JP2006100193A - 有機el素子及びこれを備えた有機el装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 有機EL素子を比較的容易に製造し、取り出し効率を向上させる。
【解決手段】
有機EL素子は、基板(10)と、一対の電極層(11、13)と該一対の電極層間に挟持されており発光層(12)を含んだ有機層(12A)とが基板に積層されてなる積層体(20)を備える。積層体の光出射側には、屈折層(31)が配置される。屈折層は、入射光を屈折させる気泡(31a)が複数混入された樹脂(31b)からなる。
【選択図】 図1
【解決手段】
有機EL素子は、基板(10)と、一対の電極層(11、13)と該一対の電極層間に挟持されており発光層(12)を含んだ有機層(12A)とが基板に積層されてなる積層体(20)を備える。積層体の光出射側には、屈折層(31)が配置される。屈折層は、入射光を屈折させる気泡(31a)が複数混入された樹脂(31b)からなる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、例えば、基板上に有機EL(Electroluminescence)膜及び電極膜が順次積層されてなる有機EL素子、及び、そのような有機EL素子を備え、照明光源、カラーディスプレイ、プリンタヘッド等の有機EL装置の技術分野に関する。
この種の有機EL素子は、基板上に、少なくとも発光層を含む有機薄膜を一対の電極膜で挟んだ積層構造を有し、一対の電極膜から注入されたキャリアが発光層内で再結合することにより発光する。一対の電極膜は、素子外部に光を取り出すために、少なくとも一方がITO(Indium Tin Oxide)等の透明電極となっている。
このような有機EL素子においては、素子を構成する有機薄膜、透明電極、及び基板等が夫々異なる屈折率を有しているために、各層の界面ではある角度以上の角度で入射した光は全反射してしまい、素子外部に取り出される光の割合(即ち、取り出し効率)が低くなるという問題がある。
これに対し、特許文献1に記載の技術では、極めて屈折率が低いシリカエアロゲル層を透明電極に接するように設け、取り出し効率の向上を図っている。
しかしながら、シリカエアロゲル層を実際に作製するためには、液化炭酸ガス等の存在下で、高温高圧の超臨界状態で溶媒を乾燥させる必要がある。そのため、多大なコストと時間を要するという技術的問題点がある。
本発明は、例えば上記問題点に鑑みてなされたものであり、比較的容易に製造可能な、取り出し効率の高い有機EL素子、及びこれを備えた有機EL装置を提供することを課題とする。
本発明の有機EL素子は、上記課題を解決するために、基板と、前記基板に、一対の電極層と該一対の電極層間に挟持されており発光層を含んだ有機層とが積層されてなる積層体と、前記積層体の光出射側に配置され、入射光を屈折させる気泡が複数混入された樹脂からなる屈折層とを備える。
本発明の有機EL素子によれば、一対の電極層の間に、発光層を含んだ単層又は多層の有機層が挟まれた構造の積層体が、基板に設けられている。有機薄膜としては、発光層の他に、例えば、ホール注入層やホール輸送層、或いは電子注入層や電子輸送層などがある。発光層で生じる光は、積層体の光出射側から積層体外部に取り出される。この光射出側(即ち、光を取り出す方向)は基本的に、積層体の層面に対して垂直方向を中心にして選ばれる。即ち、観察者は、表示画面の正面を中心に適当な視野角の範囲内で見ることが想定されている。ところが、発光層から射出される斜めの光のうち、積層体内部の各層の界面や積層体と基板との界面、或いは基板と外気との界面で全反射した成分は、積層体外部には射出されず、積層体の側面側に導波されてしまう。
これに対し、本発明の有機EL素子では、積層体外部の光出射側に屈折層が設けられている。この屈折層は、多数の気泡が混入された樹脂からなる。ここで屈折層の母材を樹脂としたのは、バブリング等により気泡を包含させることが比較的容易であるという理由による。従って、屈折層自体の屈折率は、ここでは特に限定されない。また、樹脂は一般に絶縁性であること、及び、発光効率低下防止の観点から、屈折層は、積層体内部の導電層としてではなく、積層体外部に絶縁層として設けられる。
この屈折層の存在により、本来ならば上記各界面で全反射される斜めの光であっても屈折層内に入射し、気泡と樹脂との界面で屈折される。そのため、仮に何らの対策も施さねば全反射されるような斜めの光であっても、屈折層内に入射し屈折されることで、取り出し可能な方向に大なり小なり向かわせること、即ち表示に寄与する光として利用することが可能となる。
以上の結果、本発明の有機EL素子によれば、屈折層内の気泡によって光の射出角度が変わることで、光の取り出し効率を向上させることが可能である。
また、前述したように、本発明に係る屈折層は、液状ないしゲル状の樹脂にバブリング等によって気体を混入させ、スピンコート、ディップコートないし塗布等により層形成することで実際に作製できる。従って、このような有機EL素子は、比較的容易に製造可能である。
本発明の有機EL素子の一態様では、前記屈折層は、前記基板上で平面的に見て、前記積層体に規定される発光領域を内包する領域を占めている。
この態様によれば、平面的に見て、屈折層は、この有機EL素子本来の発光領域が内包された、発光領域より大きな領域を占める。発光領域とは、平面的に見て、発光層で発光が生じる領域であり、積層体を構成する各層が重なり合う領域を指している。屈折層では、多数の気泡により光が多重反射されることや、発光領域から屈折層の縁部に対して光が斜めに入射されること等から、光が屈折層の積層体側の層面の一部に入射された場合でも、出射側の層面全体から出射させることができる。そのため、発光面積が拡がり、見かけ上の発光領域が屈折層の占有領域の大きさに拡大される。
よって、この場合の発光領域(即ち、積層体の形成領域)は、通常よりも小さく設定することができ、例えば、発光領域の大きさが制限された場合でも実質的な発光面積は確保できるなど、設計自由度が拡がるという利点がある。具体的には、このように実際の発光面積を小さくすると、駆動電流が少なくて済み、低消費電力化が可能である。また、配線幅を狭くすることもでき、開口率を向上させることが可能である。
本発明の有機EL素子の他の態様では、前記気泡は、不活性ガスを含み、水分及び酸素の含有率が夫々1ppm未満である。
この態様によれば、屈折層の気泡は、窒素(N2)、アルゴン(Ar)等の不活性ガスが一部又は全部を占める気体からなり、その水分含有率及び酸素含有率は夫々1ppm未満とされる。即ち、屈折層は、気泡に水分も酸素も殆ど含まれないように形成される。
仮に、気泡内に水分や酸素が含有されていれば、これらが樹脂を透過して積層体内に侵入するおそれがある。積層体内の有機層は、水分や酸素によって劣化しやすく、これらの侵入によって劣化が早まり、輝度が低下したり、寿命が短くなったりしかねない。
本態様における有機EL素子では、こうした劣化原因となる水分や酸素を屈折層が持ち込まないようにしたので、劣化を抑制することができる。
本発明の有機EL素子の他の態様では、前記積層体は、前記基板と反対の上面側を前記光出射側とするように構成され、前記屈折層は、前記上面よりも上層側に設けられている。
この態様によれば、有機EL素子は、基板上面側から光を取り出す、所謂“トップエミッション型”である。発光層を挟む一対の電極層は、基板側の下層の電極層が光を反射させるように金属膜からなる一方、光射出側となる上層の電極層が、光を取り出すために透明導電膜からなる。この場合の屈折層は、積層体の直上もしくは更にその上層側に設けられることで、上記の作用及び効果を果たすことができる。
このトップエミッション型の態様では、前記屈折層は、前記積層体の直上に設けられていてもよい。
この場合の屈折層は、積層体の直近で、入射光の光路を変えるように作用する。即ち、極力早い段階で出射角度が調整されるため、その後、他の構成要素による界面でも全反射されずに透過する成分が増加し、光取り出し効率を効率よく向上させることができる。
また、この態様では、前記屈折層は、外部からの水分及び酸素の少なくとも一方の侵入を防止するために前記積層体を封止する機能を備えていてもよい。
この場合の屈折層は、積層体と外気との間に設けられていることから、外部からの積層体内への水分及び酸素の少なくとも一方の侵入を防止するための封止層としても機能する。そのため、積層体に対し、より信頼性の高い封止を施すことができる。或いは、封止層を別途設ける手間が省け、素子の構成を簡略化することができる。
本発明の有機EL素子の他の態様では、前記積層体は、前記基板に面する下面側を前記光出射側とするように構成され、前記屈折層は、前記下面と前記基板面との間に設けられていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の有機EL素子。
この態様によれば、有機EL素子は、基板下面側から光を取り出す、所謂“ボトムエミッション型”である。発光層を挟む一対の電極層は、基板と反対側の上層の電極層が光を反射させるように金属膜からなる一方、基板に面した、光射出側の下層の電極層が、光を取り出すために透明導電膜からなる。この場合の屈折層は、基板と積層体との間に配置される。
このように積層体の下面もしくは更にその下層側に設けられることで、屈折層は、上記の作用及び効果を果たすことができる。
このボトムエミッション型の態様では、前記屈折層は、前記積層体の直下に設けられていてもよい。
この場合の屈折層は、積層体の直近で、入射光の光路を変えるように作用する。即ち、極力早い段階で出射角度が調整されるため、その後、基板等の他の構成要素によるいくつかの界面においても、全反射されずに透過する成分が増加し、光取り出し効率を効率よく向上させることができる。
本発明の有機EL素子の他の態様では、前記積層体は、前記基板の一面に、下面側を前記光出射側とするように構成されて配置され、前記屈折層は、前記基板の他面に配置されている。
この態様によれば、有機EL素子は、基板下面側から光を取り出す、所謂“ボトムエミッション型”である。この場合の屈折層は、基板を挟んで積層体と対向するように配置される。通常、基板と外気との屈折率差は比較的大きく、その界面で全反射される成分が少なからず存在する。これに対し、本態様では、この基板と外気との界面に屈折層が配置されるので、外部に取り出される光成分を増加させることができる。因みに、この界面には、反射防止用として基板より屈折率が低い低屈折層が配置されることがあるが、本発明に係る屈折層は、層界面での屈折より、気泡と樹脂との界面における屈折によって出射光の進行方向を変えるように働く。
本発明の有機EL装置は、上記課題を解決するために、上述した本発明に係る有機EL素子(但し、その各種態様を含む)と、一端側が前記一対の電極層のうちの一方と電気的に接続されると共に、他端側が前記一方を駆動するための外部回路に接続される入出力信号線と、前記一対の電極層のうちの他方と電気的に接続される電極用配線とを備える。
本発明の有機EL装置によれば、上述した本発明に係る有機EL素子を備えるので、光取り出し効率の向上が実現可能であり、しかも比較的容易に製造することが可能である。このような有機EL装置は、例えば、低消費電力で高輝度の照明光源や、高品質な画像表示を行うことが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルなど、更には有機EL装置を露光用ヘッドとして用いたプリンタ、コピー、ファクシミリ等の画像形成装置など、各種電子機器を実現できる。
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施形態から明らかにされる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
<1:有機EL素子>
先ず、図1から図3を参照して、本発明の実施形態に係る有機EL素子の基本的な構成について説明する。図1から図3の夫々は、本実施形態に係る有機EL素子の概略構成を表す断面図である。
先ず、図1から図3を参照して、本発明の実施形態に係る有機EL素子の基本的な構成について説明する。図1から図3の夫々は、本実施形態に係る有機EL素子の概略構成を表す断面図である。
<1−1:トップエミッション型有機EL素子>
図1において、有機EL素子1は、素子基板10の上面側から光を取り出すトップエミッション型の発光素子であり、ガラス基板、樹脂製のフィルム基板、或いは半導体基板等からなる素子基板10上に積層体20が形成され、その積層体20の上層側に屈折層31が配置されて構成されている。
図1において、有機EL素子1は、素子基板10の上面側から光を取り出すトップエミッション型の発光素子であり、ガラス基板、樹脂製のフィルム基板、或いは半導体基板等からなる素子基板10上に積層体20が形成され、その積層体20の上層側に屈折層31が配置されて構成されている。
積層体20は、陽極11と陰極13との間に発光源となる有機層12Aが挟まれた構造を有し、各層が素子基板10上に積層されてなる。陰極13は、電子注入電極として機能し、光射出側に位置することから、例えばITO等による透明電極とされる。有機層12Aは、発光層12を含む単層又は多層の有機薄膜であり、発光層12の他に、例えば正孔注入/輸送層等や電子注入/輸送層等が含まれる。発光層12は、陽極11及び陰極13から注入される電子と正孔とが再結合して光が発生する層である。正孔注入/輸送層は、発光層12と陽極11との間に設けられるバッファ層であり、発光層12と陽極11との接合性を高める。正孔注入/輸送層は、正孔の注入効率を高めるとともに、注入された正孔の移動速度を高める機能を有する。陽極11は、正孔注入電極として機能すると共に、光射出側とは反対側に配置されることから、光取り出し効率を高めるために高反射率のアルミニウム等による金属電極と、ITO等の正孔注入性電極との積層構造とされる。
このように、積層体20は、素子基板10側から順に陽極11、有機層12A及び陰極13が積層されて構成されている。尚、有機層12Aの構成は、発光層12を含むこと以外は特に制限されない。
屈折層31は、積層体20の上面側に設けられ、発光領域W11の幅よりも広い幅W21を有している。屈折層31は、窒素、アルゴン等の不活性ガスの気泡31aを多数内包する樹脂31bから構成されている。尚、気泡31aの水分及び酸素の含有率は、夫々1ppm未満であり、屈折層31内は水分や酸素が殆ど含まれない状態となっている。仮に、気泡31a内に水分や酸素が含有されていれば、これらが樹脂31bを透過して積層体20内に侵入するおそれがある。有機層12Aは、水分や酸素によって劣化しやすく、これらの侵入によって劣化が早まり、輝度が低下したり、寿命が短くなったりしかねない。これに対し、屈折層31は劣化原因となる水分や酸素を有機EL素子1内に持ち込まないので、有機EL素子1の劣化が抑制される。
また、屈折層31は、積層体20より外表側に配置されることから、樹脂31bに水分や酸素が透過し難い材料を用いるなどして、より積極的に、外部からの水分や酸素の侵入に対し積層体20を封止する機能を兼ね備えるようにしてもよい。
このような屈折層31は、例えば、液状ないしゲル状の樹脂にバブリング等により不活性ガスを混入させ、スピンコート、ディップコートないし塗布等により層形成することで作製される。その際には、屈折層31の厚みや気泡31aの大きさは、特に限定されず、適宜に設計可能である。尚、屈折層31自体の屈折率は、後述するように、ここでは特に限定されない。
この有機EL素子1では、発光層12で生じる光は、屈折層31側から積層体20外に取り出される。このとき、発光層12から射出される光のうち、積層体20内部の各層の界面で全反射した成分は、積層体20外には射出されず、積層体20の側面に導波されて減衰してしまう。とりわけ、屈折層31が設けられていない場合の陰極13と外気との界面21においては、両者の屈折率差により、光L1’、L2’のような全反射される成分が生じる。しかしながら、本実施形態においては、屈折層31の存在により、本来ならば全反射される光L1、L2も屈折層31内に入射し、気泡31aと樹脂31bとの界面で屈折される。そのため、屈折層31内に入射した光L1、L2は、確率的に、概ね取り出し可能な方向に向かう。
従って、有機EL素子1によれば、屈折層31内の気泡31aによって光の射出角度が変わることで、光の取り出し効率を向上させることが可能である。ここで、屈折層31を積層体20の上層側に設けるものとしたが、このような作用及び効果を効率よく発揮するには、屈折層31は、積層体20からの出射光を他の部材等の影響を受ける前に屈折することが望ましく、できるだけ積層体20の直近、即ち陰極13の上面に接するように配置されることが好ましい。
尚、本実施形態に係る屈折層31は、以上に説明したように、本来ならば全反射される入射光を、内包する気泡31aにより屈折するように作用することから、陰極13と屈折層31との界面における入射光の屈折はそれほど考慮する必要はない。そのために、気泡31aと樹脂31bとの屈折率差を調整することはあっても、屈折層31自体の屈折率は特に限定されない。
また、屈折層31では、気泡31aと樹脂31bとの界面で光が多重反射されることや、光L2のように、屈折層31の周縁部分に斜めに入射される光が存在すること等から、屈折層31に対して幅W11の領域内に入射される光は、幅W21の領域全体にわたって出射される。そのため、この有機EL素子1では、発光面積が拡がり、見かけ上の発光領域が屈折層31の占有領域の大きさにまで拡大される。よって、素子の開口率が向上する。
また、本実施形態に係る屈折層31は比較的容易に形成可能であることから、有機EL素子1は容易に製造可能である。
<1−2:ボトムエミッション型有機EL素子>
図2において、有機EL素子2は、素子基板10の下面側から光を取り出すボトムエミッション型の発光素子であり、素子基板10と積層体20との間に屈折層32が設けられている。この場合、素子基板10に面した下面側が光出射側となるために、例えば、陽極11はITO等の透明導電材料からなり、陰極13は金属からなる。また、素子基板10は、光出射側に配置されているために、ガラス基板や樹脂製のフィルム基板等の透明基板とされる。
図2において、有機EL素子2は、素子基板10の下面側から光を取り出すボトムエミッション型の発光素子であり、素子基板10と積層体20との間に屈折層32が設けられている。この場合、素子基板10に面した下面側が光出射側となるために、例えば、陽極11はITO等の透明導電材料からなり、陰極13は金属からなる。また、素子基板10は、光出射側に配置されているために、ガラス基板や樹脂製のフィルム基板等の透明基板とされる。
屈折層32は、屈折層31と同様、水分及び酸素の含有率が夫々1ppm未満の不活性ガスの気泡32aを内包している。また、屈折層32は、発光領域W12の幅よりも広い幅W22を有している。
この有機EL素子2では、屈折層32が屈折層31と同様に作用し、有機EL素子1と同様の効果をもたらす。尚、この場合には、効果を効率よく効果を発揮するには、屈折層32は、積層体20からの出射光を他の部材等の影響を受ける前に屈折することが望ましく、できるだけ積層体20の直近、即ち陽極11の下面に接するように配置されることが好ましい。
図3において、有機EL素子3もまたボトムエミッション型である。但し、この場合の屈折層33は、素子基板10のうち積層体20が形成されている面とは反対側の面に配置されている。屈折層33は、屈折層31と同様、水分及び酸素の含有率が夫々1ppm未満の不活性ガスの気泡33aを内包している。また、屈折層33は、発光領域W13の幅よりも広い幅W23を有している。
この場合、屈折層33が設けられていない場合の素子基板10と外気との界面22においては、両者の屈折率差により全反射される成分が少なからず存在する。これに対し、本実施形態においては、屈折層33の存在により、本来ならば全反射される光も屈折層33内に入射し、気泡33aにより屈折される。そのため、屈折層33内に入射した光は、確率的に、概ね取り出し可能な方向に向かう。こうして、有機EL3素子は、有機EL素子1と同様の作用及び効果を奏する。
<2:有機EL装置>
次に、図4から図7を参照して、上記実施形態の有機EL素子を備えた有機EL装置に係る実施形態について説明する。尚、以下では、図2に示したボトムエミッション型の有機EL素子2を備えた場合を例にとり、具体的に説明する。
次に、図4から図7を参照して、上記実施形態の有機EL素子を備えた有機EL装置に係る実施形態について説明する。尚、以下では、図2に示したボトムエミッション型の有機EL素子2を備えた場合を例にとり、具体的に説明する。
<2−1:有機EL装置の全体構成>
図4を参照して有機EL装置の全体構成について説明する。図4は、素子基板10を封止基板の側から見た有機EL装置の概略的な平面図である。ここでは、駆動回路内蔵型のアクティブマトリクス駆動方式の有機EL装置を例にとる。
図4を参照して有機EL装置の全体構成について説明する。図4は、素子基板10を封止基板の側から見た有機EL装置の概略的な平面図である。ここでは、駆動回路内蔵型のアクティブマトリクス駆動方式の有機EL装置を例にとる。
図4において、素子基板10上の画像表示領域110には、複数の画素駆動用信号線116aが配線されると共に、夫々画素駆動用信号線116aに電気的に接続される複数の画素部が所定パターンで配列されている。複数の画素部は夫々有機EL素子2を含んでいる。尚、図4中、画像表示領域110における画素駆動用信号線116aや画素部の具体的な構成については図示を省略し、その詳細については後述する。
画像表示領域110の周辺に位置する周辺領域には、画像表示領域110を挟んで対向する素子基板10の2辺に沿って、Y側駆動回路部132が設けられると共に、この2辺に隣接する一辺に沿ってX側駆動回路部152が設けられている。複数の画素駆動用信号線116aは、Y側駆動回路部132及びX側駆動回路部152に電気的に接続されている。図4には、複数の画素駆動用信号線116aのうち、X側駆動回路部152と電気的に接続される画素駆動用信号線116aについて、画像表示領域110の一辺からX側駆動回路部152に延びて配線される一部分について示してある。
更に、X側駆動回路部152が設けられた素子基板10の一辺に沿って、複数の実装端子102が設けられている。これらの実装端子102には、例えばTAB(Tape Automated Bonding)方式やCOG(Chip On Grass)方式により配線基材300が実装される。配線基材300には、走査線駆動回路やデータ線駆動回路を駆動するための各種信号を供給する外部回路が形成されている。
Y側駆動回路部132には、走査線駆動回路が設けられると共に、例えば画素駆動用信号線116aと走査線駆動回路内の回路素子等とを電気的に接続するための配線や、走査線駆動回路を駆動するための各種信号の供給経路となる配線等が設けられる。X側駆動回路部152には、データ線駆動回路が設けられると共に、例えば画素駆動用信号線116aとデータ線駆動回路内の回路素子等とを電気的に接続するための配線や、データ線駆動回路を駆動するための各種信号の供給経路となる配線等が設けられる。配線116bは、X側駆動回路部152を介して入出力信号線118に電気的に接続されている。
入出力信号線118は、外部回路に入出力される信号の種類に対応して、複数種類設けられる。例えば、複数の入出力信号線118には、以下のような画素駆動用電源線118aや駆動回路用信号線が設けられる。画素駆動用電源線118aには、外部回路から画素駆動用電源が供給される。画素駆動用電源線118aの一端側は、X側駆動回路部152又はY側駆動回路部132を介して、画素駆動用信号線116aとしての電源供給線に電気的に接続される。また、駆動回路用信号線には、外部回路から走査線駆動回路やデータ線駆動回路を駆動するための駆動回路用信号が供給される。このような駆動回路用信号線には、例えば、図4に示すように、駆動回路用信号として、走査線駆動回路やデータ線駆動回路の電源となる駆動回路用電源が供給される駆動回路用電源線118bが含まれる。
<2−2:画素部の構成>
次に、図4に加え、図5から図7を参照して、有機EL装置の画像表示領域110における画素部の構成について具体的に説明する。図5は、有機EL装置の全体構成を示すブロック図であり、図6は、データ線、走査線、陽極や発光層等が形成された素子基板の任意の画素部の平面図であり、図7は図6に示す画素部のA−A'断面図である。なお、図6及び図7においては、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層、各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。
次に、図4に加え、図5から図7を参照して、有機EL装置の画像表示領域110における画素部の構成について具体的に説明する。図5は、有機EL装置の全体構成を示すブロック図であり、図6は、データ線、走査線、陽極や発光層等が形成された素子基板の任意の画素部の平面図であり、図7は図6に示す画素部のA−A'断面図である。なお、図6及び図7においては、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層、各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。
先ず、図5を参照して、有機EL装置の画像表示領域110の電気的な構成について説明する。
画像表示領域110には、図4の画素駆動用信号線116aに相当するデータ線114及び走査線112が縦横に延設され、それらの交点に対応する各画素部70はマトリクス状に配列されている。更に、画像表示領域110には、各データ線114に対して配列された画素部70に対応する電源供給線117が延在している。電源供給線117もまた、図4の画素駆動用信号線116aに相当する。
尚、本実施形態では、カラー表示を行うために、画像表示領域110には例えば、R用、G用及びB用の3種の画素部70が設けられると共に、3種の画素部70に対応する3種のデータ線114及び3種の電源供給線117が設けられる。図5において、例えば隣接する3本のデータ線114毎に3種の画素部70が設けられる。3本のデータ線114のうち、いずれか1本のデータ線114には、3種のうちいずれか1種の画素部70が配列される。また、このように配列された画素部70には、対応する種類の電源供給線117が電気的に接続される。
前述したように、素子基板10上の周辺領域には、走査線駆動回路130及びデータ線駆動回路150が設けられている。走査線駆動回路130及びデータ線駆動回路150は、図4における実装端子102及び入出力信号線118としての駆動回路用信号線を介して、外部回路から供給される駆動回路用信号に基づいて駆動される。そして、走査線駆動回路130は、複数の走査線112に走査信号を順次供給する。また、データ線駆動回路150は、画像表示領域110に配線された3種のデータ線114に、R用、G用及びB用の3種の画像信号を供給する。尚、2種の走査線駆動回路130の動作と、データ線駆動回路150の動作とは、外部回路から供給される同期信号160によって相互に同期が図られる。
また、周辺領域には、3種の電源供給線117に対応して3種の画素駆動用電源線118aが設けられる。3種の電源供給線117には夫々、外部回路から実装端子102及び対応する画素駆動用電源線118aを介して画素駆動用電源が供給される。
ここで、図5中、一つの画素部70に着目すれば、画素部70には、有機EL素子2が設けられると共に、例えばTFTを用いて構成されるスイッチング用トランジスタ76及び駆動用トランジスタ74、並びに保持容量78が設けられている。画素部70において、各トランジスタは、例えば、薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor;以下適宜、“TFT”と称する)等により構成される。
スイッチング用トランジスタ76のゲート電極には走査線112が電気的に接続されており、スイッチング用トランジスタ76のソース電極にはデータ線114が電気的に接続され、スイッチング用トランジスタ76のドレイン電極には駆動用トランジスタ74のゲート電極が電気的に接続されている。また、駆動用トランジスタ74のソース電極には、電源供給線117が電気的に接続されており、駆動用トランジスタ74のドレイン電極には有機EL素子2の陽極が電気的に接続されている。
尚、このような有機EL装置では、図5及び図6に例示した画素回路の構成の他にも、電流プログラム方式の画素回路、電圧プログラム型の画素回路、電圧比較方式の画素回路、サブフレーム方式の画素回路等の各種方式の画素回路を採用することが可能である。
次に、図6及び図7を参照して、画素部70の更に詳細な構成について説明する。
例えば透明樹脂やガラス基板等の透明基板を用いて構成される素子基板10上には、スイッチング用トランジスタ76及び駆動用トランジスタ74の半導体層3が形成されている。半導体層3は例えば低温ポリシリコン膜を用いて形成されている。また、半導体層3上には、半導体層3を埋め込むようにスイッチング用トランジスタ76及び駆動用トランジスタ74のゲート絶縁層2が形成されている。そして、ゲート絶縁層2上に、駆動用トランジスタ74のゲート電極3a及び走査線112が形成されている。走査線112の一部は、スイッチング用トランジスタ76のゲート電極として形成されている。ゲート電極3a及び走査線112は、Al(アルミニウム)、W(タングステン)、Ta(タンタル)、Mo(モリブデン)、Ti(チタン)、銅(Cu)等のうち少なくとも一つを含む金属材料を用いて形成されている。
また、走査線112や駆動用トランジスタ74のゲート電極3aを埋め込むように、ゲート絶縁層2上には層間絶縁層41が形成されている。層間絶縁層41及びゲート絶縁層2は例えばシリコン酸化膜から構成されている。
層間絶縁層41上には、例えばアルミニウム(Al)又はITO(Indium Tin Oxide)を含む導電材料から夫々構成される、データ線114及び電源供給線117、更には駆動用トランジスタ74のドレイン電極42が形成されている。層間絶縁層41には、層間絶縁層41の表面から層間絶縁層41及びゲート絶縁層2を貫通して、駆動用トランジスタ74の半導体層3に至るコンタクトホール501及び502が形成されている。図7に示すように、電源供給線117及びドレイン電極42を構成する導電膜は、コンタクトホール501及び502の各々の内壁に沿って半導体層3の表面に至るように連続的に形成されている。
保持容量78の下部容量電極は、走査線112と同一の層に、例えば同様の材料を用いて形成され、電源供給線117の一部が保持容量78の上部容量電極として形成されている。層間絶縁層41は誘電体膜として形成されており、層間絶縁層41の一部分が下部容量電極及び上部容量電極の間に挟持される。
層間絶縁層41上には、電源供給線117及びドレイン電極42を埋め込むように、保護層45として例えばシリコン窒化膜(SiN)が形成されている。保護層45上には、発光材料保持層47より親水性の高い層として、例えばシリコン酸化膜よりなる親水層46が形成され、更に親水層46上に発光材料保持層47が形成されている。親水層46及び発光材料保持層47によって、画素部70における開口領域が形成されている。
この保護層45上に形成された開口領域には、有機EL素子2が形成されている。即ち、開口領域には、保護層45を下地として屈折層32、陽極11、有機層12A及び陰極13が順に形成されている。
屈折層32は、例えば、バブリングにより樹脂材料に不活性ガスの気泡32aを混入させ、この樹脂材料を用いてスピンコーティングやディップコーティング、塗布等により層形成し、その後、乾燥或いは熱処理等を施して完成される。このように、屈折層32は、比較的簡易に形成可能である。屈折層32は、素子基板10の全面にベタ状に形成されてもよいが、画素部70毎に区画形成されてもよい。こうして形成される屈折層32の厚み、気泡32aの大きさは任意であるが、例えば、共に数μmから数十μmオーダーとすることができる。また、屈折層32内の気泡32aの密度は、低過ぎれば確率的に入射光を屈折させる効果が低下してしまう反面、高過ぎれば屈折層32総体の屈折率が低くなり、気泡32aによる屈折効果より層界面における屈折効果が大きくなることが考えられる。
ここで、屈折層32の幅W22は、発光領域の幅W12より広く、また図6に示したように、平面的に見て屈折層32が占める領域32Aは、発光領域50Aを内包している。発光領域は、平面的に見た場合に発光する領域であり、陽極11、有機層12A及び陰極13が層面に垂直方向に重ね合わせられている領域である。
陽極11は、透明性導電材料としてITOを用いて、開口領域から延びてドレイン電極42の一部と重畳するように形成されている。また、開口領域において、陽極11上には有機層12Aが形成されている。そのうち、発光層の発光材料は、有機EL素子2のR、G及びBの別に応じて選定される。発光層を形成する際には、発光材料とされる有機化合物が溶解或いは分散された溶液をインクジェット方式やスピンコート法の如き塗布法によって塗布する。この溶液に含まれる溶媒は加熱処理によって気化し、発光層が形成されることになる。また、正孔注入/輸送層は、有機化合物を塗布して形成された有機層であり、インクジェット方式の如き塗布法によって形成されている。正孔注入/輸送層を形成する有機化合物としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸等の混合物を用いることができる。
陰極13は、例えばアルミニウム(Al)を含む金属材料を用いて形成されるか、又はカルシウム(Ca)、フッ化リチウム(LiF)、フッ化ストロンチウム(SrF2)、マグネシウム(Mg)、銀(Ag)等のうち少なくとも一つを含む金属材料を用いて形成された導電膜の積層膜として形成されている。尚、図7には、封止基板について図示を省略してある。
<2−3:有機EL装置の動作>
有機EL装置の駆動時、走査線112を介して走査信号が供給されることにより、スイッチング用トランジスタ76がオン状態になる。スイッチング用トランジスタ76がオン状態となると、データ線114から供給される画像信号が、保持容量78に書き込まれると共に駆動用トランジスタ74のゲートに印加される。これにより、オン状態とされた駆動用トランジスタ74を介して、所定電位の電源に接続されている電源供給線117から有機EL素子2に駆動電流が流れる。この際、駆動用トランジスタ74では、保持容量78に書き込まれた画像信号によってゲート電圧が保持されるために、有機EL素子2には画像信号の大きさに応じたドレイン電流Idが流れる。有機EL素子2では、このようにして整流された駆動電流が陽極11及び陰極13間に流れ、この両者間に挟持された発光層が発光する。
有機EL装置の駆動時、走査線112を介して走査信号が供給されることにより、スイッチング用トランジスタ76がオン状態になる。スイッチング用トランジスタ76がオン状態となると、データ線114から供給される画像信号が、保持容量78に書き込まれると共に駆動用トランジスタ74のゲートに印加される。これにより、オン状態とされた駆動用トランジスタ74を介して、所定電位の電源に接続されている電源供給線117から有機EL素子2に駆動電流が流れる。この際、駆動用トランジスタ74では、保持容量78に書き込まれた画像信号によってゲート電圧が保持されるために、有機EL素子2には画像信号の大きさに応じたドレイン電流Idが流れる。有機EL素子2では、このようにして整流された駆動電流が陽極11及び陰極13間に流れ、この両者間に挟持された発光層が発光する。
発光層で生じた光は、素子基板10側(図7中、矢印Xの方向)に取り出される。このとき、発光領域50Aが発光しているのであるが、本実施形態においては、前述したように、屈折層32が占める領域32A全体から光が出射される。このように、領域32Aが見かけ上の発光領域となるため、開口率を向上させることができる。
その逆に、本実施形態における有機EL素子2は、発光領域50Aを小さくしても従来と同等の発光面積を得ることができ、発光領域50Aの縮小分だけ、素子設計の自由度が拡大される。その場合、画像表示領域110の各種配線の配線幅も同様に縮小することができ、画素の狭ピッチ化、及び低消費電力化にも寄与する。
また、発光層からの光は、素子基板10より先に屈折層32内に達し、気泡32aと樹脂との界面で屈折されてから素子基板10側に出射されるので、素子基板10の上面及び下面の各界面で全反射条件を満たす成分が減り、光取り出し効率が向上する。
尚、本実施形態では、屈折層32を陽極11の直下に設ける場合について説明したが、本発明の屈折層は、位置をこれに限定されず、素子基板10と陽極11との間に設けられていればよく、このような屈折層32と共に又は代えて、素子基板10の外側の面に形成されていてもよい。
また、以上の実施形態では、ボトムエミッション型の有機EL装置について説明したが、本発明の有機EL装置は、封止基板側から表示光として有機EL素子1(図1を参照)の発光を出射させるトップエミッション型として構成されてもよい。
<3:電子機器>
次に、図8及び図9を参照して、上記実施形態の有機EL装置が適用された電子機器について説明する。
次に、図8及び図9を参照して、上記実施形態の有機EL装置が適用された電子機器について説明する。
<3−1:モバイル型コンピュータ>
先ず、上述した有機EL装置を、モバイル型のパーソナルコンピュータに適用した例について説明する。図8は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。図8において、コンピュータ1200は、キーボード1202を備えた本体部1204と、有機EL装置を用いて構成された表示ユニット1206とを備えている。
先ず、上述した有機EL装置を、モバイル型のパーソナルコンピュータに適用した例について説明する。図8は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。図8において、コンピュータ1200は、キーボード1202を備えた本体部1204と、有機EL装置を用いて構成された表示ユニット1206とを備えている。
<3−2:携帯電話>
さらに、この有機EL装置を、携帯電話に適用した例について説明する。図9は、この携帯電話の構成を示す斜視図である。図9において、携帯電話1300は、複数の操作ボタン1302とともに有機EL装置を備えるものである。
さらに、この有機EL装置を、携帯電話に適用した例について説明する。図9は、この携帯電話の構成を示す斜視図である。図9において、携帯電話1300は、複数の操作ボタン1302とともに有機EL装置を備えるものである。
この他にも、上記実施形態に係る有機EL装置は、ノート型のパーソナルコンピュータ、PDA、テレビ、ビューファインダ、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、POS端末、タッチパネル、プリンタを備えた装置等に適用することができる。
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨、あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う有機EL素子、及びこれを備えた有機EL装置もまた、本発明の技術的範囲に含まれるものである。
1、2、3…有機EL素子、10…素子基板、11…陽極、12A…有機層、12…発光層、13…陰極、20…積層体、31、32、33…屈折層、31a、32a、33a…気泡、32A…(屈折層32が占める)領域、50A…発光領域、70…画素部。
Claims (10)
- 基板と、
前記基板に、一対の電極層と該一対の電極層間に挟持されており発光層を含んだ有機層とが積層されてなる積層体と、
前記積層体の光出射側に配置され、入射光を屈折させる気泡が複数混入された樹脂からなる屈折層と
を備えたことを特徴とする有機EL素子。 - 前記屈折層は、前記基板上で平面的に見て、前記積層体に規定される発光領域を内包する領域を占めていることを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子。
- 前記気泡は、不活性ガスを含み、水分及び酸素の含有率が夫々1ppm未満であることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機EL素子。
- 前記積層体は、前記基板と反対の上面側を前記光出射側とするように構成され、前記屈折層は、前記上面よりも上層側に設けられていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の有機EL素子。
- 前記屈折層は、前記積層体の直上に設けられていることを特徴とする請求項4に記載の有機EL素子。
- 前記屈折層は、外部からの水分及び酸素の少なくとも一方の侵入を防止するために前記積層体を封止する機能を備えることを特徴とする請求項4に記載の有機EL素子。
- 前記積層体は、前記基板に面する下面側を前記光出射側とするように構成され、前記屈折層は、前記下面と前記基板面との間に設けられていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の有機EL素子。
- 前記屈折層は、前記積層体の直下に設けられていることを特徴とする請求項7に記載の有機EL素子。
- 前記積層体は、前記基板の一面に、下面側を前記光出射側とするように構成されて配置され、前記屈折層は、前記基板の他面に配置されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の有機EL素子。
- 請求項1から9のいずれか一項に記載の有機EL素子と、
一端側が前記一対の電極層のうちの一方と電気的に接続されると共に、他端側が前記一方を駆動するための外部回路に接続される入出力信号線と、
前記一対の電極層のうちの他方と電気的に接続される電極用配線と
を備えたことを特徴とする有機EL装置。
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