OLED element 14 in the selected pixel block (OLED element). The pixel circuit P (more precisely, the holding transistor 281 and the driving transistor 282) for turning on / off the power supply to 14 is incorporated. However, a circuit equivalent to the selection circuit 280 may be provided outside the circuit element 28, or a control circuit that generates the data signals D0 to D127 or various control signals CTL may be provided inside the circuit element 28. Further, it is possible to provide the pixel circuit P on the same substrate as the OLED element 14, and these variations are within the scope of the present invention. The components of these circuit elements 28 may be provided in one element, that is, an IC chip, or may be distributed to a plurality of elements.

次に第1の実施の形態の電気光学装置10を製造する手順を説明する。
図6に示すように、まず基板12上にOLED素子14、配線16および接続端子18AL,18BLを形成する。実際には、OLED素子14、配線16および接続端子18AL,18BLは複数の基板12が切り出される元の基板に形成され、この元の基板から基板12を切り出すことにより、OLED素子14、配線16および接続端子18AL,18BLが形成された基板12が得られる。
Next, a procedure for manufacturing the electro-optical device 10 according to the first embodiment will be described.
As shown in FIG. 6, first, the OLED element 14, the wiring 16 and the connection terminals 18 AL and 18 BL are formed on the substrate 12. Actually, the OLED element 14, the wiring 16 and the connection terminals 18AL and 18BL are formed on the original substrate from which the plurality of substrates 12 are cut out. By cutting the substrate 12 from the original substrate, the OLED elements 14, the wirings 16 and The substrate 12 on which the connection terminals 18AL and 18BL are formed is obtained.

また、封止体24上に接続端子18AU,30AU,30BU,32AU,32BU,32CUおよび電源線20A,20B,20Cを形成する。実際には、接続端子18AU,30AU,30BU,32AU,32BU,32CUおよび電源線20A,20B,20Cは複数の封止体24が切り出される元の基板に形成され、この元の基板から封止体24を切り出すことにより、接続端子18AU,30AU,30BU,32AU,32BU,32CUおよび電源線20A,20B,20Cが形成された封止体24が得られる。   In addition, connection terminals 18AU, 30AU, 30BU, 32AU, 32BU, 32CU and power supply lines 20A, 20B, 20C are formed on the sealing body 24. Actually, the connection terminals 18AU, 30AU, 30BU, 32AU, 32BU, 32CU and the power supply lines 20A, 20B, 20C are formed on the original substrate from which the plurality of sealing bodies 24 are cut out, and the sealing bodies are formed from the original substrates. By cutting 24, the sealing body 24 in which the connection terminals 18AU, 30AU, 30BU, 32AU, 32BU, 32CU and the power supply lines 20A, 20B, 20C are formed is obtained.

封止体24において接続端子および電源線が形成される位置は最も広い2つの面のうちの一方の面上であり、接続端子18AU,18BUを除くと、封止体24と基板12が接着されたときに基板12からはみ出す領域(基板12に重ならない領域)内である。なお、図示しないが、この後、電源線20A,20B,20Cを保護膜で保護してもよい。保護膜としては、例えばSiOの膜、SiNの膜、およびこれらの組み合わせがある。これらの形成方法は、公知のいずれの方法でもよく、その説明は省略する。 The position where the connection terminal and the power supply line are formed in the sealing body 24 is on one of the two widest surfaces. Excluding the connection terminals 18AU and 18BU, the sealing body 24 and the substrate 12 are bonded. In the region protruding from the substrate 12 (region not overlapping the substrate 12). Although not shown, thereafter, the power supply lines 20A, 20B, and 20C may be protected with a protective film. Examples of the protective film include a SiO 2 film, a SiN film, and a combination thereof. These forming methods may be any known method, and the description thereof is omitted.

基板12が切り出される元の基板へのOLED素子、配線および接続端子の形成では、メタル層、陽極、発光層(正孔輸送層、発光ポリマー層および電子注入層)、陰極、絶縁層、バンクおよび保護膜などの層が必要となる。つまり、封止体24が切り出される元の基板に接続端子および電源線を形成する場合に比較して、必要となる材料の種類や必要となるプロセスが遥かに多い。特に、発光層の形成には時間またはコストがかかる。例えば、液滴を塗布してこれらの層を形成する方法では、塗布、乾燥およびベークするプロセスが複雑で時間がかかる。また例えば、スパッタ法であっても、発光ポリマー層の材料は非常に高価であるからコストがかかる。   In the formation of the OLED element, the wiring and the connection terminal on the original substrate from which the substrate 12 is cut, a metal layer, an anode, a light emitting layer (a hole transport layer, a light emitting polymer layer and an electron injection layer), a cathode, an insulating layer, a bank, and A layer such as a protective film is required. That is, compared to the case where the connection terminal and the power supply line are formed on the original substrate from which the sealing body 24 is cut out, there are far more types of necessary materials and necessary processes. In particular, it takes time or cost to form the light emitting layer. For example, in the method of forming these layers by applying droplets, the process of applying, drying and baking is complicated and time consuming. Further, for example, even in the sputtering method, the material for the light emitting polymer layer is very expensive, and thus costs are high.

図7に示すように、次に封止体24に対して基板12および回路素子28を配置する。この配置は、基板12の接続端子18AL,18BLが封止体24の接続端子18AU,18BUにそれぞれ対向し、回路素子28の接続端子30AL,30BLが封止体24の接続端子30AU,30BUにそれぞれ対向し、かつ回路素子28の接続端子32AL,32BL,32CLが封止体24の接続端子32AU,32BU,32CUにそれぞれ対向するように行われる。   Next, as shown in FIG. 7, the substrate 12 and the circuit element 28 are arranged with respect to the sealing body 24. In this arrangement, the connection terminals 18AL and 18BL of the substrate 12 are opposed to the connection terminals 18AU and 18BU of the sealing body 24, respectively, and the connection terminals 30AL and 30BL of the circuit element 28 are respectively connected to the connection terminals 30AU and 30BU of the sealing body 24. The connection terminals 32AL, 32BL, and 32CL of the circuit element 28 face each other and face the connection terminals 32AU, 32BU, and 32CU of the sealing body 24, respectively.

図8に示すように、次に封止用の熱硬化型または紫外線硬化型の接着剤22,26を封止体24上にコートする一方、異方性導電材料131,132,133を封止体24の接続端子上にコートする。異方性導電材料のコートでは、異方性導電材料131が接続端子32AU,32BU,32CUにコートされ、異方性導電材料132が接続端子30AU,30BUにコートされ、異方性導電材料132が接続端子18AU,18BUにコートされる。   As shown in FIG. 8, next, a sealing thermosetting or ultraviolet curing adhesive 22, 26 is coated on the sealing body 24, while the anisotropic conductive materials 131, 132, 133 are sealed. Coat the connection terminals of the body 24. In the coating of the anisotropic conductive material, the anisotropic conductive material 131 is coated on the connection terminals 32AU, 32BU, and 32CU, the anisotropic conductive material 132 is coated on the connection terminals 30AU, 30BU, and the anisotropic conductive material 132 is formed. The connection terminals 18AU and 18BU are coated.

図9に示すように、次に基板12を接着剤22および異方性導電材料133上に置いて封止体24に貼り付け、この後接着剤22を硬化させる。その一方で、回路素子28を接着剤26および異方性導電材料131,132上に置いて封止体24に貼り付け、この後接着剤22を硬化させる。こうして、基板12の接続端子18AL,18BLが異方性導電材料133を介して封止体24の接続端子18AU,18BUとそれぞれ導通し、回路素子28の接続端子30AL,30BLが異方性導電材料132を介して封止体24の接続端子30AU,30BUとそれぞれ導通し、回路素子28の接続端子32AL,32BL,32CLが異方性導電材料131を介して封止体24の接続端子32AU,32BU,32CUとそれぞれ導通する。   As shown in FIG. 9, the substrate 12 is then placed on the adhesive 22 and the anisotropic conductive material 133 and attached to the sealing body 24, and then the adhesive 22 is cured. On the other hand, the circuit element 28 is placed on the adhesive 26 and the anisotropic conductive materials 131 and 132 and attached to the sealing body 24, and then the adhesive 22 is cured. Thus, the connection terminals 18AL and 18BL of the substrate 12 are electrically connected to the connection terminals 18AU and 18BU of the sealing body 24 through the anisotropic conductive material 133, respectively, and the connection terminals 30AL and 30BL of the circuit element 28 are anisotropically conductive materials. The connection terminals 30AU and 30BU of the sealing body 24 are electrically connected to each other through 132, and the connection terminals 32AL, 32BL and 32CL of the circuit element 28 are connected to the connection terminals 32AU and 32BU of the sealing body 24 through the anisotropic conductive material 131. , 32CU, respectively.

封止用の接着剤22は、図9に示すように、基板12と封止体24の間のスペースからはみ出して基板12および封止体24の側端部を部分的に覆う突出部22aを有してもよい。このような突出部22aを設けることにより、封止の効果をさらに高めることが可能である。突出部22aを設けるには、基板12と封止体24の間のスペースに配置されるだけの量よりも多い量の接着剤を基板12上にコートしてそのスペースから接着剤をはみ出させてもよいし、接着剤22が硬化した後にさらに接着剤をその外側にコートしてもよい。
こうして電気光学装置10が完成する。
As shown in FIG. 9, the sealing adhesive 22 protrudes from the space between the substrate 12 and the sealing body 24 and includes a protruding portion 22 a that partially covers the side ends of the substrate 12 and the sealing body 24. You may have. By providing such a protrusion 22a, the sealing effect can be further enhanced. In order to provide the protruding portion 22a, an amount of adhesive larger than the amount disposed in the space between the substrate 12 and the sealing body 24 is coated on the substrate 12, and the adhesive protrudes from the space. Alternatively, the adhesive may be further coated on the outside after the adhesive 22 is cured.
Thus, the electro-optical device 10 is completed.

この実施の形態の配置によれば、OLED素子14を駆動する回路素子28および電源線20A,20B,20Cは封止体24に設けられるから、両者の少なくとも一方を基板12に設ける場合に比較して基板12を小さくすることが可能である。したがって、1つの元の基板から切り出すことができる基板12の数を増加させることができる。その一方で、この増加分だけ、1つの元の基板から切り出し可能な封止体24の数が減少する。したがって、電気光学装置10の製造コストを低減することができるか否かは、上記の増加分に応じたコストの低下分が上記の減少分に応じたコストの上昇分を上回るか否かに依存する。   According to the arrangement of this embodiment, the circuit element 28 for driving the OLED element 14 and the power supply lines 20A, 20B, and 20C are provided in the sealing body 24. Therefore, as compared with the case where at least one of them is provided on the substrate 12. Thus, the substrate 12 can be made small. Accordingly, the number of substrates 12 that can be cut out from one original substrate can be increased. On the other hand, the number of sealing bodies 24 that can be cut out from one original substrate is reduced by this increase. Therefore, whether or not the manufacturing cost of the electro-optical device 10 can be reduced depends on whether or not the cost reduction corresponding to the increase exceeds the cost increase corresponding to the decrease. To do.

封止体24が切り出される元の基板については少数の層(例えば接続端子や電源線のためのメタル層と保護膜)を形成すればよいのに対して、基板12が切り出される元の基板については上述したように多数の層を形成する必要があり、必要となる材料および必要となるプロセスが多くなる。また、上述したようにOLED素子14を形成するプロセスは他の素子を形成するプロセスと比較して時間またはコストがかかる。このような事情により、基板12が切り出される元の基板の単価は封止体24が切り出される元の基板の単価よりも高くなるのが普通である。したがって、上記の増加分に応じたコストの低下分は上記の減少分に応じたコストの上昇分を上回ることになる。   The original substrate from which the sealing body 24 is cut out may be formed with a small number of layers (for example, a metal layer and a protective film for connection terminals and power supply lines), whereas the original substrate from which the substrate 12 is cut out. As described above, it is necessary to form a large number of layers, which requires more materials and more processes. Further, as described above, the process of forming the OLED element 14 takes time or cost as compared with the process of forming other elements. Under such circumstances, the unit price of the original substrate from which the substrate 12 is cut out is usually higher than the unit price of the original substrate from which the sealing body 24 is cut out. Therefore, the decrease in cost corresponding to the above increase exceeds the increase in cost corresponding to the above decrease.

以上より、この配置によれば電気光学装置10の製造コストを低減することができる。このことは、電気光学装置10を備えた装置全体の製造コストの低減につながる。   As described above, according to this arrangement, the manufacturing cost of the electro-optical device 10 can be reduced. This leads to a reduction in manufacturing cost of the entire apparatus including the electro-optical device 10.

また、回路素子28および電源線20A,20B,20Cは基板12に重ならないから、本実施形態のようにボトムエミッションタイプであっても、OLED素子14からの光が封止体を通過して進行するトップエミッションタイプであっても、OLED素子14からの光が回路素子28や電源線20A,20B,20Cによって遮られることはない。つまり、両方のタイプに適用可能である。   Further, since the circuit element 28 and the power supply lines 20A, 20B, and 20C do not overlap the substrate 12, the light from the OLED element 14 travels through the sealing body even in the bottom emission type as in the present embodiment. Even in the top emission type, the light from the OLED element 14 is not blocked by the circuit element 28 or the power supply lines 20A, 20B, 20C. That is, it is applicable to both types.

<第2の実施の形態>
図10は、本発明の第2の実施の形態に係る電気光学装置を示す断面図であり、図11はこの電気光学装置の部分平面図である。この電気光学装置50が前述の電気光学装置10と異なる点は、回路素子28を封止体24に取り付けるのではなく、回路素子28と同一の機能を有する回路積層体58を封止体24に形成するようにした点のみである。
<Second Embodiment>
FIG. 10 is a cross-sectional view showing an electro-optical device according to the second embodiment of the invention, and FIG. 11 is a partial plan view of the electro-optical device. The electro-optical device 50 is different from the electro-optical device 10 described above in that the circuit element 28 is not attached to the sealing body 24, but a circuit laminate 58 having the same function as the circuit element 28 is provided in the sealing body 24. It is only the point that was made to form.

なお、回路積層体58は封止体24に形成されるから、接続端子30AL,30AU,30BL,30BU,32AL,32AU,32BL,32BU,32CL,32CU、異方性導電材料131,132および接着剤26は不要である。つまり、電気光学装置50は、これらの接続端子、異方性導電材料および接着剤を用いることなく図5の等価回路を構成している。   Since the circuit laminate 58 is formed in the sealing body 24, the connection terminals 30AL, 30AU, 30BL, 30BU, 32AL, 32AU, 32BL, 32BU, 32CL, 32CU, the anisotropic conductive materials 131, 132, and the adhesive 26 is not necessary. That is, the electro-optical device 50 forms the equivalent circuit of FIG. 5 without using these connection terminals, anisotropic conductive material, and adhesive.

次に第2の実施の形態の電気光学装置50を製造する手順を説明する。
図12に示すように、まず基板12上にOLED素子14、配線16および接続端子18AL,18BLを形成する。この形成の詳細については第1の実施の形態にて述べた通りである。また、封止体24上に接続端子18AU,30AU,30BU,32AU,32BU,32CU、電源線20A,20B,20Cおよび回路積層体58を形成する。実際には、接続端子18AU,30AU,30BU,32AU,32BU,32CU、電源線20A,20B,20Cおよび回路積層体58は複数の封止体24が切り出される元の基板に形成され、この元の基板から封止体24を切り出すことにより、接続端子18AU,30AU,30BU,32AU,32BU,32CU、電源線20A,20B,20Cおよび回路積層体58が形成された封止体24が得られる。
Next, a procedure for manufacturing the electro-optical device 50 according to the second embodiment will be described.
As shown in FIG. 12, first, the OLED element 14, the wiring 16, and the connection terminals 18AL and 18BL are formed on the substrate 12. Details of this formation are as described in the first embodiment. In addition, connection terminals 18AU, 30AU, 30BU, 32AU, 32BU, 32CU, power supply lines 20A, 20B, 20C and a circuit laminate 58 are formed on the sealing body 24. Actually, the connection terminals 18AU, 30AU, 30BU, 32AU, 32BU, 32CU, the power supply lines 20A, 20B, 20C and the circuit laminate 58 are formed on the original substrate from which the plurality of sealing bodies 24 are cut out. By cutting out the sealing body 24 from the substrate, the sealing body 24 in which the connection terminals 18AU, 30AU, 30BU, 32AU, 32BU, 32CU, the power supply lines 20A, 20B, 20C and the circuit laminate 58 are formed is obtained.

封止体24において接続端子、電源線および回路積層体が形成される位置は最も広い2つの面のうちの一方の面上であり、接続端子18AU,18BUを除くと、封止体24と基板12が接着されたときに基板12からはみ出す領域(基板12に重ならない領域)内である。なお、図示しないが、この後、第1の実施の形態にて述べたように、電源線20A,20B,20Cを保護膜で保護してもよい。   The positions where the connection terminals, the power supply lines, and the circuit laminate are formed in the sealing body 24 are on one of the two widest surfaces. Excluding the connection terminals 18AU and 18BU, the sealing body 24 and the substrate This is a region that protrudes from the substrate 12 when the 12 is bonded (region that does not overlap the substrate 12). Although not shown, thereafter, as described in the first embodiment, the power supply lines 20A, 20B, and 20C may be protected by a protective film.

図13に示すように、次に封止体24に対して基板12を配置する。この配置は、基板12の接続端子18AL,18BLが封止体24の接続端子18AU,18BUにそれぞれ対向するように行われる。   Next, as shown in FIG. 13, the substrate 12 is disposed with respect to the sealing body 24. This arrangement is performed so that the connection terminals 18AL and 18BL of the substrate 12 face the connection terminals 18AU and 18BU of the sealing body 24, respectively.

図14に示すように、次に封止用の熱硬化型または紫外線硬化型の接着剤22を封止体24上にコートする一方、異方性導電材料133を封止体24の接続端子18AU,18BU上にコートする。   As shown in FIG. 14, a sealing thermosetting or ultraviolet curable adhesive 22 is then coated on the sealing body 24, while the anisotropic conductive material 133 is applied to the connection terminal 18 AU of the sealing body 24. Coat on 18BU.

図15に示すように、次に基板12を接着剤22および異方性導電材料133上に置いて封止体24に貼り付け、この後接着剤22を硬化させる。こうして、基板12の接続端子18AL,18BLが異方性導電材料133を介して封止体24の接続端子18AU,18BUとそれぞれ導通する。
こうして電気光学装置50が完成する。
As shown in FIG. 15, next, the substrate 12 is placed on the adhesive 22 and the anisotropic conductive material 133 and attached to the sealing body 24, and then the adhesive 22 is cured. Thus, the connection terminals 18AL and 18BL of the substrate 12 are electrically connected to the connection terminals 18AU and 18BU of the sealing body 24 via the anisotropic conductive material 133, respectively.
Thus, the electro-optical device 50 is completed.

この実施の形態の配置によれば、OLED素子14を駆動する回路積層体58および電源線20A,20B,20Cは封止体24に形成されるから、両者の少なくとも一方を基板12に設ける場合に比較して基板12を小さくすることが可能である。したがって、1つの元の基板から切り出すことができる基板12の数を増加させることができる。その一方で、この増加分だけ、1つの元の基板から切り出し可能な封止体24の数が減少する。したがって、電気光学装置10の製造コストを低減することができるか否かは、上記の増加分に応じたコストの低下分が上記の減少分に応じたコストの上昇分を上回るか否かに依存する。上述したようにOLED素子14を形成するプロセスは他の素子を形成するプロセスと比較して時間またはコストがかかる。よって、基板12が切り出される元の基板の単価は封止体24が切り出される元の基板の単価よりも高くなるのが普通である。したがって、上記の増加分に応じたコストの低下分は上記の減少分に応じたコストの上昇分を上回ることになる。以上より、この配置によれば、電気光学装置50の製造コストを低減することができる。このことは、電気光学装置50を備えた装置全体の製造コストの低減につながる。また、回路積層体58および電源線20A,20B,20Cは基板12に重ならないから、第1の実施の形態にて述べたように、ボトムエミッションタイプとトップエミッションタイプの両方に適用可能である。   According to the arrangement of this embodiment, since the circuit laminate 58 and the power supply lines 20A, 20B, and 20C that drive the OLED element 14 are formed on the sealing body 24, when at least one of them is provided on the substrate 12. In comparison, the substrate 12 can be made smaller. Accordingly, the number of substrates 12 that can be cut out from one original substrate can be increased. On the other hand, the number of sealing bodies 24 that can be cut out from one original substrate is reduced by this increase. Therefore, whether or not the manufacturing cost of the electro-optical device 10 can be reduced depends on whether or not the cost reduction corresponding to the increase exceeds the cost increase corresponding to the decrease. To do. As described above, the process of forming the OLED element 14 takes time or cost compared to the process of forming other elements. Therefore, the unit price of the original substrate from which the substrate 12 is cut out is usually higher than the unit price of the original substrate from which the sealing body 24 is cut out. Therefore, the decrease in cost corresponding to the above increase exceeds the increase in cost corresponding to the above decrease. As described above, according to this arrangement, the manufacturing cost of the electro-optical device 50 can be reduced. This leads to a reduction in manufacturing cost of the entire apparatus including the electro-optical device 50. Further, since the circuit laminate 58 and the power supply lines 20A, 20B, and 20C do not overlap with the substrate 12, as described in the first embodiment, the circuit laminate 58 and the power supply lines 20A, 20B, and 20C can be applied to both the bottom emission type and the top emission type.

また、OLED素子14を駆動する回路は封止体24上に形成された回路積層体58であるから、一部の接続端子による電気的接続が不要になる。これにより、電気光学装置の製造工程が簡略になる。また、一部の接続端子による電気的接続が不要になることにより、導通不良の発生確率が減るので、電気光学装置の信頼性が向上する。また、回路積層体58は回路素子28よりも小さいから電気光学装置の小型化にも寄与する。   Further, since the circuit for driving the OLED element 14 is the circuit laminate 58 formed on the sealing body 24, electrical connection by some connection terminals is not necessary. Thereby, the manufacturing process of the electro-optical device is simplified. In addition, since the electrical connection by some of the connection terminals is not necessary, the probability of occurrence of a conduction failure is reduced, and the reliability of the electro-optical device is improved. Further, since the circuit laminate 58 is smaller than the circuit element 28, it contributes to miniaturization of the electro-optical device.

<第3の実施の形態>
第3の実施の形態に係る電気光学装置は、上述の電気光学装置10または電気光学装置50を変形して得られる。この実施の形態に係る電気光学装置が上述の電気光学装置10または電気光学装置50と異なる点は、電源線20A,20B,20Cおよび回路(回路素子28または回路積層体58)により発せられた熱がOLED素子14へより伝わり難く構成されている点のみである。
<Third Embodiment>
The electro-optical device according to the third embodiment is obtained by modifying the electro-optical device 10 or the electro-optical device 50 described above. The electro-optical device according to this embodiment is different from the electro-optical device 10 or the electro-optical device 50 described above in that the heat generated by the power supply lines 20A, 20B, 20C and the circuit (the circuit element 28 or the circuit laminate 58). However, it is only a point that is difficult to be transmitted to the OLED element 14.

電源線20A,20B,20Cおよび回路は少なからぬ熱を発する。一方、OLED素子14は熱による悪影響を受け易い。よって、電源線20A,20B,20Cおよび回路の熱がOLED素子14に伝わり難くするのが望ましい。これを実現するために、この実施の形態では、封止体24に代えて基板12よりも熱伝導率の低い材料により形成された封止体を採用する一方、熱伝導により外気中に熱を放出する放熱フィンを封止体に取り付けた構成を採っている。   The power supply lines 20A, 20B, 20C and the circuit generate considerable heat. On the other hand, the OLED element 14 is easily affected by heat. Therefore, it is desirable that the heat of the power supply lines 20A, 20B, 20C and the circuit is not easily transmitted to the OLED element 14. In order to realize this, in this embodiment, instead of the sealing body 24, a sealing body formed of a material having a lower thermal conductivity than the substrate 12 is adopted, while heat is transferred to the outside air by heat conduction. The structure which attached the radiation fin to discharge | release to the sealing body is taken.

例えば基板12をガラスにより形成する場合には、ガラスよりも熱伝導率の低いステアタイトやフォルステライトにより封止体を形成する。もちろん、これらの材料以外の材料により封止体を形成してもよいが、水分や酸素を透過させないといった封止体に必須の特性を持つ材料を選択する必要がある。なお、ステアタイトとフォルステライトのどちらを採用するかは、熱伝導率の低さと光透過率の高さとのどちらを重視するかに応じて決定するとよい。例えば熱伝導率の低さを重視するのであればステアタイトを採用するのが適切であり、光透過率の高さを重視するのであればフォルステライトを採用するのが適切である。   For example, when the substrate 12 is formed of glass, the sealing body is formed of steatite or forsterite having a lower thermal conductivity than glass. Of course, the sealing body may be formed of a material other than these materials, but it is necessary to select a material having characteristics essential to the sealing body that does not allow moisture or oxygen to pass therethrough. Note that whether steatite or forsterite is used may be determined according to which of low thermal conductivity and high light transmittance is important. For example, it is appropriate to adopt steatite if importance is placed on low thermal conductivity, and forsterite is appropriate if importance is attached to high light transmittance.

放熱フィンはアルミニウムや銅などの金属材料により形成されており、電源線20A,20B,20Cおよび回路が形成されている面に取り付けられている。より具体的には、電源線20A,20B,20Cおよび回路に貼り付けられている。ただし、電源線20A,20B,20Cと放熱フィンとの間には保護膜が存在する。放熱フィンの形状および数は任意である。例えば、電気光学装置10を変形して得られる電気光学装置において、電源線20A,20B,20Cを覆うように1つの放熱フィンを貼り付ける一方、回路装置28を覆うように別の放熱フィンを貼り付けるようにしてもよいし、電源線20A,20B,20Cおよび回路装置28を覆うように折れ曲がった1つの放熱フィンを貼り付けるようにしてもよい。   The heat radiating fin is made of a metal material such as aluminum or copper, and is attached to the surface on which the power supply lines 20A, 20B, 20C and the circuit are formed. More specifically, the power supply lines 20A, 20B, and 20C are attached to the circuit. However, a protective film exists between the power supply lines 20A, 20B, and 20C and the heat radiation fin. The shape and number of radiating fins are arbitrary. For example, in an electro-optical device obtained by modifying the electro-optical device 10, one radiating fin is pasted so as to cover the power supply lines 20A, 20B, and 20C, and another radiating fin is pasted so as to cover the circuit device 28. You may make it attach, and you may make it stick one radiating fin bent so that power supply line 20A, 20B, 20C and the circuit apparatus 28 may be covered.

電源線20A,20B,20Cおよび回路への放熱フィンの貼り付けは、電源線20A,20B,20Cおよび回路に放熱フィンを接着することにより行われる。この接着が行われるタイミングは任意である。例えば図6に示す工程と図7に示す工程との間であってもよいし、図12に示す工程と図13に示す工程との間であってもよい。または、例えば図10に示す工程の後であってもよいし、図15に示す工程の後であってもよい。   The heat radiation fins are attached to the power supply lines 20A, 20B, 20C and the circuit by adhering the heat radiation fins to the power supply lines 20A, 20B, 20C and the circuit. The timing at which this bonding is performed is arbitrary. For example, it may be between the step shown in FIG. 6 and the step shown in FIG. 7, or between the step shown in FIG. 12 and the step shown in FIG. Alternatively, for example, it may be after the step shown in FIG. 10 or after the step shown in FIG.

この実施の形態の配置によれば、電源線20A,20B,20Cおよび回路が配置される封止体の材料の熱伝導率が基板12の材料の熱伝導率よりも低いから、電源線20A,20B,20Cおよび回路を基板12上に配置する場合に比較して、OLED素子14に伝わる熱を低減することができる。これにより、電源線20A,20B,20Cおよび回路の熱がOLED素子14に与える悪影響を小さくすることができる。   According to the arrangement of this embodiment, since the thermal conductivity of the power supply lines 20A, 20B, 20C and the material of the sealing body in which the circuit is arranged is lower than the thermal conductivity of the material of the substrate 12, the power supply lines 20A, 20A, Compared with the case where 20B and 20C and a circuit are arrange | positioned on the board | substrate 12, the heat transmitted to the OLED element 14 can be reduced. Thereby, the bad influence which the heat of power supply line 20A, 20B, 20C and a circuit has on the OLED element 14 can be made small.

また、放熱フィンを備えたことにより、放熱フィンを備えない場合に比較して、電源線20A,20B,20Cおよび回路により発せられた熱が外気中に放出され易くなるから、電源線20A,20B,20Cおよび回路からOLED素子14に伝わる熱を低減することができる。よって、電源線20A,20B,20Cおよび回路の熱がOLED素子14に与える悪影響を小さくすることができる。   Since the heat radiation fins are provided, the heat generated by the power lines 20A, 20B, and 20C and the circuit is easily released into the outside air as compared with the case where the heat radiation fins are not provided. 20C and the heat transferred from the circuit to the OLED element 14 can be reduced. Therefore, the adverse effect of the power lines 20A, 20B, 20C and the heat of the circuit on the OLED element 14 can be reduced.

<画像形成装置>
上述したように、第1〜第3の実施の形態に係る各電気光学装置は、電子写真方式を利用した画像形成装置における像担持体に潜像を書き込むためのライン型の光ヘッドとして用いることが可能である。画像形成装置の例としては、プリンタ、複写機の印刷部分およびファクシミリの印刷部分がある。
<Image forming apparatus>
As described above, each electro-optical device according to the first to third embodiments is used as a line-type optical head for writing a latent image on an image carrier in an image forming apparatus using an electrophotographic system. Is possible. Examples of the image forming apparatus include a printer, a printing part of a copying machine, and a printing part of a facsimile.

図16は、上記各電気光学装置をライン型の光ヘッドとして用いた画像形成装置の一例を示す縦断面図である。この画像形成装置は、ベルト中間転写体方式を利用したタンデム型のフルカラー画像形成装置である。   FIG. 16 is a longitudinal sectional view showing an example of an image forming apparatus using each of the electro-optical devices as a line type optical head. This image forming apparatus is a tandem type full color image forming apparatus using a belt intermediate transfer body system.

この画像形成装置では、同様な構成の4個の有機ELアレイ露光ヘッド10K,10C,10M,10Yが、同様な構成である4個の感光体ドラム(像担持体)110K,110C,110M,110Yの露光位置にそれぞれ配置されている。有機ELアレイ露光ヘッド10K,10C,10M,10Yは上記各電気光学装置である。   In this image forming apparatus, four organic EL array exposure heads 10K, 10C, 10M, and 10Y having the same configuration have four photosensitive drums (image carriers) 110K, 110C, 110M, and 110Y having the same configuration. The exposure positions are respectively arranged. The organic EL array exposure heads 10K, 10C, 10M, and 10Y are the electro-optical devices described above.

図16に示すように、この画像形成装置には、駆動ローラ121と従動ローラ122が設けられており、これらのローラ121,122には無端の中間転写ベルト120が巻回されて、矢印に示すようにローラ121,122の周囲を回転させられる。図示しないが、中間転写ベルト120に張力を与えるテンションローラなどの張力付与手段を設けてもよい。   As shown in FIG. 16, this image forming apparatus is provided with a driving roller 121 and a driven roller 122, and an endless intermediate transfer belt 120 is wound around these rollers 121 and 122, as indicated by arrows. Thus, the periphery of the rollers 121 and 122 is rotated. Although not shown, tension applying means such as a tension roller that applies tension to the intermediate transfer belt 120 may be provided.

この中間転写ベルト120の周囲には、互いに所定間隔をおいて4個の外周面に感光層を有する感光体ドラム110K,110C,110M,110Yが配置される。添え字K,C,M,Yはそれぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローの顕像を形成するために使用されることを意味している。他の部材についても同様である。感光体ドラム110K,110C,110M,110Yは、中間転写ベルト120の駆動と同期して回転駆動される。   Around the intermediate transfer belt 120, photosensitive drums 110K, 110C, 110M, and 110Y having photosensitive layers on four outer peripheral surfaces are arranged at predetermined intervals. The subscripts K, C, M, and Y mean that they are used to form black, cyan, magenta, and yellow visible images, respectively. The same applies to other members. The photosensitive drums 110K, 110C, 110M, and 110Y are rotationally driven in synchronization with the driving of the intermediate transfer belt 120.

各感光体ドラム110(K,C,M,Y)の周囲には、コロナ帯電器111(K,C,M,Y)と、有機ELアレイ露光ヘッド10(K,C,M,Y)と、現像器114(K,C,M,Y)が配置されている。コロナ帯電器111(K,C,M,Y)は、対応する感光体ドラム110(K,C,M,Y)の外周面を一様に帯電させる。有機ELアレイ露光ヘッド10(K,C,M,Y)は、感光体ドラムの帯電させられた外周面に静電潜像を書き込む。各有機ELアレイ露光ヘッド10(K,C,M,Y)は、複数のOLED素子14の配列方向が感光体ドラム110(K,C,M,Y)の母線(主走査方向)に沿うように設置される。静電潜像の書き込みは、上記の複数のOLED素子14により光を感光体ドラムに照射することにより行う。現像器114(K,C,M,Y)は、静電潜像に現像剤としてのトナーを付着させることにより感光体ドラムに顕像すなわち可視像を形成する。   Around each photosensitive drum 110 (K, C, M, Y), a corona charger 111 (K, C, M, Y), an organic EL array exposure head 10 (K, C, M, Y), and Developers 114 (K, C, M, Y) are disposed. The corona charger 111 (K, C, M, Y) uniformly charges the outer peripheral surface of the corresponding photosensitive drum 110 (K, C, M, Y). The organic EL array exposure head 10 (K, C, M, Y) writes an electrostatic latent image on the charged outer peripheral surface of the photosensitive drum. In each organic EL array exposure head 10 (K, C, M, Y), the arrangement direction of the plurality of OLED elements 14 is aligned with the bus (main scanning direction) of the photosensitive drum 110 (K, C, M, Y). Installed. The electrostatic latent image is written by irradiating the photosensitive drum with light from the plurality of OLED elements 14. The developing device 114 (K, C, M, Y) forms a visible image, that is, a visible image on the photosensitive drum by attaching toner as a developer to the electrostatic latent image.

このような4色の単色顕像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各顕像は、中間転写ベルト120上に順次一次転写されることにより、中間転写ベルト120上で重ね合わされて、この結果フルカラーの顕像が得られる。中間転写ベルト120の内側には、4つの一次転写コロトロン(転写器)112(K,C,M,Y)が配置されている。一次転写コロトロン112(K,C,M,Y)は、感光体ドラム110(K,C,M,Y)の近傍にそれぞれ配置されており、感光体ドラム110(K,C,M,Y)から顕像を静電的に吸引することにより、感光体ドラムと一次転写コロトロンの間を通過する中間転写ベルト120に顕像を転写する。   The black, cyan, magenta, and yellow developed images formed by the four-color single-color image forming station are sequentially transferred onto the intermediate transfer belt 120 to be superimposed on the intermediate transfer belt 120. As a result, a full-color visible image is obtained. Four primary transfer corotrons (transfer devices) 112 (K, C, M, Y) are arranged inside the intermediate transfer belt 120. The primary transfer corotron 112 (K, C, M, Y) is disposed in the vicinity of the photosensitive drum 110 (K, C, M, Y), and the photosensitive drum 110 (K, C, M, Y). The electrostatic image is electrostatically attracted from the toner image to transfer the visible image to the intermediate transfer belt 120 passing between the photosensitive drum and the primary transfer corotron.

最終的に画像を形成する対象としてのシート102は、ピックアップローラ103によって、給紙カセット101から1枚ずつ給送されて、駆動ローラ121に接した中間転写ベルト120と二次転写ローラ126の間のニップに送られる。中間転写ベルト120上のフルカラーの顕像は、二次転写ローラ126によってシート102の片面に一括して二次転写され、定着部である定着ローラ対127を通ることでシート102上に定着される。この後、シート102は、排紙ローラ対128によって、装置上部に形成された排紙カセット上へ排出される。   A sheet 102 as an object on which an image is to be finally formed is fed one by one from the sheet feeding cassette 101 by the pickup roller 103, and between the intermediate transfer belt 120 and the secondary transfer roller 126 in contact with the driving roller 121. Sent to the nip. The full-color visible image on the intermediate transfer belt 120 is secondarily transferred to one side of the sheet 102 by the secondary transfer roller 126 and fixed on the sheet 102 through the fixing roller pair 127 as a fixing unit. . Thereafter, the sheet 102 is discharged onto a paper discharge cassette formed in the upper part of the apparatus by a paper discharge roller pair 128.

図16の画像形成装置は、書き込み手段として有機ELアレイを有する上記各電気光学装置を用いているので、従来よりも装置の製造コストを低減することができる。   The image forming apparatus shown in FIG. 16 uses the electro-optical devices having an organic EL array as writing means, so that the manufacturing cost of the device can be reduced as compared with the conventional case.

次に、本発明に係る画像形成装置の他の実施の形態について説明する。
図17は、上記各電気光学装置をライン型の光ヘッドとして用いた他の画像形成装置の縦断面図である。この画像形成装置は、ベルト中間転写体方式を利用したロータリ現像式のフルカラー画像形成装置である。図17に示す画像形成装置において、感光体ドラム(像担持体)165の周囲には、コロナ帯電器168、ロータリ式の現像ユニット161、有機ELアレイ露光ヘッド167、中間転写ベルト169が設けられている。
Next, another embodiment of the image forming apparatus according to the present invention will be described.
FIG. 17 is a longitudinal sectional view of another image forming apparatus using the electro-optical devices as line type optical heads. This image forming apparatus is a rotary developing type full-color image forming apparatus using a belt intermediate transfer body system. In the image forming apparatus shown in FIG. 17, a corona charger 168, a rotary developing unit 161, an organic EL array exposure head 167, and an intermediate transfer belt 169 are provided around a photosensitive drum (image carrier) 165. Yes.

コロナ帯電器168は、感光体ドラム165の外周面を一様に帯電させる。有機ELアレイ露光ヘッド167は、感光体ドラム165の帯電させられた外周面に静電潜像を書き込む。有機ELアレイ露光ヘッド167は、上記各電気光学装置であり、複数のOLED素子14の配列方向が感光体ドラム165の母線(主走査方向)に沿うように設置される。静電潜像の書き込みは、上記の複数のOLED素子14により光を感光体ドラムに照射することにより行う。   The corona charger 168 uniformly charges the outer peripheral surface of the photosensitive drum 165. The organic EL array exposure head 167 writes an electrostatic latent image on the charged outer peripheral surface of the photosensitive drum 165. The organic EL array exposure head 167 is each of the electro-optical devices described above, and is installed such that the arrangement direction of the plurality of OLED elements 14 is along the bus line (main scanning direction) of the photosensitive drum 165. The electrostatic latent image is written by irradiating the photosensitive drum with light from the plurality of OLED elements 14.

現像ユニット161は、4つの現像器163Y,163C,163M,163Kが90°の角間隔をおいて配置されたドラムであり、軸161aを中心にして反時計回りに回転可能である。現像器163Y,163C,163M,163Kは、それぞれイエロー、シアン、マゼンタ、黒のトナーを感光体ドラム165に供給して、静電潜像に現像剤としてのトナーを付着させることにより感光体ドラム165に顕像すなわち可視像を形成する。   The developing unit 161 is a drum in which four developing units 163Y, 163C, 163M, and 163K are arranged at an angular interval of 90 °, and can rotate counterclockwise about the shaft 161a. The developing units 163Y, 163C, 163M, and 163K supply yellow, cyan, magenta, and black toners to the photosensitive drum 165, respectively, and attach the toner as a developer to the electrostatic latent image, thereby the photosensitive drum 165. A visible image, that is, a visible image is formed.

無端の中間転写ベルト169は、駆動ローラ170a、従動ローラ170b、一次転写ローラ166およびテンションローラに巻回されて、これらのローラの周囲を矢印に示す向きに回転させられる。一次転写ローラ166は、感光体ドラム165から顕像を静電的に吸引することにより、感光体ドラムと一次転写ローラ166の間を通過する中間転写ベルト169に顕像を転写する。   The endless intermediate transfer belt 169 is wound around a driving roller 170a, a driven roller 170b, a primary transfer roller 166, and a tension roller, and is rotated around these rollers in a direction indicated by an arrow. The primary transfer roller 166 transfers the visible image to the intermediate transfer belt 169 that passes between the photosensitive drum and the primary transfer roller 166 by electrostatically attracting the visible image from the photosensitive drum 165.

具体的には、感光体ドラム165の最初の1回転で、露光ヘッド167によりイエロー(Y)像のための静電潜像が書き込まれて現像器163Yにより同色の顕像が形成され、さらに中間転写ベルト169に転写される。また、次の1回転で、露光ヘッド167によりシアン(C)像のための静電潜像が書き込まれて現像器163Cにより同色の顕像が形成され、イエローの顕像に重なり合うように中間転写ベルト169に転写される。そして、このようにして感光体ドラム9が4回転する間に、イエロー、シアン、マゼンタ、黒の顕像が中間転写ベルト169に順次重ね合わせられ、この結果フルカラーの顕像が転写ベルト169上に形成される。最終的に画像を形成する対象としてのシートの両面に画像を形成する場合には、中間転写ベルト169に表面と裏面の同色の顕像を転写し、次に中間転写ベルト169に表面と裏面の次の色の顕像を転写する形式で、フルカラーの顕像を中間転写ベルト169上で得る。   Specifically, in the first rotation of the photosensitive drum 165, an electrostatic latent image for a yellow (Y) image is written by the exposure head 167, and a developed image of the same color is formed by the developing unit 163Y. The image is transferred to the transfer belt 169. Further, in the next rotation, an electrostatic latent image for a cyan (C) image is written by the exposure head 167, and a developed image of the same color is formed by the developing device 163C. The intermediate transfer is performed so as to overlap the yellow developed image. Transferred to the belt 169. Then, during the four rotations of the photosensitive drum 9, the yellow, cyan, magenta, and black visible images are sequentially superimposed on the intermediate transfer belt 169. As a result, a full-color visible image is formed on the transfer belt 169. It is formed. When images are finally formed on both sides of a sheet as an object on which an image is to be formed, the same color images of the front and back surfaces are transferred to the intermediate transfer belt 169, and then the front and back surfaces are transferred to the intermediate transfer belt 169. A full-color visible image is obtained on the intermediate transfer belt 169 by transferring the visible image of the next color.

画像形成装置には、シートが通過させられるシート搬送路174が設けられている。シートは、給紙カセット178から、ピックアップローラ179によって1枚ずつ取り出され、搬送ローラによってシート搬送路174を進行させられ、駆動ローラ170aに接した中間転写ベルト169と二次転写ローラ171の間のニップを通過する。二次転写ローラ171は、中間転写ベルト169からフルカラーの顕像を一括して静電的に吸引することにより、シートの片面に顕像を転写する。二次転写ローラ171は、図示しないクラッチにより中間転写ベルト169に接近および離間させられるようになっている。そして、シートにフルカラーの顕像を転写する時に二次転写ローラ171は中間転写ベルト169に当接させられ、中間転写ベルト169に顕像を重ねている間は二次転写ローラ171から離される。   The image forming apparatus is provided with a sheet conveyance path 174 through which a sheet passes. The sheets are picked up one by one from the paper feed cassette 178 by the pick-up roller 179, advanced through the sheet transport path 174 by the transport roller, and between the intermediate transfer belt 169 and the secondary transfer roller 171 in contact with the drive roller 170a. Pass through the nip. The secondary transfer roller 171 transfers the developed image to one side of the sheet by electrostatically attracting a full-color developed image from the intermediate transfer belt 169 collectively. The secondary transfer roller 171 can be moved closer to and away from the intermediate transfer belt 169 by a clutch (not shown). The secondary transfer roller 171 is brought into contact with the intermediate transfer belt 169 when a full-color visible image is transferred onto the sheet, and is separated from the secondary transfer roller 171 while the visible image is superimposed on the intermediate transfer belt 169.

上記のようにして画像が転写されたシートは定着器172に搬送され、定着器172の加熱ローラ172aと加圧ローラ172bの間を通過させられることにより、シート上の顕像が定着する。定着処理後のシートは、排紙ローラ対176に引き込まれて矢印Fの向きに進行する。両面印刷の場合には、シートの大部分が排紙ローラ対176を通過した後、排紙ローラ対176が逆方向に回転させられ、矢印Gで示すように両面印刷用搬送路175に導入される。そして、二次転写ローラ171により顕像がシートの他面に転写され、再度定着器172で定着処理が行われた後、排紙ローラ対176でシートが排出される。   The sheet on which the image has been transferred as described above is conveyed to the fixing device 172 and is passed between the heating roller 172a and the pressure roller 172b of the fixing device 172, whereby the visible image on the sheet is fixed. The sheet after the fixing process is drawn into the discharge roller pair 176 and proceeds in the direction of arrow F. In the case of double-sided printing, after most of the sheet passes through the paper discharge roller pair 176, the paper discharge roller pair 176 is rotated in the reverse direction and introduced into the double-sided printing conveyance path 175 as indicated by an arrow G. The Then, the visible image is transferred to the other surface of the sheet by the secondary transfer roller 171, the fixing process is performed again by the fixing device 172, and then the sheet is discharged by the discharge roller pair 176.

図17の画像形成装置は、書き込み手段として有機ELアレイを有する露光ヘッド167(上記各電気光学装置)を用いているので、従来よりも装置の製造コストを低減することができる。   Since the image forming apparatus of FIG. 17 uses the exposure head 167 (each electro-optical device described above) having an organic EL array as writing means, the manufacturing cost of the device can be reduced as compared with the conventional case.

以上、上記各電気光学装置を応用可能な画像形成装置を例示したが、他の電子写真方式の画像形成装置にも上記各電気光学装置を応用することが可能であり、そのような画像形成装置は本発明の範囲内にある。例えば、中間転写ベルトを使用せずに感光体ドラムから直接シートに顕像を転写するタイプの画像形成装置や、モノクロの画像を形成する画像形成装置にも上記各電気光学装置を応用することが可能である。   The image forming apparatus to which each of the electro-optical devices can be applied has been described above. However, the electro-optical device can be applied to other electrophotographic image forming apparatuses. Are within the scope of the present invention. For example, the above electro-optical devices can be applied to an image forming apparatus that directly transfers a visible image from a photosensitive drum to a sheet without using an intermediate transfer belt, and an image forming apparatus that forms a monochrome image. Is possible.

<画像読み取り装置>
また、上記各電気光学装置は、画像読み取り装置における読み取り対象に光を照射するためのライン型の光ヘッドとして用いることが可能である。画像読み取り装置の例としては、スキャナ、複写機の読み取り部分、ファクシミリの読み取り部分、バーコードリーダおよび、例えばQRコード(登録商標)のような二次元画像コードを読む二次元画像コードリーダがある。
<Image reading device>
Each of the electro-optical devices can be used as a line-type optical head for irradiating light to a reading target in the image reading device. Examples of the image reading apparatus include a scanner, a reading portion of a copying machine, a reading portion of a facsimile, a barcode reader, and a two-dimensional image code reader that reads a two-dimensional image code such as a QR code (registered trademark).

図18は、上記各電気光学装置をライン型の光ヘッドとして用いた画像読み取り装置の一例を示す縦断面図である。この画像読み取り装置のキャビネット201の上部には、平板状のプラテンガラス202が設けられており、プラテンガラス202には原稿203がその画像面を下方に向けて載置される。そして、図示しないプラテンカバーが原稿203をプラテンガラス202に向けて押さえる。   FIG. 18 is a longitudinal sectional view showing an example of an image reading apparatus using each of the electro-optical devices as a line-type optical head. A flat platen glass 202 is provided on the upper part of the cabinet 201 of the image reading apparatus, and a document 203 is placed on the platen glass 202 with its image surface facing downward. A platen cover (not shown) presses the document 203 toward the platen glass 202.

キャビネット201の内部には、高速キャリッジ204と低速キャリッジ205が横方向に移動可能に配置されている。高速キャリッジ204には原稿203を照射する有機ELアレイ露光ヘッド206と反射鏡207が搭載されており、低速キャリッジ205には二つの反射鏡208,209が搭載されている。これらの有機ELアレイ露光ヘッド206および反射鏡207,208,209は図18の紙面垂直方向(主走査方向)に延びている。また、有機ELアレイ露光ヘッド206は、複数のOLED素子14の配列方向が主走査方向に沿うように設置される。   Inside the cabinet 201, a high speed carriage 204 and a low speed carriage 205 are arranged so as to be movable in the horizontal direction. An organic EL array exposure head 206 that irradiates the original 203 and a reflecting mirror 207 are mounted on the high-speed carriage 204, and two reflecting mirrors 208 and 209 are mounted on the low-speed carriage 205. These organic EL array exposure head 206 and reflecting mirrors 207, 208, and 209 extend in the direction perpendicular to the paper surface (main scanning direction) in FIG. The organic EL array exposure head 206 is installed so that the arrangement direction of the plurality of OLED elements 14 is along the main scanning direction.

また、キャビネット201の内部の固定位置には、原稿読み取り器210が配置されている。この原稿読み取り器210は、結像レンズ212と、多数の感光画素(電荷結合素子)から構成されるラインセンサ(受光装置)213を備える。ラインセンサ213は図18の紙面垂直方向(主走査方向)に延びており、複数の感光画素の配列方向が主走査方向に沿うように設置される。   A document reader 210 is disposed at a fixed position inside the cabinet 201. The document reader 210 includes an imaging lens 212 and a line sensor (light receiving device) 213 composed of a large number of photosensitive pixels (charge coupled devices). The line sensor 213 extends in the direction perpendicular to the paper surface (main scanning direction) in FIG. 18, and is arranged so that the arrangement direction of the plurality of photosensitive pixels is along the main scanning direction.

有機ELアレイ露光ヘッド206から発した光は、プラテンガラス202を透過して原稿203の下面で反射する。原稿203からの反射光は、プラテンガラス202を透過し、反射鏡207〜209で反射した後、結像レンズ212によりラインセンサ213で結像する。高速キャリッジ204は横方向に移動して、原稿203の全面が有機ELアレイ露光ヘッド206で照射されるようにし、低速キャリッジ205は高速キャリッジ204の半分の速度で移動して、原稿203からラインセンサ213に到る反射光路の長さを一定に維持する。   Light emitted from the organic EL array exposure head 206 passes through the platen glass 202 and is reflected by the lower surface of the document 203. Reflected light from the original 203 is transmitted through the platen glass 202, reflected by the reflecting mirrors 207 to 209, and then imaged by the line sensor 213 by the imaging lens 212. The high-speed carriage 204 moves in the horizontal direction so that the entire surface of the original 203 is irradiated by the organic EL array exposure head 206, and the low-speed carriage 205 moves at half the speed of the high-speed carriage 204 to The length of the reflected light path reaching 213 is kept constant.

以上のように上記各電気光学装置は、画像読み取り装置の照明装置である有機ELアレイ露光ヘッド206として使用される。よって、従来よりも装置の製造コストを低減することができる。但し、この種の照明装置では、原稿の幅に相当する範囲にあるOLED素子14のすべてが同時に長期間継続的に発光することが好ましい。従って、図4および図5の駆動系統においては、画素ブロックB1〜B40を時分割駆動するのではなく、原稿の幅に相当する範囲にある画素ブロックに、少なくとも原稿の長さに相当する期間継続的に選択信号を同時に与えるとよい。さらに、データ信号D0〜D127のすべてをその期間同時にオンするとよい。あるいは、データ信号D0〜D127を伝達するデータ線L0〜L127と保持トランジスタ281をなくしてもよい。   As described above, each of the electro-optical devices is used as an organic EL array exposure head 206 that is an illumination device of an image reading device. Therefore, the manufacturing cost of the apparatus can be reduced as compared with the conventional case. However, in this type of lighting device, it is preferable that all of the OLED elements 14 in the range corresponding to the width of the document emit light continuously for a long period of time. Therefore, in the drive systems of FIGS. 4 and 5, the pixel blocks B1 to B40 are not time-division driven, but the pixel blocks in the range corresponding to the width of the document are continued for at least the length of the document. Therefore, the selection signal may be given simultaneously. Further, all the data signals D0 to D127 may be turned on simultaneously during that period. Alternatively, the data lines L0 to L127 and the holding transistor 281 that transmit the data signals D0 to D127 may be eliminated.

以上、上記各電気光学装置を応用可能な画像読み取り装置を例示したが、他の画像読み取り置にも上記各電気光学装置を応用することが可能であり、そのような画像形成装置は本発明の範囲内にある。例えば、受光装置が照明装置としての上記各電気光学装置と共に移動してもよいし、受光装置と上記各電気光学装置が共に固定されて原稿または読み取り対象が移動して読み取られるようにしてもよい。   The image reading apparatus to which each of the electro-optical devices can be applied has been described above. However, the above-described electro-optical device can be applied to other image reading devices. Is in range. For example, the light receiving device may move together with the electro-optical devices as illumination devices, or the light receiving device and the electro-optical devices may be fixed together so that the document or the reading target is moved and read. .

<他の応用>
本発明に係る電気光学装置は、さらに各種の露光装置、照明装置および画像表示装置に応用することが可能である。
<Other applications>
The electro-optical device according to the present invention can be further applied to various exposure devices, illumination devices, and image display devices.

本発明の第1の実施の形態に係る電気光学装置を示す断面図である。1 is a cross-sectional view illustrating an electro-optical device according to a first embodiment of the invention. 図1に示した電気光学装置の部分平面図である。FIG. 2 is a partial plan view of the electro-optical device illustrated in FIG. 1. 上記電気光学装置内のOLED素子の詳細を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the detail of the OLED element in the said electro-optical apparatus. 上記電気光学装置の駆動系統を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the drive system of the said electro-optical apparatus. 図4の駆動系統内の各画素回路の回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram of each pixel circuit in the drive system of FIG. 4. 図1に示した電気光学装置を製造する手順の最初の工程を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a first step in a procedure for manufacturing the electro-optical device illustrated in FIG. 1. 図6の次の工程を示す図である。It is a figure which shows the next process of FIG. 図7の次の工程を示す図である。It is a figure which shows the next process of FIG. 図8の次の工程を示す図である。It is a figure which shows the next process of FIG. 本発明の第2の実施の形態に係る電気光学装置を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating an electro-optical device according to a second embodiment of the invention. 図10に示した電気光学装置の部分平面図である。FIG. 11 is a partial plan view of the electro-optical device illustrated in FIG. 10. 図10に示した電気光学装置を製造する手順の最初の工程を示す図である。It is a figure which shows the first process of the procedure which manufactures the electro-optical apparatus shown in FIG. 図12の次の工程を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a step subsequent to FIG. 12. 図13の次の工程を示す図である。It is a figure which shows the next process of FIG. 図14の次の工程を示す図である。It is a figure which shows the next process of FIG. 本発明の実施の形態に係る各電気光学装置を用いた画像形成装置の一例を示す縦断面図である。1 is a longitudinal sectional view illustrating an example of an image forming apparatus using each electro-optical device according to an embodiment of the invention. 本発明の実施の形態に係る各電気光学装置を用いた画像形成装置の他の例を示す縦断面図である。FIG. 6 is a longitudinal sectional view illustrating another example of an image forming apparatus using each electro-optical device according to an embodiment of the invention. 本発明の実施の形態に係る各電気光学装置を用いた画像読み取り装置の一例を示す縦断面図である。1 is a longitudinal sectional view showing an example of an image reading apparatus using each electro-optical device according to an embodiment of the invention.

符号の説明Explanation of symbols

10,50…電気光学装置、12…基板、14…OLED素子(自発光素子)、20A…低電位電源線、20B…高電位電源線、20C…高電位電源線、24…封止体、28…回路素子、58…回路積層体、L0〜L127…データ線、280…選択回路、10K,10C,10M,10Y,167,206…有機ELアレイ露光ヘッド(電気光学装置)、110K,110C,110M,110Y,165…感光体ドラム(像担持体)、111,168…コロナ帯電器、114…現像器、112…一次転写コロトロン(転写器)、120,169…中間転写ベルト、161…現像ユニット、163Y,163C,163M,163K…現像器、166…一次転写ローラ(転写器)、203…原稿、210…原稿読み取り器、213…ラインセンサ(受光装置)。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,50 ... Electro-optical apparatus, 12 ... Board | substrate, 14 ... OLED element (self-light-emitting element), 20A ... Low-potential power line, 20B ... High-potential power line, 20C ... High-potential power line, 24 ... Sealing body, 28 ... Circuit elements, 58 ... Circuit laminate, L0 to L127 ... Data lines, 280 ... Selection circuit, 10K, 10C, 10M, 10Y, 167, 206 ... Organic EL array exposure head (electro-optical device), 110K, 110C, 110M 110Y, 165 ... photosensitive drum (image carrier), 111,168 ... corona charger, 114 ... developer, 112 ... primary transfer corotron (transfer device), 120,169 ... intermediate transfer belt, 161 ... developing unit, 163Y, 163C, 163M, 163K ... developer, 166 ... primary transfer roller (transfer device), 203 ... original, 210 ... original reader, 213 ... line Capacitors (the light-receiving device).

Claims (5)

基板と、
上記基板に形成された複数の自発光素子と、
上記基板より大きく上記基板と協働して上記自発光素子を封止するように上記基板に取り付けられた封止体と、
上記基板に重ならないように上記封止体に設けられ上記自発光素子を駆動または制御するための回路と、
上記基板に重ならないように上記封止体に設けられ少なくとも上記回路および上記自発光素子の一方に給電するための電源線とを備える電気光学装置。
A substrate,
A plurality of self-luminous elements formed on the substrate;
A sealing body attached to the substrate so as to seal the self-luminous element in cooperation with the substrate larger than the substrate;
A circuit for driving or controlling the self-luminous element provided in the sealing body so as not to overlap the substrate;
An electro-optical device provided with at least one of the circuit and the self-light-emitting element provided on the sealing body so as not to overlap the substrate.
上記回路が上記基板または上記封止体上に形成された積層体であることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, wherein the circuit is a laminate formed on the substrate or the sealing body. 上記封止体に取り付けられ伝導してきた熱を外気中に熱を放出する放熱機構を備えることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, further comprising a heat dissipation mechanism that releases the heat attached to the sealing body and conducted to the outside air. 像担持体と、
上記像担持体を帯電する帯電器と、
複数の上記自発光素子が配列され、上記像担持体の帯電された面に複数の上記自発光素子により光を照射して潜像を形成する請求項1から請求項3のいずれかに記載の電気光学装置と、
上記潜像にトナーを付着させることにより上記像担持体に顕像を形成する現像器と、
上記像担持体から上記顕像を他の物体に転写する転写器とを備える画像形成装置。
An image carrier;
A charger for charging the image carrier;
The plurality of self-light-emitting elements are arranged, and a latent image is formed by irradiating light on the charged surface of the image carrier with the plurality of self-light-emitting elements. An electro-optic device;
A developing unit that forms a visible image on the image carrier by attaching toner to the latent image;
An image forming apparatus comprising: a transfer unit that transfers the visible image from the image carrier to another object.
複数の上記自発光素子が配列された請求項1から請求項3のいずれかに記載の電気光学装置と、
上記自発光素子から発して読み取り対象で反射した光を電気信号に変換する受光装置とを備える画像読み取り装置。
The electro-optical device according to any one of claims 1 to 3, wherein a plurality of the light-emitting elements are arranged;
An image reading apparatus comprising: a light receiving device that converts light emitted from the light-emitting element and reflected by a reading target into an electric signal.
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