JP2006095387A - Dust removing device, dust removing device for electrooptical apparatus, dust removing method, electrooptical apparatus and electronic device - Google Patents

Dust removing device, dust removing device for electrooptical apparatus, dust removing method, electrooptical apparatus and electronic device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dust removing device, for example, provided to an electrooptical apparatus to easily the dust or the like bonded to a substrate. <P>SOLUTION: In the electrooptical apparatus which has a substrate and displays an image on the image display region on the substrate electrooptically, the dust removing device for the electrooptical apparatus for removing the dust on the surface of the substrate is equipped with an elastic wave producing part for producing an elastic surface wave advancing along the surface of the substrate in the image display region and a wiring or electrode part for driving the elastic wave producing part. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、弾性表面波により例えばガラス等の基板の表面より塵や埃等のゴミを除去するゴミ除去装置、例えば液晶装置等の電気光学装置に用いられる電気光学装置用ゴミ除去装置及びゴミ除去方法、このようなゴミ除去装置を備えてなる電気光学装置並びに例えば液晶プロジェクタ等の電子機器の技術分野に関する。   The present invention relates to a dust removal device that removes dust such as dust from the surface of a substrate such as glass by surface acoustic waves, a dust removal device for an electro-optical device used in an electro-optical device such as a liquid crystal device, and dust removal. The present invention relates to a technical field of a method, an electro-optical device including such a dust removing device, and an electronic apparatus such as a liquid crystal projector.

特許文献1には、例えば電気光学装置である液晶装置を、ライトバルブとして用いるプロジェクタが開示されている。このようなプロジェクタでは、電気光学装置において画像表示領域に表示された表示画像を、投射レンズによって例えばスクリーン上に投与することで画像表示が行われる。ここで、投射レンズの焦点は、例えば電気光学装置において、一対の基板に挟持された電気光学物質である液晶内の所定位置に合わせられる。よって、電気光学装置において、一対の基板のいずれか一方の基板上における画像表示領域に埃や塵等のゴミが付着すると、このゴミに投射レンズのピントがあってしまい、スクリーン上の表示画像にゴミが映りこんでしまう恐れがある。   Patent Document 1 discloses a projector that uses, for example, a liquid crystal device, which is an electro-optical device, as a light valve. In such a projector, an image is displayed by administering a display image displayed in the image display area in the electro-optical device, for example, on a screen by a projection lens. Here, the focus of the projection lens is adjusted to a predetermined position in the liquid crystal, which is an electro-optical material sandwiched between a pair of substrates, for example, in an electro-optical device. Therefore, in the electro-optical device, when dust such as dust adheres to the image display area on one of the pair of substrates, the projection lens is focused on the dust, and the display image on the screen is displayed. There is a risk that trash will be reflected.

このため、電気光学装置には、例えば防塵ガラスが基板に対して貼り合わせて設けられる。このように構成すれば、防塵ガラスのデフォーカス作用により、ゴミが、スクリーン上の表示画像に明確に映りこむのを防止することができる。   For this reason, in the electro-optical device, for example, dust-proof glass is attached to the substrate. If comprised in this way, it can prevent that dust is reflected in the display image on a screen clearly by the defocusing effect | action of dustproof glass.

尚、特許文献2には、カメラ内において、被写体の光学像を電気信号に変換するための光電変換素子や、この光電変換素子を含む空間を密閉するための密閉構造について開示されている。この密閉構造には、光電変換素子の撮像面に入射され、撮像面上に光学像を結像させる結像光線を通過させるガラス板が設けられている。また、ガラス板をバルク振動により振動させて、その表面に付着したゴミを、結像光線通過範囲から除去するための加振手段が設けられる。   Patent Document 2 discloses a photoelectric conversion element for converting an optical image of a subject into an electric signal and a sealing structure for sealing a space including the photoelectric conversion element in a camera. The hermetically sealed structure is provided with a glass plate that is incident on the imaging surface of the photoelectric conversion element and transmits an imaging light beam that forms an optical image on the imaging surface. In addition, vibration means is provided for vibrating the glass plate by bulk vibration to remove dust adhering to the surface from the imaging light beam passage range.

特開2002−244214号公報JP 2002-244214 A 特開2002−204379号公報JP 2002-204379 A

しかしながら、防塵ガラスを設けても、スクリーン上に高コントラストで画像表示が行われる場合、前述したように電気光学装置に付着したゴミが明確に映り込んでしまう恐れがある。この場合、防塵ガラスの厚さを更に厚くしてゴミの映りこみを防止しようとしても、プロジェクタにおけるスペース的な制約により、現実的な対策とは成り得ない。また、このように防塵ガラスを厚くしたとしても、電気光学装置の冷却効率が低下するという新たな問題が生じることに加え、次のような光抜けを防止することはできない。即ち、スクリーン上に高階調の表示画面、即ち暗い画面を表示する場合に、電気光学装置に偏光板を介して入射された光が、ゴミによって局部的に偏光されたり屈折したりして、偏光状態が変化することにより、光抜けが生じることもある。   However, even if dust-proof glass is provided, if image display is performed with high contrast on the screen, dust attached to the electro-optical device may be clearly reflected as described above. In this case, even if an attempt is made to further increase the thickness of the dust-proof glass to prevent the reflection of dust, it cannot be a practical measure due to space restrictions in the projector. Even if the dust-proof glass is made thick in this way, in addition to the new problem that the cooling efficiency of the electro-optical device is reduced, the following light leakage cannot be prevented. That is, when a high gradation display screen, that is, a dark screen is displayed on the screen, the light incident on the electro-optical device through the polarizing plate is locally polarized or refracted by dust, and polarized. If the state changes, light leakage may occur.

以上のような問題点に対する他の対策としては、電気光学装置へのゴミの付着を防止するために、プロジェクタにおいて、例えば電気光学装置に供給される冷却風の導入口にフィルタを設置したり、プロジェクタ本体をクリーンルームで組み立てるようにすればよい。しかしながら、これら他の対策には、該対策に要する手間が煩雑になったり、冷却効率が低下する等の新たな問題が生じる。   As another countermeasure against the above problems, in order to prevent dust from adhering to the electro-optical device, in the projector, for example, a filter is installed at the inlet of the cooling air supplied to the electro-optical device, The projector body may be assembled in a clean room. However, these other measures have new problems such as troublesome work required for the measures and reduced cooling efficiency.

本発明は上述の問題点に鑑みなされたものであり、例えば、電気光学装置に設けられ、基板上に付着した埃や塵等を容易に除去することが可能なゴミ除去装置及びゴミ除去方法、このようなゴミ除去装置を備えてなる電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた各種電子機器を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems. For example, a dust removing device and a dust removing method that are provided in an electro-optical device and can easily remove dust, dust, and the like attached on a substrate, It is an object of the present invention to provide an electro-optical device including such a dust removing device and various electronic apparatuses including the electro-optical device.

本発明の電気光学装置用ゴミ除去装置は、上記課題を解決するために、基板を有し該基板上における画像表示領域で電気光学的に画像を表示する電気光学装置において、前記基板の表面のゴミを除去する電気光学装置用のゴミ除去装置であって、前記画像表示領域において前記基板の表面に沿って進行する弾性表面波を発生させる弾性波発生部と、該弾性波発生部を駆動するための配線又は電極部とを備える。   In order to solve the above-described problem, an electro-optical device dust removing device of the present invention includes a substrate, and the electro-optical device displays an image electro-optically in an image display area on the substrate. A dust removing device for an electro-optical device that removes dust, an elastic wave generating unit that generates a surface acoustic wave that travels along the surface of the substrate in the image display region, and drives the elastic wave generating unit Wiring or an electrode part.

本発明の電気光学装置用ゴミ除去装置によって、ゴミ除去が行われる電気光学装置の本体部には、例えば電気光学物質として液晶を挟持する一対の基板が設けられている。そして、画像表示領域において、画素毎に電気光学物質に画像信号に応じた電圧を印加することにより、例えば光源から入射される光を変調する。そして、電気光学物質によって変調された光が表示光として出射されることにより、画像表示が行われる。   In the electro-optical device main body from which dust is removed by the electro-optical device dust removing device of the present invention, for example, a pair of substrates that sandwich liquid crystal as an electro-optical material is provided. In the image display region, for example, light incident from a light source is modulated by applying a voltage corresponding to the image signal to the electro-optic material for each pixel. The light modulated by the electro-optical material is emitted as display light, whereby image display is performed.

弾性波発生部は、例えば、一対の基板の少なくとも一方の基板において、電気光学物質と対向する側と反対側の基板面に対して設けられる。或いは、電気光学装置の本体部において、一対の基板の少なくとも一方の基板に貼り合わせて設けられた防塵ガラス等の基板における、本体部に面する側と反対側の表面に対して設けられる。また、弾性波発生部は、配線又は電極部を介して駆動手段によって駆動される。このような駆動手段は、当該ゴミ除去装置の一部として、電気光学装置に設けられてもよいし、外付け等によって、ゴミ除去装置とは別に或いはゴミ除去装置の一部として、電気光学装置に取り付けられてもよい。   For example, the elastic wave generator is provided on the substrate surface opposite to the side facing the electro-optical material in at least one of the pair of substrates. Alternatively, in the main body portion of the electro-optical device, it is provided on the surface opposite to the side facing the main body portion of a substrate such as dust-proof glass provided by being bonded to at least one of the pair of substrates. The elastic wave generating unit is driven by driving means via a wiring or an electrode unit. Such a driving unit may be provided in the electro-optical device as a part of the dust removing device, or may be provided separately from the dust removing device or as a part of the dust removing device by external attachment or the like. It may be attached to.

そして、駆動された弾性波発生部は弾性表面波を発生する。弾性波発生部によって発生された弾性表面波は、電気光学装置の画像表示領域において、基板の表面に沿って進行する。これにより、画像表示領域において基板面に存在する塵や埃等のゴミを移動させて、画像表示領域から除去することが可能となる。特に、除去すべきゴミの大きさや種類、基板表面での落としやすさ、仕様上要求される画質等に基づいて、ゴミを必要なだけ除去可能な程度の強度にて、弾性表面波を発生させれば、これにより、画像表示領域から除去することができる。   The driven elastic wave generator generates a surface acoustic wave. The surface acoustic wave generated by the elastic wave generator travels along the surface of the substrate in the image display area of the electro-optical device. Accordingly, dust such as dust or dust existing on the substrate surface can be moved and removed from the image display area in the image display area. In particular, based on the size and type of dust to be removed, the ease of dropping on the substrate surface, the image quality required by the specifications, etc., surface acoustic waves are generated with a strength that can remove dust as much as necessary. Thus, it can be removed from the image display area.

従って、本発明の電気光学装置用ゴミ除去装置によれば、弾性波発生部を駆動させることで、容易にゴミを除去することができる。よって、電気光学装置によって表示される表示画像にゴミが映り込むのを防止することが可能となる。また、電気光学装置に偏光板を介して入射された光の偏光状態が、その光の進路に存在するゴミによって変化するのを防止することができる。このため、高階調の表示画像を、電気光学装置によって表示する場合に、光抜けが生じるのを防止することが可能となる。これにより、電気光学装置によって高品質な画像表示を行うことが可能となる。   Therefore, according to the dust removing device for an electro-optical device of the present invention, dust can be easily removed by driving the elastic wave generating unit. Therefore, it is possible to prevent dust from appearing in the display image displayed by the electro-optical device. Further, it is possible to prevent the polarization state of the light incident on the electro-optical device through the polarizing plate from being changed by dust existing in the light path. For this reason, when a high gradation display image is displayed by the electro-optical device, it is possible to prevent light leakage. As a result, high-quality image display can be performed by the electro-optical device.

ここで、電気光学装置において、例えば一対の基板の一方の基板における電気光学物質と対向する側に、電気光学物質に電圧を印加するための画素電極や、該画素電極を駆動するための薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor;以下適宜、”TFT”と称する)等の駆動素子が作り込まれた積層構造が形成される。仮に特許文献2が開示するバルク振動により基板面を振動させると、該振動により基板が撓むことで、前述した積層構造に含まれ、例えば駆動素子の少なくとも一部を構成する半導体層に、クラックが生じる恐れが高い。即ち、この種の電気光学装置に対して、仮に特許文献2のバルク振動技術を適用しようとすれば、ゴミ除去以前に、半導体素子等の電気光学装置の主要部分が、クラック等の発生により破損してしまうのである。   Here, in the electro-optical device, for example, a pixel electrode for applying a voltage to the electro-optical material on one side of the pair of substrates facing the electro-optical material, and a thin film transistor (for driving the pixel electrode) A laminated structure in which a drive element such as a thin film transistor (hereinafter referred to as “TFT”) is formed is formed. If the substrate surface is vibrated by the bulk vibration disclosed in Patent Document 2, the substrate is bent by the vibration, so that a crack is formed in the semiconductor layer included in the above-described stacked structure, for example, constituting at least a part of the driving element. Is likely to occur. That is, if the bulk vibration technique of Patent Document 2 is applied to this type of electro-optical device, the main part of the electro-optical device such as a semiconductor element is damaged due to the occurrence of cracks or the like before dust removal. It will be done.

これに対して、本発明の電気光学装置用ゴミ除去装置は、基板面を弾性表面波によって振動させるので、基板がたわむのを防止して、積層構造を損傷させること無く、ゴミを除去することが可能となる。   In contrast, the electro-optical device dust removing device of the present invention vibrates the substrate surface with surface acoustic waves, thereby preventing the substrate from being bent and removing dust without damaging the laminated structure. Is possible.

また、プロジェクタにおいて、例えばカラー表示を行うために、赤色(R)用、緑色(G)用、及び青色(B)の3種のライトバルブが設けられる。このようなプロジェクタにおいて電気光学装置がライトバルブとして用いられる場合、3種のライトバルブのうち、特に、冷却風によってゴミが特に付着しやすい位置に配置されているものや、ゴミが付着すると表示画像に影響を与えやすいものについて、本発明の電気光学装置用ゴミ除去装置によりゴミ除去を行うようにするとよい。このようにすれば、3種のライトバルブの全てに対して、本発明のゴミ除去装置によりゴミ除去を行わなくても、表示画像の品質の劣化を防止することが可能となる。   In the projector, for example, three types of light valves for red (R), green (G), and blue (B) are provided to perform color display. When the electro-optical device is used as a light valve in such a projector, among the three types of light valves, particularly those that are disposed at positions where dust is particularly likely to adhere due to cooling air, or display images when dust is attached. It is preferable to perform dust removal with the dust removing device for an electro-optical device according to the present invention for those that are likely to affect the above. In this way, it is possible to prevent the quality of the display image from deteriorating without performing dust removal with the dust removing device of the present invention for all three types of light valves.

本発明の電気光学装置用ゴミ除去装置の一態様では、前記弾性波発生部は、前記基板上における前記画像表示領域の周辺に位置する周辺領域に配置されており、前記周辺領域から前記画像表示領域に進行するように前記弾性表面波を発生させる。   In one aspect of the dust removing device for an electro-optical device according to the present invention, the elastic wave generation unit is disposed in a peripheral region located around the image display region on the substrate, and the image display is performed from the peripheral region. The surface acoustic wave is generated so as to travel to the region.

この態様によれば、基板や画像表示領域のサイズを変化させることなく、弾性波発生部を設けることができる。弾性波発生部は、周辺領域から画像表示領域に向かって、基板の表面に沿って進行する弾性表面波を発生する。これにより、基板面において画像表示領域に存在するゴミを、画像表示領域から周辺領域に移動させて除去することが可能となる。この際、弾性発生部が透明部材から構成されているか否かに関わらず、弾性発生部が画像表示領域に表示される画像を邪魔することはないので大変有利である。   According to this aspect, the elastic wave generator can be provided without changing the size of the substrate or the image display area. The elastic wave generating unit generates a surface acoustic wave that travels along the surface of the substrate from the peripheral region toward the image display region. This makes it possible to remove dust existing in the image display area on the substrate surface by moving the image display area to the peripheral area. At this time, it is very advantageous because the elasticity generating portion does not interfere with the image displayed in the image display area regardless of whether or not the elasticity generating portion is made of a transparent member.

この、弾性波発生部が周辺領域に配置される態様では、前記弾性波発生部は、前記画像表示領域の一辺に沿って設けられているように構成してもよい。   In the aspect in which the elastic wave generation unit is disposed in the peripheral region, the elastic wave generation unit may be configured to be provided along one side of the image display region.

このように構成すれば、画像表示領域において、該画像表示領域に存在するゴミを、弾性表面波によって、画像表示領域から周辺領域に向かう一方向に移動させて除去することが可能となる。尚、この場合、弾性波発生部は、必ずしも一方向のみに進行する弾性表面波を発生させるとは限らない。例えば、弾性波発生部において、周辺領域から画像表示領域に向かう一方向、及びこの方向と逆方向の双方向に進行する弾性表面波が生成されてもよい。   If comprised in this way, it will become possible to remove the dust which exists in this image display area in the image display area by moving it in one direction from the image display area to the peripheral area by the surface acoustic wave. In this case, the elastic wave generator does not necessarily generate a surface acoustic wave that travels in only one direction. For example, a surface acoustic wave that travels in one direction from the peripheral region to the image display region and in both directions opposite to this direction may be generated in the elastic wave generation unit.

例えばプロジェクタのライトバルブとして電気光学装置を用いる場合、プロジェクタにおけるライトバルブのレイアウトに合わせて、ゴミが移動しやすい方向に、弾性表面波を優先的に進行させるように、弾性波発生部を設けるようにするとよい。このように構成すれば、より確実に、且つ効率良くゴミ除去を行うことが可能となる。例えば、ライトバルブのレイアウトに合わせて、基板面において重力に対応する方向に又は冷却風が流れる向きと同一の方向に、弾性表面波が優先的に進行するように、画像表示領域の一辺に沿って弾性波発生部を設ける。   For example, when an electro-optical device is used as a light valve of a projector, an elastic wave generator is provided so that surface acoustic waves are preferentially advanced in a direction in which dust easily moves in accordance with the layout of the light valve of the projector. It is good to. If comprised in this way, it will become possible to perform dust removal more reliably and efficiently. For example, according to the layout of the light valve, along the side of the image display area so that the surface acoustic wave preferentially travels in the direction corresponding to gravity on the substrate surface or in the same direction as the cooling air flows. An elastic wave generator is provided.

また、弾性波発生部が周辺領域に配置される態様では、前記弾性波発生部は、前記画像表示領域の二辺に沿って設けられているように構成してもよい。   Further, in an aspect in which the elastic wave generation unit is disposed in the peripheral region, the elastic wave generation unit may be configured to be provided along two sides of the image display region.

このように構成すれば、画像表示領域の二辺に沿って設けられた弾性波発生部の両方を駆動させることにより、画像表示領域に存在するゴミを、弾性表面波によって、画像表示領域から周辺領域に向かう二方向に移動させて除去することが可能となる。或いは、画像表示領域の二辺に沿って設けられた弾性波発生部のいずれか一方を選択的に駆動させることにより、弾性表面波を発生させて、画像表示領域から周辺領域に向かう一方向にゴミを移動させて除去することができる。   According to this configuration, by driving both of the elastic wave generators provided along the two sides of the image display area, dust existing in the image display area is surrounded by the surface acoustic wave from the image display area. It can be removed by moving in two directions toward the region. Alternatively, a surface acoustic wave is generated by selectively driving one of the elastic wave generation units provided along the two sides of the image display area, and is directed in one direction from the image display area to the peripheral area. Garbage can be moved and removed.

例えばプロジェクタにおいて、ライトバルブである電気光学装置のレイアウトに合わせて、ゴミが移動しやすい方向に進行する弾性表面波を優先的に発生させるようにすれば、より確実に、且つ効率良くゴミ除去を行うことが可能となる。   For example, in a projector, if surface acoustic waves that travel in a direction in which dust easily moves are preferentially generated in accordance with the layout of the electro-optical device that is a light valve, dust removal can be performed more reliably and efficiently. Can be done.

更に、弾性波発生部が周辺領域に配置される態様では、前記弾性波発生部は、前記画像表示領域の少なくとも一辺に沿って形成された圧電膜と、該圧電膜上に前記周辺領域から前記画像表示領域に向かう方向に沿って少なくとも2種の電極が配列されることにより、該配列方向に沿って延在されて形成された櫛歯電極とを含み、該櫛歯電極の延在方向に沿って進行する前記弾性表面波を生成する圧電素子を有するように構成してもよい。   Further, in an aspect in which the elastic wave generating unit is arranged in the peripheral region, the elastic wave generating unit includes a piezoelectric film formed along at least one side of the image display region, and the piezoelectric film from the peripheral region on the piezoelectric film. And at least two kinds of electrodes arranged along the direction toward the image display region, and a comb-tooth electrode extending along the arrangement direction, and extending in the extension direction of the comb-tooth electrode You may comprise so that it may have a piezoelectric element which produces | generates the said surface acoustic wave which advances along.

このように構成した場合、弾性波発生部の駆動時、櫛歯電極によって所定の電界を印加することにより、圧電膜において弾性表面波を発生させることができる。この弾性表面波は、櫛歯電極の延在方向に沿って、周辺領域から画像表示領域に向かう方向に進行する。尚、この方向とは逆の方向に進行する弾性表面波が、圧電素子によって発生されるようにしてもよい。   When configured in this manner, a surface acoustic wave can be generated in the piezoelectric film by applying a predetermined electric field by the comb-teeth electrode when the elastic wave generator is driven. The surface acoustic wave travels in the direction from the peripheral region toward the image display region along the extending direction of the comb-tooth electrode. A surface acoustic wave traveling in a direction opposite to this direction may be generated by the piezoelectric element.

この、弾性波発生部が圧電素子を有する態様では、前記圧電素子は、前記櫛歯電極の延在方向に沿って前記周辺領域から前記画像表示領域に向かう一方向に優先的に進行する前記弾性表面波を生成するように構成してもよい。   In this aspect in which the elastic wave generating unit includes a piezoelectric element, the piezoelectric element preferentially travels in one direction from the peripheral area toward the image display area along the extending direction of the comb electrode. You may comprise so that a surface wave may be produced | generated.

このように構成すれば、弾性波発生部では、圧電素子において発生した弾性表面波を無駄なくゴミ除去に利用することが可能となる。即ち、圧電素子によって、周辺領域から画像表示領域に向かう一方向に進行する弾性表面波に加えて、この方向と逆方向に進行する弾性表面波が発生されても、このような逆方向に進行する弾性表面波は、ゴミ除去に利用されないことになる。この場合、弾性波発生部を駆動するための電力が半分無駄になる。これに対して、この態様では、弾性波発生部を駆動するための電力を無駄なく利用することが可能となる。   If comprised in this way, in an elastic wave generation part, it will become possible to utilize the surface acoustic wave which generate | occur | produced in the piezoelectric element for dust removal without waste. In other words, in addition to the surface acoustic wave that travels in one direction from the peripheral region to the image display region, the surface acoustic wave that travels in the opposite direction is generated by the piezoelectric element. The surface acoustic wave to be used is not used for dust removal. In this case, half of the electric power for driving the elastic wave generator is wasted. On the other hand, in this aspect, it is possible to use the power for driving the elastic wave generating unit without waste.

また、弾性波発生部が圧電素子を有する態様では、前記圧電素子は、前記ゴミを除去可能な所定の周波数の前記弾性表面波を発生させるように構成してもよい。   Further, in an aspect in which the acoustic wave generating unit includes a piezoelectric element, the piezoelectric element may be configured to generate the surface acoustic wave having a predetermined frequency capable of removing the dust.

このように構成すれば、ゴミを必要なだけ除去可能な程度の強度にて、弾性表面波を発生させることが可能となる。特に、低周波数とすれば弾性表面波の振幅が大きくなることにより、比較的強度の大きい弾性表面波により、例えば基板面よりゴミをふるい落とすことが可能となる。尚、周波数を低くするには、櫛歯電極のピッチを広げることにより、弾性表面波の波長を大きくするようにすればよい。   If comprised in this way, it will become possible to generate a surface acoustic wave with the intensity | strength which can remove dust as much as needed. In particular, if the frequency is low, the amplitude of the surface acoustic wave becomes large, so that it is possible to remove dust from, for example, the substrate surface with the surface acoustic wave having a relatively high strength. In order to decrease the frequency, the wavelength of the surface acoustic wave may be increased by widening the pitch of the comb electrodes.

但し、弾性表面波の周波数をこのように変化させる場合には、電気機械結合係数の値も変化する。電気機械結合係数の調整は、弾性表面波の波長又は圧電膜の膜厚を調整することで、行う。よって、弾性表面波の周波数を変化させる場合には、圧電膜の膜厚を考慮して、電気機械結合係数の値を調整するのが好ましい。このようにすれば、より確実に、ゴミを除去することが可能な強度で弾性表面波を発生させることができる。従って、弾性波発生部を駆動するための電力をより効率的に利用してゴミ除去を行うことが可能となる。   However, when the frequency of the surface acoustic wave is changed in this way, the value of the electromechanical coupling coefficient also changes. The electromechanical coupling coefficient is adjusted by adjusting the wavelength of the surface acoustic wave or the film thickness of the piezoelectric film. Therefore, when changing the frequency of the surface acoustic wave, it is preferable to adjust the value of the electromechanical coupling coefficient in consideration of the thickness of the piezoelectric film. In this way, the surface acoustic wave can be generated with a strength that can remove dust more reliably. Therefore, dust can be removed by more efficiently using the power for driving the elastic wave generator.

また、弾性波発生部が圧電素子を有する態様では、前記圧電素子は、前記ゴミの大きさに対応する複数種類の周波数の前記弾性表面波を、該周波数の値毎に発生させるように構成してもよい。   Further, in an aspect in which the elastic wave generating unit includes a piezoelectric element, the piezoelectric element is configured to generate the surface acoustic waves having a plurality of types of frequencies corresponding to the size of the dust for each value of the frequency. May be.

このように構成すれば、電気光学装置の画像表示領域において、基板面に存在するゴミのうち、複数種類のサイズのゴミを、対応する周波数の弾性表面波によって移動させて除去することが可能となる。   With this configuration, among the dusts existing on the substrate surface in the image display area of the electro-optical device, it is possible to remove the dusts of a plurality of types by moving the surface acoustic waves having the corresponding frequencies. Become.

加えて、弾性波発生部が周辺領域に配置される態様では、前記基板は、デフォーカスガラス、カバーガラス又は防塵ガラスとして前記電気光学装置の本体部に設けられており、前記基板における前記本体部に面する側と反対側の表面において、前記ゴミを除去するように構成してもよい。   In addition, in the aspect in which the elastic wave generating unit is disposed in the peripheral region, the substrate is provided as a defocus glass, a cover glass, or a dust-proof glass in the main unit of the electro-optical device, and the main unit of the substrate The dust may be removed on the surface opposite to the side facing the surface.

このように構成すれば、デフォーカスガラス、カバーガラス又は防塵ガラスとして設けられた基板のデフォーカス作用によっても、表示画像におけるゴミの映りこみを防止することが可能となる。   If comprised in this way, it will become possible to prevent the reflection of the dust in a display image also by the defocusing effect | action of the board | substrate provided as defocus glass, a cover glass, or dustproof glass.

また、弾性波発生部が周辺領域に配置される態様では、前記基板は、電気光学物質を挟持する一対の基板のうちの一方の基板として前記電気光学装置の本体部に設けられており、前記一方の基板の前記電気光学物質と対向する側と反対側の表面において、前記ゴミを除去するように構成してもよい。   In the aspect in which the elastic wave generating unit is disposed in the peripheral region, the substrate is provided in the main body of the electro-optical device as one of the pair of substrates that sandwich the electro-optical material, The dust may be removed on the surface of one substrate opposite to the side facing the electro-optical material.

このように構成すれば、当該ゴミ除去装置によってゴミを除去することにより、デフォーカスガラス、カバーガラス又は防塵ガラスを設けなくても、表示画像におけるゴミの映りこみ等を防止することが可能である。よって、この場合、電気光学装置を薄型化又は小型化することができる。   According to this structure, it is possible to prevent dust from being reflected in the display image without removing defocus glass, cover glass, or dust-proof glass by removing dust with the dust removing device. . Therefore, in this case, the electro-optical device can be reduced in thickness or size.

本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置用ゴミ除去装置(但し、その各種態様も含む)を備える。   In order to solve the above problems, an electro-optical device according to the present invention includes the above-described dust removing device for an electro-optical device according to the present invention (including various aspects thereof).

本発明の電気光学装置によれば、上述したような本発明の電気光学装置用ゴミ除去装置を備えるため、画像表示領域において高品質な画像表示を行うことが可能となる。   According to the electro-optical device of the present invention, since the electro-optical device dust removing device of the present invention as described above is provided, high-quality image display can be performed in the image display region.

本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置を具備する。   In order to solve the above problems, an electronic apparatus according to the present invention includes the above-described electro-optical device according to the present invention.

本発明の電子機器は、上述した本発明の電気光学装置を具備してなるので、高品質な画像表示を行うことが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明の電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置、電子放出装置(Field Emission Display及びConduction Electron-Emitter Display)、これら電気泳動装置、電子放出装置を用いた装置としてDLP(Digital Light Processing)等を実現することも可能である。   Since the electronic apparatus of the present invention includes the above-described electro-optical device of the present invention, a projection display device, a television, a mobile phone, an electronic notebook, a word processor, a view capable of performing high-quality image display. Various electronic devices such as a finder type or a monitor direct-view type video tape recorder, a workstation, a videophone, a POS terminal, and a touch panel can be realized. Further, as an electronic apparatus of the present invention, for example, an electrophoretic device such as electronic paper, an electron emission device (Field Emission Display and a Conduction Electron-Emitter Display), an electrophoretic device, and an apparatus using the electron emission device, DLP (Digital Light Processing) and the like can also be realized.

本発明のゴミ除去装置は上記課題を解決するために、基板の表面のゴミを除去するゴミ除去装置であって、前記基板の表面に沿って進行する弾性表面波を発生させる弾性波発生部と、該弾性波発生手段を駆動するための配線又は電極部とを備える。   In order to solve the above problems, a dust removing device of the present invention is a dust removing device that removes dust on the surface of a substrate, and includes an elastic wave generator that generates a surface acoustic wave that travels along the surface of the substrate. And a wiring or an electrode part for driving the elastic wave generating means.

本発明のゴミ除去装置によれば、上述した本発明の電気光学装置用ゴミ除去装置と同様に、弾性波発生部が生成する弾性表面波によって、基板面に存在する塵や埃等のゴミを移動させて、該基板面から除去することが可能となる。   According to the dust removing device of the present invention, dust such as dust or dust existing on the substrate surface is removed by the surface acoustic wave generated by the elastic wave generating unit, similarly to the above-described dust removing device for an electro-optical device of the present invention. It can be moved and removed from the substrate surface.

本発明の電気光学装置用ゴミ除去方法は上記課題を解決するために、基板を有し該基板上における画像表示領域で電気光学的に画像を表示する電気光学装置において、前記基板の表面のゴミを除去する電気光学装置用のゴミ除去方法であって、配線又は電極を介して、前記画像表示領域において前記基板の表面に沿って進行する弾性表面波を発生させる弾性波発生部を駆動するステップと、前記駆動された弾性波発生部によって前記弾性表面波を発生させるステップとを備える。   In order to solve the above problems, an electro-optical device dust removing method of the present invention includes a substrate, and the electro-optical device displays an image electro-optically in an image display area on the substrate. A method for removing dust from an electro-optical device, wherein a step of driving an elastic wave generator that generates a surface acoustic wave that travels along the surface of the substrate in the image display region via a wiring or an electrode is provided. And generating the surface acoustic wave by the driven elastic wave generator.

本発明の電気光学装置用ゴミ除去方法によれば、上述した本発明の電気光学装置用ゴミ除去装置と同様、電気光学装置において高品質な画像表示を行うことが可能となる。   According to the dust removing method for an electro-optical device of the present invention, it is possible to perform high-quality image display in the electro-optical device, similar to the above-described dust removing device for an electro-optical device of the present invention.

本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施の形態から明らかにされる。   Such an operation and other advantages of the present invention will become apparent from the embodiments described below.

以下では、本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

<1:プロジェクタ>
先ず、図1及び図2を参照して、本発明による電子機器の一例として液晶プロジェクタの実施形態について、説明する。図1は、液晶プロジェクタによる画像表示の際の実際的な構成を示す図であって、図2は、液晶プロジェクタの構成例を示す図式断面図である。
<1: Projector>
First, an embodiment of a liquid crystal projector as an example of an electronic apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a diagram showing a practical configuration when an image is displayed by a liquid crystal projector, and FIG. 2 is a schematic sectional view showing a configuration example of the liquid crystal projector.

図1において、液晶プロジェクタ1100には、例えばパーソナルコンピュータ(以下適宜パソコンと称する)1が接続される。そして、パソコン1によって生成され、供給される画像信号に基づいて、液晶プロジェクタ1100によって画像表示が行われる。   In FIG. 1, for example, a personal computer (hereinafter referred to as a personal computer) 1 is connected to the liquid crystal projector 1100. Then, an image display is performed by the liquid crystal projector 1100 based on the image signal generated and supplied by the personal computer 1.

図2には、液晶プロジェクタ1100の光学ユニットに組み込まれている光学系の構成について示してある。液晶プロジェクタ1100は、電気光学装置の一例たる液晶ライトバルブが3枚用いられてなる複板式カラープロジェクタとして構築されている。   FIG. 2 shows the configuration of the optical system incorporated in the optical unit of the liquid crystal projector 1100. The liquid crystal projector 1100 is constructed as a multi-plate color projector using three liquid crystal light valves as an example of an electro-optical device.

液晶プロジェクタ1100は、駆動回路がTFTアレイ基板上に搭載された電気光学装置を含む液晶ライトバルブを3個用意し、夫々RGB用のライトバルブ600R、600G及び600Bとして用いたプロジェクタとして構成されている。液晶プロジェクタ1100では、メタルハライドランプ等の白色光源のランプユニット1102から投射光が発せられると、3枚のミラー1106及び2枚のダイクロイックミラー1108によって、RGBの3原色に対応する光成分R、G及びBに分けられ、各色に対応するライトバルブ600R、600G及び600Bに夫々導かれる。この際特にB光は、長い光路による光損失を防ぐために、入射レンズ1122、リレーレンズ1123及び出射レンズ1124からなるリレーレンズ系1121を介して導かれる。そして、ライトバルブ600R、600G及び600Bにより夫々変調された3原色に対応する光成分は、ダイクロイックプリズム1112により再度合成された後、投射レンズ1114を介してスクリーンにカラー画像として投射される。   The liquid crystal projector 1100 is configured as a projector using three liquid crystal light valves including an electro-optical device having a drive circuit mounted on a TFT array substrate and used as RGB light valves 600R, 600G, and 600B, respectively. . In the liquid crystal projector 1100, when projection light is emitted from a lamp unit 1102 of a white light source such as a metal halide lamp, light components R, G, and R corresponding to the three primary colors of RGB are obtained by three mirrors 1106 and two dichroic mirrors 1108. B is divided into light valves 600R, 600G and 600B corresponding to the respective colors. At this time, in particular, the B light is guided through a relay lens system 1121 including an incident lens 1122, a relay lens 1123, and an exit lens 1124 in order to prevent light loss due to a long optical path. The light components corresponding to the three primary colors modulated by the light valves 600R, 600G, and 600B are synthesized again by the dichroic prism 1112 and then projected as a color image on the screen via the projection lens 1114.

本実施形態のライトバルブ600R、600G及び600Bとしては、例えば、後述の如きTFTをスイッチング素子として用いたアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置が使用される。そして、この液晶装置には、後述するようなゴミ除去装置が設けられている。   As the light valves 600R, 600G, and 600B of the present embodiment, for example, an active matrix driving type liquid crystal device using TFTs as switching elements as described below is used. The liquid crystal device is provided with a dust removing device as will be described later.

また、液晶プロジェクタ1100内には、好ましくは、3種のライトバルブ600R、600G及び600Bに冷却風を供給するためのシロッコファン(図2中、図示を省略)が設けられる。3種のライトバルブ600R、600G及び600Bのうち、特に、上述したように供給される冷却風によってゴミが付着しやすい位置に配置されているものや、ゴミが付着すると表示画像に影響を与えやすいものについて、本実施形態のゴミ除去装置によりゴミ除去を行うようにするとよい。このようにすれば、3種のライトバルブ600R、600G及び600Bの全てに対して、ゴミ除去装置によりゴミ除去を行わなくても、表示画像の品質の劣化を防止することが可能となる。本願発明者らの研究によれば、例えばB用のライトバルブ600B、即ち435nm付近の波長の光が入射されるライトバルブ600Bにおいて特に後述するようにゴミ除去を行うことによって、効果的に表示画像の品質の劣化を防止することができる。   The liquid crystal projector 1100 is preferably provided with a sirocco fan (not shown in FIG. 2) for supplying cooling air to the three types of light valves 600R, 600G and 600B. Of the three types of light valves 600R, 600G, and 600B, particularly those that are disposed at positions where dust is likely to adhere due to the cooling air supplied as described above, and if dust adheres, the display image is likely to be affected. For the object, it is preferable to perform dust removal by the dust removal device of the present embodiment. In this way, it is possible to prevent deterioration in the quality of the display image without performing dust removal by the dust removal device for all three types of light valves 600R, 600G, and 600B. According to the study by the inventors of the present application, for example, in the light valve 600B for B, that is, the light valve 600B in which light having a wavelength near 435 nm is incident, by performing dust removal as described later, the display image can be effectively displayed. It is possible to prevent the deterioration of quality.

<2:電気光学装置>
次に本発明の電気光学装置に係る実施形態の全体構成について、図3及び図4を参照して説明する。ここでは、電気光学装置の一例である駆動回路内蔵型のTFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例にとる。本実施形態に係る電気光学装置は、上述した液晶プロジェクタ1100における液晶ライトバルブ600R、600G、600Bとして使用されるものである。
<2: Electro-optical device>
Next, the overall configuration of the embodiment of the electro-optical device according to the invention will be described with reference to FIGS. Here, a TFT active matrix driving type liquid crystal device with a built-in driving circuit, which is an example of an electro-optical device, is taken as an example. The electro-optical device according to this embodiment is used as the liquid crystal light valves 600R, 600G, and 600B in the liquid crystal projector 1100 described above.

ここに、図3は、TFTアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た電気光学装置の平面図であり、図4は、図3のH−H’断面図である。   FIG. 3 is a plan view of the electro-optical device when the TFT array substrate is viewed from the counter substrate side together with each component formed thereon, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line HH ′ of FIG. It is.

図3及び図4において、本実施形態に係る電気光学装置では、TFTアレイ基板10と対向基板20とが対向配置されている。TFTアレイ基板10と対向基板20との間に液晶層50が封入されており、TFTアレイ基板10と対向基板20とは、画像表示領域10aの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材52により相互に接着されている。   3 and 4, in the electro-optical device according to the present embodiment, the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are disposed to face each other. A liquid crystal layer 50 is sealed between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20, and the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are provided with a sealing material 52 provided in a seal region positioned around the image display region 10a. Are bonded to each other.

シール材52は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてTFTアレイ基板10上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。また、シール材52中には、TFTアレイ基板10と対向基板20との間隔(基板間ギャップ)を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。尚、ギャップ材については図3及び図4においては図示を省略してある。即ち、本実施形態の電気光学装置は、プロジェクタのライトバルブ用として小型で拡大表示を行うのに適している。   The sealing material 52 is made of, for example, an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, or the like for bonding the two substrates, and is applied on the TFT array substrate 10 in the manufacturing process and then cured by ultraviolet irradiation, heating, or the like. It is. Further, in the sealing material 52, a gap material such as glass fiber or glass beads for dispersing the distance (inter-substrate gap) between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 to a predetermined value is dispersed. The gap material is not shown in FIGS. 3 and 4. That is, the electro-optical device according to the present embodiment is suitable for a small and enlarged display for a projector light valve.

シール材52が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域10aの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜53が、対向基板20側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜53の一部又は全部は、TFTアレイ基板10側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。   A light-shielding frame light-shielding film 53 that defines the frame area of the image display area 10a is provided on the counter substrate 20 side in parallel with the inside of the seal area where the sealing material 52 is disposed. However, part or all of the frame light shielding film 53 may be provided as a built-in light shielding film on the TFT array substrate 10 side.

画像表示領域10aの周辺に広がる周辺領域のうち、シール材52が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路101及び外部回路接続端子102がTFTアレイ基板10の一辺に沿って設けられている。また、走査線駆動回路104は、この一辺に隣接する2辺に沿い、且つ、前記額縁遮光膜53に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域10aの両側に設けられた二つの走査線駆動回路104間をつなぐため、TFTアレイ基板10の残る一辺に沿い、且つ、前記額縁遮光膜53に覆われるようにして複数の配線105が設けられている。   Of the peripheral area extending around the image display area 10 a, the data line driving circuit 101 and the external circuit connection terminal 102 are located on one side of the TFT array substrate 10 in the area located outside the seal area where the sealing material 52 is disposed. It is provided along. The scanning line driving circuit 104 is provided along two sides adjacent to the one side so as to be covered with the frame light shielding film 53. Further, in order to connect the two scanning line driving circuits 104 provided on both sides of the image display area 10a in this way, the TFT array substrate 10 is covered with the frame light shielding film 53 along the remaining side. A plurality of wirings 105 are provided.

また、対向基板20の4つのコーナー部には、両基板間の上下導通端子として機能する上下導通材106が配置されている。他方、TFTアレイ基板10にはこれらのコーナーに対向する領域において上下導通端子が設けられている。これらにより、TFTアレイ基板10と対向基板20との間で電気的な導通をとることができる。   In addition, vertical conduction members 106 that function as vertical conduction terminals between the two substrates are disposed at the four corners of the counter substrate 20. On the other hand, the TFT array substrate 10 is provided with vertical conduction terminals in a region facing these corners. Thus, electrical conduction can be established between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20.

図3において、TFTアレイ基板10上には、画素スイッチング用のTFTや走査線、データ線等の配線が形成された後の画素電極9a上に、図示しない配向膜が形成されている。他方、対向基板20上には、対向電極21の他、格子状又はストライプ状の遮光膜23、更には最上層部分に図示しない配向膜が形成されている。また、液晶層50は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。   In FIG. 3, on the TFT array substrate 10, an alignment film (not shown) is formed on the pixel electrode 9a after the pixel switching TFT, the scanning line, the data line and the like are formed. On the other hand, on the counter substrate 20, in addition to the counter electrode 21, a lattice-shaped or striped light-shielding film 23 and an alignment film (not shown) are formed in the uppermost layer portion. Further, the liquid crystal layer 50 is made of, for example, a liquid crystal in which one or several types of nematic liquid crystals are mixed, and takes a predetermined alignment state between the pair of alignment films.

加えて、TFTアレイ基板10及び対向基板20の各々の液晶層50と対向する側と反対側には、例えば次に説明するような防塵ガラスが設けられている。図5は、防塵ガラスが設けられた電気光学装置の構成を概略的に示す斜視図である。   In addition, a dust-proof glass as described below, for example, is provided on the opposite side of the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 from the side facing the liquid crystal layer 50. FIG. 5 is a perspective view schematically showing a configuration of an electro-optical device provided with dust-proof glass.

図5に示すように、電気光学装置の本体部100には、上述したように、夫々基板上に各種構成要素が形成され、互いに貼り合わされて液晶層50を挟持するTFTアレイ基板10及び対向基板20が含まれる。また、電気光学装置の本体部100には、TFTアレイ基板10及び対向基板20の各々に設けられた防塵ガラス400が含まれている。   As shown in FIG. 5, in the main body 100 of the electro-optical device, as described above, the TFT array substrate 10 and the counter substrate each having various components formed on the substrates and bonded together to sandwich the liquid crystal layer 50. 20 is included. The main body 100 of the electro-optical device includes a dustproof glass 400 provided on each of the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20.

ここで、液晶プロジェクタ1100における画像表示時、投射レンズ1114の焦点は、例えば電気光学装置における液晶層50内の所定位置に合わせられる。この際、防塵ガラス400のデフォーカス作用により、防塵ガラス400の外側表面、即ち防塵ガラス400における、TFTアレイ基板10若しくは対向基板20との接着面と反対側の表面に付着した埃や塵等のゴミは、スクリーン上の表示画面にピンボケの状態で表示されることとなる。更にその外部回路接続端子102、及び図5中には図示を省略してあるが、防塵ガラス400の基板面上に設けられるゴミ除去装置の配線又は電極部に、後述するようにフレキシブル基板が接続される。   Here, when displaying an image on the liquid crystal projector 1100, the focus of the projection lens 1114 is adjusted to a predetermined position in the liquid crystal layer 50 of the electro-optical device, for example. At this time, due to the defocusing action of the dust-proof glass 400, dust or dirt attached to the outer surface of the dust-proof glass 400, that is, the surface of the dust-proof glass 400 opposite to the bonding surface with the TFT array substrate 10 or the counter substrate 20 is removed. The garbage will be displayed in a defocused state on the display screen on the screen. Further, a flexible substrate is connected to the external circuit connection terminal 102 and the wiring or electrode portion of the dust removing device provided on the substrate surface of the dust-proof glass 400, which is not shown in FIG. Is done.

尚、防塵ガラス400は、TFTアレイ基板10及び対向基板20のいずれか一方に設けるようにしてもよい。また、防塵ガラス400に代えて又は加えて、デフォーカスガラスやカバーガラスを設けるようにしてもよい。更に、電気光学装置の本体部100は、防塵ガラス400より更に外側に設けられた反射防止板等の他の光学要素を含むようにしてもよい。また、偏光板や位相差板は、液晶プロジェクタ1100の光学系に備えるようにしてもよいし、電気光学装置の表面に重ねてもよい。   The dustproof glass 400 may be provided on either the TFT array substrate 10 or the counter substrate 20. Further, instead of or in addition to the dustproof glass 400, a defocus glass or a cover glass may be provided. Further, the main body 100 of the electro-optical device may include other optical elements such as an antireflection plate provided further outside the dustproof glass 400. Further, the polarizing plate and the retardation plate may be provided in the optical system of the liquid crystal projector 1100 or may be stacked on the surface of the electro-optical device.

更に、図2及び図3に示したTFTアレイ基板10上には、これらのデータ線駆動回路101、走査線駆動回路104等に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。   Further, on the TFT array substrate 10 shown in FIGS. 2 and 3, in addition to the data line driving circuit 101, the scanning line driving circuit 104 and the like, the image signal on the image signal line is sampled and supplied to the data line. Sampling circuit, precharge circuit for supplying a precharge signal of a predetermined voltage level to a plurality of data lines in advance of an image signal, for inspecting the quality, defects, etc. of the electro-optical device during production or at the time of shipment An inspection circuit or the like may be formed.

次に、以上の如く構成された電気光学装置における回路構成及び動作について、図6を参照して説明する。   Next, the circuit configuration and operation of the electro-optical device configured as described above will be described with reference to FIG.

図6には、電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路を示してある。図6において、本実施形態における電気光学装置の画像表示領域10aを構成するマトリクス状に形成された複数の画素には、それぞれ、画素電極9aと当該画素電極9aをスイッチング制御するためのTFT30とが形成されており、画像信号が供給されるデータ線6aが当該TFT30のソースに電気的に接続されている。データ線6aに書き込む画像信号S1、S2、…、Snは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線6a同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。   FIG. 6 shows an equivalent circuit of various elements, wirings, and the like in a plurality of pixels formed in a matrix that forms the image display area of the electro-optical device. In FIG. 6, each of the plurality of pixels formed in a matrix that forms the image display region 10 a of the electro-optical device according to the present embodiment includes a pixel electrode 9 a and a TFT 30 for switching control of the pixel electrode 9 a. The data line 6 a formed and supplied with an image signal is electrically connected to the source of the TFT 30. The image signals S1, S2,..., Sn written to the data lines 6a may be supplied line-sequentially in this order, or may be supplied for each group to a plurality of adjacent data lines 6a. Good.

また、TFT30のゲートにゲート電極3aが電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線11a及びゲート電極3aにパルス的に走査信号G1、G2、…、Gmを、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極9aは、TFT30のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるTFT30を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線6aから供給される画像信号S1、S2、…、Snを所定のタイミングで書き込む。   Further, the gate electrode 3a is electrically connected to the gate of the TFT 30, and the scanning signals G1, G2,..., Gm are pulse-sequentially applied in this order to the scanning line 11a and the gate electrode 3a at a predetermined timing. It is comprised so that it may apply. The pixel electrode 9a is electrically connected to the drain of the TFT 30, and the image signal S1, S2,..., Sn supplied from the data line 6a is obtained by closing the switch of the TFT 30 as a switching element for a certain period. Write at a predetermined timing.

画素電極9aを介して電気光学物質の一例としての液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、…、Snは、対向基板20に形成された対向電極21との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。ノーマリーホワイトモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が増加され、全体として電気光学装置からは画像信号に応じたコントラストをもつ光が出射する。   Image signals S1, S2,..., Sn written in a liquid crystal as an example of an electro-optical material via the pixel electrode 9a are held for a certain period with the counter electrode 21 formed on the counter substrate 20. The The liquid crystal modulates light and enables gradation display by changing the orientation and order of the molecular assembly depending on the applied voltage level. In the normally white mode, the transmittance for incident light is reduced according to the voltage applied in units of each pixel, and in the normally black mode, the light is incident according to the voltage applied in units of each pixel. The light transmittance is increased, and light having a contrast corresponding to the image signal is emitted from the electro-optical device as a whole.

ここで保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極9aと対向電極21との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量70を付加する。この蓄積容量70は、走査線11aに並んで設けられ、固定電位側容量電極を含むとともに定電位に固定された容量電極300を含んでいる。   In order to prevent the image signal held here from leaking, a storage capacitor 70 is added in parallel with the liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 9 a and the counter electrode 21. The storage capacitor 70 is provided side by side along the scanning line 11a, and includes a capacitor electrode 300 including a fixed potential side capacitor electrode and fixed at a constant potential.

<3;ゴミ除去装置の構成>
次に、図7から図12を参照して、本発明のゴミ除去装置に係る実施形態の全体構成について、説明する。
<3: Configuration of dust removal device>
Next, the overall configuration of the embodiment according to the dust removing apparatus of the present invention will be described with reference to FIGS.

先ず、図7を参照して、ゴミ除去装置の電気光学装置に対する配置に係る構成について説明する。図7は、電気光学装置に対するゴミ除去装置の配置に係る構成を示すレイアウト図である。   First, a configuration relating to the arrangement of the dust removing device with respect to the electro-optical device will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a layout diagram illustrating a configuration relating to the arrangement of the dust removing device with respect to the electro-optical device.

本実施形態では、ゴミ除去装置は、対向基板20側及びTFTアレイ基板10側に設けられた防塵ガラス400の両方若しくはいずれか一方の基板面に対して設けられる。そして、ゴミ除去装置には、弾性波発生部750及び弾性波受信部760が含まれている。   In this embodiment, the dust removing device is provided on both or any one of the dust-proof glass 400 provided on the counter substrate 20 side and the TFT array substrate 10 side. The dust removing device includes an elastic wave generating unit 750 and an elastic wave receiving unit 760.

弾性波発生部750及び弾性波受信部760は、電気光学装置において、防塵ガラス400における電気光学装置の本体部100に面する側と反対側の表面に設けられている。   In the electro-optical device, the elastic wave generating unit 750 and the elastic wave receiving unit 760 are provided on the surface of the dust-proof glass 400 opposite to the side facing the main body 100 of the electro-optical device.

より具体的には、図7に示すように、弾性波発生部750と弾性波受信部760とは、例えば、防塵ガラス400の基板面上の周辺領域に、画像表示領域10aを介して対向する位置に夫々配置される。弾性波発生部750は、例えばTFTアレイ基板10上における複数の配線105が設けられた領域に重なるように配置されており、弾性波受信部760は、例えばTFTアレイ基板10上におけるデータ線駆動回路101が設けられた領域に重なるように配置される。このように構成することにより、防塵ガラス400や画像表示領域10aのサイズを変化させることなく、弾性波発生部750及び弾性波受信部760を設けることができる。   More specifically, as shown in FIG. 7, the elastic wave generating unit 750 and the elastic wave receiving unit 760 are opposed to, for example, a peripheral region on the substrate surface of the dust-proof glass 400 via the image display region 10a. It is arranged at each position. The elastic wave generator 750 is disposed so as to overlap, for example, a region where the plurality of wirings 105 are provided on the TFT array substrate 10, and the elastic wave receiver 760 is a data line driving circuit on the TFT array substrate 10, for example. 101 is arranged so as to overlap with the provided area. By comprising in this way, the elastic wave generation part 750 and the elastic wave receiving part 760 can be provided, without changing the size of the dust-proof glass 400 or the image display area 10a.

弾性波発生部750及び弾性波受信部760の詳細な構成については後述するが、弾性波発生部750及び弾性波受信部760には夫々圧電素子700a及び700bが含まれている。圧電素子700a及び700bは夫々同様の構成を有する。   The detailed configurations of the elastic wave generation unit 750 and the elastic wave reception unit 760 will be described later. The elastic wave generation unit 750 and the elastic wave reception unit 760 include piezoelectric elements 700a and 700b, respectively. The piezoelectric elements 700a and 700b have the same configuration.

次に、図7に加えて図8を参照して、弾性波発生部750に含まれる圧電素子700aの構成について特に詳細に説明する。図8には、図7のA−A’部分の断面における、特に防塵ガラス400、圧電素子700a及び700bの構成について概略的に示してある。なお、図8においては、各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。また、弾性波受信部760に含まれる圧電素子700bの構成について、弾性波発生部750における圧電素子700aと同様の構成について、重複する説明は省略する。   Next, with reference to FIG. 8 in addition to FIG. 7, the configuration of the piezoelectric element 700a included in the elastic wave generation unit 750 will be described in detail. FIG. 8 schematically shows the structure of the dust-proof glass 400 and the piezoelectric elements 700a and 700b in the cross section taken along the line A-A 'of FIG. In FIG. 8, in order to make each member recognizable on the drawing, the scale is different for each member. In addition, regarding the configuration of the piezoelectric element 700b included in the elastic wave receiving unit 760, the description of the same configuration as that of the piezoelectric element 700a in the elastic wave generating unit 750 is omitted.

図7及び図8に示すように、圧電素子700a及び700bは、画像表示領域10aを介して互いに対向する位置に夫々配置されている。図8において、圧電素子700aの構成に着目すれば、圧電素子700aは、例えばZnO(酸化亜鉛)やPZT(Pb(Zr,Ti)O3)、或いはAlN(窒化アルミニウム)等の圧電体により画像表示領域10aの一辺に沿って形成された圧電膜703と、この圧電膜703上に形成されたシリコン酸化(SiO2)膜701と、このシリコン酸化膜701上に形成された櫛歯電極即ちIDT(Inter Digital Transducer)702と、このIDT702と圧電膜703を挟持するように例えばアルミニウム(Al)を含む金属材料やITO(Indium Tin Oxide)等の透明導電材料により形成された下部電極705とを含む。好ましくは、下部電極705や、シリコン酸化膜701及びIDT702の各々の防塵ガラス400の基板面に対して垂直方向の厚さは、圧電膜704と比較して極めて薄く形成される。(例えば、圧電膜703は膜厚が2[μm]で形成され、シリコン酸化膜701は0.005〜0.01[μm]程度の膜厚で形成される。)よって、圧電素子700aの、防塵ガラス400の基板面に対して垂直方向の厚さh10は、圧電膜703とほぼ同程度の厚さ、例えば2[μm]となる。尚、下部電極705は接地されていてもよいし、電気的に浮遊状態であってもよい。また、圧電膜703及びIDT702とは、その製造に係る工程数を削減すべく、同一材料により形成されてもよい。   As shown in FIGS. 7 and 8, the piezoelectric elements 700a and 700b are arranged at positions facing each other via the image display region 10a. In FIG. 8, paying attention to the configuration of the piezoelectric element 700a, the piezoelectric element 700a displays an image by a piezoelectric material such as ZnO (zinc oxide), PZT (Pb (Zr, Ti) O3), or AlN (aluminum nitride). A piezoelectric film 703 formed along one side of the region 10a, a silicon oxide (SiO 2) film 701 formed on the piezoelectric film 703, and a comb-teeth electrode, that is, an IDT (Inter-electrode) formed on the silicon oxide film 701. (Digital Transducer) 702, and a lower electrode 705 formed of a metal material containing aluminum (Al) or a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) so as to sandwich the IDT 702 and the piezoelectric film 703. Preferably, the thickness of each of the lower electrode 705 and the silicon oxide film 701 and the IDT 702 in the direction perpendicular to the substrate surface of the dust-proof glass 400 is extremely thin compared to the piezoelectric film 704. (For example, the piezoelectric film 703 is formed with a film thickness of 2 [μm], and the silicon oxide film 701 is formed with a film thickness of about 0.005 to 0.01 [μm].) The thickness h10 in the direction perpendicular to the substrate surface of the dustproof glass 400 is substantially the same as the piezoelectric film 703, for example, 2 [μm]. Note that the lower electrode 705 may be grounded or electrically floating. In addition, the piezoelectric film 703 and the IDT 702 may be formed of the same material in order to reduce the number of processes related to the manufacture thereof.

図9には、防塵ガラス400の基板面上に平面的に見た、IDT702の構成を示してある。なお、図9においては、各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。IDT702は、夫々例えば銅(Cu)又はアルミニウム(Al)を含む金属材料や、ITO等の透明導電材料により形成された一対の電極78a及び78bが、圧電膜703上の周辺領域から画像表示領域10aに向かう方向に沿って複数配列されることにより形成されている。これら一対の電極78a及び78bは所定の間隔即ちピッチで互いに隣接するように配列される。そして、一対の電極78a及び78bの配列方向に沿って、IDT702は、圧電膜703上に延在されて形成されている。   FIG. 9 shows the configuration of the IDT 702 as viewed in plan on the substrate surface of the dust-proof glass 400. In FIG. 9, the scales of the respective members are made different from each other in order to make each member recognizable on the drawing. In the IDT 702, a pair of electrodes 78a and 78b formed of a metal material containing, for example, copper (Cu) or aluminum (Al), or a transparent conductive material such as ITO, is connected to the image display region 10a from the peripheral region on the piezoelectric film 703. It is formed by arranging two or more along the direction which goes to. The pair of electrodes 78a and 78b are arranged adjacent to each other at a predetermined interval, that is, a pitch. The IDT 702 is formed to extend on the piezoelectric film 703 along the arrangement direction of the pair of electrodes 78a and 78b.

図7に戻り、防塵ガラス400上の周辺領域には、弾性波発生部750の圧電素子700aにおけるIDT702を駆動するための電極部70aや、下部電極705を接地するための電極部72a、並びにこれらの電極部70a及び70bに接続された配線71等が更に設けられている。また、弾性波発生部750側の構成と同様に、弾性波受信部760側も、IDT702を駆動するための電極部70bや接地用の電極部72b等が設けられている。   Returning to FIG. 7, in the peripheral area on the dust-proof glass 400, an electrode part 70 a for driving the IDT 702 in the piezoelectric element 700 a of the elastic wave generating part 750, an electrode part 72 a for grounding the lower electrode 705, and these Wiring 71 and the like connected to the electrode portions 70a and 70b are further provided. Similarly to the configuration on the elastic wave generating unit 750 side, the elastic wave receiving unit 760 side is also provided with an electrode unit 70b for driving the IDT 702, an electrode unit 72b for grounding, and the like.

図10(a)及び図10(b)には、電気光学装置及びゴミ除去装置に対するフレキシブル基板の接続に係る構成について示してある。尚、図10(b)には、図10(a)における電気光学装置の本体部100の任意の位置における断面図を示してある。図3及び図4、或いは図5に示す外部回路接続端子102には、パソコン1から液晶プロジェクタ1100に入力され、電気光学装置に供給される画像信号や、その他、クロック信号、各種制御信号、電源信号等を、データ線駆動回路101又は走査線駆動回路104に供給する駆動用ICがTAB実装される。より具体的には、駆動用ICは、フレキシブル基板503に形成された複数の配線を介して、外部回路接続端子102に、電気的に接続されることにより、電気光学装置の本体部100に実装される。   FIGS. 10A and 10B show a configuration relating to the connection of the flexible substrate to the electro-optical device and the dust removing device. FIG. 10B is a cross-sectional view at an arbitrary position of the main body 100 of the electro-optical device in FIG. The external circuit connection terminal 102 shown in FIG. 3 and FIG. 4 or FIG. 5 is an image signal input from the personal computer 1 to the liquid crystal projector 1100 and supplied to the electro-optical device, as well as a clock signal, various control signals, and a power source. A driving IC that supplies a signal or the like to the data line driving circuit 101 or the scanning line driving circuit 104 is TAB-mounted. More specifically, the driving IC is mounted on the main body 100 of the electro-optical device by being electrically connected to the external circuit connection terminal 102 via a plurality of wirings formed on the flexible substrate 503. Is done.

また、前述した、弾性波発生部750側に設けられた電極部70aや72a、配線71に加え、弾性波受信部760側に設けられた電極部70bや72bは、フレキシブル基板501に形成された複数の配線に電気的に接続される。尚、図10(a)及び図10(b)には、駆動用ICやフレキシブル基板501及び503における配線等の詳細な構成は、図示を省略する。   In addition to the electrode portions 70a and 72a provided on the elastic wave generating portion 750 side and the wiring 71, the electrode portions 70b and 72b provided on the elastic wave receiving portion 760 side are formed on the flexible substrate 501. It is electrically connected to a plurality of wirings. In FIG. 10A and FIG. 10B, the detailed configuration such as the driving IC and the wiring in the flexible substrates 501 and 503 is not shown.

次に、ゴミ除去装置の更に詳細な構成について、図11を参照して説明する。図11(a)は、弾性波発生部750の電気的な構成を示す図であって、図11(b)は、弾性波受信部760の電気的な構成示す図である。
図11(a)において、弾性波発生部750は、圧電素子700aを含むコルピッツ型発振回路として形成されている。より具体的には、圧電素子700aのIDT702における一対の電極78a及び78aには夫々蓄積容量752の一方の電極が電気的に接続されている。この蓄積容量752の他方の電極は接地されている。また、IDT702における一対の電極78a及び78bは夫々、アンプ756に電気的に接続されている。尚、一対の電極78a及び78aの一方は、インバータ754を介してアンプ756に電気的に接続される。また、図11(a)における、圧電素子700a以外の蓄積容量752やインバータ754、並びにアンプ756は、図7において、圧電素子700aと共に防塵ガラス400上に形成されるか、或いは外部回路に作り込まれて、フレキシブル基板501における複数の配線、並びに電極部70aや配線71を介して、圧電素子700aに電気的に接続される。
Next, a more detailed configuration of the dust removing device will be described with reference to FIG. FIG. 11A is a diagram illustrating an electrical configuration of the elastic wave generation unit 750, and FIG. 11B is a diagram illustrating an electrical configuration of the elastic wave reception unit 760.
In FIG. 11A, the elastic wave generator 750 is formed as a Colpitts oscillation circuit including the piezoelectric element 700a. More specifically, one electrode of the storage capacitor 752 is electrically connected to the pair of electrodes 78a and 78a in the IDT 702 of the piezoelectric element 700a. The other electrode of the storage capacitor 752 is grounded. The pair of electrodes 78a and 78b in the IDT 702 are electrically connected to the amplifier 756, respectively. Note that one of the pair of electrodes 78 a and 78 a is electrically connected to the amplifier 756 via the inverter 754. Further, in FIG. 11A, the storage capacitor 752, the inverter 754, and the amplifier 756 other than the piezoelectric element 700a are formed on the dust-proof glass 400 together with the piezoelectric element 700a in FIG. Rarely, it is electrically connected to the piezoelectric element 700 a through the plurality of wirings in the flexible substrate 501, the electrode part 70 a and the wiring 71.

また、図11(b)において、弾性受信部760には、圧電素子700bのほか、この圧電素子700bから出力される交流信号を直流信号に変換する平滑回路762、更に平滑回路762から出力される直流信号をデジタル変換するA/D(アナログ−デジタル)変換器764が含まれている。また、弾性波受信部760は、検出回路766及び判定回路768に夫々電気的に接続されている。   11B, in addition to the piezoelectric element 700b, the elastic receiving unit 760 outputs the AC signal output from the piezoelectric element 700b to a DC signal, and further outputs from the smoothing circuit 762. An A / D (analog-to-digital) converter 764 for digitally converting the DC signal is included. The elastic wave receiving unit 760 is electrically connected to the detection circuit 766 and the determination circuit 768, respectively.

尚、以上説明したような弾性波発生部750及び弾性波受信部760の表面、即ちIDT702上に、反射防止膜(ARコート)等を形成するようにしてもよい。   An antireflection film (AR coating) or the like may be formed on the surfaces of the elastic wave generating unit 750 and the elastic wave receiving unit 760 as described above, that is, on the IDT 702.

更に、本実施形態ではゴミ除去装置の一部として、弾性波発生部750を駆動するための駆動手段である駆動装置800が設けられている。図12を参照して、駆動装置800に係る構成について説明する。図12は、駆動装置800に係る構成について説明するためのブロック図である。   Furthermore, in the present embodiment, a driving device 800 that is a driving unit for driving the elastic wave generating unit 750 is provided as a part of the dust removing device. With reference to FIG. 12, the structure which concerns on the drive device 800 is demonstrated. FIG. 12 is a block diagram for explaining a configuration related to driving device 800.

本実施形態では、駆動装置800は、例えばフレキシブル基板501に形成された複数の配線を介して、電極部70a及び72aや配線71に電気的に接続されることで、電気光学装置に取り付けられる。或いは、駆動装置800の少なくとも一部を、データ線駆動回路101や走査線駆動回路104と共に、電気光学装置に内蔵して設けるようにしてもよい。尚、本実施形態では、駆動装置800を、ゴミ除去装置とは別に、フレキシブル基板501を介して電気光学装置に取り付けられてもよいし、その少なくとも一部を電気光学装置に内蔵して設けるようにしてもよい。   In the present embodiment, the driving device 800 is attached to the electro-optical device by being electrically connected to the electrode portions 70 a and 72 a and the wiring 71 through a plurality of wirings formed on the flexible substrate 501, for example. Alternatively, at least a part of the driving device 800 may be provided in the electro-optical device together with the data line driving circuit 101 and the scanning line driving circuit 104. In the present embodiment, the driving device 800 may be attached to the electro-optical device via the flexible substrate 501 separately from the dust removing device, or at least a part of the driving device 800 may be provided in the electro-optical device. It may be.

駆動装置800には、電源投入信号生成部806、操作ボタン804、及び時間を計測する計測手段としてのタイマー802が設けられている。電源投入信号生成部806は、例えば液晶プロジェクタ1100の電源投入と連動して行われる電気光学装置に対する電源の投入に応じて、電源投入信号J1を生成して、駆動装置800に供給する。また、操作ボタン804は、該操作ボタン804における外部操作に応じて、操作信号J2を生成して、駆動装置800に供給する。   The driving device 800 is provided with a power-on signal generation unit 806, an operation button 804, and a timer 802 as measurement means for measuring time. The power-on signal generation unit 806 generates a power-on signal J1 in response to power-on of the electro-optical device performed in conjunction with power-on of the liquid crystal projector 1100, for example, and supplies it to the driving device 800. Further, the operation button 804 generates an operation signal J2 in response to an external operation on the operation button 804 and supplies the operation signal J2 to the driving device 800.

駆動装置800は、電源投入信号J1や操作信号J2に応じて、又は後述するように、図11(b)に示す検出回路766又は判定回路768より出力される検出信号Fに応じて、弾性波発生部750を駆動する。或いは、駆動装置800は、タイマー802によって計測される所定時間毎に定期的に又は不定期に、弾性波発生部750を駆動する。   The driving device 800 generates an elastic wave according to the power-on signal J1 and the operation signal J2 or, as described later, according to the detection signal F output from the detection circuit 766 or the determination circuit 768 shown in FIG. The generator 750 is driven. Alternatively, the driving device 800 drives the elastic wave generation unit 750 regularly or irregularly at a predetermined time measured by the timer 802.

<4;ゴミ除去装置の動作>
次に、図1から図12に加えて、図13から図18を参照して、本実施形態におけるゴミ除去装置の動作について説明する。
<4: Operation of the dust removal device>
Next, with reference to FIGS. 13 to 18 in addition to FIGS. 1 to 12, the operation of the dust removal apparatus in the present embodiment will be described.

先ず、図13及び図14を参照して、ゴミ除去装置における弾性波発生部750に係る動作について説明する。図13(a)は、弾性表面波の発生について説明するための模式図であり、図13(b)は、弾性表面波によるゴミ除去について説明するための模式図である。また、図14は、IDT702の延在方向に対する弾性表面波の進行方向を模式的に示す模式図である。   First, with reference to FIG. 13 and FIG. 14, an operation related to the elastic wave generation unit 750 in the dust removing device will be described. FIG. 13A is a schematic diagram for explaining the generation of surface acoustic waves, and FIG. 13B is a schematic diagram for explaining dust removal by the surface acoustic waves. FIG. 14 is a schematic diagram schematically showing the traveling direction of the surface acoustic wave with respect to the extending direction of the IDT 702.

駆動装置800によって弾性波発生部700aが駆動されると、圧電素子700aにおいて、IDT702によって所定の電界が印加されることにより、圧電膜703において弾性表面波が発生する。この際、図9に示すIDT702の構成によれば、図14中における矢印X11及び矢印X12によって示される双方向に進行する弾性表面波が、IDT702の延在方向に沿って発生する。図9及び図14において、互いに隣接する電極78a及び78bのピッチdに等しい波長の弾性表面波が、圧電素子700aにおいて発生する。このように双方向に進行する弾性表面波のうち、IDT702の延在方向に沿って、周辺領域から画像表示領域10aに向かう一方向、即ち矢印X11によって示される一方向に進行する弾性表面波によって、防塵ガラス400の基板面における画像表示領域10aに存在するゴミ405が次のように除去される。   When the acoustic wave generator 700a is driven by the driving device 800, a surface acoustic wave is generated in the piezoelectric film 703 by applying a predetermined electric field by the IDT 702 in the piezoelectric element 700a. At this time, according to the configuration of the IDT 702 shown in FIG. 9, the surface acoustic waves traveling in both directions indicated by the arrows X <b> 11 and X <b> 12 in FIG. 14 are generated along the extending direction of the IDT 702. 9 and 14, a surface acoustic wave having a wavelength equal to the pitch d of the electrodes 78a and 78b adjacent to each other is generated in the piezoelectric element 700a. Of the surface acoustic waves traveling in both directions, the surface acoustic waves traveling in one direction from the peripheral region to the image display region 10a along the extending direction of the IDT 702, that is, one direction indicated by the arrow X11. The dust 405 present in the image display region 10a on the substrate surface of the dustproof glass 400 is removed as follows.

図13(a)に示すように、弾性波発生部700aにおいて発生された弾性表面波は、防塵ガラス400の基板面の画像表示領域10aにおいて、矢印X11に示す方向、即ち周辺領域から画像表示領域10aに進行した後、画像表示領域10aから周辺領域に向かう方向に進行する。このような弾性表面波によって、防塵ガラス400の基板面が振動することにより、画像表示領域10aに存在するゴミ405は、図13(a)中の矢印X21及び図13(b)中の矢印X22に示す方向、即ち弾性表面波の進行方向に応じて画像表示領域10aから周辺領域に向かう方向に、例えば転がって移動する。   As shown in FIG. 13A, the surface acoustic wave generated in the elastic wave generator 700a is generated in the direction indicated by the arrow X11 in the image display area 10a on the substrate surface of the dust-proof glass 400, that is, from the peripheral area to the image display area. After proceeding to 10a, it proceeds in the direction from the image display area 10a toward the peripheral area. As the substrate surface of the dust-proof glass 400 vibrates due to such surface acoustic waves, the dust 405 present in the image display area 10a is converted into an arrow X21 in FIG. 13A and an arrow X22 in FIG. 13B. , For example, in a direction from the image display region 10a toward the peripheral region according to the traveling direction of the surface acoustic wave.

ここで、圧電素子700a及び700bの各々の厚さh10は例えば2[μm]程度であって、図13(b)中に示すように、略球状のゴミ405のサイズ、即ち該ゴミ405の径R0は例えば100[μm]程度である。弾性表面波によって画像表示領域10aの端付近に移動したゴミ405は、図13(b)中の矢印Y0で示すように、圧電素子700aの厚みによって生じた防塵ガラス400の基板面における段差を超えて、画像表示領域10aから周辺領域に除去される。尚、上述したように、画像表示領域10aの一辺側において、弾性波発生部750から発生され、画像表示領域10aに進行して、弾性波受信部760に到達した弾性表面波は、弾性波受信部760によって受信される。   Here, the thickness h10 of each of the piezoelectric elements 700a and 700b is, for example, about 2 [μm], and as shown in FIG. 13B, the size of the substantially spherical dust 405, that is, the diameter of the dust 405. R0 is, for example, about 100 [μm]. The dust 405 moved to the vicinity of the edge of the image display area 10a by the surface acoustic wave exceeds the step on the substrate surface of the dust-proof glass 400 caused by the thickness of the piezoelectric element 700a, as indicated by an arrow Y0 in FIG. Thus, the image display area 10a is removed into the peripheral area. As described above, the surface acoustic wave generated from the elastic wave generation unit 750 and traveling to the image display region 10a and reaching the elastic wave reception unit 760 on one side of the image display region 10a is received by the elastic wave reception. Received by unit 760.

本実施形態では、特に、防塵ガラス400の基板面において、画像表示領域10aより除去すべきゴミの大きさや種類、基板表面での落としやすさ、仕様上要求される画質等に基づいて、ゴミを必要なだけ除去可能な程度の強度にて、弾性表面波を発生させるのが好ましい。このような強度を得るためには、IDT702における電極78a及び78bのピッチを広くして、波長を大きくすることにより、弾性表面波を低周波数とするのが好ましい。このようにすれば、弾性表面波の振幅が大きくなることにより、比較的強度の大きい弾性表面波により、例えば防塵ガラス400の基板面よりゴミをふるい落とすことが可能となる。   In the present embodiment, in particular, dust is removed based on the size and type of dust to be removed from the image display area 10a, ease of dropping on the substrate surface, image quality required by specifications, and the like on the substrate surface of the dust-proof glass 400. It is preferable to generate the surface acoustic wave with a strength that can be removed as much as necessary. In order to obtain such an intensity, it is preferable that the surface acoustic wave has a low frequency by widening the pitch of the electrodes 78a and 78b in the IDT 702 and increasing the wavelength. In this way, the amplitude of the surface acoustic wave is increased, so that it is possible to screen off dust from the substrate surface of the dust-proof glass 400, for example, with a relatively strong surface acoustic wave.

また、例えば、圧電素子700aにおいて、ゴミの大きさに対応する複数種類の周波数の弾性表面波を、該周波数の値毎に発生させるようにしてもよい。これにより、電気光学装置の画像表示領域10aにおいて、基板面に存在するゴミのうち、複数種類のサイズのゴミを、対応する周波数の弾性表面波によって移動させて除去することが可能となる。   For example, in the piezoelectric element 700a, surface acoustic waves having a plurality of types of frequencies corresponding to the size of dust may be generated for each value of the frequency. Thereby, in the image display region 10a of the electro-optical device, among the dusts existing on the substrate surface, dusts of a plurality of sizes can be moved and removed by the surface acoustic waves having the corresponding frequencies.

ここで、図15には、圧電素子700aにおいて、圧電膜703がZnOにより形成される場合のk(電気機械結合係数)を縦軸にとり、弾性表面波の波長(λ)又は圧電膜703の膜厚(≒h10)に基づいて決定される値khを横軸にとって表したグラフが示してある。 Here, in FIG. 15, in the piezoelectric element 700 a, the vertical axis represents k 2 (electromechanical coupling coefficient) when the piezoelectric film 703 is formed of ZnO, and the surface acoustic wave wavelength (λ) or the piezoelectric film 703. A graph showing the value kh determined based on the film thickness (≈h10) on the horizontal axis is shown.

横軸の値khは、式(1)によって示される値である。   The value kh on the horizontal axis is a value represented by Expression (1).

kh=2πh10/λ・・・(1)   kh = 2πh10 / λ (1)

本実施形態における圧電素子700aの構成によれば、電気機械結合係数kと値khとの関係は、図15において、実線で表す特性曲線204によって示される。 According to the configuration of the piezoelectric element 700a in the present embodiment, the relationship between the electromechanical coupling factor k 2 and a value kh is 15, indicated by the characteristic curve 204 representing a solid line.

前述したように、弾性表面波の周波数を変化させると、波長が変化するため電気機械結合係数kの値も変化する。よって、弾性表面波の周波数を変化させる場合には、圧電膜703の膜厚を考慮して、電気機械結合係数kの値を調整するのが好ましい。このようにすれば、より確実に、ゴミを除去することが可能な強度で弾性表面波を発生させることができる。例えば、値khが、図15において、同図中の矢印204aで示される特性曲線204の位置に対応するように、圧電膜703の膜厚及び弾性表面波の波長を調整することにより、最も高い強度が得られ、且つ該強度の弾性表面波により、弾性波発生部750を駆動するための電力を効率良く利用して、ゴミを除去することが可能となる。圧電膜703の成膜のしやすさは、ZnO、AlNが優れている。また、効率良く振動を励起するためには成膜のしやすさは、ZnOやAlNに劣るものの、PZTやKNbO3など高結合係数の圧電膜を用いるのが好ましい。 As described above, when the frequency of the surface acoustic wave is changed, the wavelength changes, so the value of the electromechanical coupling coefficient k 2 also changes. Therefore, when changing the frequency of the surface acoustic wave, it is preferable to adjust the value of the electromechanical coupling coefficient k 2 in consideration of the film thickness of the piezoelectric film 703. In this way, the surface acoustic wave can be generated with a strength that can remove dust more reliably. For example, the value kh is the highest in FIG. 15 by adjusting the film thickness of the piezoelectric film 703 and the wavelength of the surface acoustic wave so as to correspond to the position of the characteristic curve 204 indicated by the arrow 204a in FIG. The strength is obtained, and the surface acoustic wave having the strength can efficiently remove the dust by efficiently using the electric power for driving the acoustic wave generation unit 750. ZnO and AlN are excellent in the ease of forming the piezoelectric film 703. In order to excite vibrations efficiently, it is preferable to use a piezoelectric film having a high coupling coefficient such as PZT or KNbO3, although the film formation is inferior to ZnO or AlN.

また、液晶プロジェクタ1100における、3種のライトバルブ600R、600G、及び600Bの各々のレイアウトに合わせて、ゴミが移動しやすい方向に、弾性表面波を優先的に進行させるように、弾性波発生部750を設けるようにするとよい。   In addition, in the liquid crystal projector 1100, an elastic wave generator is provided to preferentially advance the surface acoustic wave in a direction in which dust easily moves according to the layout of each of the three types of light valves 600R, 600G, and 600B. 750 may be provided.

図16には、液晶プロジェクタ1100に、3種のライトバルブ600R、600G、及び600Bのいずれかとして配置された電気光学装置の本体部100と、ダイクロイックプリズム1112との配置関係の一例を示してある。   FIG. 16 shows an example of an arrangement relationship between the dichroic prism 1112 and the main body portion 100 of the electro-optical device arranged as one of the three types of light valves 600R, 600G, and 600B in the liquid crystal projector 1100. .

図16において、ランプユニット1102から照射される光は、電気光学装置の本体部100において、対向基板20側から入射してTFTアレイ基板10側から出射した後、ダイクロイックプリズム1112に入射される。また、図16において、電気光学装置の本体部100に対して、冷却風は、防塵ガラス400の基板面に沿って、同図中の矢印z0の方向、即ち液晶プロジェクタ1100におけるダイクロイックプリズム1112の設置面Iから該設置面I上に向かう方向に流れるように供給されている。   In FIG. 16, the light emitted from the lamp unit 1102 enters the main substrate 100 of the electro-optical device from the counter substrate 20 side, exits from the TFT array substrate 10 side, and then enters the dichroic prism 1112. In FIG. 16, the cooling air flows along the substrate surface of the dust-proof glass 400 with respect to the main body 100 of the electro-optical device, in the direction of the arrow z 0 in FIG. 16, that is, the installation of the dichroic prism 1112 in the liquid crystal projector 1100. It is supplied so as to flow in a direction from the surface I toward the installation surface I.

この場合、例えば、防塵ガラス400の基板面において、図16中の矢印X11bによって示される方向即ち重力に対応する方向に、又は図16中の矢印X11aによって示される方向即ち冷却風が流れる向きと同一の方向に、弾性表面波が優先的に進行するように、画像表示領域10aの一辺に沿って弾性波発生部750を設ける。このように構成すれば、より確実に、且つ効率良くゴミ除去を行うことが可能となる。   In this case, for example, on the substrate surface of the dust-proof glass 400, the same direction as the arrow X11b in FIG. 16, that is, the direction corresponding to gravity, or the direction indicated by the arrow X11a in FIG. The elastic wave generation unit 750 is provided along one side of the image display region 10a so that the surface acoustic wave preferentially travels in the direction of. If comprised in this way, it will become possible to perform dust removal more reliably and efficiently.

次に、図17及び図18を参照して、以上説明したようなゴミ除去に係るゴミ除去装置における一連の動作について説明する。ここで、図17は、ゴミ除去に係るゴミ除去装置における一連の動作を説明するためのフローチャートを示す図であって、図18は、防塵ガラス400の基板面においてゴミが存在する場合の、該基板面における弾性表面波の進行を説明するための模式図である。   Next, a series of operations in the dust removal apparatus related to dust removal as described above will be described with reference to FIGS. 17 and 18. Here, FIG. 17 is a diagram illustrating a flow chart for explaining a series of operations in the dust removal apparatus related to dust removal. FIG. 18 is a diagram illustrating the case where dust is present on the substrate surface of the dust-proof glass 400. It is a schematic diagram for demonstrating the progress of the surface acoustic wave on the substrate surface.

図17において、先ず、駆動装置800によって弾性波発生部750が駆動されることで、ゴミ除去に係る一連の動作が開始されると、弾性波発生部750より弾性表面波が発生される(ステップS101)。   In FIG. 17, first, when the elastic wave generating unit 750 is driven by the driving device 800 and a series of operations related to dust removal is started, a surface acoustic wave is generated from the elastic wave generating unit 750 (step). S101).

次に、弾性波受信部760は、弾性波発生部750によって発生され、防塵ガラス400の基板面における画像表示領域10aに進行した弾性表面波を、画像表示領域10aを介して受信する(ステップS102)。   Next, the elastic wave receiving unit 760 receives the surface acoustic wave generated by the elastic wave generating unit 750 and traveling to the image display region 10a on the substrate surface of the dust-proof glass 400 via the image display region 10a (step S102). ).

ここで、図18において、防塵ガラス400の基板面の画像表示領域10aにおいて、同図中の矢印X11aaで示されるように、ゴミ405が存在しない部分を進行した弾性表面波は弾性波受信部760に到達する。弾性波受信部760に到達した弾性表面波は、圧電素子700bによって受信される。より具体的に波、弾性波受信部760に到達した弾性表面波が圧電素子700bの圧電膜703に進行してその表面に振動が生じることにより、弾性表面波を受信することができる。   Here, in FIG. 18, in the image display region 10 a on the substrate surface of the dust-proof glass 400, the surface acoustic wave that has traveled through the portion where the dust 405 does not exist is indicated by the elastic wave receiving unit 760. To reach. The surface acoustic wave that has reached the acoustic wave receiving unit 760 is received by the piezoelectric element 700b. More specifically, a surface acoustic wave can be received by the surface acoustic wave reaching the acoustic wave receiving unit 760 traveling to the piezoelectric film 703 of the piezoelectric element 700b and generating vibrations on the surface thereof.

他方、防塵ガラス400の基板面の画像表示領域10aにおいて、同図中の矢印X11bbで示されるように、ゴミ405が存在する部分を進行した弾性表面波は、ゴミ405によって遮られ、弾性波受信部760に到達しないか、又はゴミ405が存在しない部分を進行して弾性波受信部760に到達する場合と比較して、弱い強度で弾性波受信部760に到達する。   On the other hand, in the image display area 10a on the substrate surface of the dust-proof glass 400, as indicated by an arrow X11bb in the figure, the surface acoustic wave that has traveled through the portion where the dust 405 is present is blocked by the dust 405, and receives the elastic wave. Compared to the case where the part 760 does not reach the part 760 or the part where the dust 405 does not exist and reaches the part receiving the elastic wave receiver 760, the part reaches the part 760 with weak intensity.

このように、圧電素子700bによって受信された弾性表面波は交流信号として平滑回路762に入力される。そして、平滑回路762において直流信号に変換された後、A/D変換器764よりデジタル信号として出力され、検出回路766又は判定回路768に入力される。   Thus, the surface acoustic wave received by the piezoelectric element 700b is input to the smoothing circuit 762 as an AC signal. Then, after being converted into a DC signal by the smoothing circuit 762, it is output as a digital signal from the A / D converter 764 and input to the detection circuit 766 or the determination circuit 768.

続いて、検出回路766又は判定回路768は、入力されたデジタル信号に基づいて、弾性波受信部760によって受信された弾性表面波の強度を割り出す(ステップS103)。   Subsequently, the detection circuit 766 or the determination circuit 768 calculates the intensity of the surface acoustic wave received by the elastic wave receiving unit 760 based on the input digital signal (step S103).

続いて、検出回路766又は判定回路768は、ゴミが存在しない場合に、弾性波受信部760によって受信されるべき弾性表面波の強度を基準値として、該基準値と割り出した強度とを比較する(ステップS104)。その結果、基準値と比較して割り出した強度が同等かそれよりも高い場合(ステップS104:YES)に、検出回路766によってゴミは存在しないことが検出される(ステップS105)。或いは、これに代えて又は加えて、判定回路768は、割り出した強度が、基準値と同等かそれよりも高い場合(ステップS104:YES)に、ゴミは存在しないことを検出して(ステップS105)、ゴミが除去されたことを判定する。   Subsequently, when there is no dust, the detection circuit 766 or the determination circuit 768 uses the intensity of the surface acoustic wave to be received by the elastic wave receiving unit 760 as a reference value and compares the reference value with the calculated intensity. (Step S104). As a result, when the calculated intensity is equal to or higher than the reference value (step S104: YES), the detection circuit 766 detects that no dust is present (step S105). Alternatively, or instead, the determination circuit 768 detects that no dust is present (step S105) when the calculated intensity is equal to or higher than the reference value (step S104: YES). ), It is determined that dust has been removed.

また、基準値より割り出した強度が低い(ステップS104:NO)と、検出回路766によってゴミの存在が検出される(ステップS106)。或いは、これに代えて又は加えて、判定回路768は、基準値よりも割り出した強度が低い場合(ステップS104:NO)に、ゴミの存在を検出して(ステップS106)、ゴミが除去されなかったことを判定する。   If the intensity calculated from the reference value is lower (step S104: NO), the detection circuit 766 detects the presence of dust (step S106). Alternatively, or in addition, the determination circuit 768 detects the presence of dust (step S106) when the calculated intensity is lower than the reference value (NO in step S104), and the dust is not removed. Determine that.

その後、検出回路766又は判定回路768は、前述した検出結果に基づいて、ゴミが存在する、若しくは存在しないことを示す検出信号Fを生成する(ステップS107)。検出回路766又は判定回路768によって生成され、出力された検出信号Fは、図12に示す駆動装置800に入力される。   Thereafter, the detection circuit 766 or the determination circuit 768 generates a detection signal F indicating that dust is present or absent based on the detection result described above (step S107). The detection signal F generated and output by the detection circuit 766 or the determination circuit 768 is input to the driving device 800 shown in FIG.

駆動装置800は、検出信号Fに従って、画像表示領域10aにゴミが存在している場合に、弾性表面波の強度を高くするように、弾性波発生部750を駆動する。このように、弾性表面波の強度を高くするには、例えば弾性波発生部750における圧電素子700aのIDT702に印加する電圧を高くすればよい。   In accordance with the detection signal F, the driving device 800 drives the elastic wave generating unit 750 so as to increase the intensity of the surface acoustic wave when dust is present in the image display region 10a. Thus, in order to increase the intensity of the surface acoustic wave, for example, the voltage applied to the IDT 702 of the piezoelectric element 700a in the elastic wave generation unit 750 may be increased.

或いは、駆動装置800は、検出信号Fに従って、画像表示領域10aにゴミが存在していない場合に、弾性表面波の強度を低くするように、弾性波発生部750を駆動する。このように、弾性表面波の強度を低くする場合には、弾性表面波の強度を”0”にまで低くする、即ち弾性波発生部750の駆動を停止する場合も含まれる。また、弾性表面波の強度を低くするには、例えば弾性波発生部750における圧電素子700aのIDT702に印加する電圧を低くすればよい。   Alternatively, the driving device 800 drives the elastic wave generation unit 750 according to the detection signal F so that the intensity of the surface acoustic wave is lowered when no dust is present in the image display region 10a. As described above, the case where the intensity of the surface acoustic wave is lowered includes the case where the intensity of the surface acoustic wave is lowered to “0”, that is, the driving of the acoustic wave generator 750 is stopped. In order to reduce the intensity of the surface acoustic wave, for example, the voltage applied to the IDT 702 of the piezoelectric element 700a in the acoustic wave generator 750 may be reduced.

従って、防塵ガラス400の基板面における画像表示領域10aから確実にゴミを除去することが可能となる。また、ゴミ除去の開始時に又はゴミ除去を行った後に、基板面における画像表示領域10aにゴミが存在しない場合には、駆動装置800は、弾性波発生部750の駆動を停止してゴミ除去を行わないようにすることが可能となる。   Therefore, dust can be reliably removed from the image display area 10a on the substrate surface of the dust-proof glass 400. In addition, when no dust is present in the image display area 10a on the substrate surface at the start of dust removal or after dust removal, the driving device 800 stops driving the elastic wave generator 750 to remove dust. It is possible not to do so.

よって、以上説明したような本実施形態のゴミ除去装置によれば、液晶プロジェクタ1100において、液晶ライトバルブ600R、600G、600Bである電気光学装置によって表示される、スクリーン上の表示画像にゴミが映り込むのを防止することが可能となる。また、電気光学装置に偏光板を介して入射された光の偏光状態が、その光の進路に存在するゴミによって変化するのを防止することができる。このため、高階調の表示画像を、スクリーン上に表示する場合に、光抜けが生じるのを防止することが可能となる。これにより、電気光学装置によって高品質な画像表示を行うことが可能となる。   Therefore, according to the dust removal device of the present embodiment as described above, dust is reflected in the display image on the screen displayed by the electro-optical device which is the liquid crystal light valve 600R, 600G, 600B in the liquid crystal projector 1100. Can be prevented. Further, it is possible to prevent the polarization state of the light incident on the electro-optical device through the polarizing plate from being changed by dust existing in the light path. For this reason, it is possible to prevent light leakage when a high gradation display image is displayed on the screen. As a result, high-quality image display can be performed by the electro-optical device.

ここで、電気光学装置において、例えばTFTアレイ基板10に設けられた防塵ガラス400の基板面を、先行技術と同様のバルク振動により振動させると、該振動により防塵ガラス400のみならずTFTアレイ基板10がたわむことで、例えばTFT30の半導体層に、クラックが生じる恐れがある。これに対して、本実施形態のゴミ除去装置では、基板面を弾性表面波によって振動させるので、基板がたわむのを防止して、積層構造を損傷させること無く、ゴミを除去することが可能となる。   Here, in the electro-optical device, for example, when the substrate surface of the dustproof glass 400 provided on the TFT array substrate 10 is vibrated by the same bulk vibration as in the prior art, not only the dustproof glass 400 but also the TFT array substrate 10 is vibrated by the vibration. By bending, for example, a crack may occur in the semiconductor layer of the TFT 30. On the other hand, in the dust removal apparatus of the present embodiment, the substrate surface is vibrated by the surface acoustic wave, so that the substrate can be prevented from being bent and dust can be removed without damaging the laminated structure. Become.

尚、本実施形態では、ゴミ除去装置によって基板面に付着したゴミを除去することができるため、電気光学装置の本体部100には、防塵ガラス400やデフォーカスガラス、カバーガラス等を設けないようにしてもよい。この場合、ゴミ除去装置は、対向基板20及びTFTアレイ基板10の両方又はいずれか一方に対して設けられる。このように構成すれば、電気光学装置を薄型化又は小型化することが可能となり、液晶プロジェクタ1100において、ライトバルブ600R、600G、及び600Bを設けるためのスペースを縮小化させることができる。   In this embodiment, dust attached to the substrate surface can be removed by the dust removing device, so that the main body 100 of the electro-optical device is not provided with the dustproof glass 400, the defocus glass, the cover glass, or the like. It may be. In this case, the dust removing device is provided for both or one of the counter substrate 20 and the TFT array substrate 10. With this configuration, the electro-optical device can be reduced in thickness or size, and the space for providing the light valves 600R, 600G, and 600B in the liquid crystal projector 1100 can be reduced.

また、本実施形態では、弾性波発生部750を、防塵ガラス400上の周辺領域に、画像表示領域10aの一辺に沿って形成する構成としたが、弾性波発生部750は、隣接する画像表示領域10aの2辺或いは3辺に沿って設けられるようにしてもよい。また、弾性波受信部760を、後述するように、弾性表面波が発生可能なように構成するか、又は弾性波受信部760に代えて、弾性波発生部750を設けるようにしてもよい。この場合、画像表示領域10aの二辺以上に沿って設けられた弾性波発生部750を夫々駆動させることにより、画像表示領域10aに存在するゴミを、弾性表面波によって、画像表示領域10aから周辺領域に向かう二方向以上に移動させて除去することが可能となる。或いは、画像表示領域10aの二辺以上に沿って設けられた弾性波発生部750のいずれか一つを選択的に駆動させることにより、弾性表面波を発生させて、画像表示領域10aから周辺領域に向かう一方向にゴミを移動させて除去することもできる。   In the present embodiment, the elastic wave generation unit 750 is formed in the peripheral region on the dust-proof glass 400 along one side of the image display region 10a. However, the elastic wave generation unit 750 has an adjacent image display. You may make it provide along 2 sides or 3 sides of the area | region 10a. The elastic wave receiving unit 760 may be configured to generate a surface acoustic wave as described later, or an elastic wave generating unit 750 may be provided instead of the elastic wave receiving unit 760. In this case, by driving the elastic wave generators 750 provided along two or more sides of the image display area 10a, dust existing in the image display area 10a is removed from the image display area 10a by the surface acoustic waves. It can be removed by moving in two or more directions toward the region. Alternatively, a surface acoustic wave is generated by selectively driving any one of the elastic wave generators 750 provided along two or more sides of the image display area 10a, and the peripheral area is generated from the image display area 10a. It is also possible to remove the trash by moving it in one direction toward.

<5;変形例>
以上説明した本実施形態の変形例について、図19から図23を参照して説明する。
<5;Modification>
A modification of the present embodiment described above will be described with reference to FIGS.

図19には、圧電素子700a又は700bの構成に係る変形例について、図8に示す断面に対応する部分の構成を示してある。尚、図9には、図8と同様に、防塵ガラス400、圧電素子700a及び700bの構成について概略的に示してある。圧電素子700a又は700bには、下部電極705を設けないようにしてもよい。このように構成した場合、電気機械結合係数kと値khとの関係は、図15において、点線で表す特性曲線202によって示される。この特性曲線202を特性曲線204と比較して、下部電極705を設けないようにした場合、圧電膜703の膜厚(≒h10)を比較的厚くすると、より高い強度で弾性表面波を発生させて、効率良くゴミ除去を行うことが可能となる。 FIG. 19 shows a configuration of a portion corresponding to the cross section shown in FIG. 8 for a modified example related to the configuration of the piezoelectric element 700a or 700b. 9 schematically shows the structure of the dust-proof glass 400 and the piezoelectric elements 700a and 700b, as in FIG. The lower electrode 705 may not be provided in the piezoelectric element 700a or 700b. In such a configuration, the relationship between the electromechanical coupling factor k 2 and a value kh is 15, indicated by the characteristic curve 202 represented by dotted lines. When the characteristic curve 202 is compared with the characteristic curve 204 and the lower electrode 705 is not provided, if the film thickness (≈h10) of the piezoelectric film 703 is relatively large, a surface acoustic wave is generated with higher strength. Thus, it is possible to efficiently remove dust.

また、圧電素子700a又は700bにおいて、IDT702を図20から図22に示すような構成にして、IDT702の延在方向に沿って、周辺領域から画像表示領域10aに向かう一方向、即ち矢印X11によって示される一方向に優先的に進行する弾性表面波を発生させるようにしてもよい。このようにすれば、圧電素子700aにおいて発生した弾性表面波を無駄なくゴミ除去に利用することが可能となる。   Further, in the piezoelectric element 700a or 700b, the IDT 702 is configured as shown in FIGS. 20 to 22, and is indicated by an arrow X11 in one direction from the peripheral region to the image display region 10a along the extending direction of the IDT 702. A surface acoustic wave that preferentially travels in one direction may be generated. In this way, the surface acoustic wave generated in the piezoelectric element 700a can be used for dust removal without waste.

図20、図21(a)、及び図22には、図9と同様に、本変形例におけるIDT702の構成を示してある。また、図21(b)は、図21(a)のB−B’部分における、IDT702、シリコン酸化膜701及び圧電膜703の配置関係について示す断面図である。   20, FIG. 21 (a), and FIG. 22 show the configuration of the IDT 702 in the present modification, as in FIG. FIG. 21B is a cross-sectional view showing the positional relationship between the IDT 702, the silicon oxide film 701, and the piezoelectric film 703 in the B-B ′ portion of FIG.

図20に示すように、IDT702は、一対の電極78a及び78bに加えて、これら一対の電極78a及び78b間に、一対の電極78a及び78bに夫々質量を付加するために配置された電極78cを含む。   As shown in FIG. 20, in addition to the pair of electrodes 78a and 78b, the IDT 702 includes an electrode 78c disposed between the pair of electrodes 78a and 78b to add mass to the pair of electrodes 78a and 78b. Including.

または、図21(a)及び図21(b)に示すように、一対の電極78a及び78bを圧電膜703上に形成し、一対の電極78a及び78bを埋め込んで圧電膜703上にシリコン酸化膜701が形成される。更に、平面的に見て一対の電極78a及び78b間に配置され、且つシリコン酸化膜701上に電極78dが形成される。   Alternatively, as shown in FIGS. 21A and 21B, a pair of electrodes 78a and 78b are formed on the piezoelectric film 703, and the pair of electrodes 78a and 78b are embedded to form a silicon oxide film on the piezoelectric film 703. 701 is formed. Further, an electrode 78d is formed on the silicon oxide film 701 and disposed between the pair of electrodes 78a and 78b in plan view.

尚、図20に示す電極78cは、一対の電極78a及び78bの各々と所定のピッチで配置されるのが好ましい。この場合、IDT702は、その延在方向に沿って、一対の電極78a及び78bと電極78cとが夫々所定のピッチで配列されることにより形成される。また、図21(a)及び図21(b)示す電極78dについても、図20に示す電極78cと同様に配置されるのが好ましい。   The electrodes 78c shown in FIG. 20 are preferably arranged at a predetermined pitch with each of the pair of electrodes 78a and 78b. In this case, the IDT 702 is formed by arranging a pair of electrodes 78a and 78b and an electrode 78c at a predetermined pitch along the extending direction. In addition, the electrode 78d shown in FIGS. 21A and 21B is also preferably arranged in the same manner as the electrode 78c shown in FIG.

更に、図22(a)に示すように、IDT702は、一対の電極78a及び78bに加えて、これら一対の電極78a及び78b間に配置された浮き電極78eを含む。この浮き電極78eは、平面的に見て、所定のピッチでIDT702の延在方向に配列された一対の電極78a及び78b間の略中央よりずれた位置に配置されている。   Further, as shown in FIG. 22A, the IDT 702 includes a floating electrode 78e disposed between the pair of electrodes 78a and 78b in addition to the pair of electrodes 78a and 78b. The floating electrode 78e is arranged at a position shifted from the approximate center between the pair of electrodes 78a and 78b arranged in the extending direction of the IDT 702 at a predetermined pitch in a plan view.

加えて、図22(b)に示すように、IDT702には、平面的に見てIDT702の延在方向の幅が異なる2種の電極78f及び78gと、この2種の電極78f及び78gのうち一方とIDT702の延在方向の幅を同等として形成された電極78hとが含まれている。また、2種の電極78f及び78g間には、浮き電極78iが配置されている。そして、これら4種の電極78f、78g、78h、及び78iは夫々所定のピッチで配列されている。   In addition, as shown in FIG. 22B, the IDT 702 includes two types of electrodes 78f and 78g having different widths in the extending direction of the IDT 702 in plan view, and the two types of electrodes 78f and 78g. One electrode and an electrode 78h formed with the same width in the extending direction of the IDT 702 are included. A floating electrode 78i is arranged between the two types of electrodes 78f and 78g. These four types of electrodes 78f, 78g, 78h, and 78i are arranged at a predetermined pitch.

また、図23には、弾性波発生部750又は弾性波受信部760の変形例に係る構成について、ブロック図で示してある。   FIG. 23 is a block diagram showing a configuration according to a modification of the elastic wave generating unit 750 or the elastic wave receiving unit 760.

弾性波受信部760には、圧電素子700bにおいて弾性表面波が発生可能なように、この圧電素子700bを含んで例えば図11(a)を参照して説明したようなコルピッツ型発信回路が形成される。即ち、この場合、弾性波受信部760にも弾性波発生部750が形成される。そして、圧電素子700bを共有する弾性波受信部760と弾性波発生部750との動作を夫々切り替えるために切替回路759が好ましくは設けられる。例えば液晶プロジェクタ1100に、パソコン1におけるキーボード等の入力装置における外部操作によって、第1切替信号Sc1が供給されると、この第1切替信号Sc1は切替回路759に入力される。そして、切替回路759は、第1切替信号Sc1に応じて、弾性波発生部750が動作可能となるようにする。   In the acoustic wave receiving unit 760, a Colpitts type transmission circuit as described with reference to FIG. 11A, for example, including the piezoelectric element 700b is formed so that a surface acoustic wave can be generated in the piezoelectric element 700b. The That is, in this case, the elastic wave generator 750 is also formed in the elastic wave receiver 760. A switching circuit 759 is preferably provided to switch the operation of the elastic wave receiving unit 760 and the elastic wave generating unit 750 sharing the piezoelectric element 700b. For example, when the first switching signal Sc1 is supplied to the liquid crystal projector 1100 by an external operation of an input device such as a keyboard in the personal computer 1, the first switching signal Sc1 is input to the switching circuit 759. Then, the switching circuit 759 enables the elastic wave generation unit 750 to operate in response to the first switching signal Sc1.

或いは、弾性波発生部750において、圧電素子700aが弾性表面波を受信可能なように、この圧電素子700aを含んで図11(b)を参照して説明したような弾性波受信部760が、弾性波発生部750に形成されるようにしてもよい。この場合、弾性波発生部750が弾性波受信部760に形成される場合と同様に、圧電素子700aを共有する弾性波受信部760と弾性波発生部750との動作を夫々切り替えるために切替回路759が好ましくは設けられる。そして、切替回路759は、第1切替信号Sc1と同様に入力される第2切替信号Sc2に応じて、弾性波受信部760が動作可能となるようにする。尚、この場合も、検出回路766又は判定回路768は、弾性波発生部750に形成された弾性波受信部760において受信された弾性表面波の強度に基づいて、ゴミの存在を検出して、検出信号Fを生成するようにしてもよい。   Alternatively, in the elastic wave generating unit 750, the elastic wave receiving unit 760 including the piezoelectric element 700a and described with reference to FIG. 11B is provided so that the piezoelectric element 700a can receive the surface acoustic wave. The elastic wave generator 750 may be formed. In this case, similarly to the case where the elastic wave generating unit 750 is formed in the elastic wave receiving unit 760, the switching circuit is used to switch the operations of the elastic wave receiving unit 760 and the elastic wave generating unit 750 that share the piezoelectric element 700a. 759 is preferably provided. Then, the switching circuit 759 enables the elastic wave receiving unit 760 to operate according to the second switching signal Sc2 that is input in the same manner as the first switching signal Sc1. Also in this case, the detection circuit 766 or the determination circuit 768 detects the presence of dust based on the intensity of the surface acoustic wave received by the elastic wave receiving unit 760 formed in the elastic wave generating unit 750, and The detection signal F may be generated.

加えて、弾性波発生部750に、弾性波発生部750からどれだけ弾性表面波を基板表面に発生させ易いか又はどれだけ弾性表面波が進行し易いかをモニタする装置を設けることで、或いは、同一振幅の弾性表面波を発生させるために弾性波発生部750においてどれだけパワーが消費されるかをモニタする装置を設けることで、弾性表面波の進路上にその進行を妨げるゴミの存在を検出するように構成してもよい。   In addition, the elastic wave generation unit 750 is provided with a device for monitoring how much the surface acoustic wave is easily generated from the elastic wave generation unit 750 on the surface of the substrate or how much the surface acoustic wave travels, or By providing a device for monitoring how much power is consumed in the elastic wave generating unit 750 to generate a surface acoustic wave having the same amplitude, the presence of dust on the surface of the surface acoustic wave is prevented. You may comprise so that it may detect.

本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴なうゴミ除去装置及びゴミ除去方法、このようなゴミ除去装置を備えてなる電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be appropriately changed without departing from the gist or concept of the invention that can be read from the claims and the entire specification, and dust removal accompanying such a change is possible. An apparatus and a dust removal method, an electro-optical device including the dust-removing device, and an electronic apparatus including the electro-optical device are also included in the technical scope of the present invention.

液晶プロジェクタによる画像表示の際の実際的な構成を示す図である。It is a figure which shows the actual structure in the case of the image display by a liquid crystal projector. 液晶プロジェクタの構成例を示す図式断面図である。It is a schematic sectional view showing a configuration example of a liquid crystal projector. TFTアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た電気光学装置の平面図である。FIG. 3 is a plan view of the electro-optical device when the TFT array substrate is viewed from the side of the counter substrate together with each component formed thereon. 図3のH−H’断面図である。It is H-H 'sectional drawing of FIG. 防塵ガラスが設けられた電気光学装置の構成を概略的に示す斜視図である。1 is a perspective view schematically showing a configuration of an electro-optical device provided with dustproof glass. 電気光学装置の複数の画素における各種素子、配線等の等価回路を示す図である。It is a figure which shows equivalent circuits, such as various elements and wiring in a some pixel of an electro-optical apparatus. 電気光学装置に対するゴミ除去装置の配置に係る構成を示すレイアウト図である。FIG. 6 is a layout diagram illustrating a configuration related to the arrangement of the dust removing device with respect to the electro-optical device. 図7のA−A’部分の断面における、防塵ガラス、圧電素子の構成について概略的に示す図である。FIG. 8 is a diagram schematically illustrating a configuration of dust-proof glass and a piezoelectric element in a cross section taken along line A-A ′ of FIG. 7. 防塵ガラスの基板面上に平面的に見た、IDTの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of IDT seen planarly on the board | substrate surface of dustproof glass. 図10(a)及び図10(b)は、電気光学装置及びゴミ除去装置に対するフレキシブル基板の接続に係る構成について示す図である。FIGS. 10A and 10B are diagrams illustrating a configuration relating to connection of the flexible substrate to the electro-optical device and the dust removing device. 図11(a)は、弾性波発生部の電気的な構成を示す図であって、図11(b)は、弾性波受信部の電気的な構成示す図である。Fig.11 (a) is a figure which shows the electrical structure of an elastic wave generation part, FIG.11 (b) is a figure which shows the electrical structure of an elastic wave receiving part. 駆動装置に係る構成について説明するためのブロック図である。It is a block diagram for demonstrating the structure which concerns on a drive device. 図13(a)は、弾性表面波の発生について説明するための模式図であり、図13(b)は、弾性表面波によるゴミ除去について説明するための模式図である。FIG. 13A is a schematic diagram for explaining the generation of surface acoustic waves, and FIG. 13B is a schematic diagram for explaining dust removal by the surface acoustic waves. IDTの延在方向に対する弾性表面波の進行方向を模式的に示す模式図である。It is a schematic diagram which shows typically the advancing direction of the surface acoustic wave with respect to the extension direction of IDT. (電気機械結合係数)を縦軸にとり、値khを横軸にとって表したグラフを示す図である。k 2 a (electromechanical coupling coefficient) placed vertically, is a diagram showing a graph representing the value kh abscissa. 液晶プロジェクタにおける、電気光学装置の本体部とダイクロイックプリズムとの配置関係の一例を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating an example of an arrangement relationship between a main body portion of an electro-optical device and a dichroic prism in a liquid crystal projector. ゴミ除去に係るゴミ除去装置における一連の動作を説明するためのフローチャートを示す図である。It is a figure which shows the flowchart for demonstrating a series of operation | movement in the dust removal apparatus which concerns on dust removal. 防塵ガラスの基板面においてゴミが存在する場合の、該基板面における弾性表面波の進行を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for explaining the progress of surface acoustic waves on the substrate surface when dust is present on the substrate surface of the dust-proof glass. 圧電素子の構成に係る変形例について、図8に示す断面に対応する部分の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the part corresponding to the cross section shown in FIG. 8 about the modification which concerns on a structure of a piezoelectric element. 図9と同様に、本変形例におけるIDTの構成の一例を示す図である。Like FIG. 9, it is a figure which shows an example of a structure of IDT in this modification. 図21(a)は、図9と同様に、本変形例におけるIDTの構成の他の例を示す図であり、図21(b)は、図21(a)のB−B’部分における、IDT、シリコン酸化膜及び圧電膜の配置関係について示す断面図である。FIG. 21A is a diagram illustrating another example of the configuration of the IDT in the present modified example, as in FIG. 9, and FIG. It is sectional drawing shown about the arrangement | positioning relationship of IDT, a silicon oxide film, and a piezoelectric film. 図22(a)及び図22(b)は夫々、図9と同様に、本変形例におけるIDTの構成の他の例を示す図である。FIG. 22A and FIG. 22B are diagrams showing other examples of the configuration of the IDT in the present modification, as in FIG. 弾性波発生部又は弾性波受信部の変形例に係る構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure which concerns on the modification of an elastic wave generation part or an elastic wave receiving part.

符号の説明Explanation of symbols

70a、70b、72a、72b…電極部、71…配線、400…防塵ガラス、750…弾性波発生部
70a, 70b, 72a, 72b ... electrode part, 71 ... wiring, 400 ... dustproof glass, 750 ... elastic wave generating part

Claims (14)

基板を有し該基板上における画像表示領域で電気光学的に画像を表示する電気光学装置において、前記基板の表面のゴミを除去する電気光学装置用のゴミ除去装置であって、
前記画像表示領域において前記基板の表面に沿って進行する弾性表面波を発生させる弾性波発生部と、
該弾性波発生部を駆動するための配線又は電極部と
を備えることを特徴とする電気光学装置用ゴミ除去装置。
An electro-optical device that has a substrate and displays an image electro-optically in an image display area on the substrate, the dust removing device for an electro-optical device for removing dust on the surface of the substrate,
An acoustic wave generator for generating a surface acoustic wave that travels along the surface of the substrate in the image display region;
A dust removing device for an electro-optical device, comprising: a wiring or an electrode portion for driving the elastic wave generating portion.
前記弾性波発生部は、前記基板上における前記画像表示領域の周辺に位置する周辺領域に配置されており、前記周辺領域から前記画像表示領域に進行するように前記弾性表面波を発生させることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置用ゴミ除去装置。   The elastic wave generating unit is disposed in a peripheral region located around the image display region on the substrate, and generates the surface acoustic wave so as to travel from the peripheral region to the image display region. The dust removing apparatus for an electro-optical device according to claim 1, wherein 前記弾性波発生部は、前記画像表示領域の一辺に沿って設けられていることを特徴とする請求項2に記載の電気光学装置用ゴミ除去装置。   The dust removal apparatus for an electro-optical device according to claim 2, wherein the elastic wave generation unit is provided along one side of the image display area. 前記弾性波発生部は、前記画像表示領域の二辺に沿って設けられていることを特徴とする請求項2に記載の電気光学装置用ゴミ除去装置。   The dust removing apparatus for an electro-optical device according to claim 2, wherein the elastic wave generating unit is provided along two sides of the image display area. 前記弾性波発生部は、前記画像表示領域の少なくとも一辺に沿って形成された圧電膜と、該圧電膜上に前記周辺領域から前記画像表示領域に向かう方向に沿って少なくとも2種の電極が配列されることにより、該配列方向に沿って延在されて形成された櫛歯電極とを含み、該櫛歯電極の延在方向に沿って進行する前記弾性表面波を生成する圧電素子を有することを特徴とする請求項2から4のいずれか一項に記載の電気光学装置用ゴミ除去装置。   The elastic wave generating unit includes a piezoelectric film formed along at least one side of the image display area, and at least two electrodes arranged on the piezoelectric film along a direction from the peripheral area toward the image display area. And a piezoelectric element that generates the surface acoustic wave that travels along the extending direction of the comb-tooth electrode, and includes comb-shaped electrodes that are formed to extend along the arrangement direction. The dust removing apparatus for an electro-optical device according to any one of claims 2 to 4, wherein 前記圧電素子は、前記櫛歯電極の延在方向に沿って前記周辺領域から前記画像表示領域に向かう一方向に優先的に進行する前記弾性表面波を生成することを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置用ゴミ除去装置。   The said piezoelectric element produces | generates the said surface acoustic wave which advances preferentially in one direction which goes to the said image display area | region from the said peripheral area along the extension direction of the said comb-tooth electrode. The dust removal apparatus for electro-optical devices as described. 前記圧電素子は、前記ゴミを除去可能な所定の周波数の前記弾性表面波を発生させること
を特徴とする請求項5又は6に記載の電気光学装置用ゴミ除去装置。
The dust removal apparatus for an electro-optical device according to claim 5, wherein the piezoelectric element generates the surface acoustic wave having a predetermined frequency capable of removing the dust.
前記圧電素子は、前記ゴミの大きさに対応する複数種類の周波数の前記弾性表面波を、該周波数の値毎に発生させること
を特徴とする請求項5又は6に記載の電気光学装置用ゴミ除去装置。
The dust for an electro-optical device according to claim 5, wherein the piezoelectric element generates the surface acoustic waves having a plurality of types of frequencies corresponding to the size of the dust for each value of the frequency. Removal device.
前記基板は、デフォーカスガラス、カバーガラス又は防塵ガラスとして前記電気光学装置の本体部に設けられており、
前記基板における前記本体部に面する側と反対側の表面において、前記ゴミを除去することを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載の電気光学装置用ゴミ除去装置。
The substrate is provided in the main body of the electro-optical device as defocus glass, cover glass or dust-proof glass,
8. The dust removing apparatus for an electro-optical device according to claim 1, wherein the dust is removed on a surface of the substrate opposite to the side facing the main body. 9.
前記基板は、電気光学物質を挟持する一対の基板のうちの一方の基板として前記電気光学装置の本体部に設けられており、
前記一方の基板の前記電気光学物質と対向する側と反対側の表面において、前記ゴミを除去することを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載の電気光学装置用ゴミ除去装置。
The substrate is provided in the main body of the electro-optical device as one of a pair of substrates sandwiching an electro-optical material,
8. The dust removing apparatus for an electro-optical device according to claim 1, wherein the dust is removed on a surface of the one substrate opposite to the side facing the electro-optical material. 9. .
請求項1から10のいずれか一項に記載の電気光学装置用ゴミ除去装置を備えることを特徴とする電気光学装置。   An electro-optical device comprising the dust removing device for an electro-optical device according to claim 1. 請求項11に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 11. 基板の表面のゴミを除去するゴミ除去装置であって、
前記基板の表面に沿って進行する弾性表面波を発生させる弾性波発生部と、
該弾性波発生手段を駆動するための配線又は電極部と
を備えることを特徴とするゴミ除去装置。
A dust removal device for removing dust on the surface of a substrate,
An elastic wave generator for generating a surface acoustic wave that travels along the surface of the substrate;
A dust removal apparatus comprising: a wiring or an electrode portion for driving the elastic wave generating means.
基板を有し該基板上における画像表示領域で電気光学的に画像を表示する電気光学装置において、前記基板の表面のゴミを除去する電気光学装置用のゴミ除去方法であって、
配線又は電極を介して、前記画像表示領域において前記基板の表面に沿って進行する弾性表面波を発生させる弾性波発生部を駆動するステップと、
前記駆動された弾性波発生部によって前記弾性表面波を発生させるステップと
を備えることを特徴とする電気光学装置用ゴミ除去方法。
An electro-optical device that has a substrate and displays an image electro-optically in an image display area on the substrate, wherein the dust is removed from the surface of the substrate.
Driving a surface acoustic wave generating unit that generates a surface acoustic wave that travels along the surface of the substrate in the image display region via a wiring or an electrode; and
And a step of generating the surface acoustic wave by the driven elastic wave generator.
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