JP2006140205A - Electromagnetic wave shielding material, its manufacturing method and display film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電磁波遮蔽材およびその製造方法、ならびに該電磁波遮蔽材を備えたディスプレイ用フィルムに関する。 The present invention relates to an electromagnetic wave shielding material, a method for producing the same, and a display film provided with the electromagnetic wave shielding material.
電磁波遮蔽材は様々な分野で用いられているが、最近ではプラズマディスプレイなどの画面上に設ける用途が増えている。ディスプレイの画面上に設ける場合には、電磁波遮蔽性能だけでなく、良好な視認性を有することが重要である。 Electromagnetic wave shielding materials are used in various fields, but recently, there are increasing applications for providing them on a screen such as a plasma display. When providing on the screen of a display, it is important to have not only electromagnetic shielding performance but also good visibility.
従来のディスプレイ用電磁波遮蔽材として、例えば、基材上に接着層を介して銅箔などの金属箔を貼り合わせた後、ケミカルエッチング法などにより金属箔に開口部を形成してメッシュ状に加工する方法が知られている（例えば、下記特許文献１）。前記金属箔は、コントラスト向上のために、予め表面が黒化処理されたものが好ましく用いられる。 As a conventional electromagnetic shielding material for displays, for example, after bonding a metal foil such as copper foil on a base material via an adhesive layer, an opening is formed in the metal foil by a chemical etching method or the like and processed into a mesh shape The method of doing is known (for example, the following patent document 1). As the metal foil, a metal foil whose surface is previously blackened is preferably used in order to improve contrast.
しかしながら、黒化処理後の金属箔表面は粗面化されているため、接着層上に金属箔を積層した際に、金属箔表面の凹凸が接着層に転写される。したがって、金属箔をメッシュ状に加工した後の開口部内には、かかる凹凸が転写された接着層が露出することになる。このため開口部内を光が透過する際に散乱が生じ易く、その結果、開口部内でぎらつきが生じ、視認性の劣化を招くという不都合がある。 However, since the surface of the metal foil after the blackening treatment is roughened, when the metal foil is laminated on the adhesive layer, the irregularities on the surface of the metal foil are transferred to the adhesive layer. Therefore, the adhesive layer to which the unevenness is transferred is exposed in the opening after the metal foil is processed into a mesh shape. For this reason, scattering is likely to occur when light is transmitted through the opening, resulting in inconvenience that glare occurs in the opening and deteriorates visibility.
一方、基材上に接着層を介さずに金属層を形成し、該金属層をメッシュ状に加工する方法も提案されている（例えば下記特許文献２）。
具体的には、基材上に銅薄膜を蒸着法またはスパッタリングにより形成し、この銅薄膜上にめっき法により銅からなる層を形成する方法によれば、接着層を用いずに基材上に銅層を設けることができるので、上記のような接着層表面の凹凸による視認性の劣化は防止される。
Specifically, according to the method of forming a copper thin film on a base material by vapor deposition or sputtering, and forming a layer made of copper on the copper thin film by plating, the adhesive layer is not used on the base material. Since a copper layer can be provided, deterioration of visibility due to the unevenness on the surface of the adhesive layer as described above is prevented.
上記のように基材上に接着層を介さずに銅層を形成した場合は、基材上に接着層を介して黒化処理された金属箔を設けた場合に比べて、コントラストが劣るという不都合がある。
そこで、基材上に接着層を介さずに設けられた銅層をメッシュ状に加工した後に黒化処理を行えば、基材に対して銅層側を視認側とするコントラストを向上させることはできるが、銅層の基材側の面は基材に密着していて黒化処理されないので、基材側を視認側とするコントラストが向上されず、視認性に劣るという問題がある。
ところで、基材上にメッシュ状の金属層を備えた構成を有する電磁波遮蔽材をディスプレイの画面上に適用する場合、金属層に対して基材側を視認側とし、金属層が画面側となるように配した方が、視認側に反射防止等の機能層を積層する際に基材の平滑性を活かして積層できるという利点がある。
When the copper layer is formed on the base material without using the adhesive layer as described above, the contrast is inferior compared with the case where the metal foil blackened through the adhesive layer is provided on the base material. There is an inconvenience.
Therefore, if the blackening treatment is performed after processing the copper layer provided on the substrate without an adhesive layer into a mesh shape, the contrast with the copper layer side as the viewing side can be improved with respect to the substrate. However, since the surface of the copper layer on the substrate side is in close contact with the substrate and is not blackened, there is a problem in that the contrast with the substrate side as the viewing side is not improved and the visibility is poor.
By the way, when an electromagnetic wave shielding material having a configuration including a mesh-like metal layer on a base material is applied on a display screen, the base material side is the viewing side with respect to the metal layer, and the metal layer is the screen side. Thus, there exists an advantage that it can laminate | stack utilizing the smoothness of a base material, when laminating | stacking functional layers, such as reflection prevention, on the visual recognition side.
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、基材上にメッシュ状の金属層を備えた電磁波遮蔽材において、金属層に対して基材側を視認側としたときの視認性が良好な電磁波遮蔽材、およびその製造方法、ならびに該電磁波遮蔽材を備えたディスプレイ用フィルムを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and in an electromagnetic wave shielding material provided with a mesh-like metal layer on a base material, the visibility when the base material side is the viewing side with respect to the metal layer. An object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding material having a good quality, a method for producing the same, and a display film provided with the electromagnetic wave shielding material.
上記の目的を達成するために、本発明の電磁波遮蔽材は、基材と、該基材上に設けられたメッシュ層を備えてなり、前記メッシュ層は、前記基材側から順に黒褐色無機層および金属層が積層された積層体からなることを特徴とする。
また本発明は、基材上に黒褐色無機層を形成する工程と、該黒褐色無機層上に金属層を形成する工程と、エッチング法により前記黒褐色無機層および金属層をメッシュ状に加工する工程を有することを特徴とする電磁波遮蔽材の製造方法を提供する。
また本発明は、本発明の電磁波遮蔽材を備えたディスプレイ用フィルムを提供する。
In order to achieve the above object, the electromagnetic wave shielding material of the present invention comprises a base material and a mesh layer provided on the base material, and the mesh layer is a black-brown inorganic layer in order from the base material side. And a laminated body in which metal layers are laminated.
The present invention also includes a step of forming a black-brown inorganic layer on a substrate, a step of forming a metal layer on the black-brown inorganic layer, and a step of processing the black-brown inorganic layer and the metal layer into a mesh by an etching method. The manufacturing method of the electromagnetic wave shielding material characterized by having is provided.
Moreover, this invention provides the film for a display provided with the electromagnetic wave shielding material of this invention.
本発明の電磁波遮蔽材は、メッシュ層のうち、最も基材に近い部分が黒褐色無機層からなっているので、メッシュ層に対して基材側を視認側としたときのコントラストが良好で、優れた視認性が得られる。
本発明の電磁波遮蔽材の製造方法によれば、基材上に、メッシュ状の黒褐色無機層およびメッシュ状の金属層が順に積層されたメッシュ層が設けられており、メッシュ層に対して基材側を視認側としたときのコントラストが良好で、視認性に優れた電磁波遮蔽材が得られる。
本発明の電磁波遮蔽材はディスプレイ用フィルムに好適であり、基材側を視認側としたときのコントラストが良好で、視認性に優れたディスプレイ用フィルムが得られる。
The electromagnetic wave shielding material of the present invention has a good contrast when the base material side is the viewing side with respect to the mesh layer because the portion closest to the base material of the mesh layer is made of a black-brown inorganic layer. Visibility is obtained.
According to the method for producing an electromagnetic wave shielding material of the present invention, a mesh layer in which a mesh-like black-brown inorganic layer and a mesh-like metal layer are sequentially laminated is provided on a substrate. An electromagnetic wave shielding material with good contrast when the side is regarded as the viewing side and excellent visibility is obtained.
The electromagnetic wave shielding material of the present invention is suitable for a display film, and a display film having good contrast when the substrate side is regarded as a viewing side and having excellent visibility can be obtained.
＜電磁波遮蔽材＞
図１は、本発明の電磁波遮蔽材の一実施形態を模式的に示した断面図である。図中符号１は基材、２は黒褐色無機層、３は金属層、４はメッシュ層、５は機能層をそれぞれ示す。メッシュ層４はメッシュ状の黒褐色無機層２とメッシュ状の金属層３の積層体からなっている。図中符号４ａはメッシュ層の開口部をそれぞれ示す。
図２は、本実施形態におけるメッシュ層４およびメッシュ層４の開口部４ａの平面形状を示した図であり、前記図１は図２中のＩ−Ｉ線に沿う断面図に相当する。
<Electromagnetic wave shielding material>
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of the electromagnetic wave shielding material of the present invention. In the figure, reference numeral 1 is a base material, 2 is a black-brown inorganic layer, 3 is a metal layer, 4 is a mesh layer, and 5 is a functional layer. The
FIG. 2 is a view showing a planar shape of the
［基材］
基材１は透明な材料で構成される。視認性を妨げない範囲で着色していてもよい。基材１は可撓性を有することが好ましく、透明な樹脂フィルムまたは樹脂シートが好適に用いられる。基材１における可視光の透過率は８０％以上が好ましい。
基材１の材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡ（エチレン−酢酸ビニル共重合体）などのポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、セルロース系樹脂などの樹脂が挙げられる。中でもポリエチレンテレフタレートが好ましい。
基材１は単層で構成されていてもよく、多層構造であってもよい。
基材１の厚さは特に限定されないが、例えば１２〜３００μｍ程度が好ましく、５０〜２００μｍ程度がより好ましい。基材１の厚さが上記範囲の下限値以上であれは、良好な取り扱い性が得られ、上記範囲の上限値以下とすることにより良好な可視光透過率を確保することができる。
[Base material]
The substrate 1 is made of a transparent material. You may color in the range which does not prevent visibility. The substrate 1 preferably has flexibility, and a transparent resin film or resin sheet is preferably used. The visible light transmittance of the substrate 1 is preferably 80% or more.
Specific examples of the material of the substrate 1 include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate, polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, EVA (ethylene-vinyl acetate copolymer), polyvinyl chloride, Examples thereof include vinyl resins such as polyvinylidene chloride, resins such as polysulfone, polyethersulfone, polycarbonate, polyamide, polyimide, acrylic resin, and cellulose resin. Of these, polyethylene terephthalate is preferable.
The substrate 1 may be composed of a single layer or a multilayer structure.
Although the thickness of the base material 1 is not specifically limited, For example, about 12-300 micrometers is preferable and about 50-200 micrometers is more preferable. If the thickness of the base material 1 is not less than the lower limit of the above range, good handleability can be obtained, and good visible light transmittance can be ensured by setting the thickness to be not more than the upper limit of the above range.
［黒褐色無機層］
黒褐色無機層２は黒褐色の無機材料で構成される。ここでいう黒褐色は、Ｍａｃｂｅｔｈ印刷色用反射濃度計（ＲＤ９１８）により、付属の白色校正板を用いてゼロ校正して測定した時の値（以下、黒濃度という）が、０．６〜２．５の範囲であるものをいう。好ましくは該黒濃度の値が１．０〜２．０の範囲である。
黒褐色無機層２の材料の具体例としては、酸化銅、酸化銀、酸化ニッケル、酸化鉄、酸化アルミニウム等が挙げられる。特に、黒褐色無機層２の材料として導電性を有する材料を用いると、金属層３を電気めっき法で形成することができるので好ましい。導電性を有する黒褐色無機層２の材料としては、酸化銅、酸化銀、酸化ニッケル、酸化鉄、酸化アルミニウム等が挙げられる。中でも酸化銅が好ましい。
黒褐色無機層２の厚さは特に限定されないが、例えば０．００１〜１０μｍ程度が好ましく、０．１〜５μｍ程度がより好ましい。黒褐色無機層２の厚さを上記範囲の下限値以上とすることにより良好な電磁波遮蔽効果が得られ、上記範囲の上限値以下とすると生産性等の点で好ましい。
[Black brown inorganic layer]
The black-brown inorganic layer 2 is composed of a black-brown inorganic material. The black-brown color here is a value (hereinafter referred to as black density) measured by a Macbeth printing color reflection densitometer (RD918) with zero calibration using an attached white calibration plate (hereinafter referred to as black density). The one in the range of 5. The black density value is preferably in the range of 1.0 to 2.0.
Specific examples of the material of the black-brown inorganic layer 2 include copper oxide, silver oxide, nickel oxide, iron oxide, and aluminum oxide. In particular, it is preferable to use a conductive material as the material of the black-brown inorganic layer 2 because the metal layer 3 can be formed by electroplating. Examples of the material for the conductive black-brown inorganic layer 2 include copper oxide, silver oxide, nickel oxide, iron oxide, and aluminum oxide. Of these, copper oxide is preferable.
Although the thickness of the black brown inorganic layer 2 is not specifically limited, For example, about 0.001-10 micrometers is preferable and about 0.1-5 micrometers is more preferable. By setting the thickness of the black-brown inorganic layer 2 to be equal to or higher than the lower limit value of the above range, a favorable electromagnetic wave shielding effect can be obtained.
黒褐色無機層２には開口部が形成されてメッシュ状になっている。該開口部の平面形状や大きさは特に限定されず、良好な視認性が得られるように適宜設定することができる。
例えば開口部の平面形状としては、正多角形や、その他の多角形から選ばれる１種または２種以上が好ましく用いられる。本実施形態では図２に示すような正方形となっている。
黒褐色無機層２は、開口部の周囲のライン状の枠部に相当するが、この枠部（黒褐色無機層２）の幅は、好ましくは０．５〜２００μｍ程度、より好ましくは５〜１００μｍ程度とされる。枠部（黒褐色無機層２）の幅を上記範囲の下限値以上とすることにより十分な導電性が得られ、上記範囲の上限値以下とすると良好な視認性を得ることができる。
開口率は、特に制限されないが、好ましくは７０％以上、より好ましくは８５％以上である。これ以下であると視認性が低下する。
The black-brown inorganic layer 2 has an opening and has a mesh shape. The planar shape and size of the opening are not particularly limited, and can be set as appropriate so that good visibility can be obtained.
For example, as the planar shape of the opening, one or more kinds selected from regular polygons and other polygons are preferably used. In this embodiment, it is a square as shown in FIG.
The black brown inorganic layer 2 corresponds to a line-shaped frame around the opening, and the width of the frame (black brown inorganic layer 2) is preferably about 0.5 to 200 μm, more preferably about 5 to 100 μm. It is said. Sufficient conductivity can be obtained by setting the width of the frame (black-brown inorganic layer 2) to be equal to or greater than the lower limit of the above range, and good visibility can be obtained when the width is equal to or less than the upper limit of the above range.
The aperture ratio is not particularly limited, but is preferably 70% or more, more preferably 85% or more. Visibility falls that it is below this.
［金属層］
金属層３は、導電性を有する金属材料で構成される。具体例としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタン等が挙げられる。これらを２種以上組み合わせた合金でもよい。これらの中でも、銅、金、銀が好ましい。特に黒褐色無機層２に酸化銅を用いる場合、金属層３を銅で構成することが好ましい。
金属層３も開口部が形成されてメッシュ状になっている。該開口部の平面形状や大きさについては、前記黒褐色無機層２の開口部と同様である。黒褐色無機層２の開口部と金属層３の開口部の形状および大きさは互いに等しいことが好ましい。
金属層３の厚さは特に限定されないが、例えば１〜２０μｍ程度が好ましく、２〜１０μｍ程度がより好ましい。金属層３の厚さを上記範囲の下限値以上とすることにより良好な電磁波遮蔽効果が得られ、上記範囲の上限値以下とすることにより、開口部の形成加工がし易くなり、広い視野角を確保することができる。
[Metal layer]
The metal layer 3 is comprised with the metal material which has electroconductivity. Specific examples include copper, aluminum, nickel, iron, gold, silver, stainless steel, tungsten, chromium, titanium and the like. An alloy in which two or more of these are combined may be used. Among these, copper, gold, and silver are preferable. In particular, when copper oxide is used for the black-brown inorganic layer 2, the metal layer 3 is preferably composed of copper.
The metal layer 3 is also meshed with openings. The planar shape and size of the opening are the same as those of the black-brown inorganic layer 2. It is preferable that the shape and size of the opening of the black-brown inorganic layer 2 and the opening of the metal layer 3 are equal to each other.
Although the thickness of the metal layer 3 is not specifically limited, For example, about 1-20 micrometers is preferable and about 2-10 micrometers is more preferable. By setting the thickness of the metal layer 3 to be equal to or greater than the lower limit value of the above range, a favorable electromagnetic wave shielding effect can be obtained. Can be secured.
金属層３の表面、すなわち金属層３の上面３ｂ（黒褐色無機層２と密着している面に対向する面）および／または金属層３の開口部の内壁面に黒化処理が施されていることが好ましい。
金属層３の開口部の内壁面に黒化処理が施されていると、これによりメッシュ層４に対して基材１側を視認側とするときのコントラストが向上する。
金属層３の上面３ｂ、すなわちメッシュ層４の上面に黒化処理が施されていると、これにより基材１に対してメッシュ層４側を視認側とするときのコントラストが向上する。
金属層３の上面３ｂおよび金属層３の開口部の内壁面の両方に黒化処理が施されていると、メッシュ層４側を視認側とするときのコントラストがより向上する。
The surface of the metal layer 3, that is, the
When the blackening process is performed on the inner wall surface of the opening of the metal layer 3, the contrast when the base material 1 side is the viewing side with respect to the
If the
When both the
［機能層］
基材１、およびメッシュ層４（黒褐色無機層２および金属層３）の他に、必要に応じて各種の機能を付与するための機能層５を任意に設けてもよい。
例えば、基材１上に、メッシュ層４が設けられた状態では、基材１に対してメッシュ層４が設けられている側の表面が平坦でないので、光透過性の材料からなる平坦化層（機能層５）を設けることが好ましい。
該メッシュ層４が設けられている側の表面上に、さらに他のフィルムやシートを積層する場合は光透過性材料からなる接着層（機能層５）を設けることが好ましい。
あるいは、赤外吸収機能を有する層、紫外線吸収機能を有する層、反射防止機能を有する層、特定波長の光を選択的に吸収して色調を補正する機能を有する層、防汚機能を有する層、耐擦傷機能を有する層など、ディスプレイ用フィルムを構成する層として知られている各種の機能を有する層（機能層５）を、本発明の効果を損なわない範囲で適宜設けることができる。機能層５は一層でもよく複数層が積層されていてもよい。また一層で複数の機能を兼ね備えた層を含んでもよい。
また図示していないが、基材１のメッシュ層４側とは反対側に、上記の機能層を設けてもよく、基材１の表裏両側に機能層を設けてもよい。
基材１に密着して設けられる機能層５は、基材１と屈折率が略等しい材料を用いて形成することが好ましい。
[Functional layer]
In addition to the base material 1 and the mesh layer 4 (black-brown inorganic layer 2 and metal layer 3), a functional layer 5 for imparting various functions may be optionally provided as necessary.
For example, in the state where the
When another film or sheet is further laminated on the surface on which the
Alternatively, a layer having an infrared absorption function, a layer having an ultraviolet absorption function, a layer having an antireflection function, a layer having a function of selectively absorbing light of a specific wavelength and correcting a color tone, and a layer having an antifouling function A layer having various functions (functional layer 5) known as a layer constituting a display film, such as a layer having a scratch resistance function, can be appropriately provided as long as the effects of the present invention are not impaired. The functional layer 5 may be a single layer or a plurality of layers may be laminated. Further, a single layer having a plurality of functions may be included.
Moreover, although not shown in figure, the said functional layer may be provided in the opposite side to the
The functional layer 5 provided in close contact with the substrate 1 is preferably formed using a material having a refractive index substantially equal to that of the substrate 1.
＜製造方法＞
本実施形態の電磁波遮蔽材は、好ましくは以下の方法で製造される。
まず、基材１上の全面に黒褐色無機層２を形成する。その形成方法は基材１上に黒褐色無機層２を密着させて形成できる方法であればよく、特に限定されないが、例えば蒸着法、化学反応蒸着法（ＣＶＤ法）、イオンプレーティング、またはスパッタリング法が好適である。２以上の方法を組み合わせることもできる。中でも、反応性スパッタリング法がより好ましい。
続いて、黒褐色無機層２の全面上に金属層３を形成する。その形成方法は黒褐色無機層２上に所望の膜厚の金属層３を密着させて形成できる方法であればよく、特に限定されないが、例えばメッキ法、蒸着法、化学反応蒸着法（ＣＶＤ法）、またはスパッタリング法が好適である。２以上の方法を組み合わせることもできる。中でもメッキ法は、金属層３の厚膜化が容易にできるのでより好ましい。
<Manufacturing method>
The electromagnetic wave shielding material of the present embodiment is preferably produced by the following method.
First, the black brown inorganic layer 2 is formed on the entire surface of the substrate 1. The formation method is not particularly limited as long as it can be formed by adhering the black-brown inorganic layer 2 on the substrate 1, and for example, vapor deposition, chemical reaction vapor deposition (CVD), ion plating, or sputtering Is preferred. Two or more methods can be combined. Among these, the reactive sputtering method is more preferable.
Subsequently, the metal layer 3 is formed on the entire surface of the black-brown inorganic layer 2. The formation method is not particularly limited as long as the metal layer 3 having a desired film thickness can be formed on the black-brown inorganic layer 2 and is not particularly limited. For example, plating, vapor deposition, chemical reaction vapor deposition (CVD) Or a sputtering method is suitable. Two or more methods can be combined. Among these, the plating method is more preferable because the metal layer 3 can be easily thickened.
次いで、フォトリソグラフ法を用い、黒褐色無機層２および金属層３に対してエッチング処理を施してこれらの一部を除去することにより、黒褐色無機層２および金属層３をメッシュ状に加工する。すなわち黒褐色無機層２の開口部および金属層３の開口部を形成してメッシュ層４を形成する。好ましくは黒褐色無機層２および金属層３に対して一括的にエッチング処理を施して、黒褐色無機層２の開口部および金属層３の開口部を同時に形成する。
Next, the black-brown inorganic layer 2 and the metal layer 3 are processed into a mesh shape by performing an etching process on the black-brown inorganic layer 2 and the metal layer 3 using a photolithographic method to remove a part of these. That is, the
この後、金属層３に黒化処理を施すことが好ましい。
金属層３の黒化処理方法は特に制限されず、既知の手法を適宜用いることができる。例えば、酸化処理による方法を用いることができる。具体的には、金属層３を、酸化剤を含有する処理液に接触させることにより酸化処理する方法を用いることができる。この場合の酸化剤の例としては亜塩素酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、リン酸三ナトリウムから選ばれる１種以上を含有する水溶液等が挙げられる。
このように、黒褐色無機層２および金属層３をメッシュ状に加工した後に黒化処理を施すことにより、金属層３の露出している表面、すなわち金属層３の上面３ｂおよび開口部の内壁面を同時に黒化処理することができる。このとき、黒褐色無機層２の露出している表面、すなわち黒褐色無機層２の開口部の内壁面はすでに黒褐色であるので、さらに黒化処理する必要はないが、該黒褐色無機層２の表面が金属層３と同時に黒化処理されても差し支えない。
こうして基材１上にメッシュ層４が形成され、黒化処理が施された積層体は、このまま電磁波遮蔽材として用いることもできるが、メッシュ層４上に適宜の機能層５を設けたものを電磁波遮蔽材として用いることが好ましい。
Thereafter, the metal layer 3 is preferably blackened.
The blackening treatment method for the metal layer 3 is not particularly limited, and a known method can be appropriately used. For example, a method by oxidation treatment can be used. Specifically, a method of oxidizing the metal layer 3 by bringing it into contact with a processing solution containing an oxidizing agent can be used. Examples of the oxidizing agent in this case include an aqueous solution containing one or more selected from sodium chlorite, sodium hydroxide, and trisodium phosphate.
In this way, the black-brown inorganic layer 2 and the metal layer 3 are processed into a mesh shape and then subjected to blackening treatment, whereby the exposed surface of the metal layer 3, that is, the
Thus, the laminated body in which the
尚、黒化処理は、金属層３を形成した後、黒褐色無機層２および金属層３をメッシュ状に加工する前に行うこともできる。この場合は、黒化処理後に、黒褐色無機層２および金属層３がメッシュ状に加工されるので、金属層３の上面３ｂのみが黒化処理され、金属層３の開口部の内壁面は黒化されていない状態となる。視認性の点からは金属層３の開口部の内壁面が黒化処理されている方が好ましいので、必要であれば、さらに金属層３の開口部の内壁面を黒化処理してもよい。
The blackening treatment can be performed after forming the metal layer 3 and before processing the black brown inorganic layer 2 and the metal layer 3 into a mesh shape. In this case, since the black brown inorganic layer 2 and the metal layer 3 are processed into a mesh shape after the blackening treatment, only the
＜ディスプレイ用フィルム＞
本実施形態の電磁波遮蔽材は、該電磁波遮蔽材単独で、またはその他の必要に応じた部材が付加されて、ディスプレイ用フィルムを構成することができる。ディスプレイ用フィルムは、例えばプラズマディスプレイなどの画面上に接着一体化して使用される。
ディスプレイ用フィルムとして用いられる場合、画面側の最外層は接着機能を有する層であることが好ましい。また基材１に対してメッシュ層４が設けられている側を表面とすると、表面が画面側で裏面が視認側でもよく、その反対に表面が視認側で裏面が画面側であってもよい。特に、表面（メッシュ層４側）が画面側で、裏面（基材１側）が視認側となるように配した場合に、画面から発生する電磁波をより低減させることができるので好ましい。
<Display film>
The electromagnetic wave shielding material of the present embodiment can constitute a display film by using the electromagnetic wave shielding material alone or by adding other necessary members. The display film is used by being bonded and integrated on a screen such as a plasma display.
When used as a display film, the outermost layer on the screen side is preferably a layer having an adhesive function. If the side on which the
本実施形態によれば、メッシュ層４のうち、最も基材１に近い部分が黒褐色無機層２からなっているので、これによりメッシュ層４に対して基材１側を視認側としたときのコントラストが向上し、良好な視認性が得られる。メッシュ層４に対して基材１側が視認側となるように配すると、基材１側が画面側である場合よりも、画面から発生する電磁波を低減させる効果が高いという利点も得られる。
また、メッシュ層４は、接着層を介さずに基材１上に直接形成されているので、従来のメッシュ層の開口部内において接着層の粗面が露出している構成に比べて、メッシュ層４の開口部４ａにおける光透過性が高く、視認性が良い。
また、黒化処理を行わない状態でも、基材１側を視認側としたときの良好な視認性が得られるので、黒化処理を省略して生産性を向上させることができる。
さらに、金属層３の表面に黒化処理を施して開口部の内壁面を黒化すると、基材１側を視認側としたときのコントラストがより向上し、さらに良好な視認性が得られる。またメッシュ層４の上面（金属層３の上面３ｂ）も黒化した場合には、メッシュ層４側を視認側としたときのコントラストが向上し、良好な視認性が得られる。
According to the present embodiment, the portion of the
Further, since the
Further, even when the blackening treatment is not performed, good visibility is obtained when the base material 1 side is set as the viewing side, so that the blackening treatment can be omitted and the productivity can be improved.
Furthermore, when the surface of the metal layer 3 is blackened to blacken the inner wall surface of the opening, the contrast when the base material 1 side is set as the viewing side is further improved, and better visibility is obtained. Further, when the upper surface of the mesh layer 4 (
以下、本発明の実施例について具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
（実施例１）
厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムからなる基材１の一面上に、反応性スパッタリング法により酸化銅からなる黒褐色無機層２を形成した後、スパッタリング法により銅からなる金属層３を形成した。
具体的には、まず、スパッタリング装置の真空チャンバー内に基材１（ＰＥＴフィルム）を配置した。真空チャンバー内において、基材１に対向して銅からなる放電電極が設けられている。この放電電極（銅）はスパッタリングターゲットとしても機能する。
次いで、真空チャンバー内を１×１０−３Ｐａ以下まで排気した後、放電用およびスパッタ用ガスとしてのアルゴンガスを１００ｓｃｃｍの流量で導入し、圧力を０．３Ｐａにした。さらに反応ガスとしての酸素を１０ｓｃｃｍの流量で導入した後、高周波（１３．５６ＭＨｚ）を放電電極（スパッタリングターゲット）に印加して放電を発生させることにより、基材１上に厚さ約０．１μｍの酸化銅層（黒褐色無機層２）を形成した。この酸化銅層（黒褐色無機層２）の黒濃度の値は１．５であった。
この後、酸素の導入を止め、引き続き放電を行うことにより、前記で形成した酸化銅層（黒褐色無機層２）上に銅からなる金属層３を形成した。金属層３の厚さは、黒褐色無機層２と金属層３の膜厚の合計が５μｍとなるようにした。
Examples of the present invention will be specifically described below, but the present invention is not limited thereto.
Example 1
A black brown inorganic layer 2 made of copper oxide was formed by reactive sputtering on one surface of a substrate 1 made of a PET film having a thickness of 100 μm, and then a metal layer 3 made of copper was formed by sputtering.
Specifically, first, the substrate 1 (PET film) was placed in a vacuum chamber of a sputtering apparatus. In the vacuum chamber, a discharge electrode made of copper is provided facing the base material 1. This discharge electrode (copper) also functions as a sputtering target.
Next, after evacuating the vacuum chamber to 1 × 10 −3 Pa or less, argon gas as a discharge and sputtering gas was introduced at a flow rate of 100 sccm, and the pressure was set to 0.3 Pa. Further, after introducing oxygen as a reaction gas at a flow rate of 10 sccm, a high frequency (13.56 MHz) is applied to the discharge electrode (sputtering target) to generate a discharge, whereby a thickness of about 0.1 μm is formed on the substrate 1. The copper oxide layer (black brown inorganic layer 2) was formed. The value of black density of this copper oxide layer (black brown inorganic layer 2) was 1.5.
Thereafter, the introduction of oxygen was stopped and the discharge was continued to form a metal layer 3 made of copper on the copper oxide layer (black brown inorganic layer 2) formed above. The thickness of the metal layer 3 was set so that the total thickness of the black-brown inorganic layer 2 and the metal layer 3 was 5 μm.
次いで、金属層３の上面全面にドライレジストフィルムを貼り合わせることによりレジスト層を形成し、このレジスト層に対してマスクを介して露光した。露光量は１５０ｍＪ／ｃｍ２とした。露光後、濃度が１質量％のＮａ２ＣＯ３溶液からなる現像液で現像を行い、乾燥させることにより、金属層３上にレジストパターンを形成した。
次いで、該レジストパターンをマスクとして、金属層３および黒褐色無機層２を一括的にエッチング処理することにより、黒褐色無機層２の開口部および金属層３の開口部を同時に形成し、メッシュ層４を形成した。
上記エッチング処理では、具体的には、塩化第二鉄溶液（比重；１．５２、温度；４０℃、浸漬時間；約２分間）を用いてシャワーエッチングを行った後、水洗した。この後、濃度が１ｍｏｌ／リットルのＮａＯＨ溶液でレジストパターンを除去して、水洗、乾燥を行った。
Next, a dry resist film was bonded to the entire upper surface of the metal layer 3 to form a resist layer, and the resist layer was exposed through a mask. The exposure amount was 150 mJ / cm 2 . After the exposure, the resist pattern was formed on the metal layer 3 by developing with a developer composed of a Na 2 CO 3 solution having a concentration of 1% by mass and drying.
Next, the metal layer 3 and the black-brown inorganic layer 2 are collectively etched using the resist pattern as a mask, thereby forming the openings of the black-brown inorganic layer 2 and the openings of the metal layer 3 at the same time. Formed.
Specifically, in the above etching treatment, shower etching was performed using a ferric chloride solution (specific gravity: 1.52, temperature: 40 ° C., immersion time: about 2 minutes), and then washed with water. Thereafter, the resist pattern was removed with an NaOH solution having a concentration of 1 mol / liter, washed with water and dried.
この後、基材１上にメッシュ層４が形成された積層物全体を、酸化剤含有処理液に浸漬させることにより金属層３の表面を黒化処理した。
上記酸化剤含有処理液としては、亜塩素酸ナトリウム３０ｇ、水酸化ナトリウム１５ｇ、リン酸三ナトリウム１０ｇを１リットルの水に溶解した混合溶液を用いた。
次いで、メッシュ層４上に、下記組成の塗布液を塗布した後、乾燥させることにより機能層５を形成して、電磁波遮蔽材を得た。
塗布液の組成；熱可塑性ポリエステル樹脂（東洋紡績（株）製、商品名；バイロン２００）を１００質量部、近赤外線吸収色素としてフタロシアニンを１．０質量部、色調補正剤を０．５質量部、溶剤としてトルエンを１００質量部含有する混合溶液。
Thereafter, the entire laminate in which the
As the oxidizing agent-containing treatment liquid, a mixed solution in which 30 g of sodium chlorite, 15 g of sodium hydroxide, and 10 g of trisodium phosphate were dissolved in 1 liter of water was used.
Next, a coating liquid having the following composition was applied on the
Composition of coating solution: 100 parts by mass of thermoplastic polyester resin (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: Byron 200), 1.0 part by mass of phthalocyanine as a near-infrared absorbing dye, and 0.5 parts by mass of color correction agent A mixed solution containing 100 parts by mass of toluene as a solvent.
（実施例２）
実施例１においては金属層３をスパッタリング法で形成したが、本実施例ではこれをメッキ法に変更して電磁波遮蔽材を製造した。
すなわち、実施例１と同様の基材１上に、実施例１と同様にして反応性スパッタリング法により厚さ約０．１μｍの酸化銅からなる黒褐色無機層２を形成した。
次いで、硫酸銅溶液を用いた電気メッキ法により、該黒褐色無機層２上に銅からなる金属層３を形成した。金属層３の厚さは、黒褐色無機層２と金属層３の膜厚の合計が５μｍとなるようにした。
次いで、実施例１と同様にして黒褐色無機層２と金属層３をエッチング処理してメッシュ層４を形成した後、金属層３の表面を黒化処理し、さらにメッシュ層４上に機能層５を形成して電磁波遮蔽材を得た。
(Example 2)
In Example 1, the metal layer 3 was formed by a sputtering method, but in this example, this was changed to a plating method to produce an electromagnetic wave shielding material.
That is, a black brown inorganic layer 2 made of copper oxide having a thickness of about 0.1 μm was formed on the same substrate 1 as in Example 1 by reactive sputtering as in Example 1.
Next, a metal layer 3 made of copper was formed on the black-brown inorganic layer 2 by electroplating using a copper sulfate solution. The thickness of the metal layer 3 was set so that the total thickness of the black-brown inorganic layer 2 and the metal layer 3 was 5 μm.
Next, the black brown inorganic layer 2 and the metal layer 3 were etched to form the
（比較例１）
実施例１において、黒褐色無機層２を設けず、基材１上に厚さ５μｍの銅からなる金属層３を形成した他は同様にして電磁波遮蔽材を製造した。
すなわち、実施例１におけるスパッタリング法において、酸素を供給せずに放電を行うことによって、基材１上に直接、銅からなる金属層３を形成した。この後、実施例１と同様にして該金属層３をメッシュ状に加工し、黒化処理し、その上に機能層５を形成した。
(Comparative Example 1)
In Example 1, an electromagnetic wave shielding material was produced in the same manner except that the black-brown inorganic layer 2 was not provided and the metal layer 3 made of copper having a thickness of 5 μm was formed on the substrate 1.
That is, in the sputtering method in Example 1, the metal layer 3 made of copper was directly formed on the base material 1 by performing discharge without supplying oxygen. Thereafter, in the same manner as in Example 1, the metal layer 3 was processed into a mesh shape, blackened, and the functional layer 5 was formed thereon.
（比較例２）
実施例２において、黒褐色無機層２に代えて、基材１上に厚さ約０．１μｍの銅からなる金属層３を用いた他は同様にして電磁波遮蔽材を製造した。
すなわち、実施例２では、まず基材１上に反応性スパッタリング法により黒褐色無機層２を形成したが、本実施例では、この際に酸素を供給せずにスパッタリングを行うことによって、基材１上に直接、銅からなる厚さ約０．１μｍの金属層３を形成した。
この後、実施例２と同様にしてメッキ法により金属層３を形成することにより、基材１上に、直接厚さ５μｍの金属層３が形成された積層物を得た。さらに実施例２と同様にして該金属層３をメッシュ状に加工し、黒化処理した後、その上に機能層５を形成した。
(Comparative Example 2)
In Example 2, an electromagnetic wave shielding material was produced in the same manner except that the metal layer 3 made of copper having a thickness of about 0.1 μm was used on the substrate 1 instead of the black-brown inorganic layer 2.
That is, in Example 2, the black-brown inorganic layer 2 was first formed on the base material 1 by the reactive sputtering method. In this example, by performing sputtering without supplying oxygen at this time, the base material 1 A metal layer 3 made of copper and having a thickness of about 0.1 μm was directly formed thereon.
Thereafter, a metal layer 3 was formed by plating in the same manner as in Example 2 to obtain a laminate in which the metal layer 3 having a thickness of 5 μm was directly formed on the substrate 1. Further, the metal layer 3 was processed into a mesh shape and blackened in the same manner as in Example 2, and then the functional layer 5 was formed thereon.
（比較例３）
比較例２において、金属層３の黒化処理を行わない他は同様にして電磁波遮蔽材を製造した。
(Comparative Example 3)
In Comparative Example 2, an electromagnetic wave shielding material was produced in the same manner except that the blackening treatment of the metal layer 3 was not performed.
（評価）
上記実施例および比較例で得られた電磁波遮蔽材について、
（１）メッシュ層に対して、基材側を視認側としたときのコントラストおよび視認性、
（２）基材に対して、メッシュ層側を視認側としたときのコントラストおよび視認性を評価した。
その場合のコントラスト評価は、実際に白色にしたディスプレイ表面に貼った場合と、黒色ディスプレイ面に貼った場合のコントラスト差を目視にて評価し、コントラストが高い（ハッキリ）している場合を○、コントラストが低い場合を×とした。
また、視認性については、電磁波遮蔽材の基材側をアクリル板に貼り、この積層体のアクリル板側を０．５ｍ離れた場所から目視して、黒褐色無機層２あるいは金属層３で形成されているメッシュ形状が認識できないものを○（良）、認識できるもの×（不良）として評価した。
これらの評価結果を下記表１に示す。
(Evaluation)
About the electromagnetic wave shielding materials obtained in the above examples and comparative examples,
(1) Contrast and visibility when the base material side is the viewing side with respect to the mesh layer,
(2) Contrast and visibility when the mesh layer side was the viewing side were evaluated with respect to the base material.
In that case, the contrast evaluation is visually evaluated for the difference in contrast when pasted on the white display surface and when pasted on the black display surface, and when the contrast is high (clear), When the contrast was low, it was set as x.
For visibility, the substrate side of the electromagnetic wave shielding material is attached to an acrylic plate, and the acrylic plate side of this laminate is visually observed from a place 0.5 m away, and is formed of a black brown inorganic layer 2 or a metal layer 3. The mesh shape that cannot be recognized was evaluated as ○ (good), and the one that can be recognized × (bad).
These evaluation results are shown in Table 1 below.
１…基材、２…黒褐色無機層、３…金属層、４…メッシュ層、
４ａ…メッシュ層の開口部。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base material, 2 ... Black brown inorganic layer, 3 ... Metal layer, 4 ... Mesh layer,
4a: Opening of mesh layer.
Claims (9)
前記メッシュ層は、前記基材側から順に黒褐色無機層および金属層が積層された積層体からなることを特徴とする電磁波遮蔽材。 A substrate and a mesh layer provided on the substrate;
The said mesh layer consists of a laminated body by which the black brown inorganic layer and the metal layer were laminated | stacked in an order from the said base material side, The electromagnetic wave shielding material characterized by the above-mentioned.
The film for a display provided with the electromagnetic wave shielding material as described in any one of Claims 1-4.
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Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012216850A (en) * | 2012-06-04 | 2012-11-08 | Dainippon Printing Co Ltd | Electromagnetic wave shielding filter, multifunctional filter, and image display apparatus |
| US8536589B2 (en) | 2009-12-22 | 2013-09-17 | Panasonic Corporation | Display device for controlling an organic light emitting layer thickness |
| US8546821B2 (en) | 2009-12-22 | 2013-10-01 | Panasonic Corporation | Display device for controlling an organic light emitting layer thickness |
| US8546820B2 (en) | 2009-12-22 | 2013-10-01 | Panasonic Corporation | Display device for controlling an organic light emitting layer thickness |
| US8604495B2 (en) | 2010-10-15 | 2013-12-10 | Panasonic Corporation | Organic light-emitting panel for controlling an organic light emitting layer thickness and organic display device |
| US8604493B2 (en) | 2010-10-15 | 2013-12-10 | Panasonic Corporation | Organic light-emitting panel for controlling an organic light emitting layer thickness and organic display device |
| US8604494B2 (en) | 2010-10-15 | 2013-12-10 | Panasonic Corporation | Organic light-emitting panel for controlling an organic light emitting layer thickness, and organic display device |
| US8604492B2 (en) | 2010-10-15 | 2013-12-10 | Panasonic Corporation | Organic light-emitting panel for controlling an organic light emitting layer thickness and organic display device |
| US8624275B2 (en) | 2010-10-15 | 2014-01-07 | Panasonic Corporation | Organic light-emitting panel for controlling an organic light emitting layer thickness and organic display device |
| US8901546B2 (en) | 2010-10-15 | 2014-12-02 | Panasonic Corporation | Organic light-emitting panel, manufacturing method thereof, and organic display device |
| US8907358B2 (en) | 2010-10-15 | 2014-12-09 | Panasonic Corporation | Organic light-emitting panel, manufacturing method thereof, and organic display device |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11298185A (en) * | 1998-04-07 | 1999-10-29 | Nissha Printing Co Ltd | Transparent electromagnetic wave shielding material and its manufacture |
| JP2001127485A (en) * | 1999-10-25 | 2001-05-11 | Nisshinbo Ind Inc | See-through electromagnetic wave shielding material and method of manufacturing the same |
| JP2002009484A (en) * | 2000-06-23 | 2002-01-11 | Kyodo Printing Co Ltd | Shield material and manufacturing method thereof |
| JP2002192644A (en) * | 2000-12-26 | 2002-07-10 | Central Glass Co Ltd | Substrate with copper film |
| JP2002311843A (en) * | 2001-04-17 | 2002-10-25 | Dainippon Printing Co Ltd | Member for shielding electromagnetic wave, and display |
| JP2002368482A (en) * | 2001-06-11 | 2002-12-20 | Gunze Ltd | Electromagnetic wave shielding member and method of manufacturing the same |
-
2004
- 2004-11-10 JP JP2004326448A patent/JP2006140205A/en active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11298185A (en) * | 1998-04-07 | 1999-10-29 | Nissha Printing Co Ltd | Transparent electromagnetic wave shielding material and its manufacture |
| JP2001127485A (en) * | 1999-10-25 | 2001-05-11 | Nisshinbo Ind Inc | See-through electromagnetic wave shielding material and method of manufacturing the same |
| JP2002009484A (en) * | 2000-06-23 | 2002-01-11 | Kyodo Printing Co Ltd | Shield material and manufacturing method thereof |
| JP2002192644A (en) * | 2000-12-26 | 2002-07-10 | Central Glass Co Ltd | Substrate with copper film |
| JP2002311843A (en) * | 2001-04-17 | 2002-10-25 | Dainippon Printing Co Ltd | Member for shielding electromagnetic wave, and display |
| JP2002368482A (en) * | 2001-06-11 | 2002-12-20 | Gunze Ltd | Electromagnetic wave shielding member and method of manufacturing the same |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8536589B2 (en) | 2009-12-22 | 2013-09-17 | Panasonic Corporation | Display device for controlling an organic light emitting layer thickness |
| US8546821B2 (en) | 2009-12-22 | 2013-10-01 | Panasonic Corporation | Display device for controlling an organic light emitting layer thickness |
| US8546820B2 (en) | 2009-12-22 | 2013-10-01 | Panasonic Corporation | Display device for controlling an organic light emitting layer thickness |
| US8604495B2 (en) | 2010-10-15 | 2013-12-10 | Panasonic Corporation | Organic light-emitting panel for controlling an organic light emitting layer thickness and organic display device |
| US8604493B2 (en) | 2010-10-15 | 2013-12-10 | Panasonic Corporation | Organic light-emitting panel for controlling an organic light emitting layer thickness and organic display device |
| US8604494B2 (en) | 2010-10-15 | 2013-12-10 | Panasonic Corporation | Organic light-emitting panel for controlling an organic light emitting layer thickness, and organic display device |
| US8604492B2 (en) | 2010-10-15 | 2013-12-10 | Panasonic Corporation | Organic light-emitting panel for controlling an organic light emitting layer thickness and organic display device |
| US8624275B2 (en) | 2010-10-15 | 2014-01-07 | Panasonic Corporation | Organic light-emitting panel for controlling an organic light emitting layer thickness and organic display device |
| US8901546B2 (en) | 2010-10-15 | 2014-12-02 | Panasonic Corporation | Organic light-emitting panel, manufacturing method thereof, and organic display device |
| US8907358B2 (en) | 2010-10-15 | 2014-12-09 | Panasonic Corporation | Organic light-emitting panel, manufacturing method thereof, and organic display device |
| JP2012216850A (en) * | 2012-06-04 | 2012-11-08 | Dainippon Printing Co Ltd | Electromagnetic wave shielding filter, multifunctional filter, and image display apparatus |
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