JP2006107884A - Organic el panel - Google Patents

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JP2006107884A JP2004291696A JP2004291696A JP2006107884A JP 2006107884 A JP2006107884 A JP 2006107884A JP 2004291696 A JP2004291696 A JP 2004291696A JP 2004291696 A JP2004291696 A JP 2004291696A JP 2006107884 A JP2006107884 A JP 2006107884A
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Makoto Uchiumi
誠 内海
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL panel capable of increasing wiring resistance, and manufacturing a second electrode formed on an upper part of an organic EL layer without using a photolithography method and a film formation mask, and having a segment part (in particular, a segment part capable of variably displaying an image). <P>SOLUTION: This organic EL panel includes the segment part comprising a substrate, a first electrode formed on the substrate, an organic EL layer and a second electrode. The organic EL panel is characterized by that the segment part has a plurality of segments; the first electrode has a stacked structure comprising a metal electrode and a transparent electrode and is a shared electrode for the plurality of segments; and the second electrode is divided into a plurality of parts by separation barriers each having a reversely-tapered cross-sectional shape. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は有機ELパネルに関する。より詳細には、本発明は、セグメント表示を行う有機ELパネルに関し、および該パネルの配線抵抗の低減に関するものである。   The present invention relates to an organic EL panel. More specifically, the present invention relates to an organic EL panel that performs segment display, and to a reduction in wiring resistance of the panel.

1987年にイーストマンコダック社のTangらによって2層積層構成で高い効率を有する有機EL素子が発表されて以来、現在に至る間に様々な有機EL素子が開発されてきており、一部実用化がされ始めている(非特許文献1参照)。   Since 1987, Tang et al. Of Eastman Kodak Company announced a high-efficiency organic EL device with a two-layer structure, and various organic EL devices have been developed to date. (See Non-Patent Document 1).

フルカラー化の方法としては、異なる色を発光する複数種の有機EL発光素子を基板上に配列する方法(いわゆる3色塗り分け法)、バックライトの発光を波長分布変換することによる色変換法(以下、CCM法と称する)、バックライトの発光をカラーフィルタを通して放射するカラーフィルタ法などが検討されてきている。これらの方式の中で、成膜時にメタルマスクを用いる必要がなく、フォトプロセスを用いて所望のパターンの色変換層ないしカラーフィルタ層を作製することができるという点において、CCM法およびカラーフィルタ法がディスプレイの大面積化および高精細化に有利である。   As a full color method, a method of arranging a plurality of types of organic EL light emitting elements emitting different colors on a substrate (so-called three-color coating method), a color conversion method by converting the light emission of the backlight into a wavelength distribution ( Hereinafter, a color filter method that emits light emitted from a backlight through a color filter has been studied. Among these methods, it is not necessary to use a metal mask during film formation, and a CCM method and a color filter method can be used in that a color conversion layer or a color filter layer having a desired pattern can be produced using a photo process. This is advantageous for increasing the display area and resolution.

現在、有機ELパネルは、多色表示が可能なカラーパネルの開発が行われているが、カラーパネルの利用方法によっては、パネル内に常時点灯させなければならない箇所(たとえば、アイコン部、時計表示部など)が存在する可能性がある。しかし、常時点灯部分は連続通電されるために、焼き付きまたは輝度劣化などの問題を引き起こす可能性がある。そのために、常時点灯部分をマトリクス駆動ではなくスタティック駆動によってセグメント表示をしておく解決手法が採られることがある。たとえば、図1に示すように、可変表示可能なマトリクス駆動部600に加えて、スタティック駆動される固定表示セグメント部650および/または可変表示セグメント部660とを有する有機ELパネル500を形成してもよい。   Currently, the development of color panels capable of multi-color display is underway for organic EL panels, but depending on how the color panel is used, locations that must be constantly lit in the panel (for example, icons, clock displays) Part) may exist. However, since the constantly lit portion is energized continuously, there is a possibility of causing problems such as burn-in or luminance deterioration. For this reason, there is a case in which a solution method is employed in which segment display is performed by static driving instead of matrix driving for a constantly lit portion. For example, as shown in FIG. 1, an organic EL panel 500 having a fixed display segment unit 650 and / or a variable display segment unit 660 that are statically driven in addition to a matrix driving unit 600 capable of variable display may be formed. Good.

有機ELパネルにセグメント部を形成する場合には、陰極あるいは陽極のいずれか一方をパターニングして表示形状に形成し、他方を共通電極として用いることが知られている(特許文献1参照)。また、支持基板上に表示形状に形成された金属陰極と、有機EL層と、共通電極(陽極)として用いられる透明電極とを備えた、支持基板とは反対側に光を取り出すいわゆるトップエミッション方式のセグメント表示有機ELパネルが提案されている(特許文献2参照)。   When forming a segment part in an organic EL panel, it is known that either a cathode or an anode is patterned to form a display shape, and the other is used as a common electrode (see Patent Document 1). In addition, a so-called top emission method that includes a metal cathode formed in a display shape on a support substrate, an organic EL layer, and a transparent electrode used as a common electrode (anode), that extracts light on the side opposite to the support substrate Segment display organic EL panels have been proposed (see Patent Document 2).

特開平09−106887号公報JP 09-106887 A 特開平10−208882号公報JP-A-10-208882 C. W. Tang, S. A. VanSlike, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987)C. W. Tang, S. A. VanSlike, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987)

しかしながら、透明電極を形成するのに一般的に用いられるITOまたはIZOのような透明導電性金属酸化物は、金属材料に比較して電導度が小さい。このことから透明導電性金属酸化物を用いて共通電極を形成しても、配線抵抗を大きく低減することはできない。また、トップエミッション構造では、上記の透明導電性金属酸化物の伝導性が小さいことを考慮すると、支持基板側に配設される金属電極を共通電極とし、光取り出し側に配設する導電性金属酸化物膜のパターンは、フォトリソグラフによるパターニング、あるいは位置合わせをした製膜マスクを用いた形成を行う必要がある。しかしながら、フォトリソグラフによるパターニングは、有機EL層に深刻なダメージを与える懸念がある。また、製膜マスクを用いる方法は、製膜マスクの位置合わせを精密に行う必要があるので装置費用が高価になり、製造工程が煩雑になる。   However, a transparent conductive metal oxide such as ITO or IZO, which is generally used to form a transparent electrode, has a lower conductivity than a metal material. Therefore, even if the common electrode is formed using the transparent conductive metal oxide, the wiring resistance cannot be greatly reduced. In the top emission structure, considering that the conductivity of the transparent conductive metal oxide is small, the metal electrode disposed on the support substrate side is used as a common electrode, and the conductive metal disposed on the light extraction side. The pattern of the oxide film needs to be formed by patterning by photolithography or using a film-forming mask that has been aligned. However, photolithographic patterning may cause serious damage to the organic EL layer. In addition, since the method using the film forming mask needs to precisely align the film forming mask, the cost of the apparatus becomes expensive and the manufacturing process becomes complicated.

したがって、配線抵抗を増大させることなしに、セグメント部(特に可変表示可能なセグメント部)を形成する方法が強く求められている。また、セグメント部の有機EL層上部に形成される第2電極をフォトリソグラフ法および製膜マスクを用いることなしに形成する方法もまた、求められている。   Therefore, there is a strong demand for a method of forming a segment portion (particularly a segment portion that can be variably displayed) without increasing the wiring resistance. There is also a need for a method of forming the second electrode formed on the organic EL layer in the segment portion without using a photolithographic method and a film-forming mask.

本発明の有機ELパネルは、基板と、基板上に設けられた第1電極、有機EL層および第2電極を含むセグメント部とを含む有機ELパネルであって:前記セグメント部が複数のセグメントを有し;前記第1電極が、金属電極と透明電極との積層構造を有し、かつ前記複数のセグメントの共通電極であり;前記第2電極は、逆テーパー断面形状を有する分離隔壁によって複数の部分に分離されていることを特徴とする。ここで、前記分離隔壁の周囲は、複数の直線と複数の曲線とで構成されており、前記複数の直線のそれぞれは端部をなす直線を除いて2つの曲線と連続しており、前記複数の曲線のそれぞれは2つの直線と連続しており、前記曲線は、3μm以上の曲率半径と90゜以上の屈曲角を有する円弧であることが望ましい。また、前記基板は、透明基板と、前記透明基板上に設けられた1つまたは複数の色変調部とを含む色変換フィルタであってもよい。   The organic EL panel of the present invention is an organic EL panel including a substrate and a segment portion including a first electrode, an organic EL layer and a second electrode provided on the substrate, wherein the segment portion includes a plurality of segments. The first electrode has a laminated structure of a metal electrode and a transparent electrode, and is a common electrode of the plurality of segments; the second electrode has a plurality of separated partition walls having a reverse tapered cross-sectional shape. It is characterized by being separated into parts. Here, the periphery of the separation partition is composed of a plurality of straight lines and a plurality of curves, and each of the plurality of straight lines is continuous with two curves except for a straight line forming an end, Each of the curves is continuous with two straight lines, and the curve is preferably an arc having a radius of curvature of 3 μm or more and a bending angle of 90 ° or more. The substrate may be a color conversion filter including a transparent substrate and one or more color modulation units provided on the transparent substrate.

また、本発明の有機ELパネルは、マトリクス駆動部第1電極、有機EL層およびマトリクス駆動部第2電極を含むマトリクス駆動部をさらに含んでもよい。ここで、前記マトリクス駆動部第2電極が、前記分離隔壁によって複数の部分に分離されていてもよい。   The organic EL panel of the present invention may further include a matrix driving unit including a matrix driving unit first electrode, an organic EL layer, and a matrix driving unit second electrode. Here, the second electrode of the matrix driver may be separated into a plurality of portions by the separation partition.

以上のように形成される本発明の有機ELパネルは、開口部を有する金属/透明導電性金属酸化物の積層体からなる第1電極を共通電極として用いることによって、配線抵抗の上昇を抑制することが可能となる。また、第2電極の分離を行う隔壁の形状を制御することによって、第2電極そのもののフォトリソグラフ法によるパターニングおよび製膜マスクを用いることなしに、所望の形状を有する第2電極を形成することが可能となり、セグメント部をより効率的に製造することができる。   The organic EL panel of the present invention formed as described above suppresses an increase in wiring resistance by using the first electrode made of a metal / transparent conductive metal oxide laminate having an opening as a common electrode. It becomes possible. Further, by controlling the shape of the partition wall for separating the second electrode, the second electrode having a desired shape can be formed without using the photolithographic patterning and film forming mask of the second electrode itself. Therefore, the segment part can be manufactured more efficiently.

図2および図3に、本発明の有機ELパネルの第1電極部を示す。図2は第1電極部の上面図であり、図3は切断線(III−III)における断面図である。基板10上に形成される第1電極は、金属電極20および透明電極30の積層体であり、透明電極30の上に複数の開口部を有する絶縁膜40が形成されている。   2 and 3 show the first electrode portion of the organic EL panel of the present invention. FIG. 2 is a top view of the first electrode portion, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the cutting line (III-III). The first electrode formed on the substrate 10 is a laminate of the metal electrode 20 and the transparent electrode 30, and the insulating film 40 having a plurality of openings is formed on the transparent electrode 30.

基板1は、透明基板であってもよく、透明基板上に色変調部を設けた色変換フィルタであってもよい。透明基板は、可視光(波長400〜700nm)に対して透明であることが望ましい。透明基板の材料として好ましいものは、ガラス、ならびにポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等の樹脂を含む。ホウケイ酸ガラスまたは青板ガラス等が特に好ましいものである。   The substrate 1 may be a transparent substrate or a color conversion filter in which a color modulation unit is provided on the transparent substrate. The transparent substrate is desirably transparent to visible light (wavelength 400 to 700 nm). Preferred materials for the transparent substrate include glass and resins such as polyethylene terephthalate and polymethyl methacrylate. Borosilicate glass or blue plate glass is particularly preferable.

透明基板上に設けられる色変調部は、カラーフィルタ層、色変換層、またはカラーフィルタ層と色変換層との積層体から構成することができる。カラーフィルタ層は、所望される波長域の光のみを透過させる層である。また、色変換層との積層構成を採る場合、色変換層にて波長分布変換された光の色純度を向上させることにカラーフィルタ層は有効である。カラーフィルタ層は、たとえば、市販の液晶用カラーフィルタ材料(富士フイルムアーチ製カラーモザイクなど)を用いて形成することができる。   The color modulation section provided on the transparent substrate can be composed of a color filter layer, a color conversion layer, or a laminate of the color filter layer and the color conversion layer. The color filter layer is a layer that transmits only light in a desired wavelength range. In the case of adopting a laminated structure with the color conversion layer, the color filter layer is effective in improving the color purity of the light subjected to wavelength distribution conversion in the color conversion layer. The color filter layer can be formed using, for example, a commercially available color filter material for liquid crystal (such as a color mosaic manufactured by Fuji Film Arch).

色変換層は、色変換色素とマトリクス樹脂からなる層である。色変換色素は、入射光の波長分布変換を行って、異なる波長域の光を放射する色素であり、好ましくは有機発光層からの近紫外光または青色〜青緑色の光の波長分布変換を行って、所望の波長域の光(たとえば、青色、緑色または赤色)を放射する色素である。色変換色素としては、赤色光を放射するローダミン系色素、シアニン系色素など;緑色光を放射するクマリン系色素、ナフタルイミド系色素など;青色光を放射するクマリン系色素など、当該技術で知られている任意のものを用いることができる。   The color conversion layer is a layer made of a color conversion dye and a matrix resin. The color conversion dye is a dye that converts the wavelength distribution of incident light and emits light in different wavelength ranges, and preferably converts the wavelength distribution of near-ultraviolet light or blue to blue-green light from the organic light emitting layer. Thus, it is a pigment that emits light in a desired wavelength band (for example, blue, green, or red). Color conversion dyes are known in the art, such as rhodamine dyes and cyanine dyes that emit red light; coumarin dyes and naphthalimide dyes that emit green light; and coumarin dyes that emit blue light. Any thing that can be used.

1つの有機ELパネルに、複数種の色変調部、たとえば有機発光層からの光を吸収して赤色光を放射する赤色変調部、緑色光を放射する緑色変調部、青色光を放射する青色変調部などを設けてもよい。本発明においては、1つのセグメント(透明電極の1つの開口部に相当する)において、1種類の色変調部を設けて、該色変調部に相当する光を取り出してもよい。あるいはまた、1つのセグメント中に微細な部分に分割された複数種の色変調部を所定の比率で設けることによって、所望の色相を有する光を取り出してもよい。   In one organic EL panel, multiple types of color modulators, for example, a red modulator that absorbs light from an organic light emitting layer and emits red light, a green modulator that emits green light, and a blue modulator that emits blue light A part or the like may be provided. In the present invention, one type of color modulation unit may be provided in one segment (corresponding to one opening of the transparent electrode), and light corresponding to the color modulation unit may be extracted. Alternatively, light having a desired hue may be extracted by providing a plurality of types of color modulation sections divided into fine portions in one segment at a predetermined ratio.

色変調部は、スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法などを用いて各層の材料を塗布し、続いてフォトリソグラフ法などを用いてパターニングすることによって形成することができる。必要に応じて、電極形成表面の平坦化を行うための平坦化層(種々の有機樹脂を用いて形成することができる)、色変調部からの酸素および/または水分などが有機EL層へと移動することを防止するパッシベーション層(無機酸化物、無機窒化物などを用いて形成することができる)などを色変調部を覆うように形成してもよい。   The color modulation part can be formed by applying the material of each layer using a spin coat method, a roll coat method, a cast method, a dip coat method, etc., and then patterning using a photolithographic method or the like. If necessary, a flattening layer (which can be formed using various organic resins) for flattening the electrode formation surface, oxygen and / or moisture from the color modulation portion, and the like to the organic EL layer A passivation layer (which can be formed using an inorganic oxide, an inorganic nitride, or the like) that prevents movement may be formed so as to cover the color modulation portion.

金属電極20は、基板10を通して光を外部へと取り出すために必要な開口部を除いて、外部駆動回路との接続部から表示部全体にわたって形成されている。金属電極20は、Au、Ag、Cu、Al、Mo、Cr、Ni等の金属、あるいは、Al−Ag、Al−Cu等の合金を用いて形成することができる。金属電極20は、所望の形状のマスクを用いた蒸着法またはスパッタ法によって形成してもよいし、基板全面に蒸着法またはスパッタ法によって形成した後に、フォトリソグラフ法などを用いて所望の形状にパターニングを行ってもよい。金属電極20は、通常10〜200nm、好ましくは100〜500nmの厚さを有する。この導電率の高い金属または合金を用い、前述の範囲内の厚さとすることによって、金属電極20と透明電極30との積層構造である第1電極のシート抵抗値(すなわち配線抵抗)を低減させ、第1電極中で発生する電圧降下を抑制することが可能となる。   The metal electrode 20 is formed from the connection portion with the external drive circuit to the entire display portion except for an opening portion necessary for taking out light through the substrate 10 to the outside. The metal electrode 20 can be formed using a metal such as Au, Ag, Cu, Al, Mo, Cr, Ni, or an alloy such as Al—Ag, Al—Cu. The metal electrode 20 may be formed by an evaporation method or a sputtering method using a mask having a desired shape, or after being formed on the entire surface of the substrate by an evaporation method or a sputtering method, the metal electrode 20 is formed into a desired shape by using a photolithography method or the like. Patterning may be performed. The metal electrode 20 usually has a thickness of 10 to 200 nm, preferably 100 to 500 nm. By using a metal or alloy having high conductivity and having a thickness within the above-mentioned range, the sheet resistance value (that is, wiring resistance) of the first electrode that is a laminated structure of the metal electrode 20 and the transparent electrode 30 is reduced. It is possible to suppress a voltage drop that occurs in the first electrode.

透明電極30は、SnO、In、ITO、IZO、ZnO:Alなどの導電性金属酸化物をスパッタ法を用いて積層することにより形成される。透明電極30は、少なくとも、光を外部へと取り出すために必要な開口部を含む表示部全体にわたって形成され、金属電極20と電気的に接続されている。必要に応じて、外部駆動回路との接続部においても透明電極30を形成してもよいが、必ずしも必要ではない。透明電極30は、開口部において、通常50nm以上、好ましくは50nm〜1μm、より好ましくは100〜300nmの範囲内の厚さを有することが望ましい。 The transparent electrode 30 is formed by laminating conductive metal oxides such as SnO 2 , In 2 O 3 , ITO, IZO, ZnO: Al using a sputtering method. The transparent electrode 30 is formed over at least the entire display portion including an opening necessary for extracting light to the outside, and is electrically connected to the metal electrode 20. If necessary, the transparent electrode 30 may be formed also in the connection portion with the external drive circuit, but it is not always necessary. The transparent electrode 30 desirably has a thickness of 50 nm or more, preferably 50 nm to 1 μm, more preferably 100 to 300 nm in the opening.

図3においては、基板10/金属電極20/透明電極30の積層構造を例示したが、金属電極20と透明電極30との積層順序を逆にしてもよい。しかしながら、透明電極30上に金属電極の残渣を残さないために、図3に示すように金属電極20上に透明電極30を形成することが望ましい。   In FIG. 3, the laminated structure of the substrate 10 / metal electrode 20 / transparent electrode 30 is illustrated, but the lamination order of the metal electrode 20 and the transparent electrode 30 may be reversed. However, in order not to leave a metal electrode residue on the transparent electrode 30, it is desirable to form the transparent electrode 30 on the metal electrode 20 as shown in FIG.

本発明において、金属電極20および透明電極30の積層構造を有する第1電極は、キャリア注入効率の観点から陽極として用いることが好ましい。上記の積層構造を有する第1電極は、導電性金属酸化物を単独で用いた場合よりも低いシート抵抗値を示し、共通電極として用いた場合にも配線抵抗の増大を抑制することが可能である。   In the present invention, the first electrode having a laminated structure of the metal electrode 20 and the transparent electrode 30 is preferably used as an anode from the viewpoint of carrier injection efficiency. The first electrode having the above laminated structure exhibits a lower sheet resistance value than when a conductive metal oxide is used alone, and can suppress an increase in wiring resistance even when used as a common electrode. is there.

透明電極30上に形成される絶縁膜40は、第1電極として機能する部分を画定するための層であり、金属電極20の開口部に相当する位置を除いて透明電極30の全面に設けられる。絶縁膜40は、フォトレジストまたはポリイミドなどの有機樹脂系材料、あるいはSiO、SiN、SiN、AlO、TiO、TaOなどの無機酸化物、無機窒化物または無機酸化窒化物を用いて形成することができる。絶縁膜40の形成には、乾式法(スパッタ法、蒸着法、CVD法など)、および湿式法(スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法、ゾルゲル法など)などの、当該技術において知られている任意の方法を用いることができる。 The insulating film 40 formed on the transparent electrode 30 is a layer for defining a portion that functions as the first electrode, and is provided on the entire surface of the transparent electrode 30 except for a position corresponding to the opening of the metal electrode 20. . The insulating film 40 is made of an organic resin material such as photoresist or polyimide, or an inorganic oxide such as SiO x , SiN x , SiN x O y , AlO x , TiO x , TaO x , inorganic nitride, or inorganic oxynitride. Can be used. For the formation of the insulating film 40, such techniques as dry methods (sputtering method, vapor deposition method, CVD method, etc.) and wet methods (spin coating method, roll coating method, casting method, dip coating method, sol-gel method, etc.) Any method known in can be used.

図4に、本発明の有機ELパネルの断面図を示す。図3に示した絶縁膜40以下の構造の上に、分離隔壁50、有機EL層60および第2電極70が順次積層された構造を有する。   FIG. 4 shows a cross-sectional view of the organic EL panel of the present invention. On the structure below the insulating film 40 shown in FIG. 3, the separation partition wall 50, the organic EL layer 60, and the second electrode 70 are sequentially stacked.

有機EL層60は、有機発光層を少なくとも含み、必要に応じて正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層および/または電子注入層を含む。これらの各層は、それぞれにおいて所望される特性を実現するのに充分な膜厚を有して形成される。たとえば、下記のような層構成からなるものが採用される。
(1)有機発光層
(2)正孔注入層/有機発光層
(3)有機発光層/電子注入層
(4)正孔注入層/有機発光層/電子注入層
(5)正孔輸送層/有機発光層/電子注入層
(6)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子注入層
(7)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層/電子注入層
(上記の構成において、陽極として機能する電極が左側に接続され、陰極として機能する電極が右側に接続される)
The organic EL layer 60 includes at least an organic light emitting layer, and includes a hole transport layer, a hole injection layer, an electron transport layer, and / or an electron injection layer as necessary. Each of these layers is formed to have a film thickness sufficient to realize desired characteristics in each layer. For example, what consists of the following layer structures is employ | adopted.
(1) Organic light emitting layer (2) Hole injection layer / organic light emitting layer (3) Organic light emitting layer / electron injection layer (4) Hole injection layer / organic light emitting layer / electron injection layer (5) Hole transport layer / Organic light emitting layer / electron injection layer (6) Hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron injection layer (7) Hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron transport layer / electron injection Layer (In the above configuration, the electrode functioning as the anode is connected to the left side, and the electrode functioning as the cathode is connected to the right side)

有機発光層の材料としては、任意の公知の材料を用いることができる。たとえば、青色から青緑色の発光を得るためには、例えば縮合芳香環化合物、環集合化合物、金属錯体、スチリルベンゼン系化合物、ポルフィリン系化合物、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、べンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、芳香族ジメチリディン系化合物などの材料が好ましく使用される。あるいはまた、ホスト化合物にドーパントを添加することによって、種々の波長域の光を発する有機発光層を形成してもよい。ホスト化合物としては、ジスチリルアリーレン系化合物(たとえば出光興産製IDE−120など)、N,N’−ジトリル−N,N’−ジフェニルビフェニルアミン(TPD)、アルミニウムトリス(8−キノリノラート)(Alq)等を用いることができる。ドーパントとしては、ペリレン(青紫色)、クマリン6(青色)、キナクリドン系化合物(青緑色〜緑色)、ルブレン(黄色)、4−ジシアノメチレン−2−(p−ジメチルアミノスチリル)−6−メチル−4H−ピラン(DCM、赤色)、白金オクタエチルポルフィリン錯体(PtOEP、赤色)などを用いることができる。 Any known material can be used as the material of the organic light emitting layer. For example, in order to obtain light emission from blue to blue-green, for example, condensed aromatic ring compounds, ring assembly compounds, metal complexes, styrylbenzene compounds, porphyrin compounds, benzothiazoles, benzimidazoles, benzoxazoles, etc. Materials such as fluorescent brighteners and aromatic dimethylidin compounds are preferably used. Or you may form the organic light emitting layer which emits the light of a various wavelength range by adding a dopant to a host compound. Examples of host compounds include distyrylarylene compounds (for example, IDE-120 manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.), N, N′-ditolyl-N, N′-diphenylbiphenylamine (TPD), aluminum tris (8-quinolinolate) (Alq 3 ). ) Etc. can be used. As dopants, perylene (blue purple), coumarin 6 (blue), quinacridone compounds (blue green to green), rubrene (yellow), 4-dicyanomethylene-2- (p-dimethylaminostyryl) -6-methyl- 4H-pyran (DCM, red), platinum octaethylporphyrin complex (PtOEP, red), or the like can be used.

正孔注入層の材料としては、Pc類(CuPcなどを含む)またはインダンスレン系化合物などを用いることができる。   As a material for the hole injection layer, Pc (including CuPc) or indanthrene compounds can be used.

正孔輸送層は、トリアリールアミン部分構造、カルバゾール部分構造、オキサジアゾール部分構造を有する材料(たとえばTPD、α−NPD、PBD、m−MTDATAなど)を用いて形成することができる。   The hole transport layer can be formed using a material having a triarylamine partial structure, a carbazole partial structure, or an oxadiazole partial structure (eg, TPD, α-NPD, PBD, m-MTDATA, etc.).

電子輸送層の材料としては、PBD、TPOBのようなオキサジアゾール誘導体;TAZのようなトリアゾール誘導体;トリアジン誘導体;フェニルキノキサリン類;BMB−2T、BMB−3Tのようなチオフェン誘導体;Alqのようなアルミニウム錯体などを用いることができる。 The material of the electron transport layer, PBD, oxadiazole derivatives such as TPOB; triazine derivatives; phenylquinoxalines like; triazole derivatives such as TAZ BMB-2T, thiophene derivatives such as BMB-3T; as Alq 3 An aluminum complex or the like can be used.

電子注入層の材料としては、Alqのようなアルミニウム錯体、または、アルカリ金属ないしアルカリ土類金属をドープしたアルミニウムのキノリノール錯体などを用いることができる。 As the material for the electron injection layer, an aluminum complex such as Alq 3 or an aluminum quinolinol complex doped with an alkali metal or an alkaline earth metal can be used.

また、電子注入効率を向上させることを目的として、有機EL層60と陰極として用いる電極(好ましくは第2電極70)との界面に、アルカリ金属、アルカリ土類金属またはそれらを含む合金、アルカリ金属フッ化物などの電子注入性材料からなるバッファ層を形成してもよい。これらの材料の光透過性を考慮して、バッファ層の膜厚を10nm以下とすることが望ましい。   Further, for the purpose of improving the electron injection efficiency, an alkali metal, an alkaline earth metal, an alloy containing them, an alkali metal or the like is formed at the interface between the organic EL layer 60 and an electrode used as a cathode (preferably the second electrode 70). A buffer layer made of an electron injecting material such as fluoride may be formed. In consideration of the light transmittance of these materials, the thickness of the buffer layer is desirably 10 nm or less.

有機EL層60を構成するそれぞれの層およびバッファ層は、蒸着(抵抗加熱または電子ビーム加熱)などの当該技術において知られている任意の手段を用いて形成することができる。   Each layer and buffer layer constituting the organic EL layer 60 can be formed by using any means known in the art such as vapor deposition (resistance heating or electron beam heating).

第2電極70は、高反射率の金属およびその合金、アモルファス合金、微結晶性合金を用いて形成されることが好ましい。高反射率の金属は、Al、Ag、Mo、W、Ni、Crなどを含む。高反射率の合金は、1つまたは複数の前述の金属を含む合金であり、たとえばAl−Ag合金、Al−Li合金、Mg−Ag合金などを用いることができる。高反射率のアモルファス合金は、NiP、NiB、CrPおよびCrBなどを含む。高反射率の微結晶性合金は、NiAlなどを含む。本発明においては、第2電極70を陰極として用いることが望ましい。第2電極70は、蒸着(抵抗加熱または電子ビーム加熱)などの当該技術において知られている任意の手段を用いて形成することができる。   The second electrode 70 is preferably formed using a highly reflective metal and its alloys, amorphous alloys, and microcrystalline alloys. High reflectivity metals include Al, Ag, Mo, W, Ni, Cr, and the like. The high reflectivity alloy is an alloy containing one or more of the aforementioned metals, and for example, an Al—Ag alloy, an Al—Li alloy, an Mg—Ag alloy, or the like can be used. High reflectivity amorphous alloys include NiP, NiB, CrP, CrB, and the like. High reflectivity microcrystalline alloys include NiAl and the like. In the present invention, it is desirable to use the second electrode 70 as a cathode. The second electrode 70 can be formed using any means known in the art such as vapor deposition (resistance heating or electron beam heating).

有機EL層60および第2電極70の形成前に分離隔壁50を形成して、有機EL層60および第2電極70を、セグメントおよびその配線部と、それ以外の非表示部とに分離する。分離隔壁50は、ネガ型フォトレジストを用い、塗布、パターン露光および現像処理を施すことによって逆テーパー形状断面を有して形成される。   The separation partition 50 is formed before the formation of the organic EL layer 60 and the second electrode 70, and the organic EL layer 60 and the second electrode 70 are separated into segments and wiring portions thereof and other non-display portions. The separation partition 50 is formed to have a reverse tapered cross section by using a negative photoresist and performing coating, pattern exposure, and development processing.

第2電極70は、フォトリソグラフ法も製膜マスクも用いることなしに、逆テーパー状の断面を有する分離隔壁50を用いて、所望のパターンに形成される。分離隔壁50は、ネガ型フォトレジストを用い、塗布、パターン露光および現像処理を施すことによって逆テーパー形状断面を有して形成される。第2電極の形状の例を図5に示す。図5においては、数字の表示に一般的に用いられる7個のセグメントからなる「日」型の配列を示している。第2電極70のそれぞれは、金属電極20の開口部に設けられた透明電極30に対向して形成されて各セグメントと、絶縁膜40上方に存在し、外部接続端子へと連絡する配線部とを有する。   The second electrode 70 is formed in a desired pattern by using the separation partition wall 50 having a reverse tapered cross section without using a photolithographic method or a film forming mask. The separation partition 50 is formed to have a reverse tapered cross section by using a negative photoresist and performing coating, pattern exposure, and development processing. An example of the shape of the second electrode is shown in FIG. FIG. 5 shows a “day” -shaped arrangement composed of seven segments generally used for displaying numbers. Each of the second electrodes 70 is formed so as to face the transparent electrode 30 provided in the opening of the metal electrode 20, each segment, and a wiring portion that exists above the insulating film 40 and communicates with the external connection terminal. Have

ここで、分離隔壁50を屈曲させて形成する場合に、分離隔壁の変曲点において充分な逆テーパー断面形状が得られないことが従来から知られている。充分な逆テーパー断面形状が得られない場合、隣接する第2電極が電気的に分離されないという故障を発生させる。この逆テーパー断面形状の異常は、パターン露光に用いるフォトマスクの変曲点(分離隔壁の変曲点に相当する位置にある)において、光の回り込みが発生し、変曲点以外の部分よりも過剰に露光される部分が発生するためと推測される。   Here, it is conventionally known that when the separation partition 50 is bent and formed, a sufficient reverse tapered cross-sectional shape cannot be obtained at the inflection point of the separation partition. If a sufficient reverse taper cross-sectional shape cannot be obtained, a failure occurs in which adjacent second electrodes are not electrically separated. This reverse taper cross-sectional shape abnormality is caused by the wraparound of light at the inflection point of the photomask used for pattern exposure (at the position corresponding to the inflection point of the separation partition wall), and more than the portion other than the inflection point. This is presumably because an excessively exposed part occurs.

本発明者らは、特定の形状のフォトマスクを用いて特定の形状の分離隔壁50を形成することによって、この問題点を回避できることを見出した。図5のVIで示した部分の拡大図を、図6に示す。   The present inventors have found that this problem can be avoided by forming the separation partition wall 50 having a specific shape using a photomask having a specific shape. FIG. 6 shows an enlarged view of the portion indicated by VI in FIG.

本発明の分離隔壁50は、複数の直線部51と複数の屈曲部52からなり、複数の直線部51のそれぞれ(両端を除く)は2つの屈曲部52に連結され、および複数の屈曲部52のそれぞれ(両端を除く)は、2つの直線部51に連結されている。本発明における「分離隔壁の直線部51」とは、分離隔壁の側部が直線状である部分を意味する。1つの直線部51において存在する2つの側部は、平行であっても、平行でなくてもよい。たとえば、直線部51は、その一端から他端に向かって分離隔壁50の幅が単調に増加する形状であってもよい。本発明における「分離隔壁の屈曲部52」とは、分離隔壁の側部が円弧で形成されている部分を意味する。本発明において、屈曲部52の側部は、3μm以上、好ましくは5〜50μmの曲率半径rを有する。屈曲部52の2つの側部は、異なる曲率半径を有してもよい。また直線部51と屈曲部52との連結部分において、直線部51のそれぞれの側部の直線は、屈曲部52の対応する側部の円弧の接線となるようにして、変曲点を形成させないことが望ましい。また、本発明において、それぞれの屈曲部52は、屈曲角θ(すなわち、曲線部に隣接する2つの直線部の側部がなす角)が90゜以上180゜未満となるような長さを有する。   The separation partition wall 50 of the present invention includes a plurality of straight portions 51 and a plurality of bent portions 52, and each of the plurality of straight portions 51 (excluding both ends) is connected to the two bent portions 52, and the plurality of bent portions 52. Each (except for both ends) is connected to two linear portions 51. The “straight portion 51 of the separation partition wall” in the present invention means a portion where the side portion of the separation partition wall is linear. The two side portions existing in one linear portion 51 may be parallel or non-parallel. For example, the straight part 51 may have a shape in which the width of the separation partition wall 50 monotonously increases from one end to the other end. The “bent portion 52 of the separation partition wall” in the present invention means a portion where the side portion of the separation partition wall is formed with an arc. In the present invention, the side portion of the bent portion 52 has a radius of curvature r of 3 μm or more, preferably 5 to 50 μm. The two sides of the bent portion 52 may have different radii of curvature. In addition, in the connecting portion between the straight portion 51 and the bent portion 52, the straight line on each side portion of the straight portion 51 is tangent to the arc of the corresponding side portion of the bent portion 52 so that no inflection point is formed. It is desirable. In the present invention, each bent portion 52 has a length such that the bent angle θ (that is, the angle formed by the side portions of two straight portions adjacent to the curved portion) is 90 ° or more and less than 180 °. .

換言すれば、本発明の分離隔壁50の周囲は、複数の直線と複数の曲線から構成されており、前記複数の直線のそれぞれは、端部をなす直線を除いて2つの曲線と連続しており、前記複数の曲線のそれぞれは2つの直線と連続しており、前記曲線のそれぞれは3μm以上の曲率半径rおよび90゜以上の屈曲角θ(当該曲線に連続する2つの直線のなす角)を有する円弧である。また、連続している1つの直線と1つの曲線の連結部分において、該直線は、該曲線の接線であることが望ましい。   In other words, the periphery of the separation partition wall 50 of the present invention is composed of a plurality of straight lines and a plurality of curves, and each of the plurality of straight lines is continuous with two curves except for a straight line forming an end. Each of the plurality of curves is continuous with two straight lines, and each of the curves has a radius of curvature r of 3 μm or more and a bending angle θ of 90 ° or more (an angle formed by two straight lines continuous with the curve). Is an arc having In addition, in a connecting portion of one continuous straight line and one curved line, the straight line is preferably a tangent line of the curved line.

分離隔壁50を形成する際のパターン露光に用いられるフォトマスクは、分離隔壁と同様の構造を有するものである。   The photomask used for pattern exposure when forming the separation partition 50 has a structure similar to that of the separation partition.

以上説明した構成において、有機EL素子は第1電極を共通電極とし、第2電極を各セグメントに相当する形状の電極として、スタティック駆動される。スタティック駆動を行うことによって、セグメント部全体を同時に発光させることができ、デューティ比の影響を受けるマトリクス駆動の場合よりも、低電力でより明るい表示を行うことが可能となる。   In the configuration described above, the organic EL element is statically driven with the first electrode as a common electrode and the second electrode as an electrode having a shape corresponding to each segment. By performing static driving, the entire segment portion can emit light at the same time, and a brighter display can be achieved with lower power than in the case of matrix driving that is affected by the duty ratio.

また、図1に示したように、スタティック駆動される固定表示セグメント部650および/または可変表示セグメント部660に加えて、可変表示が可能なマトリクス駆動部600をさらに設けることができる。   As shown in FIG. 1, in addition to the fixed display segment unit 650 and / or the variable display segment unit 660 that are statically driven, a matrix driving unit 600 that can perform variable display can be further provided.

マトリクス駆動部600は、複数のストライプ状部分からなるマトリクス駆動部第1電極、有機EL層、複数のストライプ形状部分からなるマトリクス駆動部第2電極を含み、有機EL層およびマトリクス駆動部第2電極は、分離隔壁によって分離される。   The matrix drive unit 600 includes a matrix drive unit first electrode composed of a plurality of stripe-shaped portions, an organic EL layer, and a matrix drive unit second electrode composed of a plurality of stripe-shaped portions, and the organic EL layer and the matrix drive unit second electrode Are separated by a separation partition.

マトリクス駆動部第1電極は、第1の方向の延びる複数のストライプ状部分から形成される。マトリクス駆動部第1電極は、前述の透明電極30と同様の材料で形成することができる。必要に応じて、第1の方向に延びる複数のストライプ形状部分を有し、前述の金属電極20と同様の材料で形成され、それぞれのストライプ形状部分が透明導電性酸化物で形成されたストライプ状部分のそれぞれに対して電気的に接続されている補助電極を設けてもよい。補助電極を形成することは、配線抵抗の低減に有効である。あるいはまた、マトリクス駆動部第1電極の外部接続端子を、前述の金属電極20と同様の材料で形成してもよい。   The matrix driver first electrode is formed of a plurality of stripe-shaped portions extending in the first direction. The matrix drive unit first electrode can be formed of the same material as the transparent electrode 30 described above. If necessary, a stripe shape having a plurality of stripe-shaped portions extending in the first direction, formed of the same material as that of the metal electrode 20, and each stripe-shaped portion formed of a transparent conductive oxide. An auxiliary electrode that is electrically connected to each of the portions may be provided. Forming the auxiliary electrode is effective in reducing the wiring resistance. Alternatively, the external connection terminal of the matrix drive unit first electrode may be formed of the same material as that of the metal electrode 20 described above.

有機EL層およびマトリクス駆動部第2電極は、前述のセグメント部と同様の構成を有し、好ましくは、分離隔壁50による分離作用に基づいて、セグメント部の有機EL層および第2電極のそれぞれと同時に形成される。マトリクス駆動部第2電極は、第2の方向に延びる複数のストライプ状部分から形成される。ここで、第1の方向は、第2の方向と交差しており、好ましくは第2の方向と直交している。マトリクス駆動部第1電極のストライプ状部分とマトリクス駆動部第2電極のストライプ状部分の交差している部分が、発光部(ピクセルまたはサブピクセル)となる。また、マトリクス駆動部第2電極の外部接続端子を、前述の金属電極20と同様の材料で形成してもよい。   The organic EL layer and the matrix drive unit second electrode have the same configuration as the above-described segment unit, and preferably, based on the separation action by the separation partition 50, each of the organic EL layer and the second electrode of the segment unit Formed simultaneously. The matrix driver second electrode is formed of a plurality of stripe-shaped portions extending in the second direction. Here, the first direction intersects with the second direction, and is preferably orthogonal to the second direction. A portion where the stripe-like portion of the first electrode of the matrix driving unit and the stripe-like portion of the second electrode of the matrix driving unit intersect is a light emitting unit (pixel or subpixel). Further, the external connection terminal of the matrix drive unit second electrode may be formed of the same material as that of the metal electrode 20 described above.

マトリクス駆動部において、多色表示を行う場合には、基板1として複数種の色変調部を有する色変換フィルタを用いる。複数種の色変調部のそれぞれは、複数の部分から構成され、それら複数の部分はサブピクセルに相当する位置に配置される。たとえば、フルカラー表示を行う場合には、赤色変調部、緑色変調部および青色変調部を組み合わせたピクセル(各色の色変調部がサブピクセルに相当する)を単位として、マトリクス駆動部内にそれらピクセルを配列することが望ましい。   When performing multicolor display in the matrix drive unit, a color conversion filter having a plurality of types of color modulation units is used as the substrate 1. Each of the plurality of types of color modulation units includes a plurality of portions, and the plurality of portions are arranged at positions corresponding to sub-pixels. For example, when performing full-color display, the pixels are arranged in the matrix drive unit in units of pixels (a color modulation unit of each color corresponds to a sub-pixel) that is a combination of a red modulation unit, a green modulation unit, and a blue modulation unit. It is desirable to do.

(実施例1)
10mm角のパッシブマトリクス駆動部と2mm角のスタティック駆動緑色発光可変表示セグメント部とを有する有機ELパネルを作製した。サブピクセルのサイズを100μm×300μmとし、フィルファクターを70%とした。ガラス基板上の色変調部以外の部分にブラックマスクを形成した。マトリクス駆動部においては、赤色変調部、緑色変調部および青色変調部を1つのピクセルとし、該ピクセルをマトリクス駆動部全体に配列させた。一方、可変表示セグメント部においては、セグメントとなるべき部分に緑色変調部を配置した。ここで、赤色および緑色変調部はカラーフィルタ層と色変換層との積層構造とし、青色変調部はカラーフィルタ層のみから構成した。次に、平坦化層およびパッシベーション層を順次形成して、基板1を形成した。
Example 1
An organic EL panel having a 10 mm square passive matrix drive section and a 2 mm square static drive green light emission variable display segment section was produced. The subpixel size was 100 μm × 300 μm, and the fill factor was 70%. A black mask was formed on portions other than the color modulation portion on the glass substrate. In the matrix driving unit, the red modulation unit, the green modulation unit, and the blue modulation unit are used as one pixel, and the pixels are arranged in the entire matrix driving unit. On the other hand, in the variable display segment part, a green color modulation part is arranged in a part to be a segment. Here, the red and green modulation portions have a laminated structure of a color filter layer and a color conversion layer, and the blue modulation portion is composed of only the color filter layer. Next, a planarizing layer and a passivation layer were sequentially formed to form the substrate 1.

パッシベーション層の上に、スパッタ法にて膜厚500nmのMoを成膜し、必要なパターニングを行って金属電極20を形成した。すなわち、マトリクス駆動部においては、第2電極の外部接続端子部分にのみMo膜を残した。可変表示セグメント部においては、セグメントとなる開口部以外の部分にMo膜を残した。形成されたMo膜の抵抗率は、1.5×10−5Ω・cmであった。 On the passivation layer, Mo having a thickness of 500 nm was formed by sputtering, and necessary patterning was performed to form the metal electrode 20. That is, in the matrix driving part, the Mo film was left only in the external connection terminal portion of the second electrode. In the variable display segment part, the Mo film was left in the part other than the opening part to be the segment. The resistivity of the formed Mo film was 1.5 × 10 −5 Ω · cm.

次に、インジウム−亜鉛酸化物(IZO)をターゲット、Arおよび酸素をスパッタガスとして用いるスパッタ法によって膜厚200nmのIZO膜を形成し、次にエッチング液としてシュウ酸を用いるフォトリソグラフ法によってパターニングを行い、透明電極30を形成した。すなわち、マトリクス駆動部においては、幅100μmの複数のストライプ状部分からなるパターンを残した。一方、可変表示セグメント部においては、開口部を含む全面にIZOを残した。   Next, a 200 nm-thick IZO film is formed by sputtering using indium-zinc oxide (IZO) as a target and Ar and oxygen as sputtering gases, and then patterned by photolithography using oxalic acid as an etchant. The transparent electrode 30 was formed. That is, in the matrix driving unit, a pattern composed of a plurality of stripe-shaped portions having a width of 100 μm was left. On the other hand, in the variable display segment part, IZO was left on the entire surface including the opening.

次に、フォトリソグラフ法を用いてポリイミド膜(東レ(株)製、フォトニース)を形成し、絶縁膜40を得た。マトリクス駆動部においては、サブピクセルとなる位置以外の部分に絶縁膜40を形成した。一方、可変表示セグメント部においては、金属電極20の開口部以外の部分に絶縁膜を形成した。   Next, a polyimide film (manufactured by Toray Industries, Inc., Photo Nice) was formed using a photolithographic method, and an insulating film 40 was obtained. In the matrix driving unit, the insulating film 40 is formed in a portion other than the position to be the sub-pixel. On the other hand, in the variable display segment part, an insulating film was formed in a part other than the opening part of the metal electrode 20.

次に、ネガ型フォトレジスト(日本ゼオン製、ZPN1168)を用いて分離隔壁50を形成した。スピンコート法を用いてフォトレジストを塗布した後にプリベークし、フォトマスクを用いて所定のパターンで露光した後にポストエクスポージャベーク(110℃のホットプレート、60秒間)を行った。次いで現像を行って所望のパターンを形成した後に、15分間にわたって160℃のホットプレートで加熱して、焼成を行った。マトリクス駆動部においては、IZOのストライプの延びる方向と直交する方向マトリクス駆動部第1電極の外部接続端子を、前述の金属電極20と同様の材料で形成してもよい。に延びるストライプ形状とした。一方、可変表示セグメント部においては、図5および図6に示したような、直線部および5μm以上の曲率半径および90゜以上180゜未満の屈曲角を有する屈曲部からなる分離隔壁50を形成した。   Next, the separation partition wall 50 was formed using a negative photoresist (manufactured by Zeon Corporation, ZPN1168). After applying a photoresist using a spin coat method, it was pre-baked, and after exposure with a predetermined pattern using a photomask, post-exposure baking (110 ° C. hot plate, 60 seconds) was performed. Next, development was performed to form a desired pattern, and then baking was performed by heating on a hot plate at 160 ° C. for 15 minutes. In the matrix driving unit, the external connection terminal of the first electrode in the direction matrix driving unit orthogonal to the extending direction of the IZO stripe may be formed of the same material as that of the metal electrode 20 described above. It was made into the stripe shape extended to. On the other hand, in the variable display segment portion, as shown in FIGS. 5 and 6, the separation partition wall 50 is formed which includes a straight portion and a bent portion having a curvature radius of 5 μm or more and a bending angle of 90 ° or more and less than 180 °. .

以上のように形成した積層体を真空蒸着装置に移動させ、真空を破らずに有機EL層60、および反射電極70を蒸着法によって順次成膜した。有機EL層60は、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層、電子注入層の積層構造とした。装置の真空槽内圧を1×10−4Paまで減圧し、正孔注入層として膜厚100nmの銅フタロシアニンを、正孔輸送層として膜厚20nmの4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(α−NPD)を、有機発光層として膜厚30nmの4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)を、および電子注入層として膜厚20nmのアルミニウムトリス(8−キノリノラート)(Alq)を積層した。その後に、膜厚200nmのMg−Ag(Mg/Agは、重量比で10/1である)を積層して、第2電極70を形成した。分離隔壁50により、マトリクス駆動部においては、第2電極70は、透明電極30を形成するストライプ状部分と直交する方向に延びる、幅300nmの複数のストライプ状部分から構成された。一方、可変表示セグメント部においては、図5に示したようなセグメントおよび配線部を有する第2電極が形成された。 The laminated body formed as described above was moved to a vacuum vapor deposition apparatus, and the organic EL layer 60 and the reflective electrode 70 were sequentially formed by vapor deposition without breaking the vacuum. The organic EL layer 60 has a stacked structure of a hole injection layer, a hole transport layer, an organic light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer. The pressure in the vacuum chamber of the apparatus is reduced to 1 × 10 −4 Pa, copper phthalocyanine having a thickness of 100 nm is used as a hole injection layer, and 4,4′-bis [N- (1- Naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (α-NPD) as an organic light-emitting layer, 30 nm-thick 4,4′-bis (2,2′-diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi), and an electron injection layer Aluminum tris (8-quinolinolate) (Alq 3 ) having a thickness of 20 nm was laminated. Thereafter, Mg-Ag (Mg / Ag is 10/1 by weight) having a film thickness of 200 nm was laminated to form the second electrode 70. Due to the separation barrier 50, in the matrix driving unit, the second electrode 70 is composed of a plurality of stripe-like portions having a width of 300 nm extending in a direction orthogonal to the stripe-like portion forming the transparent electrode 30. On the other hand, in the variable display segment part, the second electrode having the segment and the wiring part as shown in FIG. 5 was formed.

得られた有機ELパネルを、乾燥窒素雰囲気下(酸素濃度および水分濃度ともに10ppm以下)において、封止ガラスおよびUV硬化型接着剤を用いて封止した。   The obtained organic EL panel was sealed with a sealing glass and a UV curable adhesive in a dry nitrogen atmosphere (both oxygen concentration and moisture concentration were 10 ppm or less).

得られた有機ELパネルにおいて、第2電極間の分離不良は発生せず、可変表示セグメント部の各セグメントを独立的にオン/オフすることができた。また、可変表示セグメント部は、マトリクス駆動部よりも低い電圧の印加によってマトリクス駆動部と同等の輝度を有する表示を行うことが可能であった。   In the obtained organic EL panel, the separation failure between the second electrodes did not occur, and each segment of the variable display segment portion could be turned on / off independently. In addition, the variable display segment unit can perform display having the same luminance as the matrix drive unit by applying a voltage lower than that of the matrix drive unit.

セグメント部とマトリクス部とを有する有機ELパネルの概念的上面図である。It is a notional top view of an organic EL panel having a segment part and a matrix part. 本発明の有機ELパネルの可変表示セグメント部の第1電極を示す概念的上面図である。It is a notional top view which shows the 1st electrode of the variable display segment part of the organic electroluminescent panel of this invention. 図2の切断線III−IIIで切断した、本発明の有機ELパネルの可変表示セグメント部の第1電極を示す概念的断面図である。FIG. 3 is a conceptual cross-sectional view showing a first electrode of a variable display segment portion of the organic EL panel of the present invention cut along a cutting line III-III in FIG. 2. 本発明の有機ELパネルの可変表示セグメント部を示す概念的断面図である。It is a conceptual sectional view showing the variable display segment part of the organic EL panel of the present invention. 本発明の有機ELパネルの可変表示セグメント部の第2電極を示す概念的上面図である。It is a notional top view which shows the 2nd electrode of the variable display segment part of the organic electroluminescent panel of this invention. 図5のVI部分を拡大した、本発明の分離隔壁の構造を示す概念的上面図である。FIG. 6 is a conceptual top view showing the structure of the separation partition wall of the present invention, in which the VI part in FIG. 5 is enlarged.

符号の説明Explanation of symbols

10 基板
20 金属電極
30 透明電極
40 絶縁膜
50 分離隔壁
60 有機EL層
70 第2電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Board | substrate 20 Metal electrode 30 Transparent electrode 40 Insulating film 50 Separation partition 60 Organic EL layer 70 2nd electrode

Claims (5)

基板と、基板上に設けられた第1電極、有機EL層および第2電極を含むセグメント部とを含む有機ELパネルにおいて、
前記セグメント部が複数のセグメントを有し、
前記第1電極が、金属電極と透明電極との積層構造を有し、かつ前記複数のセグメントの共通電極であり、
前記第2電極は、逆テーパー断面形状を有する分離隔壁によって複数の部分に分離されている
ことを特徴とする有機ELパネル。
In an organic EL panel including a substrate and a segment portion including a first electrode, an organic EL layer, and a second electrode provided on the substrate,
The segment part has a plurality of segments;
The first electrode has a laminated structure of a metal electrode and a transparent electrode, and is a common electrode of the plurality of segments;
The organic EL panel, wherein the second electrode is separated into a plurality of portions by a separation partition having a reverse tapered cross-sectional shape.
前記分離隔壁の周囲は、複数の直線と複数の曲線とで構成されており、前記複数の直線のそれぞれは端部をなす直線を除いて2つの曲線と連続しており、前記複数の曲線のそれぞれは2つの直線と連続しており、前記曲線は、3μm以上の曲率半径と90゜以上の屈曲角を有する円弧であることを特徴とする請求項1に記載の有機ELパネル。   The periphery of the separation partition wall is composed of a plurality of straight lines and a plurality of curves, and each of the plurality of straight lines is continuous with two curves except for a straight line that forms an end portion. 2. The organic EL panel according to claim 1, wherein each of the curves is continuous with two straight lines, and the curved line is an arc having a radius of curvature of 3 μm or more and a bending angle of 90 ° or more. 前記基板は、透明基板と、前記透明基板上に設けられた1つまたは複数の色変調部とを含むことを特徴とする請求項1に記載の有機ELパネル。   The organic EL panel according to claim 1, wherein the substrate includes a transparent substrate and one or more color modulation units provided on the transparent substrate. マトリクス駆動部第1電極、有機EL層およびマトリクス駆動部第2電極を含むマトリクス駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の有機ELパネル。   The organic EL panel according to claim 1, further comprising a matrix driving unit including a matrix driving unit first electrode, an organic EL layer, and a matrix driving unit second electrode. 前記マトリクス駆動部第2電極が、前記分離隔壁によって複数の部分に分離されていることを特徴とする請求項4に記載の有機ELパネル。   The organic EL panel according to claim 4, wherein the second electrode of the matrix driver is separated into a plurality of portions by the separation partition wall.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011113742A (en) * 2009-11-25 2011-06-09 Panasonic Electric Works Co Ltd Planar light-emitting module

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11273857A (en) * 1998-03-19 1999-10-08 Casio Comput Co Ltd Electroluminescent element
JP2000048964A (en) * 1998-07-30 2000-02-18 Toray Ind Inc Organic el display
WO2002089210A1 (en) * 2001-04-26 2002-11-07 Koninklijke Philips Electronics N.V. Organic electroluminescent device and a method of manufacturing thereof
JP2004006343A (en) * 2002-05-03 2004-01-08 Lg Phillips Lcd Co Ltd Organic electroluminescent element and its of manufacturing process
JP2004520698A (en) * 2001-05-03 2004-07-08 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ Electroluminescent device
JP2004227811A (en) * 2003-01-20 2004-08-12 Fuji Electric Holdings Co Ltd Organic el display and its manufacturing method

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11273857A (en) * 1998-03-19 1999-10-08 Casio Comput Co Ltd Electroluminescent element
JP2000048964A (en) * 1998-07-30 2000-02-18 Toray Ind Inc Organic el display
WO2002089210A1 (en) * 2001-04-26 2002-11-07 Koninklijke Philips Electronics N.V. Organic electroluminescent device and a method of manufacturing thereof
JP2004531859A (en) * 2001-04-26 2004-10-14 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof
JP2004520698A (en) * 2001-05-03 2004-07-08 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ Electroluminescent device
JP2004006343A (en) * 2002-05-03 2004-01-08 Lg Phillips Lcd Co Ltd Organic electroluminescent element and its of manufacturing process
JP2004227811A (en) * 2003-01-20 2004-08-12 Fuji Electric Holdings Co Ltd Organic el display and its manufacturing method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011113742A (en) * 2009-11-25 2011-06-09 Panasonic Electric Works Co Ltd Planar light-emitting module

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