JP2006106552A - 液晶表示装置用の基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガラス基板4上の透明電極5が配向膜塗布部21’で被覆されている液晶表示装置用の基板20であって、ガラス基板4上で、配向膜塗布部21’のラビング工程時にラビングローラが摺接する最表面に露出している樹脂あるいはメタルからなる作業用マーク14、15を配向膜塗布部21’で被覆している。
【選択図】図1
Description
前記シール材11の描画をTFT基板3ではなくCF基板2に行う理由は、TFT基板3の回路がESD(Electro Static Discharge)により破壊されないようにするためである。
前記ブラックマスク12および作業用マーク14、15が形成されたガラス基板4には、図7に示すように、図中上面にカラーフィルタ(図示せず)が設けられ、その上に透明電極5が形成され、該透明電極5の上に配向膜6が設けられる。
TFT基板3を構成するガラス基板7の一辺7aはCF基板2よりも側方に延在され、その上に透明電極8と導通する端子部8aが形成される。
また、TFT基板3の四隅にはCF基板2の透明電極5と電気接続を図るコモン転移部8bが形成される。配向膜9は絶縁膜であるため、端子部8aを被覆しない形状とされていると共にコモン転移部8bを露出させる切欠部9aが形成されている。
即ち、図9に示すように、配向膜塗布部6c、9’が成膜される工程では、複数のCF基板2に切り分けられる前のCF側マザー基板16と、複数のTFT基板3に切り分けられる前のTFT側マザー基板17とに対して、配向膜印刷装置(図示せず)により同一形状とした配向膜パターンを用いて配向膜材料を基板上に塗布しており、それによりCF側マザー基板16とTFT側マザー基板17との共用化を図っている。
前記CF側マザー基板16とTFT側マザー基板17とは、それぞれ、CF基板2とTFT基板3とを貼り合わせた状態での液晶分子の向きに応じて、ラビングローラ(図示せず)により、図9中に示す方向にラビング処理して、配向制御された配向膜6、9を形成している。
ラビングローラの表面に切削粉が付着した状態で配向膜塗布部6’の表面をラビングローラが摺接すると、切削粉が配向膜塗布部6’の表示領域に転写され、その転写跡Aにより表面にムラが生じる。この表面ムラは、液晶表示装置の画質上の欠陥となり、液晶表示装置の良品率が低下すると共に生産効率が悪化して製造コストが増加する問題がある。
前記絶縁性基板上で、前記配向膜塗布部または前記透明電極膜で被覆されておらず且つ該配向膜塗布部のラビング工程時にラビングローラが摺接する最表面に露出している樹脂あるいはメタルからなる作業用あるいは/および品番表示用のマーク部を、前記配向膜塗布部または/および透明電極膜で被覆していることを特徴とする液晶表示装置用の基板を提供している。
第1実施形態の液晶表示装置の全体的な構成は前記図5と同様であるため説明を省略する。
図1は、前述したTFT基板3(アクティブマトリクス基板)と液晶層10を挟んで対向配置されるカラーフィルタ基板20(以下、CF基板20と称す)を示している。
CF基板20は、絶縁性基板であるガラス基板4の液晶層10と対向する面において、シール材11を描画する際の開始位置11aおよび終了位置11bを表示するための黒色樹脂からなる作業用マーク14、15を所定位置に形成している。かつ、作業用マーク14、15と同層の所要箇所に黒色樹脂からなるブラックマスク12を高コントラスト比を得るための遮光用として形成している。なお、作業用マーク14、15は樹脂製としているがメタル製としてもよい。
配向膜21は、ポリイミド等の高分子材料からなり、少なくとも表示領域Hを被覆していると共に四隅には切欠部21aを設けている。また、本発明の特徴的事項として、配向膜21の一辺21bを作業用マーク14、15の表面まで延在している。即ち、従来は配向膜の非被覆部に設けられていた作業用マーク14、15を配向膜21で被覆している。
また、TFT基板3は前述した従来例と同様の構成であるため説明を省略する。
配向膜9、21を形成する工程では、複数のCF基板20が配置されたCF側マザー基板22と、複数のTFT基板3が配置されたTFT側マザー基板23とに対して、配向膜印刷装置(図示せず)により同一形状の配向膜パターンを用いて配向膜材料を塗布することにより配向膜塗布部21’を形成している。(ここで、ラビング処理前を配向膜塗布部と呼び、ラビング処理後を配向膜と呼ぶことにする)
これにより、CF基板20に形成された作業用マーク14、15を配向膜塗布部21’で被覆しながらも、CF側マザー基板22とTFT側マザー基板23に用いる配向膜印刷装置(図示せず)の配向膜パターンを同一形状として、CF側マザー基板22とTFT側マザー基板23とで配向膜パターンを共用化することを可能している。
第1実施形態との相違点は、配向膜パターンをCF側マザー基板30用とTFT側マザー基板17用とで別形状として2種類使用している点である。
第1実施形態との相違点は、作業用マーク14、15を透明電極41で被覆している点である。
即ち、本実施形態のCF基板40では、ブラックマスク12および作業用マーク14、15が形成されたガラス基板4の上を被覆するITO等からなる透明電極41は、その一辺41aを作業用マーク14、15の表面まで延在している。即ち、従来は配向膜および透明電極の非被覆部に設けられていた作業用マーク14、15を透明電極41で被覆している。配向膜6は従来例(図7)と同様の形状で、作業用マーク14、15を被覆していない。
なお、前述した夫々の実施形態では、配向膜21あるいは透明電極41のいずれか一方を用いて作業用マーク14、15を覆っているが、配向膜21と透明電極41の両方で作業用マーク14、15を覆っても好適である。
2、20 CF基板(対向基板)
3 TFT基板(アクティブマトリックス基板)
4、7 ガラス基板(絶縁性基板)
5、8 透明電極
6、9、21 配向膜
6’、9’、21’ 配向膜塗布部
14、15 作業用マーク
22、30 CF側マザー基板
17、23 TFT側マザー基板
H 表示領域
Claims (3)
- 絶縁性基板上の透明電極膜が配向膜塗布部で被覆されている液晶表示装置用の基板であって、
前記絶縁性基板上で、前記配向膜塗布部または前記透明電極膜で被覆されておらず且つ該配向膜塗布部のラビング工程時にラビングローラが摺接する最表面に露出している樹脂あるいはメタルからなる作業用あるいは/および品番表示用のマーク部を、前記配向膜塗布部または/および透明電極膜で被覆していることを特徴とする液晶表示装置用の基板。 - 前記基板は、アクティブマトリクス基板と液晶層を挟んで対向配置される対向基板からなり、少なくとも表示領域を被覆している前記配向膜塗布部あるいは/および前記透明電極膜を、前記マーク部の表面まで延在させている請求項1に記載の液晶表示装置用の基板。
- 前記マーク部は、前記対向基板とアクティブマトリクス基板とをシールするシール材描画の開始位置および終了位置を表示する作業用マーク、前記対向基板とアクティブマトリクス基板の貼り合わせ嵌合位置を表示する作業用マーク、あるいは/およびマザー基板の分断位置確認用の作業用マークとして設けられている請求項2に記載の液晶表示装置用の基板。
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