JP2006104273A - Electroconductive adhesive and electroconductive film, and printed wiring board obtained using the same - Google Patents

Electroconductive adhesive and electroconductive film, and printed wiring board obtained using the same Download PDF

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Shinichiro Yamagata
紳一郎 山形
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly reliable electroconductive adhesive as an adhesive material for replacing solder which is endowed with a low resistance property and a low migration property and yet can be microfabricated, and its joining method. <P>SOLUTION: The electroconductive adhesive comprises an anisotropic ferromagnetic metal plated with a noble metal and having a particle size of 0.5-5 μm, and the electroconductive particles are oriented by thermosetting the insulating adhesive resin in a magnetic field. The electroconductive adhesive has such a constitution and thus permits a highly reliable electroconductive connection having a large electric capacity and an excellent antioxidation property. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ハンダ代替として導電性接着剤に関し、そしてこの導電性接着剤を用い、複数の導電端子を持つ電子部品を、複数の導電路を持つ基板表面に接続する方法に関する。 The present invention relates to a conductive adhesive as a substitute for solder, and to a method for connecting an electronic component having a plurality of conductive terminals to a substrate surface having a plurality of conductive paths using the conductive adhesive.

プリント回路基板上の接合技術としては、Sn/Pbハンダが一般的であった。しかし、環境問題からPbフリー化が進められている。Pbフリーハンダと並んで注目されている接合方式が導電性接着剤である。この導電性接着剤に対しては、接続抵抗の低下、マイグレーション対策、接着強度の向上を満足した低コスト材料開発が求められており、従来からいくつか提案されている。 Sn / Pb solder is generally used as a bonding technique on a printed circuit board. However, Pb-free is being promoted due to environmental problems. A bonding method that is attracting attention along with Pb-free solder is a conductive adhesive. For this conductive adhesive, development of a low-cost material that satisfies a decrease in connection resistance, a countermeasure against migration, and an improvement in adhesive strength is required, and several proposals have been made heretofore.

少ない含有率で導電性が良く、かつ確実に磁気力による金属束鎖結合され、簡略な成分構成により高信頼性高歩留で製造することができ、しかも使用耐久性に優れた導電性樹脂の提供を目的とするものである。そして、その目的を達成するために、着磁した磁石を加圧粉砕し、100μmから0.1μmまでの導電性粒子とし、紫外線硬化型接着剤と混合してなる接着剤が特許文献に記載されている。 A conductive resin with low content and good electrical conductivity, which is reliably bonded with metal bundles by magnetic force, can be manufactured with a simple component structure with high reliability and high yield, and has excellent durability. It is for the purpose of provision. In order to achieve the object, an adhesive formed by pressure-pulverizing a magnetized magnet to form conductive particles of 100 μm to 0.1 μm and mixed with an ultraviolet curable adhesive is described in the patent literature. ing.

上記特許文献1によれば、着磁した磁性材料を導電粒子としているため、表面の酸化等による抵抗値の上昇が起こるという問題点がある。 According to Patent Document 1, since the magnetized magnetic material is used as conductive particles, there is a problem in that the resistance value increases due to surface oxidation or the like.

その他には特許文献2には、高導電性めっき層を表層に有する強磁性体を未硬化接着剤において磁場を利用することによって分散かつ充填させた接着剤について記載されている。 In addition, Patent Document 2 describes an adhesive in which a ferromagnetic material having a highly conductive plating layer as a surface layer is dispersed and filled by using a magnetic field in an uncured adhesive.

上記特許文献2によれば、粒子径が20〜30μmと大きいために塗液の中で導電性粒子が沈降しやすく、スクリーン印刷する際に取り扱いが困難になりうるという問題点がある。 According to Patent Document 2, since the particle diameter is as large as 20 to 30 μm, the conductive particles are likely to settle in the coating liquid, and there is a problem that handling may be difficult during screen printing.

また、特許文献3には、LSIチップを直接基板実装するのに、耐環境性に優れ、導電性があり、変形し易く接合性に優れた導電粉末及びペーストを提供するものである。そして、一般式AgCu1−x(ただし、0.02≦x≦0.4、原子比)で表され、かつ粒子表面の銀濃度が平均の銀濃度の2.3倍以上であり、平均粒子径3〜20μm、平均粒子径±2μmの粉末の存在率が75%以上、含有酸素濃度2000ppm以下である導電粉末または該組成の導電粉末を用いたペーストをLSIチップ電極の基板電極への接続に用いることが記載されている。 Patent Document 3 provides a conductive powder and paste that are excellent in environmental resistance, conductive, easily deformable, and excellent in bondability when directly mounting an LSI chip on a substrate. And it is represented by the general formula Ag x Cu 1-x (where 0.02 ≦ x ≦ 0.4, atomic ratio), and the silver concentration on the particle surface is 2.3 times or more of the average silver concentration, Conductive powder having an average particle diameter of 3 to 20 μm and an average particle diameter of ± 2 μm of 75% or more and containing oxygen concentration of 2000 ppm or less or paste using the conductive powder of the composition is applied to the substrate electrode of the LSI chip electrode. It is described that it is used for connection.

このLSIチップを基板上に実装するとき、導電性、耐環境性はもとより、変形しやすく、耐マイグレーション性に優れた導電粉末及び導電粉末を用いたペーストを提供するものである。 When mounting this LSI chip on a substrate, the present invention provides a conductive powder and a paste using the conductive powder that are easily deformed and excellent in migration resistance as well as conductivity and environmental resistance.

上記特許文献3によれば、銀銅の傾斜導電粉末は導電性および耐マイグレーション性に優れているが、粉体製法上コストアップを招くとともに形状が球状のため導電性接着剤としては接続抵抗を下げることができない問題がある。 According to the above-mentioned Patent Document 3, the silver and copper gradient conductive powder is excellent in conductivity and migration resistance, but it causes a cost increase in the powder manufacturing method and has a spherical shape, and therefore has a connection resistance as a conductive adhesive. There is a problem that cannot be lowered.

更に、特許文献4は、容易に入手可能で、公害の原因にならない金属を用いて、マイグレーションを起こさず、高温に放置しても抵抗変化が少ない導電性抵抗体およびそれを用いた回路を提供するためのものである。そのために、表面がニッケルまたはニッケル−ホウ素合金である金属粒子を、ポリオキシアルキレンリン酸エステル誘導体とポリオキシアルキレンアルキル(もしくはアルケニル)アミンまたはその誘導体との混合物で表面処理された導電粒子と、ジグリシジル型反応性希釈剤を含有するエポキシ樹脂と、アルキルレゾール型またはアルキルノボラック型を含有するフェノール樹脂とを含んでいる接着剤の記載がある。 Further, Patent Document 4 provides a conductive resistor using a metal that is easily available and does not cause pollution, does not cause migration, and has little resistance change even when left at high temperature, and a circuit using the same. Is to do. For this purpose, metal particles whose surface is nickel or a nickel-boron alloy, conductive particles surface-treated with a mixture of a polyoxyalkylene phosphate derivative and a polyoxyalkylene alkyl (or alkenyl) amine or a derivative thereof, and diglycidyl There is a description of an adhesive containing an epoxy resin containing a type reactive diluent and a phenol resin containing an alkylresole type or an alkyl novolak type.

上記特許文献4によれば、表面がニッケルまたはニッケル合金の金属粒子を使用していることから表面の酸化等による抵抗値の上昇が起こるという問題点がある。 According to Patent Document 4, since the surface uses nickel or nickel alloy metal particles, there is a problem that the resistance value increases due to surface oxidation or the like.

特許文献5は、形状が異なる2種類以上の金属粉を含有した導電性接着剤であって、選択された片方の金属粉のみの最表面めっきが施されている導電性接着剤の記載がある。 Patent document 5 is a conductive adhesive containing two or more types of metal powders having different shapes, and there is a description of a conductive adhesive in which the outermost surface plating of only one selected metal powder is performed. .

上記特許文献5においても上記特許文献2と同様に、金属粉の大きさが最大40μmと大きいために塗液中において沈降などが生じやすくなり、スクリーン印刷の際に取り扱いが困難になりうることと、印刷塗布面に凹凸が生じる恐れがあることが問題点である。 In Patent Document 5, as in Patent Document 2, since the maximum size of the metal powder is as large as 40 μm, sedimentation or the like is likely to occur in the coating liquid, which may be difficult to handle during screen printing. The problem is that irregularities may occur on the printed surface.

特許文献6は、導電性粒子として針状のガンマー酸化鉄を含有した導電性フィルムであって、磁場を印加することにより、各粒子が単一で導電回路として働くことを特徴とすることが記載されている。 Patent Document 6 describes a conductive film containing acicular gamma-iron oxide as conductive particles, wherein each particle acts as a single conductive circuit by applying a magnetic field. Has been.

上記特許文献6は導電性粒子が各々単一で導通を確保しているため、電気特性を安定させるために、導電性粒子の粒径を均一化することが必要である。このためハンダ代替材料として用いるにはコストがかかりすぎるという難点がある。 In Patent Document 6, since each conductive particle is single and secures conduction, it is necessary to make the particle diameter of the conductive particles uniform in order to stabilize electrical characteristics. For this reason, there is a problem that it is too costly to use as a solder substitute material.

特開平5−114307号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-114307 特開平6−122857号公報JP-A-6-122857 特開平6−260015号公報JP-A-6-260015 特開平9−157613号公報JP-A-9-157613 特開2002−332464号公報JP 2002-332464 A 特開2003−187885号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-187885

前述したように従来の導電性接着剤には、微細な回路における信頼性の問題、導電性粒子表面の酸化により接続抵抗が上昇する問題、粒子径が大きいため導電性粒子が沈降しスクリーン印刷性が低下する問題、製造コストの問題、などがあった。 As described above, conventional conductive adhesives have problems of reliability in fine circuits, problems of increased connection resistance due to oxidation of the surface of the conductive particles, and conductive particles settled due to the large particle size and screen printability. There were problems such as a decrease in manufacturing cost and a problem of manufacturing costs.

本発明はこれらの問題点を解決する新しいハンダ代替材料を提供するものである。ハンダ代替材料として、低抵抗で、微細な回路を持つ電子部品の接続においても高信頼性を有し、さらに優れたスクリーン印刷性を有する導電性接着剤、及びこの導電性接着剤を用いた導電性フィルム、並びにプリント配線板を提供することを目的とする。
The present invention provides a new solder replacement material that solves these problems. As a solder substitute material, a conductive adhesive having low resistance and high reliability in the connection of electronic components having fine circuits, and having excellent screen printability, and conductive using this conductive adhesive It aims at providing a property film and a printed wiring board.

本発明の導電性接着剤は、マトリクス樹脂と導電性粒子を含み、前記導電性粒子は、平均粒径0.5〜5μmであり、前記導電性粒子表面が貴金属メッキされた、異方性粒子を用いることを特徴とし、電子部品を接着する際に垂直方向に磁場を印加することで効率的に導通を確保することができる。 The conductive adhesive of the present invention includes a matrix resin and conductive particles, the conductive particles have an average particle size of 0.5 to 5 μm, and the conductive particles have a noble metal plated surface. When the electronic components are bonded, a magnetic field can be applied in the vertical direction to ensure efficient conduction.

請求項1に記載の発明は、マトリクス樹脂と導電性粒子を含む導電性接着剤において、前記導電性粒子が表面に貴金属めっきされている、平均粒子径0.5〜5μmで異方性形状を持つ粒子であり、かつ前記導電性粒子が該導電性接着剤の全体重量部に対し10〜50wt%含まれている、導電性接着剤である。 In the conductive adhesive comprising a matrix resin and conductive particles, the conductive particles are plated with a noble metal on the surface, and have an anisotropic shape with an average particle diameter of 0.5 to 5 μm. The conductive adhesive comprises 10 to 50 wt% of the conductive particles with respect to the total weight part of the conductive adhesive.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の導電性接着剤において、異方性を持つ前記導電性粒子のアスペクト比が2以上であることを特徴とする導電性接着剤である。 The invention according to claim 2 is the conductive adhesive according to claim 1, wherein the conductive particles having anisotropy have an aspect ratio of 2 or more.

請求項3に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の導電性接着剤において、前記導電性接着剤がマトリクス樹脂は、熱可朔性樹脂で被覆されたマイクロカプセル構造であり、
平均粒子径が前記導電性粒子の平均粒子径の0.1〜0.9倍である硬化剤を含んでいることを特徴とする導電性接着剤である。
Invention of Claim 3 is the microcapsule structure in which the conductive adhesive in the conductive adhesive of Claim 1 or Claim 2 was coated with the heat-resinable resin in the matrix resin,
A conductive adhesive comprising a curing agent having an average particle size of 0.1 to 0.9 times the average particle size of the conductive particles.

請求項4に記載の発明は、請求項1〜3のいずれかに記載の導電性接着剤からなる導電性背一着剤が、キャリアフィルム上に形成されていることを特徴とする導電性フィルム。 The invention according to claim 4 is a conductive film characterized in that a conductive back adhesive comprising the conductive adhesive according to any one of claims 1 to 3 is formed on a carrier film. .

請求項5に記載の発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載の導電性接着剤を用い、電子部品を電気的に接続したプリント配線板である。 A fifth aspect of the present invention is a printed wiring board in which an electronic component is electrically connected using the conductive adhesive according to any one of the first to third aspects.

請求項6に記載の発明は、前記導電性接着剤に含まれている導電性粒子が、磁場により接続面に対して垂直方向に配向された状態であることを特徴とする請求項5記載のプリント配線板である。 The invention described in claim 6 is characterized in that the conductive particles contained in the conductive adhesive are oriented in a direction perpendicular to the connection surface by a magnetic field. It is a printed wiring board.

請求項7に記載の発明は、請求項4記載の導電性フィルムの導電性接着剤層を用い電子部品を電気的接続したプリント配線板である。 A seventh aspect of the present invention is a printed wiring board in which an electronic component is electrically connected using the conductive adhesive layer of the conductive film according to the fourth aspect.

請求項8に記載の発明は、前記導電性接着剤に含まれている導電性粒子が、磁場により接続面に対して垂直方向に配向された状態であることを特徴とする請求項7記載のプリント配線板である。
The invention described in claim 8 is characterized in that the conductive particles contained in the conductive adhesive are oriented in a direction perpendicular to the connection surface by a magnetic field. It is a printed wiring board.

本発明の導電性接着剤は、該導電性接着剤中に含まれる導電性粒子の、平均粒子径が十分小さいため塗液中における導電性粒子の沈降が発生しない。さらに前記導電性粒子が異方性形状を持つことにより、該導電性粒子のかさ密度を向上させ、導電性接着剤の流動性を向上させる。 In the conductive adhesive of the present invention, since the average particle diameter of the conductive particles contained in the conductive adhesive is sufficiently small, the conductive particles do not settle in the coating liquid. Furthermore, when the conductive particles have an anisotropic shape, the bulk density of the conductive particles is improved, and the fluidity of the conductive adhesive is improved.

また本発明の導電性接着剤は、マトリクス樹脂に含まれる硬化剤にマイクロカプセル構造のものを用い、この硬化剤粒子の平均粒子径を前記導電性粒子の平均粒子径に対応させることで、前記導電性粒子の分散性を向上させることができる。これら流動性及び分散性の効果により、本発明の導電性接着剤は、従来の導電性接着剤と比べ、スクリーン印刷性の大幅な向上を達成させることができる。 The conductive adhesive of the present invention uses a microcapsule structure as the curing agent contained in the matrix resin, and the average particle diameter of the curing agent particles corresponds to the average particle diameter of the conductive particles. The dispersibility of the conductive particles can be improved. Due to the effects of fluidity and dispersibility, the conductive adhesive of the present invention can achieve a significant improvement in screen printability as compared with conventional conductive adhesives.

本発明の導電性接着剤は、前記導電性粒子が強磁性金属を核とし、かつ異方性形状であることを特徴とする。これにより磁場による配向が容易となり、効率的で微細な回路をもつ電子部品の接続においても信頼性の高い接続が可能となる。 The conductive adhesive of the present invention is characterized in that the conductive particles have a ferromagnetic metal as a nucleus and an anisotropic shape. This facilitates orientation by a magnetic field, and enables highly reliable connection even when connecting electronic components having efficient and fine circuits.

また本発明の導電性接着剤は、前記導電性粒子の強磁性金属の核上にさらに貴金属メッキを施すことを特徴とする。これにより、前記導電性粒子の強磁性金属の核の酸化を防止し、導電性接着剤の抵抗値の上昇を防ぐことができる。これらの効果により本発明の導電性接着剤は、ハンダ代替材料として使用するのに十分な電気特性を得ることができる。以上のように本発明の導電性接着剤は、従来の導電性接着剤の持っていた課題を克服し、ハンダ代替材料として十分な接続性と信頼性を持つ。またスクリーン印刷に適するなど作業性にも優れたものである。
The conductive adhesive of the present invention is further characterized in that noble metal plating is further performed on the ferromagnetic metal nuclei of the conductive particles. Thereby, the oxidation of the ferromagnetic metal nucleus of the conductive particles can be prevented, and the increase of the resistance value of the conductive adhesive can be prevented. Due to these effects, the conductive adhesive of the present invention can obtain electrical characteristics sufficient for use as a solder substitute material. As described above, the conductive adhesive of the present invention overcomes the problems of conventional conductive adhesives and has sufficient connectivity and reliability as a solder substitute material. It is also excellent in workability, such as being suitable for screen printing.

本発明の導電性接着剤を用いた、導電端子を持つ電子部品を基板表面に接続する方法を、図を用いて説明する。まず、請求項1若しくは請求項2に記載の導電性粒子と、請求項3に記載のマトリクス樹脂を含む、導電性接着剤を用意する。前記導電性接着剤又は前記導電性接着剤をフィルム状に加工したものを、プリント配線板(以下PCBとする)と、半導体パッケージなどの電子部品の間に圧着し、図1のように配置する。 A method of connecting an electronic component having a conductive terminal to the substrate surface using the conductive adhesive of the present invention will be described with reference to the drawings. First, a conductive adhesive containing the conductive particles according to claim 1 and claim 2 and the matrix resin according to claim 3 is prepared. The conductive adhesive or the conductive adhesive processed into a film shape is pressure-bonded between a printed wiring board (hereinafter referred to as PCB) and an electronic component such as a semiconductor package, and arranged as shown in FIG. .

次に、未接着電子部材に垂直方向に磁場をかけると、図2のように前記導電性接着剤中の導電性粒子が磁場に沿って垂直に配向し、前記電子部材間の導通が確保される。さらに、磁場をかけた状態若しくは磁場をかけた後配向を維持した状態で、前記未接着電子部材を過熱することにより、前記導電性接着剤中のマイクロカプセル型硬化剤から硬化剤が放出され、図3のようにマトリクス樹脂が硬化する。 Next, when a magnetic field is applied to the unbonded electronic member in the vertical direction, the conductive particles in the conductive adhesive are oriented vertically along the magnetic field as shown in FIG. 2, and conduction between the electronic members is ensured. The Furthermore, by heating the unbonded electronic member in a state where a magnetic field is applied or in a state where orientation is maintained after applying a magnetic field, a curing agent is released from the microcapsule-type curing agent in the conductive adhesive, The matrix resin is cured as shown in FIG.

本発明のマトリクス樹脂と導電性粒子を含む導電性接着剤において、導電性粒子の平均粒子径は0.5〜5μmである。また平均粒子径は、前記導電性粒子の各長さ成分中で、最も長い径の平均とする。導電性粒子の平均粒子径が0.5μm未満の場合には、電子部品の表面の凹凸に導電性粒子が吸収されていまい、導電性粒子を介しての接続が十分に確保できない。また、5μmを超える場合は、粒径分布のシャープなものを得ることが困難であり、粒径の大きなものが混入する確率が高くなり隣接端子間の絶縁性不良や大粒子による接続不良などが生じてくる可能性がある。また、スクリーン印刷性低下の原因となる塗液中において沈降などが発生する可能性がある。平均粒子径は1〜2μmの範囲が好ましい。また粒子径分布がシャープな方が好ましい。 In the conductive adhesive containing the matrix resin and the conductive particles of the present invention, the average particle size of the conductive particles is 0.5 to 5 μm. The average particle diameter is the average of the longest diameters among the length components of the conductive particles. When the average particle diameter of the conductive particles is less than 0.5 μm, the conductive particles are not absorbed by the irregularities on the surface of the electronic component, and a sufficient connection cannot be secured through the conductive particles. In addition, when it exceeds 5 μm, it is difficult to obtain a sharp particle size distribution, and there is a high probability that a large particle size is mixed, resulting in poor insulation between adjacent terminals and poor connection due to large particles. It may happen. In addition, sedimentation or the like may occur in the coating liquid that causes a decrease in screen printability. The average particle diameter is preferably in the range of 1 to 2 μm. A sharp particle size distribution is preferred.

導電性接着剤に対する前記導電性粒子の配合量は、該導電性接着剤の全体重量部に対して10〜50wt%であることが望ましい。10wt%に配合量が達しない場合には接続面積が少なくなるため接続信頼性が低下し、逆に配合量が50wt%を超える場合には隣接端子間の絶縁性が低下し短絡の発生にもつながる。 As for the compounding quantity of the said electroconductive particle with respect to a conductive adhesive, it is desirable that it is 10-50 wt% with respect to the whole weight part of this conductive adhesive. If the blending amount does not reach 10 wt%, the connection area is reduced and the connection reliability is lowered. Conversely, if the blending amount exceeds 50 wt%, the insulation between adjacent terminals is lowered and short circuit occurs. Connected.

前記導電性粒子の形状についてはフレーク状、針状、鱗片状など異方性粒子を用いる。異方性粒子を用いることにより、かさ密度を高くできるので、塗液の流動性が向上する。流動性が向上すると、スクリーン印刷においてメタルマスク開口部での導電性接着剤の残存が減り、メタルマスクの洗浄頻度を低減することができる。これにより工程中の作業性・生産性が向上する。 Regarding the shape of the conductive particles, anisotropic particles such as flakes, needles, and scales are used. Since the bulk density can be increased by using anisotropic particles, the fluidity of the coating liquid is improved. When the fluidity is improved, the conductive adhesive remains at the opening of the metal mask in screen printing, and the frequency of cleaning the metal mask can be reduced. This improves the workability and productivity during the process.

また前記導電性粒子が異方性粒子であることで、磁場による配向が容易になる。異方性が大きいほど、前記導電性粒子の磁場による配向性が向上すると考えられる。このため導電性粒子の異方性はより大きいほど好ましく、具体的には導電性粒子のアスペクト比が2以上であることがより好ましい。 Further, since the conductive particles are anisotropic particles, orientation by a magnetic field is facilitated. It is considered that the greater the anisotropy, the better the orientation of the conductive particles by the magnetic field. For this reason, the larger the anisotropy of the conductive particles is, the more preferable, and specifically, the aspect ratio of the conductive particles is more preferably 2 or more.

前記導電性粒子は、磁場による配向を可能とするため、強磁性材料を核とする。具体的にFe、Ni、Coまたはその合金から成る強磁性材料を用いる。そして、表面にAu,Agなどの貴金属をメッキ処理することにより、導電性粒子の表面酸化を防止し、接続抵抗の低下が図れる。この際、無電解メッキにてメッキ処理することにより、コスト低減を図れる。 The conductive particles have a ferromagnetic material as a nucleus in order to enable orientation by a magnetic field. Specifically, a ferromagnetic material made of Fe, Ni, Co or an alloy thereof is used. Then, by plating the surface with a noble metal such as Au or Ag, the surface oxidation of the conductive particles can be prevented and the connection resistance can be reduced. At this time, the cost can be reduced by performing the electroless plating.

前記導電性粒子を用いた導電性接着剤を、PCB電極上に供給後に垂直方向に磁場をかけながら電気部品を搭載して加熱接合する。これにより、導電性粒子の配向を保ったまま接合を維持することができる。また前記導電粒子を用いた導電性接着剤を、PCB電極上に供給後に垂直方向に磁場をかけた後、配向を維持しながら加熱接合することも可能である。 After the conductive adhesive using the conductive particles is supplied onto the PCB electrode, an electric component is mounted and heated and bonded while applying a magnetic field in the vertical direction. Thereby, it is possible to maintain the bonding while maintaining the orientation of the conductive particles. Further, after supplying a conductive adhesive using the conductive particles onto the PCB electrode and applying a magnetic field in the vertical direction, it is possible to perform heat bonding while maintaining the orientation.

本発明に用いられるマトリクス樹脂としては、熱硬化性樹脂絶縁層樹脂を用いる。この際に硬化剤として、熱可塑性樹脂により被覆されたマイクロカプセルタイプのものを用いてもよい。前記マイクロカプセルの平均径は前記導電性粒子の平均粒子径の0.1〜0.9倍の大きさにする。好ましくは導電性粒子の粒径平均の0.5倍から0.7倍の平均粒径を持つものを用いる。これにより導電性粒子の分散性および接着時の流動性を向上させ、スクリーン印刷性を向上させることができる。 As the matrix resin used in the present invention, a thermosetting resin insulating layer resin is used. At this time, a microcapsule type coated with a thermoplastic resin may be used as the curing agent. The average diameter of the microcapsules is 0.1 to 0.9 times the average particle diameter of the conductive particles. Preferably, those having an average particle size of 0.5 to 0.7 times the average particle size of the conductive particles are used. Thereby, the dispersibility of electroconductive particle and the fluidity | liquidity at the time of adhesion | attachment can be improved, and screen printability can be improved.

本発明に用いられるマトリクス樹脂として、具体的にはエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ユリア樹脂、フェノール樹脂などの熱硬化性樹脂が挙げられる。なかでも、エポキシ樹脂が最も好ましく用いられる。 Specific examples of the matrix resin used in the present invention include thermosetting resins such as epoxy resins, polyimide resins, polyurethane resins, urea resins, and phenol resins. Among these, an epoxy resin is most preferably used.

エポキシ樹脂としては、脂環型、二官能タイプのグリシジルエーテル型、多官能タイプのグリシジルエーテル型、グリシジルエステル型、およびグリシジルアミン型のいずれをも用いることができる。 As the epoxy resin, any of an alicyclic type, a bifunctional type glycidyl ether type, a polyfunctional type glycidyl ether type, a glycidyl ester type, and a glycidyl amine type can be used.

脂環型エポキシ樹脂としては、例えばアリサイクリックジエポキシアセタール型、アリサイクリックジエポキシアジペート型、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート型、ビニルシクロヘキセンジオキシド型、ビニルトリシクロデセン型などが挙げられる。 Examples of the alicyclic epoxy resin include an alicyclic diepoxy acetal type, an alicyclic diepoxy adipate type, an alicyclic diepoxycarboxylate type, a vinylcyclohexene dioxide type, and a vinyl tricyclodecene type.

二官能タイプのグリシジルエーテル型エポキシ樹脂としては、例えばビスフェノールA型、臭素化ビスフェノールA型、水添ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型、ビスフェノールAF型、ビフェニル型、ナフタレン型、フルオレン型などが挙げられる。 Examples of the bifunctional glycidyl ether type epoxy resin include bisphenol A type, brominated bisphenol A type, hydrogenated bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type, bisphenol AF type, biphenyl type, naphthalene type, fluorene type, etc. Is mentioned.

多官能タイプのグリシジルエーテル型エポキシ樹脂としては、例えばフェノールノボラック型、オルソクレソーンノボラック型、DPPノボラック型、トリス・ヒドロキシフェニルメタン型、テトラフェニロールエタン型などが挙げられる。 Examples of the polyfunctional type glycidyl ether type epoxy resin include a phenol novolak type, an orthocresone novolak type, a DPP novolak type, a tris-hydroxyphenylmethane type, and a tetraphenylolethane type.

グリシジルエステル型エポキシ樹脂としては、例えばフタル酸誘導体や合成脂肪酸などのカルボン酸と、エピクロロヒドリン(ECH)との縮合により製造されたものが挙げられる。 Examples of the glycidyl ester type epoxy resin include those produced by condensation of carboxylic acids such as phthalic acid derivatives and synthetic fatty acids with epichlorohydrin (ECH).

グリシジルアミン型エポキシ樹脂としては、例えばテトラグリシジルジアミノジフェニルメタン(TGDDM)、トリグリシジルジイソシアネート(TGIC)、ヒダントイン型、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン(TETRAD−D)、アミノフェノール型、アニリン型、トルイジン型などが挙げられる。 Examples of the glycidylamine type epoxy resin include tetraglycidyldiaminodiphenylmethane (TGDDM), triglycidyl diisocyanate (TGIC), hydantoin type, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane (TETRAD-D), amino Examples include phenol type, aniline type, and toluidine type.

例示したエポキシ樹脂は、単独で使用しても複数種を併用してもよいが、ビスフェノールF型のものが特に好ましく用いられる。 The illustrated epoxy resins may be used alone or in combination of two or more, but those of the bisphenol F type are particularly preferably used.

本発明で用いられる硬化剤としては、酸無水物硬化剤、アミン系硬化剤、イミダゾール系硬化剤などが挙げられる。硬化剤の添加量は、使用すべき硬化剤の種類や達成すべき硬化速度、あるいは接着剤のポットライフなどの種々の要因を考慮して適宜設定すべきあるが、熱硬化性樹脂100重量部に対して、好ましくは50〜200重量部の範囲とされる。 Examples of the curing agent used in the present invention include an acid anhydride curing agent, an amine curing agent, and an imidazole curing agent. The addition amount of the curing agent should be appropriately set in consideration of various factors such as the kind of the curing agent to be used, the curing speed to be achieved, or the pot life of the adhesive, but 100 parts by weight of the thermosetting resin. The amount is preferably in the range of 50 to 200 parts by weight.

酸無水物硬化剤としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水ハイミック酸、テトラブロモ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物などが挙げられる。 Acid anhydride curing agents include phthalic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, hymic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, Examples include merit acid, pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, and the like.

アミン系硬化剤としては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、メンセンジアミン、イソホロンジアミン、メタキシレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルスルフォンなどが挙げられる。 Examples of the amine curing agent include diethylenetriamine, triethylenetetramine, mensendiamine, isophoronediamine, metaxylenediamine, diaminodiphenylmethane, metaphenylenediamine, and diaminodiphenylsulfone.

イミダゾール系硬化剤としては、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6−[2−メチルイミダゾール−(1)]−エチル−S−トリアジン、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾールなどが挙げられる。 Examples of imidazole curing agents include 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2,4-diamino-6- [2-methylimidazole- (1)]-ethyl-S-triazine, 1-cyanoethyl. Examples include 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole and the like.

イミダゾール系硬化剤を被覆するための熱可塑性樹脂は、主剤や硬化剤の種類(反応が活性化する温度)との関係などを考慮して適宜選択される。本発明では、融点が50〜200℃の範囲にある熱可塑性樹脂が好ましく使用され、このような熱可塑性樹脂としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、アクリル樹脂、アクリロニトリルスチレン樹脂、アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂、ポリオキシメチレンなどが挙げられる。 The thermoplastic resin for coating the imidazole curing agent is appropriately selected in consideration of the relationship with the main agent and the type of curing agent (temperature at which the reaction is activated). In the present invention, a thermoplastic resin having a melting point in the range of 50 to 200 ° C. is preferably used. Examples of such a thermoplastic resin include polyethylene, polypropylene, polystyrene, polycarbonate, acrylic resin, acrylonitrile styrene resin, and acrylonitrile butadiene styrene. Examples thereof include resins and polyoxymethylene.

本発明で用いられる硬化促進剤としては、例えば有機ホスフィン類、イミダゾール類、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロウンデセントルエンスルホン酸塩、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩などが挙げられる。これらは、硬化促進剤として、単独で用いてもよいし複数種を併用してもよい。硬化促進剤の添加量は、使用される硬化剤の種類や添加量、達成すべき硬化速度などを考慮して適宜設定すべきあり、熱硬化性樹脂100重量部に対して、好ましくは1〜50重量部の範囲とされる。 Examples of the curing accelerator used in the present invention include organic phosphines, imidazoles, diazabicycloundecene, diazabicycloundecene toluenesulfonate, diazabicycloundecene octylate and the like. These may be used alone or in combination as a curing accelerator. The addition amount of the curing accelerator should be appropriately set in consideration of the type and addition amount of the curing agent to be used, the curing speed to be achieved, and preferably 1 to 100 parts by weight of the thermosetting resin. The range is 50 parts by weight.

有機ホスフィン類としては、例えばトリフェニルホスフィン、トリメタトリルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィントリフェニルボランなどが挙げられる。 Examples of organic phosphines include triphenylphosphine, trimetatolylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, triphenylphosphine triphenylborane, and the like.

イミダゾール類としては、硬化剤として上掲したものを用いることができる。イミダゾール類を用いる場合には、好ましくは、変成イミダゾール化合物を用いる。変性イミダゾール化合物とは、例えば2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニイミダゾール、2−フェニ−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−メチル−2−エチルイミダゾールなどのイミダゾール化合物において、イミノ基(−NH−)のHを、エポキシ環を有するアルキル基などの原子団により置換したものをいうものとする。 As imidazoles, those listed above as curing agents can be used. When using imidazoles, a modified imidazole compound is preferably used. Examples of the modified imidazole compound include 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenimidazole, 2-phen-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, In imidazole compounds such as cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, and 1-methyl-2-ethylimidazole, H in the imino group (—NH—) is an alkyl having an epoxy ring. It shall be substituted by an atomic group such as a group.

本発明の導電性接着剤を作製する方法は、材料の添加の順番を特別に限定するものではない。一般的には、接着剤樹脂成分のうち固形のものをあらかじめ溶剤に溶解しておき、これと液状の樹脂成分、さらに添加剤などを加えて攪拌したのち、導電性粒子を混合し均一に樹脂中に分散させればよい。分散性を向上させるため、導電性接着剤に添加剤を加えたり超音波処理等を行なうと、導電性粒子の凝集が発生しにくい。 The method for producing the conductive adhesive of the present invention does not specifically limit the order of addition of materials. Generally, a solid one of the adhesive resin components is dissolved in a solvent in advance, and after adding this and a liquid resin component, further additives, etc., the conductive particles are mixed and the resin is uniformly mixed. What is necessary is just to disperse | distribute in. When additives are added to the conductive adhesive or ultrasonic treatment is performed to improve dispersibility, aggregation of the conductive particles hardly occurs.

本発明の導電性接着剤を用いて電子部品を接続する方法は、特別に限定されるものではない。たとえば、電子部品が取り付けられる基板表面上に前記導電性接着剤を塗布または印刷し、導電路のうち前もって選択された導電路上に電子部品の電極を垂直に合わせて接着する。または直接導電性接着剤を塗布するかわりに、導電性接着剤が塗布されたフィルムをもちいて基板と電子部品を接着することも可能である。接着の際は、導電性接着剤の接着部に、導電粒子を導電端子と導電路との間に集め、磁場の存在下で該導電性接着剤を硬化させればよい。 The method for connecting electronic components using the conductive adhesive of the present invention is not particularly limited. For example, the conductive adhesive is applied or printed on the surface of the substrate on which the electronic component is to be attached, and the electrodes of the electronic component are vertically aligned and bonded onto a previously selected conductive path. Alternatively, instead of directly applying the conductive adhesive, it is also possible to bond the substrate and the electronic component using a film coated with the conductive adhesive. At the time of bonding, the conductive particles may be collected at the bonding portion of the conductive adhesive between the conductive terminal and the conductive path, and the conductive adhesive may be cured in the presence of a magnetic field.

印可磁場の強度は、100〜6000ガウスの範囲であることが好ましく、300〜2000ガウスの範囲がさらに好ましい。100ガウス以下では、導電性粒子が導電端子と導電路の間に集まらず、6000ガウス以上では導電性粒子は印可した磁界の向きに力を受けすぎてしまい、いずれについても電気的接続が不安定となり信頼性に欠けてしまう恐れが生じる。 The strength of the applied magnetic field is preferably in the range of 100 to 6000 gauss, and more preferably in the range of 300 to 2000 gauss. Below 100 gauss, the conductive particles do not collect between the conductive terminal and the conductive path, and above 6000 gauss, the conductive particles receive too much force in the direction of the applied magnetic field, and the electrical connection is unstable in both cases. Therefore, there is a risk of lack of reliability.

本発明の導電性接着剤を、表面に離型処理を施したキャリアフィルムの上に流延、乾燥して、ドライフィルムを形成することも可能である。その場合、導電性粒子の流動性が低下するため、印加磁場の強度は前項のように導電性接着剤をもちいて接着する場合よりも、高い磁場が必要になる。具体的には500〜8000ガウスの範囲が望ましい。
It is also possible to form a dry film by casting and drying the conductive adhesive of the present invention on a carrier film whose surface has been subjected to a release treatment. In that case, since the fluidity of the conductive particles is lowered, the applied magnetic field requires a higher magnetic field than the case of bonding using a conductive adhesive as in the previous section. Specifically, a range of 500 to 8000 gauss is desirable.

<実施例1>
本発明における導電性接着剤に含まれるマトリクス樹脂として、エポキシ樹脂(エピコート1001、油化シェルエポキシ(株)製)/ポリビニルブチラール樹脂(エスレックBM−S、積水化学(株)製)=1:1をトルエン/酢酸エチル=1:1の混合溶媒に溶解した25%溶液200重量部、イミダゾール系マイクロカプセル型硬化剤(ノバキュア、旭化成(株)製)100重量部を混合したマトリクス樹脂を準備する。
<Example 1>
As a matrix resin contained in the conductive adhesive in the present invention, epoxy resin (Epicoat 1001, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) / Polyvinyl butyral resin (ESREC BM-S, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) = 1: 1. A matrix resin is prepared by mixing 200 parts by weight of a 25% solution dissolved in a mixed solvent of toluene / ethyl acetate = 1: 1 and 100 parts by weight of an imidazole microcapsule type curing agent (Novacure, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.).

この中に、ニッケル粒子の表面に無電解金めっきを施した、平均粒子径2μm、平均アスペクト比2である導電性粒子を20wt%分散させた導電性接着剤を得た。この際、前記マイクロカプセル型硬化剤の平均粒子径が前記導電性粒子の平均粒子径より大きくならないようにし、より好ましくは前記マイクロカプセル型硬化剤の平均粒子径が前記導電性粒子の平均粒子径の直径に対し、0.1倍から0.9倍の範囲となるようにする。 In this, the electroconductive adhesive which disperse | distributed 20 wt% of electroconductive particles with an average particle diameter of 2 micrometers and an average aspect ratio of 2 which performed electroless gold plating on the surface of nickel particles was obtained. At this time, the average particle size of the microcapsule-type curing agent should not be larger than the average particle size of the conductive particles, more preferably the average particle size of the microcapsule-type curing agent is the average particle size of the conductive particles. The diameter is in the range of 0.1 to 0.9 times.

この導電性接着剤を回路幅0.1mm、回路ピッチ0.2mm、60端子を有するPCBの接続する端子部にスクリーン印刷によって塗布し、乾燥し、厚さ約50μmの導電性接着層を有するPCBを得た。 A PCB having a conductive adhesive layer having a thickness of about 50 μm is applied by applying this conductive adhesive to a terminal portion to which a PCB having a circuit width of 0.1 mm, a circuit pitch of 0.2 mm, and 60 terminals is connected by screen printing. Got.

その後、このPCBを圧着プレスにセットして、回路幅0.1mm、回路ピッチ0.2mm、60端子を有するテープキャリアパッケージ(以下、TCPとする)の端子をPCBの回路端子に合うように位置合わせしてPCBの上に置き、175℃、30kg/cm2 、15secの条件で加熱加圧して圧着接続を行った。加熱加圧による圧着接続の際に、磁束密度1000ガウスの磁場をPCBに垂直方向に印可した。ここで用いたPCBは、内層・外層銅箔18μmの基板であり、回路加工後表面をニッケル/金めっきしたものである。また、TCPは、75μmのポリイミド基材と25μmの銅箔からできたものであり、回路加工後表面をSnめっきしたものである。 After that, this PCB is set in a crimping press so that the terminals of a tape carrier package (hereinafter referred to as TCP) having a circuit width of 0.1 mm, a circuit pitch of 0.2 mm, and 60 terminals are aligned with the circuit terminals of the PCB. They were put together and placed on the PCB, and pressure-bonding was performed by heating and pressing under the conditions of 175 ° C., 30 kg / cm 2 and 15 sec. A magnetic field having a magnetic flux density of 1000 gauss was applied to the PCB in the vertical direction during the crimping connection by heating and pressing. The PCB used here is a substrate having an inner layer / outer layer copper foil of 18 μm, and the surface after circuit processing is nickel / gold plated. Further, TCP is made of a 75 μm polyimide base material and a 25 μm copper foil, and the surface after circuit processing is Sn-plated.

この接続体のPCB側で60端子の直列の接続抵抗値を測定(測定電流1μA)した結果、2Ω以下で良好であった。隣接端子間の絶縁抵抗についても1010Ω以上(測定電圧100v、30sec)と良好であった。また、このサンプルをHH(高温高湿処理)試験装置(85℃、85%RH)に投入し、接続抵抗値、絶縁抵抗値の変化を観察した結果、1000時間処理後も接続抵抗は3Ω以下、絶縁抵抗値も1010Ω以上と良好な接続性が得られた。印加電流を上げていきながら電圧を測定し、電圧電流特性が直線からはずれる点での電流値を電流容量としたとき、電流容量は1000mA/mm2であり、十分大きなものであった。この結果を表1に示す。
As a result of measuring the serial connection resistance value of 60 terminals on the PCB side of this connection body (measurement current 1 μA), it was good at 2Ω or less. The insulation resistance between adjacent terminals was also as good as 10 10 Ω or more (measurement voltage 100 v, 30 sec). In addition, this sample was put into a HH (high temperature and high humidity treatment) test apparatus (85 ° C., 85% RH), and as a result of observing changes in connection resistance value and insulation resistance value, the connection resistance was 3Ω or less even after 1000 hours of treatment. The insulation resistance value was 10 10 Ω or more, and good connectivity was obtained. When the voltage was measured while increasing the applied current and the current value at the point where the voltage-current characteristic deviated from the straight line was defined as the current capacity, the current capacity was 1000 mA / mm 2 and was sufficiently large. The results are shown in Table 1.

<実施例2>
本発明における導電性接着剤に含まれるマトリクス樹脂として、エポキシ樹脂(エピコート1001、油化シェルエポキシ(株)製)/ポリビニルブチラール樹脂(エスレックBM−S、積水化学(株)製)=1:1をトルエン/酢酸エチル=1:1の混合溶媒に溶解した25%溶液200重量部、イミダゾール系マイクロカプセル型硬化剤(ノバキュア、旭化成(株)製)100重量部を混合したマトリクス樹脂を準備する。この中に、ニッケル粒子の表面に無電解金めっきを施した、平均粒子径2μm、平均アスペクト比2である粒子を20wt%分散させた導電性接着剤を得た。この際、前記導電性粒子の平均粒子径が前記マイクロカプセル型硬化剤の平均粒子径より大きくならないようにし、より好ましくは前記マイクロカプセル型硬化剤の平均粒子径が前記導電性粒子の平均粒子径の直径に対し、0.1倍から0.9倍の範囲となるようにする。
<Example 2>
As a matrix resin contained in the conductive adhesive in the present invention, epoxy resin (Epicoat 1001, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) / Polyvinyl butyral resin (ESREC BM-S, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) = 1: 1. A matrix resin is prepared by mixing 200 parts by weight of a 25% solution dissolved in a mixed solvent of toluene / ethyl acetate = 1: 1 and 100 parts by weight of an imidazole microcapsule type curing agent (Novacure, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.). In this, the electroconductive gold-plating which carried out electroless gold plating on the surface of nickel particle | grains and disperse | distributed 20 wt% of particles with an average particle diameter of 2 micrometers and an average aspect ratio of 2 was obtained. At this time, the average particle size of the conductive particles should not be larger than the average particle size of the microcapsule-type curing agent, more preferably the average particle size of the microcapsule-type curing agent is the average particle size of the conductive particles. The diameter is in the range of 0.1 to 0.9 times.

前記導電性接着剤をスクリーン印刷によって塗布し、ポリエチレンテレフタレートのキャリアフィルムの上に乾燥後約50μmの厚さの導電性接着剤層になるように塗布・乾燥し、その後2mm幅にスリットして導電性フィルムを作製した。このフィルムの外観を観察したところ、導電性粒子は均一に分散していた。 The conductive adhesive is applied by screen printing, dried onto a polyethylene terephthalate carrier film, dried and applied to a conductive adhesive layer having a thickness of about 50 μm, and then slit into a 2 mm width to conduct electricity. A conductive film was prepared. When the appearance of this film was observed, the conductive particles were uniformly dispersed.

この導電性フィルムを、回路幅0.1mm、回路ピッチ0.2mm、60端子を有するPCBの接続する端子部に置き、70℃、5kg/cm2 、2secの条件で加熱加圧して仮圧着を行った。その後、表面のキャリアフィルムを剥がし、圧着プレスにセットして、回路幅0.1mm、回路ピッチ0.2mm、60端子を有するテープキャリアパッケージの端子をPCBの回路端子に合うように位置合わせしてPCBの上に置き、175℃、30kg/cm2 、15secの条件で加熱加圧して圧着接続を行った。この断面形状を模式的に示すと図1のようになる。仮圧着および加熱加圧による圧着接続の際に、それぞれ磁束密度800ガウス、1000ガウスの磁場をPCBに垂直方向に印可した。すると図2のように導電性接着剤層の導電性粒子が磁場に対してそろって配向する。加熱によってマイクロカプセルが崩壊し、硬化剤によってマトリクス樹脂が硬化する。すると図3のような接続状態を得る。ここで用いたPCBは、内層・外層銅箔18μmの基板であり、回路加工後表面をニッケル/金めっきしたものである。また、TCPは、75μmのポリイミド基材と25μmの銅箔からできたものであり、回路加工後表面をSnめっきしたものである。 This conductive film is placed on a terminal portion to which a PCB having a circuit width of 0.1 mm, a circuit pitch of 0.2 mm, and 60 terminals is connected, and is heated and pressed under conditions of 70 ° C., 5 kg / cm 2 , and 2 seconds to perform temporary pressure bonding. went. Thereafter, the carrier film on the surface is peeled off, set in a pressure press, and the terminals of the tape carrier package having a circuit width of 0.1 mm, a circuit pitch of 0.2 mm, and 60 terminals are aligned with the circuit terminals of the PCB. The product was placed on a PCB and heated and pressed under the conditions of 175 ° C., 30 kg / cm 2 , and 15 sec to make a crimp connection. This cross-sectional shape is schematically shown in FIG. Magnetic fields having a magnetic flux density of 800 gauss and 1000 gauss were applied to the PCB in the vertical direction during the temporary pressure bonding and the pressure bonding by heating and pressing, respectively. Then, as shown in FIG. 2, the conductive particles of the conductive adhesive layer are aligned along the magnetic field. The microcapsules are collapsed by heating, and the matrix resin is cured by the curing agent. Then, a connection state as shown in FIG. 3 is obtained. The PCB used here is a substrate having an inner layer / outer layer copper foil of 18 μm, and the surface after circuit processing is nickel / gold plated. Further, TCP is made of a 75 μm polyimide base material and a 25 μm copper foil, and the surface after circuit processing is Sn-plated.

この接続体のPCB側で60端子の直列の接続抵抗値を測定(測定電流1μA)した結果、2Ω以下で良好であった。隣接端子間の絶縁抵抗についても1010Ω以上(測定電圧100v、30sec)と良好であった。また、このサンプルをHH(高温高湿処理)試験装置(85℃、85%RH)に投入し、接続抵抗値、絶縁抵抗値の変化を観察した結果、1000時間処理後も接続抵抗は3Ω以下、絶縁抵抗値も1010Ω以上と良好な接続性が得られた。印加電流を上げていきながら電圧を測定し、電圧電流特性が直線からはずれる点での電流値を電流容量としたとき、電流容量は1000mA/mm2であり、十分大きなものであった。この結果を表1に示す。 As a result of measuring the serial connection resistance value of 60 terminals on the PCB side of this connection body (measurement current 1 μA), it was good at 2Ω or less. The insulation resistance between adjacent terminals was also as good as 10 10 Ω or more (measurement voltage 100 v, 30 sec). In addition, this sample was put into a HH (high temperature and high humidity treatment) test apparatus (85 ° C., 85% RH), and as a result of observing changes in connection resistance value and insulation resistance value, the connection resistance was 3Ω or less even after 1000 hours of treatment. In addition, the insulation resistance value was 10 10 Ω or more, and good connectivity was obtained. When the voltage was measured while increasing the applied current and the current value at the point where the voltage-current characteristic deviated from the straight line was defined as the current capacity, the current capacity was 1000 mA / mm 2 and was sufficiently large. The results are shown in Table 1.

<実施例3>
実施例2とマトリクス樹脂を準備し、この中に実施例1同じ処理を施した導電性粒子を、40wt%分散させ、導電性接着剤層厚さ50μmの導電性フィルムを作製した。このフィルムの外観を観察したところ、導電性粒子は均一に分散していた。
<Example 3>
Example 2 and a matrix resin were prepared, and 40 wt% of conductive particles subjected to the same treatment as in Example 1 were dispersed therein to produce a conductive film having a conductive adhesive layer thickness of 50 μm. When the appearance of this film was observed, the conductive particles were uniformly dispersed.

この導電性フィルムを、実施例1と同様にサンプル作製し評価を行った。接続抵抗値は2Ω以下、隣接端子間の絶縁抵抗についても1010Ω以上と良好であった。また、HH処理後の接続抵抗値も3Ω以下、絶縁抵抗値も1010Ω以上と良好な接続性が得られた。また、電流容量は1200mA/mm2で、十分大きなものであった。この結果を表1に示す。 A sample of this conductive film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The connection resistance value was 2Ω or less, and the insulation resistance between adjacent terminals was 10 10 Ω or more. In addition, the connection resistance value after HH treatment was 3Ω or less, and the insulation resistance value was 10 10 Ω or more. The current capacity was 1200 mA / mm 2 and was sufficiently large. The results are shown in Table 1.

<実施例4>
実施例2と同じマトリクス樹脂を準備し、この中に、ニッケル粒子の表面に金めっきを施した、平均粒子径5μm、平均アスペクト比3である粒子を20wt%分散させ、導電性接着剤層厚さ50μmの導電性フィルムを作製した。このフィルムの外観を観察したところ、導電性粒子は均一に分散していた。
<Example 4>
The same matrix resin as in Example 2 was prepared, and in this, particles having an average particle diameter of 5 μm and an average aspect ratio of 3 with gold plating on the surface of nickel particles were dispersed in an amount of 20 wt%, and the thickness of the conductive adhesive layer A conductive film having a thickness of 50 μm was produced. When the appearance of this film was observed, the conductive particles were uniformly dispersed.

この導電性フィルムを、実施例1と同様にサンプル作製し評価を行った。但し、ここでは150℃、30kg/cm、15sec、磁束密度600ガウスの条件で加熱加圧して圧着接続を行った。接続抵抗値は2Ω以下、隣接端子間の絶縁抵抗についても1010Ω以上と良好であった。また、HH処理後の接続抵抗値も3Ω以下、絶縁抵抗値も1010Ω以上と良好な接続性が得られた。また、電流容量は1300mA/mm2で、十分大きなものであった。この結果を表1に示す。 A sample of this conductive film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. However, here, the pressure connection was performed by heating and pressing under conditions of 150 ° C., 30 kg / cm 2 , 15 sec, and magnetic flux density of 600 gauss. The connection resistance value was 2Ω or less, and the insulation resistance between adjacent terminals was 10 10 Ω or more. In addition, the connection resistance value after HH treatment was 3Ω or less, and the insulation resistance value was 10 10 Ω or more. The current capacity was 1300 mA / mm @ 2, which was sufficiently large. The results are shown in Table 1.

<実施例5>
実施例2と同じマトリクス樹脂を準備し、この中に、コバルト粒子の表面に金めっきを施した、平均粒子径2μmで平均アスペクト比2である粒子を20wt%分散させ、導電性接着剤層厚さ50μmの導電性フィルムを作製した。このフィルムの外観を観察したところ、導電性粒子は均一に分散していた。
<Example 5>
The same matrix resin as in Example 2 was prepared, and in this, 20 wt% of particles having an average particle diameter of 2 μm and an average aspect ratio of 2 with gold plating applied to the surface of the cobalt particles were dispersed, and the thickness of the conductive adhesive layer A conductive film having a thickness of 50 μm was produced. When the appearance of this film was observed, the conductive particles were uniformly dispersed.

この導電性フィルムを、実施例1と同様にサンプル作製し評価を行った。接続抵抗値は2Ω以下、隣接端子間の絶縁抵抗についても109Ω以上と良好であった。また、HH処理後の接続抵抗値も3Ω以下、絶縁抵抗値も109Ω以上と良好な接続性が得られた。また、電流容量は1200mA/mm2で、十分大きなものであった。この結果を表1に示す。 A sample of this conductive film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The connection resistance value was 2Ω or less, and the insulation resistance between adjacent terminals was 10 9 Ω or more. Further, the connection resistance value after HH treatment was 3Ω or less, and the insulation resistance value was 10 9 Ω or more. The current capacity was 1200 mA / mm @ 2, which was sufficiently large. The results are shown in Table 1.

<実施例6>
実施例1と同じマトリクス樹脂を準備し、この中に、ニッケル粒子の表面に金めっきを施した、平均粒子径2μmで平均アスペクト比2である粒子を10wt%分散させ、導電性接着剤層厚さ50μmの導電性フィルムを作製した。このフィルムの外観を観察したところ、導電性粒子は均一に分散していた。
<Example 6>
The same matrix resin as in Example 1 was prepared, and the surface of the nickel particles was plated with gold, and the particles having an average particle diameter of 2 μm and an average aspect ratio of 2 were dispersed by 10 wt%, and the thickness of the conductive adhesive layer A conductive film having a thickness of 50 μm was produced. When the appearance of this film was observed, the conductive particles were uniformly dispersed.

この導電性フィルムを、実施例1と同様にサンプル作製し評価を行った。接続抵抗値は3Ω以下、隣接端子間の絶縁抵抗についても1010Ω以上と良好であった。また、HH処理後の接続抵抗値も3Ω以下、絶縁抵抗値も1010Ω以上と良好な接続性が得られた。また、電流容量は1000mA/mm2で、十分大きなものであった。この結果を表1に示す。 A sample of this conductive film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The connection resistance value was 3Ω or less, and the insulation resistance between adjacent terminals was 10 10 Ω or more. In addition, the connection resistance value after HH treatment was 3Ω or less, and the insulation resistance value was 10 10 Ω or more. The current capacity was 1000 mA / mm @ 2 and was sufficiently large. The results are shown in Table 1.

<実施例7>
実施例2と同じマトリクス樹脂を準備し、この中に、ニッケル粒子の表面に金めっきを施した、平均粒子径2μmで平均アスペクト比2である粒子を50wt%分散させ、導電性接着剤層厚さ50μmの導電性フィルムを作製した。このフィルムの外観を観察したところ、導電性粒子は均一に分散していた。
<Example 7>
The same matrix resin as in Example 2 was prepared, in which 50% by weight of particles having an average particle diameter of 2 μm and an average aspect ratio of 2 with gold plating applied to the surface of nickel particles was dispersed, and the thickness of the conductive adhesive layer A conductive film having a thickness of 50 μm was produced. When the appearance of this film was observed, the conductive particles were uniformly dispersed.

この導電性フィルムを、実施例1と同様にサンプル作製し評価を行った。接続抵抗値は2Ω以下、隣接端子間の絶縁抵抗についても10Ω以上と良好であった。また、HH処理後の接続抵抗値も3Ω以下、絶縁抵抗値も10Ω以上と良好な接続性が得られた。また、電流容量は1100mA/mm2で、十分大きなものであった。この結果を表1に示す。 A sample of this conductive film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The connection resistance value was 2Ω or less, and the insulation resistance between adjacent terminals was 10 9 Ω or more. Moreover, the connection resistance value after the HH treatment was 3Ω or less, and the insulation resistance value was 10 9 Ω or more. The current capacity was 1100 mA / mm @ 2, which was sufficiently large. The results are shown in Table 1.

<比較例1>
導電粒子として、ニッケル粒子の表面に金めっきを施した、平均粒子径10μmで平均アスペクト比2である粒子を20wt%配合したこと以外実施例2と全く同じ導電性フィルムを作製した。このフィルムの外観を観察したところ、径10μm以上の大きな導電性粒子が混入しており、しかも粒子の凝集体がいくつも見られた。
<Comparative Example 1>
As the conductive particles, the same conductive film as in Example 2 was prepared except that 20 wt% of particles having an average particle diameter of 10 μm and an average aspect ratio of 2 were plated on the surfaces of nickel particles. When the appearance of this film was observed, large conductive particles having a diameter of 10 μm or more were mixed, and many aggregates of particles were observed.

この導電性フィルムを、実施例1と同様にサンプル作製し評価を行った。接続抵抗値が3Ω以上のサンプルが多く見られた。また、凝集により隣接端子間の絶縁抵抗は106Ω以下のサンプルが多く見られた。また、HH処理後の接続抵抗値も5Ω以上に上昇しており、絶縁抵抗値は106Ω以下のサンプルが増え、接続が不安定であることが確認された。また、電流容量は200mA/mm2で、かなり小さいものであった。この結果を表1に示す。 A sample of this conductive film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. Many samples with a connection resistance of 3Ω or more were observed. In addition, many samples with an insulation resistance between adjacent terminals of 10 6 Ω or less were observed due to aggregation. Further, the connection resistance value after the HH treatment also increased to 5Ω or more, and the number of samples having an insulation resistance value of 10 6 Ω or less increased, and it was confirmed that the connection was unstable. Further, the current capacity was 200 mA / mm 2 and was quite small. The results are shown in Table 1.

<比較例2>
導電粒子として、ニッケル粒子の表面に金めっきを施した、平均粒子径2μmで平均アスペクト比2である粒子が60wt%配合したこと以外実施例1と全く同じ導電性フィルムを作製した。このフィルムの外観を観察したところ、粒子の凝集体がいくつも見られた。
<Comparative Example 2>
As the conductive particles, the same conductive film as in Example 1 was produced except that 60 wt% of particles having an average particle diameter of 2 μm and an average aspect ratio of 2 were plated on the surface of nickel particles. When the appearance of this film was observed, a number of aggregates of particles were observed.

この導電性フィルムを、実施例1と同様にサンプル作製し評価を行った。粒子の配合量が多いことから、隣接端子間の絶縁抵抗は106Ω以下のサンプルが多く見られた。接続抵抗値は2Ω以下と良好であった。HH処理後の接続抵抗値は3Ω以下と良好のままであったが、絶縁抵抗値は106Ω以下のサンプルが増えた。また、電流容量は1100mA/mm2で、十分大きなものであった。この結果を表1に示す。 A sample of this conductive film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. Because of the large amount of particles, many samples with an insulation resistance between adjacent terminals of 10 6 Ω or less were observed. The connection resistance value was as good as 2Ω or less. Although the connection resistance value after the HH treatment remained as good as 3Ω or less, samples with an insulation resistance value of 10 6 Ω or less increased. The current capacity was 1100 mA / mm @ 2, which was sufficiently large. The results are shown in Table 1.

<比較例3>
導電粒子として、ニッケル粒子の表面に金めっきを施した、平均粒子径1μmで平均アスペクト比1.1である粒子が3wt%配合したこと以外実施例1と全く同じ導電性フィルムを作製した。このフィルムの外観を観察したところ、粒子間の接続が不安定となっていた。
<Comparative Example 3>
As the conductive particles, the same conductive film as that of Example 1 was prepared except that 3 wt% of particles having an average particle diameter of 1 μm and an average aspect ratio of 1.1 were plated on the surface of nickel particles. When the appearance of this film was observed, the connection between the particles was unstable.

この導電性フィルムを、実施例1と同様にサンプル作製し評価を行った。接続が不安定であるために、接続抵抗値が5Ω以上のサンプルがいくつか見られた。また、大きな粒子により隣接端子間の絶縁抵抗は1010Ω以上であった。また、HH処理後の絶縁抵抗値は1010Ω以上のままであったが、接続抵抗値は7Ω以上に上昇した。また、電流容量も1100mA/mm2で、十分に大きかった。この結果を表1に示す。 A sample of this conductive film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. Due to the unstable connection, some samples with a connection resistance value of 5Ω or more were found. Moreover, the insulation resistance between adjacent terminals was 10 10 Ω or more due to large particles. Further, the insulation resistance value after HH treatment remained at 10 10 Ω or more, but the connection resistance value increased to 7 Ω or more. Also, the current capacity was 1100 mA / mm @ 2, which was sufficiently large. The results are shown in Table 1.

<実施例>及び<比較例>の結果のまとめを、表1に示す。 A summary of the results of <Example> and <Comparative Example> is shown in Table 1.

Figure 2006104273
Figure 2006104273

図1はPCBとTCPとを、本発明の導電性接着剤で接着した後の、模式断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view after bonding PCB and TCP with the conductive adhesive of the present invention. 図2はPCBとTCPとを、本発明の導電性接着剤で接着し磁場をかけた状態での、模式断面 図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view in a state where PCB and TCP are bonded with the conductive adhesive of the present invention and a magnetic field is applied. 図3はPCBとTCPとを、本発明の導電性接着剤で接着し磁場をかけ、さらに熱硬化性樹脂で接着した状態での、模式断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view in a state where PCB and TCP are bonded with the conductive adhesive of the present invention, a magnetic field is applied, and further bonded with a thermosetting resin.

符号の説明Explanation of symbols

1 プリント配線板(PCB)
2 導電性粒子
3 マイクロカプセル状の硬化剤
4 マトリクス樹脂
5 テープキャリアパッケージ(TCP)
6 硬化後の樹脂
1 Printed wiring board (PCB)
2 Conductive particles 3 Microcapsule curing agent 4 Matrix resin 5 Tape carrier package (TCP)
6 Resin after curing

Claims (8)

マトリクス樹脂と導電性粒子を含む導電性接着剤において、
前記導電性粒子が表面に貴金属めっきがされている平均粒子径0.5〜5μmで異方性形状を持つ粒子であり、かつ前記導電性粒子が該導電性接着剤の全体重量部に対し10〜50wt%含まれていることを特徴とする導電性接着剤。
In a conductive adhesive containing matrix resin and conductive particles,
The conductive particles are particles having an average particle diameter of 0.5 to 5 μm with a noble metal plating on the surface, and the conductive particles are 10 parts by weight with respect to the total weight part of the conductive adhesive. A conductive adhesive characterized by containing ˜50 wt%.
前記導電性粒子のアスペクト比が2以上であることを特徴とする、請求項1記載の導電性接着剤。 The conductive adhesive according to claim 1, wherein an aspect ratio of the conductive particles is 2 or more. 請求項1または請求項2に記載の導電性接着剤において、
前記導電性接着剤が前記マトリクス樹脂は、
熱可朔性樹脂で被覆されたマイクロカプセル構造であり、
かつ平均粒子径が前記導電性粒子の平均粒子径の0.1〜0.9倍である硬化剤を含んでいる、ことを特徴とする導電性接着剤。
In the conductive adhesive according to claim 1 or 2,
The conductive adhesive is the matrix resin.
It is a microcapsule structure coated with a heat flexible resin,
And the conductive adhesive characterized by including the hardening | curing agent whose average particle diameter is 0.1 to 0.9 times the average particle diameter of the said electroconductive particle.
請求項1〜3のいずれかに記載の導電性接着剤からなる導電性接着剤層がキャリアフィルム上に形成されていることを特徴とする導電性フィルム。 A conductive film comprising a conductive adhesive layer made of the conductive adhesive according to any one of claims 1 to 3 formed on a carrier film. 請求項1ないし3のいずれかに記載の導電性接着剤を用い、電子部品を電気的に接続したプリント配線板。 The printed wiring board which electrically connected the electronic component using the conductive adhesive in any one of Claims 1 thru | or 3. 前記導電性接着剤に含まれている導電性粒子が、磁場により接続面に対して垂直方向に配向された状態であることを特徴とする請求項5記載のプリント配線板。 6. The printed wiring board according to claim 5, wherein the conductive particles contained in the conductive adhesive are in a state of being oriented in a direction perpendicular to the connection surface by a magnetic field. 請求項4記載の導電性フィルムの導電性接着剤層を用い、電子部品を電気的接続したプリント配線板。 The printed wiring board which electrically connected the electronic component using the conductive adhesive layer of the conductive film of Claim 4. 前記導電性接着剤に含まれている導電性粒子が、磁場により接続面に対して垂直方向に配向された状態であることを特徴とする請求項7記載のプリント配線板。 The printed wiring board according to claim 7, wherein the conductive particles contained in the conductive adhesive are in a state of being oriented in a direction perpendicular to the connection surface by a magnetic field.
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