JP2006128672A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006128672A JP2006128672A JP2005305274A JP2005305274A JP2006128672A JP 2006128672 A JP2006128672 A JP 2006128672A JP 2005305274 A JP2005305274 A JP 2005305274A JP 2005305274 A JP2005305274 A JP 2005305274A JP 2006128672 A JP2006128672 A JP 2006128672A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support
- holding
- robot
- lithographic apparatus
- holding devices
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
Abstract
【解決手段】本発明は、放射ビームを調節する照明系と、放射ビームの断面にパターンを与えることの可能なパターン形成装置を支持するパターン形成装置支持体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの付与された放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、パターン形成装置をパターン形成装置支持体及びローディング・ステーションと交換するための単一のロボットを含むパターン形成装置処理装置であって、該ロボットが、パターン形成装置を第1の保持位置に保持する第1の保持装置、及び第2の保持位置に保持する第2の保持装置を含む処理装置とを含むリソグラフィ装置を提供する。このようなロボットにより、パターン形成装置の迅速で正確な交換が可能になる。
【選択図】図2
Description
(1)ステップ・モード:放射ビームに与えられたパターン全体を1回でターゲット部分Cに投影する間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTを本質的に静止した状態に保つ(即ち、1回の静止露光)。次いで、異なるターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTをX及び/又はY方向に移動させる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の静止露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
(2)走査モード:放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTを同期して走査する(即ち、1回の動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)率、及び像の反転特性によって決めることができる。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の動的露光におけるターゲット部分の(非走査方向の)幅が制限され、走査移動の長さによってターゲット部分の(走査方向の)高さが決定される。
(3)他のモード:放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する間、プログラム可能なパターン形成装置を保持しながらマスク・テーブルMTを本質的に静止した状態に保ち、基板テーブルWTを移動又は走査させる。このモードでは、一般にパルス式の放射源が使用され、基板テーブルWTが移動するたびに、又は走査中の連続する放射パルスの合間に、プログラム可能なパターン形成装置が必要に応じて更新される。この動作モードは、先に言及した種類のプログラム可能ミラー・アレイなど、プログラム可能なパターン形成装置を利用するマスクレス・リソグラフィに簡単に適用できる。
Claims (35)
- 放射ビームを調節するように構成された照明系と、
パターン形成装置を支持するように構成されたパターン形成装置支持体であって、該パターン形成装置支持体に配置されたパターン形成装置が前記放射ビームの断面にパターンを与えて、パターンの付与された放射ビームを形成することの可能なパターン形成装置支持体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターンの付与された放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
交換可能な対象物を支持体及びローディング・ステーションで交換するように構成された単一のロボットを有する交換可能な対象物の処理装置であって、前記ロボットが、交換可能な対象物を第1の保持位置で保持するように構成された第1の保持装置、及び交換可能な対象物を第2の保持位置で保持するように構成された第2の保持装置を有する処理装置とを含むリソグラフィ装置。 - 前記第1の保持装置が前記ローディング・ステーションに適合し、前記第2の保持装置が前記支持体に適合している請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記交換可能な対象物の処理装置が、交換可能な対象物を前記第1の保持装置と前記第2の保持装置との間で移動させるように構成された搬送装置を有する請求項2に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記搬送装置が、前記交換可能な対象物を一時的に収容するように構成された1つ又は複数の固定された中間ステーションを有する請求項3に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記第1及び第2の保持装置のそれぞれが2つの把持装置を有し、前記把持装置のそれぞれが交換可能な対象物を保持するように構成され、前記把持装置の一方が前記ローディング・ステーションに適合し、前記把持装置の他方が前記支持体に適合している請求項2に記載されたリソグラフィ装置。
- 把持装置が把持位置と非把持位置との間を移動することが可能であり、それによって前記非把持位置の前記把持装置が、他の把持装置を用いて交換可能な対象物を前記支持体又は前記ローディング・ステーションに配置する、或いは前記支持体又は前記ローディング・ステーションから取り出す際に、前記支持体又は前記ローディング・ステーションに干渉しないようになっている請求項5に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記ロボットが1つ又は複数の保持装置をさらに有し、前記1つ又は複数の保持装置のそれぞれが、前記ロボットがそれを用いてパターン形成装置を交換することのできる1つ又は複数の他の交換可能な対象物のステーションに適合している請求項3に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記ロボットが、前記第1及び第2の保持装置の一方を、交換可能な対象物を前記支持体に配置する、又は交換可能な対象物を前記支持体から取り出すように位置付ける際に、前記ロボットが、前記第1及び前記第2の保持装置の他方を不干渉位置に位置付けるようなっており、前記第1及び前記第2の保持装置の他方が前記支持体に干渉しないように構成されている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記ロボットが、前記第1及び前記第2の保持装置の他方を、交換可能な対象物を支持するように構成された前記支持体の支持構造によって定められる支持領域から間隔をおいた位置に位置付けるように構成されている請求項8に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記支持領域が支持面を含む請求項9に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記第1及び第2の保持装置が、前記支持領域に対して約90度未満の角度で配置された回転軸を中心に回転することができる請求項8に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記角度が、前記支持領域に対して約25〜65度の範囲である請求項11に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記角度が、前記支持領域に対して約40〜50度の範囲である請求項12に記載されたリソグラフィ装置
- 前記第1及び第2の保持装置のそれぞれが、前記ロボットに対して前記支持体の支持領域に実質的に垂直な方向に、別々に移動可能である請求項8に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記装置処理装置が、前記第1又は前記第2の保持装置の支持面の方向における移動を止めるように構成された抑制装置をさらに有する請求項14に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記第1及び前記第2の保持装置のそれぞれが、前記第1又は第2の保持装置の前記ロボットに対する移動を別々に作動させるように構成されたアクチュエータを有する請求項14に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置が、1つ又は複数の交換可能な対象物のステーションをさらに有し、前記交換可能な対象物の処理装置が、前記交換可能な対象物を前記1つ又は複数の交換可能な対象物のステーションで交換するように構成されている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記交換可能な対象物が前記基板であり、前記支持体が前記基板テーブルである請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記交換可能な対象物が前記パターン形成装置であり、前記支持体が前記パターン形成装置支持体である請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- パターンの付与された放射ビームを、基板テーブルに配置された基板に投影する段階と、
単一のロボットを用いて交換可能な対象物を支持体とローディング・ステーションとの間で交換する段階であって、前記ロボットが、交換可能な対象物を第1の保持位置で保持するように構成された第1の保持装置、及び交換可能な対象物を第2の保持位置で保持するように構成された第2の保持装置を有する段階とを含むデバイス製造方法。 - 前記ロボットを、前記ローディング・ステーションに適合した前記第1の保持装置を用いることにより、交換可能な対象物を前記ローディング・ステーションに配置する、又は交換可能な対象物を前記ローディング・ステーションから取り出すように構成し、前記ロボットを、前記支持体に適合した前記第2の保持装置を用いることにより、交換可能な対象物を前記支持体に配置する、又は交換可能な対象物を前記支持体から取り出すように構成する請求項20に記載されたデバイス製造方法。
- 前記支持体と前記ローディング・ステーションとの間で交換可能な対象物を交換する間、前記交換可能な対象物を前記第1及び前記第2の保持装置の間で移動させる請求項21に記載されたデバイス製造方法。
- 前記第1及び第2の保持装置の間で前記交換可能な対象物を移動させる間、前記ロボットが、前記交換可能な対象物を固定された中間ステーションに一時的に配置するように構成される請求項22に記載されたデバイス製造方法。
- 前記第1及び第2の保持装置のそれぞれが、前記ローディング・ステーションに適合した第1の把持装置、及び前記支持体に適合した第2の把持装置を有し、前記支持体と前記ローディング・ステーションとの間で交換可能な対象物を交換する間、同じ保持位置に留まっている前記交換可能な対象物が、前記第1及び前記第2の把持装置の間で引き継がれる請求項21に記載されたデバイス製造方法。
- 交換可能な対象物を前記支持体に配置する、又は交換可能な対象物を前記支持体から取り出すように、前記第1及び第2の保持装置の一方を前記交換可能な対象物のステーションへ移動させる際に、前記ロボットが、前記第1及び前記第2の保持装置の他方を、前記第1及び前記第2の保持装置の他方が前記支持体に干渉しない位置に位置付けるように構成される求項20に記載されたデバイス製造方法。
- 前記ロボットが、前記第1及び前記第2の保持装置の他方を、交換可能な対象物を支持するように構成された前記支持体の支持構造によって定められる支持領域から間隔をおいた位置に位置付けるように構成される請求項25に記載されたデバイス製造方法。
- 前記支持領域が支持面を含む請求項26に記載されたデバイス製造方法。
- 前記ロボットが、前記第1及び前記第2の保持装置の他方を、前記第1及び前記第2の保持装置の一方が保持されている水平面の上方に位置付けるように構成される請求項26に記載されたデバイス製造方法。
- 前記第1及び前記第2の保持装置が、前記支持面に対して約90未満の角度で配置された回転軸を中心に回転することが可能であり、その結果、前記第1及び前記第2の保持装置の回転している間、前記第1及び前記第2の保持装置が水平方向及び垂直方向に動かされ、前記ロボットが、交換可能な対象物を前記支持体に配置する、又は前記支持体から取り出すように前記第1及び第2の保持装置の一方を前記支持体へ移動させる際に、前記第1及び前記第2の保持装置の一方を前記支持領域に最も近い位置に位置付けるように構成される請求項26に記載されたデバイス製造方法。
- 前記第1及び前記第2の保持装置のそれぞれが、前記ロボットに対してロード/アンロード位置と非動作位置との間を別々に移動することが可能であり、前記第1及び前記第2の保持装置の一方を前記ロード/アンロード位置に位置付け、他方を前記非動作位置に位置付ける請求項25に記載されたデバイス製造方法。
- 前記第1及び第2の保持装置が、通常は前記ロード/アンロード位置にあり、エンド・エフェクタを移動させて前記第1及び前記第2の保持装置の一方を前記支持体へ移動させる際に、抑制装置が前記第1又は前記第2の保持装置の他方の前記支持体への移動を止めて、前記前記第1又は第2の保持装置の他方を非動作位置に移動させる請求項30に記載されたデバイス製造方法。
- 前記第1及び前記第2の保持装置のそれぞれが、前記第1及び第2の保持装置の移動を別々に作動させるように構成されたアクチュエータを有する請求項30に記載されたデバイス製造方法。
- 前記交換可能な対象物が前記基板であり、前記支持体が前記基板テーブルである請求項20に記載されたデバイス製造方法。
- 前記交換可能な対象物が、放射ビームにパターンを付与するように構成された前記パターン形成装置であり、前記支持体が、前記パターン形成装置を保持するように構成されたパターン形成装置支持体である請求項20に記載されたデバイス製造方法。
- リソグラフィ装置用のローディング・ステーションと共に使用するための交換可能な対象物の処理装置において、交換可能な対象物を第1の保持位置に保持するように構成された第1の対象物ホルダ、及び交換可能な対象物を第2の保持位置に保持するように構成された第2のホルダを有する単一のロボットを含む、交換可能な対象物の処理装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/969,244 US7394525B2 (en) | 2004-10-21 | 2004-10-21 | Exchangeable object handling apparatus, lithographic apparatus including such exchangeable object handling apparatus, and device manufacturing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006128672A true JP2006128672A (ja) | 2006-05-18 |
JP4392398B2 JP4392398B2 (ja) | 2009-12-24 |
Family
ID=36205862
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005305274A Expired - Fee Related JP4392398B2 (ja) | 2004-10-21 | 2005-10-20 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7394525B2 (ja) |
JP (1) | JP4392398B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011104910A (ja) * | 2009-11-19 | 2011-06-02 | Tokyo Electron Ltd | テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、テンプレート処理装置及びインプリントシステム |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1036785A1 (nl) | 2008-04-18 | 2009-10-20 | Asml Netherlands Bv | Rapid exchange device for lithography reticles. |
WO2014056512A1 (en) | 2012-10-08 | 2014-04-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method of operating a microlithographic apparatus |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6964276B2 (en) * | 2002-09-03 | 2005-11-15 | Nova Measuring Instruments Ltd. | Wafer monitoring system |
US6826451B2 (en) * | 2002-07-29 | 2004-11-30 | Asml Holding N.V. | Lithography tool having a vacuum reticle library coupled to a vacuum chamber |
-
2004
- 2004-10-21 US US10/969,244 patent/US7394525B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-10-20 JP JP2005305274A patent/JP4392398B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011104910A (ja) * | 2009-11-19 | 2011-06-02 | Tokyo Electron Ltd | テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、テンプレート処理装置及びインプリントシステム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060087636A1 (en) | 2006-04-27 |
JP4392398B2 (ja) | 2009-12-24 |
US7394525B2 (en) | 2008-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6469761B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP5165014B2 (ja) | リソグラフィ装置、円形コンベヤ、及びデバイス製造方法 | |
JP4332146B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP4522762B2 (ja) | 基板テーブル上に基板を位置決めする方法および装置 | |
JP4340654B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP2013098552A (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP4272648B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP4392398B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP2008098635A (ja) | リソグラフィ装置、リソグラフィ装置とプロセシングモジュールとの組合せ、及び、デバイス製造方法 | |
JP4812796B2 (ja) | 基板をマスクするリソグラフィ装置及び方法 | |
JP4669833B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
JP2004343069A (ja) | 機械部品を整備する方法および装置 | |
JP2007251133A (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20060904 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20070529 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081211 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081216 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090212 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090701 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090727 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090928 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091009 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121016 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131016 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |