JP2006096737A - 遺体処置設備および遺体の処置方法 - Google Patents

Abstract

【課題】遺体を処置してから火葬までの間、遺体が損傷することを防ぐことができ、遺体から他の生体への病原菌等の感染を防ぐことができる遺体処置設備および遺体の処置方法を提供する。
【解決手段】遺体に殺菌媒体を供給し、遺体表面を殺菌する遺体殺菌手段を備えており、遺体殺菌手段が、遺体に殺菌性を有する電磁波を照射する電磁波照射部を有している。遺体に電磁波を照射するだけで、遺体表面を殺菌することができるから、遺体表面を殺菌するときに、作業者等が遺体に直接触れることがない。よって、作業者等が遺体に付着している雑菌等に感染することを防ぐことができる。そして、遺体に電磁波を照射するだけであるから、特殊な技術は不要であり、この設備さえあれば、誰でも遺体の処置を行うことができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、遺体処置設備および遺体の処置方法に関する。亡くなられた方の遺体には、雑菌や病原菌が存在している可能性あり、かかる雑菌や病原菌により遺体の損傷したり、他の生体、つまり、遺族や葬儀関係者等が雑菌や病原菌に感染する恐れがある。
本発明は、雑菌や病原菌による遺体の損傷等を防止し、他の生体への病原菌等の感染を防ぎ、かつ、遺体から発する臭気を除くためのための遺体処置設備および遺体の処置方法に関する。

医師による死亡確認がなされた後、遺体が火葬に付されるまでは、通常は葬儀関係者あるいは近親者等によって遺体の清めや寝間着の交換、さらには死化粧等が施され、その後棺に安置されるが、この間も、遺体の腐敗は進行する。
また、病院等の医療機関では、患者が感染性の病原菌等に感染している場合、患者から他人に病原菌が感染しないように最大限の注意が払われているのに対し、病原菌等に感染した患者がなくなった後は、遺体から他人に病原菌の感染を防ぐための特別な対策を行わず遺族に引き渡されるのが一般的である。遺体が引き渡されてから火葬に付されるまでの間に多数の作業が行われるが、その作業を行っている間に作業者や遺族が遺体に触れると、遺族等が病原菌に感染してしまう恐れがあった。
さらに、遺体には腐敗が進行したものや、生前に罹患していた病気によっては遺体から異常な臭気を発するものもあり、かかる遺体の場合には、作業者や遺族が不快感を与えないために、簡便な技術によって遺体から臭気を除去することが望まれている。

かかる問題を解決する方法として、以下のごとき技術が開発されている（例えば、特許文献１〜４）。
特許文献１は、遺体の血液を、腐敗防止効果を有するエンバーミング液と置換する遺体の保存方法に関する技術であり、遺体の各組織の血管内に血液に代えてエンバーミング液が充填されるから、エンバーミング液によって遺体の各組織の腐敗を防止することができ、長期間遺体を保存することができる。
特許文献２，３は、遺体に特殊なシートを掛けたり、特殊な死装束を纏わせる技術であり、特殊なシートにより脱臭を図っている。
特許文献４は、遺体を棺に納めた後、棺内に二酸化塩素ガスを発生させる技術であり、二酸化塩素ガスによって遺体に付着している雑菌や病原菌等を殺菌するため、遺体からの感染防止を図ることができる。

しかるに、特許文献１の技術は、遺体の腐敗防止という点だけをみれば非常に有効であると考えられるが、その処置には多大な専門性と煩雑さが伴い、広く普及させることは困難である。しかも、処置をする人は遺体に触れて措置を行わなければならないため、ドライアイスで冷却する場合と同様に、作業者が遺体に接触することによって雑菌や病原菌等に感染する危険性は存在する。
また、特許文献２，３の技術では、簡便な方法ではあるもののその効果が十分ではなく、遺族等がシートを掛けたり死装束を纏わせる行為を行うことにより、病原菌等に感染する可能性が高くなる。
さらに、特許文献４の技術では、二酸化塩素ガスを使用することによって遺体から遺族への病原菌等の感染等は防げても、遺族等が二酸化塩素ガスに触れたり吸ったりすれば、粘膜への刺激、中毒の発生等の問題が生じる。

特開２０００−０９５６０１号公報 特開２００３−０９５８０１号公報 特開２００３−０４１４８１号公報 特開平１１−３２２５０１号公報

本発明は上記事情に鑑み、遺体を処置してから火葬までの間、遺体が損傷することを防ぐことができ、遺体から他の生体への病原菌等の感染を防ぐとともに、遺体から発する臭気を除去することができる遺体処置設備および遺体の処置方法を提供することを目的とする。

第１発明の遺体処置設備は、遺体に殺菌媒体を供給し、遺体表面を殺菌する遺体殺菌手段を備えており、該遺体殺菌手段が、遺体に殺菌性を有する電磁波を照射する電磁波照射部を有していることを特徴とする。
第２発明の遺体処置設備は、第１発明において、前記電磁波照射部から照射される電磁波が、紫外線であることを特徴とする。
第３発明の遺体処置設備は、第１発明において、前記遺体殺菌手段が配設された処置空間を備えており、該処置空間内に電磁波により活性化される化学物質分解触媒が設けられていることを特徴とする。
第４発明の遺体処置設備は、第３発明において、前記処置空間の空気を換気する換気部が設けられており、該換気部が、前記処置空間内の空気を該処置空間外に排出する排出通路を備えており、該排出通路に、化学物質を吸着する吸着部材が設けられていることを特徴とする。
第５発明の遺体処置設備は、第１発明において、前記遺体殺菌手段が、遺体周囲に殺菌性を有する殺菌性流体を供給する流体供給部を有していることを特徴とする。
第６発明の遺体処置設備は、第１発明において、前記遺体殺菌手段が、所定の周波数の電磁波によって遺体を電磁波加熱し、遺体内部の組織を構成するタンパク質が凝固する温度以上に組織の温度を上昇させ、組織の温度をタンパク質が凝固する温度以上で保持する遺体加熱手段を備えていることを特徴とする。
第７発明の遺体の処置方法は、遺体に殺菌性を有する電磁波を照射して、遺体表面を殺菌する殺菌工程とを行うことを特徴とする。
第８発明の遺体の処置方法は、第７発明において、遺体に殺菌性を有する電磁波を照射して、遺体表面を殺菌する殺菌工程と、電磁波により活性化される化学物質分解触媒によって遺体から発生する有害物質を分解する有害物質分解工程を、同時に行うことを特徴とする。
第９発明の遺体の処置方法は、第７発明において、所定の周波数の電磁波によって遺体を電磁波加熱し、遺体内部の組織を構成するタンパク質が凝固する温度以上に組織の温度を上昇させ、組織の温度をタンパク質が凝固する温度以上で保持する遺体加熱工程を、前記殺菌工程と同時に行うことを特徴とする。
第１０発明の遺体の処置方法は、第７発明において、遺体に照射される電磁波によって励起されて紫外線を発生する放電管を遺体とともに共存させておくことを特徴とする。
第１１発明の遺体の処置方法は、第１０発明において、励起される紫外線が、オゾンを発生させる波長のものであることを特徴とする。

第１発明によれば、遺体に電磁波を照射するだけで、遺体表面を殺菌することができるから、遺体表面を殺菌するときに、作業者等が遺体に直接触れることがない。よって、作業者等が遺体に付着している雑菌等に感染することを防ぐことができる。そして、遺体に電磁波を照射するだけであるから、特殊な技術は不要であり、この設備さえあれば、誰でも遺体の処置を行うことができる。
第２発明によれば、遺体に紫外線を照射するだけで、遺体表面を殺菌することができるから、遺体表面を殺菌するときに、作業者等が遺体に直接触れることがない。よって、作業者等が遺体に付着している雑菌等に感染することを防ぐことができる。また、紫外線としてオゾンを発生させることができるものを照射すれば、発生したオゾンによっても遺体を殺菌することができる。
第３発明によれば、遺体を処置する前に遺体周辺から発生した臭気等の化学物質を処置空間から除去でき、また、外部にオゾン等の化学物質が放出されることを防ぐことができる。
第４発明によれば、換気部よって、処置空間内の環境を所定の状態に保つことができる。しかも、分解しきれなかった化学物質や過剰のオゾンなどは吸着部材で吸着処理されるから、オゾン等が外部に排出されることを防ぐことができる。
第５発明によれば、オゾン等の殺菌性流体は、遺体の毛穴等から遺体の組織等に侵入するから、遺体表面に雑菌等が再付着することを防ぐことができる。
第６発明によれば、所定の周波数の電磁波による電磁波加熱により遺体を加熱すれば、遺体の組織等が誘電加熱による内部加熱により、内臓等の遺体内部組織の温度が、例えば、６０度以上となるように電磁波加熱して、その温度で所定の時間保持すれば、遺体内部の組織を構成するタンパク質を凝固させることができ、しかも、遺体内部の組織に付着している雑菌を死滅させたり減少させたりすることができる。すると、電磁波加熱を中止して遺体の温度が低くなっても、組織に付着している雑菌の繁殖速度を抑制することができるから、遺体内部の組織の腐敗速度を遅くすることができる。よって、火葬までの間に、遺体の表面だけでなく、遺体内部の組織の腐敗も防止することができる。また、電磁波の周波数や電磁波加熱する時間を調整すれば、遺体表面の組織を構成するタンパク質が凝固すること、言い換えれば、遺体表面が変色したり焦げたりして損傷することを防ぎつつ、遺体内部の組織を構成するタンパク質のみ凝固させることができるから、遺体の外観を悪化も防ぐことができる。
第７発明によれば、遺体に電磁波を照射するだけで、遺体表面を殺菌することができるから、遺体表面を殺菌するときに、作業者等が遺体に直接触れることがない。よって、作業者等が遺体に付着している雑菌等に感染することを防ぐことができる。そして、遺体に電磁波を照射するだけであるから、特殊な技術は不要であり、この設備さえあれば、誰でも遺体の処置を行うことができる。
第８発明によれば、遺体を処置する前に遺体周辺から発生した臭気等の化学物質を処置空間から除去でき、また、外部に化学物質が放出されることを防ぐことができる。
第９発明によれば、所定の周波数の電磁波による電磁波加熱により遺体を加熱すれば、遺体の組織等が誘電加熱による内部加熱により、内臓等の遺体内部の組織の温度が、例えば、６０度以上となるように電磁波加熱して、その温度で所定の時間保持すれば、遺体内部の組織を構成するタンパク質を凝固させることができ、しかも、遺体内部の組織に付着している雑菌を死滅させたり減少させたりすることができる。すると、電磁波加熱を中止して遺体の温度が低くなっても、組織に付着している雑菌の繁殖速度を抑制することができるから、遺体内部の組織の腐敗速度を遅くすることができる。よって、火葬までの間に、遺体の表面だけでなく、遺体内部の組織の腐敗も防止することができる。また、電磁波の周波数や電磁波加熱する時間を調整すれば、遺体表面の組織を構成するタンパク質が凝固すること、言い換えれば、遺体表面が変色したり焦げたりして損傷することを防ぎつつ、遺体内部の組織を構成するタンパク質のみ凝固させることができるから、遺体の外観を悪化も防ぐことができる。
第１０発明によれば、遺体に照射される所定の周波数の電磁波によって放電管が励起されたことによって発生する紫外線により、遺体の殺菌工程を同時に行うことができる。とくに、遺体内部を誘電加熱により加熱凝固させる処置と同時に行えば、遺体内部の殺菌も同時に行えるので、遺体の殺菌効果を高めることができる。
第１１発明によれば、紫外線だけでなく、発生したオゾンによっても遺体を殺菌することができる。

図１は本実施形態の遺体処置設備の概略説明図である。図１において、符号１は、遺体を処置するための処置室を示しており、この処置室１内部が、遺体を処置するための処置空間１ｈである。また、符号Ｔは、遺体を処置室１に搬入するためのトレーを示している。
図１に示すように、処置室１の処置空間１ｈにおいて、遺体の上方には、電磁波照射部１２が設けられている。この電磁波照射部１２は、紫外線等の殺菌作用のある電磁波を放出することができるものである。
このため、処置室１内に搬入された遺体の表面に雑菌や感染性の病原菌などが付着していたとしても、殺菌作用のある電磁波によって雑菌等を殺菌することができるから、遺体表面が雑菌などによって損傷することを防ぐことができる。
しかも、遺体に電磁波を照射するだけであり、遺体表面を殺菌するときに、作業者等が遺体に直接触れることがないから、作業者等が遺体に付着している雑菌等に感染することを防ぐことができる。
そして、遺体に電磁波を照射するだけであるから、特殊な技術は不要であり、この設備さえあれば、誰でも遺体の処置を行うことができる。
上記の電磁波が、特許請求の範囲にいう殺菌媒体である。

とくに、電磁波照射部１２が、比較的短波長の紫外線、例えば、波長185nm程度の紫外線を照射する場合には、処置室１の処置空間１ｈ内の空気を原料にして、処置空間１ｈ内にオゾンを発生させることができる。具体的には、電磁波照射部１２から波長185nm程度の紫外線が照射されれば、電磁波照射部１２の周辺に位置する空気中の酸素が次々とオゾンに転換、生成される。すると、電磁波照射部１２から照射された紫外線だけでなく、生成されたオゾンも遺体の殺菌に寄与することになるから、殺菌効果をさらに高めることができる。そして、オゾンは、遺体の毛穴等から遺体の組織等に侵入するから、遺体表面に雑菌等が再付着することも防ぐことができる。

そして、紫外線により生成されるオゾンよりも多くのオゾンを遺体処理に使用する場合や、オゾンによる殺菌効果を積極的に利用する場合には、図示しないオゾン発生装置から処置空間１ｈ内にオゾンを供給するようにしてもよい。
上記のオゾンが特許請求の範囲にいう殺菌性流体であるが、殺菌性流体は、二酸化塩素なども使用できるが、安全性の問題からオゾンが望ましい。

なお、電磁波照射部１２がマイクロ波を照射する場合には、マイクロ波に励起されて比較的短波長の紫外線を発生する無電極放電紫外線ランプを処置空間１ｈ内に設置しておけば、電磁波照射部１２による殺菌と同時に無電極放電紫外線ランプから発生した紫外線により、無電極放電紫外線ランプの周辺に位置する空気中の酸素からオゾンを生成させることができる。

また、図１に示すように、処置空間１ｈ内に、電磁波により活性化される化学物質分解触媒を設けておけば、遺体を処置する前に遺体周辺から発生した臭気等の化学物質を処置室１内から除去ですることができる。
電磁波により活性化される化学物質分解触媒は、例えば、二酸化チタンのような光触媒等である。化学物質分解触媒は、紫外線や可視光線の照射下、悪臭成分やホルマリン等の化学物質、あるいは浮遊する細菌等を効果的に分解する能力を有しているから、遺体加熱装手段１０や遺体殺菌手段による遺体処理と同時に、化学物質分解触媒により化学物質を処置空間１ｈ内から除去できる。
とくに、化学物質分解触媒が光触媒の場合、オゾンのような酸化剤があるとより効果的に分解作用を発揮するから、電磁波照射部１２が紫外線を照射して遺体表面を殺菌するものであったり、処置空間１ｈ内に前述した無電極放電紫外線ランプが配設されている場合であれば、二次的に発生したオゾンにより光触媒近傍における臭気原因物質の分解作用が促進されるし、発生したオゾンは、光触媒による臭気原因物質の分解において消費されるから、処置空間１ｈ内のオゾン濃度を低下させることができ、オゾンが外部への流出することも抑制することができる。しかも、光触媒は壁やガラス等に薄膜状に塗布することが可能なため、非常に広範な場所に適用することができるので、処置室１内における化学物質除去効果を高めることができる。

また、処置室１に、処置空間１ｈ内の空気を換気する図示しない換気部を設けておけば、換気部よって、処置空間１ｈ内の環境を所定の状態に保つことができるから、処置空間１ｈ内の環境の悪化による遺体処理の効率の低下を防ぐことができる。この場合、処置空間１ｈ内に存在する悪臭等の原因物質等が外部に排出される危険性があるが、処置空間１ｈ内の空気を処置空間１ｈ外に排出する排出通路に、表面積が大きく悪臭等の原因物質を吸着、捕捉する能力に優れた、例えば、活性炭、活性コークス等の吸着部材２６を、処置空間１ｈ内の空気を外部に排出する空気通路（図１参照）や処置空間１ｈ内に設けておけば、処置空間１ｈで発生した有害な物質を、外部に排出されることを防ぐことができるので、好適である。
とくに、電磁波照射部１２によって遺体に照射されるマイクロ波等が、直接または反射などを介して間接的に、吸着部材２６にも照射されるように構成しておけば、吸着部材２６によって被吸着物質が還元的に分解されるから、電磁波照射部１２による遺体の殺菌処理と同時に吸着、捕捉した物質を分解処理できるので好適である。そして、吸着部材２６は、オゾン等の殺菌性流体も吸着するので、処置室１内に存在する過剰なオゾン等の殺菌性流体が外部への流出することも抑制することができる。

また、電磁波照射部１２が照射する電磁波が、例えば、300〜3,000ＭＨｚのマイクロ波であれば、マイクロ波を遺体に照射するだけで、マイクロ波によって組織が電磁波加熱され、遺体の組織等が自己発熱するから、内臓等の遺体内部の組織の温度を上昇させることができる遺体内部の組織を６０度以上の温度にすることができる。そして、その状態を保持すれば、遺体内部の組織を構成するタンパク質を凝固させることができる。しかも、遺体内部の組織が、生体内に比べて高温である６０度の温度で加熱された状態となるので、遺体内部の組織に付着している雑菌を死滅させたり減少させたりすることができる。すると、電磁波加熱を中止して遺体内部の温度が低くなっても、組織に付着している雑菌の繁殖速度を抑制することができ、遺体内部の組織の腐敗速度を遅くすることができる。このとき、遺体内部以外の組織、つまり、遺体表面の組織の温度も上昇するが、遺体の表面は外気（処置空間１ｈ内の空気）に接触しており、外気等によって冷却された状態となっているから、遺体表面の温度を遺体内部に比べて低くすることができ、遺体表面の組織を構成するタンパク質が凝固すること、言い換えれば、遺体表面が変色したり焦げたりして損傷することを防ぎつつ、遺体内部の組織を構成するタンパク質のみ凝固させることができる。

なお、電磁波照射部１２とは別に、所定の周波数の電磁波によって遺体を電磁波加熱し、遺体内部の組織を構成するタンパク質が凝固する温度以上に組織の温度を上昇させ、組織の温度をタンパク質が凝固する温度以上で保持する遺体加熱手段を設けてもよい。
そして、電磁波照射部１２と別に遺体加熱装手段を設ける場合には、一つの処置室１内に電磁波照射部１２と遺体加熱装手段の両方を配置すれば、設備も小型化できるので好適であるが、電磁波照射部１２と遺体加熱装手段を別々な処置室内に配置し、各室において遺体の加熱と殺菌を別々なタイミングで行ってもよい。

本実施形態の遺体処置設備の概略説明図である。

符号の説明

１ 処置室
１ｈ 処置空間
１２ 電磁波照射部

Claims (11)

1. 遺体に殺菌媒体を供給し、遺体表面を殺菌する遺体殺菌手段を備えており、
   該遺体殺菌手段が、遺体に殺菌性を有する電磁波を照射する電磁波照射部を有している
   ことを特徴とする遺体処置設備。
2. 前記電磁波照射部から照射される電磁波が、紫外線である
   ことを特徴とする請求項１記載の遺体処置設備。
3. 前記遺体殺菌手段が配設された処置空間を備えており、
   該処置空間内に電磁波により活性化される化学物質分解触媒が設けられている
   ことを特徴とする請求項１記載の遺体処置設備。
4. 前記処置空間の空気を換気する換気部が設けられており、
   該換気部が、
   前記処置空間内の空気を該処置空間外に排出する排出通路を備えており、
   該排出通路に、化学物質を吸着する吸着部材が設けられている
   ことを特徴とする請求項３記載の遺体処置設備。
5. 前記遺体殺菌手段が、遺体周囲に殺菌性を有する殺菌性流体を供給する流体供給部を有している
   ことを特徴とする請求項１記載の遺体処置設備。
6. 前記遺体殺菌手段が、
   所定の周波数の電磁波によって遺体を電磁波加熱し、遺体内部の組織を構成するタンパク質が凝固する温度以上に組織の温度を上昇させ、組織の温度をタンパク質が凝固する温度以上で保持する遺体加熱手段を備えている
   ことを特徴とする請求項１記載の遺体処置設備。
7. 遺体に殺菌性を有する電磁波を照射して、遺体表面を殺菌する殺菌工程とを行う
   ことを特徴とする遺体の処置方法。
8. 遺体に殺菌性を有する電磁波を照射して、遺体表面を殺菌する殺菌工程と、
   電磁波により活性化される化学物質分解触媒によって遺体から発生する有害物質を分解する有害物質分解工程を、同時に行う
   ことを特徴とする請求項７記載の遺体の処置方法。
9. 所定の周波数の電磁波によって遺体を電磁波加熱し、遺体内部の組織を構成するタンパク質が凝固する温度以上に組織の温度を上昇させ、組織の温度をタンパク質が凝固する温度以上で保持する遺体加熱工程を、前記殺菌工程と同時に行う
   ことを特徴とする請求項７記載の遺体の処置方法。
10. 遺体に照射される電磁波によって励起されて紫外線を発生する放電管を遺体とともに共存させておく
    ことを特徴とする請求項７記載の遺体の処置方法。
11. 励起される紫外線が、オゾンを発生させる波長のものである
    ことを特徴とする請求項１０記載の遺体の処置方法。

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