JP2006093701A - リソグラフィ装置、デバイス製造方法および交換可能物品の処理装置 - Google Patents
リソグラフィ装置、デバイス製造方法および交換可能物品の処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006093701A JP2006093701A JP2005269511A JP2005269511A JP2006093701A JP 2006093701 A JP2006093701 A JP 2006093701A JP 2005269511 A JP2005269511 A JP 2005269511A JP 2005269511 A JP2005269511 A JP 2005269511A JP 2006093701 A JP2006093701 A JP 2006093701A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- article
- robot
- transmitter
- receiver
- signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
Abstract
【解決手段】本発明はリソグラフィ装置に係わり、放射ビームを調整する照明系と、放射ビームの横断面にパターンを与えるパターン付与装置を支持する支持構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターン付与されたビームを基板のターゲット箇所に投影する投影系と、交換可能物品を交換するロボットとを含む。ロボットは基礎部分と可動部分を含み、可動部分は基礎部分に可動に連結され、交換可能物品を操作する物品操作具を含む。リソグラフィ装置は、物品操作具に交換可能物品が存在するか否かを検出する物品検出器を含み、検出装置は信号を発信する送信機と信号を受信する受信機とを含み、送信機と受信機がロボットの可動部分から離れて配設される。
【選択図】図1
Description
このリソグラフィ装置は、
放射ビームを提供する照明系と、
放射ビームの横断面にパターンを与える働きを有するパターン付与装置を支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターン付与された放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影系と、
基礎部分および可動部分を有する、交換可能物品を交換するためのロボットとを含み、前記可動部分が、前記基礎部分に対して可動的に連結されるとともに、交換可能物品を操作する物品操作具を有し、
リソグラフィ装置は、更に
前記物品操作具における前記交換可能物品の存在を検出する検出装置すなわち物品検出器を含み、前記検出装置が、信号を送信する送信機と、信号を受信する受信機とを有し、前記送信機と前記受信機がロボットの可動部分から離れて配設される。
Claims (14)
- 放射ビームを調整するように構成された照明系と、
放射ビームの横断面にパターンを付与する構成のパターン付与装置を支持するように構成された支持構造と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターン付与されたビームを基板のターゲット箇所に投影するように構成された投影系と、
交換可能物品を交換するように構成されたロボットであり、基礎部分および可動部分を含み、該可動部分が、前記基礎部分に対して可動的に連結されるとともに、交換可能物品を操作するように構成された物品操作具を含む前記ロボットと、
前記物品操作具における前記交換可能物品の存在を検出するように構成された物品検出器であって、信号を送信するように構成された送信機および信号を受信するように構成された受信機を含み、該送信機と該受信機が前記ロボットの前記可動部分から離れて配置されている前記物品検出器とを含むリソグラフィ装置。 - 前記送信機と前記受信機が前記ロボットの前記基礎部分に配設されている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 実質的に静止した部分(例えば、前記リソグラフィ装置のフレーム)を更に含み、前記送信機と前記受信機が前記静止した部分に配設されている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 処理室(例えば、真空室)を更に含み、前記ロボットが少なくとも部分的に前記処理室内に配置され、前記送信機と前記受信機が処理室の外部に配置されている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記送信機が光信号を伝えるように構成された光送信機であり、前記受信機が光信号を受信するように構成された光受信機である請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記可動部分が一つ以上のアームを含み、前記一つ以上のアームから成る第一アームの基端部が前記基礎部分に対して回転可能に連結され、また、前記一つ以上のアームの先端部に前記物品操作具が配設されている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記基礎部分と前記第一アームとの間の第一結合部に鏡面が配設され、前記送信機からの信号を前記物品操作具の方向へ指向させるように前記鏡面が構成されている請求項6に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記可動部分が二つ以上のアームを含み、該二つ以上のアームが複数の結合部によって互いに回転可能に連結され、少なくとも一つの鏡面が複数の結合部の各々に配設され、該少なくとも一つの鏡面が前記送信機からの信号を該鏡面の各々を経て前記物品操作具に指向させるように構成されている請求項6に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記物品検出器が、前記物品操作具における前記交換可能物品の存在および/または種別を検出するように構成されている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 放射ビームにパターンを付与する段階と、
パターン付与された前記放射ビームを、基板のターゲット部分に投影する段階と、
ロボットを用いて交換可能物品の交換を行なう段階とを含み、
前記交換を行なう段階が、ロボットにおける前記交換可能物品の存在、および/または、その種別を物品検出器を用いて検出することを含み、
前記物品検出器が、信号を送信するように構成された送信機と、信号を受信するように構成された受信機とを含み、
前記送信機および前記受信機が、前記ロボットの可動部分から離れて配置されているデバイス製造方法。 - 交換可能物品を交換するように構成されたロボットと、
物品操作具における交換可能物品の存在を検出するように構成された物品検出器と、
前記ロボットが、基礎部分と可動部分を含み、該可動部分が、前記基礎部分に対して移動可能に連結されるとともに、交換可能物品を操作するように構成された物品操作具を含み、
前記物品検出器が、信号を発信するように構成された送信機と、信号を受信するように構成された受信機とを含み、
前記送信機と前記受信機が前記ロボットの可動部分から離れて配置されている交換可能物品の処理装置。 - 静止部分に対して移動可能に連結された可動部分であって、アームを含み、該アームの第一部分が前記静止部分に対して移動可能に連結された前記可動部分と、
前記アームの第二部分に配置され、物品を保持するように構成された物品保持具と、
前記物品保持具と光学的に接続された物品検出器とを含み、
前記物品検出器と前記物品保持具との間で光信号を伝えるように構成された光学要素を前記可動部分が担持している、物品を交換するための装置。 - 前記光信号が実質的に前記アームに沿って伝達されるように、前記光学要素が前記アームに配設されている請求項12に記載された物品を交換するための装置。
- 別のアームを更に含み、前記光学要素が前記アーム間の連結部に配設されている請求項13に記載された物品を交換するための装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/944,429 US7167233B2 (en) | 2004-09-20 | 2004-09-20 | Lithographic apparatus, device manufacturing method and apparatus for processing an exchangeable object |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006093701A true JP2006093701A (ja) | 2006-04-06 |
JP4283795B2 JP4283795B2 (ja) | 2009-06-24 |
Family
ID=36073571
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005269511A Expired - Fee Related JP4283795B2 (ja) | 2004-09-20 | 2005-09-16 | リソグラフィ装置、デバイス製造方法および交換可能物品の処理装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7167233B2 (ja) |
JP (1) | JP4283795B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013110200A (ja) * | 2011-11-18 | 2013-06-06 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送システム |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8115906B2 (en) * | 2007-12-14 | 2012-02-14 | Nikon Corporation | Movable body system, pattern formation apparatus, exposure apparatus and measurement device, and device manufacturing method |
NL1036785A1 (nl) | 2008-04-18 | 2009-10-20 | Asml Netherlands Bv | Rapid exchange device for lithography reticles. |
CN102365590B (zh) | 2009-04-06 | 2014-07-16 | Asml控股股份有限公司 | 用于掩模板的快速交换装置中的共享的顺应性和掩模板平台 |
ES2625412T3 (es) * | 2012-06-01 | 2017-07-19 | Esterline Belgium Bvba | Método y aparato para fabricar un espejo de lámina delgada |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5570992A (en) * | 1954-07-28 | 1996-11-05 | Lemelson; Jerome H. | Free-traveling manipulator with optical feedback control and methods |
US3543947A (en) * | 1968-07-30 | 1970-12-01 | George C Devol | Constant-aim work head |
US5895923A (en) * | 1996-02-16 | 1999-04-20 | Eaton Corporation | Ion beam shield for implantation systems |
US5905850A (en) * | 1996-06-28 | 1999-05-18 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for positioning substrates |
US6568991B2 (en) * | 2001-08-28 | 2003-05-27 | Speedfam-Ipec Corporation | Method and apparatus for sensing a wafer in a carrier |
US6889818B2 (en) * | 2003-04-09 | 2005-05-10 | Lsi Logic Corporation | Wafer blade contact monitor |
-
2004
- 2004-09-20 US US10/944,429 patent/US7167233B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-09-16 JP JP2005269511A patent/JP4283795B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013110200A (ja) * | 2011-11-18 | 2013-06-06 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4283795B2 (ja) | 2009-06-24 |
US20060061750A1 (en) | 2006-03-23 |
US7167233B2 (en) | 2007-01-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3880312B2 (ja) | リソグラフィ装置において使用するための位置検出システム | |
KR100650946B1 (ko) | 방사선 시스템, 리소그래피 장치, 디바이스 제조방법, 및그에 의해 제조된 디바이스 | |
JP4373376B2 (ja) | アライメント方法、リソグラフィ装置、デバイス製造方法並びにアライメントツール | |
EP3117270B1 (en) | Substrate handling system and lithographic apparatus | |
JP4909204B2 (ja) | ケーブル接続、ケーブル接続用の制御システム、およびケーブル接続を経て振動が第1の対象から第2の対象へと伝達されることを軽減する方法 | |
TWI265384B (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP4283795B2 (ja) | リソグラフィ装置、デバイス製造方法および交換可能物品の処理装置 | |
KR100849982B1 (ko) | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
JP5919395B2 (ja) | 可動ステージシステム及びリソグラフィ装置 | |
KR101619272B1 (ko) | 방사선 소스, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
KR101472411B1 (ko) | 리소그래피 장치 | |
EP3995897A1 (en) | Position measurement system and method and lithographic apparatus | |
JP2007013166A (ja) | レチクル予備位置合わせセンサ用一体照明システムがあるエンドエフェクタ | |
JP2006100832A (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP6965332B2 (ja) | 基板ハンドリングシステムおよびリソグラフィ装置 | |
JP4048205B2 (ja) | リトグラフ装置及びデバイス製造方法 | |
JP2006100802A (ja) | アライメント装置、アライメント方法、及びリソグラフィ装置 | |
JP4335084B2 (ja) | 測定装置を有するリトグラフ投影装置 | |
CN109891323A (zh) | 用于将物体移入和/或移出壳体的设备 | |
KR20230150342A (ko) | 광학 시스템, 장착 장치, 및 측정 물체의 위치를 측정하기 위한 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20060919 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080812 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080909 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081105 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081204 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090303 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090319 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120327 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130327 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140327 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |