JP2006133035A - Device and method for measuring laser interference - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、レーザ干渉測定装置およびレーザ干渉測定方法に関する。 The present invention relates to a laser interference measurement apparatus and a laser interference measurement method.
従来のレーザ干渉測長装置として、図7および図8に示すものがある。図7は従来の座標測定装置のレーザ干渉測定システムの構成を示す斜視図である。図7に示したレーザ干渉測定システムは、X−Yステージに設けられたX軸側ミラーおよびY軸側ミラーを用いてX−Yステージの位置測定を行う。He−Ne光源からの出射光を、ビームスプリッタによりX軸ビームとY軸ビームとに分ける。X軸方向の座標測定においては、X軸ビームのうち、X軸側ミラーにて反射した反射光と、光学ヘッド部にて反射した反射光とをX軸用干渉計にて干渉させる。干渉光は受光部にて検出される。Y軸側についても同様である。 As a conventional laser interference length measuring device, there is one shown in FIGS. FIG. 7 is a perspective view showing a configuration of a laser interference measurement system of a conventional coordinate measuring apparatus. The laser interference measurement system shown in FIG. 7 measures the position of the XY stage using an X-axis side mirror and a Y-axis side mirror provided on the XY stage. The light emitted from the He-Ne light source is divided into an X-axis beam and a Y-axis beam by a beam splitter. In coordinate measurement in the X-axis direction, of the X-axis beam, reflected light reflected by the X-axis side mirror and reflected light reflected by the optical head unit are caused to interfere with each other by an X-axis interferometer. The interference light is detected by the light receiving unit. The same applies to the Y-axis side.
図8は、図7に示したレーザ干渉システムの構成の概略を示す平面図である。図8を参照して、干渉光を用いた測長の原理についてさらに説明する。ここでは、リファレンス203と可動ミラー201との距離Lを得ることにより可動ミラー201の位置Lを求める場合を例に説明する。
FIG. 8 is a plan view schematically showing the configuration of the laser interference system shown in FIG. The principle of length measurement using interference light will be further described with reference to FIG. Here, a case where the position L of the
レーザ光源207から出射したレーザ光をレンズ211を経由させた後、ハーフミラー213にて可動ミラー201を経由する光と参照用ミラー205を経由する光とに分ける。レーザ光を位置測定用の可動ミラー201または参照用ミラー205に対して片側から当て、反射光をセンサ209でカウントし、位置を測定する。
After the laser light emitted from the
センサ209は、参照用ミラー205で反射したレーザ光と可動ミラー201で反射したレーザ光による位相差から発生する干渉を感知する。干渉は白(明)と黒(暗)で表現され、これらが1/2波長ごとに入れ替わる。すなわち白と黒が一回ずつ現れると位相が1波長ずれたことになる。N回あればN波長分ずれたことになる。
The
光は参照用ミラー205に対して一往復しているので距離Lは、
L=Nλ/2
で表現できる。すなわち、干渉数をカウントすることで可動ミラー201が固定されたステージの位置が認識できる。
Since the light makes one round trip with respect to the
L = Nλ / 2
Can be expressed as That is, the position of the stage to which the
こうしたレーザ干渉測長装置として、従来、特許文献1〜5に記載のものがある。特許文献1には、ステージ装置にレーザ干渉計を固定して、可動テーブルの位置を検出する技術が記載されている。 Conventionally, there are those described in Patent Documents 1 to 5 as such laser interference length measuring devices. Patent Document 1 describes a technique for detecting the position of a movable table by fixing a laser interferometer to a stage device.
特許文献2には、干渉システムを有する走査型リソグラフィシステムにおいて、回帰分析を用いてウエハステージの現在の位置を計算する技術が記載されている。 Patent Document 2 describes a technique for calculating the current position of a wafer stage using regression analysis in a scanning lithography system having an interference system.
特許文献3には、干渉縞アライメント法を適用した走査露光装置が記載されている。 Patent Document 3 describes a scanning exposure apparatus to which an interference fringe alignment method is applied.
特許文献4には、レーザ干渉測長装置の計測用反射鏡と偏光ビームスプリッタプリズムとの間の測定光路上の所定の位置にウェッジプリズムを配置する技術が記載されている。 Patent Document 4 describes a technique in which a wedge prism is arranged at a predetermined position on a measurement optical path between a measurement reflecting mirror of a laser interference length measuring apparatus and a polarization beam splitter prism.
特許文献5には、被測定物の測定光を位相共役鏡で反射させてから合波、検出するレーザ干渉測長装置が記載されている。
ところが、上記特許文献1〜5に記載の技術においても、移動ステージの位置測定の精度が充分でないことがあった。 However, even in the techniques described in Patent Documents 1 to 5, the position measurement accuracy of the moving stage may not be sufficient.
本発明者は、図8に示した構成のレーザ干渉測長装置における位置測定精度の低下原因について検討を行った。その結果、図8において可動ミラー201が移動すると、ドップラー効果が生じることにより測定精度が低下することが見出された。具体的には、ステージを移動させた際に振動が生じると、ドップラー効果により、位置同期の精度が低下する。また、ステージの加減速時はドップラー効果が発生し位置同期精度が低下する。また、順行、逆行でドップラー効果の発生状況が違うため偏差が生じる。
The inventor studied the cause of the decrease in the position measurement accuracy in the laser interference length measuring apparatus configured as shown in FIG. As a result, it has been found that when the
位置同期の精度の低下は以下の式で示される。ステージが速度vで移動したとき、ドップラー効果の影響で波長に変化が起きる。Vを光の速度、λ1を変化後の波長、λ0を元の波長とすると、
λ1=((V+v)/V)λ0
となる。よって距離Lは、
L=N((V+v)λ0/V)/2
=Nλ/2+Nvλ/2V
α=Nvλ/2V
となり、α=Nvλ/2Vがドップラー効果による位置精度低下を表している。
The decrease in position synchronization accuracy is expressed by the following equation. When the stage moves at a speed v, the wavelength changes due to the Doppler effect. If V is the speed of light, λ1 is the wavelength after change, and λ0 is the original wavelength,
λ1 = ((V + v) / V) λ0
It becomes. Therefore, the distance L is
L = N ((V + v) λ0 / V) / 2
= Nλ / 2 + Nvλ / 2V
α = Nvλ / 2V
Thus, α = Nvλ / 2V represents a decrease in position accuracy due to the Doppler effect.
そこで、本発明者は移動可能な被測定物のレーザ干渉測定におけるドップラー効果による精度の低下を抑制すべく鋭意検討を行い、本発明に至った。 Therefore, the present inventor has intensively studied to suppress a decrease in accuracy due to the Doppler effect in laser interference measurement of a movable object to be measured, and has reached the present invention.
本発明によれば、
移動可能な被測定物と、
前記被測定物に固定された第一鏡と、
前記被測定物に固定された第二鏡と、
前記第一鏡および前記第二鏡に光を照射する光源と、
を備え、
前記光源から出射し前記第一鏡にて反射した第一反射光と前記光源から出射し前記第二鏡にて反射した第二反射光とのなす角αが
90°<α≦180°
を満たし、
前記第一反射光と、前記光源から出射し前記第一鏡および前記第二鏡を経由しない光との第一干渉光と、
前記第二反射光と、前記光源から出射し前記第一鏡および前記第二鏡を経由しない光との第二干渉光と、
に基づいて、前記被測定物を移動させながら前記被測定物の位置を測定するように構成されたことを特徴とするレーザ干渉測定装置が提供される。
According to the present invention,
A movable object to be measured;
A first mirror fixed to the object to be measured;
A second mirror fixed to the object to be measured;
A light source for irradiating light to the first mirror and the second mirror;
With
The angle α formed between the first reflected light emitted from the light source and reflected by the first mirror and the second reflected light emitted from the light source and reflected by the second mirror is 90 ° <α ≦ 180 °.
The filling,
First interference light between the first reflected light and the light emitted from the light source and not passing through the first mirror and the second mirror;
Second interference light between the second reflected light and the light emitted from the light source and not passing through the first mirror and the second mirror;
In accordance with the present invention, there is provided a laser interference measuring apparatus configured to measure the position of the object to be measured while moving the object to be measured.
また、本発明によれば、
移動可能な被測定物を移動させながら前記被測定物に固定化された第一鏡および第二鏡に、光源から出射し前記第一鏡にて反射した第一反射光と前記光源から出射し前記第二鏡にて反射した第二反射光とのなす角αが、
90°<α≦180°
を満たすように光を照射し、
前記第一反射光と、前記光源から出射し前記第一鏡および前記第二鏡を経由しない光との第一干渉光と、
前記第二反射光と、前記光源から出射し前記第一鏡および前記第二鏡を経由しない光との第二干渉光と、
に基づいて前記被測定物の位置を測定することを特徴とするレーザ干渉測定方法が提供される。
Moreover, according to the present invention,
While moving the movable object to be measured, the first mirror and the second mirror fixed to the object to be measured are emitted from the light source and reflected from the first mirror and from the light source. The angle α formed by the second reflected light reflected by the second mirror is
90 ° <α ≦ 180 °
Irradiate light to satisfy
First interference light between the first reflected light and the light emitted from the light source and not passing through the first mirror and the second mirror;
Second interference light between the second reflected light and the light emitted from the light source and not passing through the first mirror and the second mirror;
The position of the object to be measured is measured based on the above, and a laser interference measuring method is provided.
本発明においては、第一鏡と第二鏡が固定された被測定物を移動させながら被測定物の位置測定が行われる。このとき、αが上記関係を満たすように第一鏡および第二鏡に光が照射される。このため、第一反射光と第二反射光とが、互いに平行で正負が逆の成分(ベクトル)を有することになる。よって、被測定物の移動により生じるドップラー効果は、第一干渉光と第二干渉光とで逆向きになる。そして、第一干渉光と第二干渉光を用いて被測定物の位置を測定することにより、ドップラー効果の影響を相殺することができる。 In the present invention, the position of the object to be measured is measured while moving the object to which the first mirror and the second mirror are fixed. At this time, the first mirror and the second mirror are irradiated with light so that α satisfies the above relationship. For this reason, the first reflected light and the second reflected light have components (vectors) that are parallel to each other and are opposite in sign. Therefore, the Doppler effect caused by the movement of the object to be measured is reversed between the first interference light and the second interference light. And the influence of the Doppler effect can be canceled by measuring the position of the object to be measured using the first interference light and the second interference light.
従って、本発明によれば、被測定物を移動させながら行われるレーザ干渉測定において、被測定物の移動により生じるドップラー効果を排除することができる。このため、位置測定の精度を向上させることができる。 Therefore, according to the present invention, it is possible to eliminate the Doppler effect caused by the movement of the measured object in the laser interference measurement performed while moving the measured object. For this reason, the accuracy of position measurement can be improved.
本発明によれば、
移動可能な被測定物と、
前記被測定物に固定された第一鏡と、
前記被測定物に固定された第二鏡と、
前記第一鏡および前記第二鏡に光を照射する光源と、
を備え、
前記光の照射位置における前記第一鏡の鏡面の法線ベクトルと、前記光の照射位置における前記第二鏡の鏡面の法線ベクトルとのなす角βが、
90°<β≦180°
を満たし、
前記光源から出射し前記第一鏡にて反射した第一反射光と、前記光源から出射し前記第一鏡および前記第二鏡を経由しない光との第一干渉光と、
前記光源から出射し前記第二鏡にて反射した第二反射光と、前記光源から出射し前記第一鏡および前記第二鏡を経由しない光との第二干渉光と、
に基づいて前記被測定物の位置を測定するように構成されたことを特徴とするレーザ干渉測定装置が提供される。
According to the present invention,
A movable object to be measured;
A first mirror fixed to the object to be measured;
A second mirror fixed to the object to be measured;
A light source for irradiating light to the first mirror and the second mirror;
With
The angle β formed between the normal vector of the mirror surface of the first mirror at the light irradiation position and the normal vector of the mirror surface of the second mirror at the light irradiation position,
90 ° <β ≦ 180 °
The filling,
First interference light that is emitted from the light source and reflected by the first mirror, and light that is emitted from the light source and does not pass through the first mirror and the second mirror, and
Second interference light that is emitted from the light source and reflected by the second mirror, and light that is emitted from the light source and does not pass through the first mirror and the second mirror,
A laser interference measuring apparatus is provided which is configured to measure the position of the object to be measured based on the above.
本明細書において、鏡面の法線ベクトルとは、鏡面から遠ざかる方向に向かうベクトルのことをいう。 In this specification, the normal vector of the mirror surface means a vector that goes in a direction away from the mirror surface.
本発明においては、光の照射位置における法線ベクトルのなす角βが上記関係を満たすように、第一鏡と第二鏡が被測定物に固定されている。そして、被測定物を移動させながら被測定物の位置測定が行われるため、第一反射光と第二反射光とが、互いに平行で正負が逆の成分(ベクトル)を有することになる。よって、被測定物の移動により生じるドップラー効果は、第一干渉光と第二干渉光とで逆向きになる。そして、第一干渉光と第二干渉光を用いて被測定物の位置を測定することにより、ドップラー効果の影響を相殺することができる。 In the present invention, the first mirror and the second mirror are fixed to the object to be measured so that the angle β formed by the normal vector at the light irradiation position satisfies the above relationship. Since the position of the object to be measured is measured while moving the object to be measured, the first reflected light and the second reflected light have components (vectors) that are parallel to each other and are opposite in positive and negative. Therefore, the Doppler effect caused by the movement of the object to be measured is reversed between the first interference light and the second interference light. And the influence of the Doppler effect can be canceled by measuring the position of the object to be measured using the first interference light and the second interference light.
従って、本発明によれば、被測定物を移動させながら行われるレーザ干渉測定において、被測定物の移動により生じるドップラー効果を排除することができる。このため、位置測定の精度を向上させることができる。 Therefore, according to the present invention, it is possible to eliminate the Doppler effect caused by the movement of the measured object in the laser interference measurement performed while moving the measured object. For this reason, the accuracy of position measurement can be improved.
本発明によれば、移動可能な被測定物のレーザ干渉測定における測定精度を向上させる技術が実現される。 According to the present invention, a technique for improving measurement accuracy in laser interference measurement of a movable object to be measured is realized.
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。なお、すべての図面において、共通の構成要素には同じ符号を付し、適宜説明を省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all the drawings, common constituent elements are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted as appropriate.
図1および図2は、本実施形態に係るレーザ干渉測定装置の構成を示す平面図である。図1および図2に示したレーザ干渉測定装置100は、可動ミラー101が固定された移動ステージ110と、移動ステージ110の位置を決定する測定系120とを有する。
1 and 2 are plan views showing the configuration of the laser interference measuring apparatus according to this embodiment. The laser
また、レーザ干渉測定装置100は、移動可能な被測定物(移動ステージ110)と、移動ステージ110に固定された第一鏡(第一鏡面129)と、移動ステージ110に固定された第二鏡(第二鏡面131)と、第一鏡面129および第二鏡面131に光を照射する光源(レーザ光源107)と、を備え、レーザ光源107から出射し第一鏡面129にて反射した第一反射光とレーザ光源107から出射し第二鏡面131にて反射した第二反射光とのなす角αが
90°<α≦180°
を満たし、第一反射光と、レーザ光源107から出射し第一鏡面129および第二鏡面131を経由しない光との第一干渉光と、第二反射光と、レーザ光源107から出射し第一鏡面129および第二鏡面131を経由しない光との第二干渉光と、に基づいて、移動ステージ110を移動させながら移動ステージ110の位置を測定するように構成されている。
また、レーザ干渉測定装置100は、移動可能な移動ステージ110と、移動ステージ110に固定された第一鏡面129と、移動ステージ110に固定された第二鏡面131と、第一鏡面129および第二鏡面131に光を照射するレーザ光源107と、を備え、光の照射位置における第一鏡面129の法線ベクトルと、光の照射位置における第二鏡面131の法線ベクトルとのなす角βが、
90°<β≦180°
を満たし、レーザ光源107から出射し第一鏡面129にて反射した第一反射光と、レーザ光源107から出射し第一鏡面129および第二鏡面131を経由しない光との第一干渉光と、レーザ光源107から出射し第二鏡面131にて反射した第二反射光と、レーザ光源107から出射し第一鏡面129および第二鏡面131を経由しない光との第二干渉光と、に基づいて移動ステージ110の位置を測定するように構成されている。
レーザ干渉測定装置100は、第一干渉光と第二干渉光とに基づいて、移動ステージ110の位置を所定の一方向について測定するように構成されている。
第一鏡面129および第二鏡面131は平面鏡であり、これらは移動ステージ110上に平行に配置されている。
レーザ干渉測定装置100は、第一干渉光を検出する第一センサ109と、第二干渉光を検出する第二センサ123と、を備え、第一センサ109と第二センサ123とで検出された干渉光の強度に基づいて位置の情報が算出されるように構成されている。
また、レーザ干渉測定装置100は第一干渉光の強度と第二干渉光の強度とに基づき位置の情報を算出する演算部(後述する図3に示す演算部133)を備える。
また、レーザ干渉測定装置100は、所定の位置に固定された第一参照鏡(第一参照用ミラー105)と、所定の位置に固定された第二参照鏡(第二参照用ミラー121)と、をさらに備え、第一干渉光は、第一反射光と、第一鏡面129および第二鏡面131を経由せず第一参照用ミラー105にて反射した反射光との干渉光であって、第二干渉光は、第二反射光と、第一鏡面129および第二鏡面131を経由せず第二参照用ミラー121にて反射した反射光との干渉光である。
レーザ干渉測定装置100は、移動ステージ110を移動させる移動手段(後述する図3に示す移動機構135)を有し、移動機構135が移動ステージ110を移動させながら移動ステージ110の位置を決定するように構成されている。
また、レーザ干渉測定装置100は、移動機構135、第一センサ109、および第二センサ123の動作を制御する制御部(後述する図3に示す制御部137)を有する。
また、レーザ干渉測定装置100を用いたレーザ干渉測定は、移動ステージ110を移動させながら移動ステージ110に固定化された第一鏡面129および第二鏡面131に、レーザ光源107から出射し第一鏡面129にて反射した第一反射光とレーザ光源107から出射し第二鏡面131にて反射した第二反射光とのなす角αが、
90°<α≦180°
を満たすように光を照射し、第一反射光と、レーザ光源107から出射し第一鏡面129および第二鏡面131を経由しない光との第一干渉光と、第二反射光と、レーザ光源107から出射し第一鏡面129および第二鏡面131を経由しない光との第二干渉光と、に基づいて前記被測定物の位置を測定する方法である。
The laser
The first reflected light and the first interference light of the light emitted from the
Further, the laser
90 ° <β ≦ 180 °
First reflected light that is emitted from the
The laser
The
The laser
Further, the laser
The laser
The laser
Further, the laser
Laser interference measurement using the laser
90 ° <α ≦ 180 °
The first reflected light, the first interference light of the light reflected from the
可動ミラー101は、移動ステージ110の位置測定用ミラーとして機能する。可動ミラー101は、両面が第一鏡面129および第二鏡面131の鏡面となった板状部材である。可動ミラー101は、移動ステージ110の上面の法線方向に沿って固定されており、移動ステージ110を移動させた際に移動ステージ110とともに移動する。図1および図2においては、第一鏡面129および第二鏡面131が互いに平行に設けられた平面鏡となっている。このため、これらの鏡面の法線ベクトルのなす角は180度である。
The
測定系120において、レーザ光源107からの出射光は、ミラー115にて、第一参照用ミラー105を透過し第一センサ109で検出される光と、ミラー115表面で反射し第二センサ123で検出される光とに分岐する。ミラー115はレーザ光源107からの出射光を二方向に分岐させる分光器として機能する。
In the
ミラー115を透過した光は、第一レンズ111を透過し、ミラー113にて、ミラー113を透過する光とミラー113表面で反射する光とに分岐する。ミラー113は、第一レンズ111を透過した光を二方向に分岐させる分光器として機能する。
The light that has passed through the
ミラー113表面で反射した光は、可動ミラー101の第一鏡面129にて反射し、ミラー113を透過した後、第一センサ109に至る。また、ミラー113を透過した光は、第一参照用ミラー105にて反射し、さらにミラー113にて反射した後、第一センサ109に至る。第一センサ109では、第一鏡面129での反射光と第一参照用ミラー105での反射光とを干渉させ、可動ミラー101を移動させた際の第一鏡面129の位置情報を後述する手順で与える。第一鏡面129の位置情報は、具体的には第一センサ109と第一鏡面129との間に設けられた第一リファレンス103と可動ミラー101との距離である。
The light reflected by the surface of the
また、ミラー115にて反射した光は、さらにミラー117にて反射し、第二レンズ119を透過した後、ミラー127にて、ミラー127を透過する光とミラー127表面で反射する光とに分岐する。ミラー127は、第二レンズ119を透過した光を二方向に分岐させる分光器として機能する。
Further, the light reflected by the
ミラー127表面で反射した光は、可動ミラー101の第二鏡面131にて反射し、ミラー127を透過した後、第二センサ123に至る。また、ミラー127を透過した光は、第二参照用ミラー121にて反射し、さらにミラー127にて反射した後、第二センサ123に至る。第二センサ123では、第二鏡面131での反射光と第二参照用ミラー121での反射光とを干渉させ、第二鏡面131の位置情報を後述する手順で与える。第二鏡面131の位置情報は、具体的には第二センサ123と第二鏡面131との間に設けられた第二リファレンス125と可動ミラー101との距離である。
The light reflected by the surface of the
レーザ干渉測定装置100では、第一鏡面129および第二鏡面131の位置から可動ミラー101の位置が決定される。図2に示したように、レーザ干渉測定装置100では、第一リファレンス103と第一鏡面129における光照射位置とを結ぶ直線と、第二リファレンス125と第二鏡面131における光照射位置とを結ぶ直線とが平行で、さらに具体的には同一直線上にある。このため、たとえば第一鏡面129の位置と第二鏡面131の位置との相加平均を算出することにより、可動ミラー101の位置が決定される。
In the laser
次に、図1および図2に示したレーザ干渉測定装置100を用いた測定手順および可動ミラー101の位置決定方法をさらに詳細に説明する。まず、移動ステージ110を所定の方向に(図2においては左から右に向かって)直線移動させながら、レーザ光源107からレーザ光を出射させ、出射光をミラー115にて分割する。分割した光を、可動ミラー101の両側に、具体的には第一鏡面129および第二鏡面131に当てて、これらの鏡面で反射させる。そして、第一鏡面129および第二鏡面131での反射光を、それぞれ、第一参照用ミラー105および第二参照用ミラー121における反射光と干渉させ、それぞれ、第一センサ109および第二センサ123にて干渉縞をカウントする。
Next, a measurement procedure using the laser
第一センサ109は、第一参照用ミラー105で反射したレーザ光と可動ミラー101の第一鏡面129で反射したレーザ光との位相差から発生する干渉を感知する。干渉は白(明)と黒(暗)で表現されるが、1/2波長ごとに入れ替わる。すなわち白と黒が一回ずつ現れると位相が1波長ずれたことになる。N回あればN波長分ずれたことになる。光はミラー113と第一鏡面129との間に設けられた第一リファレンス103に対して一往復しているので、第一リファレンス103と可動ミラー101との距離L1はNλ/2で表現できる。
The
同様に、第二センサ123は、第二参照用ミラー121で反射したレーザ光と可動ミラー101の第二鏡面131で反射したレーザ光との位相差から発生する干渉を感知する。光はミラー127と第二鏡面131との間に設けられた第二リファレンス125に対して一往復しているので、白と黒がN’回ずつ現れたときの第二リファレンス125と第二鏡面131と距離L2はN’λ/2と表現できる。
Similarly, the
全長(第一リファレンス103と第二リファレンス125との間の距離)をXとしたときに、第一鏡面129についての測定、ここでは図2中左側から光を照射する測定の場合、可動ミラー101の位置L1(第一リファレンス103と第一鏡面129との距離)は、
L1=nλ/2
(上記式において、nは第一センサ109でカウントされた干渉縞数である。)
となる。
また、第二鏡面131についての測定、ここでは図2中右側から光を照射する測定では、図2において左基準、具体的には、第一リファレンス103を基準ととして全長Xから差し引きすることにより、可動ミラー101の位置L2(第一リファレンス103と第二鏡面131との距離)は、
L2=X−n’λ/2
(上記式において、n’は第二センサ123でカウントされた干渉縞数である。)
となる。
When the total length (distance between the
L1 = nλ / 2
(In the above equation, n is the number of interference fringes counted by the
It becomes.
Further, in the measurement of the
L2 = X−n′λ / 2
(In the above formula, n ′ is the number of interference fringes counted by the
It becomes.
そして、L1とL2とを平均することによってドップラー効果等の影響を相殺することができる。可動ミラーの位置(第一リファレンス103から可動ミラー101の距離)は、
L=(L1+L2)/2
となる。これより、
L=(nλ/2+X−n’λ/2)/2
=λ(n−n’)/4+X/2
=λ(n+(2X/λ)−n’)/4
となる。
Then, by averaging L1 and L2, influences such as the Doppler effect can be offset. The position of the movable mirror (the distance from the
L = (L1 + L2) / 2
It becomes. Than this,
L = (nλ / 2 + X−n′λ / 2) / 2
= Λ (n−n ′) / 4 + X / 2
= Λ (n + (2X / λ) −n ′) / 4
It becomes.
ここで、
N=n
N’=(2X/λ)−n’
とすれば、
L=λ(N+N’)/4 (1)
となる。ただし、NおよびN’は図2中左側の第一リファレンス103を基準としたときの干渉縞のカウント数である。
here,
N = n
N ′ = (2X / λ) −n ′
given that,
L = λ (N + N ′) / 4 (1)
It becomes. Here, N and N ′ are the interference fringe counts when the
以上の手順により、対向成分を有する二方向から移動ステージ110に光を照射し、第一センサ109および第二センサ123にてカウントされた干渉縞数を用いて、可動ミラー101の所定の一軸方向についての位置を決定することができる。
With the above procedure, the
なお、レーザ干渉測定装置100において、移動ステージ110および測定系120の動作を制御する制御部と、第一センサ109および第二センサ123で検出された干渉光を用いて距離Lを算出する演算部を有する構成としてもよい。図3は、レーザ干渉測定装置100の制御系の構成の一例を示す図である。図3に示したように、測定系120はさらに演算部133および制御部137を有する。また、移動ステージ110を面内方向に移動させる移動機構135が移動ステージ110に設けられている。
In laser
制御部137は、レーザ光源107、第一センサ109、第二センサ123、演算部133および移動機構135の動作を制御する。また、第一センサ109および第二センサ123は、それぞれ得られたNおよびN’の情報を測定系120に設けられた演算部133に送出する。そして、演算部133は、これらのNおよびN’の情報を受信し、上記式(1)を用いて可動ミラー101の位置Lを算出する。
The
次に、図1〜図3に示したレーザ干渉測定装置100の効果を説明する。
レーザ干渉測定装置100においては、移動ステージ110を移動させながら、干渉測定用の可動ミラー101の両面にレーザ光を照射することにより位置測定を両側で実施し、その差分を取る構成となっている。
Next, effects of the laser
The laser
さらに具体的には、互いの法線ベクトルが平行で逆向きとなるように設けられた第一鏡面129および第二鏡面131に、一つのレーザ光源107から出射したレーザ光を分けて照射する。第一鏡面129における反射光は、可動ミラー101の移動方向(図2における横方向)と平行で移動方向と同じ方向の成分からなる。また、第二鏡面131における反射光は、可動ミラー101の移動方向に平行で逆方向の成分からなる。このため、これらの反射光のなす角は180度である。
More specifically, the
そして、第一鏡面129における反射光および第二鏡面131における反射光をそれぞれ第一参照用ミラー105および第二参照用ミラー121における反射光と干渉させる。このため、レーザ干渉測定装置100では、第一センサ109において、たとえば可動ミラー101を第一センサ109から遠ざかる方向(図2中左側から右側)に移動させた際の干渉光強度を検出するとともに、第二センサ123において、たとえば可動ミラー101を第二センサ123に近づく方向(図2中左側から右側)に移動させた際の干渉光強度を検出する構成となっている。このため、移動ステージ110を所定の方向に直線移動させたときに、順行と逆行とで、逆向きのドップラー効果が生じることになる。そして、これらの干渉光の相加平均を算出して可動ミラー101の位置を算出する構成となっている。
Then, the reflected light on the
よって、可動ミラー101を移動させながら行うレーザ干渉測定において、移動ステージ110の移動方向に依存する測定値の相違、具体的には可動ミラー101の移動により生じるドップラー効果の影響を相殺し、順行と逆行とで生じる偏差を補正することが可能である。また、可動ミラー101の移動時の振動により生じるドップラー効果の影響を相殺することができる。したがって、具体的には順行と逆行との差異を抑制し、精密な位置測定が可能となる。このため、移動ステージ110を移動させることによる測定精度の低下を抑制し、測定精度を向上させることができる。
Therefore, in the laser interference measurement performed while moving the
また、移動ステージ110の移動時のドップラー効果の影響を排除できるため、移動ステージ110の移動速度が一定でない場合にも、精密な位置測定が可能となり、得られた位置情報を用いて高精度な位置制御ができる。たとえば、移動ステージ110の移動を開始した初期段階や、移動ステージ110の停止動作を開始してから停止するまでの段階等では、移動ステージ110の移動が非等速度となるが、こうした移動ステージ110の加減速中においても、移動ステージ110の位置測定を精密に行うことができる。また、得られた位置情報を用いて移動ステージ110と他の部材との位置同期を行う際にも、同期を精密に制御することが可能であり、スループットの向上が可能である。
Further, since the influence of the Doppler effect at the time of movement of the moving
以下、100mm角の平板状の移動ステージ110を辺に沿った方向に面内で1107往復させ、2214行の検査を行う場合を例に、レーザ干渉測定装置100におけるスループットの検討結果を示す。図4(a)及び図4(b)は、レーザ干渉測定に要する時間を説明するための図である。図4(a)は、従来の方式(図8)を用いた場合を示す図であり、図4(b)は、本実施形態に係る方式(図2)を示す図である。
Hereinafter, the results of studying the throughput in the laser
図4(a)に示したように、図8を参照して前述した従来の方式において、移動ステージ110の移動速度を25mm/sとしたところ、測定開始時(ゼロ(秒))から一定速度までになるまでの時間aが0.25(秒)、一定速度25mm/sとなっている時間cが4.04(秒)、減速してから停止するまでの時間bが0.30秒となった。このため、100mm移動に要する時間は、
0.25+4.04+0.3=4.59(秒)
となった。この時間は1行あたりのステージ移動に対応するから、2214行の走査を行った際には、
4.59×2214=10162.26(秒)
を要することになる。
As shown in FIG. 4A, in the conventional method described above with reference to FIG. 8, when the moving speed of the moving
0.25 + 4.04 + 0.3 = 4.59 (seconds)
It became. Since this time corresponds to the stage movement per line, when scanning 2214 lines,
4.59 × 2214 = 10162.26 (seconds)
Will be required.
一方、図4(b)に示したように、本実施形態に係る方式(図2)において、移動ステージ110の移動速度を30mm/sとしたところ、上記aが0.25(秒)、上記bが0.30(秒)であった点は図4(a)の場合と同様であったが、加速中および減速中についても測定を行うことが可能となったため、上記cが3.17(秒)に減少した。このため、100mm移動に要する時間は、
0.25+3.17+0.3=3.72(秒)
にまで短縮することができた。この時間は1行あたりのステージ移動に対応するから、2214行の走査を行った際には、
3.72×2214=8236.08(秒)
8236.08/10162.26=0.810
となり、図4(a)に示した従来の方式の場合に比べて19%のスループット改善となる。
On the other hand, as shown in FIG. 4B, in the method according to the present embodiment (FIG. 2), when the moving speed of the moving
0.25 + 3.17 + 0.3 = 3.72 (seconds)
We were able to shorten to. Since this time corresponds to the stage movement per line, when scanning 2214 lines,
3.72 × 2214 = 8236.08 (seconds)
8236.08 / 10162.26 = 0.810
As a result, the throughput is improved by 19% compared to the conventional method shown in FIG.
また、レーザ干渉測定装置100においては、ステージ振動などから発生するドップラー効果の影響によるドリフトの低減に加えて、気圧、温度変化による波長変動の影響を低減させ、位置同期の精度を向上させることができる。
Further, in the laser
ここで、背景技術の項目で前述した特許文献5には、被測定物の測定光を位相共役鏡で反射させてから合波、検出することにより、空気の揺らぎ等、被測定物の移動を伴わないレーザー光の周波数変化を位相共役鏡により相殺することが記載されている。これに対し、本実施形態のレーザ干渉測定装置100では、気圧、温度変化による波長変動の影響等の、移動ステージ110の移動によらずに生じる影響に加えて、移動ステージ110の移動により生じるドップラー効果の影響による位置測定精度の低下も抑制することができる。
Here, in Patent Document 5 described above in the section of the background art, the measurement light of the object to be measured is reflected by the phase conjugate mirror and then combined and detected, thereby moving the object to be measured such as air fluctuation. It is described that the frequency change of the laser light not accompanied is canceled by a phase conjugate mirror. On the other hand, in the laser
このため、レーザ干渉測定装置100は、たとえば半導体製造装置や、形状測定装置等の精密な位置測定や、測定された位置情報を用いた精密な位置同期が求められる装置に対しても好適に用いることができる。さらに具体的には、レーザ干渉測定装置100の構成を走査リソグラフィシステムに適用することにより、ステージ上に搭載されたマスクとウェハとを同時に移動させてマスクパターンをウェハ上に投影する際の、ウェハとマスクとの位置同期の精度を向上させることができる。
For this reason, the laser
また、レーザ干渉測定装置100では、第一センサ109と第二センサ123で測定された干渉光強度に基づいて演算部133にて可動ミラー101の位置情報を算出することができるため、演算の自動化が可能であり、簡便で確実な位置測定が可能となる。
Further, in the laser
また、レーザ干渉測定装置100では、移動ステージ110および測定系120の動作を制御する制御部137を有するため、移動ステージ110の移動操作および移動ステージ110の位置測定を自動で行うことが可能であり、さらに操作を簡便することができる。
In addition, since the laser
以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。 As mentioned above, although embodiment of this invention was described with reference to drawings, these are the illustrations of this invention, Various structures other than the above are also employable.
たとえば、レーザ干渉測定装置100においては、板状の可動ミラー101の両面が鏡面となっている構成を例示したが、第一鏡面129における反射光と第二鏡面131における反射光を検出可能な位置にそれぞれ第一センサ109および第二センサ123を配置すればよく、第一鏡面129および第二鏡面131はそれぞれの法線が互いに平行になるように移動ステージ110上に配置されればよく、必ずしも第一鏡面129の裏面に第二鏡面131が設けられていなくてもよい。
For example, in the laser
たとえば、図5(a)〜図5(c)は、レーザ干渉測定装置100の可動ミラー101の他の配置を示す斜視図である。図5(a)は、第一鏡面129と第二鏡面131とが同じ高さに離隔して設けられた構成である。また、図5(b)は、第一鏡面129および第二鏡面131を同じ平面内に並べて配置した構成である。また、図5(c)は、第一鏡面129および第二鏡面131を移動ステージ110の法線方向に沿って並べて配置した構成である。これらの構成とした場合にも、二つの反射光が互いに平行で逆向きに進行するため、図1および図2に示した場合と同様の効果が得られる。
For example, FIGS. 5A to 5C are perspective views illustrating other arrangements of the
また、以上においては、第一鏡面129と第二鏡面131とが互いに平行に配置されている180度反射の場合を例に説明したが、可動ミラー101における第一鏡面129と第二鏡面131との位置関係は、第一鏡面129における反射光と第二鏡面131における反射光とが、所定の方向について互いに逆向きの成分を有していればよく、平行な配置には限られない。たとえば、第二鏡面131を第一鏡面129に対して僅かに斜めに配置して、同一経路を多重反射させてもよい。こうすれば、経路差を稼ぐことができるため、より一層精密な測定が可能となる。
In the above description, the case of 180-degree reflection in which the
また、図6(a)および図6(b)は、可動ミラー101の他の構成を示す図である。図6(a)は、第一鏡面129および第二鏡面131がL字形の複合鏡であり、第一鏡面129および第二鏡面131にてそれぞれ二回光を反射させた後、それぞれ第一センサ109および第二センサ123に導く構成である。また、図6(b)は、第一鏡面129および第二鏡面131が可動ミラー101の内側に向かって凹部が設けられた凹面鏡となっている構成である。
FIGS. 6A and 6B are diagrams showing another configuration of the
これらの図に示した構成においても、二つの反射光が互いに平行で逆向きに進行するため、これらの鏡面における反射光を用いてドップラー効果を相殺する演算を行うことにより、可動ミラー101の進行方向等の所定の一軸方向についての位置測定を行うことができる。
Even in the configurations shown in these drawings, since the two reflected lights travel in parallel and in opposite directions, the calculation of canceling the Doppler effect using the reflected lights on these mirror surfaces performs the progression of the
また、図1〜図3に示したレーザ干渉測定装置100では、移動ステージ110の面内の所定の一方向の位置を決定する構成の場合を例に説明したが、移動ステージ110の面内二方向の位置を決定する構成としてもよい。この場合、一つの測定方向について、互いに平行で逆向きの反射光成分が生じ、これらの複数の反射光を用いた複数の干渉光を用いて位置測定がなされるように測定系120を構成する。たとえば、移動ステージ110の上面の法線に沿った方向で、可動ミラー101に直行する方向に、別の可動ミラーを設けて、別の可動ミラーについても可動ミラー101に対する測定系120と同様の測定系を設けることにより、別の可動ミラーの位置測定においてもドップラー効果の影響を排除することが可能となる。
In the laser
また、レーザ干渉測定装置100では、移動ステージ110の面内移動を検出する構成としたが、移動ステージ110の移動方向は面内方向に限られず、たとえば、移動ステージ110の表面の法線方向に沿った上下移動を検知する構成とすることもできる。このとき、たとえば移動ステージ110の表面に水平に可動ミラー101を設置し、第一鏡面129および第二鏡面131に光照射する構成とすることができる。
Further, the laser
また、レーザ干渉測定装置100においては、第一参照用ミラー105および第二参照用ミラー121を設け、可動ミラー101での反射光とこれらの参照用ミラーでの反射光との干渉光とを第一センサ109または第二センサ123にて検出する構成としたが、これらの参照用ミラーは必ずしも設けなくてもよい。たとえば、図2において参照用ミラーを設けない場合、第一レンズ111を透過した光を第一鏡面129を経由した後第一センサ109に到達する光と直接第一センサ109に到達する光とに分岐させる構成とし、第二レンズ119を透過した光を第二鏡面131を経由した後第二センサ123に到達する光と直接第二センサ123に到達する光とに分岐させる構成とすることができる。
Further, in the laser
また、レーザ干渉測定装置100においては、測定系120に演算部133および制御部137を設けられた構成(図3)の場合を例に説明したが、演算部133および制御部137は必ずしも設ける必要はない。演算部133および制御部137を設けない場合、たとえば、移動機構135を動作させながら可動ミラー101にレーザ光源107から光を照射させる操作を手動で行うとともに、第一センサ109および第二センサ123にて検出された干渉光の強度情報を用いて可動ミラー101の位置Lを手動で算出することができる。本実施形態では二つの干渉光の相加平均を求めることによりLが求められることから、手動操作の場合にも簡便な位置測定が可能である。また、演算部133および制御部137を設けることにより、可動ミラー101の位置測定の自動化が可能となるため、さらに測定操作の簡素化が可能となる。
In the laser
また、レーザ干渉測定装置100においては、一つの可動ミラー101に対して第一センサ109および第二センサ123の二つのセンサを用い、これらのそれぞれにおいて干渉光を検出した後、演算部133にて可動ミラー101の位置Lを算出する構成としたが、一つの可動ミラー101に対して一つのセンサを設ける構成としてもよい。このとき、たとえば、第一鏡面129の側の干渉光と第二鏡面131の側との干渉光を合波した後、合波されたものをセンサで検出して演算部133に送出し、演算部133にて所定の演算を行うことにより合波を解析し、NおよびN’に相当するパラメータを算出する構成とすることもできる。
Further, in the laser
100 レーザ干渉測定装置
101 可動ミラー
103 第一リファレンス
105 第一参照用ミラー
107 レーザ光源
109 第一センサ
110 移動ステージ
111 第一レンズ
113 ミラー
115 ミラー
117 ミラー
119 第二レンズ
120 測定系
121 第二参照用ミラー
123 第二センサ
125 第二リファレンス
127 ミラー
129 第一鏡面
131 第二鏡面
133 演算部
135 移動機構
137 制御部
DESCRIPTION OF
Claims (10)
前記被測定物に固定された第一鏡と、
前記被測定物に固定された第二鏡と、
前記第一鏡および前記第二鏡に光を照射する光源と、
を備え、
前記光源から出射し前記第一鏡にて反射した第一反射光と前記光源から出射し前記第二鏡にて反射した第二反射光とのなす角αが
90°<α≦180°
を満たし、
前記第一反射光と、前記光源から出射し前記第一鏡および前記第二鏡を経由しない光との第一干渉光と、
前記第二反射光と、前記光源から出射し前記第一鏡および前記第二鏡を経由しない光との第二干渉光と、
に基づいて、前記被測定物を移動させながら前記被測定物の位置を測定するように構成されたことを特徴とするレーザ干渉測定装置。 A movable object to be measured;
A first mirror fixed to the object to be measured;
A second mirror fixed to the object to be measured;
A light source for irradiating light to the first mirror and the second mirror;
With
The angle α formed between the first reflected light emitted from the light source and reflected by the first mirror and the second reflected light emitted from the light source and reflected by the second mirror is 90 ° <α ≦ 180 °.
The filling,
First interference light between the first reflected light and the light emitted from the light source and not passing through the first mirror and the second mirror;
Second interference light between the second reflected light and the light emitted from the light source and not passing through the first mirror and the second mirror;
And measuring the position of the object to be measured while moving the object to be measured.
前記被測定物に固定された第一鏡と、
前記被測定物に固定された第二鏡と、
前記第一鏡および前記第二鏡に光を照射する光源と、
を備え、
前記光の照射位置における前記第一鏡の鏡面の法線ベクトルと、前記光の照射位置における前記第二鏡の鏡面の法線ベクトルとのなす角βが、
90°<β≦180°
を満たし、
前記光源から出射し前記第一鏡にて反射した第一反射光と、前記光源から出射し前記第一鏡および前記第二鏡を経由しない光との第一干渉光と、
前記光源から出射し前記第二鏡にて反射した第二反射光と、前記光源から出射し前記第一鏡および前記第二鏡を経由しない光との第二干渉光と、
に基づいて前記被測定物の位置を測定するように構成されたことを特徴とするレーザ干渉測定装置。 A movable object to be measured;
A first mirror fixed to the object to be measured;
A second mirror fixed to the object to be measured;
A light source for irradiating light to the first mirror and the second mirror;
With
The angle β formed between the normal vector of the mirror surface of the first mirror at the light irradiation position and the normal vector of the mirror surface of the second mirror at the light irradiation position,
90 ° <β ≦ 180 °
The filling,
First interference light that is emitted from the light source and reflected by the first mirror, and light that is emitted from the light source and does not pass through the first mirror and the second mirror, and
Second interference light that is emitted from the light source and reflected by the second mirror, and light that is emitted from the light source and does not pass through the first mirror and the second mirror,
A laser interference measurement apparatus configured to measure the position of the object to be measured based on the above.
前記第一鏡および前記第二鏡が平面鏡であることを特徴とするレーザ干渉測定装置。 In the laser interference measuring device according to any one of claims 1 to 3,
The laser interference measuring apparatus, wherein the first mirror and the second mirror are plane mirrors.
前記第一鏡と前記第二鏡とが前記被測定物上に平行に配置されていることを特徴とするレーザ干渉測定装置。 In the laser interference measuring device according to claim 4,
The laser interference measuring apparatus, wherein the first mirror and the second mirror are arranged in parallel on the object to be measured.
前記第一干渉光を検出する第一センサと、
前記第二干渉光を検出する第二センサと、
を備え、前記第一センサと前記第二センサとで検出された干渉光の強度に基づいて前記位置の情報が算出されるように構成されたことを特徴とするレーザ干渉測定装置。 In the laser interference measuring device according to any one of claims 1 to 5,
A first sensor for detecting the first interference light;
A second sensor for detecting the second interference light;
The laser interference measuring device is characterized in that the position information is calculated based on the intensity of the interference light detected by the first sensor and the second sensor.
前記第一干渉光の強度と前記第二干渉光の強度とに基づき前記位置の情報を算出する演算部を備えることを特徴とするレーザ干渉測定装置。 In the laser interference measuring device according to any one of claims 1 to 6,
An apparatus for measuring laser interference, comprising: a calculation unit that calculates the position information based on the intensity of the first interference light and the intensity of the second interference light.
所定の位置に固定された第一参照鏡と、
所定の位置に固定された第二参照鏡と、
をさらに備え、
前記第一干渉光は、前記第一反射光と、前記第一鏡および前記第二鏡を経由せず前記第一参照鏡にて反射した反射光との干渉光であって、
前記第二干渉光は、前記第二反射光と、前記第一鏡および前記第二鏡を経由せず前記第二参照鏡にて反射した反射光との干渉光であることを特徴とするレーザ干渉測定装置。 In the laser interference measuring device according to any one of claims 1 to 7,
A first reference mirror fixed in place;
A second reference mirror fixed in place;
Further comprising
The first interference light is interference light between the first reflected light and the reflected light reflected by the first reference mirror without passing through the first mirror and the second mirror,
The second interference light is interference light between the second reflected light and the reflected light reflected by the second reference mirror without passing through the first mirror and the second mirror. Interference measurement device.
前記被測定物を移動させる移動手段を有し、
前記移動手段が前記被測定物を移動させながら前記被測定物の位置を決定するように構成されたことを特徴とするレーザ干渉測定装置。 In the laser interference measuring device according to any one of claims 1 to 8,
Moving means for moving the object to be measured;
An apparatus for measuring laser interference, wherein the moving means is configured to determine the position of the object to be measured while moving the object to be measured.
90°<α≦180°
を満たすように光を照射し、
前記第一反射光と、前記光源から出射し前記第一鏡および前記第二鏡を経由しない光との第一干渉光と、
前記第二反射光と、前記光源から出射し前記第一鏡および前記第二鏡を経由しない光との第二干渉光と、
に基づいて前記被測定物の位置を測定することを特徴とするレーザ干渉測定方法。
While moving the movable object to be measured, the first mirror and the second mirror fixed to the object to be measured are emitted from the light source and reflected from the first mirror and from the light source. The angle α formed by the second reflected light reflected by the second mirror is
90 ° <α ≦ 180 °
Irradiate light to satisfy
First interference light between the first reflected light and the light emitted from the light source and not passing through the first mirror and the second mirror;
Second interference light between the second reflected light and the light emitted from the light source and not passing through the first mirror and the second mirror;
And measuring the position of the object to be measured based on the above.
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