JP2006144067A - Plate body having lattice-shaped opening and production method therefor - Google Patents

Plate body having lattice-shaped opening and production method therefor Download PDF

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Yoshihiro Kobayashi
良弘 小林
Takashi Nakajima
貴士 中島
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Kyushu Hitachi Maxell Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a plate body provided with one or more lattice-shaped openings 3 having many independent microopenings 5 partitioned by lattice-shaped linear bodies 6 inside the board face of a planar substrate 2 at high productivity while satisfactorily securing the dimensional precision and positional precision of the microopenings 5. <P>SOLUTION: Linear bodies 6 partitioning microopenings 5 are formed integrally with a substrate 2 by an electroforming process. In this way, the linear bodies 6 and the microopenings 5 partitioned by the linear bodies 6 can be produced with exceedingly high dimensional precision and further with high positional precision compared with those by a production method according to etching working and laser machining. Also, the vertical cross-sectional properties of each microopening 5 can be satisfactorily secured. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、平板状の基板の盤面内に、格子状の線状体によって区画された、多数個独立の微小開口を有する格子状開口を、一又は二以上備えるプレート体とその製造方法に関する。   The present invention relates to a plate body provided with one or two or more grid-like openings each having a plurality of independent micro-openings partitioned by a grid-like linear body in a plate surface of a flat board and a method for manufacturing the same.

本発明に係る格子状開口を有するプレート体は、電子回路基板に対して各種の電気的構成素子を実装するときの位置決め用の治具として使用されて好適なものであるが、同種の治具は、例えば特許文献1や特許文献2などに見ることができる。   The plate body having a grid-like opening according to the present invention is suitable for use as a positioning jig when mounting various electrical components on an electronic circuit board. Can be found in, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2.

特開2002−111293号公報JP 2002-111293 A 特開2002−111193号公報JP 2002-111193 A

現行においては、格子状開口を構成する微小開口を、ウエットエッチングによる方法やレーザー加工による方法などにより作製している。しかし、ウエットエッチングによる方法では、寸法精度良く微小開口を形成することができない。微小開口の位置精度が低下しやすい点でも不利がある。レーザーによる場合には、形成する微小開口の数が多いと製造コストが高くつき、加えて、形成時に熱の影響を受けて微小開口周りに熱反応による反り、すなわちうねりが生じやすく、各開口の垂直断面性の低下が懸念される。   At present, the minute openings constituting the lattice-shaped openings are produced by a method by wet etching or a method by laser processing. However, the wet etching method cannot form a minute opening with high dimensional accuracy. There is also a disadvantage in that the position accuracy of the minute aperture tends to be lowered. In the case of using a laser, if the number of micro openings to be formed is large, the manufacturing cost becomes high, and in addition, due to the influence of heat at the time of forming, warping due to thermal reaction, that is, undulation is likely to occur around the micro openings. There is concern about the deterioration of the vertical cross section.

本発明の目的は、平板状の基板の盤面内に、多数個独立の微小開口を有する格子状開口をプレート体とその製造方法において、微小開口の寸法精度および位置精度を良好に確保しながら、生産性良く作製することができるようにすることにある。   An object of the present invention is to provide a grid-like opening having a large number of independent minute openings in a plate surface of a flat substrate, and in a manufacturing method thereof, while ensuring a good dimensional accuracy and position accuracy of the minute openings, The object is to enable production with high productivity.

本発明は、図2および図6に示すごとく、平板状の基板2の盤面内に、格子状の線状体6によって区画された、多数個独立の微小開口5を有する格子状開口3を、一又は二以上備えるプレート体であって、前記線状体6が、電鋳法によって基板2と一体的に形成されたものであることを特徴とする。   In the present invention, as shown in FIGS. 2 and 6, a grid-like opening 3 having a large number of independent micro-openings 5 divided by a grid-like linear body 6 in the surface of a flat board 2 is provided. It is a plate body provided with 1 or 2 or more, Comprising: The said linear body 6 is integrally formed with the board | substrate 2 by the electroforming method, It is characterized by the above-mentioned.

具体的には、図1および図8に示すごとく、線状体6が、格子状開口3の外縁を区画する基板2の開口内面11の上下方向の中途部から開口内方向に向かって張り出し形成された形態を採ることができる。   Specifically, as shown in FIGS. 1 and 8, the linear body 6 is formed so as to project from the middle part in the vertical direction of the opening inner surface 11 of the substrate 2 that defines the outer edge of the lattice-shaped opening 3 toward the opening inward direction. Can take the form.

図1に示すごとく、線状体6が、格子状開口3の外縁を区画する基板2の開口内面11の上下方向の中途部から開口内方向に向かって張り出し形成された周縁部10を介して、開口内面11に接合された形態を採ることができる。   As shown in FIG. 1, the linear body 6 is interposed through a peripheral edge portion 10 that is formed so as to project from the middle portion in the vertical direction of the opening inner surface 11 of the substrate 2 that defines the outer edge of the lattice-like opening 3 toward the opening inward direction. The shape joined to the inner surface 11 of the opening can be taken.

図7および図13に示すごとく、各微小開口5が下窄まりのテーパー状を呈するものとすることができる。   As shown in FIGS. 7 and 13, each minute opening 5 can have a tapered shape.

また本発明は、図1に示すごとく、平板状の基板2の盤面内に、格子状の線状体6によって区画された、多数個独立の微小開口5を有する格子状開口3を、一又は二以上備えるプレート体の製造方法であって、図3(c)に示すごとく母型15の表面の所定位置に電着金属を電鋳して、格子状開口3に対応する一次電着層21を形成する第1の電鋳工程と、図3(e)に示すごとく、一次電着層21上に、微小開口5に対応するレジスト体25を形成する工程と、図4(a)に示すごとく、母型15、およびレジスト体25を有しない一次電着層21上に、レジスト体25の上面を超える程度まで電着金属を電鋳して、線状体6、および基板2の一部となる二次電着層26を形成する第2の電鋳工程と、図4(b)に示すごとく、レジスト体25および二次電着層26の上面が面一状となるように、これらレジスト体25および二次電着層26に対して研磨処理を施す工程と、図4(d)に示すごとく、レジスト体25および二次電着層26の上面に、格子状開口3に対応するレジスト体30を形成する工程と、図5(a)に示すごとく、レジスト体30で覆われていない二次電着層26の表面に、電着金属を電鋳して、基板2の一部を構成する三次電着層31を形成する第3の電鋳工程と、図5(b)に示すごとく、レジスト体30および三次電着層31の上面が面一状となるように、これらレジスト体30および三次電着層31に対して研磨処理を施す工程と、図5(c)および図5(d)に示すごとく、母型15を剥離するとともに、レジスト体25・30および一次電着層21を除去する工程とを含む。そして、図5(b)ないし(d)に示すごとく、レジスト体25の除去により微小開口5が形成され、レジスト体30および一次電着層21の除去により、格子状開口3が形成されるようにしてあることを特徴とする。なお、図5(c)および図5(d)において、レジスト体25・30の除去は、母型15の剥離後に行ってもよし、母型15の剥離前におこなってもよい。   In addition, as shown in FIG. 1, the present invention provides a grid-like opening 3 having a plurality of independent micro-openings 5, which are partitioned by a grid-like linear body 6 in the surface of a flat board 2. A method for producing two or more plate bodies, in which an electrodeposited metal is electroformed at a predetermined position on the surface of the mother die 15 as shown in FIG. As shown in FIG. 3E, a step of forming a resist body 25 corresponding to the minute opening 5 on the primary electrodeposition layer 21 as shown in FIG. 3E, and FIG. As described above, an electrodeposited metal is electroformed on the base electrode 15 and the primary electrodeposition layer 21 having no resist body 25 to the extent that the upper surface of the resist body 25 is exceeded. A second electroforming step for forming the secondary electrodeposition layer 26, and a resist body as shown in FIG. 5 and a step of polishing the resist body 25 and the secondary electrodeposition layer 26 so that the upper surfaces of the secondary electrodeposition layer 26 are flush with each other, and as shown in FIG. A step of forming a resist body 30 corresponding to the lattice-like openings 3 on the upper surfaces of the body 25 and the secondary electrodeposition layer 26; and secondary electrodeposition not covered with the resist body 30 as shown in FIG. A third electroforming step of forming a tertiary electrodeposition layer 31 constituting a part of the substrate 2 by electroforming an electrodeposited metal on the surface of the layer 26; and a resist body as shown in FIG. The steps of subjecting the resist body 30 and the tertiary electrodeposition layer 31 to a polishing treatment so that the upper surfaces of the electrodeposite 30 and the tertiary electrodeposition layer 31 are flush with each other, and FIG. 5C and FIG. As shown, the master 15 is peeled off, and the resist bodies 25 and 30 and the primary electrodeposition layer are removed. And removing the 1. Then, as shown in FIGS. 5B to 5D, the minute openings 5 are formed by removing the resist body 25, and the lattice-like openings 3 are formed by removing the resist body 30 and the primary electrodeposition layer 21. It is characterized by being. 5C and 5D, the resist bodies 25 and 30 may be removed after the mother die 15 is peeled off or before the mother die 15 is peeled off.

また本発明は、図8に示すごとく、平板状の基板2の盤面内に、格子状の線状体6によって区画された、多数個独立の微小開口5を有する格子状開口3を、一又は二以上備えるプレート体の製造方法であって、図9(c)に示すごとく、母型15の表面の所定位置に電着金属を電鋳して、格子状開口3に対応する一次電着層21を形成する第1の電鋳工程と、図9(e)に示すごとく、一次電着層21上に、微小開口5および基板2に対応するレジスト体25を形成する工程と、図10(a)に示すごとく、レジスト体25を有しない一次電着層21上に、レジスト体25の上面を超える程度まで電着金属を電鋳して、線状体6となる二次電着層26を形成する第2の電鋳工程と、図10(b)に示すごとく、レジスト体25および二次電着層26の上面が面一状となるように、これらレジスト体25および二次電着層26に対して研磨処理を施す工程と、図10(c)ないし図11に示すごとく、レジスト体25を除去したのち、一次電着層21および二次電着層26上に、格子状開口3および微小開口5に対応するレジスト体30を形成する工程と、図12(a)に示すごとく、レジスト体30で覆われていない母型15の表面に、電着金属を電鋳して、基板2となる三次電着層31を形成する第3の電鋳工程と、図12(b)に示すごとく、レジスト体30および三次電着層31の上面が面一状となるように、これらレジスト体30および三次電着層31に対して研磨処理を施す工程と、図12(c)および図12(d)に示すごとく、母型15を剥離するとともに、レジスト30体および一次電着層21を除去する工程とを含む。そして、図12(b)ないし(d)に示すごとく、レジスト体30の除去により微小開口5が形成され、レジスト体30および一次電着層21の除去により、格子状開口3が形成されるようにしてあることを特徴とする。なお、図12(c)および図12(d)において、レジスト体30の除去は、母型15の剥離後におこなってもよいし、母型15の剥離前におこなってもよい。   In the present invention, as shown in FIG. 8, a grid-like opening 3 having a large number of independent micro-openings 5 partitioned by a grid-like linear body 6 in the plate surface of the flat board 2 is provided. A method of manufacturing a plate body having two or more, as shown in FIG. 9C, a primary electrodeposition layer corresponding to the grid-shaped openings 3 by electroforming an electrodeposited metal at a predetermined position on the surface of the mother die 15. As shown in FIG. 9E, a step of forming a resist body 25 corresponding to the minute openings 5 and the substrate 2 on the primary electrodeposition layer 21 as shown in FIG. As shown in a), the electrodeposition metal is electroformed on the primary electrodeposition layer 21 not having the resist body 25 to the extent that the upper surface of the resist body 25 is exceeded, and the secondary electrodeposition layer 26 that becomes the linear body 6 is formed. And a resist body 25 and secondary electrodeposition as shown in FIG. 10 (b). The resist body 25 and the secondary electrodeposition layer 26 are subjected to a polishing process so that the upper surface of the surface 26 is flush, and the resist body 25 is removed as shown in FIGS. After that, a step of forming a resist body 30 corresponding to the lattice-like openings 3 and the minute openings 5 on the primary electrodeposition layer 21 and the secondary electrodeposition layer 26, and as shown in FIG. As shown in FIG. 12B, a third electroforming process for forming a tertiary electrodeposition layer 31 to be the substrate 2 by electroforming an electrodeposited metal on the surface of the mother die 15 not covered with A step of polishing the resist body 30 and the tertiary electrodeposition layer 31 so that the upper surfaces of the resist body 30 and the tertiary electrodeposition layer 31 are flush with each other, and FIGS. ) As shown in FIG. And a 30 body and removing the primary electrodeposited layers 21. Then, as shown in FIGS. 12B to 12D, the minute openings 5 are formed by removing the resist body 30, and the lattice-like openings 3 are formed by removing the resist body 30 and the primary electrodeposition layer 21. It is characterized by being. 12C and 12D, the resist body 30 may be removed after the mother die 15 is peeled off or before the mother die 15 is peeled off.

本発明に係る格子状開口3を有するプレート体1では、線状体6を電鋳法によって基板2と一体的に形成したので、線状体6および該線状体6で区画される微小開口5を寸法精度良く、しかも位置精度良く作製することができる。エッチング加工する形式に比べて、格段に高精度であり、しかも生産性を確保して作製できる利点もある。レーザー加工する形式に比べて、製造コストが安価であることや、熱反応によるうねりが一切生じず、各微小開口5の垂直断面性を良好に担保しながら、高精度につくれる点でも有利である。   In the plate body 1 having the grid-like openings 3 according to the present invention, the linear bodies 6 are formed integrally with the substrate 2 by electroforming, so that the linear bodies 6 and the minute openings partitioned by the linear bodies 6 are used. 5 can be manufactured with high dimensional accuracy and with high positional accuracy. Compared to the type of etching, it has much higher accuracy and has the advantage that it can be manufactured while ensuring productivity. Compared to the laser processing type, it is advantageous in that the manufacturing cost is low and no waviness due to thermal reaction occurs, and the vertical cross-section of each micro-opening 5 is favorably secured and can be made with high accuracy. .

かかるプレート体1は、電気的構成素子を電子回路基板に実装する際の、該素子の位置決め用の治具として好適に使用することができる。この場合において、上述のように微小開口5を寸法精度および位置精度良く作製されていると、素子を回路基板に対して精度良く実装することが可能となる。これは該回路基板を備える電子機器の歩留まりの向上に資する。   The plate body 1 can be suitably used as a jig for positioning the electric component when the electric component is mounted on the electronic circuit board. In this case, if the minute opening 5 is manufactured with high dimensional accuracy and positional accuracy as described above, the element can be mounted on the circuit board with high accuracy. This contributes to an improvement in the yield of electronic devices including the circuit board.

図1および図8に示すごとく、線状体6が、基板2の開口内面11の上下方向の中途部から開口内方向に向かって張り出し形成されていると、格子状開口3を、基板2の上面から一段下がった段差状とすることができる。これにて、格子状開口3の部分と基板2の部分とを明確に区別することができるので、かかる段差を利用した電気的構成素子の電子回路基板への実装操作を正確に行うことができる。すなわち、電気的構成素子を把持して、これを微小開口5から落とし込むセットアームの基板2に対する位置合わせ操作を、先の段差を利用して行うことができるので、実装操作の位置合わせ精度の向上に貢献できる。   As shown in FIGS. 1 and 8, when the linear body 6 is formed so as to project from the middle part in the vertical direction of the opening inner surface 11 of the substrate 2 toward the opening inward direction, the lattice-shaped opening 3 is formed on the substrate 2. It can be a stepped shape that is one step down from the top surface. As a result, it is possible to clearly distinguish the portion of the lattice-like opening 3 from the portion of the substrate 2, and therefore it is possible to accurately perform the mounting operation of the electrical component on the electronic circuit board using such a step. . That is, since the positioning operation of the set arm that holds the electrical component and drops it from the minute opening 5 with respect to the substrate 2 can be performed using the previous step, the alignment accuracy of the mounting operation is improved. Can contribute.

そのうえで、図1に示すごとく、線状体6が基板2の開口内面11の中途部から開口内方向に向かって張り出し形成された周縁部10を介して、開口内面11に接合された形態としてあると、セットアームが開口内面11に接触する不具合を解消できる。すなわち、上述のごとく格子状開口3が基板2の上面より一段下がった段差状とした場合には、格子状開口3の最外縁に存する微小開口5に電気的構成素子を落とし込む際に、セットアームが開口内面11に接触しやすく、最外縁に存する微小開口5内に、スムーズに電気的構成素子を落とし込むことが困難となる。その点、周縁部10を介して線状体6を開口内面11から張り出し形成してあると、該周縁部10の左右および前後の幅寸法分だけ、最外縁に存する微小開口5と開口内面11との間に間隙を設けることができるので、セットアームが開口内面11に接触することがなくなり、したがって、最外縁に存する微小開口5に対する電気的構成素子の落とし込み操作をスムーズに進めることができる。   In addition, as shown in FIG. 1, the linear body 6 is joined to the opening inner surface 11 via a peripheral edge portion 10 that extends from the middle portion of the opening inner surface 11 of the substrate 2 toward the opening inward direction. And the malfunction which a set arm contacts the opening inner surface 11 can be eliminated. That is, when the grid-like opening 3 is stepped down from the upper surface of the substrate 2 as described above, when the electrical component is dropped into the minute opening 5 existing at the outermost edge of the grid-like opening 3, the set arm Can easily come into contact with the inner surface 11 of the opening, and it becomes difficult to smoothly drop the electrical component into the minute opening 5 existing at the outermost edge. In that respect, if the linear body 6 is formed so as to protrude from the inner surface 11 of the opening via the peripheral portion 10, the minute opening 5 and the inner surface 11 of the outermost edge corresponding to the left and right and front and rear width dimensions of the peripheral portion 10. Therefore, the set arm does not come into contact with the inner surface 11 of the opening. Therefore, the operation of dropping the electrical component with respect to the minute opening 5 existing at the outermost edge can be smoothly advanced.

図7および図13に示すごとく、各微小開口5を下窄まりのテーパー状としてあると、電気的構成素子の位置合わせ操作を簡単確実に行うことが可能となる。すなわち、開口寸法の大きな上方側の開口位置に電気的構成素子を位置合わせするだけで、次の落とし込み操作時においては、テーパーに沿って電気的構成素子を下方にスライド変位させることができる。これにて、電気的構成素子を電子回路基板の最終的な実装位置に、簡単確実にガイドすることが可能となる。   As shown in FIGS. 7 and 13, if each minute opening 5 has a tapered shape, the electrical component can be positioned easily and reliably. That is, the electrical component can be slid downward along the taper during the next dropping operation only by aligning the electrical component with the opening position on the upper side where the opening size is large. This makes it possible to easily and reliably guide the electrical component to the final mounting position of the electronic circuit board.

(第1実施形態)
図1ないし図5に、本発明に係る格子状開口を有するプレート体を、電気的構成素子の位置決め用の治具に適用した第1実施形態を示す。図2に示すように、プレート体1は、四角平板状の基板2を基体として、該基板2の盤面中央に、四角形状の一つの格子状開口3を備える。格子状開口3は、多数個独立の微小開口5を有するものであり、各微小開口5は、左右および前後の二方向に走る多数本の「線」によって構成される、格子状の線状体6によって区画されている。これら左右方向に走る「線」と前後方向に走る「線」とは、互いに直交しており、したがって各微小開口5は四角形状を呈している。ここでは、各微小開口5を、左右および前後の長さ寸法の等しい正方形状に形成した。また各微小開口5は、上下方向の開口寸法が均一なストレート状とした。
(First embodiment)
1 to 5 show a first embodiment in which a plate body having a grid-like opening according to the present invention is applied to a jig for positioning electrical components. As shown in FIG. 2, the plate body 1 includes a square-shaped lattice-shaped opening 3 in the center of the board surface of the substrate 2 with a square plate-like substrate 2 as a base. The lattice-shaped opening 3 has a large number of independent micro-openings 5, and each micro-opening 5 is composed of a large number of “lines” that run in two directions, left and right and front and rear. 6 is divided. The “line” running in the left-right direction and the “line” running in the front-rear direction are orthogonal to each other, and therefore each micro-opening 5 has a rectangular shape. Here, each minute opening 5 was formed in a square shape having the same length in the left and right and front and rear. Moreover, each minute opening 5 was made into the straight form with the uniform opening dimension of the up-down direction.

図1に示すごとく、基板2は、格子状開口3を有する下層7と、該下層7の上面に不離一体的に形成された上層9とからなる。符号10は、下層7の上端部、換言すれば基板2の開口内面11の上下方向の中途部に、開口内方向に向かって微小幅で張り出し形成された周縁部を示しており、線状体6を構成する各「線」は、該周縁部10を介して基板2に接合されている。これら線状体6を含む下層7および上層9は、ニッケルやニッケルコバルト等のニッケル合金、その他の電着金属を素材として、後述のような電鋳法により形成した。符号t1は、周縁部10および線状体6の上下方向の肉厚寸法を、符号t2は、基板2の上下方向の肉厚寸法を示しており、図示例のごとくt1<t2の関係を満たすように、線状体6等の肉厚寸法を設定した。   As shown in FIG. 1, the substrate 2 includes a lower layer 7 having a lattice-like opening 3 and an upper layer 9 formed on the upper surface of the lower layer 7 so as not to be separated from each other. Reference numeral 10 denotes a peripheral portion that is formed so as to protrude in a small width toward the inner direction of the opening at the upper end portion of the lower layer 7, in other words, the middle portion of the opening inner surface 11 of the substrate 2. Each “line” constituting 6 is bonded to the substrate 2 via the peripheral edge 10. The lower layer 7 and the upper layer 9 including these linear bodies 6 were formed by an electroforming method as described later using a nickel alloy such as nickel or nickel cobalt, or other electrodeposited metal as a raw material. Symbol t1 indicates the vertical thickness of the peripheral portion 10 and the linear body 6, and symbol t2 indicates the vertical thickness of the substrate 2. The relationship t1 <t2 is satisfied as in the illustrated example. Thus, the thickness dimension of the linear body 6 etc. was set.

なお、図1の縦断面図は、実際のプレート体1の様子を示したものではなく、それを模式的に示している。さらに言うと、図1などにおける微小開口5の開口寸法等は、図面作成の便宜上、そのような寸法に示したものであって実寸法とは大きく異なる。また、微小開口5の開口数も実際とは大きく異なる。   In addition, the longitudinal cross-sectional view of FIG. 1 does not show the actual state of the plate body 1 but schematically shows it. Further, the opening size and the like of the minute opening 5 in FIG. 1 and the like are shown in such a size for the convenience of drawing, and are greatly different from the actual size. Further, the numerical aperture of the minute opening 5 is greatly different from the actual number.

図3ないし図5は本実施形態に係るプレート体1の製造方法を示す。まず、図3(a)に示すごとく、導電性を有する例えばステンレス製や真ちゅう鋼製の母型15の表面に、フォトレジスト層16を形成した。このフォトレジスト層16は、ネガタイプの感光性ドライフィルムレジストを、所定の高さに合わせて一枚ないし数枚ラミネートして熱圧着により形成した。次いで、このフォトレジスト層16の上に、基板2に対応する透光孔17aを有するパターンフィルム17を密着させたのち、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図3(b)に示すごとく、基板2に対応するストレート状のレジスト体20を母型15上に形成した。   3 to 5 show a method of manufacturing the plate body 1 according to this embodiment. First, as shown in FIG. 3A, a photoresist layer 16 was formed on the surface of a mother die 15 made of, for example, stainless steel or brass. The photoresist layer 16 was formed by laminating one or several negative photosensitive dry film resists at a predetermined height and then thermocompression bonding. Next, after a pattern film 17 having a light transmitting hole 17a corresponding to the substrate 2 is brought into close contact with the photoresist layer 16, exposure is performed by irradiating ultraviolet light with an ultraviolet lamp 19 to develop and dry the film. By performing each treatment and dissolving and removing the unexposed portion, a straight resist body 20 corresponding to the substrate 2 was formed on the mother die 15 as shown in FIG.

次に、図3(c)に示すごとく、レジスト体20の存しない母型15の表面に、電鋳法により電着金属を電着して、格子状開口3に対応する一次電着層21を形成した(第1の電鋳工程)。かかる電鋳工程後、レジスト体20を除去した。なお、図3(c)は、レジスト体20の除去後の状態を示している。   Next, as shown in FIG. 3C, an electrodeposited metal is electrodeposited by electroforming on the surface of the mother die 15 where the resist body 20 does not exist, and the primary electrodeposition layer 21 corresponding to the lattice-like openings 3. Was formed (first electroforming step). After the electroforming process, the resist body 20 was removed. FIG. 3C shows a state after the resist body 20 is removed.

図3(d)に示すように、一次電着層21を覆うように、母型15の全面にフォトレジスト層22を形成したうえで、このフォトレジスト層22の上に、微小開口5に対応する透光孔23aを有するパターンフィルム23を密着した。次いで、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図3(e)に示すごとく、微小開口5に対応するレジスト体25を一次電着層21上に形成した。なお、ここでは、以後の剥離工程(図5(c)〜図5(d)に至る工程)における二次電着層26の剥離除去の容易化を図ることを目的として、表面に露出する母型15の全体に対して、公知の剥離処理を施すことが好ましい。   As shown in FIG. 3D, a photoresist layer 22 is formed on the entire surface of the mother die 15 so as to cover the primary electrodeposition layer 21, and on the photoresist layer 22, it corresponds to the minute opening 5. The pattern film 23 having the translucent hole 23a to be adhered was adhered. Next, exposure is performed by irradiating ultraviolet light with an ultraviolet lamp 19, development and drying are performed, and unexposed portions are dissolved and removed, so that the minute openings 5 are formed as shown in FIG. A corresponding resist body 25 was formed on the primary electrodeposition layer 21. Here, the mother exposed on the surface is used for the purpose of facilitating the removal and removal of the secondary electrodeposition layer 26 in the subsequent peeling step (steps from FIG. 5C to FIG. 5D). It is preferable to perform a known peeling process on the entire mold 15.

図4(a)に示すように、母型15およびレジスト体25を有しない一次電着層21上に、レジスト体25の上面を超える高さ位置まで電着金属を電鋳して、線状体6および下層7となる二次電着層26を形成した(第2の電鋳工程)。すなわち、一次電着層21上のレジスト体25の存しない部分に電着金属を電鋳して、線状体6となる電着金属層26aを形成するとともに、母型上15上に下層7となる電着金属層26bを形成した。さらに、一次電着層21の外周縁上に、周縁部10となる電着金属層26cを形成した。これら電着金属層26a・26bは、電着金属層26cを介して結合しており、したがって、線状体6、周縁部10、および下層7とを一体的に電鋳形成してなる二次電着層26を得た。   As shown in FIG. 4A, an electrodeposited metal is electroformed on the primary electrodeposition layer 21 not having the matrix 15 and the resist body 25 to a height position exceeding the upper surface of the resist body 25 to form a linear shape. The secondary electrodeposition layer 26 to be the body 6 and the lower layer 7 was formed (second electroforming process). That is, an electrodeposited metal is electroformed on a portion where the resist body 25 does not exist on the primary electrodeposition layer 21 to form an electrodeposited metal layer 26a that becomes the linear body 6, and the lower layer 7 on the matrix 15 is formed. An electrodeposited metal layer 26b was formed. Furthermore, an electrodeposited metal layer 26 c to be the peripheral edge portion 10 was formed on the outer peripheral edge of the primary electrodeposition layer 21. These electrodeposited metal layers 26a and 26b are bonded via the electrodeposited metal layer 26c, and therefore, a secondary body formed by integrally electroforming the linear body 6, the peripheral edge portion 10, and the lower layer 7. An electrodeposition layer 26 was obtained.

図4(b)に示すごとく、二次電着層26の上面およびレジスト体25の上面が面一状になるように研磨処理を施した。次に、図4(c)に示すごとく、レジスト体25および二次電着層26の上面に、フォトレジスト層27を形成したうえで、このフォトレジスト層27の上に、格子状開口3に対応する透光孔29aを有するパターンフィルム29を密着した。次いで、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図4(d)に示すごとく、二次電着層26を構成する電着金属層26a・26c、およびレジスト体25の上面に、格子状開口3に対応するレジスト体30を形成した。レジスト体30の外形寸法は、一次電着層21と略同じであった。なお、露出している二次電着層26上に公知の密着処理を施すことが好ましい。   As shown in FIG. 4B, the polishing process was performed so that the upper surface of the secondary electrodeposition layer 26 and the upper surface of the resist body 25 were flush with each other. Next, as shown in FIG. 4C, a photoresist layer 27 is formed on the upper surfaces of the resist body 25 and the secondary electrodeposition layer 26, and the lattice-like openings 3 are formed on the photoresist layer 27. The pattern film 29 having the corresponding translucent hole 29a was adhered. Next, exposure is performed by irradiating with ultraviolet light with an ultraviolet lamp 19, development and drying are performed, and unexposed portions are dissolved and removed, whereby secondary electrodeposition is performed as shown in FIG. Resist bodies 30 corresponding to the lattice-like openings 3 were formed on the upper surfaces of the electrodeposited metal layers 26 a and 26 c constituting the layer 26 and the resist body 25. The external dimensions of the resist body 30 were substantially the same as those of the primary electrodeposition layer 21. In addition, it is preferable to perform a well-known adhesion process on the exposed secondary electrodeposition layer 26.

図5(a)に示すごとく、レジスト体30で覆われていない二次電着層26の表面に、レジスト体30の上面を超える高さ位置まで電着金属を電鋳して、上層9となる三次電着層31を形成した(第3の電鋳工程)。次に、図5(b)に示すごとく、レジスト体30を基準として、三次電着層31の上面に対して研磨処理を施した。これにて、三次電着層31とレジスト体30の上面を、段差の無い面一状とすることができた。   As shown in FIG. 5A, an electrodeposited metal is electroformed on the surface of the secondary electrodeposition layer 26 not covered with the resist body 30 to a height position exceeding the upper surface of the resist body 30, and the upper layer 9 and A tertiary electrodeposition layer 31 was formed (third electroforming step). Next, as shown in FIG. 5B, the upper surface of the tertiary electrodeposition layer 31 was subjected to a polishing process with the resist body 30 as a reference. As a result, the upper surfaces of the tertiary electrodeposition layer 31 and the resist body 30 could be made flush with no step.

次に、図5(c)に示すごとく、レジスト体25・30を溶解除去した。かかるレジスト体25の除去により、微小開口5を形成することできた。さらに、母型15を剥離してから、一次電着層21を除去した。これにて、図5(d)に示すように、下層7と上層9とからなる基板2の盤面内に、格子状の線状体6によって区画された、多数個独立の微小開口5を有する格子状開口3を備えるプレート体1を得ることができた。線状体6は、下層7の開口内面11から開口内方向に向かって張り出し形成された周縁部10を介して、開口内面11に接合された形態とすることができた。   Next, as shown in FIG. 5C, the resist bodies 25 and 30 were dissolved and removed. By removing the resist body 25, the minute opening 5 could be formed. Further, the primary electrodeposition layer 21 was removed after the matrix 15 was peeled off. As a result, as shown in FIG. 5 (d), a large number of independent micro-openings 5 partitioned by a grid-like linear body 6 are provided in the surface of the substrate 2 composed of the lower layer 7 and the upper layer 9. The plate body 1 provided with the lattice-like openings 3 could be obtained. The linear body 6 was able to be joined to the inner surface 11 of the opening via the peripheral edge portion 10 formed to project from the inner surface 11 of the lower layer 7 toward the inner side of the opening.

図6は、第1実施形態に係るプレート体1の別実施形態を示しており、そこでは、基板2の盤面上に、二つの格子状開口3を設けてある点が、先の図1および図2に示す形態と相違する。   FIG. 6 shows another embodiment of the plate body 1 according to the first embodiment, in which two grid-like openings 3 are provided on the board surface of the substrate 2 as shown in FIG. It differs from the form shown in FIG.

図7は、第1実施形態に係るプレート体1の別実施形態を示しており、そこでは、各微小開口5を下窄まりのテーパー状としてある点が、先の図1に示す形態と相違する。すなわち、線状体6を構成する各「線」を縦断面視で下拡がりのテーパー状として、各微小開口5を下窄まりのテーパー状としてある。それ以外は、図1と同等であるので、同一部材には同一符号を付して、その説明を省略する。かかる開口形態は、図3(e)の工程において、レジスト体25を下窄まりのテーパー状にすることによって得ることができる。   FIG. 7 shows another embodiment of the plate body 1 according to the first embodiment, in which each minute opening 5 has a tapered shape that is constricted, and is different from the embodiment shown in FIG. To do. That is, each “line” constituting the linear body 6 has a taper shape that expands downward in a longitudinal sectional view, and each minute opening 5 has a taper shape that narrows down. Since other than that is equivalent to FIG. 1, the same code | symbol is attached | subjected to the same member and the description is abbreviate | omitted. Such an opening form can be obtained by forming the resist body 25 into a tapered shape in the step of FIG.

(第2実施形態)
図2および図8ないし図12に、本発明に係る格子状開口を有するプレート体を、電気的構成素子の位置決め用の治具に適用した第2実施形態を示す。図2および図8に示すように、プレート体1は、四角平板状の基板2を基体として、該基板2の盤面中央に、四角形状の一つの格子状開口3を備える。格子状開口3は、多数個独立の微小開口5を有するものであり、各微小開口5は、左右および前後の二方向に走る多数本の「線」によって構成される、格子状の線状体6によって区画されている。これら左右方向に走る「線」と前後方向に走る「線」とは、互いに直交しており、したがって各微小開口5は四角形状を呈している。ここでは、各微小開口5を、左右および前後の長さ寸法の等しい正方形状に形成した。また各微小開口5は、上下方向の開口寸法が均一なストレート状とした。これら線状体6および基板2は、ニッケルやニッケルコバルト等のニッケル合金、その他の電着金属を素材として、後述のような電鋳法により形成した。
(Second Embodiment)
2 and 8 to 12 show a second embodiment in which a plate body having a grid-like opening according to the present invention is applied to a jig for positioning electrical components. As shown in FIG. 2 and FIG. 8, the plate body 1 includes a square lattice-shaped opening 3 in the center of the board surface of the substrate 2 with a square plate-like substrate 2 as a base. The lattice-shaped opening 3 has a large number of independent micro-openings 5, and each micro-opening 5 is composed of a large number of “lines” that run in two directions, left and right and front and rear. 6 is divided. The “line” running in the left-right direction and the “line” running in the front-rear direction are orthogonal to each other, and therefore each micro-opening 5 has a rectangular shape. Here, each minute opening 5 was formed in a square shape having the same length in the left and right and front and rear. Moreover, each minute opening 5 was made into the straight form with the uniform opening dimension of the up-down direction. The linear body 6 and the substrate 2 were formed by an electroforming method as described later, using a nickel alloy such as nickel or nickel cobalt, or other electrodeposited metal as a raw material.

なお、図8の縦断面図は、実際のプレート体1の様子を示したものではなく、それを模式的に示している。さらに言うと、図8などにおける微小開口5の開口寸法等は、図面作成の便宜上、そのような寸法に示したものであって実寸法とは大きく異なる。また、微小開口5の開口数も実際とは大きく異なる。   In addition, the longitudinal cross-sectional view of FIG. 8 does not show the actual state of the plate body 1 but schematically shows it. Furthermore, for example, the opening size of the minute opening 5 in FIG. 8 and the like is shown in such a size for the convenience of drawing, and is greatly different from the actual size. Further, the numerical aperture of the minute opening 5 is greatly different from the actual number.

図9ないし図12は本発明に係るプレート体1の製造方法を示す。まず、図9(a)に示すごとく、導電性を有する例えばステンレス製や真ちゅう鋼製の母型15の表面に、フォトレジスト層16を形成した。このフォトレジスト層16は、ネガタイプの感光性ドライフィルムレジストを、所定の高さに合わせて一枚ないし数枚ラミネートして熱圧着により形成した。次いで、このフォトレジスト層16の上に、基板2に対応する透光孔17aを有するパターンフィルム17を密着させたのち、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図9(b)に示すごとく、基板2に対応するストレート状のレジスト体20を母型15上に形成した。   9 to 12 show a method for manufacturing the plate body 1 according to the present invention. First, as shown in FIG. 9A, a photoresist layer 16 was formed on the surface of a matrix 15 made of, for example, stainless steel or brass having conductivity. The photoresist layer 16 was formed by laminating one or several negative photosensitive dry film resists at a predetermined height and then thermocompression bonding. Next, after a pattern film 17 having a light transmitting hole 17a corresponding to the substrate 2 is brought into close contact with the photoresist layer 16, exposure is performed by irradiating ultraviolet light with an ultraviolet lamp 19 to develop and dry the film. By performing each treatment and dissolving and removing the unexposed part, a straight resist body 20 corresponding to the substrate 2 was formed on the mother die 15 as shown in FIG.

次に、図9(c)に示すごとく、レジスト体20の存しない母型15の表面に、電鋳法により電着金属を電着して、格子状開口3に対応する一次電着層21を形成した(第1の電鋳工程)。かかる電鋳工程後、レジスト体20を除去した。なお、図9(c)は、レジスト体20の除去後の状態を示している。   Next, as shown in FIG. 9C, an electrodeposited metal is electrodeposited by electroforming on the surface of the mother die 15 where the resist body 20 does not exist, and the primary electrodeposition layer 21 corresponding to the lattice-like openings 3 is deposited. Was formed (first electroforming step). After the electroforming process, the resist body 20 was removed. FIG. 9C shows a state after the resist body 20 is removed.

図9(d)に示すように、一次電着層21を覆うように、母型15の全面フォトレジスト層22を形成したうえで、このフォトレジスト層22の上に、微小開口5および基板2に対応する透光孔23aを有するパターンフィルム23を密着した。次いで、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図9(e)に示すごとく、微小開口5および基板2に対応するレジスト体25を一次電着層21上に形成した。   As shown in FIG. 9 (d), a photoresist layer 22 is formed on the entire surface of the matrix 15 so as to cover the primary electrodeposition layer 21, and then the micro openings 5 and the substrate 2 are formed on the photoresist layer 22. The pattern film 23 having the translucent hole 23a corresponding to is closely attached. Next, exposure is performed by irradiating ultraviolet light with an ultraviolet light lamp 19, development and drying are performed, and unexposed portions are dissolved and removed, so that the minute openings 5 and 5 as shown in FIG. A resist body 25 corresponding to the substrate 2 was formed on the primary electrodeposition layer 21.

図10(a)に示すように、レジスト体25を有しない一次電着層21上に、レジスト体25の上面を超える高さ位置まで電着金属を電鋳して、線状体6となる二次電着層26を形成した(第2の電鋳工程)。次に、図10(b)に示すごとく、二次電着層26の上面およびレジスト体25の上面が面一状となるように研磨処理を施してから、図10(c)に示すごとく、レジスト体25を除去した。   As shown in FIG. 10A, the electrodeposited metal is electroformed onto the primary electrodeposition layer 21 not having the resist body 25 to a height position exceeding the upper surface of the resist body 25 to form the linear body 6. The secondary electrodeposition layer 26 was formed (second electroforming process). Next, as shown in FIG. 10B, after performing a polishing process so that the upper surface of the secondary electrodeposition layer 26 and the upper surface of the resist body 25 are flush with each other, as shown in FIG. The resist body 25 was removed.

図10(d)に示すごとく、一次電着層21、二次電着層26および母型15の上面に、フォトレジスト層27を形成したうえで、このフォトレジスト層27の上に、一次電着層21と同じ寸法を有する透光孔29aを有するパターンフィルム29を密着した。次いで、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図11に示すごとく、一次電着層21および二次電着層26の上面に、格子状開口3に対応するレジスト体30を形成した。   As shown in FIG. 10 (d), a photoresist layer 27 is formed on the upper surfaces of the primary electrodeposition layer 21, the secondary electrodeposition layer 26, and the mother die 15, and then the primary electrodeposition is formed on the photoresist layer 27. A pattern film 29 having a light transmitting hole 29a having the same dimensions as the wearing layer 21 was adhered. Next, exposure is performed by irradiating ultraviolet light with an ultraviolet light lamp 19, development and drying are performed, and unexposed portions are dissolved and removed, whereby primary electrodeposition layers 21 and 2 are formed as shown in FIG. A resist body 30 corresponding to the lattice-like openings 3 was formed on the upper surface of the next electrodeposition layer 26.

図12(a)に示すごとく、レジスト体30で覆われていない母型15の表面に、レジスト体30の上面を超える高さ位置まで電着金属を電鋳して、基板2となる三次電着層31を形成した(第3の電鋳工程)。なお、このとき、線状体6となる二次電着層26の最外縁部28(図11参照)と、基板2となる三次電着層31とは、不離一体的に接合されていた。次に、図12(b)に示すごとく、レジスト体30を基準として、三次電着層31の上面に対して研磨処理を施した。これにて、三次電着層31とレジスト対30の上面を段差の無い面一状とすることができた。   As shown in FIG. 12 (a), the electrodeposited metal is electroformed on the surface of the mother die 15 not covered with the resist body 30 to a height position exceeding the upper surface of the resist body 30, so that the tertiary electrode serving as the substrate 2 is obtained. An adhesion layer 31 was formed (third electroforming step). At this time, the outermost edge portion 28 (see FIG. 11) of the secondary electrodeposition layer 26 to be the linear body 6 and the tertiary electrodeposition layer 31 to be the substrate 2 were joined together in an integrated manner. Next, as shown in FIG. 12B, the upper surface of the tertiary electrodeposition layer 31 was subjected to a polishing process using the resist body 30 as a reference. Thus, the upper surfaces of the tertiary electrodeposition layer 31 and the resist pair 30 could be made flush with no step.

次に、図12(c)に示すごとく、レジスト体30を溶解除去した。かかるレジスト体30の溶解除去により、微小開口5を形成することができた。さらに、母型15を剥離してから、一次電着層21を除去した。これにて、図12(d)に示すように、基板2の盤面内に、格子状の線状体6によって区画された、多数個独立の微小開口5を有する格子状開口3を備えるプレート体1を得ることができた。   Next, as shown in FIG. 12C, the resist body 30 was dissolved and removed. The minute openings 5 could be formed by dissolving and removing the resist body 30. Further, the primary electrodeposition layer 21 was removed after the matrix 15 was peeled off. Thus, as shown in FIG. 12 (d), a plate body provided with a grid-like opening 3 having a large number of independent micro-openings 5 partitioned by a grid-like linear body 6 in the board surface of the substrate 2. 1 could be obtained.

図13は、第2実施形態に係るプレート体1の別実施形態を示しており、そこでは、各微小開口5を下窄まりのテーパー状としてある点が、先の図1に示す形態と相違する。すなわち、線状体6を構成する各「線」を縦断面視で下拡がりのテーパー状として、各微小開口5を下窄まりのテーパー状としてある。それ以外は、図1と同等であるので、同一部材には同一符号を付して、その説明を省略する。かかる開口形態は、図9(e)の工程において、レジスト体25を下窄まりのテーパー状にすることによって得ることができる。   FIG. 13 shows another embodiment of the plate body 1 according to the second embodiment, in which each micro-opening 5 has a tapered shape that is constricted from the previous embodiment shown in FIG. To do. That is, each “line” constituting the linear body 6 has a taper shape that expands downward in a longitudinal sectional view, and each minute opening 5 has a taper shape that narrows down. Since other than that is equivalent to FIG. 1, the same code | symbol is attached | subjected to the same member and the description is abbreviate | omitted. Such an opening form can be obtained by forming the resist body 25 into a tapered shape with a constriction in the step of FIG.

上記実施形態においては、基板2を四角形状とするとともに、微小開口5を四角形状としていたが、本発明はこれに限られない。同様に、格子状開口3の形状は、四角形状に限られない。基板2上の格子状開口3の数は、3以上とすることができる。図示例では、一枚の母型15上で、一枚のプレート体1を作製していたが、本発明はこれに限られず、一枚の母型15上で、複数枚のプレート体1を同時的に形成することができることは言うまでもない。   In the above embodiment, the substrate 2 has a quadrangular shape and the minute opening 5 has a quadrangular shape. However, the present invention is not limited to this. Similarly, the shape of the lattice-shaped opening 3 is not limited to a quadrangular shape. The number of grid-like openings 3 on the substrate 2 can be 3 or more. In the illustrated example, one plate body 1 is produced on one mother die 15, but the present invention is not limited to this, and a plurality of plate bodies 1 are produced on one mother die 15. Needless to say, they can be formed simultaneously.

格子状開口3は、上端の開口の開口寸法と下端の開口のそれとが異なるものであってもよい。また、微小開口5および線状体6の基板2に対する張り出し位置は、開口内面11の上下方向の中途部のいずれであってもよく、図示例には限られない。   The lattice-like openings 3 may have different opening dimensions at the upper end and those at the lower end. Further, the projecting position of the minute opening 5 and the linear body 6 with respect to the substrate 2 may be any of the middle portions of the opening inner surface 11 in the vertical direction, and is not limited to the illustrated example.

本発明の第1実施形態に係る格子状開口を有するプレート体の縦断側面図1 is a longitudinal side view of a plate body having a grid-like opening according to a first embodiment of the present invention. プレート体の斜視図Perspective view of plate body プレート体の製造方法を説明するための図The figure for demonstrating the manufacturing method of a plate body プレート体の製造方法を説明するための図The figure for demonstrating the manufacturing method of a plate body プレート体の製造方法を説明するための図The figure for demonstrating the manufacturing method of a plate body プレート体の別実施形態を示す斜視図The perspective view which shows another embodiment of a plate body プレート体の別実施形態を示す縦断側面図Longitudinal side view showing another embodiment of plate body 本発明の第2実施形態に係る格子状開口を有するプレート体の縦断側面図Vertical side view of a plate body having a grid-like opening according to a second embodiment of the present invention プレート体の製造方法を説明するための図The figure for demonstrating the manufacturing method of a plate body プレート体の製造方法を説明するための図The figure for demonstrating the manufacturing method of a plate body プレート体の製造方法を説明するための図The figure for demonstrating the manufacturing method of a plate body プレート体の製造方法を説明するための図The figure for demonstrating the manufacturing method of a plate body プレート体の別実施形態を示す縦断側面図Longitudinal side view showing another embodiment of plate body

符号の説明Explanation of symbols

1 プレート体
2 基板
3 格子状開口
5 微小開口
6 線状体
10 周縁部
11 開口内面
15 母型
21 一次電着層
25 レジスト体
26 二次電着層
30 レジスト体
31 三次電着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plate body 2 Substrate 3 Grid-like opening 5 Micro opening 6 Linear body 10 Peripheral part 11 Opening inner surface 15 Master 21 Primary electrodeposition layer 25 Resist body 26 Secondary electrodeposition layer 30 Resist body 31 Tertiary electrodeposition layer

Claims (6)

平板状の基板(2)の盤面内に、格子状の線状体(6)によって区画された、多数個独立の微小開口(5)を有する格子状開口(3)を、一又は二以上備えるプレート体であって、
前記線状体(6)が、電鋳法によって基板(2)と一体的に形成されたものであることを特徴とする格子状開口を有するプレート体。
One or two or more grid-like openings (3) having a large number of independent micro-openings (5) partitioned by a grid-like linear body (6) are provided in the board surface of the flat plate-like substrate (2). A plate body,
A plate body having a grid-like opening, wherein the linear body (6) is integrally formed with the substrate (2) by electroforming.
線状体(6)が、格子状開口(3)の外縁を区画する基板(2)の開口内面(11)の上下方向の中途部から開口内方向に向かって張り出し形成されている請求項1記載の格子状開口を有するプレート体。   The linear body (6) is formed so as to project from the middle part in the vertical direction of the opening inner surface (11) of the substrate (2) defining the outer edge of the lattice opening (3) toward the opening inward direction. A plate body having the lattice-like openings described. 線状体(6)が、格子状開口(3)の外縁を区画する基板(2)の開口内面(11)の上下方向の中途部から開口内方向に向かって張り出し形成された周縁部(10)を介して、開口内面(11)に接合されている請求項2記載の格子状開口を有するプレート体。   A peripheral portion (10) in which a linear body (6) projects from an intermediate portion in the vertical direction of the opening inner surface (11) of the substrate (2) defining the outer edge of the lattice-shaped opening (3) toward the opening inward direction. The plate body having a grid-like opening according to claim 2, which is joined to the inner surface (11) of the opening via the). 各微小開口(5)が下窄まりのテーパー状を呈している請求項1ないし3のいずれかに記載の格子状開口を有するプレート体。   The plate body having a grid-like opening according to any one of claims 1 to 3, wherein each minute opening (5) has a tapered shape with a constriction. 平板状の基板(2)の盤面内に、格子状の線状体(6)によって区画された、多数個独立の微小開口(5)を有する格子状開口(3)を、一又は二以上備えるプレート体の製造方法であって、
母型(15)の表面の所定位置に電着金属を電鋳して、格子状開口(3)に対応する一次電着層(21)を形成する第1の電鋳工程と、
一次電着層(21)上に、微小開口(5)に対応するレジスト体(25)を形成する工程と、
母型(15)、およびレジスト体(25)を有しない一次電着層(21)上に、レジスト体(25)の上面を超える程度まで電着金属を電鋳して、線状体(6)、および基板(2)の一部となる二次電着層(26)を形成する第2の電鋳工程と、
レジスト体(25)および二次電着層(26)の上面が面一状となるように、これらレジスト体(25)および二次電着層(26)に対して研磨処理を施す工程と、
レジスト体(25)および二次電着層(26)の上面に、格子状開口(3)に対応するレジスト体(30)を形成する工程と、
レジスト体(30)で覆われていない二次電着層(26)の表面に、電着金属を電鋳して、基板(2)の一部を構成する三次電着層(31)を形成する第3の電鋳工程と、
レジスト体(30)および三次電着層(31)の上面が面一状となるように、これらレジスト体(30)および三次電着層(31)に対して研磨処理を施す工程と、
母型(15)を剥離するとともに、レジスト体(25・30)および一次電着層(21)を除去する工程とを含み、
レジスト体(25)の除去により微小開口(5)が形成され、レジスト体(30)および一次電着層(21)の除去により、格子状開口(3)が形成されるようにしてあることを特徴とする格子状開口を有するプレート体の製造方法。
One or two or more grid-like openings (3) having a large number of independent micro-openings (5) partitioned by a grid-like linear body (6) are provided in the board surface of the flat plate-like substrate (2). A manufacturing method of a plate body,
A first electroforming step of electroforming an electrodeposited metal at a predetermined position on the surface of the matrix (15) to form a primary electrodeposition layer (21) corresponding to the lattice-like openings (3);
Forming a resist body (25) corresponding to the minute opening (5) on the primary electrodeposition layer (21);
On the primary electrodeposition layer (21) having no matrix (15) and the resist body (25), an electrodeposited metal is electroformed to the extent that it exceeds the upper surface of the resist body (25), and the linear body (6 ), And a second electroforming step of forming a secondary electrodeposition layer (26) to be a part of the substrate (2),
A step of polishing the resist body (25) and the secondary electrodeposition layer (26) so that the upper surfaces of the resist body (25) and the secondary electrodeposition layer (26) are flush with each other;
Forming a resist body (30) corresponding to the lattice openings (3) on the upper surfaces of the resist body (25) and the secondary electrodeposition layer (26);
On the surface of the secondary electrodeposition layer (26) not covered with the resist body (30), the electrodeposition metal is electroformed to form a tertiary electrodeposition layer (31) constituting a part of the substrate (2). A third electroforming step to
A step of polishing the resist body (30) and the tertiary electrodeposition layer (31) so that the upper surfaces of the resist body (30) and the tertiary electrodeposition layer (31) are flush with each other;
Peeling the matrix (15) and removing the resist body (25, 30) and the primary electrodeposition layer (21),
The minute openings (5) are formed by removing the resist body (25), and the lattice-like openings (3) are formed by removing the resist body (30) and the primary electrodeposition layer (21). A manufacturing method of a plate body having a grid-like opening as a feature.
平板状の基板(2)の盤面内に、格子状の線状体(6)によって区画された、多数個独立の微小開口(5)を有する格子状開口(3)を、一又は二以上備えるプレート体の製造方法であって、
母型(15)の表面の所定位置に電着金属を電鋳して、格子状開口(3)に対応する一次電着層(21)を形成する第1の電鋳工程と、
一次電着層(21)上に、微小開口(5)および基板(2)に対応するレジスト体(25)を形成する工程と、
レジスト体(25)を有しない一次電着層(21)上に、レジスト体(25)の上面を超える程度まで電着金属を電鋳して、線状体(6)となる二次電着層(26)を形成する第2の電鋳工程と、
レジスト体(25)および二次電着層(26)の上面が面一状となるように、これらレジスト体(25)および二次電着層(26)に対して研磨処理を施す工程と、
レジスト体(25)を除去したのち、一次電着層(21)および二次電着層(26)上に、格子状開口(3)および微小開口(5)に対応するレジスト体(30)を形成する工程と、
レジスト体(30)で覆われていない母型(15)の表面に、電着金属を電鋳して、基板(2)となる三次電着層(31)を形成する第3の電鋳工程と、
レジスト体(30)および三次電着層(31)の上面が面一状となるように、これらレジスト体(30)および三次電着層(31)に対して研磨処理を施す工程と、
母型(15)を剥離するとともに、レジスト体(30)および一次電着層(21)を除去する工程とを含み、
レジスト体(30)の除去により微小開口(5)が形成され、レジスト体(30)および一次電着層(21)の除去により、格子状開口(3)が形成されるようにしてあることを特徴とする格子状開口を有するプレート体の製造方法。
One or two or more grid-like openings (3) having a large number of independent micro-openings (5) partitioned by a grid-like linear body (6) are provided in the board surface of the flat plate-like substrate (2). A manufacturing method of a plate body,
A first electroforming step of electroforming an electrodeposited metal at a predetermined position on the surface of the matrix (15) to form a primary electrodeposition layer (21) corresponding to the lattice-like openings (3);
Forming a resist body (25) corresponding to the minute opening (5) and the substrate (2) on the primary electrodeposition layer (21);
On the primary electrodeposition layer (21) which does not have the resist body (25), the electrodeposition metal is electroformed to the extent that it exceeds the upper surface of the resist body (25), and the secondary electrodeposition which becomes the linear body (6) A second electroforming step of forming the layer (26);
A step of polishing the resist body (25) and the secondary electrodeposition layer (26) so that the upper surfaces of the resist body (25) and the secondary electrodeposition layer (26) are flush with each other;
After removing the resist body (25), on the primary electrodeposition layer (21) and the secondary electrodeposition layer (26), a resist body (30) corresponding to the lattice-like openings (3) and the minute openings (5) is formed. Forming, and
A third electroforming step of forming a tertiary electrodeposition layer (31) to be a substrate (2) by electroforming an electrodeposited metal on the surface of the matrix (15) not covered with the resist body (30) When,
A step of polishing the resist body (30) and the tertiary electrodeposition layer (31) so that the upper surfaces of the resist body (30) and the tertiary electrodeposition layer (31) are flush with each other;
Peeling the matrix (15) and removing the resist body (30) and the primary electrodeposition layer (21),
The minute openings (5) are formed by removing the resist body (30), and the lattice-shaped openings (3) are formed by removing the resist body (30) and the primary electrodeposition layer (21). A manufacturing method of a plate body having a grid-like opening as a feature.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN103203973A (en) * 2012-01-16 2013-07-17 昆山允升吉光电科技有限公司 A production method for an electroformed stencil with mark points

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN103203973A (en) * 2012-01-16 2013-07-17 昆山允升吉光电科技有限公司 A production method for an electroformed stencil with mark points

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