JP2006100832A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、交換可能な対象物を、交換可能な対象物ステーション及び支持体で交換するための交換可能な対象物ハンドリング装置を含み、交換可能な対象物は、基板Wの1つであり、パターン形成デバイス及び支持体は、基板支持体WT及びパターン形成デバイス支持体の1つであり、交換可能な対象物ハンドリング装置1は、交換可能な対象物を保持するための中間保持デバイス3を含み、中間保持デバイス3は、基板Wを支持体WTに配置する、又は基板Wを支持体WTから取り出すように支持体WTと相互作用することができ、ロボット2は、支持体WT、中間保持デバイス3、及び前記交換可能な対象物ステーションで交換可能な対象物を交換することができる。
【選択図】図3
Description
ステップ・モード:マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは、本質的に静止したままであり、一方、放射ビームに与えられた全体パターンは、1回でターゲット部分C上に投影される(すなわち、単一の静的露光)。基板テーブルWTは、異なるターゲット部分Cが露光されることができるように、次にX及び/又はY方向にシフトされる。ステップ・モードにおいて、露光される領域の最大サイズは、単一の静的露光で像形成されるターゲット部分Cのサイズを制限する。
走査モード:マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは、同期して走査され、一方、放射ビームに与えられたパターンは、ターゲット部分Cに投影される(すなわち、単一の動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって決定されることができる。走査モードにおいて、露光領域の最大サイズは、単一の動的露光におけるターゲット部分の幅(非走査方向における)を制限し、一方、走査動きの長さは、ターゲット部分の高さ(走査方向における)を決定する。
他のモード:マスク・テーブルMTは、プログラム可能なパターン形成デバイスを本質的に静止して保持したままであり、基板テーブルWTは、放射ビームに与えられたパターンが、ターゲットC上に投影される間に、移動又は走査される。このモードにおいて、一般に、パルス状にされた放射源が用いられ、プログラム可能なパターン形成デバイスは、必要であれば、基板テーブルWTの各移動の後で、又は走査の間の連続する放射パルスの間で更新される。この動作モードは、上述したタイプのプログラム可能なミラー・アレイなどのプログラム可能なパターニング・デバイスを使用するマスクレス・リソグラフィに容易に適用されることができる。
2 ロボット
3 中間保持デバイス
4 シングル・エンド・エフェクタ
5 装填ステーション
5a 他のステーション
6 リフティング・デバイス
7 支持表面
8 アーム
9 アクチュエータ
10 振動絶縁フレーム
AD 調整器
B 放射ビーム
BD ビーム送出システム
C ターゲット部分
CO コンデンサ
IL 照明システム
IN インテグレータ
M1、M2 マスク・アライメント・マーク
MA パターン形成デバイス
MT 支持構造体
P1、P2 基板アライメント・マーク
PM 第1のポジショナ
PS 投影システム
PW 第2のポジショナ
SO 放射源
W、W1、W2 基板
WT 基板支持体
Claims (35)
- リソグラフィ装置であって、
(a)照明システムと、
(b)パターン形成された放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
(c)交換可能な対象物を保持するように構成された交換可能な対象物ステーションと、
(d)投影の間に使用される交換可能な対象物を支持するように構成された支持体と、
(e)交換可能な対象物ハンドリング装置とを備え、前記交換可能な対象物ハンドリング装置は、
(i)マニピュレータと、
(ii)中間保持デバイスとを含み、
前記マニピュレータ及び前記中間保持デバイスは、前記交換可能な対象物を保持するようにそれぞれ構成され、
前記マニピュレータは、前記交換可能な対象物を、前記支持体、前記中間保持デバイス、及び前記交換可能な対象物ステーション間で交換するように構成され、
前記中間保持デバイスは、前記マニピュレータで前記交換可能な対象物を交換するように構成され、
前記中間保持デバイスは、前記交換可能な対象物ステーションより前記支持体に実質的に近く配置されるリソグラフィ装置。 - 前記中間保持デバイスは、交換可能な対象物を前記支持体で交換するように構成される請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記マニピュレータは、1つの交換可能な対象物を保持するように構成されたシングル・エンド・エフェクタを備える請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記中間保持デバイスは、1つの交換可能な対象物を保持するように構成されたシングル・グリッピング・デバイスを備える請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記交換可能な対象物ハンドリング装置は、交換可能な対象物を保持するようにそれぞれ構成された2つ以上の中間保持デバイスを含む請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記中間保持デバイスは静止している請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記交換可能な対象物ハンドリング装置は、交換可能な対象物を前記マニピュレータと第1のテークオーバ領域における前記支持体との間で交換するように構成され、且つ交換可能な対象物を前記中間保持デバイスと第2のテークオーバ領域における前記マニピュレータとの間で交換するように構成される請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2の領域が、前記第1のテークオーバ領域の上方に配置される請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記交換可能な対象物ハンドリング装置は、交換可能な対象物を前記中間保持デバイスと第3のテークオーバ領域における前記支持体との間で交換するように構成される請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第3のテークオーバ領域は、交換可能な対象物が前記マニピュレータと前記支持体との間で交換される第1のテークオーバ領域の上方に配置される請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第3のテークオーバ領域は、交換可能な対象物が前記中間保持デバイスと前記マニピュレータとの間で交換される第2のテークオーバ領域と実質的に重なる請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記支持体は、交換可能な対象物を、前記支持体の支持表面から前記第1のテークオーバ領域に持ち上げるように構成されたリフティング・デバイスを備える請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記支持体は、交換可能な対象物を、前記支持体の支持表面から前記第3のテークオーバ領域に持ち上げるように構成されたリフティング・デバイスを備える請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リフティング・デバイスは、前記支持体の前記支持表面に対して実質的に垂直な方向に移動可能である請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 前記中間保持デバイスは、前記第2のテークオーバ領域に対して移動可能である請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記中間保持デバイスは、前記第3のテークオーバ領域に対して移動可能である請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記中間保持デバイスは、前記支持体の前記支持表面に対して実質的に垂直な方向に移動可能である請求項15に記載のリソグラフィ装置。
- 前記支持体は、前記第1のテークオーバ領域に対して移動可能である請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記支持体は、前記第3のテークオーバ領域に対して移動可能である請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記支持体は、前記支持体の前記支持表面に対して実質的に垂直な方向に移動可能である請求項18に記載のリソグラフィ装置。
- 前記中間保持デバイスは、実質的に振動が絶縁されたフレーム上に搭載される請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記交換可能な対象物は、その上に前記パターン形成された放射ビームが投影される基板であり、前記支持体は、前記基板を保持するように構成された基板支持体である請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記交換可能な対象物は、パターン形成デバイスであり、前記パターン形成デバイスは、前記パターン形成された放射ビームを形成するために、前記放射ビームにその断面にパターンを与えることができ、前記支持体は、前記パターン形成デバイスを支持するように構成されたパターン形成デバイス支持体である請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 投影の間に使用される他の交換可能な対象物を、他の支持体で交換するように構成された他の交換可能な対象物ハンドリング装置をさらに備え、前記交換可能な対象物ハンドリング装置及び前記他の交換可能な対象物ハンドリング装置が、それぞれマニピュレータ及び中間保持デバイスを含む請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- デバイス製造方法であって、
基板支持体上に配置された基板に、パターン形成デバイス支持体上に配置されたパターン形成デバイスからのパターンを投影するステップと、
マニピュレータ及び中間保持デバイスを使用して、前記支持体の1つと交換可能な対象物ステーションとの間で交換可能な対象物を交換するステップとを含み、前記中間保持デバイスは、前記交換可能な対象物ステーションより前記1つの支持体に実質的に近く配置され、前記マニピュレータは、前記交換可能な対象物を、前記交換可能な対象物ステーション、前記1つの支持体、及び前記中間保持デバイスで交換するように構成され、前記中間保持デバイスは、前記交換可能な対象物を前記マニピュレータで交換するように構成され、交換の間、前記交換可能な対象物は、一時的に前記中間保持基板ハンドリング装置デバイスに格納される方法。 - 前記1つの支持体上の第1の交換可能な対象物を、前記交換可能な対象物ステーションに配置される第2の交換可能な対象物と取り替えるステップを含み、前記取り替えるステップが、
前記交換可能な対象物ステーションから前記第2の交換可能な対象物を取り出すために、前記マニピュレータを使用するステップと、
前記1つの支持体から前記第1の交換可能な対象物を取り出すために、前記中間保持デバイスを使用するステップと、
前記第2の交換可能な対象物を前記1つの支持体上に配置するために、前記マニピュレータを使用するステップと、
前記第1の交換可能な対象物を前記中間保持デバイスから取り出すために、前記マニピュレータを使用するステップと、
前記第1の交換可能な対象物を前記交換可能な対象物ステーションに配置するために、前記マニピュレータを使用するステップとを含む請求項25に記載の方法。 - 前記1つの支持体上の第1の交換可能な対象物を、前記交換可能な対象物ステーションに配置される第2の交換可能な対象物と取り替えるステップをさらに含み、前記取り替えるステップが、
前記交換可能な対象物ステーションから前記第2の交換可能な対象物を取り出すために、前記マニピュレータを使用するステップと、
前記中間保持デバイス内に前記第2の交換可能な対象物を配置するために、前記マニピュレータを使用するステップと、
前記第1の交換可能な対象物を前記支持体から取り出すために、前記マニピュレータを使用するステップと、
前記第2の交換可能な対象物を前記支持体に配置するために、前記中間保持デバイスを使用するステップと、
前記第1の交換可能な対象物を前記交換可能な対象物ステーションに配置するために、前記マニピュレータを使用するステップとを含む請求項25に記載の方法。 - 前記交換可能な対象物は、前記基板であり、前記1つの支持体が、前記基板支持体である請求項25に記載の方法。
- 前記交換可能な対象物は、前記パターン形成デバイスであり、前記1つの支持体が、前記パターン形成デバイス支持体である請求項25に記載の方法。
- リソグラフィ装置であって、
(a)放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
(b)パターン形成された放射ビームを形成するように放射ビームをパターン形成するように構成されたパターン形成デバイスを支持するように構成されたパターン形成デバイス支持体と、
(c)基板を保持するように構成された基板支持体と、
(d)前記基板上に前記パターン形成された放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
(e)交換可能な対象物を前記支持体の1つで交換するように構成された交換可能な対象物ハンドリング装置とを備え、前記交換可能な対象物ハンドリング装置は、
(i)マニピュレータと、
(ii)中間保持デバイスとを含み、
前記マニピュレータは、前記交換可能な対象物を、前記1つの支持体、前記中間保持デバイス、及び交換可能な対象物ステーションで交換するように構成され、
前記中間保持デバイスは、前記交換可能な対象物ステーションより前記支持体に実質的に近く配置されるリソグラフィ装置。 - 前記交換可能な対象物は、前記基板であり、前記1つの支持体が、前記基板支持体である請求項30に記載のリソグラフィ装置。
- 前記交換可能な対象物は、前記パターン形成デバイスであり、前記1つの支持体が、前記パターン形成デバイス支持体である請求項30に記載のリソグラフィ装置。
- 交換可能な対象物を前記支持体の他の支持体で交換するように構成される追加の交換可能な対象物ハンドリング装置をさらに備え、前記交換可能な対象物ハンドリング装置及び前記追加の交換可能な対象物ハンドリング装置の両方が、それぞれマニピュレータ及び中間保持デバイスを含む請求項30に記載のリソグラフィ装置。
- 前記中間保持デバイスは、前記マニピュレータ上に交換可能な対象物を配置するように構成される請求項30に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置内で支持体上の交換可能な対象物を交換するように構成された交換可能な対象物ハンドリング装置であって、前記交換可能な対象物ハンドリング装置は、
(i)マニピュレータと、
(ii)中間保持デバイスとを含み、
前記マニピュレータは、前記交換可能な対象物を、前記支持体、前記中間保持デバイス、及び前記交換可能な対象物ステーションで交換するように構成され、
前記中間保持デバイスは、前記交換可能な対象物ステーションより前記支持体に実質的に近く配置される交換可能な対象物ハンドリング装置。
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