JP2006142586A - Thermal head - Google Patents

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Yasushi Hiruumi
靖志 蛭海
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the matter of a long thermal head that stress due to thermal expansion of an internal layer is accumulated and a heat dissipation layer and an insulating substrate becomes susceptible to peeling and cracking. <P>SOLUTION: The thermal head comprises (a) an insulating substrate, (b) a heat dissipation layer composed of a metal film formed on the insulating substrate, (c) a thermal storage layer covering the heat dissipation layer, (d) a plurality of heating resistors formed on the thermal storage layer and arranged at a specified dot pitch in the main scanning direction, and (e) a wiring electrode group being connected electrically with each heating resistor. The heat dissipation layer is formed to be divided into a plurality of heat dissipators by slits formed at least at one position in the main scanning direction. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

この発明は、発熱抵抗体が主走査方向に規定のドットピッチで配列されたサーマルヘッドに関する。   The present invention relates to a thermal head in which heating resistors are arranged at a prescribed dot pitch in the main scanning direction.

サーマルヘッドに関する技術文献の一つに特許文献1がある。特許文献1には、サーマルヘッドの低消費電力化と高速印字の両立を目的として開発された構造が開示されている。すなわち、絶縁基板上に放熱層、蓄熱層、発熱抵抗体を積層した構造を有するサーマルヘッドが開示されている。
このサーマルヘッドは、蓄熱層と絶縁基板との間に放熱層を配置して、印字終了後の余熱を蓄熱層から絶縁基板へ逃がし、印加パルス周期の短縮を実現する。すなわち、印刷スピードの向上を実現する。
特開平5−50627号公報
Patent Document 1 is one of technical documents related to a thermal head. Patent Document 1 discloses a structure developed for the purpose of achieving both low power consumption and high-speed printing of a thermal head. That is, a thermal head having a structure in which a heat radiation layer, a heat storage layer, and a heating resistor are laminated on an insulating substrate is disclosed.
In this thermal head, a heat dissipation layer is disposed between the heat storage layer and the insulating substrate, and the residual heat after the printing is released from the heat storage layer to the insulating substrate, so that the applied pulse cycle is shortened. That is, the printing speed is improved.
Japanese Patent Laid-Open No. 5-50627

ところで、放熱層を形成する銅やアルミニウムの線熱膨張係数は、絶縁基板を形成するガラスや蓄熱層を形成するポリイミド樹脂の線熱膨張係数に比べ一桁も大きい。
このため、長尺のサーマルヘッドを同構造で製造すると、熱膨張による歪みが累積され、放熱層や絶縁基盤に剥がれや亀裂が生じ易くなる問題がある。
By the way, the linear thermal expansion coefficient of copper and aluminum forming the heat dissipation layer is an order of magnitude larger than the linear thermal expansion coefficient of the glass forming the insulating substrate and the polyimide resin forming the heat storage layer.
For this reason, when a long thermal head is manufactured with the same structure, distortion due to thermal expansion is accumulated, and there is a problem that peeling and cracking are likely to occur in the heat dissipation layer and the insulating substrate.

そこで、発明者は、以下の構造を有するサーマルヘッドを提案する。すなわち、主走査方向の少なくとも1カ所に形成されたスリットにより、放熱層が複数の放熱体に分断された構造のサーマルヘッドを提案する。   Therefore, the inventor proposes a thermal head having the following structure. That is, a thermal head having a structure in which a heat radiation layer is divided into a plurality of heat radiators by a slit formed in at least one place in the main scanning direction is proposed.

発明に係る構造の採用により、放熱層を構成する個々の放熱体を、サーマルヘッド長の数分の1の長さで形成できる。
これにより、長尺のサーマルヘッドでも、消費電力の低減と高速印字とを両立できるサーマルヘッドを実現できる。勿論、短尺のサーマルヘッドにも効果的である。
By adopting the structure according to the invention, the individual heat dissipating bodies constituting the heat dissipating layer can be formed with a length that is a fraction of the thermal head length.
This makes it possible to realize a thermal head that can achieve both reduction in power consumption and high-speed printing even with a long thermal head. Of course, it is also effective for a short thermal head.

以下、発明に係る技術手法を採用するサーマルヘッドの実施形態例を説明する。
なお、本明細書で特に図示又は記載されない部分には、当該技術分野の周知又は公知技術を適用する。
また以下に説明する実施形態は、発明の一つの実施形態であって、これらに限定されるものではない。
Embodiments of a thermal head that employs the technical technique according to the invention will be described below.
In addition, the well-known or well-known technique of the said technical field is applied to the part which is not illustrated or described in particular in this specification.
The embodiment described below is one embodiment of the present invention and is not limited thereto.

(A)形態例1
(a)サーマルヘッドの構造
図1に、サーマルヘッド1のヘッド面を示す。サーマルヘッド1には、複数個の発熱体(抵抗体)が長手方向に沿って配列されている。このサーマルヘッド1の長手方向が主走査方向に対応する。実際の印刷は、主走査方向と直交する方向(副走査方向)にサーマルヘッド1と被記録媒体(例えば、印刷用紙)を相対移動させることで印刷イメージが被記録媒体上に記録される。
なお、図1の縮尺では、個々の発熱体を表現できない。このため、図1では、サーマルヘッド1上に形成された一群の発熱体を太線3で示す。ここで、個々の発熱体は、個々のドットに対応する。なお、個々の発熱体は、主走査方向の印刷解像度に応じたドット密度で配列されている。
(A) Form example 1
(A) Thermal Head Structure FIG. 1 shows the head surface of the thermal head 1. In the thermal head 1, a plurality of heating elements (resistors) are arranged along the longitudinal direction. The longitudinal direction of the thermal head 1 corresponds to the main scanning direction. In actual printing, a print image is recorded on a recording medium by relatively moving the thermal head 1 and a recording medium (for example, printing paper) in a direction (sub-scanning direction) orthogonal to the main scanning direction.
In addition, in the reduced scale of FIG. 1, each heat generating body cannot be expressed. For this reason, in FIG. 1, a group of heating elements formed on the thermal head 1 is indicated by a thick line 3. Here, each heating element corresponds to each dot. Note that the individual heating elements are arranged at a dot density corresponding to the printing resolution in the main scanning direction.

図2に、サーマルヘッド1の部分断面構造を示す。この部分断面構造は、図1のA−A部分の断面構造に対応する。従って、紙面に垂直の方向が主走査方向である。
サーマルヘッド1は、絶縁基板11の上層に放熱層13、蓄熱層15、抵抗体膜17、配線電極19を順に積層した構造を有している。
絶縁基板11は、ガラス、アルミナセラミックその他で構成する。なお、ガラスは反りが少なく、大面積化が容易である。このため、1枚のガラスから多数のヘッド用基板を取り出すことができる。また、ガラスは安価であるため、製造コストの低減を図る上で有利である。
FIG. 2 shows a partial cross-sectional structure of the thermal head 1. This partial cross-sectional structure corresponds to the cross-sectional structure of the AA portion in FIG. Therefore, the direction perpendicular to the paper surface is the main scanning direction.
The thermal head 1 has a structure in which a heat dissipation layer 13, a heat storage layer 15, a resistor film 17, and a wiring electrode 19 are sequentially laminated on an insulating substrate 11.
The insulating substrate 11 is made of glass, alumina ceramic or the like. Note that glass is less warped and can be easily increased in area. Therefore, a large number of head substrates can be taken out from one glass. Further, since glass is inexpensive, it is advantageous for reducing the manufacturing cost.

放熱層13は、銅、アルミニウムその他の熱導電性の高い金属材料で構成する。なお、放熱層13には、下地層(絶縁基板1)よりも熱伝伝導性が高い材料を使用する。また、放熱層13は、蓄熱層15に蓄えられた熱を効率的に逃がすのに必要な厚みで形成する。
ここで、放熱層13の主走査方向の長さは、少なくともサーマルヘッド長と同じかそれ以上に形成する。また、放熱層13の副走査方向の長さ(幅)L2は、発熱体の幅(抵抗体長)L1よりも幅広に形成する。L2>L1であるため、上層の熱を効率よく下層に逃がすことができる。
The heat dissipation layer 13 is made of copper, aluminum, or other metal material having high thermal conductivity. For the heat dissipation layer 13, a material having higher thermal conductivity than that of the base layer (insulating substrate 1) is used. Further, the heat radiation layer 13 is formed with a thickness necessary for efficiently releasing the heat stored in the heat storage layer 15.
Here, the length of the heat radiation layer 13 in the main scanning direction is at least equal to or longer than the thermal head length. Further, the length (width) L2 of the heat radiation layer 13 in the sub-scanning direction is formed wider than the width (resistor length) L1 of the heating element. Since L2> L1, the heat of the upper layer can be efficiently released to the lower layer.

この構造が可能であるのは、放熱層13が複数個の放熱体13Aで構成されるためである。すなわち、放熱層13を単体の放熱体で形成する場合に比して、個々の放熱体13Aの長さが格段に短縮されるためである。
図3に、絶縁基板11上に形成した放熱層13のパターン例を示す。図3の場合、放熱層13は、主走査方向に等間隔で配置された5つのスリット13Bで分割された6つの放熱体13Aで形成する。
この形態例の場合、個々のスリット13Bは、発熱体と発熱体の間に配置する。図4に、スリット13Bと発熱体(抵抗体)の位置関係を示す。なお、スリット13Bは、個々の放熱体13Aが応力を吸収できる範囲内に配置する。
この放熱層13の分割パターンは、フォトリソグラフィー処理で形成する。
This structure is possible because the heat radiation layer 13 is composed of a plurality of heat radiators 13A. That is, as compared with the case where the heat radiation layer 13 is formed of a single heat radiator, the length of each heat radiator 13A is remarkably shortened.
FIG. 3 shows a pattern example of the heat dissipation layer 13 formed on the insulating substrate 11. In the case of FIG. 3, the heat radiation layer 13 is formed by six heat radiators 13A divided by five slits 13B arranged at equal intervals in the main scanning direction.
In the case of this embodiment, the individual slits 13B are arranged between the heating elements. FIG. 4 shows the positional relationship between the slit 13B and the heating element (resistor). Note that the slits 13B are arranged within a range in which the individual radiators 13A can absorb stress.
The division pattern of the heat dissipation layer 13 is formed by photolithography.

蓄熱層15は、ガラス、ポリイミド樹脂その他で構成する。蓄熱層15は、上層に位置する抵抗体膜17で発生するジュール熱を蓄積し、固体インクが塗布されたシートや感熱紙に伝わる熱量を増やすために用いられる。
抵抗体膜17は、その両端に電気的に接続された配線電極19を通じて電流が流れることで発熱する導電性材料である。例えば、TaSiO2 で形成される。
図5に、発熱体部分を上面から見た図を示す。抵抗体膜17のうち配線電極19で挟まれた領域が発熱体(抵抗体)に当たる。なお、図5は、抵抗体の下層に位置する放熱体13Bに網掛けを付して表している。図5より、放熱体13Bの副走査方向の長さ(幅)L2が、発熱体(抵抗体)の長さL1よりも広いことが分かる。
The heat storage layer 15 is made of glass, polyimide resin, or the like. The heat storage layer 15 is used for accumulating Joule heat generated in the resistor film 17 located in the upper layer and increasing the amount of heat transmitted to the sheet or thermal paper coated with the solid ink.
The resistor film 17 is a conductive material that generates heat when current flows through the wiring electrodes 19 electrically connected to both ends thereof. For example, it is formed by TaSiO 2.
FIG. 5 shows a view of the heating element portion as viewed from above. A region sandwiched between the wiring electrodes 19 in the resistor film 17 corresponds to a heating element (resistor). In FIG. 5, the radiator 13 </ b> B located in the lower layer of the resistor is shaded. From FIG. 5, it can be seen that the length (width) L2 of the heat dissipating body 13B in the sub-scanning direction is wider than the length L1 of the heating element (resistor).

(b)印刷動作
印刷動作時の内部動作を簡単に説明する。
まず、通電時、個々の発熱体(抵抗体)には、対応するドットの描画に必要なエネルギーが印加される。すなわち、個々のドットの描画に必要な電流が配線電極19を通じて流される。これにより、個々の発熱体(抵抗体)は、各電流値に応じた熱を発生する。なお、個々の発熱体(抵抗体)に印加されるエネルギーの供給時間は、描画するドットに応じて異なる。
発生した熱は、発熱体(抵抗体)の下層に形成された蓄熱層15に蓄積される。このため、少ない電流でも発熱体(抵抗体)のジュール熱を効率よく固体インクが塗布されたシートや感熱紙に伝えることができる。すなわち、低消費電力化を実現できる。
(B) Printing operation The internal operation during the printing operation will be briefly described.
First, during energization, energy necessary for drawing a corresponding dot is applied to each heating element (resistor). That is, a current necessary for drawing each dot is passed through the wiring electrode 19. Thereby, each heating element (resistor) generates heat according to each current value. The supply time of energy applied to each heating element (resistor) varies depending on the dots to be drawn.
The generated heat is accumulated in the heat storage layer 15 formed below the heating element (resistor). Therefore, the Joule heat of the heating element (resistor) can be efficiently transmitted to the sheet or thermal paper coated with the solid ink even with a small current. That is, low power consumption can be realized.

一方、通電終了後、個々の発熱体(抵抗体)の発熱は停止する。通電が終了するタイミングは、発熱体(抵抗体)毎に制御される。
一方、蓄熱層15に蓄えられた熱は、発熱体(抵抗体)の発熱が停止した後も保持される。このため、蓄積された熱を速やかに逃がすことができないと、発熱体(抵抗体)による記録が継続される。すなわち、尾引現象が発生してしまう。
ただし、このサーマルヘッド1の場合、蓄熱層15に蓄えられた熱は放熱層13を通じて絶縁基板11へと速やかに拡散される。この際、放熱層13の幅L2は発熱体の幅(抵抗体長)L1よりも広いため、蓄熱層15の熱は広範囲に速やかに拡散される。
結果的に印加サイクルの短縮が可能となり、高速印字を実現できる。
On the other hand, after the energization ends, the heat generation of the individual heating elements (resistors) stops. The timing at which energization ends is controlled for each heating element (resistor).
On the other hand, the heat stored in the heat storage layer 15 is retained even after the heat generation of the heating element (resistor) is stopped. For this reason, if the accumulated heat cannot be quickly released, recording by the heating element (resistor) is continued. That is, a tailing phenomenon occurs.
However, in the case of this thermal head 1, the heat stored in the heat storage layer 15 is quickly diffused to the insulating substrate 11 through the heat dissipation layer 13. At this time, since the width L2 of the heat dissipation layer 13 is wider than the width (resistor length) L1 of the heating element, the heat of the heat storage layer 15 is quickly diffused over a wide range.
As a result, the application cycle can be shortened and high-speed printing can be realized.

なお、放熱層13は、蓄熱層15や絶縁基板11に比して線熱膨張係数が一桁大きい。ただし、この形態例の場合、放熱層13を構成する個々の放熱体13Aの主走査方向の長さは、サーマルヘッド長の1/6である。すなわち、従来構造の場合の1/6である。
従って、個々の放熱体13Aに作用する主走査方向の応力は、少なくとも数分の1に低減される。結果的に、熱膨張を原因とした剥がれや亀裂が発生する可能性は格段に低減される。すなわち、サーマルヘッドの信頼性が向上し、製品寿命も延びる。
The heat radiation layer 13 has a linear thermal expansion coefficient that is one digit larger than that of the heat storage layer 15 and the insulating substrate 11. However, in the case of this embodiment, the length of each heat dissipating body 13A constituting the heat dissipating layer 13 in the main scanning direction is 1/6 of the thermal head length. That is, 1/6 of the conventional structure.
Accordingly, the stress in the main scanning direction acting on the individual radiators 13A is reduced to at least a fraction. As a result, the possibility of peeling or cracking due to thermal expansion is greatly reduced. That is, the reliability of the thermal head is improved and the product life is extended.

(c)効果
放熱層13を複数の放熱体13Aで形成する構成の採用により、蓄熱層15を有するサーマルヘッドの場合にも、通電終了後の冷却効果を向上して高速印字を実現できる。
また、放熱層13を複数の放熱体13Aに分割したことにより、放熱層と上下層との線熱膨張係数の違いによるバイメタル効果の応力を緩和し、長期の信頼性を確保できる。
また、放熱層13を複数の放熱体13Aに分割したことにより、熱膨張の影響を低減でき、長尺のサーマルヘッドに放熱層13を埋め込むことが可能になる。
(C) Effect By adopting a configuration in which the heat radiating layer 13 is formed by a plurality of heat radiating bodies 13A, even in the case of a thermal head having the heat storage layer 15, it is possible to improve the cooling effect after energization and realize high-speed printing.
Moreover, by dividing the heat dissipation layer 13 into a plurality of heat dissipating bodies 13A, the stress of the bimetallic effect due to the difference in linear thermal expansion coefficient between the heat dissipation layer and the upper and lower layers can be relaxed, and long-term reliability can be ensured.
Further, by dividing the heat dissipation layer 13 into the plurality of heat dissipating bodies 13A, the influence of thermal expansion can be reduced, and the heat dissipating layer 13 can be embedded in a long thermal head.

(B)形態例2
(a)サーマルヘッドの構造
ここでは、放熱層13の他の形態例を説明する。形態例1の場合、スリット13Bは、発熱体(抵抗体)と平行に形成した。ただし、スリット13Bの部分で蓄熱層15の温度分布に乱れが生じ、放熱ムラが記録結果を通じて知覚される可能性がある。
そこで、この形態例では、複数の発熱体(抵抗体)を横切るように主走査方向に対して斜めにスリット13Bを形成する。なお、形成するスリット13Bの傾き以外は、形態例1の構造と同じである。
(B) Embodiment 2
(A) Structure of Thermal Head Here, another embodiment of the heat dissipation layer 13 will be described. In the case of Embodiment 1, the slit 13B was formed in parallel with the heating element (resistor). However, the temperature distribution of the heat storage layer 15 is disturbed at the slit 13B, and there is a possibility that heat radiation unevenness is perceived through the recording result.
Therefore, in this embodiment, the slit 13B is formed obliquely with respect to the main scanning direction so as to cross a plurality of heating elements (resistors). The structure is the same as that of Embodiment 1 except for the inclination of the slit 13B to be formed.

図6に、絶縁基板11上に形成した放熱層13のパターン例を示す。図6の場合も、放熱層13は、主走査方向に等間隔で配置された5つのスリット13Bで分割された6つの放熱体13Aで形成される。
図7に、発熱体(抵抗体)と放熱層13に形成されたスリット13Bとの位置関係を示す。この場合、スリット13Bは、2つの発熱体(抵抗体)を斜めに横切るように形成される。なお、電極部分も含めると、スリット13Bは、4つの抵抗体膜17を斜めに横切るように形成される。
FIG. 6 shows a pattern example of the heat dissipation layer 13 formed on the insulating substrate 11. In the case of FIG. 6 as well, the heat dissipation layer 13 is formed of six heat dissipating bodies 13A divided by five slits 13B arranged at equal intervals in the main scanning direction.
FIG. 7 shows the positional relationship between the heating element (resistor) and the slit 13 </ b> B formed in the heat dissipation layer 13. In this case, the slit 13B is formed so as to cross two heating elements (resistors) diagonally. Including the electrode portion, the slit 13B is formed so as to cross the four resistor films 17 diagonally.

(b)印刷動作及び効果
この場合も、蓄熱層15に蓄えられた熱は、通電終了後、放熱層13を通じて絶縁基板11へと拡散される。この際、放熱層13の幅L2は発熱体の幅(抵抗体長)L1よりも広いため、蓄熱層15の熱は広範囲に速やかに拡散される。
この場合も、スリット13Bの部分で蓄熱層15の温度分布に乱れが生じる可能性がある。ただし、この場合は、放熱ムラの影響が少なくとも2つの放熱体(抵抗体)に分散される。従って、特定ドットの階調が周辺ドットの階調に対して目立つ現象を有効に回避できる。
(B) Printing operation and effect In this case as well, the heat stored in the heat storage layer 15 is diffused to the insulating substrate 11 through the heat dissipation layer 13 after the end of energization. At this time, since the width L2 of the heat dissipation layer 13 is wider than the width (resistor length) L1 of the heating element, the heat of the heat storage layer 15 is quickly diffused over a wide range.
Also in this case, the temperature distribution of the heat storage layer 15 may be disturbed at the slit 13B. However, in this case, the influence of heat radiation unevenness is dispersed in at least two heat radiators (resistors). Therefore, it is possible to effectively avoid a phenomenon in which the gradation of the specific dot is conspicuous with respect to the gradation of the peripheral dots.

(C)他の形態例
(a)前述の形態例1では、スリット13Bを発熱体(抵抗体)と発熱体の隙間に位置するように配置した。しかし、図8に示すように、スリット13Bは発熱体(抵抗体)の配置位置と重なるように配置しても良い。因みに、図8の場合、スリット13Bは、発熱体(抵抗体)をほぼ2分する位置に配置されている。
(b)前述の形態例2では、2つの発熱体(抵抗体)を横切るようにスリット13Bを斜めに形成した。しかし、スリット13Bが横切る発熱体(抵抗体)の数は2つに限らず、3つ以上でも良い。
(C) Other Embodiments (a) In Embodiment 1 described above, the slit 13B is disposed so as to be positioned in the gap between the heating element (resistor) and the heating element. However, as shown in FIG. 8, the slit 13 </ b> B may be arranged so as to overlap with the arrangement position of the heating element (resistor). Incidentally, in the case of FIG. 8, the slit 13 </ b> B is disposed at a position that substantially bisects the heating element (resistor).
(B) In the above-described second embodiment, the slit 13B is formed obliquely so as to cross the two heating elements (resistors). However, the number of heating elements (resistors) traversed by the slit 13B is not limited to two, and may be three or more.

(c)前述の形態例では、放熱層13の幅L2を蓄熱層15の幅L1よりも広く形成したが、好ましくはL2をL1の1.5〜2程度とするのが望ましい。
(d)前述の形態例では、1つの放熱層13に対して5つのスリットを形成する場合について説明した。しかし、スリットの数は、サーマルヘッド長、材料、膜厚その他の構造上の条件に応じて1つ以上あれば良い。
(e)前述の形態例では、スリット13Bを等間隔で配置する場合について説明した。しかし、熱膨張による応力の吸収が可能な範囲であれば、スリット13Bの配置間隔を等間隔に限る必要はない。
(f)前述の形態例には、発明の趣旨の範囲内で様々な変形例が考えられる。また、本明細書の記載に基づいて創作される各種の変形例及び応用例も考えられる。
(C) In the above-described embodiment, the width L2 of the heat radiation layer 13 is formed wider than the width L1 of the heat storage layer 15, but it is preferable that L2 is about 1.5 to 2 of L1.
(D) In the above-described embodiment, the case where five slits are formed for one heat radiation layer 13 has been described. However, the number of slits may be one or more depending on the thermal head length, material, film thickness, and other structural conditions.
(E) In the above-described embodiment, the case where the slits 13B are arranged at equal intervals has been described. However, as long as stress can be absorbed by thermal expansion, it is not necessary to limit the arrangement interval of the slits 13B to an equal interval.
(F) Various modifications can be considered for the above-described embodiments within the scope of the gist of the invention. Various modifications and application examples created based on the description of the present specification are also conceivable.

サーマルヘッドのヘッド面を示す図である。It is a figure which shows the head surface of a thermal head. サーマルヘッドの部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of a thermal head. 絶縁基板上に形成した放熱層のパターン例を示す図である。It is a figure which shows the example of a pattern of the thermal radiation layer formed on the insulating substrate. スリットと発熱体の位置関係を示す図である。It is a figure which shows the positional relationship of a slit and a heat generating body. 発熱体の部分拡大図である。It is the elements on larger scale of a heat generating body. 絶縁基板上に形成した放熱層の他のパターン例を示す図である。It is a figure which shows the other example of a pattern of the thermal radiation layer formed on the insulating substrate. スリットと発熱体の他の位置関係を示す図である。It is a figure which shows the other positional relationship of a slit and a heat generating body. スリットと発熱体の他の位置関係を示す図である。It is a figure which shows the other positional relationship of a slit and a heat generating body.

符号の説明Explanation of symbols

1 サーマルヘッド
11 絶縁基板
13 放熱層
13A 放熱体
13B スリット
15 蓄熱層
17 抵抗体膜
19 配線電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Thermal head 11 Insulating board 13 Heat radiation layer 13A Heat radiator 13B Slit 15 Heat storage layer 17 Resistor film 19 Wiring electrode

Claims (5)

絶縁基板と、前記絶縁基板上に形成された金属膜からなる放熱層と、前記放熱層を被覆する蓄熱層と、前記蓄熱層上に形成され、主走査方向に規定のドットピッチで配列された複数個の発熱抵抗体と、各発熱抵抗体と電気的に接続される配線電極群とを有するサーマルヘッドにおいて、
前記放熱層は、主走査方向の少なくとも1カ所に形成されたスリットにより複数の放熱体に分断されている
ことを特徴とするサーマルヘッド。
An insulating substrate, a heat dissipation layer made of a metal film formed on the insulating substrate, a heat storage layer covering the heat dissipation layer, and formed on the heat storage layer and arranged at a prescribed dot pitch in the main scanning direction In a thermal head having a plurality of heating resistors and a group of wiring electrodes electrically connected to each heating resistor,
The thermal head is divided into a plurality of radiators by a slit formed in at least one place in the main scanning direction.
請求項1に記載のサーマルヘッドにおいて、
前記放熱層の幅L2を、各発熱抵抗体の抵抗体長L1よりも幅広に形成した
ことを特徴とするサーマルヘッド。
The thermal head according to claim 1,
A thermal head characterized in that a width L2 of the heat dissipation layer is formed wider than a resistor length L1 of each heating resistor.
請求項1に記載のサーマルヘッドにおいて、
前記スリットは、個々の放熱体が線熱膨張による応力を吸収できる範囲で配置する
ことを特徴とするサーマルヘッド。
The thermal head according to claim 1,
The slit is disposed within a range in which each heat radiator can absorb stress due to linear thermal expansion.
請求項1に記載のサーマルヘッドにおいて、
前記スリットは、発熱抵抗体と発熱抵抗体の間に配置する
ことを特徴とするサーマルヘッド。
The thermal head according to claim 1,
The thermal head is characterized in that the slit is disposed between the heating resistor and the heating resistor.
請求項1に記載のサーマルヘッドにおいて、
前記スリットは、複数の発熱抵抗体を横切るように主走査方向に対して斜めに形成される
ことを特徴とするサーマルヘッド。
The thermal head according to claim 1,
The thermal head is characterized in that the slit is formed obliquely with respect to the main scanning direction so as to cross a plurality of heating resistors.
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