JP2006143627A - Optically active amino acid derivative having axial asymmetry, and method for producing optically active compound using the amino acid derivative as asymmetric catalyst - Google Patents

Optically active amino acid derivative having axial asymmetry, and method for producing optically active compound using the amino acid derivative as asymmetric catalyst Download PDF

Info

Publication number
JP2006143627A
JP2006143627A JP2004333798A JP2004333798A JP2006143627A JP 2006143627 A JP2006143627 A JP 2006143627A JP 2004333798 A JP2004333798 A JP 2004333798A JP 2004333798 A JP2004333798 A JP 2004333798A JP 2006143627 A JP2006143627 A JP 2006143627A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substituent
general formula
group
compound
compound represented
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004333798A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4779109B2 (en
Inventor
Keiji Maruoka
啓二 丸岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyoto University
Original Assignee
Kyoto University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyoto University filed Critical Kyoto University
Priority to JP2004333798A priority Critical patent/JP4779109B2/en
Publication of JP2006143627A publication Critical patent/JP2006143627A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4779109B2 publication Critical patent/JP4779109B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Other In-Based Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an advantageous method for producing an optically active compound useful as a synthetic intermediate of a medicine or the like by developing a new nonmetallic asymmetric catalyst capable of achieving high-yield and highly stereoselective asymmetric reaction. <P>SOLUTION: The amino acid derivative is represented by general formula (I) [wherein, R<SP>1</SP>is an aryl group which may have a substituent, a group represented by the formula: -CO<SB>2</SB>R<SP>4</SP>(wherein, R<SP>4</SP>is a hydrogen atom or the like) or the like; and R<SP>2</SP>and R<SP>3</SP>are the same or different and each a hydrogen atom or the like]. The method for producing the optically active compound uses the optically active substance as an asymmetric catalyst. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、軸不斉を有する新規な光学活性アミノ酸誘導体に関する。本発明のアミノ酸誘導体は、不斉合成用触媒として有用である。
さらに、本発明は、当該アミノ酸誘導体を不斉触媒として用いることを特徴とする光学活性化合物の製造方法に関する。
The present invention relates to a novel optically active amino acid derivative having axial asymmetry. The amino acid derivative of the present invention is useful as a catalyst for asymmetric synthesis.
Furthermore, this invention relates to the manufacturing method of the optically active compound characterized by using the said amino acid derivative as an asymmetric catalyst.

近年開発される医薬品は、薬効および安全性をより高めるため、そのほとんどがノンラセミックな医薬品になっている。これら光学活性医薬品を合成する上において従来は光学分割法が主流であったが、アトムエコノミーが高い不斉触媒合成に移行しつつあり、高収率かつ高光学純度を達成できる不斉触媒の開発がその根幹をなす技術として注目されている。また、不斉触媒合成は、医薬品のみならず、農薬や高機能性材料(例えば、液晶、非線形光学材料など)等様々な分野での応用も期待される。   Most recently developed drugs have become non-racemic drugs in order to further improve drug efficacy and safety. Conventionally, the optical resolution method has been the mainstream in the synthesis of these optically active pharmaceuticals, but the atom economy is shifting to asymmetric catalyst synthesis, and development of asymmetric catalysts that can achieve high yield and high optical purity. Is attracting attention as the underlying technology. Asymmetric catalyst synthesis is expected to be applied not only to pharmaceuticals but also to various fields such as agricultural chemicals and highly functional materials (for example, liquid crystals and nonlinear optical materials).

直接アルドール反応やO−ニトロソアルドール反応などのアルドール反応は、様々な医薬品の合成に使用されており(例えば、非特許文献1参照)、その不斉触媒合成への応用は極めて有用な技術となり得る。そのため、これまでに様々な不斉アルドール反応のための不斉触媒が報告されているが、そのほとんどは不斉配位子を有する遷移金属触媒を用いるものであった(例えば、非特許文献2参照)。
しかし、遷移金属触媒は毒性が強かったり、触媒活性が不安定なものが多く、その取扱いには注意を要する場合が多々ある。また反応に使用することにより触媒活性が劣化する場合が多く、その回収再利用は一般に困難である。さらには、金属廃液の処理が必要となるためコストが高くなる上に、環境上の問題もある。
Aldol reactions such as direct aldol reaction and O-nitrosoaldol reaction are used for the synthesis of various pharmaceuticals (see, for example, Non-Patent Document 1), and their application to asymmetric catalyst synthesis can be a very useful technique. . Therefore, asymmetric catalysts for various asymmetric aldol reactions have been reported so far, most of which have used transition metal catalysts having an asymmetric ligand (for example, Non-Patent Document 2). reference).
However, many transition metal catalysts are highly toxic or unstable in catalytic activity, and there are many cases that require careful handling. Further, the catalytic activity often deteriorates when used in the reaction, and its recovery and reuse are generally difficult. Furthermore, since it is necessary to treat the metal waste liquid, the cost is increased and there is also an environmental problem.

遷移金属を使用しない触媒的不斉アルドール反応として、L−プロリンなどのアミノ酸誘導体を不斉触媒として使用する方法が報告されている(非特許文献3または4参照)。しかし、その収率および立体選択性は低く、実用的に実施するには満足できるものではなかった。
「ヘルベチカケミカアクタ(Helvetica Chemica Acta)」,1987年,70巻,p.1412−1418 「ジャーナルオブザアメリカンケミカルソサイアティ(Journal of the American Chemical Society)」,1999年,第121巻,p.669−685 「ジャーナルオブザアメリカンケミカルソサイアティ(Journal of the American Chemical Society)」,2001年,第123巻,p.5260−5267 「ジャーナルオブザアメリカンケミカルソサイアティ(Journal of the American Chemical Society)」,2003年,第125巻,p.10808−10809
As a catalytic asymmetric aldol reaction without using a transition metal, a method using an amino acid derivative such as L-proline as an asymmetric catalyst has been reported (see Non-Patent Document 3 or 4). However, the yield and stereoselectivity were low and were not satisfactory for practical use.
“Helvetica Chemica Acta”, 1987, 70, p. 1412-1418 “Journal of the American Chemical Society”, 1999, Vol. 121, p. 669-685 “Journal of the American Chemical Society”, 2001, Vol. 123, p. 5260-5267 “Journal of the American Chemical Society”, 2003, vol. 125, p. 10808-10809

すなわち本発明は、従来の不斉アルドール反応にみられる上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、高収率かつ高立体選択的な不斉アルドール反応を達成し得る非金属の新規不斉触媒を開発して、当該不斉触媒を用いた新規不斉アルドール反応を提供することにより、医薬、農薬、高機能性材料等の合成中間体として有用な光学活性化合物の有利な製造方法を提供することである。   That is, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems found in conventional asymmetric aldol reactions, and its purpose is to achieve a high yield and high stereoselective asymmetric aldol reaction. Advantages of optically active compounds useful as synthetic intermediates for pharmaceuticals, agricultural chemicals, highly functional materials, etc. by developing new asymmetric catalysts for metals and providing new asymmetric aldol reactions using such asymmetric catalysts Providing a simple manufacturing method.

本発明者は、上記課題を解決するため、不斉アルドール反応の非金属不斉触媒として、軸不斉を有するアミノ酸誘導体に着目し、鋭意研究を行った。その結果、軸不斉源としてビナフチル構造を有する新規なアミノ酸誘導体が不斉アルドール反応の優れた非金属不斉触媒となることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
[1]一般式(I):
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor has intensively studied focusing on an amino acid derivative having axial asymmetry as a nonmetallic asymmetric catalyst for an asymmetric aldol reaction. As a result, the inventors have found that a novel amino acid derivative having a binaphthyl structure as an axial asymmetry source can be a non-metallic asymmetric catalyst excellent in an asymmetric aldol reaction, and has completed the present invention.
That is, the present invention is as follows.
[1] General formula (I):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基または−COで表される基(ここで、Rは水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基を示す。)を示し、RおよびRは同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子または低級アルキル基、低級アルコキシ基を示す。)で表される化合物(以下、化合物(I)ともいう。)またはその塩。
[2]Rが水素原子、原子置換基を有していてもよいフェニル基またはカルボキシル基である、上記[1]記載の化合物またはその塩。
[3]光学活性である、上記[1]または[2]記載の化合物またはその塩。
[4]上記[3]記載の化合物またはその塩を含有することを特徴とする不斉触媒。
[5]不斉アルドール反応、不斉マンニッヒ型反応、不斉ハロゲン化反応または不斉マイケル反応のための不斉触媒である、上記[4]記載の不斉触媒。
[6]不斉アルドール反応のための不斉触媒である、上記[5]記載の不斉触媒。
[7]不斉アルドール反応が、不斉直接アルドール反応または不斉O−ニトロソアルドール反応である、上記[6]記載の不斉触媒。
[8]上記[3]記載の化合物またはその塩の存在下、一般式(II):
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, an aryl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent, or a group represented by —CO 2 R 4 (where R 1 is 4 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group which may have a substituent, a cycloalkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. 2 and R 3 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group), or a salt thereof (hereinafter also referred to as compound (I)).
[2] The compound or a salt thereof according to the above [1], wherein R 1 is a hydrogen atom, an optionally substituted phenyl group or a carboxyl group.
[3] The compound or salt thereof according to [1] or [2], which is optically active.
[4] An asymmetric catalyst comprising the compound according to the above [3] or a salt thereof.
[5] The asymmetric catalyst according to the above [4], which is an asymmetric catalyst for an asymmetric aldol reaction, asymmetric Mannich type reaction, asymmetric halogenation reaction or asymmetric Michael reaction.
[6] The asymmetric catalyst according to the above [5], which is an asymmetric catalyst for the asymmetric aldol reaction.
[7] The asymmetric catalyst according to the above [6], wherein the asymmetric aldol reaction is an asymmetric direct aldol reaction or an asymmetric O-nitrosoaldol reaction.
[8] General formula (II) in the presence of the compound or salt thereof according to [3] above:

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、RおよびRは同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケニル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を示すか、あるいはRとRとがつながり、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって、置換基を有していてもよい環を形成してもよい。)で表される化合物(以下、化合物(II)ともいう。)と、一般式(III): (Wherein R 5 and R 6 are the same or different and have a hydrogen atom, a lower alkyl group which may have a substituent, a lower alkenyl group which may have a substituent, or a substituent. A cycloalkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent or a substituent. Or a heteroarylalkyl group which may be substituted, or R 5 and R 6 may be connected to form a ring optionally having a substituent together with the carbon atom to which each is bonded. ) (Hereinafter also referred to as compound (II)) and general formula (III):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、Rは置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケニル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を示す。)で表される化合物(以下、化合物(III)ともいう。)を反応させることを特徴とする、一般式(IV): (In the formula, R 7 has a lower alkyl group which may have a substituent, a lower alkenyl group which may have a substituent, a cycloalkyl group which may have a substituent, and a substituent. An aryl group that may be substituted, an aralkyl group that may have a substituent, a heteroaryl group that may have a substituent, or a heteroarylalkyl group that may have a substituent. A compound represented by the general formula (IV): wherein the compound represented by formula (hereinafter also referred to as compound (III)) is reacted.

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、*は不斉炭素を示し、他の記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(IV)ともいう。)の製造方法。
[9]Rが低級アルキル基であり、Rが水素原子であり、Rが置換基を有していてもよいアリール基である、上記[8]記載の製造方法。
[10]上記[3]記載の化合物またはその塩の存在下、一般式(V):
(Wherein * represents an asymmetric carbon, and other symbols have the same meanings as defined above). A method for producing a compound represented by the following (hereinafter also referred to as compound (IV)).
[9] The production method of the above-mentioned [8], wherein R 5 is a lower alkyl group, R 6 is a hydrogen atom, and R 7 is an aryl group which may have a substituent.
[10] In the presence of the compound of the above-mentioned [3] or a salt thereof, general formula (V):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、Rは水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケニル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケニル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を示すか、あるいはRとRとがつながり、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって、置換基を有していてもよい環を形成してもよい。)で表される化合物(以下、化合物(V)ともいう。)と、一般式(VI): (Wherein R 8 represents a hydrogen atom, an optionally substituted lower alkyl group, an optionally substituted lower alkenyl group, an optionally substituted cycloalkyl group, substituted An aryl group which may have a group, an aralkyl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent or a heteroarylalkyl group which may have a substituent; R 9 represents a lower alkyl group which may have a substituent, a lower alkenyl group which may have a substituent, a cycloalkyl group which may have a substituent, or a substituent. An aryl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent or a heteroarylalkyl group which may have a substituent, or R 8 and R 9 are connected, And a compound represented by the general formula (hereinafter also referred to as compound (V)), which may form a ring which may have a substituent together with the carbon atoms to which they are bonded. (VI):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、R10は置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。)で表される化合物(以下、ニトロソ化合物(VI)ともいう。)とを反応させることを特徴とする、一般式(VII): (Wherein R 10 represents an aryl group which may have a substituent or a heteroaryl group which may have a substituent) (hereinafter also referred to as nitroso compound (VI)). In general formula (VII):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、*は不斉炭素を示し、他の記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(VII)ともいう。)の製造方法。
[11]上記[10]記載の製造方法により得られる化合物(VII)を還元する工程を包含する、一般式(VIII):
(Wherein * represents an asymmetric carbon, and other symbols have the same meanings as defined above). A method for producing a compound represented by the following (hereinafter also referred to as compound (VII)).
[11] General formula (VIII) including a step of reducing compound (VII) obtained by the production method of [10] above:

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(VIII)ともいう。)の製造方法。
[12]Rが水素原子であり、Rが低級アルキル基であり、R10が置換基を有していてもよいアリール基である、上記[10]または[11]記載の製造方法。
[13]以下の工程(i-a)〜(vi-a)を包含することを特徴とする、一般式(Ia):
(In the formula, each symbol has the same meaning as described above.) A method for producing a compound represented by the following (hereinafter also referred to as compound (VIII)).
[12] The production method of the above-mentioned [10] or [11], wherein R 8 is a hydrogen atom, R 9 is a lower alkyl group, and R 10 is an aryl group which may have a substituent.
[13] General formula (Ia) characterized by including the following steps (ia) to (vi-a):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、Raは置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し、RおよびRは前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(Ia)ともいう。)またはその塩の製造方法;
(i-a)一般式(IX):
(In the formula, Ra 1 represents an aryl group which may have a substituent or a heteroaryl group which may have a substituent, and R 2 and R 3 are as defined above). A method for producing a compound (hereinafter also referred to as compound (Ia)) or a salt thereof;
(I-a) General formula (IX):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、RおよびRは前記と同義を示し、OTfはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を示す。)で表される化合物(以下、化合物(IX)ともいう。)を、遷移金属触媒および塩基の存在下に、一般式(X):Ra−B(OH) (X)(式中、Raは前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(X)ともいう。)と反応させて、一般式(XI): (Wherein R 2 and R 3 are as defined above, and OTf represents a trifluoromethanesulfonyloxy group) (hereinafter also referred to as compound (IX)), a transition metal catalyst and a base In the presence of a compound represented by the general formula (X): Ra 1 -B (OH) 2 (X) (wherein Ra 1 is as defined above) (hereinafter also referred to as compound (X)). And general formula (XI):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XI)ともいう。)を得;
(ii-a)得られた化合物(XI)を遷移金属触媒および塩基の存在下、一酸化炭素および一般式(XII):R’OH (XII)(式中、R’は置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示す。)で表されるアルコール(以下、アルコール(XII)ともいう。)と反応させて、一般式(XIII):
(Wherein each symbol has the same meaning as described above) (hereinafter, also referred to as compound (XI));
The presence of (ii-a) obtained compound (XI) to transition metal catalyst and a base, carbon monoxide and the general formula (XII): R 4 'OH (XII) ( wherein, R 4' and the substituents An alcohol represented by a lower alkyl group which may have, a cycloalkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent (hereinafter referred to as alcohol (XII)). And the general formula (XIII):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XIII)ともいう。)を得;
(iii-a)得られた化合物(XIII)を、ラジカル開始剤の存在下、ハロゲン化剤と反応させて、一般式(XIV):
(Wherein each symbol has the same meaning as described above) (hereinafter also referred to as compound (XIII));
(Iii-a) The obtained compound (XIII) is reacted with a halogenating agent in the presence of a radical initiator to give a general formula (XIV):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、Xはハロゲン原子を示し、他の各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XIV)ともいう。)を得;
(iv-a)得られた化合物(XIV)をアリルアミンと反応させて、一般式(XV):
(Wherein, X 1 represents a halogen atom, and other symbols are as defined above) (hereinafter also referred to as compound (XIV));
(Iv-a) The obtained compound (XIV) is reacted with allylamine to give a general formula (XV):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XV)ともいう。)を得;
(v-a)得られた化合物(XV)を、遷移金属触媒の存在下脱保護して、一般式(XVI):
(Wherein each symbol has the same meaning as described above) (hereinafter also referred to as compound (XV));
(V-a) The resulting compound (XV) is deprotected in the presence of a transition metal catalyst to give a general formula (XVI):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XVI)ともいう。)を得;
(vi-a)得られた化合物(XVI)を加水分解して、化合物(Ia)を得る。
[14]Raが置換基を有していてもよいフェニル基である上記[13]記載の製造方法。
[15]以下の工程(i-b)〜(v-b)を包含することを特徴とする、一般式(Ib):
Wherein each symbol is as defined above (hereinafter also referred to as compound (XVI));
(Vi-a) The obtained compound (XVI) is hydrolyzed to obtain compound (Ia).
[14] The production method of the above-mentioned [13], wherein Ra 1 is a phenyl group which may have a substituent.
[15] General formula (Ib) comprising the following steps (ib) to (vb):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(Ib)ともいう。)またはその塩の製造方法;
(i-b)化合物(IX)を、遷移金属触媒および塩基の存在下に、一酸化炭素およびアルコール(XII)と反応させて、一般式(XVII):
(Wherein each symbol has the same meaning as described above) (hereinafter also referred to as compound (Ib)) or a salt production method thereof;
(Ib) Compound (IX) is reacted with carbon monoxide and alcohol (XII) in the presence of a transition metal catalyst and a base to give a compound of the general formula (XVII):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XVII)ともいう。)を得;
(ii-b)得られた化合物(XVII)を、ラジカル開始剤の存在下、ハロゲン化剤と反応させて、一般式(XVIII):
(Wherein each symbol is as defined above) (hereinafter also referred to as compound (XVII));
(Ii-b) The obtained compound (XVII) is reacted with a halogenating agent in the presence of a radical initiator to give a general formula (XVIII):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XVIII)ともいう。)を得;
(iii-b)得られた化合物(XVIII)をアリルアミンと反応させて、一般式(XIX):
(Wherein each symbol is as defined above) (hereinafter also referred to as compound (XVIII));
(Iii-b) The obtained compound (XVIII) is reacted with allylamine to give a general formula (XIX):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XIX)ともいう。)を得;
(iv-b)得られた化合物(XIX)を、遷移金属触媒の存在下脱保護して、一般式(XX):
(Wherein each symbol is as defined above) (hereinafter also referred to as compound (XIX));
(Iv-b) The obtained compound (XIX) is deprotected in the presence of a transition metal catalyst to give a general formula (XX):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XX)ともいう。)を得;
(v-b)得られた化合物(XX)を加水分解して、化合物(Ib)を得る。
[16]光学活性な化合物(IX)を用いる、上記[13]〜[15]のいずれかに記載の製造方法。
[17]以下の工程(i-c)〜(vii-c)を包含することを特徴とする、一般式(Ic):
Wherein each symbol is as defined above (hereinafter also referred to as compound (XX));
(Vb) The obtained compound (XX) is hydrolyzed to obtain compound (Ib).
[16] The production method according to any one of [13] to [15], wherein the optically active compound (IX) is used.
[17] General formula (Ic) characterized in that it includes the following steps (ic) to (vii-c):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(Ic)ともいう。)またはその塩の製造方法;
(i-c)一般式(XXI):
(Wherein each symbol has the same meaning as described above) (hereinafter also referred to as compound (Ic)) or a salt thereof;
(I-c) General formula (XXI):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、RおよびRは前記と同義を示し、R11は低級アルキル基を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XXI)ともいう。)を、塩基の存在下に、ハロゲン化剤と反応させて、一般式(XXII): (Wherein R 2 and R 3 have the same meanings as described above, and R 11 represents a lower alkyl group) (hereinafter also referred to as compound (XXI)) in the presence of a base, By reacting with a halogenating agent, general formula (XXII):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、R、RおよびR11は前記と同義を示し、Xはハロゲン原子を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XXII)ともいう。)を得;
(ii-c)得られた化合物(XXII)を還元して、一般式(XXIII):
(Wherein R 2 , R 3 and R 11 are as defined above, and X 2 represents a halogen atom) (hereinafter also referred to as compound (XXII));
(Ii-c) The obtained compound (XXII) is reduced to give a general formula (XXIII):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XXIII)ともいう。)を得;
(iii-c)得られた化合物(XXIII)をハロゲン化剤と反応させて、一般式(XXIV):
(Wherein each symbol is as defined above) (hereinafter also referred to as compound (XXIII));
(Iii-c) The obtained compound (XXIII) is reacted with a halogenating agent to give a general formula (XXIV):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、R、RおよびXは前記と同義を示し、Xは、Xと同一または異なってハロゲン原子を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XXIV)ともいう。)を得;
(iv-c)得られた化合物(XXIV)をアリルアミンと反応させて、一般式(XXV):
Wherein R 2 , R 3 and X 2 are as defined above, and X 3 is the same as or different from X 2 and represents a halogen atom (hereinafter also referred to as compound (XXIV)). .);
(Iv-c) The obtained compound (XXIV) is reacted with allylamine to give a general formula (XXV):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XXV)ともいう。)を得;
(v-c)得られた化合物(XXV)を遷移金属触媒および塩基の存在下、一酸化炭素およびアルコール(XII)と反応させて、一般式(XXVI):
(Wherein each symbol is as defined above) (hereinafter also referred to as compound (XXV));
(V-c) The obtained compound (XXV) is reacted with carbon monoxide and alcohol (XII) in the presence of a transition metal catalyst and a base to give a general formula (XXVI):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XXVI)ともいう。)を得;
(vi-c)得られた化合物(XXVI)を、遷移金属触媒の存在下脱保護して、一般式(XXVII):
(Wherein each symbol is as defined above) (hereinafter also referred to as compound (XXVI));
(Vi-c) The resulting compound (XXVI) is deprotected in the presence of a transition metal catalyst to give a general formula (XXVII):

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XXVII)ともいう。)を得;
(vii-c)得られた化合物(XXVII)を加水分解して、化合物(Ic)を得る。
[18]光学活性な一般式(XXI)で表される化合物を用いる、上記[17]記載の製造方法。
(Wherein each symbol is as defined above) (hereinafter also referred to as compound (XXVII));
(Vii-c) The resulting compound (XXVII) is hydrolyzed to obtain compound (Ic).
[18] The production method of the above-mentioned [17], which uses an optically active compound represented by the general formula (XXI).

本発明によれば、高収率かつ高立体選択性の不斉アルドール反応を可能とする非金属不斉触媒である新規なアミノ酸誘導体、すなわち化合物(I)が提供され、これを不斉アルドール反応の不斉触媒に用いることにより、医薬品などの合成中間体として有用な光学活性化合物の有利な製造方法が提供される。
また、本発明の不斉触媒は非金属であるため環境に優しく、金属廃液の処理等をする必要がないので、コスト的に有利である。さらに非金属であるため、触媒活性が安定しており、回収再利用も容易に行うことができる。
According to the present invention, there is provided a novel amino acid derivative which is a nonmetallic asymmetric catalyst that enables a high yield and high stereoselective asymmetric aldol reaction, that is, compound (I), which is asymmetrical aldol reaction. By using as an asymmetric catalyst, an advantageous method for producing an optically active compound useful as a synthetic intermediate for pharmaceuticals and the like is provided.
In addition, since the asymmetric catalyst of the present invention is non-metallic, it is environmentally friendly, and it is not necessary to treat the metal waste liquid, which is advantageous in terms of cost. Furthermore, since it is non-metallic, its catalytic activity is stable and can be easily recovered and reused.

以下、本発明を詳細に説明する。
1.記号の説明
本発明におけるアルキルにおいて、語頭(例えば、イソ、ネオ、sec−、tert−など)を付していない限り直鎖状であり、例えば単にプロピルとあれば、直鎖状のプロピルのことである。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
1. Explanation of Symbols In the alkyl of the present invention, it is linear unless it is prefixed (for example, iso, neo, sec-, tert-, etc.). For example, if it is simply propyl, it means linear propyl. It is.

、R、X、XおよびXに示される「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である。RおよびRは好ましくは、塩素原子または臭素原子である。Xは好ましくは、塩素原子または臭素原子である。Xは好ましくは、臭素原子である。Xは好ましくは、塩素原子または臭素原子である。 The “halogen atom” represented by R 2 , R 3 , X 1 , X 2 and X 3 is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. R 2 and R 3 are preferably a chlorine atom or a bromine atom. X 1 is preferably a chlorine atom or a bromine atom. X 2 is preferably a bromine atom. X 3 is preferably a chlorine atom or a bromine atom.

、RおよびR11に示される「低級アルキル基」としては、炭素数1〜12の直鎖または分枝のアルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル等が挙げられ、好ましくはメチル、エチル、イソプロピルまたはtert−ブチルである。 The “lower alkyl group” represented by R 2 , R 3 and R 11 is a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl. , Tert-butyl, pentyl, isopentyl, neopentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl and the like, preferably methyl, ethyl, isopropyl or tert-butyl.

およびRに示される「低級アルコキシ基」としては、アルキル部分が上記で定義された「低級アルキル基」であるアルコキシ基、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペントキシ、イソペントキシ、ネオペントキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ等が挙げられ、好ましくはメトキシまたはエトキシである。 The “lower alkoxy group” represented by R 2 and R 3 is an alkoxy group in which the alkyl portion is the “lower alkyl group” defined above, for example, methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec- Examples include butoxy, tert-butoxy, pentoxy, isopentoxy, neopentoxy, hexyloxy, heptyloxy, octyloxy, nonyloxy, decyloxy, undecyloxy, dodecyloxy and the like, preferably methoxy or ethoxy.

、R’、R、R、R、RおよびRに示される「置換基を有していてもよい低級アルキル基」の「低級アルキル基」としては、上記で定義された「低級アルキル基」と同じアルキル基が挙げられる。
当該低級アルキル基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記で定義された低級アルコキシ基、上記で定義されたハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、1〜3個が好ましく、2個以上の場合は同一または異なっていてもよい。
The “lower alkyl group” of the “lower alkyl group optionally having substituent (s)” represented by R 4 , R 4 ′, R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 is defined above. And the same alkyl group as the above-mentioned “lower alkyl group”.
The lower alkyl group may have a substituent at a substitutable position. Examples of such a substituent include a lower alkoxy group as defined above, a halogen atom as defined above, a nitro group, and a cyano group. Etc. The number of the substituents is not particularly limited, preferably 1 to 3, and may be the same or different when two or more.

、R、R、RおよびRに示される「置換基を有していてもよい低級アルケニル基」の「低級アルケニル基」としては、炭素数2〜12の直鎖または分枝のアルケニル基、例えばエテニル、1−プロペニル、アリル、1−メチル−2−プロペニル、1−ブテニル、2−ブテニル、3−ブテニル、1−ペンテニル、2−ペンテニル、1−ヘキセニル、2−ヘキセニル、1−ヘプテニル、2−ヘプテニル、1−オクテニル、2−オクテニル、1−ノネニル、2−ノネニル、1−デセニル、2−デセニル等が挙げられ、好ましくはエテニルまたはアリルである。当該アルケニル基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記の「置換基を有していてもよい低級アルキル基」で例示された置換基と同じ置換基;あるいは下記で定義する「置換基を有していてもよいアリール基」等が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、1〜3個が好ましく、2個以上の場合は同一または異なっていてもよい。 The “lower alkenyl group” of the “lower alkenyl group optionally having substituent (s)” represented by R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 is a linear or branched group having 2 to 12 carbon atoms. Branched alkenyl groups such as ethenyl, 1-propenyl, allyl, 1-methyl-2-propenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, 1-pentenyl, 2-pentenyl, 1-hexenyl, 2-hexenyl, Examples include 1-heptenyl, 2-heptenyl, 1-octenyl, 2-octenyl, 1-nonenyl, 2-nonenyl, 1-decenyl, 2-decenyl, and the like, and preferably ethenyl or allyl. The alkenyl group may have a substituent at a substitutable position. Examples of such a substituent include the substituents exemplified in the above-mentioned “lower alkyl group optionally having substituent (s)”. The same substituents; or “aryl groups optionally having substituents” defined below. The number of the substituents is not particularly limited, preferably 1 to 3, and may be the same or different when two or more.

、Ra、R、R’、R、R、R、R、RおよびR10に示される「置換基を有していてもよいアリール基」の「アリール基」としては、炭素数6〜12のアリール基、例えばフェニル、1−または2−ナフチル、ビフェニル等が挙げられる。当該アリール基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記で定義された低級アルキル基、ハロ低級アルキル基(例、トリフルオロメチル基等);ハロゲン原子で置換されてもよいアリール基;上記の「置換基を有していてもよい低級アルキル基」で例示された置換基と同じ置換基等が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、1〜3個が好ましく、2個以上の場合は同一または異なっていてもよい。 “Aryl group” of “aryl group optionally having substituent (s)” represented by R 1 , Ra 1 , R 4 , R 4 ′, R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 "Includes an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, such as phenyl, 1- or 2-naphthyl, biphenyl and the like. The aryl group may have a substituent at a substitutable position. Examples of such a substituent include a lower alkyl group and a halo lower alkyl group defined above (eg, trifluoromethyl group, etc.); An aryl group which may be substituted with a halogen atom; the same substituents as those exemplified above for the “lower alkyl group which may have a substituent” and the like. The number of the substituents is not particularly limited, preferably 1 to 3, and may be the same or different when two or more.

、R’、R、R、R、RおよびRに示される「置換基を有していてもよいシクロアルキル基」の「シクロアルキル基」としては、炭素数3〜7個のシクロアルキル基、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルまたはシクロヘプチル等が挙げられる。当該シクロアルキル基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記の「置換基を有していてもよいアリール基」で例示された置換基と同じ置換基が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、1〜3個が好ましく、2個以上の場合は同一または異なっていてもよい。 As the “cycloalkyl group” of the “cycloalkyl group optionally having substituent (s)” represented by R 4 , R 4 ′, R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 , ˜7 cycloalkyl groups such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl or cycloheptyl. The cycloalkyl group may have a substituent at a substitutable position. Examples of such a substituent include the substituents exemplified in the above-mentioned “aryl group optionally having substituent (s)”. The same substituents can be mentioned. The number of the substituents is not particularly limited, preferably 1 to 3, and may be the same or different when two or more.

、R、R、RおよびRに示される「置換基を有していてもよいアラルキル基」の「アラルキル基」としては、上記で定義された「低級アルキル基」の任意の位置に上記で定義された「アリール基」が置換して形成されるアラルキル基、例えばベンジル、1−または2−フェニルエチル、1−、2−または3−フェニルプロピル、1−または2−ナフチルメチル、ベンゾヒドリル、トリチル等が挙げられる。当該アラルキル基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記「置換基を有していてもよいアリール基」で例示された置換基と同じ置換基が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、1〜3個が好ましく、2個以上の場合は同一または異なっていてもよい。 The “aralkyl group” of the “aralkyl group optionally having substituent (s)” represented by R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 is any of the “lower alkyl groups” defined above An aralkyl group formed by substituting the above-defined “aryl group” at the position of, for example, benzyl, 1- or 2-phenylethyl, 1-, 2- or 3-phenylpropyl, 1- or 2-naphthyl Examples include methyl, benzohydryl, trityl and the like. The aralkyl group may have a substituent at a substitutable position, and as such a substituent, the same substituent as the substituent exemplified in the above-mentioned “aryl group optionally having substituent (s)” is used. Groups. The number of the substituent is not particularly limited and is preferably 1 to 3, and may be the same or different in the case of 2 or more.

、Ra、R、R、R、R、RおよびR10に示される「置換基を有していてもよいヘテロアリール基」の「ヘテロアリール基」としては、例えば炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれるヘテロ原子を1〜2個含む5〜6員の芳香性を有する複素環基、及びその縮合ヘテロ環基等が挙げられる。例えば2−又は3−チエニル、2−又は3−フリル、1−、2−又は3−ピロリル、1−、2−、4−又は5−イミダゾリル、2−、4−又は5−オキサゾリル、2−、4−又は5−チアゾリル、1−、3−、4−又は5−ピラゾリル、3−、4−又は5−イソオキサゾリル、3−、4−又は5−イソチアゾリル、1,2,4−トリアゾール−1、3、4又は5−イル、1,2,3−トリアゾール−1、2又は4−イル、1H−テトラゾール−1又は5−イル、2H−テトラゾール−2又は5−イル、2−、3−又は4−ピリジル、2−、4−又は5−ピリミジニル、1−、2−、3−、4−、5−、6−又は7−インドリル、2−、3−、4−、5−、6−又は7−ベンゾフリル、2−、3−、4−、5−、6−又は7−ベンゾチエニル、1−、2−、4−、5−、6−又は7−ベンズイミダゾリル、2−、3−、4−、5−、6−、7−又は8−キノリル、1−、3−、4−、5−、6−、7−又は8−イソキノリル等が挙げられる。当該ヘテロアリール基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記「置換基を有していてもよいアリール基」で例示された置換基と同じ置換基が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、1〜3個が好ましく、2個以上の場合は同一または異なっていてもよい。 As the “heteroaryl group” of the “heteroaryl group optionally having substituent (s)” represented by R 1 , Ra 1 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 , for example Examples thereof include 5- to 6-membered aromatic heterocyclic groups containing 1 to 2 heteroatoms selected from oxygen atoms, sulfur atoms and nitrogen atoms in addition to carbon atoms, and condensed heterocyclic groups thereof. For example 2- or 3-thienyl, 2- or 3-furyl, 1-, 2- or 3-pyrrolyl, 1-, 2-, 4- or 5-imidazolyl, 2-, 4- or 5-oxazolyl, 2- 4-, 5-thiazolyl, 1-, 3-, 4- or 5-pyrazolyl, 3-, 4- or 5-isoxazolyl, 3-, 4- or 5-isothiazolyl, 1,2,4-triazole-1 3, 4, or 5-yl, 1,2,3-triazol-1, 2, or 4-yl, 1H-tetrazol-1 or 5-yl, 2H-tetrazol-2 or 5-yl, 2-, 3- Or 4-pyridyl, 2-, 4- or 5-pyrimidinyl, 1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- or 7-indolyl, 2-, 3-, 4-, 5-, 6 -Or 7-benzofuryl, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- or 7-benzothienyl, -, 2-, 4-, 5-, 6- or 7-benzimidazolyl, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- or 8-quinolyl, 1-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- or 8-isoquinolyl and the like can be mentioned. The heteroaryl group may have a substituent at a substitutable position, and such a substituent is the same as the substituent exemplified in the above “aryl group optionally having substituent”. A substituent is mentioned. The number of the substituents is not particularly limited, preferably 1 to 3, and may be the same or different when two or more.

、R、R、RおよびRに示される「置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基」の「ヘテロアリールアルキル基」としては、上記で定義された「低級アルキル基」の任意の位置に上記で定義された「ヘテロアリール基」が置換して形成される基、例えば、3−インドリルメチル、2−ピリジルメチル、2−チエニルメチル等が挙げられる。当該アラルキル基は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記「置換基を有していてもよいアリール基」で例示された置換基と同じ置換基が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、1〜3個が好ましく、2個以上の場合は同一または異なっていてもよい。 The “heteroarylalkyl group” of the “heteroarylalkyl group optionally having substituent (s)” represented by R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 is the “lower alkyl” defined above. A group formed by substituting the “heteroaryl group” defined above at any position of the “group”, for example, 3-indolylmethyl, 2-pyridylmethyl, 2-thienylmethyl and the like. The aralkyl group may have a substituent at a substitutable position, and as such a substituent, the same substituent as the substituent exemplified in the above-mentioned “aryl group optionally having substituent (s)” is used. Groups. The number of the substituents is not particularly limited, preferably 1 to 3, and may be the same or different when two or more.

とRおよびRとRが、それぞれ結合する炭素原子と一緒になって形成してもよい環としては、5〜6員の同素環またはその縮合環(例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン、インダン等)または炭素原子以外に窒素原子、酸素原子または硫黄原子等のヘテロ原子を1〜2個含む、5〜6員の複素環またはその縮合環(例えば、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオフェン、テトラヒドロチオピラン、ピロリジン、ピペリジン、1,4−ジオキサン、モルホリン、チオモルホリン、ピペラジン、ジヒドロベンゾフラン、クロマン、イソクロマン、チオクロマン等)が挙げられる。当該環は置換可能な位置に置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記「置換基を有していてもよいアリール基」で例示された置換基と同じ置換基が挙げられる。当該置換基の数は特に限定はなく、1〜3個が好ましく、2個以上の場合は同一または異なっていてもよい。 Examples of the ring that R 5 and R 6 and R 8 and R 9 may form together with the carbon atoms to which R 5 and R 6 are bonded, respectively, include a 5- to 6-membered allocyclic ring or a condensed ring thereof (for example, cyclopentane, Cyclohexane, cycloheptane, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene, indane, etc.) or a 5- to 6-membered heterocyclic ring containing 1 to 2 heteroatoms such as nitrogen, oxygen or sulfur atoms in addition to carbon atoms Or a condensed ring thereof (for example, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, tetrahydrothiophene, tetrahydrothiopyran, pyrrolidine, piperidine, 1,4-dioxane, morpholine, thiomorpholine, piperazine, dihydrobenzofuran, chroman, isochroman, thiochroman, etc.). The ring may have a substituent at a substitutable position, and examples of such a substituent include the same substituents as those exemplified above for the “aryl group optionally having substituents”. Is mentioned. The number of the substituents is not particularly limited, preferably 1 to 3, and may be the same or different when two or more.

化合物(IV)、(VII)および(VIII)における*は、付された炭素原子が不斉炭素であることを示し、それぞれの化合物が光学活性な化合物であることを意味する。   * In the compounds (IV), (VII) and (VIII) indicates that the attached carbon atom is an asymmetric carbon, and that each compound is an optically active compound.

化合物(I)、(Ia)、(Ib)、(Ic)、(IX)、(XI)、(XIII)、(XIV)、(XV)、(XVI)、(XVII)、(XVIII)、(XIX)、(XX)、(XXI)、(XXII)、(XXIII)、(XXIV)、(XXV)、(XXVI)および(XXVII)は、ナフタレン環を繋ぐ単結合の回転障害に基づく軸不斉を示し、室温において光学分割可能なアトロプ異性を示し、光学活性化合物及びラセミ体を包含する。   Compounds (I), (Ia), (Ib), (Ic), (IX), (XI), (XIII), (XIV), (XV), (XVI), (XVII), (XVIII), ( XIX), (XX), (XXI), (XXII), (XXIII), (XXIV), (XXV), (XXVI), and (XXVII) are axial asymmetry based on rotation failure of a single bond connecting naphthalene rings. And atropisomerism that is optically resolvable at room temperature, including optically active compounds and racemates.

光学活性とは、不斉炭素または軸不斉においてその立体配置が異なる異性体の等量混合物(例えば、ラセミ体)でないことを意味し、一方の立体異性体が過剰に存在する場合(例えば、6:4の混合物)であれば、光学活性と定義される。   Optical activity means that it is not an equimolar mixture (for example, racemate) of isomers having different configurations in asymmetric carbon or axial asymmetry, and when one stereoisomer is present in excess (for example, 6: 4 mixture) is defined as optical activity.

本明細書に記載の化合物が不斉炭素または軸不斉を2個以上有する場合は、あらゆる立体異性体またはその混合物(例えば、ジアステレオマーまたはその混合物等)を包含する。   When the compounds described herein have two or more asymmetric carbon or axial asymmetry, all stereoisomers or mixtures thereof (for example, diastereomers or mixtures thereof, etc.) are included.

化合物(I)、(Ia)、(Ib)および(Ic)は、アミノ基とカルボキシル基を有するアミノ酸誘導体であり、塩の形態であってもよい。そのような塩としては、例えば無機酸塩(例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等);有機酸塩(例えば酢酸塩、プロピオン酸塩、メタンスルホン酸塩、4−トルエンスルホン酸塩、シュウ酸塩、マレイン酸塩等);アルカリ金属塩(例えばナトリウム塩、カリウム塩等);アルカリ土類金属塩(例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等);有機塩基塩(例えばトリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩等)等が挙げられる。
また、本明細書で定義される他の化合物も、同様の塩を形成する態様であってもよい。
Compounds (I), (Ia), (Ib) and (Ic) are amino acid derivatives having an amino group and a carboxyl group, and may be in the form of a salt. Examples of such salts include inorganic acid salts (for example, hydrochloride, sulfate, nitrate, phosphate, etc.); organic acid salts (for example, acetate, propionate, methanesulfonate, 4-toluenesulfonate) , Oxalate, maleate, etc.); alkali metal salts (eg, sodium salts, potassium salts, etc.); alkaline earth metal salts (eg, calcium salts, magnesium salts, etc.); organic base salts (eg, trimethylamine salts, triethylamine salts, Pyridine salt, picoline salt, dicyclohexylamine salt, etc.).
Moreover, the aspect which forms the same salt may also be sufficient as the other compound defined by this specification.

化合物(I)のRとしては、水素原子、置換基を有していてもよいフェニル基またはカルボキシル基が好ましく、置換基を有していてもよいフェニル基またはカルボキシル基がより好ましい。 R 1 of the compound (I) is preferably a hydrogen atom, a phenyl group or a carboxyl group which may have a substituent, and more preferably a phenyl group or a carboxyl group which may have a substituent.

化合物(II)のRとしては、低級アルキル基、置換基を有するアリール基が好ましく、メチル基、フェニル基がより好ましく、Rとしては水素原子が好ましい。化合物(III)のRとしては置換基を有していてもよいアリール基が好ましく、ニトロ基、シアノ基または塩素原子で置換されたフェニル基がより好ましい。 R 5 of the compound (II) is preferably a lower alkyl group or an aryl group having a substituent, more preferably a methyl group or a phenyl group, and R 6 is preferably a hydrogen atom. R 7 of compound (III) is preferably an aryl group which may have a substituent, and more preferably a nitro group, a cyano group or a phenyl group substituted with a chlorine atom.

化合物(V)のRとしては水素原子が好ましい。Rとしては、置換基を有していてもよい低級アルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。ニトロソ化合物(VI)のR10としては置換基を有していてもよいアリール基が好ましく、フェニル基がより好ましい。 As R 8 of the compound (V), a hydrogen atom is preferable. R 9 is preferably a lower alkyl group which may have a substituent, and more preferably a methyl group. R 10 of the nitroso compound (VI) is preferably an aryl group which may have a substituent, and more preferably a phenyl group.

2.化合物(I)の製造方法
本発明の化合物(I)のうちRが置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基である化合物、すなわち化合物(Ia)は、下記工程(i-a)〜(vi-a)を包含する製法1によって製造することができる。
2. Production method of compound (I) Among compounds (I) of the present invention, a compound in which R 1 is an optionally substituted aryl group or an optionally substituted heteroaryl group, ie, compound ( Ia) can be produced by the production method 1 including the following steps (ia) to (vi-a).

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)
(i-a)化合物(IX)を、遷移金属触媒および塩基の存在下に、化合物(X)と反応させて、化合物(XI)を得る;
(ii-a)化合物(XI)を遷移金属触媒および塩基の存在下、一酸化炭素およびアルコール(XII)と反応させて、化合物(XIII)を得る;
(iii-a)化合物(XIII)を、ラジカル開始剤の存在下、ハロゲン化剤と反応させて、化合物(XIV)を得る;
(iv-a)化合物(XIV)をアリルアミンと反応させて、化合物(XV)を得る;
(v-a)化合物(XV)を、遷移金属触媒の存在下脱保護して、化合物(XVI)を得る;
(vi-a)化合物(XVI)を加水分解して、化合物(Ia)を得る。
(In the formula, each symbol is as defined above.)
(I-a) Compound (IX) is reacted with Compound (X) in the presence of a transition metal catalyst and a base to give Compound (XI);
(Ii-a) reacting compound (XI) with carbon monoxide and alcohol (XII) in the presence of a transition metal catalyst and a base to obtain compound (XIII);
(Iii-a) compound (XIII) is reacted with a halogenating agent in the presence of a radical initiator to obtain compound (XIV);
(Iv-a) reacting compound (XIV) with allylamine to obtain compound (XV);
(V-a) Compound (XV) is deprotected in the presence of a transition metal catalyst to give compound (XVI);
(Vi-a) Compound (XVI) is hydrolyzed to give compound (Ia).

また、本発明の化合物(I)のうちRが−CO(Rは前記と同義を示す。)で表される基である化合物、すなわち化合物(Ib)は、下記工程(i-b)〜(v-b)を包含する製法2によって製造することができる。 In the compound (I) of the present invention, a compound in which R 1 is a group represented by —CO 2 R 4 (R 4 has the same meaning as described above), that is, the compound (Ib) is prepared by the following step (i -b) to (v-b).

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)
(i-b)化合物(IX)を、遷移金属触媒および塩基の存在下に、一酸化炭素およびアルコール(XII)と反応させて、化合物(XVII)を得る;
(ii-b)化合物(XVII)を、ラジカル開始剤の存在下、ハロゲン化剤と反応させて、化合物(XVIII)を得る;
(iii-b)化合物(XVIII)をアリルアミンと反応させて、化合物(XIX)を得る;
(iv-b)化合物(XIX)を、遷移金属触媒の存在下脱保護して、化合物(XX)を得る;
(v-b)得られた化合物(XX)を加水分解して、化合物(Ib)を得る。
(In the formula, each symbol is as defined above.)
(Ib) Compound (IX) is reacted with carbon monoxide and alcohol (XII) in the presence of a transition metal catalyst and a base to give compound (XVII);
(Ii-b) Compound (XVII) is reacted with a halogenating agent in the presence of a radical initiator to give compound (XVIII);
(Iii-b) reacting compound (XVIII) with allylamine to obtain compound (XIX);
(Iv-b) Compound (XIX) is deprotected in the presence of a transition metal catalyst to give compound (XX);
(Vb) The obtained compound (XX) is hydrolyzed to obtain compound (Ib).

製法1および2の原料である化合物(IX)は、例えば、J. Am. Chem. Soc., 2003, 125, p.5139-5151に記載の方法により調製することができる。光学活性な化合物(IX)を用いることにより、光学活性な化合物(Ia)または(Ib)を製造することができる。   Compound (IX), which is a raw material of production methods 1 and 2, can be prepared, for example, by the method described in J. Am. Chem. Soc., 2003, 125, p.5139-5151. By using the optically active compound (IX), the optically active compound (Ia) or (Ib) can be produced.

化合物(I)のうちRが水素原子である化合物、すなわち化合物(Ic)は、下記工程(i-c)〜(vii-c)を包含する製法3によって製造することができる。 Among compounds (I), a compound in which R 1 is a hydrogen atom, that is, compound (Ic) can be produced by production method 3 including the following steps (ic) to (vii-c).

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(i-c)化合物(XXI)を、塩基の存在下に、ハロゲン化剤と反応させて、化合物(XXII)を得る;
(ii-c)化合物(XXII)を還元して、化合物(XXIII)を得る;
(iii-c)化合物(XXIII)をハロゲン化剤と反応させて、化合物(XXIV)を得る;
(iv-c)化合物(XXIV)をアリルアミンと反応させて、化合物(XXV)を得る;
(v-c)化合物(XXV)を遷移金属触媒および塩基の存在下、一酸化炭素およびアルコール(XII)と反応させて、化合物(XXVI)を得る;
(vi-c)化合物(XXVI)を、遷移金属触媒の存在下脱保護して、化合物(XXVII)を得る;
(vii-c)化合物(XXVII)を加水分解して、化合物(Ic)を得る。
(Ic) Compound (XXI) is reacted with a halogenating agent in the presence of a base to give compound (XXII);
(Ii-c) reducing compound (XXII) to obtain compound (XXIII);
(Iii-c) reacting compound (XXIII) with a halogenating agent to obtain compound (XXIV);
(Iv-c) reacting compound (XXIV) with allylamine to give compound (XXV);
(V-c) reacting compound (XXV) with carbon monoxide and alcohol (XII) in the presence of a transition metal catalyst and a base to obtain compound (XXVI);
(Vi-c) Compound (XXVI) is deprotected in the presence of a transition metal catalyst to give compound (XXVII);
(Vii-c) The compound (XXVII) is hydrolyzed to obtain the compound (Ic).

製法の3の原料である化合物(XXI)は、市販品として入手可能な1,1’−ナフチル−2,2’−ジカルボン酸またはその誘導体を、自体公知の方法によりエステル化することにより、容易に調製することができる。光学活性な化合物(XXI)を用いることにより、光学活性な化合物(Ic)を製造することができる。   Compound (XXI), which is a raw material of production method 3, can be easily obtained by esterifying 1,1′-naphthyl-2,2′-dicarboxylic acid or a derivative thereof, which is commercially available, by a method known per se. Can be prepared. By using the optically active compound (XXI), the optically active compound (Ic) can be produced.

以下、工程(i-a)〜(vi-a)、工程(i-b)〜(v-b)および工程(ic)〜(viic)について説明する。
各工程で得られる化合物は、通常の単離操作(例えば、濃縮、抽出、中和、洗浄、濾過等)または精製操作(例えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等)により、単離精製することができる。
2−1.工程(i-a)
工程(i-a)は、化合物(IX)の一方のOTfをRaで表される基に置換して、化合物(XI)を得る工程である。工程(i-a)は、鈴木カップリング反応(Synlett, 221(1990)参照)に準じて行なえばよく、例えば溶媒中において、化合物(IX)、化合物(X)、遷移金属触媒および塩基を混合することにより行なうことができる。各試薬の添加順序は特に限定はなく、順次または同時に添加すればよい。
Hereinafter, steps (ia) to (vi-a), steps (ib) to (vb), and steps (ic) to (viic) will be described.
The compound obtained in each step should be isolated and purified by ordinary isolation operations (eg, concentration, extraction, neutralization, washing, filtration, etc.) or purification operations (eg, recrystallization, silica gel column chromatography, etc.). Can do.
2-1. Step (i-a)
Step (ia) is a step of obtaining compound (XI) by substituting one OTf of compound (IX) with a group represented by Ra1. Step (ia) may be carried out according to the Suzuki coupling reaction (see Synlett, 221 (1990)). For example, compound (IX), compound (X), transition metal catalyst and base are mixed in a solvent. This can be done. The order of addition of each reagent is not particularly limited, and may be added sequentially or simultaneously.

工程(i-a)に使用される遷移金属触媒としては、0価または2価のパラジウムおよびニッケルから選ばれる遷移金属に1価または2価以上のホスフィン配位子が配位して形成される遷移金属錯体、例えばNi(PPh、NiCl(PPh、NiCl(dppe)、NiCl(dppp)、NiCl(dppb)、Pd(PPh、PdCl(PPh、PdCl(dppe)、PdCl(dppp)、PdCl(dppb)、Pd(OAc)(PPh、Pd(OAc)(dppe)、Pd(OAc)(dppp)、Pd(OAc)(dppb)(ここで、dppeは1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタンを示し、dpppは1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパンを示し、dppbは1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタンを示す。)等が挙げられ、Pd(OAc)(dppp)、Pd(OAc)(PPhが好ましい。これら遷移金属錯体は、遷移金属塩(例えば、NiCl、PdCl、Pd(OAc)等)およびホスフィン配位子(例えば、PPh、dppe、dppp、dppb等)から反応系中で生成させてもよく、その場合の遷移金属塩に対するホスフィン配位子の比率は、1〜3当量の範囲とすればよい。 The transition metal catalyst used in the step (ia) is formed by coordination of a monovalent or divalent phosphine ligand to a transition metal selected from zero-valent or divalent palladium and nickel. Transition metal complexes such as Ni (PPh 3 ) 4 , NiCl 2 (PPh 3 ) 2 , NiCl 2 (dppe), NiCl 2 (dppp), NiCl 2 (dppb), Pd (PPh 3 ) 4 , PdCl 2 (PPh 3 ) 2 , PdCl 2 (dppe), PdCl 2 (dppp), PdCl 2 (dppb), Pd (OAc) 2 (PPh 3 ) 2 , Pd (OAc) 2 (dppe), Pd (OAc) 2 (dppp), Pd (OAc) 2 (dppb) (where dpppe represents 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane and dppp represents 1,3-bis (diphenyl) Phenyphosphino) propane, dppb represents 1,4-bis (diphenylphosphino) butane.) And the like, and Pd (OAc) 2 (dppp) and Pd (OAc) 2 (PPh 3 ) 2 are preferable. These transition metal complexes are formed in a reaction system from a transition metal salt (eg, NiCl 2 , PdCl 2 , Pd (OAc) 2, etc.) and a phosphine ligand (eg, PPh 3 , dppe, dppp, dppb etc.). In this case, the ratio of the phosphine ligand to the transition metal salt may be in the range of 1 to 3 equivalents.

遷移金属触媒の使用量は、化合物(IX)に対して通常0.001〜0.2当量、好ましくは0.005〜0.1当量である。遷移金属触媒の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が遅くなり、多く使用してもそれに見合う効果は得られず、コストが高くなる。   The amount of the transition metal catalyst to be used is generally 0.001 to 0.2 equivalent, preferably 0.005 to 0.1 equivalent, relative to compound (IX). The transition metal catalyst can be used even when the amount of the transition metal catalyst is outside this range, but if the amount is less than this range, the reaction will be slow, and even if it is used in a large amount, an effect commensurate with it will not be obtained and the cost will increase.

工程(i-a)に使用される塩基としては特に限定されないが、例えば、リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等の無機塩基またはN−エチルジイソプロピルアミン、トリエチルアミン、N、N−ジメチルアニリン等の有機塩基が挙げられ、リン酸カリウムが好ましい。当該塩基の使用量は、化合物(IX)に対して通常1〜10当量、好ましくは1.2〜3.5当量である。塩基の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応率が悪くなり、多く使用してもそれに見合う効果は得られず、コストが高くなる。   Although it does not specifically limit as a base used for process (ia), For example, organic bases, such as inorganic bases, such as potassium phosphate and sodium phosphate, N-ethyldiisopropylamine, a triethylamine, N, N-dimethylaniline And potassium phosphate is preferred. The amount of the base to be used is generally 1 to 10 equivalents, preferably 1.2 to 3.5 equivalents, relative to compound (IX). The reaction can be carried out even when the amount of the base used is outside this range, but if the amount is less than this range, the reaction rate is deteriorated.

化合物(X)の使用量は、化合物(IX)に対して通常0.9〜2当量、好ましくは1〜1.5当量である。化合物(X)の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応率が悪くなり、多く使用すると、化合物(IX)の他方のOTfにも反応してジカップリング体が生成する場合がある。   The amount of compound (X) to be used is generally 0.9 to 2 equivalents, preferably 1 to 1.5 equivalents, relative to compound (IX). The compound (X) can be used even when the amount used is outside this range, but if the amount is less than this range, the reaction rate deteriorates, and if it is used in a large amount, it reacts with the other OTf of the compound (IX). May generate.

工程(i-a)で用いる溶媒は、当該反応を阻害しないものであればよく、例えば1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)、1,2−ジメトキシエタン、ジグリム、メチルtert−ブチルエーテル、トルエン、キシレン等の単独または混合溶媒が挙げられ、1,4−ジオキサンまたはTHFが好ましい。溶媒の使用量は、化合物(IX)1kgに対して、通常3〜50Lの範囲である。   The solvent used in the step (i-a) may be any solvent that does not inhibit the reaction. For example, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran (THF), 1,2-dimethoxyethane, diglyme, methyl tert-butyl ether, toluene, A single or mixed solvent such as xylene may be mentioned, and 1,4-dioxane or THF is preferable. The amount of the solvent to be used is generally in the range of 3 to 50 L with respect to 1 kg of compound (IX).

工程(i-a)の反応温度は、通常は40℃〜120℃であるが、60℃〜100℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature in the step (ia) is usually 40 ° C to 120 ° C, but preferably 60 ° C to 100 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

2−2.工程(ii-a)
工程(ii-a)は、化合物(XI)のOTfを−CO’(R’は前記と同義を示す。)で表される基に置換して、化合物(XIII)を得る工程であり、例えば溶媒中において、化合物(XI)、アルコール(XII)、遷移金属触媒および塩基の混合物を、一酸化炭素雰囲気下反応させることにより行なうことができる。試薬の添加順序は特に限定はなく、順次または同時に添加すればよい。
2-2. Process (ii-a)
Step (ii-a) is compound (XI) -CO 2 R 4 a OTf of '(R 4' is. Which are of the same meaning) is replaced with a group represented by to obtain a compound (XIII) Step For example, it can be carried out by reacting a mixture of compound (XI), alcohol (XII), transition metal catalyst and base in a solvent in a carbon monoxide atmosphere. The order of addition of the reagents is not particularly limited, and may be added sequentially or simultaneously.

工程(ii-a)に使用される遷移金属触媒としては、工程(i-a)と同じものが挙げられ、Pd(OAc)(dppp)、Pd(OAc)(PPhが好ましい。遷移金属触媒の使用量は、化合物(XI)に対して通常0.001〜0.5当量、好ましくは0.01〜0.3当量である。遷移金属触媒の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が遅くなり、多く使用してもそれに見合う効果は得られず、コストが高くなる。 Examples of the transition metal catalyst used in the step (ii-a) include the same ones as in the step (ia), and Pd (OAc) 2 (dppp) and Pd (OAc) 2 (PPh 3 ) 2 are preferable. . The amount of the transition metal catalyst to be used is generally 0.001 to 0.5 equivalent, preferably 0.01 to 0.3 equivalent, relative to compound (XI). The transition metal catalyst can be used even when the amount of the transition metal catalyst is outside this range, but if the amount is less than this range, the reaction will be slow, and even if it is used in a large amount, an effect commensurate with it will not be obtained and the cost will increase.

工程(ii-a)に使用される塩基としては、工程(i-a)と同じものが挙げられ、N−エチルジイソプロピルアミンが好ましい。当該塩基の使用量は、化合物(XI)に対して通常1〜10当量、好ましくは2〜6当量である。塩基の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応率が悪くなり、多く使用してもそれに見合う効果は得られず、コストが高くなる。   Examples of the base used in the step (ii-a) include the same as those in the step (i-a), and N-ethyldiisopropylamine is preferable. The amount of the base to be used is generally 1 to 10 equivalents, preferably 2 to 6 equivalents, relative to compound (XI). The reaction can be carried out even when the amount of the base used is outside this range, but if the amount is less than this range, the reaction rate is deteriorated.

アルコール(XII)の使用量は、化合物(XI)に対して通常2〜100当量、好ましくは5〜80当量である。アルコール(XVII)の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応速度が遅くなり、多く使用してもそれに見合う効果は得られず、コストが高くなる。   The amount of alcohol (XII) to be used is generally 2-100 equivalents, preferably 5-80 equivalents, relative to compound (XI). Alcohol (XVII) can be used even when the amount used is outside this range, but if the amount is less than this range, the reaction rate will be slow, and even if it is used in a large amount, an effect commensurate with it will not be obtained and the cost will increase.

工程(ii-a)は通常、一酸化炭素の加圧条件下で行なわれる。一酸化炭素の圧力は、通常2〜30気圧、好ましくは5〜20気圧である。一酸化炭素の圧力がこの範囲外であっても行なうことができるが、この範囲より低いと反応が遅くなり、高い場合、高価な耐圧設備が必要となり、コストが高くなる。   Step (ii-a) is usually carried out under pressurized conditions of carbon monoxide. The pressure of carbon monoxide is usually 2 to 30 atmospheres, preferably 5 to 20 atmospheres. The reaction can be carried out even if the pressure of carbon monoxide is outside this range, but if it is lower than this range, the reaction is slow, and if it is high, expensive pressure-resistant equipment is required and the cost is increased.

工程(ii-a)で用いる溶媒は、当該反応を阻害しないものであればよく、例えばジメチルスルホキシド(DMSO)、スルホラン、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)等の単独または混合溶媒が挙げられ、DMSOが好ましい。溶媒の使用量は、化合物(XI)1kgに対して、通常3〜100Lの範囲である。   The solvent used in step (ii-a) may be any solvent that does not inhibit the reaction. For example, dimethyl sulfoxide (DMSO), sulfolane, N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAc) Or a mixed solvent such as DMSO is preferred. The amount of the solvent to be used is generally in the range of 3 to 100 L with respect to 1 kg of compound (XI).

工程(ii-a)の反応温度は、通常は40℃〜130℃であるが、60℃〜100℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常3時間〜48時間である。   The reaction temperature in step (ii-a) is usually 40 ° C to 130 ° C, but preferably 60 ° C to 100 ° C. The reaction time is usually 3 hours to 48 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

2−3.工程(iii-a)
工程(iii-a)は、化合物(XIII)の二つのメチル基をハロゲン化して、化合物(XIV)を得る工程であり、例えば、溶媒中において化合物(XIII)、ラジカル開始剤およびハロゲン化剤を混合することにより行なうことができる。各試薬の添加順序は特に限定はなく、順次または同時に添加すればよい。
2-3. Step (iii-a)
Step (iii-a) is a step of halogenating two methyl groups of compound (XIII) to obtain compound (XIV). For example, compound (XIII), a radical initiator and a halogenating agent are combined in a solvent. This can be done by mixing. The order of addition of each reagent is not particularly limited, and may be added sequentially or simultaneously.

ハロゲン化剤としては従来公知のものを特に制限なく使用することができ、例えばN−ブロモコハク酸イミド(NBS)、N−クロロコハク酸イミド(NCS)、等が挙げられ、NBSが好ましい。ハロゲン化剤の使用量は、化合物(XIII)に対して通常2〜3当量、好ましくは2〜2.5当量である。ハロゲン化剤の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が完結しにくくなり、多い場合、過剰のハロゲン化が進行する場合がある。   As the halogenating agent, conventionally known halogenating agents can be used without particular limitation, and examples thereof include N-bromosuccinimide (NBS) and N-chlorosuccinimide (NCS), and NBS is preferable. The amount of the halogenating agent to be used is generally 2-3 equivalents, preferably 2-2.5 equivalents, relative to compound (XIII). The reaction can be performed even when the amount of the halogenating agent used is outside this range, but if the amount is less than this range, the reaction is difficult to complete, and if it is large, excessive halogenation may proceed.

ラジカル開始剤としては従来公知のものを特に制限なく使用することができ、例えば、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(AMVN)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)(MeO−AMVN)等のアゾビス系化合物、過酸化ジベンゾイル、過酸化ジt−ブチル等の過酸化物が挙げられ、好ましくはAIBNである。ラジカル開始剤の使用量は、化合物(XIII)に対して通常0.001〜0.2当量、好ましくは0.01〜0.15当量である。ラジカル開始剤の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が完結しにくくなり、多く使用してもそれに見合う効果は得られず、コストが高くなる。   As the radical initiator, conventionally known ones can be used without particular limitation, and examples thereof include 2,2′-azobisisobutyronitrile (AIBN) and 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile). ) (AMVN), azobis compounds such as 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) (MeO-AMVN), peroxides such as dibenzoyl peroxide and di-t-butyl peroxide AIBN is preferable. The usage-amount of a radical initiator is 0.001-0.2 equivalent normally with respect to compound (XIII), Preferably it is 0.01-0.15 equivalent. The radical initiator can be used even when the amount used is outside this range, but if the amount is less than this range, the reaction is difficult to complete, and even if it is used in a large amount, an effect commensurate with it cannot be obtained and the cost increases.

工程(iii-a)で用いる溶媒は、当該反応を阻害しないものであればよく、例えばベンゼン、クロロベンゼン、酢酸エチル、酢酸ブチル等の単独または混合溶媒が挙げられ、ベンゼン、クロロベンゼンまたは酢酸エチルが好ましい。溶媒の使用量は、化合物(XIII)1kgに対して、通常5〜50Lの範囲である。   The solvent used in the step (iii-a) is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, and examples thereof include benzene, chlorobenzene, ethyl acetate, butyl acetate and the like, and benzene, chlorobenzene, or ethyl acetate is preferable. . The amount of the solvent to be used is generally in the range of 5 to 50 L with respect to 1 kg of compound (XIII).

工程(iii-a)の反応温度は、通常は40℃〜150℃であるが、50℃〜110℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature in the step (iii-a) is usually from 40 ° C to 150 ° C, but preferably from 50 ° C to 110 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

2−4.工程(iv-a)
工程(iv-a)は、化合物(XIV)をアリルアミンで閉環して、化合物(XV)を得る工程であり、例えば、溶媒中において化合物(XIV)およびアリルアミンを混合することにより行なうことができる。各試薬の添加順序は特に限定はなく、順次または同時に添加すればよい。
2-4. Process (iv-a)
Step (iv-a) is a step of cyclizing compound (XIV) with allylamine to obtain compound (XV). For example, step (iv-a) can be performed by mixing compound (XIV) and allylamine in a solvent. The order of addition of each reagent is not particularly limited, and may be added sequentially or simultaneously.

アリルアミンの使用量は、化合物(XIV)に対して通常1〜5当量、好ましくは1.5〜3.5当量である。アリルアミンの使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が完結しにくくなり、多く使用してもそれに見合う効果は得られず、コストが高くなる。   The amount of allylamine to be used is generally 1 to 5 equivalents, preferably 1.5 to 3.5 equivalents, relative to compound (XIV). The reaction can be carried out even when the amount of allylamine used is outside this range, but if the amount is less than this range, the reaction is difficult to complete, and even if it is used in a large amount, an effect commensurate with it cannot be obtained and the cost increases.

工程(iv-a)で用いる溶媒は、当該反応を阻害しないものであればよく、例えばアセトニトリル、DMSO、THF、1,4−ジオキサン等の単独または混合溶媒が挙げられ、アセトニトリルが好ましい。溶媒の使用量は、化合物(XIV)1kgに対して5〜50Lの範囲である。   The solvent used in the step (iv-a) is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. Examples thereof include acetonitrile, DMSO, THF, 1,4-dioxane and the like, and acetonitrile is preferable. The usage-amount of a solvent is the range of 5-50L with respect to 1 kg of compounds (XIV).

工程(iv-a)の反応温度は、通常は20℃〜100℃であるが、40℃〜70℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature in the step (iv-a) is usually 20 ° C to 100 ° C, but preferably 40 ° C to 70 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

2−5.工程(v-a)
工程(v-a)は、化合物(XV)のアリル基を脱保護する工程であり、 "Protective Groups in Organic Synthesis", John Wiley: USA, 1999, 3rd Edithion p.574-575に挙げられた脱保護法と同様に行なえばよい。例えば、溶媒中において、好ましくは酸の共存下、化合物(XIV)および遷移金属触媒を混合することにより行なうことができる。各試薬の添加順序は特に限定はなく、順次または同時に添加すればよい。
2-5. Step (v-a)
The step (v-a) is a step of deprotecting the allyl group of the compound (XV). The deprotection described in “Protective Groups in Organic Synthesis”, John Wiley: USA, 1999, 3rd Edithion p.574-575. Just like the protection law. For example, it can be carried out by mixing the compound (XIV) and the transition metal catalyst in a solvent, preferably in the presence of an acid. The order of addition of each reagent is not particularly limited, and may be added sequentially or simultaneously.

工程(v-a)に使用される遷移金属触媒としては、工程(i-a)と同じものが挙げられ、Pd(OAc)(dppp)、Pd(OAc)(PPhが好ましい。遷移金属触媒の使用量は、化合物(XV)に対して通常0.001〜0.2当量、好ましくは0.01〜0.1当量である。遷移金属触媒の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が遅くなり、多く使用してもそれに見合う効果は得られず、コストが高くなる。 Examples of the transition metal catalyst used in the step (va) include the same transition metal catalyst as in the step (ia), and Pd (OAc) 2 (dppp) and Pd (OAc) 2 (PPh 3 ) 2 are preferable. . The amount of the transition metal catalyst to be used is generally 0.001 to 0.2 equivalent, preferably 0.01 to 0.1 equivalent, relative to compound (XV). The transition metal catalyst can be used even when the amount of the transition metal catalyst is outside this range, but if the amount is less than this range, the reaction will be slow, and even if it is used in a large amount, an effect commensurate with it will not be obtained and the cost will increase.

工程(v-a)は反応を促進するため、酸の共存下に行なうことが好ましい。当該塩基としては従来公知のものを特に制限なく使用することができ、例えばN,N−ジメチルバルビツール酸(NDMBA)、ギ酸、酢酸等が挙げられ、NDMBAが好ましい。当該酸の使用量は、化合物(XV)に対して通常0.005〜0.5当量、好ましくは0.02〜0.2当量である。酸の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が遅くなり、多く使用してもそれに見合う効果は得られず、コストが高くなる。   The step (va) is preferably performed in the presence of an acid in order to accelerate the reaction. A conventionally well-known thing can be used as said base without a restriction | limiting especially, For example, N, N- dimethyl barbituric acid (NDMBA), formic acid, an acetic acid etc. are mentioned, NDMBA is preferable. The amount of the acid to be used is generally 0.005-0.5 equivalent, preferably 0.02-0.2 equivalent, relative to compound (XV). The reaction can be carried out even if the amount of acid used is outside this range, but if the amount is less than this range, the reaction will be slow, and even if it is used in a large amount, an effect commensurate with it will not be obtained and the cost will increase.

工程(v-a)で用いる溶媒は、当該反応を阻害しないものであればよく、例えばジクロロメタン、DMSO、THF、トルエン等の単独または混合溶媒が挙げられ、ジクロロメタンが好ましい。溶媒の使用量は、化合物(XV)1kgに対して2〜30Lの範囲である。   The solvent used in the step (v-a) may be any solvent as long as it does not inhibit the reaction. Examples thereof include dichloromethane, DMSO, THF, toluene and the like, and dichloromethane is preferable. The usage-amount of a solvent is the range of 2-30L with respect to 1 kg of compounds (XV).

工程(v-a)の反応温度は、通常は0℃〜80℃であるが、10℃〜50℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常2時間〜24時間である。   The reaction temperature in the step (va) is usually from 0 ° C to 80 ° C, but preferably from 10 ° C to 50 ° C. The reaction time is usually 2 to 24 hours, although it depends on the reagents used and the reaction temperature.

2−6.工程(vi-a)
工程(vi-a)は、化合物(XVI)を加水分解して、化合物(Ia)を得る工程であり、例えば、溶媒中において化合物(XVI)を塩基で処理することにより行なうことができる。各試薬の添加順序は特に限定はなく、順次または同時に添加すればよい。
2-6. Process (vi-a)
Step (vi-a) is a step in which compound (XVI) is hydrolyzed to obtain compound (Ia), and can be performed, for example, by treating compound (XVI) with a base in a solvent. The order of addition of each reagent is not particularly limited, and may be added sequentially or simultaneously.

工程(vi-a)に使用される塩基としては従来公知のものを特に制限なく使用することができ、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等が挙げられ、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムが好ましい。当該塩基は、水溶液として反応系中に添加してもよく、その場合の水は、後掲の溶媒の一部となる。当該塩基の使用量は、化合物(XVI)に対して通常0.5〜5当量、好ましくは1〜3当量である。塩基の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が完結しにくくなり、多く使用してもそれに見合う効果は得られず、コストが高くなる。   As the base used in the step (vi-a), a conventionally known base can be used without particular limitation, and examples thereof include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like. Potassium is preferred. The base may be added to the reaction system as an aqueous solution, and water in that case becomes a part of the solvent described later. The amount of the base to be used is generally 0.5 to 5 equivalents, preferably 1 to 3 equivalents, relative to compound (XVI). The reaction can be carried out even when the amount of the base used is outside this range, but if it is less than this range, the reaction is difficult to complete, and even if it is used in a large amount, an effect commensurate with it cannot be obtained and the cost increases.

工程(vi-a)で用いる溶媒は当該反応を阻害しないものであればよく、例えばエタノール、メタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、THF、水等の単独または混合溶媒が挙げられ、メタノール、THFおよび水の混合溶媒が好ましい。溶媒の使用量は、化合物(XIV)1kgに対して3〜30Lの範囲である。   The solvent used in the step (vi-a) may be any solvent as long as it does not inhibit the reaction, and examples thereof include alcohols such as ethanol, methanol and isopropyl alcohol, THF, water and the like alone or in a mixed solvent such as methanol, THF and A mixed solvent of water is preferred. The usage-amount of a solvent is the range of 3-30L with respect to 1 kg of compounds (XIV).

工程(vi-a)の反応温度は、通常は20℃〜130℃であるが、40℃〜100℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常0.5時間〜10時間である。   The reaction temperature in the step (vi-a) is usually 20 ° C to 130 ° C, preferably 40 ° C to 100 ° C. The reaction time is usually 0.5 hours to 10 hours, although it depends on the reagents used and the reaction temperature.

2−7.工程(i-b)
工程(i-b)は、化合物(IX)の両方のOTfを−CO’(R’は前記と同義を示す。)で表される基に置換して、化合物(XVII)を得る工程であり、例えば溶媒中において、化合物(IX)、アルコール(XII)、遷移金属触媒および塩基の混合物を、一酸化炭素雰囲気下反応させることにより行なうことができる。
工程(i-b)は、上記工程(ii-a)と同様の条件で行なうことができるので、説明を省略する。
2-7. Step (i-b)
In step (ib), both OTf of compound (IX) are substituted with a group represented by —CO 2 R 4 ′ (wherein R 4 ′ has the same meaning as described above), to thereby convert compound (XVII). For example, it can be carried out by reacting a mixture of compound (IX), alcohol (XII), transition metal catalyst and base in a solvent in a carbon monoxide atmosphere.
Step (i-b) can be performed under the same conditions as in step (ii-a) above, so description thereof will be omitted.

2−8.工程(ii-b)
工程(ii-b)は、化合物(XVII)の二つのメチル基をハロゲン化して、化合物(XVIII)を得る工程であり、例えば、溶媒中において化合物(XVII)、ラジカル開始剤およびハロゲン化剤を混合することにより行なうことができる。
工程(ii-b)は、上記工程(iii-a)と同様の条件で行なうことができるので、説明を省略する。
2-8. Process (ii-b)
Step (ii-b) is a step of halogenating two methyl groups of compound (XVII) to obtain compound (XVIII). For example, compound (XVII), a radical initiator and a halogenating agent are combined in a solvent. This can be done by mixing.
Step (ii-b) can be performed under the same conditions as in step (iii-a) above, and thus the description thereof is omitted.

2−9.工程(iii-b)
工程(iii-b)は、化合物(XVIII)をアリルアミンで閉環して、化合物(XIX)を得る工程であり、例えば、溶媒中において化合物(XVIII)およびアリルアミンを混合することにより行なうことができる。
工程(iii-b)は、上記工程(iv-a)と同様の条件で行なうことができるので、説明を省略する。
2-9. Step (iii-b)
Step (iii-b) is a step of cyclizing compound (XVIII) with allylamine to obtain compound (XIX), and can be performed, for example, by mixing compound (XVIII) and allylamine in a solvent.
Step (iii-b) can be performed under the same conditions as in the above step (iv-a), and thus the description thereof is omitted.

2−10.工程(iv-b)
工程(iv-b)は、化合物(XIX)のアリル基を脱保護する工程であり、例えば、溶媒中において、好ましくはNDMBAなどの酸共存下、化合物(XIX)および遷移金属触媒を混合することにより行なうことができる。
工程(iv-b)は、上記工程(v-a)と同様の条件で行なうことができるので、説明を省略する。
2-10. Process (iv-b)
Step (iv-b) is a step of deprotecting the allyl group of compound (XIX). For example, compound (XIX) and the transition metal catalyst are mixed in a solvent, preferably in the presence of an acid such as NDMBA. Can be performed.
Step (iv-b) can be performed under the same conditions as in step (v-a) above, and thus description thereof is omitted.

2−10.工程(v-b)
工程(v-b)は、化合物(XX)の両方または片方のエステルを加水分解して、化合物(Ib)を得る工程であり、例えば、溶媒中において化合物(XX)を塩基で処理することにより行なうことができる。
工程(v-b)において、得られる化合物(Ib)のRが水素原子である態様(以下、化合物(Ib’)ともいう。)については、化合物(XX)の両方のエステルを加水分解すればよく、その場合、塩基の使用量を化合物(XX)に対して0.8〜2当量、好ましくは1〜1.5当量とする以外は、上記工程(vi-a)と同様の条件で行なうことができる。
一方、得られる化合物(Ib)のRが置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基である態様(以下、化合物(Ib”)ともいう。)については、化合物(XX)の片方のエステルを加水分解すればよく、その場合、塩基の使用量を化合物(XX)に対して0.8〜1.3当量、好ましくは0.9〜1.2当量とする以外は、上記工程(vi-a)と同様の条件で行なうことができる。
さらに、化合物(Ib”)は、化合物(Ib’)を常法に従い、部分エステル化することによっても得ることができる。
2-10. Process (v-b)
Step (v-b) is a step of hydrolyzing both or one ester of compound (XX) to obtain compound (Ib), for example, by treating compound (XX) with a base in a solvent. Can be done.
In the step (vb), in an embodiment where R 4 of the obtained compound (Ib) is a hydrogen atom (hereinafter also referred to as compound (Ib ′)), both esters of compound (XX) are hydrolyzed. In that case, the same conditions as in the above step (vi-a) except that the amount of the base used is 0.8 to 2 equivalents, preferably 1 to 1.5 equivalents, relative to compound (XX). Can be done.
On the other hand, R 4 of the resulting compound (Ib) is a lower alkyl group that may have a substituent, a cycloalkyl group that may have a substituent, or an aryl group that may have a substituent. For some embodiments (hereinafter also referred to as compound (Ib ″)), one ester of compound (XX) may be hydrolyzed, and in that case, the amount of base used may be 0.8 with respect to compound (XX). The reaction can be carried out under the same conditions as in the above step (vi-a) except that the amount is -1.3 equivalents, preferably 0.9-1.2 equivalents.
Furthermore, compound (Ib ″) can also be obtained by partially esterifying compound (Ib ′) according to a conventional method.

2−11.工程(i-c)
工程(i-c)は、化合物(XXI)をハロゲン化して、化合物(XXII)を得る工程であり、例えば、溶媒中において化合物(XXI)、塩基およびハロゲン化剤を混合することにより行なうことができる。各試薬の添加順序は特に限定はなく、順次または同時に添加すればよいが、化合物(XXI)のナフタレン環3位を選択的にハロゲン化するためには、化合物(XXI)を塩基と処理した後に、ハロゲン化剤を添加するのが好ましい。
2-11. Process (i-c)
Step (i-c) is a step in which compound (XXI) is halogenated to obtain compound (XXII), and can be performed, for example, by mixing compound (XXI), a base and a halogenating agent in a solvent. it can. The order of addition of each reagent is not particularly limited and may be added sequentially or simultaneously. To selectively halogenate the 3-position of the naphthalene ring of compound (XXI), after treating compound (XXI) with a base, It is preferable to add a halogenating agent.

化合物(XXI)のR11で表される低級アルキル基は特に限定されないが、光学純度を上げるのためには、比較的立体的に嵩高いアルキル基が好ましく、例えば、ネオペンチル等が好ましい。 The lower alkyl group represented by R 11 of the compound (XXI) is not particularly limited, but is preferably a relatively sterically bulky alkyl group, for example, neopentyl or the like, for increasing optical purity.

工程(i-c)使用される塩基としては、例えば、テトラメチルピペリジンマグネシウム塩等が好ましい。当該塩基の使用量は、化合物(XXI)に対して通常2〜6当量、好ましくは3〜4当量である。塩基の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応率が悪くなり、この範囲より多く使用しても反応に悪影響はないが、収率の改善等の好影響も及ぼさないため、コストが高くなる。   As the base used in the step (ic), for example, tetramethylpiperidinemagnesium salt and the like are preferable. The amount of the base to be used is generally 2 to 6 equivalents, preferably 3 to 4 equivalents, relative to compound (XXI). The reaction can be carried out even when the amount of the base used is outside this range, but if the amount is less than this range, the reaction rate will deteriorate, and if it is used more than this range, the reaction will not be adversely affected, but there will also be a positive effect such as improved yield. Since it does not reach, cost increases.

工程(i-c)使用されるハロゲン化剤としては特に限定されず、例えば、臭素、塩素、ヨウ素、フロン(例えば、BrCFCFBr等)等が挙げられ、臭素が好ましい。当該ハロゲン化剤の使用量は、化合物(XXI)に対して通常4〜12当量、好ましくは6〜8当量である。ハロゲン化剤の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応率が悪くなり、この範囲より多く使用しても反応に悪影響はないが、収率の改善等の好影響も及ぼさないため、コストが高くなる。 The halogenating agent used in the step (ic) is not particularly limited, and examples thereof include bromine, chlorine, iodine, chlorofluorocarbon (for example, BrCF 2 CF 2 Br and the like), and bromine is preferable. The amount of the halogenating agent to be used is generally 4 to 12 equivalents, preferably 6 to 8 equivalents, relative to compound (XXI). Although the amount of the halogenating agent can be used outside this range, if the amount is less than this range, the reaction rate deteriorates, and if it is used more than this range, the reaction is not adversely affected, but the yield is improved. The cost is high because it has no effect.

工程(i-c)で用いる溶媒は、当該反応を阻害しないものであればよく、例えば1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)、1,2−ジメトキシエタン、ジグリム、メチルtert−ブチルエーテル、トルエン、キシレン等の単独または混合溶媒が挙げられ、THFが好ましい。溶媒の使用量は、化合物(XXI)1kgに対して、通常6〜10Lの範囲である。   The solvent used in the step (i-c) may be any solvent that does not inhibit the reaction. For example, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran (THF), 1,2-dimethoxyethane, diglyme, methyl tert-butyl ether, toluene, Examples thereof include single or mixed solvents such as xylene, and THF is preferable. The amount of the solvent to be used is generally in the range of 6 to 10 L with respect to 1 kg of compound (XXI).

工程(i-c)の反応温度は、通常は−100℃〜60℃であるが、−78℃〜40℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜12時間である。   The reaction temperature in the step (ic) is usually from -100 ° C to 60 ° C, but preferably from -78 ° C to 40 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 12 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

2−11.工程(ii-c)
工程(ii-c)は、化合物(XXII)を還元して、化合物(XXIII)を得る工程であり、例えば、溶媒中において化合物(XXII)を、還元剤と反応させることにより行なうことができる。各試薬の添加順序は特に限定はなく、順次または同時に添加すればよい。
2-11. Process (ii-c)
Step (ii-c) is a step of obtaining compound (XXIII) by reducing compound (XXII), and can be performed, for example, by reacting compound (XXII) with a reducing agent in a solvent. The order of adding each reagent is not particularly limited, and may be added sequentially or simultaneously.

工程(ii-c)に使用される還元剤としてはエステル基をアルコールに還元しうるのもであれば特に限定されないが、例えば、水素化アルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム等が挙げられ、水素化アルミニウムリチウムまたは水素化ジイソブチルアルミニウムが好ましい。当該還元剤の使用量は、化合物(XXII)に対して水素当量として通常8〜16当量、好ましくは8〜12当量である。還元剤の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応率が悪くなり、多く使用してもそれに見合う効果は得られず、コストが高くなる。   The reducing agent used in step (ii-c) is not particularly limited as long as it can reduce an ester group to an alcohol, and examples thereof include lithium aluminum hydride and diisobutylaluminum hydride. Aluminum lithium or diisobutylaluminum hydride is preferred. The usage-amount of the said reducing agent is 8-16 equivalent normally as a hydrogen equivalent with respect to compound (XXII), Preferably it is 8-12 equivalent. Although the amount of the reducing agent can be used outside this range, if the amount is less than this range, the reaction rate is deteriorated.

工程(ii-c)で用いる溶媒は、当該反応を阻害しないものであればよく、例えば1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)、1,2−ジメトキシエタン、ジグリム、メチルtert−ブチルエーテル、トルエン、キシレン等の単独または混合溶媒が挙げられ、THFが好ましい。溶媒の使用量は、化合物(XXII)1kgに対して、通常20〜100Lの範囲である。   The solvent used in the step (ii-c) may be any solvent that does not inhibit the reaction. For example, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran (THF), 1,2-dimethoxyethane, diglyme, methyl tert-butyl ether, toluene, Examples thereof include single or mixed solvents such as xylene, and THF is preferable. The usage-amount of a solvent is the range of 20-100L normally with respect to 1 kg of compounds (XXII).

工程(ii-c)の反応温度は、通常は−20℃〜80℃であるが、0℃〜40℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常2時間〜6時間である。   The reaction temperature in step (ii-c) is usually −20 ° C. to 80 ° C., but preferably 0 ° C. to 40 ° C. The reaction time is usually 2 to 6 hours, although it depends on the reagents used and the reaction temperature.

2−12.工程(iii-c)
工程(iii-c)は、化合物(XXIII)をハロゲン化して化合物(XXIV)を得る工程であり、例えば、溶媒中において化合物(XXIII)およびハロゲン化剤を混合することにより行なうことができる。各試薬の添加順序は特に限定はなく、順次または同時に添加すればよい。
2-12. Step (iii-c)
Step (iii-c) is a step of halogenating compound (XXIII) to obtain compound (XXIV), and can be performed, for example, by mixing compound (XXIII) and a halogenating agent in a solvent. The order of adding each reagent is not particularly limited, and may be added sequentially or simultaneously.

工程(iii-c)に使用されるハロゲン化剤としては水酸基をハロゲン原子に置換しうるのもであれば特に限定されないが、例えば、三臭化ホウ素等が挙げられる。当該ハロゲン化剤の使用量は、化合物(XXIII)に対して通常2〜50当量、好ましくは2〜30当量である。ハロゲン化剤の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応率が悪くなり、多く使用してもそれに見合う効果は得られず、コストが高くなる。   The halogenating agent used in the step (iii-c) is not particularly limited as long as it can substitute a hydroxyl group with a halogen atom, and examples thereof include boron tribromide. The amount of the halogenating agent to be used is generally 2-50 equivalents, preferably 2-30 equivalents, relative to compound (XXIII). Although the amount of the halogenating agent can be used outside this range, if the amount is less than this range, the reaction rate deteriorates, and even if it is used in a large amount, an effect commensurate with it cannot be obtained and the cost increases.

工程(iii-c)で用いる溶媒は、当該反応を阻害しないものであればよく、例えば塩化メチレン、クロロホルム、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)、1,2−ジメトキシエタン、ジグリム、メチルtert−ブチルエーテル、トルエン、キシレン等の単独または混合溶媒が挙げられ、塩化メチレンが好ましい。溶媒の使用量は、化合物(XXIII)1kgに対して、通常30〜90Lの範囲である。   The solvent used in step (iii-c) may be any solvent that does not inhibit the reaction. For example, methylene chloride, chloroform, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran (THF), 1,2-dimethoxyethane, diglyme, methyl tert -Single or mixed solvents, such as butyl ether, toluene, xylene, etc. are mentioned, A methylene chloride is preferable. The amount of the solvent to be used is generally in the range of 30 to 90 L with respect to 1 kg of compound (XXIII).

工程(iii-c)の反応温度は、通常は−20℃〜40℃であるが、0℃〜10℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜6時間である。   The reaction temperature in step (iii-c) is usually −20 ° C. to 40 ° C., preferably 0 ° C. to 10 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 6 hours, although it depends on the reagents used and the reaction temperature.

2−13.工程(iv-c)
工程(iv-c)は、化合物(XXIV)をアリルアミンで閉環して、化合物(XXV)を得る工程であり、例えば、溶媒中において化合物(XXIV)およびアリルアミンを混合することにより行なうことができる。
工程(iv-c)は、上記工程(iv-a)と同様の条件で行なうことができるので、説明を省略する。
2-13. Process (iv-c)
Step (iv-c) is a step of cyclizing compound (XXIV) with allylamine to obtain compound (XXV). For example, step (iv-c) can be performed by mixing compound (XXIV) and allylamine in a solvent.
Step (iv-c) can be performed under the same conditions as in the above step (iv-a), and thus the description thereof is omitted.

2−14.工程(v-c)
工程(v-c)は、化合物(XXV)のXで表されるハロゲン原子を−CO’(R’は前記と同義を示す。)で表される基に置換して、化合物(XXVI)を得る工程であり、例えば溶媒中において、化合物(XXV)、アルコール(XII)、遷移金属触媒および塩基の混合物を、一酸化炭素雰囲気下反応させることにより行なうことができる。
工程(v-c)は、上記工程(ii-a)と同様の条件で行なうことができるので、説明を省略する。
2-14. Process (v-c)
In the step (v-c), the halogen atom represented by X 2 of the compound (XXV) is substituted with a group represented by —CO 2 R 4 ′ (R 4 ′ has the same meaning as described above). This is a step of obtaining compound (XXVI), and can be carried out, for example, by reacting a mixture of compound (XXV), alcohol (XII), transition metal catalyst and base in a carbon monoxide atmosphere in a solvent.
The step (v-c) can be performed under the same conditions as the above step (ii-a), and thus description thereof is omitted.

2−15.工程(vi-c)
工程(vi-c)は、化合物(XXVI)のアリル基を脱保護する工程であり、例えば、溶媒中において、好ましくはNDMBAなどの酸共存下、化合物(XXVI)および遷移金属触媒を混合することにより行なうことができる。
工程(vi-c)は、上記工程(v-a)と同様の条件で行なうことができるので、説明を省略する。
2-15. Process (vi-c)
Step (vi-c) is a step of deprotecting the allyl group of compound (XXVI). For example, compound (XXVI) and a transition metal catalyst are mixed in a solvent, preferably in the presence of an acid such as NDMBA. Can be performed.
The step (vi-c) can be performed under the same conditions as the above step (va), and thus description thereof is omitted.

2−16.工程(vii-c)
工程(iv-b)は、化合物(XXVII)を加水分解して、化合物(Ic)を得る工程であり、例えば、溶媒中において化合物(XXVII)を塩基で処理することにより行なうことができる。
工程(vii-c)は、上記工程(vi-a)と同様の条件で行なうことができるので、説明を省略する。
2-16. Process (vii-c)
Step (iv-b) is a step of hydrolyzing compound (XXVII) to obtain compound (Ic), and can be performed, for example, by treating compound (XXVII) with a base in a solvent.
Step (vii-c) can be performed under the same conditions as in the above step (vi-a), and thus the description thereof is omitted.

3.不斉触媒
本発明の化合物(I)が光学活性である場合(以下、光学活性化合物(I)という。)は、不斉反応のための触媒、すなわち不斉触媒として用いることができる。
3. Asymmetric Catalyst When the compound (I) of the present invention is optically active (hereinafter referred to as optically active compound (I)), it can be used as a catalyst for an asymmetric reaction, that is, an asymmetric catalyst.

光学活性化合物(I)は非金属であるため、分解等しない限り安定した触媒活性を示し、反応基質を追加等することにより連続的に不斉反応を行なうことも可能である。また、アミノ酸誘導体であるため、酸性または塩基性条件の分液操作等で反応基質および生成物から容易に分離回収することができ、何回でも再利用することができるので経済的にも有利である。   Since the optically active compound (I) is non-metallic, it exhibits a stable catalytic activity unless it is decomposed, and it is also possible to carry out asymmetric reactions continuously by adding a reaction substrate. In addition, since it is an amino acid derivative, it can be easily separated and recovered from the reaction substrate and product by separation operation under acidic or basic conditions, etc., and can be reused any number of times, which is economically advantageous. is there.

光学活性化合物(I)で触媒される不斉反応としては特に限定はなく、例えば不斉アルドール反応、不斉マンニッヒ型反応、不斉ハロゲン化反応、不斉マイケル反応等が挙げられるが、なかでも、不斉アルドール反応が医薬、農薬などの合成中間体などにおいて汎用性が高いため好ましい。   The asymmetric reaction catalyzed by the optically active compound (I) is not particularly limited, and examples thereof include an asymmetric aldol reaction, asymmetric Mannich type reaction, asymmetric halogenation reaction, asymmetric Michael reaction, etc. The asymmetric aldol reaction is preferable because of its high versatility in synthetic intermediates such as pharmaceuticals and agricultural chemicals.

当該不斉アルドール反応としては、不斉直接アルドール反応、不斉O−ニトロソアルドール反応等が挙げられる。   Examples of the asymmetric aldol reaction include an asymmetric direct aldol reaction and an asymmetric O-nitrosoaldol reaction.

4.不斉反応(光学活性化合物(I)を不斉触媒として用いる光学活性化合物の製造)
光学活性化合物(I)により触媒される不斉反応においては、例えば溶媒中において基質を光学活性化合物(I)に接触させることにより光学活性化合物を得ることができる。
ここで、基質とは当該不斉反応の原料となる化合物を意味し、アキラルまたはプロキラルな化合物が好ましいが、不斉中心を有する光学活性化合物またはラセミ体等をも包含するものである。また、基質は単独の化合物でもよいし、2種以上の化合物の組み合わせであってもよい。
以下、不斉反応の好ましい態様である不斉直接アルドール反応および不斉O−ニトロソアルドール反応について説明するが、本発明の不斉触媒による不斉反応はこれに限定されるものではない。
4). Asymmetric reaction (production of optically active compound using optically active compound (I) as an asymmetric catalyst)
In the asymmetric reaction catalyzed by the optically active compound (I), the optically active compound can be obtained, for example, by bringing a substrate into contact with the optically active compound (I) in a solvent.
Here, the substrate means a compound which is a raw material for the asymmetric reaction, and an achiral or prochiral compound is preferable, but also includes an optically active compound having an asymmetric center or a racemate. The substrate may be a single compound or a combination of two or more compounds.
Hereinafter, the asymmetric direct aldol reaction and the asymmetric O-nitrosoaldol reaction which are preferred embodiments of the asymmetric reaction will be described, but the asymmetric reaction by the asymmetric catalyst of the present invention is not limited thereto.

4−1.不斉直接アルドール反応
本発明の不斉直接アルドール反応は、例えば、基質として化合物(II)および化合物(III)を用い、光学活性化合物(III)の存在下に反応させることによって、光学活性な化合物(IV)を得る方法である。
4-1. Asymmetric direct aldol reaction In the asymmetric direct aldol reaction of the present invention, for example, compound (II) and compound (III) are used as substrates, and the reaction is carried out in the presence of optically active compound (III). This is a method for obtaining (IV).

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)
具体的な操作としては、例えば溶媒中において光学活性化合物(I)、化合物(II)および化合物(III)を混合することにより行なうことができる。各試薬の添加順序は特に限定はなく、順次または同時に添加すればよい。
(In the formula, each symbol is as defined above.)
As a specific operation, for example, optically active compound (I), compound (II) and compound (III) can be mixed in a solvent. The order of addition of each reagent is not particularly limited, and may be added sequentially or simultaneously.

化合物(II)の使用量は、化合物(III)に対し、通常1〜10当量、好ましくは10〜3×10当量である。化合物(II)の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと副反応が進行し、反応が複雑になる傾向があり、多く使用してもそれに見合う効果は得られず、コストが高くなる。 The amount of compound (II) to be used is generally 1 to 10 5 equivalents, preferably 10 to 3 × 10 4 equivalents, relative to compound (III). It can be carried out even if the amount of compound (II) used is outside this range. , The cost will be higher.

光学活性化合物(I)の使用量は、化合物(III)に対し通常0.001〜0.5当量、好ましくは0.01〜0.2当量である。光学活性化合物(I)の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応速度が遅くなる傾向があり、多く使用してもそれに見合う効果は得られず、コストが高くなる。   The amount of optically active compound (I) to be used is generally 0.001 to 0.5 equivalent, preferably 0.01 to 0.2 equivalent, relative to compound (III). Although the amount of the optically active compound (I) can be used even outside this range, if it is less than this range, the reaction rate tends to be slow. Become.

不斉直接アルドール反応で用いる溶媒は、当該反応を阻害しないものであればよく、例えばDMF、DMSO、DMAc、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン(DMI)等の単独または混合溶媒が挙げられ、DMFまたはDMSOが好ましい。溶媒の使用量は、化合物(III)1kgに対して3〜100Lの範囲である。   The solvent used in the asymmetric direct aldol reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, and examples thereof include DMF, DMSO, DMAc, N, N′-dimethylimidazolidinone (DMI) and the like alone or in combination. DMF or DMSO is preferred. The usage-amount of a solvent is the range of 3-100L with respect to 1 kg of compound (III).

不斉直接アルドール反応の反応温度は、通常は0℃〜60℃であるが、10℃〜50℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常1時間〜24時間である。   The reaction temperature of the asymmetric direct aldol reaction is usually 0 ° C to 60 ° C, but preferably 10 ° C to 50 ° C. The reaction time is usually 1 hour to 24 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

得られる化合物(IV)は通常の常法により単離精製することができる。例えば、抽出、乾燥、濃縮操作を行なった後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製することができるが、これに限定されるものではない。   The resulting compound (IV) can be isolated and purified by a conventional method. For example, it can be purified by silica gel column chromatography after extraction, drying and concentration operations, but is not limited thereto.

4−2.不斉O−ニトロソアルドール反応
本発明の不斉O−ニトロソアルドール反応は、例えば、基質として化合物(V)およびニトロソ化合物(VI)を用い、光学活性化合物(I)の存在下に反応させることによって、光学活性な化合物(VII)を得る方法である。
化合物(VII)は不安定であるため通常、単離精製することなく、還元して化合物(VIII)として単離される。
4-2. Asymmetric O-nitrosoaldol reaction In the asymmetric O-nitrosoaldol reaction of the present invention, for example, compound (V) and nitroso compound (VI) are used as a substrate and reacted in the presence of optically active compound (I). This is a method for obtaining an optically active compound (VII).
Since compound (VII) is unstable, it is usually isolated as compound (VIII) by reduction without isolation and purification.

Figure 2006143627
Figure 2006143627

具体的な操作としては、例えば溶媒中において光学活性化合物(I)、化合物(V)および化合物(VI)を混合し、反応終了後、還元剤を添加することにより行なうことができる。   A specific operation can be performed, for example, by mixing the optically active compound (I), the compound (V) and the compound (VI) in a solvent, and adding a reducing agent after completion of the reaction.

化合物(V)の使用量は、ニトロソ化合物(VI)に対し、通常1〜10当量、好ましくは1.5〜5当量である。化合物(V)の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が遅くなり、副生物も増加する傾向があり、多く使用してもそれに見合う効果は得られず、コストが高くなる。   The amount of compound (V) to be used is generally 1-10 equivalents, preferably 1.5-5 equivalents, relative to nitroso compound (VI). The compound (V) can be used even when the amount used is outside this range, but if the amount is less than this range, the reaction tends to be slow and the amount of by-products tends to increase. Cost increases.

光学活性化合物(I)の使用量は、ニトロソ化合物(VI)に対し通常0.001〜0.5当量である。光学活性化合物(I)の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応速度が遅くなる傾向があり、多く使用してもそれに見合う効果は得られず、コストが高くなる。   The usage-amount of optically active compound (I) is 0.001-0.5 equivalent normally with respect to nitroso compound (VI). Although the amount of the optically active compound (I) can be used even outside this range, if it is less than this range, the reaction rate tends to be slow. Become.

不斉O−ニトロソアルドール反応で用いる溶媒は、当該反応を阻害しないものであればよく、例えばメシチレン、トルエン、キシレン等の単独または混合溶媒が挙げられ、メシチレンまたはトルエンが好ましい。溶媒の使用量は、ニトロソ化合物(VI)1kgに対して5〜200Lの範囲である。   The solvent used in the asymmetric O-nitrosoaldol reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. Examples thereof include mesitylene, toluene, xylene and the like alone, and mesitylene or toluene is preferable. The usage-amount of a solvent is the range of 5-200L with respect to 1 kg of nitroso compounds (VI).

不斉O−ニトロソアルドール反応の反応温度は、通常は−50℃〜50℃であるが、−30℃〜30℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常0.5時間〜10時間である。   The reaction temperature of the asymmetric O-nitrosoaldol reaction is usually -50 ° C to 50 ° C, preferably -30 ° C to 30 ° C. The reaction time is usually 0.5 hours to 10 hours, although it depends on the reagents used and the reaction temperature.

反応終了後、混合物に還元剤を添加することにより化合物(VIII)へと誘導することができる。
還元剤としては従来公知のものを制限なく使用することができ、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウム等が挙げられ、水素化ホウ素ナトリウムが好ましい。当該還元剤の使用量は、ニトロソ化合物(VI)に対して通常1〜20当量、好ましくは2〜10当量である。還元剤の使用量がこの範囲外でも行なうことができるが、この範囲より少ないと反応が完結しないおそれがあり、多く使用してもそれに見合う効果は得られず、コストが高くなる。
After completion of the reaction, compound (VIII) can be derived by adding a reducing agent to the mixture.
As the reducing agent, conventionally known reducing agents can be used without limitation, and examples thereof include sodium borohydride, lithium borohydride, lithium aluminum hydride and the like, and sodium borohydride is preferable. The usage-amount of the said reducing agent is 1-20 equivalent normally with respect to nitroso compound (VI), Preferably it is 2-10 equivalent. Although the amount of the reducing agent can be used outside this range, if the amount is less than this range, the reaction may not be completed, and even if it is used in a large amount, an effect commensurate with it cannot be obtained and the cost increases.

還元剤として水素化ホウ素ナトリウム等を使用する場合は、プロトン源としてアルコール類(例えば、メタノール、エタノール等)または水を添加する。アルコール類の添加量は、還元剤に対し通常1〜10当量、好ましくは10〜10当量である。 When sodium borohydride or the like is used as the reducing agent, alcohols (for example, methanol, ethanol, etc.) or water is added as a proton source. The addition amount of the alcohol is usually 1 to 10 5 equivalents relative to the reducing agent, preferably 10 to 10 4 equivalents.

還元剤を添加した後の反応温度は、通常は−20℃〜80℃であるが、0℃〜50℃が好ましい。反応時間は、用いられる試薬や反応温度にも依存するが、通常5分〜6時間である。   The reaction temperature after adding the reducing agent is usually -20 ° C to 80 ° C, but preferably 0 ° C to 50 ° C. The reaction time is usually 5 minutes to 6 hours, although it depends on the reagent used and the reaction temperature.

得られる化合物(VIII)は通常の常法により単離精製することができる。例えば、抽出、乾燥、濃縮操作を行なった後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製することができるが、これに限定されるものではない。   The resulting compound (VIII) can be isolated and purified by a conventional method. For example, it can be purified by silica gel column chromatography after extraction, drying and concentration operations, but is not limited thereto.

本発明の不斉反応の後処理において、酸性または塩基性条件で分液操作を行うことによって、反応混合物から光学活性化合物(I)を回収することができる。例えば、抽出操作で、水層を重曹等で塩基性とすると光学活性化合物(I)は水層に移行し、基質および生成物から容易に分離することができる。当該水層を塩酸等で中和または酸性にした後、濾過または抽出等を行なうことにより、光学活性化合物(I)を回収することができる。   In the post-treatment of the asymmetric reaction of the present invention, the optically active compound (I) can be recovered from the reaction mixture by performing a liquid separation operation under acidic or basic conditions. For example, when the aqueous layer is made basic with sodium bicarbonate or the like in the extraction operation, the optically active compound (I) moves to the aqueous layer and can be easily separated from the substrate and the product. After neutralizing or acidifying the aqueous layer with hydrochloric acid or the like, the optically active compound (I) can be recovered by filtration or extraction.

以下、本発明について、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. The present invention is not limited by these.

実施例1:(S)−2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチル−3,3’−ジカルボン酸 ジメチルエステル(化合物2) Example 1: (S) -2,2'-dimethyl-1,1'-binaphthyl-3,3'-dicarboxylic acid dimethyl ester (compound 2)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−3,3’−ビス(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)−2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチル(化合物1)(231mg, 0.40mmol)、酢酸パラジウム(4.5mg, 0.02mmol)、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン(8.2mg, 0.02mmol)およびN−エチルジイソプロピルアミン(307μL, 1.76mmol)をDMSO(10 mL)及びメタノール(5 mL)に溶解し、オートクレーブ中で10気圧の一酸化炭素雰囲気下、80℃で12時間加熱した。その後、水を加え酢酸エチルで3回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:10)により精製して、表題化合物(149mg, 0.37mmol)を収率93%で得た。
H−NMR(400MHz,CDCl,MeSi): δ 2.21(s, 6H), 4.00(s, 6H), 6.95(d, J=8.4Hz, 2H), 7.28(app t, J=7.2Hz, 2H), 7.45(app t, J=7.0Hz, 2H), 7.96(d, J=8.0Hz, 2H), 8.54(s,2H).
(S) -3,3′-bis (trifluoromethylsulfonyloxy) -2,2′-dimethyl-1,1′-binaphthyl (Compound 1) (231 mg, 0.40 mmol), palladium acetate (4.5 mg, 0.02 mmol), 1,3-bis (diphenylphosphino) propane (8.2 mg, 0.02 mmol) and N-ethyldiisopropylamine (307 μL, 1.76 mmol) in DMSO (10 mL) and methanol (5 mL) And heated at 80 ° C. for 12 hours in an autoclave under a carbon monoxide atmosphere of 10 atm. Then, water was added and extracted three times with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 1: 10) to give the title compound (149 mg, 0.37 mmol) in a yield of 93%. Got in.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 , Me 4 Si): δ 2.21 (s, 6H), 4.00 (s, 6H), 6.95 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7 .28 (app t, J = 7.2 Hz, 2H), 7.45 (app t, J = 7.0 Hz, 2H), 7.96 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 8.54 ( s, 2H).

実施例2:(S)−2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチル−3,3’−ジカルボン酸 ジメチルエステル(化合物3) Example 2: (S) -2,2'-bis (bromomethyl) -1,1'-binaphthyl-3,3'-dicarboxylic acid dimethyl ester (compound 3)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチル−3,3’−ジカルボン酸 ジメチルエステル(化合物2)(149mg, 0.37mmol)、NBS(146mg, 0.82mmol)およびAIBN(6mg, 0.037mmol)を3mLのベンゼンに溶解し、脱気してアルゴン雰囲気下へと置換した後、4時間還流した。得られた反応溶液に水を加え、酢酸エチルで3回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:10)により精製して、表題化合物(187mg, 0.33mmol)を収率90%で得た。
H−NMR(400MHz,CDCl,MeSi): δ 4.00(s, 6H), 4.66(d, J=10Hz, 2H), 4.78(d, J=10Hz, 2H), 7.01(d, J=8.8Hz, 2H), 7.36(app t, J=7.4Hz, 2H), 7.54(app t, J=7.4Hz, 2H), 8.01(d, J=8.0Hz, 2H), 8.68(s, 2H).
(S) -2,2′-dimethyl-1,1′-binaphthyl-3,3′-dicarboxylic acid dimethyl ester (compound 2) (149 mg, 0.37 mmol), NBS (146 mg, 0.82 mmol) and AIBN ( 6 mg, 0.037 mmol) was dissolved in 3 mL of benzene, deaerated and replaced with an argon atmosphere, and then refluxed for 4 hours. Water was added to the resulting reaction solution, followed by extraction three times with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 1: 10) to give the title compound (187 mg, 0.33 mmol) in a yield of 90%. Got in.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 , Me 4 Si): δ 4.00 (s, 6H), 4.66 (d, J = 10 Hz, 2H), 4.78 (d, J = 10 Hz, 2H) 7.01 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 7.36 (app t, J = 7.4 Hz, 2H), 7.54 (app t, J = 7.4 Hz, 2H), 8. 01 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 8.68 (s, 2H).

実施例3:(S)−4−アリル−4,5−ジヒドロ−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2,6−ジカルボン酸 ジメチルエステル(化合物4) Example 3: (S) -4-allyl-4,5-dihydro-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalene-2,6-dicarboxylic acid dimethyl ester (Compound 4)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフチル−3,3’−ジカルボン酸 ジメチルエステル(化合物3)(187mg, 0.33mmol)およびアリルアミン(76μL, 1.0mmol)を1.5mLのアセトニトリル中50℃で5時間攪拌した。得られた反応溶液に水を加え、酢酸エチルで3回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:3)により精製して、表題化合物(138mg, 0.31mmol)を収率91%で得た。
H−NMR(400MHz,CDCl,MeSi): δ 2.91−2.98(m, 3H), 3.31(dd, J=13, 6.0Hz, 1H), 4.00(s, 6H), 4.79(d, J=13Hz, 2H), 5.10−5.14(m, 2H), 5.92−6.01(m, 1H), 7.22−7.34(m, 4H), 7.50(app t, J=7.4Hz, 2H), 8.01(d, J=8.0Hz, 2H), 8.60(s, 2H).
(S) -2,2′-bis (bromomethyl) -1,1′-binaphthyl-3,3′-dicarboxylic acid dimethyl ester (compound 3) (187 mg, 0.33 mmol) and allylamine (76 μL, 1.0 mmol) Was stirred in 1.5 mL of acetonitrile at 50 ° C. for 5 hours. Water was added to the resulting reaction solution, followed by extraction three times with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 1: 3) to give the title compound (138 mg, 0.31 mmol) in a yield of 91%. Got in.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 , Me 4 Si): δ 2.91-2.98 (m, 3H), 3.31 (dd, J = 13, 6.0 Hz, 1H), 4.00 ( s, 6H), 4.79 (d, J = 13 Hz, 2H), 5.10-5.14 (m, 2H), 5.92-6.01 (m, 1H), 7.22-7. 34 (m, 4H), 7.50 (app t, J = 7.4 Hz, 2H), 8.01 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 8.60 (s, 2H).

実施例4:(S)−4,5−ジヒドロ−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2,6−ジカルボン酸 ジメチルエステル(化合物5) Example 4: (S) -4,5-dihydro-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a '] dinaphthalene-2,6-dicarboxylic acid dimethyl ester (compound 5)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−4−アリル−4,5−ジヒドロ−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2,6−ジカルボン酸 ジメチルエステル(化合物4)(138mg, 0.31mmol)、NDMBA(143mg, 0.92mmol)、酢酸パラジウム(1.4mg, 0.0062mmol)およびトリフェニルホスフィン(6.6mg, 0.025mmol)を2mLのジクロロメタンに溶解し、アルゴン雰囲気下へと置換した後に35℃で12時間攪拌した。エバポレーターによって反応溶液から溶媒を除き、得られた固体をベンゼンに再び溶解した。次に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで3回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(メタノール:ジクロロメタン=1:50)により精製して、表題化合物(111mg, 0.27mmol)を収率89%で得た。
H−NMR(400MHz,CDCl,MeSi): δ 3.21(d, J=12Hz, 2H), 4.02(s, 6H), 4.78(d, J=12Hz, 2H), 7.24−7.35(m, 4H), 7.50(app t, J=7.4Hz, 2H), 8.01(d, J=8.4Hz, 2H), 8.59(s, 2H).
(S) -4-Allyl-4,5-dihydro-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalene-2,6-dicarboxylic acid dimethyl ester (Compound 4) (138 mg, 0.31 mmol), NDMBA (143 mg, 0.92 mmol), palladium acetate (1.4 mg, 0.0062 mmol) and triphenylphosphine (6.6 mg, 0.025 mmol) were dissolved in 2 mL of dichloromethane and dissolved in argon. After replacing the atmosphere, the mixture was stirred at 35 ° C. for 12 hours. The solvent was removed from the reaction solution by an evaporator, and the obtained solid was dissolved again in benzene. Next, an aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added, followed by extraction three times with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After sodium sulfate was removed by filtration and the filtrate was concentrated by an evaporator, the residue was purified by silica gel column chromatography (methanol: dichloromethane = 1: 50) to give the title compound (111 mg, 0.27 mmol) in 89% yield. Obtained.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 , Me 4 Si): δ 3.21 (d, J = 12 Hz, 2H), 4.02 (s, 6H), 4.78 (d, J = 12 Hz, 2H) 7.24-7.35 (m, 4H), 7.50 (app t, J = 7.4 Hz, 2H), 8.01 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 8.59 (s) , 2H).

実施例5:(S)−4,5−ジヒドロ−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2,6−ジカルボン酸(化合物6) Example 5: (S) -4,5-dihydro-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a '] dinaphthalene-2,6-dicarboxylic acid (Compound 6)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−4,5−ジヒドロ−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2,6−ジカルボン酸 ジメチルエステル(化合物5)(111mg, 0.27mmol)をメタノール(1mL)およびTHF(0.6mL)に溶解し、水酸化ナトリウム水溶液(1N,1mL)を加え、1時間還流した。得られた反応溶液にジクロロメタン(1mL)を加えた後、酸性になるまで塩酸(1N)を加えた。析出した固体を桐山ロートでろ過し、ヘキサンで洗うことで、表題化合物(64mg, 0.17mmol)を収率62%で得た。
H−NMR(400MHz, CDOD, MeSi): δ 3.52(d, J=12.8Hz, 2H), 5.40(d, J=13.2Hz, 2H), 7.24(d, J=9.2Hz, 2H), 7.39(app t, J=8.4Hz, 2H), 7.62(app t, J=7.2Hz, 2H), 8.14(d, J=8.0Hz, 2H), 8.69(s, 2H).
(S) -4,5-dihydro-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalene-2,6-dicarboxylic acid dimethyl ester (compound 5) (111 mg, 0 .27 mmol) was dissolved in methanol (1 mL) and THF (0.6 mL), aqueous sodium hydroxide (1N, 1 mL) was added, and the mixture was refluxed for 1 hr. Dichloromethane (1 mL) was added to the obtained reaction solution, and hydrochloric acid (1N) was added until the solution became acidic. The precipitated solid was filtered through a Kiriyama funnel and washed with hexane to obtain the title compound (64 mg, 0.17 mmol) in a yield of 62%.
1 H-NMR (400 MHz, CD 3 OD, Me 4 Si): δ 3.52 (d, J = 12.8 Hz, 2H), 5.40 (d, J = 13.2 Hz, 2H), 7.24 (D, J = 9.2 Hz, 2H), 7.39 (app t, J = 8.4 Hz, 2H), 7.62 (app t, J = 7.2 Hz, 2H), 8.14 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 8.69 (s, 2H).

実施例6:(S)−2,2’−ジメチル−3−フェニル−3’−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−1,1’−ビナフチル(化合物7) Example 6: (S) -2,2'-dimethyl-3-phenyl-3'-trifluoromethanesulfonyloxy-1,1'-binaphthyl (compound 7)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−3,3’−ビス(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)−2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチル(化合物1)(3.8g, 6.6mmol)、フェニルボロン酸(805mg, 6.6mmol)、リン酸カリウムn水和物(4.19g, 19.8mmol)、酢酸パラジウム(74mg, 0.33mmol)およびトリフェニルホスフィン(346mg, 1.32mmol)を1,4−ジオキサン(65mL)に溶解し、アルゴン雰囲気下へと置換した後に80℃で12時間攪拌した。反応溶液に塩化アンモニウム水溶液を加え、セライトろ過の後、酢酸エチルで3回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:ヘキサン=1:10)により精製して、表題化合物及びジカップリング体である(S)−2,2’−ジメチル−3,3’−ジフェニル−1,1’−ビナフチルの混合物(2.58g)を得た。   (S) -3,3′-bis (trifluoromethylsulfonyloxy) -2,2′-dimethyl-1,1′-binaphthyl (compound 1) (3.8 g, 6.6 mmol), phenylboronic acid (805 mg) , 6.6 mmol), potassium phosphate n-hydrate (4.19 g, 19.8 mmol), palladium acetate (74 mg, 0.33 mmol) and triphenylphosphine (346 mg, 1.32 mmol) in 1,4-dioxane ( 65 mL), and after replacing with an argon atmosphere, the mixture was stirred at 80 ° C. for 12 hours. Aqueous ammonium chloride solution was added to the reaction solution, and the mixture was filtered through celite and extracted three times with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane: hexane = 1: 10) to give the title compound and the dicoupled product (S) -2, A mixture of 2′-dimethyl-3,3′-diphenyl-1,1′-binaphthyl (2.58 g) was obtained.

実施例7:(S)−2,2’−ジメチル−3’−フェニル−1,1’−ビナフチル−3−カルボン酸 メチルエステル(化合物8) Example 7: (S) -2,2'-Dimethyl-3'-phenyl-1,1'-binaphthyl-3-carboxylic acid methyl ester (Compound 8)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−2,2’−ジメチル−3−フェニル−3’−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−1,1’−ビナフチル(化合物7)及びジカップリング体の混合物(2.58g)、酢酸パラジウム(336mg, 1.5mmol)、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン(619mg, 1.5mmol)およびN−エチルジイソプロピルアミン(5.2mL, 30mmol)をDMSO(20mL)及びメタノール(20mL)に溶解し、オートクレーブ中で10気圧の一酸化炭素雰囲気下、80℃で36時間加熱した。その後、水を加え酢酸エチルで3回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エーテル:ヘキサン=1:30)により精製して、表題化合物(927mg, 2.2mmol)を収率33%(2段階)で得た。   (S) -2,2′-dimethyl-3-phenyl-3′-trifluoromethanesulfonyloxy-1,1′-binaphthyl (compound 7) and a dicoupled mixture (2.58 g), palladium acetate (336 mg) , 1.5 mmol), 1,3-bis (diphenylphosphino) propane (619 mg, 1.5 mmol) and N-ethyldiisopropylamine (5.2 mL, 30 mmol) were dissolved in DMSO (20 mL) and methanol (20 mL). The mixture was heated in an autoclave at 80 ° C. for 36 hours under a carbon monoxide atmosphere of 10 atm. Then, water was added and extracted three times with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (ether: hexane = 1: 30) to give the title compound (927 mg, 2.2 mmol) in a yield of 33% ( 2 steps).

実施例8:(S)−2,2’−ビス(ブロモメチル)−3’−フェニル−1,1’−ビナフチル−3−カルボン酸 メチルエステル(化合物9) Example 8: (S) -2,2'-bis (bromomethyl) -3'-phenyl-1,1'-binaphthyl-3-carboxylic acid methyl ester (Compound 9)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−2,2’−ジメチル−3’−フェニル−1,1’−ビナフチル−3−カルボン酸 メチルエステル(化合物8)(927mg, 2.2mmol)、NBS(872mg, 4.9mmol)およびAIBN(36mg, 0.22mmol)を12mLのベンゼンに溶解し、脱気してアルゴン雰囲気下へと置換した後、4時間還流した。得られた反応溶液に水を加え、酢酸エチルで3回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:5)により精製して、表題化合物(1.26g, 2.2mmol)を収率>99%で得た。   (S) -2,2′-dimethyl-3′-phenyl-1,1′-binaphthyl-3-carboxylic acid methyl ester (compound 8) (927 mg, 2.2 mmol), NBS (872 mg, 4.9 mmol) and AIBN (36 mg, 0.22 mmol) was dissolved in 12 mL of benzene, deaerated and replaced with an argon atmosphere, and then refluxed for 4 hours. Water was added to the resulting reaction solution, followed by extraction three times with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 1: 5) to give the title compound (1.26 g, 2.2 mmol) in yield. Obtained at> 99%.

実施例9:(S)−4−アリル−4,5−ジヒドロ−6−フェニル−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2−カルボン酸 メチルエステル(化合物10) Example 9: (S) -4-allyl-4,5-dihydro-6-phenyl-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalene-2-carboxylic acid Methyl ester (compound 10)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−2,2’−ビス(ブロモメチル)−3’−フェニル−1,1’−ビナフチル−3−カルボン酸 メチルエステル(化合物9)(1.26g, 2.2mmol)およびアリルアミン(495μL, 6.6mmol)を10mLのアセトニトリル中50℃で12時間攪拌した。得られた反応溶液に水を加え、酢酸エチルで3回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:10)により精製して、表題化合物(888mg, 1.9mmol)を収率86%で得た。   (S) -2,2′-bis (bromomethyl) -3′-phenyl-1,1′-binaphthyl-3-carboxylic acid methyl ester (compound 9) (1.26 g, 2.2 mmol) and allylamine (495 μL, (6.6 mmol) was stirred in 10 mL of acetonitrile at 50 ° C. for 12 hours. Water was added to the resulting reaction solution, followed by extraction three times with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 1: 10) to give the title compound (888 mg, 1.9 mmol) in a yield of 86%. Got in.

実施例10:(S)−4,5−ジヒドロ−6−フェニル−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2−カルボン酸 メチルエステル(化合物11) Example 10: (S) -4,5-dihydro-6-phenyl-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalene-2-carboxylic acid methyl ester (compound 11)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−4−アリル−4,5−ジヒドロ−6−フェニル−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2−カルボン酸 メチルエステル(化合物10)(888mg, 1.9mmol)、NDMBA(890mg, 5.7mmol)、酢酸パラジウム(21mg, 0.095mmol)およびトリフェニルホスフィン(100mg, 0.38mmol)を10mLのジクロロメタンに溶解し、アルゴン雰囲気下へと置換した後に35℃で2時間攪拌した。エバポレーターによって反応溶液から溶媒を除き、得られた固体をベンゼンに再び溶解した。次に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで3回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(メタノール:ジクロロメタン=1:50)により精製して、表題化合物(816mg, 1.9mmol)を収率>99%で得た。   (S) -4-allyl-4,5-dihydro-6-phenyl-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalene-2-carboxylic acid methyl ester (compound 10) (888 mg, 1.9 mmol), NDMBA (890 mg, 5.7 mmol), palladium acetate (21 mg, 0.095 mmol), and triphenylphosphine (100 mg, 0.38 mmol) were dissolved in 10 mL of dichloromethane under an argon atmosphere. The mixture was stirred at 35 ° C. for 2 hours. The solvent was removed from the reaction solution by an evaporator, and the obtained solid was dissolved again in benzene. Next, an aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added, followed by extraction three times with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After sodium sulfate was removed by filtration and the filtrate was concentrated by an evaporator, the residue was purified by silica gel column chromatography (methanol: dichloromethane = 1: 50) to obtain the title compound (816 mg, 1.9 mmol) in a yield> 99%. Got in.

実施例11:(S)−4,5−ジヒドロ−6−フェニル−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2−カルボン酸(化合物12) Example 11: (S) -4,5-dihydro-6-phenyl-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a '] dinaphthalene-2-carboxylic acid (compound 12)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−4,5−ジヒドロ−6−フェニル−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2−カルボン酸 メチルエステル(化合物11)(215mg, 0.5mmol)をメタノール(1.5mL)およびTHF(1.0mL)に溶解し、水酸化ナトリウム水溶液(1N,1mL)を加え、1時間還流した。得られた反応溶液にジクロロメタン(1mL)を加えた後、酸性になるまで塩酸(1N)を加え、ジクロロメタンで3回抽出した。その後、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(メタノール:ジクロロメタン=1:15)により精製して、表題化合物(207mg, 0.5mmol)を収率>99%で得た。
H−NMR(400MHz, CDOD, MeSi): δ 3.54(d, J=12.8Hz, 1H), 3.64(d, J=13.2Hz, 1H), 4.44(d, J=13.2Hz, 1H), 5.14(d, J=13.2Hz, 1H), 7.24−7.61(m, 11H), 8.06−8.08(m, 3H), 8.42(s, 1H).
(S) -4,5-dihydro-6-phenyl-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalene-2-carboxylic acid methyl ester (compound 11) (215 mg , 0.5 mmol) was dissolved in methanol (1.5 mL) and THF (1.0 mL), an aqueous sodium hydroxide solution (1N, 1 mL) was added, and the mixture was refluxed for 1 hour. Dichloromethane (1 mL) was added to the resulting reaction solution, hydrochloric acid (1N) was added until acidic, and the mixture was extracted 3 times with dichloromethane. Thereafter, the organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After sodium sulfate was removed by filtration and the filtrate was concentrated by an evaporator, the residue was purified by silica gel column chromatography (methanol: dichloromethane = 1: 15) to give the title compound (207 mg, 0.5 mmol) in a yield> 99%. Got in.
1 H-NMR (400 MHz, CD 3 OD, Me 4 Si): δ 3.54 (d, J = 12.8 Hz, 1H), 3.64 (d, J = 13.2 Hz, 1H), 4.44 (D, J = 13.2 Hz, 1H), 5.14 (d, J = 13.2 Hz, 1H), 7.24-7.61 (m, 11H), 8.06-8.08 (m, 3H), 8.42 (s, 1H).

実施例12:(S)−2,2’−ジメチル−3−(3,4,5−トリフルオロフェニル)−3’−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−1,1’−ビナフチル(化合物13) Example 12: (S) -2,2'-dimethyl-3- (3,4,5-trifluorophenyl) -3'-trifluoromethanesulfonyloxy-1,1'-binaphthyl (Compound 13)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−3,3’−ビス(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)−2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチル(化合物1)(2.16g, 3.7mmol)、3,4,5−トリフルオロフェニルボロン酸(651mg, 3.7mmol)、リン酸カリウムn水和物(2.3g, 11.1mmol)、酢酸パラジウム(42mg, 0.185mmol)およびトリフェニルホスフィン(194mg, 0.74mmol)をTHF(35mL)に溶解し、アルゴン雰囲気下へと置換した後に80℃で12時間攪拌した。反応溶液に塩化アンモニウム水溶液を加え、セライトろ過の後、酢酸エチルで3回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:ヘキサン=1:10)により精製して、表題化合物及びジカップリング体である(S)−3,3’−ビス(3,4,5−トリフルオロフェニル)−2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチルの混合物(1.76g)を得た。   (S) -3,3′-bis (trifluoromethylsulfonyloxy) -2,2′-dimethyl-1,1′-binaphthyl (compound 1) (2.16 g, 3.7 mmol), 3,4,5 -Trifluorophenylboronic acid (651 mg, 3.7 mmol), potassium phosphate n-hydrate (2.3 g, 11.1 mmol), palladium acetate (42 mg, 0.185 mmol) and triphenylphosphine (194 mg, 0.74 mmol) ) Was dissolved in THF (35 mL) and replaced with an argon atmosphere, followed by stirring at 80 ° C. for 12 hours. Aqueous ammonium chloride solution was added to the reaction solution, and the mixture was filtered through celite and extracted three times with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane: hexane = 1: 10) to give the title compound and dicoupled product (S) -3, A mixture (1.76 g) of 3′-bis (3,4,5-trifluorophenyl) -2,2′-dimethyl-1,1′-binaphthyl was obtained.

実施例13:(S)−2,2’−ジメチル−3’−(3,4,5−トリフルオロフェニル)−1,1’−ビナフチル−3−カルボン酸 メチルエステル(化合物14) Example 13: (S) -2,2'-dimethyl-3 '-(3,4,5-trifluorophenyl) -1,1'-binaphthyl-3-carboxylic acid methyl ester (compound 14)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−2,2’−ジメチル−3−(3,4,5−トリフルオロフェニル)−3’−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−1,1’−ビナフチル(化合物13)及びジカップリング体の混合物(1.76g)、酢酸パラジウム(162mg, 0.72mmol)、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン(297mg, 0.72mmol)およびN−エチルジイソプロピルアミン(2.5mL, 14.4mmol)、をDMSO(10mL)及びメタノール(10mL)に溶解し、オートクレーブ中で10気圧の一酸化炭素雰囲気下、80℃で36時間加熱した。その後、水を加え酢酸エチルで3回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エーテル:ヘキサン=1:30)により精製して、表題化合物(723mg, 1.5mmol)を収率42%(2段階)で得た。   Mixture of (S) -2,2′-dimethyl-3- (3,4,5-trifluorophenyl) -3′-trifluoromethanesulfonyloxy-1,1′-binaphthyl (compound 13) and dicoupled product (1.76 g), palladium acetate (162 mg, 0.72 mmol), 1,3-bis (diphenylphosphino) propane (297 mg, 0.72 mmol) and N-ethyldiisopropylamine (2.5 mL, 14.4 mmol), Was dissolved in DMSO (10 mL) and methanol (10 mL), and heated in an autoclave at 80 ° C. for 36 hours under a carbon monoxide atmosphere of 10 atm. Then, water was added and extracted three times with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (ether: hexane = 1: 30) to give the title compound (723 mg, 1.5 mmol) in a yield of 42% ( 2 steps).

実施例14:(S)−2,2’−ビス(ブロモメチル)−3’−(3,4,5−トリフルオロフェニル)−1,1’−ビナフチル−3−カルボン酸 メチルエステル(化合物15) Example 14: (S) -2,2'-bis (bromomethyl) -3 '-(3,4,5-trifluorophenyl) -1,1'-binaphthyl-3-carboxylic acid methyl ester (Compound 15)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−2,2’−ジメチル−3’−(3,4,5−トリフルオロフェニル)−1,1’−ビナフチル−3−カルボン酸 メチルエステル(化合物14)(723mg, 1.5mmol)、NBS(587mg, 3.3mmol)、AIBN(25mg, 0.15mmol)を8mLのベンゼンに溶解し、脱気してアルゴン雰囲気下へと置換した後、4時間還流した。得られた反応溶液に水を加え、酢酸エチルで3回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:10)により精製して、表題化合物(936mg, 1.5mmol)を収率>99%で得た。   (S) -2,2'-dimethyl-3 '-(3,4,5-trifluorophenyl) -1,1'-binaphthyl-3-carboxylic acid methyl ester (compound 14) (723 mg, 1.5 mmol) , NBS (587 mg, 3.3 mmol) and AIBN (25 mg, 0.15 mmol) were dissolved in 8 mL of benzene, deaerated and replaced with an argon atmosphere, and then refluxed for 4 hours. Water was added to the resulting reaction solution, followed by extraction three times with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 1: 10) to obtain the title compound (936 mg, 1.5 mmol) in a yield> 99. %.

実施例15:(S)−4−アリル−4,5−ジヒドロ−6−(3,4,5−トリフルオロフェニル)−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2−カルボン酸 メチルエステル(化合物16) Example 15: (S) -4-allyl-4,5-dihydro-6- (3,4,5-trifluorophenyl) -3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4 a ′] Dinaphthalene-2-carboxylic acid methyl ester (Compound 16)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−2,2’−ビス(ブロモメチル)−3’−(3,4,5−トリフルオロフェニル)−1,1’−ビナフチル−3−カルボン酸 メチルエステル(化合物15)(936mg, 1.5mmol)、アリルアミン(338μL, 4.5mmol)を7mLのアセトニトリル中50℃で12時間攪拌した。得られた反応溶液に水を加え、酢酸エチルで3回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:10)により精製して、表題化合物(724mg, 1.4mmol)を収率92%で得た。   (S) -2,2′-bis (bromomethyl) -3 ′-(3,4,5-trifluorophenyl) -1,1′-binaphthyl-3-carboxylic acid methyl ester (Compound 15) (936 mg, 1 0.5 mmol) and allylamine (338 μL, 4.5 mmol) were stirred in 7 mL of acetonitrile at 50 ° C. for 12 hours. Water was added to the resulting reaction solution, followed by extraction three times with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 1: 10) to obtain the title compound (724 mg, 1.4 mmol) in a yield of 92%. Got in.

実施例16:(S)−4,5−ジヒドロ−6−(3,4,5−トリフルオロフェニル)−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2−カルボン酸 メチルエステル(化合物17) Example 16: (S) -4,5-dihydro-6- (3,4,5-trifluorophenyl) -3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] di Naphthalene-2-carboxylic acid methyl ester (Compound 17)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−4−アリル−4,5−ジヒドロ−6−(3,4,5−トリフルオロフェニル)−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2−カルボン酸 メチルエステル(化合物16)(724mg, 1.4mmol)、NDMBA(656mg, 4.2mmol)、酢酸パラジウム(16mg, 0.07mmol)およびトリフェニルホスフィン(73mg, 0.28mmol)を8mLのジクロロメタンに溶解し、アルゴン雰囲気下へと置換した後に35℃で2時間攪拌した。エバポレーターによって反応溶液から溶媒を除き、得られた固体をベンゼンに再び溶解した。次に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで3回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(メタノール:ジクロロメタン=1:50)により精製して、表題化合物(675mg, 1.4mmol)を収率>99%で得た。   (S) -4-allyl-4,5-dihydro-6- (3,4,5-trifluorophenyl) -3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] di Naphthalene-2-carboxylic acid methyl ester (Compound 16) (724 mg, 1.4 mmol), NDMBA (656 mg, 4.2 mmol), palladium acetate (16 mg, 0.07 mmol) and triphenylphosphine (73 mg, 0.28 mmol) After dissolving in 8 mL of dichloromethane and replacing with an argon atmosphere, the mixture was stirred at 35 ° C. for 2 hours. The solvent was removed from the reaction solution by an evaporator, and the obtained solid was dissolved again in benzene. Next, an aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added, followed by extraction three times with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After sodium sulfate was removed by filtration and the filtrate was concentrated by an evaporator, the residue was purified by silica gel column chromatography (methanol: dichloromethane = 1: 50) to obtain the title compound (675 mg, 1.4 mmol) in a yield> 99%. Got in.

実施例17:(S)−4,5−ジヒドロ−6−(3,4,5−トリフルオロフェニル)−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2−カルボン酸(化合物18) Example 17: (S) -4,5-dihydro-6- (3,4,5-trifluorophenyl) -3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] di Naphthalene-2-carboxylic acid (Compound 18)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−4,5−ジヒドロ−6−(3,4,5−トリフルオロフェニル)−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2−カルボン酸 メチルエステル(化合物17)(241mg, 0.5mmol)をメタノール(1.5mL)およびTHF(1.0mL)に溶解し、水酸化ナトリウム水溶液(1N,1mL)を加え、1時間還流した。得られた反応溶液にジクロロメタン(1mL)を加えた後、酸性になるまで塩酸(1N)を加え、ジクロロメタンで3回抽出した。その後、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(メタノール:ジクロロメタン=1:15)により精製して、表題化合物(234mg, 0.5mmol)を収率>99%で得た。
H−NMR(400MHz, CDOD, MeSi): δ 3.51 d, J=13.2 Hz, 1H), 3.68 (d, J=13.6 Hz, 1H), 4.38(d, J=13.2Hz, 1H), 5.24(d, J=11.2Hz, 1H), 7.21−7.63(m, 8H), 8.05−8.09(m, 3H), 8.43(s, 1H).
(S) -4,5-dihydro-6- (3,4,5-trifluorophenyl) -3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalene-2- Carboxylic acid methyl ester (Compound 17) (241 mg, 0.5 mmol) was dissolved in methanol (1.5 mL) and THF (1.0 mL), aqueous sodium hydroxide (1N, 1 mL) was added, and the mixture was refluxed for 1 hr. Dichloromethane (1 mL) was added to the resulting reaction solution, hydrochloric acid (1N) was added until acidic, and the mixture was extracted 3 times with dichloromethane. Thereafter, the organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After sodium sulfate was removed by filtration and the filtrate was concentrated by an evaporator, the residue was purified by silica gel column chromatography (methanol: dichloromethane = 1: 15) to obtain the title compound (234 mg, 0.5 mmol) in a yield> 99%. I got it.
1 H-NMR (400 MHz, CD 3 OD, Me 4 Si): δ 3.51 d, J = 13.2 Hz, 1H), 3.68 (d, J = 13.6 Hz, 1H), 4. 38 (d, J = 13.2 Hz, 1H), 5.24 (d, J = 111.2 Hz, 1H), 7.21-7.63 (m, 8H), 8.05-8.09 (m , 3H), 8.43 (s, 1H).

参考例1:(S)−1,1’−ナフチル−2,2’−ジカルボン酸 ジネオペンチルエステル(化合物20) Reference Example 1: (S) -1,1'-naphthyl-2,2'-dicarboxylic acid dineopentyl ester (compound 20)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−1,1’−ナフチル−2,2’−ジカルボン酸(化合物19)(1.71g, 5.0mmol)に塩化チオニル(5mL)を加え、2時間還流下攪拌した。反応終了後、余剰の塩化チオニルを減圧下留去、残渣にジエチルエーテルを加えて、さらに濃縮を行ない得られた残渣を減圧乾燥し、酸クロライドを得た。得られた酸クロライドをテトラヒドロフランに溶解させた後、ネオペンタノール(1.3g)およびピリジン(1.1mL)を加え3時間還流下攪拌を行なった。反応終了後、反応混合物に1N塩酸を加え、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン=1:30)により精製して、表題化合物(2.2g, 4.6 mmol)を収率91%で得た。
H−NMR(400MHz,CDCl,MeSi): δ 0.65(s, 18H), 3.60(d, J=10.4Hz, 2H), 3.64(d, J=10.4 Hz, 2H), 7.06(d, J=8.4Hz, 2H), 7.22(appt t, J=8.0Hz, 2H), 7.49(appt t, J=7.6Hz, 2H), 7.92(d, J=8.4Hz, 2H), 7.99(d, J=8.4Hz, 2H), 8.21(d, J=8.8Hz, 2H).
Thionyl chloride (5 mL) was added to (S) -1,1′-naphthyl-2,2′-dicarboxylic acid (Compound 19) (1.71 g, 5.0 mmol), and the mixture was stirred for 2 hours under reflux. After completion of the reaction, excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure, diethyl ether was added to the residue, further concentrated, and the resulting residue was dried under reduced pressure to obtain acid chloride. The obtained acid chloride was dissolved in tetrahydrofuran, neopentanol (1.3 g) and pyridine (1.1 mL) were added, and the mixture was stirred for 3 hours under reflux. 1N hydrochloric acid was added to the reaction mixture after completion | finish of reaction, and ethyl acetate extracted twice. The organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate / hexane = 1: 30) to obtain the title compound (2.2 g, 4.6 mmol). Obtained at a rate of 91%.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 , Me 4 Si): δ 0.65 (s, 18H), 3.60 (d, J = 10.4 Hz, 2H), 3.64 (d, J = 10. 4 Hz, 2H), 7.06 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.22 (appt, J = 8.0 Hz, 2H), 7.49 (appt t, J = 7.6 Hz, 2H), 7.92 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.99 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 8.21 (d, J = 8.8 Hz, 2H).

実施例18:(S)−3−ブロモ−1,1’−ナフチル−2,2’−ジカルボン酸 ジネオペンチルエステル(化合物21) Example 18: (S) -3-Bromo-1,1'-naphthyl-2,2'-dicarboxylic acid dineopentyl ester (Compound 21)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

J. Org. Chem. 2003, 68, 4576-4578.に従って調製したテトラメチルピペリジンマグネシウム塩のテトラヒドロフラン−ヘキサン溶液(14.7mL, 4.0mmol)に(S)−1,1’−ナフチル−2,2’−ジカルボン酸 ジネオペンチルエステル(化合物20)(482mg, 1mmol)をテトラヒドロフラン(3.8mL)に溶解させた溶液を0℃にて滴下した。室温にて3時間攪拌後、−78℃まで冷却し、臭素(411μL, 8.0mmol)を滴下した。室温で1時間攪拌後、反応溶液を冷却した1N塩酸に加え、酢酸エチルにて抽出を行なった。得られた有機層を飽和亜硫酸ナトリウム水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン=1:10)により精製して、表題化合物、無置換体およびジブロミド体との混合物を得た(548mg)。更なる分離が困難であったためこれ以上の精製を行なうことなくそのまま次工程に使用した。   Tetramethylpiperidinemagnesium salt prepared in accordance with J. Org. Chem. 2003, 68, 4576-4578. In tetrahydrofuran-hexane solution (14.7 mL, 4.0 mmol), (S) -1,1′-naphthyl-2, A solution of 2′-dicarboxylic acid dineopentyl ester (Compound 20) (482 mg, 1 mmol) in tetrahydrofuran (3.8 mL) was added dropwise at 0 ° C. After stirring at room temperature for 3 hours, the mixture was cooled to −78 ° C., and bromine (411 μL, 8.0 mmol) was added dropwise. After stirring at room temperature for 1 hour, the reaction solution was added to cooled 1N hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. The obtained organic layer was washed with saturated aqueous sodium sulfite and saturated brine, and dried over anhydrous sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate / hexane = 1: 10) to obtain a mixture of the title compound, unsubstituted compound and dibromide. (548 mg). Since further separation was difficult, it was directly used in the next step without further purification.

実施例19:(S)−3−ブロモ−1,1’−ナフチル−2,2’−ジメタノール(化合物22) Example 19: (S) -3-Bromo-1,1'-naphthyl-2,2'-dimethanol (Compound 22)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

実施例18で得られた混合物をテトラヒドロフラン(20mL)に溶解させた溶液を、あらかじめ仕込んでおいた水素化リチウムアルミニウム(114mg, 3.0mmol)のテトラヒドロフラン溶液に0℃で滴下した。滴下終了後、室温にて2時間反応を行ない、反応液を0℃に冷却した後、1N塩酸水に注意しながら加え分解し、ジエチルエーテルにて抽出を行なった。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン=2:8)により精製して、表題化合物(166mg, 0.42mmol)を収率42%で得た。
H−NMR(400MHz,CDCl,MeSi): δ 3.31(bs, 1H), 3.60(bs, 1H ), 4.06(d, J=11.6Hz, 1H), 4.07(d, J=11.6Hz, 1H), 4.38(d, J=11.6Hz, 1H), 4.76(d, J=12.4Hz, 1H), 6.95−6.99(m, 2H), 7.22−7.27(m, 2H), 7.45−7.50(m, 2H), 7.74 (d, J=8.8Hz, 2H), 7.83(d, J=8.4Hz, 2H), 7.92(d, J=8.4Hz, 2H), 7.99(d, J=8.8Hz, 2H), 8.26 (s, 1H).
A solution obtained by dissolving the mixture obtained in Example 18 in tetrahydrofuran (20 mL) was added dropwise at 0 ° C. to a previously prepared tetrahydrofuran solution of lithium aluminum hydride (114 mg, 3.0 mmol). After completion of the dropwise addition, the reaction was carried out at room temperature for 2 hours, the reaction solution was cooled to 0 ° C., decomposed with careful addition to 1N aqueous hydrochloric acid, and extracted with diethyl ether. The obtained organic layer was washed with saturated brine, and then dried over anhydrous sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate / hexane = 2: 8) to give the title compound (166 mg, 0.42 mmol) in a yield of 42%. Got in.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 , Me 4 Si): δ 3.31 (bs, 1H), 3.60 (bs, 1H), 4.06 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 4 .07 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 4.38 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 4.76 (d, J = 12.4 Hz, 1H), 6.95-6. 99 (m, 2H), 7.22-7.27 (m, 2H), 7.45-7.50 (m, 2H), 7.74 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 7. 83 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.92 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.99 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 8.26 (s, 1H ).

実施例20:(S)−3−ブロモ−2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ナフチル(化合物23) Example 20: (S) -3-Bromo-2,2'-bis (bromomethyl) -1,1'-naphthyl (Compound 23)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−3−ブロモ−1,1’−ナフチル−2,2’−ジメタノール(化合物22)(86mg, 0.22mmol)および三臭化ホウ素(500μL, 5.3mmol)を5mLの塩化メチレン中で、0℃で1時間攪拌した。得られた反応溶液に注意深く水を加え、塩化メチレンで3回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)により精製して、表題化合物(98mg, 0.19mmol)を収率86%で得た。
H−NMR(400MHz,CDCl,MeSi): δ 4.18(d, J=10.8Hz, 1H), 4.25(d, J=10.0Hz, 1H), 4.33(d, J=10.8Hz, 1H), 4.48(d, J=10.4Hz, 1H), 7.03(appt t, J=7.2Hz, 2H), 7.26−7.30(m, 2H), 7.48−7.53(m, 2H), 7.76(d, J=8.8Hz, 1H), 7.83(d, J=8.4Hz, 1H), 7.92(d, J=8.4Hz, 1H), 8.04(d, J=8.4Hz, 1H), 8.32(s, 1H).
(S) -3-Bromo-1,1′-naphthyl-2,2′-dimethanol (Compound 22) (86 mg, 0.22 mmol) and boron tribromide (500 μL, 5.3 mmol) in 5 mL of methylene chloride The mixture was stirred at 0 ° C. for 1 hour. Water was carefully added to the resulting reaction solution, and the mixture was extracted 3 times with methylene chloride. The organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane) to obtain the title compound (98 mg, 0.19 mmol) in a yield of 86%.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 , Me 4 Si): δ 4.18 (d, J = 10.8 Hz, 1H), 4.25 (d, J = 10.0 Hz, 1H), 4.33 ( d, J = 10.8 Hz, 1H), 4.48 (d, J = 10.4 Hz, 1H), 7.03 (appt t, J = 7.2 Hz, 2H), 7.26-7.30 ( m, 2H), 7.48-7.53 (m, 2H), 7.76 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 7.83 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7. 92 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 8.04 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 8.32 (s, 1H).

実施例21:(S)−4−アリル−2−ブロモ−4,5−ジヒドロ−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン(化合物24) Example 21: (S) -4-allyl-2-bromo-4,5-dihydro-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalene (Compound 24)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−3−ブロモ−2,2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ナフチル(化合物23)(77mg, 0.15mmol)およびアリルアミン(56μL, 0.74 mmol)を3mLのTHF中で、50℃で5時間攪拌した。得られた反応溶液に水を加え酢酸エチルで3回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン=1:20〜2:8)により精製して、表題化合物(54.5mg, 0.13mmol)を収率89%で得た。
H−NMR(400MHz,CDCl,MeSi): δ 3.03−3.13 (m, 3H), 3.42(dd, J=13.6, 6.4Hz, 1H), 3.77(d, J=12.6Hz, 1H), 4.35(d, J=12.6Hz, 1H), 5.19(dd, J=10.4, 1.6Hz, 1H), 5.25(dd, J=17.2, 1.6Hz, 1H), 5.95−6.05(m, 1H), 7.21−7.27(m, 2H), 7.35(dd, J=8.8, 1.2Hz, 2H), 7.43−7.48(m, 2H), 7.54(d, J=8.0Hz, 1H), 7.83(d, J=8.4 Hz, 2H), 7.95(t, J=8.4Hz, 1H), 8.26(s, 1H).
(S) -3-Bromo-2,2′-bis (bromomethyl) -1,1′-naphthyl (Compound 23) (77 mg, 0.15 mmol) and allylamine (56 μL, 0.74 mmol) in 3 mL of THF And stirred at 50 ° C. for 5 hours. Water was added to the resulting reaction solution, followed by extraction three times with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate / hexane = 1: 20-2: 8) to give the title compound (54.5 mg, 0.13 mmol). ) Was obtained in 89% yield.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 , Me 4 Si): δ 3.03-3.13 (m, 3H), 3.42 (dd, J = 13.6, 6.4 Hz, 1H), 77 (d, J = 12.6 Hz, 1H), 4.35 (d, J = 12.6 Hz, 1H), 5.19 (dd, J = 10.4, 1.6 Hz, 1H), 5.25. (Dd, J = 17.2, 1.6 Hz, 1H), 5.95-6.05 (m, 1H), 7.21-7.27 (m, 2H), 7.35 (dd, J = 8.8, 1.2 Hz, 2H), 7.43-7.48 (m, 2H), 7.54 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.83 (d, J = 8.4). Hz, 2H), 7.95 (t, J = 8.4 Hz, 1H), 8.26 (s, 1H).

実施例22:(S)−4−アリル−4,5−ジヒドロ−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2−カルボン酸 メチルエステル(化合物25) Example 22: (S) -4-allyl-4,5-dihydro-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalene-2-carboxylic acid methyl ester (compound 25)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−4−アリル−2−ブロモ−4,5−ジヒドロ−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン(化合物24)(238mg, 0.57mmol)、酢酸パラジウム(13 mg, 0.057mmol)、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン(24mg, 0.057mmol)およびN−エチルジイソプロピルアミン(427μL, 2.5mmol)をジメチルスルホキシド(10mL)及びメタノール(5mL)に溶解し、オートクレーブ中で10気圧の一酸化炭素雰囲気下、80℃で24時間加熱した。その後、水を加え、塩化メチレンで3回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン=1:9〜2:8)により精製して、表題化合物(150mg, 0.38mmol)を収率67%で得た。
H−NMR(400MHz,CDCl,MeSi): δ 2.98−3.04(m, 2H), 3.14(d, J=12.4Hz, 1H), 3.23(dd, J=13.2, 6.4Hz, 1H), 3.75(d, J=12.4Hz, 2H), 4.00(s, 3H), 4.75(d, J=13.2 Hz, 2H), 5.16−5.21 (m, 2H), 5.95−6.02(m, 1H), 7.23−7.37(m, 4H), 7.39−7.55(m, 3H), 7.95−8.01(m, 3H), 8.57(s, 1H).
(S) -4-allyl-2-bromo-4,5-dihydro-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalene (compound 24) (238 mg, 0. 57 mmol), palladium acetate (13 mg, 0.057 mmol), 1,3-bis (diphenylphosphino) propane (24 mg, 0.057 mmol) and N-ethyldiisopropylamine (427 μL, 2.5 mmol) in dimethyl sulfoxide (10 mL). ) And methanol (5 mL) and heated in an autoclave at 80 ° C. for 24 hours under a carbon monoxide atmosphere of 10 atm. Then, water was added and extracted three times with methylene chloride. The organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate / hexane = 1: 9 to 2: 8) to give the title compound (150 mg, 0.38 mmol). Obtained in 67% yield.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 , Me 4 Si): δ 2.98-3.04 (m, 2H), 3.14 (d, J = 12.4 Hz, 1H), 3.23 (dd, J = 13.2, 6.4 Hz, 1H), 3.75 (d, J = 12.4 Hz, 2H), 4.00 (s, 3H), 4.75 (d, J = 13.2 Hz, 2H), 5.16-5.21 (m, 2H), 5.95-6.02 (m, 1H), 7.23-7.37 (m, 4H), 7.39-7.55 ( m, 3H), 7.95-8.01 (m, 3H), 8.57 (s, 1H).

実施例23:(S)−4,5−ジヒドロ−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2−カルボン酸 メチルエステル(化合物26) Example 23: (S) -4,5-dihydro-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a '] dinaphthalene-2-carboxylic acid methyl ester (Compound 26)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−4−アリル−4,5−ジヒドロ−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2−カルボン酸 メチルエステル(化合物25)(1.06g, 2.7mmol)、NDMBA(1.26g, 8.1mmol)、酢酸パラジウム(30mg, 0.135mmol)およびトリフェニルホスフィン(142mg, 0.50mmol)を15mLのジクロロメタンに溶解し、アルゴン雰囲気下へと置換した後に35℃で2時間攪拌した。エバポレーターによって反応溶液から溶媒を除き、得られた固体をベンゼンに再び溶解した。次に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで3回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液をエバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(メタノール/ジクロロメタン=1:50)により精製して、表題化合物(0.95g, 2.7mmol)を収率>99%で得た。
H−NMR(400MHz,CDCl,MeSi): δ 3.25 (d, J=13.2Hz, 1H), 3.48(d, J=11.6Hz, 1H), 3.89(d, J=11.2Hz, 1H), 4.01(s, 3H), 4.65(d, J=12.8Hz, 1H), 7.31−7.52(m, 6H), 7.62(d, J=8.4Hz, 1H), 7.94−8.03(m, 3H), 8.54(s, 1H).
(S) -4-Allyl-4,5-dihydro-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalene-2-carboxylic acid methyl ester (compound 25) (1 0.06 g, 2.7 mmol), NDMBA (1.26 g, 8.1 mmol), palladium acetate (30 mg, 0.135 mmol) and triphenylphosphine (142 mg, 0.50 mmol) were dissolved in 15 mL of dichloromethane, The mixture was stirred at 35 ° C. for 2 hours. The solvent was removed from the reaction solution by an evaporator, and the obtained solid was dissolved again in benzene. Next, an aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added, followed by extraction three times with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (methanol / dichloromethane = 1: 50) to yield the title compound (0.95 g, 2.7 mmol)> 99%.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 , Me 4 Si): δ 3.25 (d, J = 13.2 Hz, 1H), 3.48 (d, J = 11.6 Hz, 1H), 3.89 ( d, J = 11.2 Hz, 1H), 4.01 (s, 3H), 4.65 (d, J = 12.8 Hz, 1H), 7.31-7.52 (m, 6H), 7. 62 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.94-8.03 (m, 3H), 8.54 (s, 1H).

実施例24:(S)−4,5−ジヒドロ−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2−カルボン酸(化合物27) Example 24: (S) -4,5-dihydro-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a '] dinaphthalene-2-carboxylic acid (Compound 27)

Figure 2006143627
Figure 2006143627

(S)−4,5−ジヒドロ−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2−カルボン酸 メチルエステル(化合物26)(177mg, 0.5mmol)をメタノール(1.5mL)およびTHF(1.0mL)に溶解し、水酸化ナトリウム水溶液(1N,1mL)を加え、1時間還流した。得られた反応溶液にジクロロメタン(1mL)を加えた後、酸性になるまで塩酸(1N)を加え、減圧濃縮し、残渣を得た。得られた残渣をジクロロメタンで3回抽出し、その後、有機層を飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムによって乾燥した。硫酸ナトリウムを濾去し、濾液を減圧濃縮した後、濃縮残渣を陽イオン交換樹脂カラム(Dowex 50W−X, ダウケミカル社製)に吸着させ、陽イオン交換樹脂カラムを適当量の精製水で洗浄した後、5%アンモニア水にて目的物溶出させた。得られたアンモニア水溶液を減圧濃縮して、表題化合物(153mg, 0.45mmol)を収率90%で得た。
H−NMR(400MHz, CDOD, MeSi): δ 3.49(d, J=13.2Hz, 1H), 3.77(d, J=12.8Hz, 1H), 4.36(d, J=13.2Hz, 1H), 5.15(d, J=12.8 Hz, 1H), 7.23−7.36(m, 4H), 7.57(t, J=8.0Hz, 2H), 7.74(d, J=8.8Hz, 1H), 8.05−8.09(m, 2H), 8.16(d, J=8.8Hz, 1H), 8.42(s, 1H).
(S) -4,5-dihydro-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalene-2-carboxylic acid methyl ester (compound 26) (177 mg, 0.5 mmol ) Was dissolved in methanol (1.5 mL) and THF (1.0 mL), aqueous sodium hydroxide solution (1N, 1 mL) was added, and the mixture was refluxed for 1 hr. Dichloromethane (1 mL) was added to the obtained reaction solution, hydrochloric acid (1N) was added until acidic, and the mixture was concentrated under reduced pressure to obtain a residue. The obtained residue was extracted with dichloromethane three times, and then the organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The concentrated residue was adsorbed on a cation exchange resin column (Dowex 50W-X, manufactured by Dow Chemical Co.), and the cation exchange resin column was washed with an appropriate amount of purified water. Then, the target product was eluted with 5% aqueous ammonia. The obtained aqueous ammonia solution was concentrated under reduced pressure to obtain the title compound (153 mg, 0.45 mmol) in a yield of 90%.
1 H-NMR (400 MHz, CD 3 OD, Me 4 Si): δ 3.49 (d, J = 13.2 Hz, 1H), 3.77 (d, J = 12.8 Hz, 1H), 4.36 (D, J = 13.2 Hz, 1H), 5.15 (d, J = 12.8 Hz, 1H), 7.23-7.36 (m, 4H), 7.57 (t, J = 8 0.0 Hz, 2H), 7.74 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 8.05-8.09 (m, 2H), 8.16 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 8 .42 (s, 1H).

実施例25:(R)−1−ヒドロキシ−1−(4−ニトロフェニル)−ブタン−3−オン(不斉直接アルドール反応)
5mL反応容器中室温で、実施例5で得られた(S)−4,5−ジヒドロ−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2,6−ジカルボン酸(9.6mg, 0.025mmol)をDMSO(2.5mL)に加えた後、アセトン(500mL)およびp−ニトロアルデヒド(37.8mg, 0.25mmol)を順次加えた。その後反応容器にアルゴンガスを吹込み、不活性ガス雰囲気へと置換した。室温10時間攪拌の後、塩化アンモニウム飽和水溶液を加え、酢酸エチルで三度抽出した。得られた酢酸エチル溶液を硫酸ナトリウムで乾燥し、エバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)により精製して、表題化合物(39.2 mg)を得た。結果(収率、光学純度)を表1に示す。
HPLC測定条件:
カラム : ダイセル Chiral Column AS
移動相 : n−ヘキサン/イソプロパノール=2/1
流速 : 1mL/min.
検出 : 254nm
保持時間: 9min.(Major), 12min.(Minor)
Example 25: (R) -1-hydroxy-1- (4-nitrophenyl) -butan-3-one (asymmetric direct aldol reaction)
(S) -4,5-dihydro-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalene-2 obtained in Example 5 at room temperature in a 5 mL reaction vessel, 6-dicarboxylic acid (9.6 mg, 0.025 mmol) was added to DMSO (2.5 mL), followed by acetone (500 mL) and p-nitroaldehyde (37.8 mg, 0.25 mmol). Thereafter, argon gas was blown into the reaction vessel to replace with an inert gas atmosphere. After stirring at room temperature for 10 hours, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added, and the mixture was extracted three times with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was dried over sodium sulfate and concentrated by an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 1: 1) to obtain the title compound (39.2 mg). It was. The results (yield, optical purity) are shown in Table 1.
HPLC measurement conditions:
Column: Daicel Chiral Column AS
Mobile phase: n-hexane / isopropanol = 2/1
Flow rate: 1 mL / min.
Detection: 254 nm
Holding time: 9 min. (Major), 12 min. (Minor)

実施例26:(R)−1−ヒドロキシ−1−(4−ニトロフェニル)−ブタン−3−オン(不斉直接アルドール反応)
(S)−4,5−ジヒドロ−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2,6−ジカルボン酸の使用量を19.2mg, 0.05mmolとし、DMSOの代わりにDMFを使用したこと以外は、実施例25と同様に行い、表題化合物を得た。結果(収率、光学純度)を表1に示す。
Example 26: (R) -1-hydroxy-1- (4-nitrophenyl) -butan-3-one (asymmetric direct aldol reaction)
(S) -4,5-dihydro-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalene-2,6-dicarboxylic acid was used in an amount of 19.2 mg; The title compound was obtained in the same manner as in Example 25 except that DMF was used instead of DMSO. The results (yield, optical purity) are shown in Table 1.

実施例27:(R)−1−ヒドロキシ−1−(4−ニトロフェニル)−ブタン−3−オン(不斉直接アルドール反応)
(S)−4,5−ジヒドロ−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2,6−ジカルボン酸の代わりに実施例11で得られた(S)−4,5−ジヒドロ−6−フェニル−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2−カルボン酸を使用したこと以外は、実施例25と同様に行い、表題化合物を得た。結果(収率、光学純度)を表1に示す。
Example 27: (R) -1-hydroxy-1- (4-nitrophenyl) -butan-3-one (asymmetric direct aldol reaction)
(S) -4,5-dihydro-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] obtained in Example 11 instead of dinaphthalene-2,6-dicarboxylic acid Implemented except that (S) -4,5-dihydro-6-phenyl-3H-4-aza-cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalene-2-carboxylic acid was used. In the same manner as in Example 25, the title compound was obtained. The results (yield, optical purity) are shown in Table 1.

Figure 2006143627
Figure 2006143627

実施例28:(R)−2−(N−フェニルアミノオキシ)−プロパノール(不斉O−ニトロソアルドール反応)
5mL反応容器中室温で、実施例17で得られた(S)−4,5−ジヒドロ−6−(3,4,5−トリフルオロフェニル)−3H−4−アザ−シクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−2−カルボン酸(11.7mg, 0.025mmol)をメシチレン(2.5mL)に加えた後、反応溶液を0℃に冷却し、ニトロソベンゼン(53.6mg, 0.5mmol)を加えた。3分間攪拌の後、反応溶液にプロピオンアルデヒド(108μL, 1.5mmol)を加えた。その後反応容器にアルゴンガスを吹込み、不活性ガス雰囲気へと置換した。0℃、1.5時間攪拌の後、エチルアルコール(1mL)、水素化ホウ素ナトリウム(100mg)を加え10分攪拌した。得られた反応溶液に重曹の飽和水溶液を加え、ジクロロメタンで三度抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、エバポレーターにより濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:5〜1:3)により精製して、表題化合物(55.0mg)を得た。結果(収率、光学純度)を表2に示す。
HPLC測定条件:
カラム : ダイセル Chiral Column AS
移動相 : n−ヘキサン/エタノール=10/1
流速 : 1mL/min.
検出 : 254nm
保持時間: 18min.(Major), 21min.(Minor)
Example 28: (R) -2- (N-phenylaminooxy) -propanol (asymmetric O-nitrosoaldol reaction)
(S) -4,5-dihydro-6- (3,4,5-trifluorophenyl) -3H-4-aza-cyclohepta [2,1-] obtained in Example 17 at room temperature in a 5 mL reaction vessel. a: 3,4-a ′] dinaphthalene-2-carboxylic acid (11.7 mg, 0.025 mmol) was added to mesitylene (2.5 mL), and then the reaction solution was cooled to 0 ° C. and nitrosobenzene (53 .6 mg, 0.5 mmol) was added. After stirring for 3 minutes, propionaldehyde (108 μL, 1.5 mmol) was added to the reaction solution. Thereafter, argon gas was blown into the reaction vessel to replace with an inert gas atmosphere. After stirring at 0 ° C. for 1.5 hours, ethyl alcohol (1 mL) and sodium borohydride (100 mg) were added and stirred for 10 minutes. To the resulting reaction solution was added a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate and extracted three times with dichloromethane. The organic layer was dried over sodium sulfate and concentrated by an evaporator, and then the residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate: hexane = 1: 5 to 1: 3) to obtain the title compound (55.0 mg). . The results (yield, optical purity) are shown in Table 2.
HPLC measurement conditions:
Column: Daicel Chiral Column AS
Mobile phase: n-hexane / ethanol = 10/1
Flow rate: 1 mL / min.
Detection: 254 nm
Holding time: 18 min. (Major), 21 min. (Minor)

実施例29:(R)−2−(N−フェニルアミノオキシ)−プロパノール(不斉O−ニトロソアルドール反応)
メシチレンの使用量を5mLとしたこと以外は、実施例28と同様に行なった。結果(収率、光学純度)を表2に示す。
Example 29: (R) -2- (N-phenylaminooxy) -propanol (asymmetric O-nitrosoaldol reaction)
The same procedure as in Example 28 was performed except that the amount of mesitylene used was 5 mL. The results (yield, optical purity) are shown in Table 2.

実施例30:(R)−2−(N−フェニルアミノオキシ)−プロパノール(不斉O−ニトロソアルドール反応)
メシチレンの代わりにトルエンを用い、反応時間を1時間にしたこと以外は、実施例29と同様に行なった。結果(収率、光学純度)を表2に示す。
Example 30: (R) -2- (N-phenylaminooxy) -propanol (asymmetric O-nitrosoaldol reaction)
The same procedure as in Example 29 was performed except that toluene was used instead of mesitylene and the reaction time was 1 hour. The results (yield, optical purity) are shown in Table 2.

Figure 2006143627
Figure 2006143627

Claims (18)

一般式(I):
Figure 2006143627

(式中、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基または−COで表される基(ここで、Rは水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基を示す。)を示し、RおよびRは同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子または低級アルキル基、低級アルコキシ基を示す。)で表される化合物またはその塩。
Formula (I):
Figure 2006143627

(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, an aryl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent, or a group represented by —CO 2 R 4 (where R 1 is 4 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group which may have a substituent, a cycloalkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. 2 and R 3 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, or a lower alkoxy group) or a salt thereof.
が水素原子、置換基を有していてもよいフェニル基またはカルボキシル基である、請求項1記載の化合物またはその塩。 The compound or a salt thereof according to claim 1 , wherein R 1 is a hydrogen atom, a phenyl group or a carboxyl group which may have a substituent. 光学活性である、請求項1または2記載の化合物またはその塩。   The compound or a salt thereof according to claim 1 or 2, which is optically active. 請求項3記載の化合物またはその塩を含有することを特徴とする不斉触媒。   An asymmetric catalyst comprising the compound according to claim 3 or a salt thereof. 不斉アルドール反応、不斉マンニッヒ型反応、不斉ハロゲン化反応または不斉マイケル反応のための不斉触媒である、請求項4記載の不斉触媒。   The asymmetric catalyst according to claim 4, which is an asymmetric catalyst for an asymmetric aldol reaction, asymmetric Mannich type reaction, asymmetric halogenation reaction or asymmetric Michael reaction. 不斉アルドール反応のための不斉触媒である、請求項5記載の不斉触媒。   The asymmetric catalyst according to claim 5, which is an asymmetric catalyst for an asymmetric aldol reaction. 不斉アルドール反応が、不斉直接アルドール反応または不斉O−ニトロソアルドール反応である、請求項6記載の不斉触媒。   The asymmetric catalyst according to claim 6, wherein the asymmetric aldol reaction is an asymmetric direct aldol reaction or an asymmetric O-nitrosoaldol reaction. 請求項3記載の化合物またはその塩の存在下、一般式(II):
Figure 2006143627

(式中、RおよびRは同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケニル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を示すか、あるいはRとRとがつながり、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって、置換基を有していてもよい環を形成してもよい。)で表される化合物と、一般式(III):
Figure 2006143627

(式中、Rは置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケニル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を示す。)で表される化合物を反応させることを特徴とする、一般式(IV):
Figure 2006143627

(式中、*は不斉炭素を示し、他の記号は前記と同義を示す。)で表される化合物の製造方法。
In the presence of the compound according to claim 3 or a salt thereof, the general formula (II):
Figure 2006143627

(Wherein R 5 and R 6 are the same or different and have a hydrogen atom, a lower alkyl group which may have a substituent, a lower alkenyl group which may have a substituent, or a substituent. A cycloalkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent or a substituent. Or a heteroarylalkyl group which may be substituted, or R 5 and R 6 may be connected to form a ring optionally having a substituent together with the carbon atom to which each is bonded. And a compound represented by the general formula (III):
Figure 2006143627

(In the formula, R 7 has a lower alkyl group which may have a substituent, a lower alkenyl group which may have a substituent, a cycloalkyl group which may have a substituent, and a substituent. An aryl group that may be substituted, an aralkyl group that may have a substituent, a heteroaryl group that may have a substituent, or a heteroarylalkyl group that may have a substituent. A compound represented by the general formula (IV):
Figure 2006143627

(Wherein * represents an asymmetric carbon, and other symbols have the same meanings as described above).
が低級アルキル基であり、Rが水素原子であり、Rが置換基を有していてもよいアリール基である、請求項8記載の製造方法。 The production method according to claim 8, wherein R 5 is a lower alkyl group, R 6 is a hydrogen atom, and R 7 is an aryl group which may have a substituent. 請求項3記載の化合物またはその塩の存在下、一般式(V):
Figure 2006143627

(式中、Rは水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケニル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよい低級アルケニル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリールアルキル基を示すか、あるいはRとRとがつながり、それぞれが結合する炭素原子と一緒になって、置換基を有していてもよい環を形成してもよい。)で表される化合物と、一般式(VI):
Figure 2006143627

(式中、R10は置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。)で表される化合物とを反応させることを特徴とする、一般式(VII):
Figure 2006143627

(式中、*は不斉炭素を示し、他の記号は前記と同義を示す。)で表される化合物の製造方法。
In the presence of a compound according to claim 3 or a salt thereof, the general formula (V):
Figure 2006143627

(Wherein R 8 represents a hydrogen atom, an optionally substituted lower alkyl group, an optionally substituted lower alkenyl group, an optionally substituted cycloalkyl group, substituted An aryl group which may have a group, an aralkyl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent or a heteroarylalkyl group which may have a substituent; R 9 represents a lower alkyl group which may have a substituent, a lower alkenyl group which may have a substituent, a cycloalkyl group which may have a substituent, or a substituent. An aryl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent or a heteroarylalkyl group which may have a substituent, or R 8 and R 9 are connected, And a compound represented by the general formula (VI): together with the carbon atom to which each is bonded, a ring which may have a substituent may be formed.
Figure 2006143627

(Wherein R 10 represents an aryl group which may have a substituent or a heteroaryl group which may have a substituent), and a compound represented by the following reaction: General formula (VII):
Figure 2006143627

(Wherein * represents an asymmetric carbon, and other symbols have the same meanings as described above).
請求項10記載の製造方法により得られる一般式(VII)で表される化合物を還元する工程を包含する、一般式(VIII):
Figure 2006143627

(式中、各記号は請求項10と同義を示す。)で表される化合物の製造方法。
A step of reducing a compound represented by the general formula (VII) obtained by the production method according to claim 10, wherein the general formula (VIII):
Figure 2006143627

(Wherein each symbol has the same meaning as in claim 10).
が水素原子であり、Rが低級アルキル基であり、R10が置換基を有していてもよいアリール基である、請求項10または11記載の製造方法。 The production method according to claim 10 or 11, wherein R 8 is a hydrogen atom, R 9 is a lower alkyl group, and R 10 is an aryl group which may have a substituent. 以下の工程(i-a)〜(vi-a)を包含することを特徴とする、一般式(Ia):
Figure 2006143627

(式中、Raは置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し、RおよびRは同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基を示す。)で表される化合物またはその塩の製造方法;
(i-a)一般式(IX):
Figure 2006143627

(式中、RおよびRは前記と同義を示し、OTfはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を示す。)で表される化合物を、遷移金属触媒および塩基の存在下に、一般式(X):Ra−B(OH) (X)(式中、Raは前記と同義を示す。)で表される化合物と反応させて、一般式(XI):
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得;
(ii-a)得られた一般式(XI)で表される化合物を遷移金属触媒および塩基の存在下、一酸化炭素および一般式(XII):R’OH (XII)(式中、R’は置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示す。)で表されるアルコールと反応させて、一般式(XIII):
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得;
(iii-a)得られた一般式(XIII)で表される化合物を、ラジカル開始剤の存在下、ハロゲン化剤と反応させて、一般式(XIV):
Figure 2006143627

(式中、Xはハロゲン原子を示し、他の各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得;
(iv-a)得られた一般式(XIV)で表される化合物をアリルアミンと反応させて、一般式(XV):
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得;
(v-a)得られた一般式(XV)で表される化合物を、遷移金属触媒の存在下脱保護して、一般式(XVI):
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得;
(vi-a)得られた一般式(XVI)で表される化合物を加水分解して、上記一般式(Ia)で表される化合物を得る。
General formula (Ia), characterized in that it comprises the following steps (ia) to (vi-a):
Figure 2006143627

(In the formula, Ra 1 represents an aryl group which may have a substituent or a heteroaryl group which may have a substituent, and R 2 and R 3 may be the same or different and represent a hydrogen atom or a halogen atom. And represents a lower alkyl group or a lower alkoxy group.)
(I-a) General formula (IX):
Figure 2006143627

(Wherein R 2 and R 3 are as defined above, and OTf represents a trifluoromethanesulfonyloxy group) in the presence of a transition metal catalyst and a base, the compound represented by the general formula (X): By reacting with a compound represented by Ra 1 -B (OH) 2 (X) (wherein Ra 1 is as defined above), general formula (XI):
Figure 2006143627

(Wherein each symbol is as defined above) to obtain a compound represented by:
(Ii-a) the presence of the obtained formula (XI) transition compound represented by the metal catalyst and a base, carbon monoxide and the general formula (XII): R 4 'OH (XII) ( wherein, R 4 ′ represents an optionally substituted lower alkyl group, an optionally substituted cycloalkyl group or an optionally substituted aryl group.) The reaction is general formula (XIII):
Figure 2006143627

(Wherein each symbol is as defined above) to obtain a compound represented by:
(Iii-a) The compound represented by the general formula (XIII) thus obtained is reacted with a halogenating agent in the presence of a radical initiator to give a general formula (XIV):
Figure 2006143627

(Wherein X 1 represents a halogen atom, and other symbols are as defined above);
(Iv-a) The compound represented by the general formula (XIV) obtained is reacted with allylamine to give a general formula (XV):
Figure 2006143627

(Wherein each symbol is as defined above) to obtain a compound represented by:
(V-a) The obtained compound represented by the general formula (XV) is deprotected in the presence of a transition metal catalyst to give a general formula (XVI):
Figure 2006143627

(Wherein each symbol is as defined above) to obtain a compound represented by:
(Vi-a) The compound represented by the general formula (XVI) thus obtained is hydrolyzed to obtain the compound represented by the above general formula (Ia).
Raが置換基を有していてもよいフェニル基である請求項13記載の製造方法。 The method according to claim 13, wherein Ra 1 is a phenyl group which may have a substituent. 以下の工程(i-b)〜(v-b)を包含することを特徴とする、一般式(Ib):
Figure 2006143627

(式中、Rは水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示し、RおよびRは、同一または異なって水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基を示す。)で表される化合物またはその塩の製造方法;
(i-b)一般式(IX):
Figure 2006143627

(式中、RおよびRは前記と同義を示し、OTfはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を示す。)で表される化合物を、遷移金属触媒および塩基の存在下に、一酸化炭素および一般式(XII):R’OH (XII)(式中、R’は置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示す。)で表されるアルコールと反応させて、一般式(XVII):
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得;
(ii-b)得られた一般式(XVII)で表される化合物を、ラジカル開始剤の存在下、ハロゲン化剤と反応させて、一般式(XVIII):
Figure 2006143627

(式中、Xはハロゲン原子を示し、他の各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得;
(iii-b)得られた一般式(XVIII)で表される化合物をアリルアミンと反応させて、一般式(XIX):
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得;
(iv-b)得られた一般式(XIX)で表される化合物を、遷移金属触媒の存在下脱保護して、一般式(XX):
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得;
(v-b)得られた一般式(XX)で表される化合物を加水分解して、上記一般式(Ib)で表される化合物を得る。
General formula (Ib), characterized in that it comprises the following steps (ib) to (vb):
Figure 2006143627

(In the formula, R 4 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group which may have a substituent, a cycloalkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent; R 2 and R 3 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group.)
(I-b) General formula (IX):
Figure 2006143627

(Wherein R 2 and R 3 are as defined above, and OTf represents a trifluoromethanesulfonyloxy group.) In the presence of a transition metal catalyst and a base, carbon monoxide and a general formula (XII): R 4 'OH (XII) ( wherein, R 4' has an optionally substituted lower alkyl group, which may have a substituent cycloalkyl group or a substituted group An aryl group that may be present) is reacted with an alcohol represented by the general formula (XVII):
Figure 2006143627

(Wherein each symbol is as defined above) to obtain a compound represented by:
(Ii-b) The resulting compound represented by the general formula (XVII) is reacted with a halogenating agent in the presence of a radical initiator to give a general formula (XVIII):
Figure 2006143627

(Wherein X 1 represents a halogen atom, and other symbols are as defined above);
(Iii-b) The compound represented by the general formula (XVIII) obtained is reacted with allylamine to give a general formula (XIX):
Figure 2006143627

(Wherein each symbol is as defined above) to obtain a compound represented by:
(Iv-b) The obtained compound represented by the general formula (XIX) is deprotected in the presence of a transition metal catalyst, and the general formula (XX):
Figure 2006143627

(Wherein each symbol is as defined above) to obtain a compound represented by:
(Vb) The obtained compound represented by the general formula (XX) is hydrolyzed to obtain the compound represented by the general formula (Ib).
光学活性な一般式(IX)で表される化合物を用いる、請求項13〜15のいずれか一項に記載の製造方法。   The manufacturing method as described in any one of Claims 13-15 using the compound represented by optically active general formula (IX). 以下の工程(i-c)〜(vii-c)を包含することを特徴とする、一般式(Ic):
Figure 2006143627

(式中、RおよびRは同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基を示す。)で表される化合物またはその塩の製造方法;
(i-c)一般式(XXI):
Figure 2006143627

(式中、RおよびRは前記と同義を示し、R11は低級アルキル基を示す。)で表される化合物を、塩基の存在下に、ハロゲン化剤と反応させて、一般式(XXII):
Figure 2006143627

(式中、R、RおよびR11は前記と同義を示し、Xはハロゲン原子を示す。)で表される化合物を得;
(ii-c)得られた一般式(XXII)で表される化合物を還元して、一般式(XXIII):
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得;
(iii-c)得られた一般式(XXIII)で表される化合物をハロゲン化剤と反応させて、一般式(XXIV):
Figure 2006143627

(式中、R、RおよびXは前記と同義を示し、Xは、Xと同一または異なってハロゲン原子を示す。)で表される化合物を得;
(iv-c)得られた一般式(XXIV)で表される化合物をアリルアミンと反応させて、一般式(XXV):
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得;
(v-c)得られた一般式(XXV)で表される化合物を遷移金属触媒および塩基の存在下、一酸化炭素および一般式(XII):R’OH (XII)(式中、R’は置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示す。)で表されるアルコールと反応させて、一般式(XXVI):
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得;
(vi-c)得られた一般式(XXVI)で表される化合物を、遷移金属触媒の存在下脱保護して、一般式(XXVII):
Figure 2006143627

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を得;
(vii-c)得られた一般式(XXVII)で表される化合物を加水分解して、上記一般式(Ic)で表される化合物を得る。
General formula (Ic), characterized in that it comprises the following steps (i-c) to (vii-c):
Figure 2006143627

(Wherein R 2 and R 3 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group), or a method for producing a salt thereof;
(I-c) General formula (XXI):
Figure 2006143627

(Wherein R 2 and R 3 are as defined above, and R 11 is a lower alkyl group.) In the presence of a base, a compound represented by the general formula ( XXII):
Figure 2006143627

(Wherein R 2 , R 3 and R 11 have the same meanings as described above, and X 2 represents a halogen atom);
(Ii-c) The obtained compound represented by the general formula (XXII) is reduced to give a general formula (XXIII):
Figure 2006143627

(Wherein each symbol is as defined above) to obtain a compound represented by:
(Iii-c) The obtained compound represented by the general formula (XXIII) is reacted with a halogenating agent to give a general formula (XXIV):
Figure 2006143627

(Wherein R 2 , R 3 and X 2 are as defined above, and X 3 is the same as or different from X 2 and represents a halogen atom).
(Iv-c) The compound represented by the general formula (XXIV) obtained is reacted with allylamine to give a general formula (XXV):
Figure 2006143627

(Wherein each symbol is as defined above) to obtain a compound represented by:
(V-c) presence of the obtained formula (XXV) transition compound represented by the metal catalyst and a base, carbon monoxide and the general formula (XII): R 4 'OH (XII) ( wherein, R 4 ′ represents an optionally substituted lower alkyl group, an optionally substituted cycloalkyl group or an optionally substituted aryl group.) Reaction is general formula (XXVI):
Figure 2006143627

(Wherein each symbol is as defined above) to obtain a compound represented by:
(Vi-c) The resulting compound represented by the general formula (XXVI) is deprotected in the presence of a transition metal catalyst to obtain the general formula (XXVII):
Figure 2006143627

(Wherein each symbol is as defined above) to obtain a compound represented by:
(Vii-c) The compound represented by the general formula (XXVII) obtained is hydrolyzed to obtain the compound represented by the general formula (Ic).
光学活性な一般式(XXI)で表される化合物を用いる、請求項17記載の製造方法。   The manufacturing method of Claim 17 using the compound represented by optically active general formula (XXI).
JP2004333798A 2004-11-17 2004-11-17 Optically active amino acid derivative having axial asymmetry and method for producing optically active compound using the amino acid derivative as an asymmetric catalyst Active JP4779109B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004333798A JP4779109B2 (en) 2004-11-17 2004-11-17 Optically active amino acid derivative having axial asymmetry and method for producing optically active compound using the amino acid derivative as an asymmetric catalyst

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004333798A JP4779109B2 (en) 2004-11-17 2004-11-17 Optically active amino acid derivative having axial asymmetry and method for producing optically active compound using the amino acid derivative as an asymmetric catalyst

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006143627A true JP2006143627A (en) 2006-06-08
JP4779109B2 JP4779109B2 (en) 2011-09-28

Family

ID=36623734

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004333798A Active JP4779109B2 (en) 2004-11-17 2004-11-17 Optically active amino acid derivative having axial asymmetry and method for producing optically active compound using the amino acid derivative as an asymmetric catalyst

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4779109B2 (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008024596A (en) * 2006-07-18 2008-02-07 Toyohashi Univ Of Technology Optically active 2,6-bisaminomethylpyridine derivative, method for producing the same and use thereof
WO2010047318A1 (en) 2008-10-24 2010-04-29 国立大学法人京都大学 Helicene derivative, axially asymmetric amino acid, amine or aminoalcohol derivative, perylene derivative or salt thereof, and methods for producing same
CN102060768A (en) * 2010-12-31 2011-05-18 中山大学 Method for preparing 3, 3'or 3 ester-substituted chiral binaphthyl tertiary amine
CN102267946A (en) * 2010-06-07 2011-12-07 中国科学院上海药物研究所 High-optical-purity alpha-quaternary carbon amino acid ester compounds containing chiral binaphthyl skeletons as well as preparation method and application thereof
WO2013183642A1 (en) * 2012-06-05 2013-12-12 国立大学法人 岡山大学 Axially chiral pyridine derivative or salt thereof, and method for producing same and chiral catalyst comprising same
JP2015051967A (en) * 2013-08-07 2015-03-19 国立大学法人豊橋技術科学大学 Amine compound, optically active amine, asymmetric catalyst including optically active amine, and manufacturing method of optically active halogen compound using asymmetric catalyst
WO2016031736A1 (en) * 2014-08-23 2016-03-03 国立大学法人 岡山大学 Pyridine derivative having axial chirality or salt thereof, and asymmetric catalyst comprising same

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997006147A1 (en) * 1995-08-09 1997-02-20 The University Of Sheffield Dinaphtazepinium salts useful as enantioselective epoxidation catalysts
JP2001048866A (en) * 1999-06-04 2001-02-20 Nagase & Co Ltd OPTICALLY ACTIVE TERTIARY AMMONIUM SALT HAVING AXIAL ASYMMETRY, ITS PRODUCTION AND APPLICATION TO ASYMMETRICAL SYNTHESIS OF alpha-AMINO ACID DERIVATIVE
JP2002173492A (en) * 2000-12-07 2002-06-21 Nagase & Co Ltd OPTICALLY ACTIVE QUATERNARY AMMONIUM SALT HAVING AXIAL ASYMMETRY AND STEREOSELECTIVE SYNTHESIS OF beta- HYDROXYKETONE USING THE SAME
WO2005073196A1 (en) * 2004-01-30 2005-08-11 Nagase & Co., Ltd. OPTICALLY ACTIVE QUATERNARY AMMONIUM SALT HAVING AXIAL ASYMMETRY AND PROCESS FOR PRODUCING α-AMINO ACID AND DERIVATIVE THEREOF WITH THE SAME
WO2005077908A1 (en) * 2004-02-18 2005-08-25 Takasago International Corporation Guanidine compound and asymmetric reaction using the same

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997006147A1 (en) * 1995-08-09 1997-02-20 The University Of Sheffield Dinaphtazepinium salts useful as enantioselective epoxidation catalysts
JP2001048866A (en) * 1999-06-04 2001-02-20 Nagase & Co Ltd OPTICALLY ACTIVE TERTIARY AMMONIUM SALT HAVING AXIAL ASYMMETRY, ITS PRODUCTION AND APPLICATION TO ASYMMETRICAL SYNTHESIS OF alpha-AMINO ACID DERIVATIVE
JP2002173492A (en) * 2000-12-07 2002-06-21 Nagase & Co Ltd OPTICALLY ACTIVE QUATERNARY AMMONIUM SALT HAVING AXIAL ASYMMETRY AND STEREOSELECTIVE SYNTHESIS OF beta- HYDROXYKETONE USING THE SAME
WO2005073196A1 (en) * 2004-01-30 2005-08-11 Nagase & Co., Ltd. OPTICALLY ACTIVE QUATERNARY AMMONIUM SALT HAVING AXIAL ASYMMETRY AND PROCESS FOR PRODUCING α-AMINO ACID AND DERIVATIVE THEREOF WITH THE SAME
WO2005077908A1 (en) * 2004-02-18 2005-08-25 Takasago International Corporation Guanidine compound and asymmetric reaction using the same

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008024596A (en) * 2006-07-18 2008-02-07 Toyohashi Univ Of Technology Optically active 2,6-bisaminomethylpyridine derivative, method for producing the same and use thereof
WO2010047318A1 (en) 2008-10-24 2010-04-29 国立大学法人京都大学 Helicene derivative, axially asymmetric amino acid, amine or aminoalcohol derivative, perylene derivative or salt thereof, and methods for producing same
CN102267946A (en) * 2010-06-07 2011-12-07 中国科学院上海药物研究所 High-optical-purity alpha-quaternary carbon amino acid ester compounds containing chiral binaphthyl skeletons as well as preparation method and application thereof
CN102060768A (en) * 2010-12-31 2011-05-18 中山大学 Method for preparing 3, 3'or 3 ester-substituted chiral binaphthyl tertiary amine
WO2013183642A1 (en) * 2012-06-05 2013-12-12 国立大学法人 岡山大学 Axially chiral pyridine derivative or salt thereof, and method for producing same and chiral catalyst comprising same
JPWO2013183642A1 (en) * 2012-06-05 2016-02-01 国立大学法人 岡山大学 Pyridine derivative having axial asymmetry or salt thereof, process for producing the same, and asymmetric catalyst comprising the same
JP2015051967A (en) * 2013-08-07 2015-03-19 国立大学法人豊橋技術科学大学 Amine compound, optically active amine, asymmetric catalyst including optically active amine, and manufacturing method of optically active halogen compound using asymmetric catalyst
WO2016031736A1 (en) * 2014-08-23 2016-03-03 国立大学法人 岡山大学 Pyridine derivative having axial chirality or salt thereof, and asymmetric catalyst comprising same

Also Published As

Publication number Publication date
JP4779109B2 (en) 2011-09-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Wang et al. Bromide-promoted visible-light-induced reductive Minisci reaction with aldehydes
JP5244149B2 (en) Optically active quaternary ammonium salt having axial asymmetry and method for producing α-amino acid and derivatives thereof using the same
Liu et al. Linear polystyrene anchored L-proline, new recyclable organocatalysts for the aldol reaction in the presence of water
Li et al. Highly enantioselective aldol reactions catalyzed by reusable upper rim-functionalized calix [4] arene-based l-proline organocatalyst in aqueous conditions
Tian et al. Proline-based dipeptides as efficient organocatalysts for asymmetric aldol reactions in brine
Yoshida et al. Asymmetric Michael addition of aldehydes to nitroalkenes using a primary amino acid lithium salt
Miura et al. Direct asymmetric aldol reactions in water with a β-aminosulfonamide organocatalyst
Prajapati et al. Selective palladium-catalysed arylation of 2, 6-dibromopyridine using N-heterocyclic carbene ligands
JP4779109B2 (en) Optically active amino acid derivative having axial asymmetry and method for producing optically active compound using the amino acid derivative as an asymmetric catalyst
Wang et al. Copper (II)/Palladium (II) catalysed highly selective cross-coupling of terminal alkynes in supercritical carbon dioxide
AU2005305640A1 (en) Sulphonylated diphenylethylenediamines, method for their preparation and use in transfer hydrogenation catalysis
Touchard New and efficient conditions for the Z-selective synthesis of unsaturated esters by the Horner-Wadsworth-Emmons olefination
JP2007238540A (en) Method for producing optically active alcohol compound
JP2012082155A (en) Triazolium salt and method for producing the same, and method for producing alkylated oxindol using azide alcohol and asymmetric reaction
Zhang et al. Direct Asymmetric Aldol Reaction Co‐catalyzed by Amphiphilic Prolinamide Phenol and Lewis Acidic Metal on Water
CN107721858A (en) The method of phase transfer catalysis (PTC) β keto ester asymmetry α benzoylations
JP2010030992A (en) Method for producing optically active amine compound
JP5408662B2 (en) Method for producing disulfonic acid compound, asymmetric Mannich catalyst, method for producing β-aminocarbonyl derivative, and novel disulfonate
CN113666962B (en) Nitrogen-phosphorus ligand and preparation method and application thereof
Zhang et al. Enantioselective fluorination of β-keto esters using a PEG-bound urea-containing chiral quaternary ammonium salt catalyst
JP4308155B2 (en) Process for producing δ-iminomalonic acid derivative and catalyst therefor
JP4860509B2 (en) Method for producing optically active hydrazino keto ester compound
JP2015172024A (en) Chiral bicyclic diene ligand having hydrogen bond formation amide group
CN115057848B (en) Axis chiral isopyranone-indole derivative and synthesis method thereof
CN110590641B (en) Green preparation method of 3-hydroxyisoindole-1-ketone series compounds

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070711

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110201

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110401

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110607

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150