JP2006144067A - Plate body having lattice-shaped opening and production method therefor - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、平板状の基板の盤面内に、格子状の線状体によって区画された、多数個独立の微小開口を有する格子状開口を、一又は二以上備えるプレート体とその製造方法に関する。 The present invention relates to a plate body provided with one or two or more grid-like openings each having a plurality of independent micro-openings partitioned by a grid-like linear body in a plate surface of a flat board and a method for manufacturing the same.
本発明に係る格子状開口を有するプレート体は、電子回路基板に対して各種の電気的構成素子を実装するときの位置決め用の治具として使用されて好適なものであるが、同種の治具は、例えば特許文献1や特許文献2などに見ることができる。
The plate body having a grid-like opening according to the present invention is suitable for use as a positioning jig when mounting various electrical components on an electronic circuit board. Can be found in, for example, Patent Document 1 and
現行においては、格子状開口を構成する微小開口を、ウエットエッチングによる方法やレーザー加工による方法などにより作製している。しかし、ウエットエッチングによる方法では、寸法精度良く微小開口を形成することができない。微小開口の位置精度が低下しやすい点でも不利がある。レーザーによる場合には、形成する微小開口の数が多いと製造コストが高くつき、加えて、形成時に熱の影響を受けて微小開口周りに熱反応による反り、すなわちうねりが生じやすく、各開口の垂直断面性の低下が懸念される。 At present, the minute openings constituting the lattice-shaped openings are produced by a method by wet etching or a method by laser processing. However, the wet etching method cannot form a minute opening with high dimensional accuracy. There is also a disadvantage in that the position accuracy of the minute aperture tends to be lowered. In the case of using a laser, if the number of micro openings to be formed is large, the manufacturing cost becomes high, and in addition, due to the influence of heat at the time of forming, warping due to thermal reaction, that is, undulation is likely to occur around the micro openings. There is concern about the deterioration of the vertical cross section.
本発明の目的は、平板状の基板の盤面内に、多数個独立の微小開口を有する格子状開口をプレート体とその製造方法において、微小開口の寸法精度および位置精度を良好に確保しながら、生産性良く作製することができるようにすることにある。 An object of the present invention is to provide a grid-like opening having a large number of independent minute openings in a plate surface of a flat substrate, and in a manufacturing method thereof, while ensuring a good dimensional accuracy and position accuracy of the minute openings, The object is to enable production with high productivity.
本発明は、図2および図6に示すごとく、平板状の基板2の盤面内に、格子状の線状体6によって区画された、多数個独立の微小開口5を有する格子状開口3を、一又は二以上備えるプレート体であって、前記線状体6が、電鋳法によって基板2と一体的に形成されたものであることを特徴とする。
In the present invention, as shown in FIGS. 2 and 6, a grid-
具体的には、図1および図8に示すごとく、線状体6が、格子状開口3の外縁を区画する基板2の開口内面11の上下方向の中途部から開口内方向に向かって張り出し形成された形態を採ることができる。
Specifically, as shown in FIGS. 1 and 8, the
図1に示すごとく、線状体6が、格子状開口3の外縁を区画する基板2の開口内面11の上下方向の中途部から開口内方向に向かって張り出し形成された周縁部10を介して、開口内面11に接合された形態を採ることができる。
As shown in FIG. 1, the
図7および図13に示すごとく、各微小開口5が下窄まりのテーパー状を呈するものとすることができる。 As shown in FIGS. 7 and 13, each minute opening 5 can have a tapered shape.
また本発明は、図1に示すごとく、平板状の基板2の盤面内に、格子状の線状体6によって区画された、多数個独立の微小開口5を有する格子状開口3を、一又は二以上備えるプレート体の製造方法であって、図3(c)に示すごとく母型15の表面の所定位置に電着金属を電鋳して、格子状開口3に対応する一次電着層21を形成する第1の電鋳工程と、図3(e)に示すごとく、一次電着層21上に、微小開口5に対応するレジスト体25を形成する工程と、図4(a)に示すごとく、母型15、およびレジスト体25を有しない一次電着層21上に、レジスト体25の上面を超える程度まで電着金属を電鋳して、線状体6、および基板2の一部となる二次電着層26を形成する第2の電鋳工程と、図4(b)に示すごとく、レジスト体25および二次電着層26の上面が面一状となるように、これらレジスト体25および二次電着層26に対して研磨処理を施す工程と、図4(d)に示すごとく、レジスト体25および二次電着層26の上面に、格子状開口3に対応するレジスト体30を形成する工程と、図5(a)に示すごとく、レジスト体30で覆われていない二次電着層26の表面に、電着金属を電鋳して、基板2の一部を構成する三次電着層31を形成する第3の電鋳工程と、図5(b)に示すごとく、レジスト体30および三次電着層31の上面が面一状となるように、これらレジスト体30および三次電着層31に対して研磨処理を施す工程と、図5(c)および図5(d)に示すごとく、母型15を剥離するとともに、レジスト体25・30および一次電着層21を除去する工程とを含む。そして、図5(b)ないし(d)に示すごとく、レジスト体25の除去により微小開口5が形成され、レジスト体30および一次電着層21の除去により、格子状開口3が形成されるようにしてあることを特徴とする。なお、図5(c)および図5(d)において、レジスト体25・30の除去は、母型15の剥離後に行ってもよし、母型15の剥離前におこなってもよい。
In addition, as shown in FIG. 1, the present invention provides a grid-
また本発明は、図8に示すごとく、平板状の基板2の盤面内に、格子状の線状体6によって区画された、多数個独立の微小開口5を有する格子状開口3を、一又は二以上備えるプレート体の製造方法であって、図9(c)に示すごとく、母型15の表面の所定位置に電着金属を電鋳して、格子状開口3に対応する一次電着層21を形成する第1の電鋳工程と、図9(e)に示すごとく、一次電着層21上に、微小開口5および基板2に対応するレジスト体25を形成する工程と、図10(a)に示すごとく、レジスト体25を有しない一次電着層21上に、レジスト体25の上面を超える程度まで電着金属を電鋳して、線状体6となる二次電着層26を形成する第2の電鋳工程と、図10(b)に示すごとく、レジスト体25および二次電着層26の上面が面一状となるように、これらレジスト体25および二次電着層26に対して研磨処理を施す工程と、図10(c)ないし図11に示すごとく、レジスト体25を除去したのち、一次電着層21および二次電着層26上に、格子状開口3および微小開口5に対応するレジスト体30を形成する工程と、図12(a)に示すごとく、レジスト体30で覆われていない母型15の表面に、電着金属を電鋳して、基板2となる三次電着層31を形成する第3の電鋳工程と、図12(b)に示すごとく、レジスト体30および三次電着層31の上面が面一状となるように、これらレジスト体30および三次電着層31に対して研磨処理を施す工程と、図12(c)および図12(d)に示すごとく、母型15を剥離するとともに、レジスト30体および一次電着層21を除去する工程とを含む。そして、図12(b)ないし(d)に示すごとく、レジスト体30の除去により微小開口5が形成され、レジスト体30および一次電着層21の除去により、格子状開口3が形成されるようにしてあることを特徴とする。なお、図12(c)および図12(d)において、レジスト体30の除去は、母型15の剥離後におこなってもよいし、母型15の剥離前におこなってもよい。
In the present invention, as shown in FIG. 8, a grid-
本発明に係る格子状開口3を有するプレート体1では、線状体6を電鋳法によって基板2と一体的に形成したので、線状体6および該線状体6で区画される微小開口5を寸法精度良く、しかも位置精度良く作製することができる。エッチング加工する形式に比べて、格段に高精度であり、しかも生産性を確保して作製できる利点もある。レーザー加工する形式に比べて、製造コストが安価であることや、熱反応によるうねりが一切生じず、各微小開口5の垂直断面性を良好に担保しながら、高精度につくれる点でも有利である。
In the plate body 1 having the grid-
かかるプレート体1は、電気的構成素子を電子回路基板に実装する際の、該素子の位置決め用の治具として好適に使用することができる。この場合において、上述のように微小開口5を寸法精度および位置精度良く作製されていると、素子を回路基板に対して精度良く実装することが可能となる。これは該回路基板を備える電子機器の歩留まりの向上に資する。
The plate body 1 can be suitably used as a jig for positioning the electric component when the electric component is mounted on the electronic circuit board. In this case, if the
図1および図8に示すごとく、線状体6が、基板2の開口内面11の上下方向の中途部から開口内方向に向かって張り出し形成されていると、格子状開口3を、基板2の上面から一段下がった段差状とすることができる。これにて、格子状開口3の部分と基板2の部分とを明確に区別することができるので、かかる段差を利用した電気的構成素子の電子回路基板への実装操作を正確に行うことができる。すなわち、電気的構成素子を把持して、これを微小開口5から落とし込むセットアームの基板2に対する位置合わせ操作を、先の段差を利用して行うことができるので、実装操作の位置合わせ精度の向上に貢献できる。
As shown in FIGS. 1 and 8, when the
そのうえで、図1に示すごとく、線状体6が基板2の開口内面11の中途部から開口内方向に向かって張り出し形成された周縁部10を介して、開口内面11に接合された形態としてあると、セットアームが開口内面11に接触する不具合を解消できる。すなわち、上述のごとく格子状開口3が基板2の上面より一段下がった段差状とした場合には、格子状開口3の最外縁に存する微小開口5に電気的構成素子を落とし込む際に、セットアームが開口内面11に接触しやすく、最外縁に存する微小開口5内に、スムーズに電気的構成素子を落とし込むことが困難となる。その点、周縁部10を介して線状体6を開口内面11から張り出し形成してあると、該周縁部10の左右および前後の幅寸法分だけ、最外縁に存する微小開口5と開口内面11との間に間隙を設けることができるので、セットアームが開口内面11に接触することがなくなり、したがって、最外縁に存する微小開口5に対する電気的構成素子の落とし込み操作をスムーズに進めることができる。
In addition, as shown in FIG. 1, the
図7および図13に示すごとく、各微小開口5を下窄まりのテーパー状としてあると、電気的構成素子の位置合わせ操作を簡単確実に行うことが可能となる。すなわち、開口寸法の大きな上方側の開口位置に電気的構成素子を位置合わせするだけで、次の落とし込み操作時においては、テーパーに沿って電気的構成素子を下方にスライド変位させることができる。これにて、電気的構成素子を電子回路基板の最終的な実装位置に、簡単確実にガイドすることが可能となる。
As shown in FIGS. 7 and 13, if each
(第1実施形態)
図1ないし図5に、本発明に係る格子状開口を有するプレート体を、電気的構成素子の位置決め用の治具に適用した第1実施形態を示す。図2に示すように、プレート体1は、四角平板状の基板2を基体として、該基板2の盤面中央に、四角形状の一つの格子状開口3を備える。格子状開口3は、多数個独立の微小開口5を有するものであり、各微小開口5は、左右および前後の二方向に走る多数本の「線」によって構成される、格子状の線状体6によって区画されている。これら左右方向に走る「線」と前後方向に走る「線」とは、互いに直交しており、したがって各微小開口5は四角形状を呈している。ここでは、各微小開口5を、左右および前後の長さ寸法の等しい正方形状に形成した。また各微小開口5は、上下方向の開口寸法が均一なストレート状とした。
(First embodiment)
1 to 5 show a first embodiment in which a plate body having a grid-like opening according to the present invention is applied to a jig for positioning electrical components. As shown in FIG. 2, the plate body 1 includes a square-shaped lattice-shaped
図1に示すごとく、基板2は、格子状開口3を有する下層7と、該下層7の上面に不離一体的に形成された上層9とからなる。符号10は、下層7の上端部、換言すれば基板2の開口内面11の上下方向の中途部に、開口内方向に向かって微小幅で張り出し形成された周縁部を示しており、線状体6を構成する各「線」は、該周縁部10を介して基板2に接合されている。これら線状体6を含む下層7および上層9は、ニッケルやニッケルコバルト等のニッケル合金、その他の電着金属を素材として、後述のような電鋳法により形成した。符号t1は、周縁部10および線状体6の上下方向の肉厚寸法を、符号t2は、基板2の上下方向の肉厚寸法を示しており、図示例のごとくt1<t2の関係を満たすように、線状体6等の肉厚寸法を設定した。
As shown in FIG. 1, the
なお、図1の縦断面図は、実際のプレート体1の様子を示したものではなく、それを模式的に示している。さらに言うと、図1などにおける微小開口5の開口寸法等は、図面作成の便宜上、そのような寸法に示したものであって実寸法とは大きく異なる。また、微小開口5の開口数も実際とは大きく異なる。
In addition, the longitudinal cross-sectional view of FIG. 1 does not show the actual state of the plate body 1 but schematically shows it. Further, the opening size and the like of the
図3ないし図5は本実施形態に係るプレート体1の製造方法を示す。まず、図3(a)に示すごとく、導電性を有する例えばステンレス製や真ちゅう鋼製の母型15の表面に、フォトレジスト層16を形成した。このフォトレジスト層16は、ネガタイプの感光性ドライフィルムレジストを、所定の高さに合わせて一枚ないし数枚ラミネートして熱圧着により形成した。次いで、このフォトレジスト層16の上に、基板2に対応する透光孔17aを有するパターンフィルム17を密着させたのち、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図3(b)に示すごとく、基板2に対応するストレート状のレジスト体20を母型15上に形成した。
3 to 5 show a method of manufacturing the plate body 1 according to this embodiment. First, as shown in FIG. 3A, a
次に、図3(c)に示すごとく、レジスト体20の存しない母型15の表面に、電鋳法により電着金属を電着して、格子状開口3に対応する一次電着層21を形成した(第1の電鋳工程)。かかる電鋳工程後、レジスト体20を除去した。なお、図3(c)は、レジスト体20の除去後の状態を示している。
Next, as shown in FIG. 3C, an electrodeposited metal is electrodeposited by electroforming on the surface of the mother die 15 where the resist
図3(d)に示すように、一次電着層21を覆うように、母型15の全面にフォトレジスト層22を形成したうえで、このフォトレジスト層22の上に、微小開口5に対応する透光孔23aを有するパターンフィルム23を密着した。次いで、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図3(e)に示すごとく、微小開口5に対応するレジスト体25を一次電着層21上に形成した。なお、ここでは、以後の剥離工程(図5(c)〜図5(d)に至る工程)における二次電着層26の剥離除去の容易化を図ることを目的として、表面に露出する母型15の全体に対して、公知の剥離処理を施すことが好ましい。
As shown in FIG. 3D, a
図4(a)に示すように、母型15およびレジスト体25を有しない一次電着層21上に、レジスト体25の上面を超える高さ位置まで電着金属を電鋳して、線状体6および下層7となる二次電着層26を形成した(第2の電鋳工程)。すなわち、一次電着層21上のレジスト体25の存しない部分に電着金属を電鋳して、線状体6となる電着金属層26aを形成するとともに、母型上15上に下層7となる電着金属層26bを形成した。さらに、一次電着層21の外周縁上に、周縁部10となる電着金属層26cを形成した。これら電着金属層26a・26bは、電着金属層26cを介して結合しており、したがって、線状体6、周縁部10、および下層7とを一体的に電鋳形成してなる二次電着層26を得た。
As shown in FIG. 4A, an electrodeposited metal is electroformed on the
図4(b)に示すごとく、二次電着層26の上面およびレジスト体25の上面が面一状になるように研磨処理を施した。次に、図4(c)に示すごとく、レジスト体25および二次電着層26の上面に、フォトレジスト層27を形成したうえで、このフォトレジスト層27の上に、格子状開口3に対応する透光孔29aを有するパターンフィルム29を密着した。次いで、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図4(d)に示すごとく、二次電着層26を構成する電着金属層26a・26c、およびレジスト体25の上面に、格子状開口3に対応するレジスト体30を形成した。レジスト体30の外形寸法は、一次電着層21と略同じであった。なお、露出している二次電着層26上に公知の密着処理を施すことが好ましい。
As shown in FIG. 4B, the polishing process was performed so that the upper surface of the
図5(a)に示すごとく、レジスト体30で覆われていない二次電着層26の表面に、レジスト体30の上面を超える高さ位置まで電着金属を電鋳して、上層9となる三次電着層31を形成した(第3の電鋳工程)。次に、図5(b)に示すごとく、レジスト体30を基準として、三次電着層31の上面に対して研磨処理を施した。これにて、三次電着層31とレジスト体30の上面を、段差の無い面一状とすることができた。
As shown in FIG. 5A, an electrodeposited metal is electroformed on the surface of the
次に、図5(c)に示すごとく、レジスト体25・30を溶解除去した。かかるレジスト体25の除去により、微小開口5を形成することできた。さらに、母型15を剥離してから、一次電着層21を除去した。これにて、図5(d)に示すように、下層7と上層9とからなる基板2の盤面内に、格子状の線状体6によって区画された、多数個独立の微小開口5を有する格子状開口3を備えるプレート体1を得ることができた。線状体6は、下層7の開口内面11から開口内方向に向かって張り出し形成された周縁部10を介して、開口内面11に接合された形態とすることができた。
Next, as shown in FIG. 5C, the resist
図6は、第1実施形態に係るプレート体1の別実施形態を示しており、そこでは、基板2の盤面上に、二つの格子状開口3を設けてある点が、先の図1および図2に示す形態と相違する。
FIG. 6 shows another embodiment of the plate body 1 according to the first embodiment, in which two grid-
図7は、第1実施形態に係るプレート体1の別実施形態を示しており、そこでは、各微小開口5を下窄まりのテーパー状としてある点が、先の図1に示す形態と相違する。すなわち、線状体6を構成する各「線」を縦断面視で下拡がりのテーパー状として、各微小開口5を下窄まりのテーパー状としてある。それ以外は、図1と同等であるので、同一部材には同一符号を付して、その説明を省略する。かかる開口形態は、図3(e)の工程において、レジスト体25を下窄まりのテーパー状にすることによって得ることができる。
FIG. 7 shows another embodiment of the plate body 1 according to the first embodiment, in which each
(第2実施形態)
図2および図8ないし図12に、本発明に係る格子状開口を有するプレート体を、電気的構成素子の位置決め用の治具に適用した第2実施形態を示す。図2および図8に示すように、プレート体1は、四角平板状の基板2を基体として、該基板2の盤面中央に、四角形状の一つの格子状開口3を備える。格子状開口3は、多数個独立の微小開口5を有するものであり、各微小開口5は、左右および前後の二方向に走る多数本の「線」によって構成される、格子状の線状体6によって区画されている。これら左右方向に走る「線」と前後方向に走る「線」とは、互いに直交しており、したがって各微小開口5は四角形状を呈している。ここでは、各微小開口5を、左右および前後の長さ寸法の等しい正方形状に形成した。また各微小開口5は、上下方向の開口寸法が均一なストレート状とした。これら線状体6および基板2は、ニッケルやニッケルコバルト等のニッケル合金、その他の電着金属を素材として、後述のような電鋳法により形成した。
(Second Embodiment)
2 and 8 to 12 show a second embodiment in which a plate body having a grid-like opening according to the present invention is applied to a jig for positioning electrical components. As shown in FIG. 2 and FIG. 8, the plate body 1 includes a square lattice-shaped
なお、図8の縦断面図は、実際のプレート体1の様子を示したものではなく、それを模式的に示している。さらに言うと、図8などにおける微小開口5の開口寸法等は、図面作成の便宜上、そのような寸法に示したものであって実寸法とは大きく異なる。また、微小開口5の開口数も実際とは大きく異なる。
In addition, the longitudinal cross-sectional view of FIG. 8 does not show the actual state of the plate body 1 but schematically shows it. Furthermore, for example, the opening size of the
図9ないし図12は本発明に係るプレート体1の製造方法を示す。まず、図9(a)に示すごとく、導電性を有する例えばステンレス製や真ちゅう鋼製の母型15の表面に、フォトレジスト層16を形成した。このフォトレジスト層16は、ネガタイプの感光性ドライフィルムレジストを、所定の高さに合わせて一枚ないし数枚ラミネートして熱圧着により形成した。次いで、このフォトレジスト層16の上に、基板2に対応する透光孔17aを有するパターンフィルム17を密着させたのち、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図9(b)に示すごとく、基板2に対応するストレート状のレジスト体20を母型15上に形成した。
9 to 12 show a method for manufacturing the plate body 1 according to the present invention. First, as shown in FIG. 9A, a
次に、図9(c)に示すごとく、レジスト体20の存しない母型15の表面に、電鋳法により電着金属を電着して、格子状開口3に対応する一次電着層21を形成した(第1の電鋳工程)。かかる電鋳工程後、レジスト体20を除去した。なお、図9(c)は、レジスト体20の除去後の状態を示している。
Next, as shown in FIG. 9C, an electrodeposited metal is electrodeposited by electroforming on the surface of the mother die 15 where the resist
図9(d)に示すように、一次電着層21を覆うように、母型15の全面フォトレジスト層22を形成したうえで、このフォトレジスト層22の上に、微小開口5および基板2に対応する透光孔23aを有するパターンフィルム23を密着した。次いで、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図9(e)に示すごとく、微小開口5および基板2に対応するレジスト体25を一次電着層21上に形成した。
As shown in FIG. 9 (d), a
図10(a)に示すように、レジスト体25を有しない一次電着層21上に、レジスト体25の上面を超える高さ位置まで電着金属を電鋳して、線状体6となる二次電着層26を形成した(第2の電鋳工程)。次に、図10(b)に示すごとく、二次電着層26の上面およびレジスト体25の上面が面一状となるように研磨処理を施してから、図10(c)に示すごとく、レジスト体25を除去した。
As shown in FIG. 10A, the electrodeposited metal is electroformed onto the
図10(d)に示すごとく、一次電着層21、二次電着層26および母型15の上面に、フォトレジスト層27を形成したうえで、このフォトレジスト層27の上に、一次電着層21と同じ寸法を有する透光孔29aを有するパターンフィルム29を密着した。次いで、紫外光ランプ19で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図11に示すごとく、一次電着層21および二次電着層26の上面に、格子状開口3に対応するレジスト体30を形成した。
As shown in FIG. 10 (d), a
図12(a)に示すごとく、レジスト体30で覆われていない母型15の表面に、レジスト体30の上面を超える高さ位置まで電着金属を電鋳して、基板2となる三次電着層31を形成した(第3の電鋳工程)。なお、このとき、線状体6となる二次電着層26の最外縁部28(図11参照)と、基板2となる三次電着層31とは、不離一体的に接合されていた。次に、図12(b)に示すごとく、レジスト体30を基準として、三次電着層31の上面に対して研磨処理を施した。これにて、三次電着層31とレジスト対30の上面を段差の無い面一状とすることができた。
As shown in FIG. 12 (a), the electrodeposited metal is electroformed on the surface of the mother die 15 not covered with the resist
次に、図12(c)に示すごとく、レジスト体30を溶解除去した。かかるレジスト体30の溶解除去により、微小開口5を形成することができた。さらに、母型15を剥離してから、一次電着層21を除去した。これにて、図12(d)に示すように、基板2の盤面内に、格子状の線状体6によって区画された、多数個独立の微小開口5を有する格子状開口3を備えるプレート体1を得ることができた。
Next, as shown in FIG. 12C, the resist
図13は、第2実施形態に係るプレート体1の別実施形態を示しており、そこでは、各微小開口5を下窄まりのテーパー状としてある点が、先の図1に示す形態と相違する。すなわち、線状体6を構成する各「線」を縦断面視で下拡がりのテーパー状として、各微小開口5を下窄まりのテーパー状としてある。それ以外は、図1と同等であるので、同一部材には同一符号を付して、その説明を省略する。かかる開口形態は、図9(e)の工程において、レジスト体25を下窄まりのテーパー状にすることによって得ることができる。
FIG. 13 shows another embodiment of the plate body 1 according to the second embodiment, in which each
上記実施形態においては、基板2を四角形状とするとともに、微小開口5を四角形状としていたが、本発明はこれに限られない。同様に、格子状開口3の形状は、四角形状に限られない。基板2上の格子状開口3の数は、3以上とすることができる。図示例では、一枚の母型15上で、一枚のプレート体1を作製していたが、本発明はこれに限られず、一枚の母型15上で、複数枚のプレート体1を同時的に形成することができることは言うまでもない。
In the above embodiment, the
格子状開口3は、上端の開口の開口寸法と下端の開口のそれとが異なるものであってもよい。また、微小開口5および線状体6の基板2に対する張り出し位置は、開口内面11の上下方向の中途部のいずれであってもよく、図示例には限られない。
The lattice-
1 プレート体
2 基板
3 格子状開口
5 微小開口
6 線状体
10 周縁部
11 開口内面
15 母型
21 一次電着層
25 レジスト体
26 二次電着層
30 レジスト体
31 三次電着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (6)
前記線状体(6)が、電鋳法によって基板(2)と一体的に形成されたものであることを特徴とする格子状開口を有するプレート体。 One or two or more grid-like openings (3) having a large number of independent micro-openings (5) partitioned by a grid-like linear body (6) are provided in the board surface of the flat plate-like substrate (2). A plate body,
A plate body having a grid-like opening, wherein the linear body (6) is integrally formed with the substrate (2) by electroforming.
母型(15)の表面の所定位置に電着金属を電鋳して、格子状開口(3)に対応する一次電着層(21)を形成する第1の電鋳工程と、
一次電着層(21)上に、微小開口(5)に対応するレジスト体(25)を形成する工程と、
母型(15)、およびレジスト体(25)を有しない一次電着層(21)上に、レジスト体(25)の上面を超える程度まで電着金属を電鋳して、線状体(6)、および基板(2)の一部となる二次電着層(26)を形成する第2の電鋳工程と、
レジスト体(25)および二次電着層(26)の上面が面一状となるように、これらレジスト体(25)および二次電着層(26)に対して研磨処理を施す工程と、
レジスト体(25)および二次電着層(26)の上面に、格子状開口(3)に対応するレジスト体(30)を形成する工程と、
レジスト体(30)で覆われていない二次電着層(26)の表面に、電着金属を電鋳して、基板(2)の一部を構成する三次電着層(31)を形成する第3の電鋳工程と、
レジスト体(30)および三次電着層(31)の上面が面一状となるように、これらレジスト体(30)および三次電着層(31)に対して研磨処理を施す工程と、
母型(15)を剥離するとともに、レジスト体(25・30)および一次電着層(21)を除去する工程とを含み、
レジスト体(25)の除去により微小開口(5)が形成され、レジスト体(30)および一次電着層(21)の除去により、格子状開口(3)が形成されるようにしてあることを特徴とする格子状開口を有するプレート体の製造方法。 One or two or more grid-like openings (3) having a large number of independent micro-openings (5) partitioned by a grid-like linear body (6) are provided in the board surface of the flat plate-like substrate (2). A manufacturing method of a plate body,
A first electroforming step of electroforming an electrodeposited metal at a predetermined position on the surface of the matrix (15) to form a primary electrodeposition layer (21) corresponding to the lattice-like openings (3);
Forming a resist body (25) corresponding to the minute opening (5) on the primary electrodeposition layer (21);
On the primary electrodeposition layer (21) having no matrix (15) and the resist body (25), an electrodeposited metal is electroformed to the extent that it exceeds the upper surface of the resist body (25), and the linear body (6 ), And a second electroforming step of forming a secondary electrodeposition layer (26) to be a part of the substrate (2),
A step of polishing the resist body (25) and the secondary electrodeposition layer (26) so that the upper surfaces of the resist body (25) and the secondary electrodeposition layer (26) are flush with each other;
Forming a resist body (30) corresponding to the lattice openings (3) on the upper surfaces of the resist body (25) and the secondary electrodeposition layer (26);
On the surface of the secondary electrodeposition layer (26) not covered with the resist body (30), the electrodeposition metal is electroformed to form a tertiary electrodeposition layer (31) constituting a part of the substrate (2). A third electroforming step to
A step of polishing the resist body (30) and the tertiary electrodeposition layer (31) so that the upper surfaces of the resist body (30) and the tertiary electrodeposition layer (31) are flush with each other;
Peeling the matrix (15) and removing the resist body (25, 30) and the primary electrodeposition layer (21),
The minute openings (5) are formed by removing the resist body (25), and the lattice-like openings (3) are formed by removing the resist body (30) and the primary electrodeposition layer (21). A manufacturing method of a plate body having a grid-like opening as a feature.
母型(15)の表面の所定位置に電着金属を電鋳して、格子状開口(3)に対応する一次電着層(21)を形成する第1の電鋳工程と、
一次電着層(21)上に、微小開口(5)および基板(2)に対応するレジスト体(25)を形成する工程と、
レジスト体(25)を有しない一次電着層(21)上に、レジスト体(25)の上面を超える程度まで電着金属を電鋳して、線状体(6)となる二次電着層(26)を形成する第2の電鋳工程と、
レジスト体(25)および二次電着層(26)の上面が面一状となるように、これらレジスト体(25)および二次電着層(26)に対して研磨処理を施す工程と、
レジスト体(25)を除去したのち、一次電着層(21)および二次電着層(26)上に、格子状開口(3)および微小開口(5)に対応するレジスト体(30)を形成する工程と、
レジスト体(30)で覆われていない母型(15)の表面に、電着金属を電鋳して、基板(2)となる三次電着層(31)を形成する第3の電鋳工程と、
レジスト体(30)および三次電着層(31)の上面が面一状となるように、これらレジスト体(30)および三次電着層(31)に対して研磨処理を施す工程と、
母型(15)を剥離するとともに、レジスト体(30)および一次電着層(21)を除去する工程とを含み、
レジスト体(30)の除去により微小開口(5)が形成され、レジスト体(30)および一次電着層(21)の除去により、格子状開口(3)が形成されるようにしてあることを特徴とする格子状開口を有するプレート体の製造方法。 One or two or more grid-like openings (3) having a large number of independent micro-openings (5) partitioned by a grid-like linear body (6) are provided in the board surface of the flat plate-like substrate (2). A manufacturing method of a plate body,
A first electroforming step of electroforming an electrodeposited metal at a predetermined position on the surface of the matrix (15) to form a primary electrodeposition layer (21) corresponding to the lattice-like openings (3);
Forming a resist body (25) corresponding to the minute opening (5) and the substrate (2) on the primary electrodeposition layer (21);
On the primary electrodeposition layer (21) which does not have the resist body (25), the electrodeposition metal is electroformed to the extent that it exceeds the upper surface of the resist body (25), and the secondary electrodeposition which becomes the linear body (6) A second electroforming step of forming the layer (26);
A step of polishing the resist body (25) and the secondary electrodeposition layer (26) so that the upper surfaces of the resist body (25) and the secondary electrodeposition layer (26) are flush with each other;
After removing the resist body (25), on the primary electrodeposition layer (21) and the secondary electrodeposition layer (26), a resist body (30) corresponding to the lattice-like openings (3) and the minute openings (5) is formed. Forming, and
A third electroforming step of forming a tertiary electrodeposition layer (31) to be a substrate (2) by electroforming an electrodeposited metal on the surface of the matrix (15) not covered with the resist body (30) When,
A step of polishing the resist body (30) and the tertiary electrodeposition layer (31) so that the upper surfaces of the resist body (30) and the tertiary electrodeposition layer (31) are flush with each other;
Peeling the matrix (15) and removing the resist body (30) and the primary electrodeposition layer (21),
The minute openings (5) are formed by removing the resist body (30), and the lattice-shaped openings (3) are formed by removing the resist body (30) and the primary electrodeposition layer (21). A manufacturing method of a plate body having a grid-like opening as a feature.
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JP2004335174A JP2006144067A (en) | 2004-11-18 | 2004-11-18 | Plate body having lattice-shaped opening and production method therefor |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103203973A (en) * | 2012-01-16 | 2013-07-17 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | A production method for an electroformed stencil with mark points |
-
2004
- 2004-11-18 JP JP2004335174A patent/JP2006144067A/en active Pending
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CN103203973A (en) * | 2012-01-16 | 2013-07-17 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | A production method for an electroformed stencil with mark points |
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