JP2006093021A - 有機elパネル及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 有機ELパネルの用途やユーザニーズに応じた白色の色度変更を簡易に且つ不都合なく実行する。
【解決手段】 基板1上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極(下部電極2,上部電極3)間に少なくとも有機EL発光層4を含む有機層を挟持してなる有機EL素子10を形成し、下部電極2を透明導電膜として、色度補正フィルタ5を有機EL発光層4と下部電極(透明導電膜)2との間に設けた。
【選択図】図2
【解決手段】 基板1上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極(下部電極2,上部電極3)間に少なくとも有機EL発光層4を含む有機層を挟持してなる有機EL素子10を形成し、下部電極2を透明導電膜として、色度補正フィルタ5を有機EL発光層4と下部電極(透明導電膜)2との間に設けた。
【選択図】図2
Description
本発明は、有機ELパネル及びその製造方法に関するものである。
有機ELパネルは、携帯電話、薄型テレビ、情報端末等の薄型高機能ディスプレイとしては勿論のこと、スピードメータ等の車載用機能表示部や各種電化製品の機能表示部、バックライトや照明への応用、或いはフィルム状ディスプレイの実現等が期待され、近年盛んに開発・研究が進められている。
そして、前述した各種用途におけるカラー化(フルカラー又はマルチカラー)やバックライト及び照明における高機能化を図るためには、有機ELパネルの出射光によって用途に応じた効果的な白色光が得られることが求められる。例えば、ディスプレイで高い表現力のカラー表示を行うためには、JIS Z 8110のCIExy色度図によって定義される白領域を中心にしたカラー表示を行うことが求められ、液晶ディスプレイ等のバックライトにおいては、カラーフィルタの各色成分に応じて有効な色分解が可能な発光スペクトルを呈する白色光が求められる。また、照明として用いる場合には、使用環境に応じて適当な色度の白色光が求められることになる。
有機ELパネルの基本構造は、基板上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極間に少なくとも有機EL発光層を含む有機層を挟持してなる有機EL素子を形成して、この有機EL素子を発光要素とするものであるが、この有機ELパネルによって白色出射光を得るには、一つの有機EL発光層のホスト材中に複数色の発光を得るゲスト材を混入するか、或いは異なる色を発光する有機EL発光層を一画素毎に並列又は積層することで、複数発光色の混色を得ることがなされている。
通常、有機ELパネルにおいて得られる白色出射光は、R(赤),G(緑),B(青)の3色を混色して得られる3波長の白色(3つの波長帯域でピークを持つ白)が一般的であるが、下記特許文献1には、有機ELパネルの画素を2色の有機EL素子で形成して、この2色の混色によって、CIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域内の色を表現可能にすることが記載されている。
このように有機ELパネルで白色出射光を得るには、3色又は2色を混色するので、各色の発光材料の色度や輝度効率によっては、所望の色度の白が得られない場合がある。また、同じ白色といえども、表示デバイスや照明等の用途に応じて要求される色度が異なる場合や、ユーザ(パネルを搭載する機器メーカ等)毎に要求する白色の色度が異なる場合がある。
これに対処するには、発光材料の選択、色素材料の濃度調整、有機層及び透明導電膜層の膜厚設定による反射干渉現象を利用した色度調整等といった素子構成の設計を要求に応じて変更することが考えられる。しかしながら、このような素子構成の設計変更には多大な労力と時間或いは費用がかかることになるので、現実的には全ての要求に対応することができないのが現状である。
一方、別の対処策として、色度補正フィルタを用いることが考えられ、単純に有機ELパネルの光出射側基板の表面に色度補正フィルタを貼り付けることが考えられる。しかしながら、これによると、色度補正フィルタの厚さ分だけ有機ELパネルの厚さが増すことになり、厚さ方向のパネル設置スペースを余分に必要とする不都合が生じ、また、通常、有機ELパネルの光出射側基板には、パネルの内部反射光の出射を防ぐために円偏光板を設けることがなされているので、基板の表面と円偏光板との間に色度補正フィルタを設けると、これらの界面で出射光の多重反射が起こり出射光の透過率低下や出射光によって形成される像の乱れが生じるという不都合が起きる。
また、基板の表面に設ける色度補正フィルタでは、基板上に有機EL素子を形成して、この基板とは逆側から光を取り出すトップエミッション方式の場合には対処できないことになる。
本発明は、このような問題を解決するものである。すなわち、有機ELパネルの用途やユーザニーズに応じた白色の色度変更を簡易に且つ不都合なく実行できることが本発明の目的である。
このような目的を達成するために、本発明による有機ELパネル及びその製造方法は、以下の各請求項に係る構成を具備するものである。
[請求項1]基板上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極間に少なくとも有機EL発光層を含む有機層を挟持してなる有機EL素子を形成した有機ELパネルにおいて、前記有機EL発光層の発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、前記有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更する色度補正フィルタを、前記有機EL発光層と前記透明導電膜との間に設けたことを特徴とする有機ELパネル。
[請求項2]基板上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極間に少なくとも有機EL発光層を含む有機層を挟持してなる有機EL素子を形成した有機ELパネルにおいて、前記一対の電極の内前記基板から離れた側の上部電極を前記透明導電膜で形成し、前記有機EL素子から得られる発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、前記有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更する色度補正フィルタを、前記上部電極からの出射光の光路上に設けたことを特徴とする有機ELパネル。
[請求項3]基板上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極間に少なくとも有機EL発光層を含む有機層を挟持してなる有機EL素子を形成した有機ELパネルにおいて、前記一対の電極の内前記基板側の下部電極を前記透明導電膜で形成し、前記有機EL素子から得られる発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、前記有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更する色度補正フィルタを、前記下部電極と前記基板との間に設けたことを特徴とする有機ELパネル。
[請求項4]基板上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極間に少なくとも有機EL発光層を含む有機層を挟持してなる有機EL素子を形成した有機ELパネルの製造方法において、前記基板上に、直接又は他の層を介して前記一対の電極の内前記透明導電膜からなる下部電極を形成する工程と、該下部電極上に、直接又は他の層を介して、前記有機EL発光層の発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、前記有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更する色度補正フィルタを形成する工程と、該色度補正フィルタ上に、直接又は他の層を介して前記有機EL発光層を形成する工程と、該有機EL発光層上に、直接又は他の層を介して前記一対の電極の内上部電極を形成する工程とを有することを特徴とする有機ELパネルの製造方法。
[請求項5]基板上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極間に少なくとも有機EL発光層を含む有機層を挟持してなる有機EL素子を形成した有機ELパネルの製造方法において、前記基板上に、直接又は他の層を介して前記一対の電極の内下部電極を形成する工程と、該下部電極の上に、直接又は他の層を介して前記有機EL発光層を形成する工程と、該有機EL発光層上に、直接又は他の層を介して、前記有機EL発光層の発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、前記有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更する色度補正フィルタを形成する工程と、該色度補正フィルタ上に、直接又は他の層を介して前記一対の電極の内前記透明導電膜からなる上部電極を形成する工程とを有することを特徴とする有機ELパネルの製造方法。
[請求項6]基板上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極間に少なくとも有機EL発光層を含む有機層を挟持してなる有機EL素子を形成した有機ELパネルの製造方法において、前記基板上に、前記一対の電極の内前記基板から離れた側の上部電極を前記透明導電膜で形成して前記有機EL素子を形成する工程と、前記有機EL素子を封止膜で覆う工程と、
該封止膜上に、前記有機EL素子から得られる発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、前記有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更する色度補正フィルタを形成する工程とを有することを特徴とする有機ELパネルの製造方法。
該封止膜上に、前記有機EL素子から得られる発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、前記有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更する色度補正フィルタを形成する工程とを有することを特徴とする有機ELパネルの製造方法。
[請求項7]基板上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極間に少なくとも有機EL発光層を含む有機層を挟持してなる有機EL素子を形成した有機ELパネルの製造方法において、前記基板上に、前記一対の電極の内前記基板から離れた側の上部電極を前記透明導電膜で形成して前記有機EL素子を形成する工程と、前記基板に貼り合わせて前記有機EL素子を封止する封止基板の一面に、前記有機EL素子から得られる発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、前記有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更する色度補正フィルタを形成する工程と、前記基板と前記封止基板とを封止充填部材を介して貼り合わせて、前記基板と前記封止基板間で前記有機EL素子を封止する工程とを有することを特徴とする有機ELパネルの製造方法。
[請求項8]基板上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極間に少なくとも有機EL発光層を含む有機層を挟持してなる有機EL素子を形成した有機ELパネルの製造方法において、前記基板上に、直接又は他の層を介して、前記有機EL素子から得られる発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、前記有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更する色度補正フィルタを形成する工程と、該色度補正フィルタ上に、直接又は他の層を介して、前記一対の電極の内前記基板側の下部電極を前記透明導電膜で形成して前記有機EL素子を形成する工程とを有することを特徴とする有機ELパネルの製造方法。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。図1は、JIS Z 8110のCIExy色度図を示す図であり、このCIExy色度図においてはSWで示した領域を白領域と定義している。本発明の実施形態では、この白領域SWに加えて、色度図の中心点W0(x,y)=(0.31,0.316)から半径0.1の円領域SW0を定量的な白領域に定めている。
図2は、本発明の実施形態に係る有機ELパネルの構成例を示す説明図である。この有機ELパネルは、基板1上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極(下部電極2,上部電極3)間に少なくとも有機EL発光層4を含む有機層を挟持してなる有機EL素子10を形成したものであり、同図(a)に示す実施形態では、下部電極2を透明導電膜とし、色度補正フィルタ5を有機EL発光層4と下部電極(透明導電膜)2との間に設けており、同図(b)に示す実施形態では、上部電極3を透明導電膜とし、色度補正フィルタ5を有機EL発光層4と上部電極(透明導電膜)3との間に設けている。すなわち、同図(a)に示す実施形態に係る有機ELパネルは基板1側から出射光を取り出すボトムエミッション方式であり、同図(b)に示す実施形態に係る有機ELパネルは基板1とは逆側から出射光を取り出すトップエミッション方式である。
ここで、色補正フィルタ5は、有機EL発光層4の発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域SW又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域SW0における任意の色度に変更することができる吸収フィルタであって、この色度補正フィルタ5を設けることで、以下に示す本発明の作用が得られることになる。
図3は、本発明の実施形態に係る有機ELパネルの作用を示す説明図である。本発明の実施形態では、同図(a)に示すように、CIExy色度図上の白領域SWと円領域SW0を加えた領域を白が得られる領域と定義して、有機ELパネルの出射光をこの領域内の任意の位置に変更できるように色補正フィルタ5を設けたものである。
色度補正の例を図3に従って説明すると、例えば、図2に示した有機ELパネルにおける有機EL発光層4から得られる有機EL発光が色度A1(x,y)=(0.236,0.238)を有しており、その発光スペクトルが、同図(b)の実線に示すように、470nmと600nmにピークを持つものである場合に、その発光スペクトルのうち500nm付近の発光スペクトルの20〜30%を吸収する色度補正フィルタ5を用いることで、有機ELパネルから出射される光のスペクトルは同図(b)の波線で示すようになり、色度B1(x,y)=(0.360,0.356)を得ることができる。
つまり、色度A1を有する有機EL素子構成を本来備えた有機ELパネルに対して、ユーザの要求等に応じて色度補正フィルタ5を設けることで、有機EL素子の素子構造を変更することなく所望の色度B1が得られるようになる。
同様に、図2に示した有機ELパネルの有機EL発光層4から得られる有機EL発光が色度A2(x,y)=(0.412,0.315)を有して白の領域を外れており、その発光スペクトルが、同図(c)の実線に示すように、550nmと670nmにピークを持つものである場合に、その発光スペクトルのうち600nm付近の発光スペクトルの20〜30%を吸収する色度補正フィルタ5を用いることで、有機ELパネルから出射される光のスペクトルは同図(b)の波線で示すようになり、白領域内の色度B2(x,y)=(0.330,0.320)を得ることができる。
本発明の実施形態では、単に有機ELパネルの色度を色度図で純白(x,y)=(0.31,0.320)にすることが目的ではなく、有機ELパネルを用いる環境や用途、或いはユーザニーズに応じて、白と表現できる領域内の所望の色度に変更することが目的であり、本発明の実施形態によると、色補正フィルタ5の吸収波長帯域の設定によって、有機EL素子構造を変えることなく自由に白色の色度設定ができるという効果が得られる。
このような有機ELパネルの製造方法を説明すると、図2(a)の実施形態では、基板1上に、直接又は他の層を介して一対の電極の内透明導電膜からなる下部電極2を形成する工程と、下部電極2上に、直接又は他の層を介して色度補正フィルタ5を形成する工程と、色度補正フィルタ5上に、直接又は他の層を介して有機EL発光層4を形成する工程と、有機EL発光層4上に、直接又は他の層を介して一対の電極の内上部電極3を形成する工程とを有する。
また、図2(b)の実施形態では、基板1上に、直接又は他の層を介して一対の電極の内下部電極2を形成する工程と、下部電極2の上に、直接又は他の層を介して有機EL発光層4を形成する工程と、有機EL発光層4上に、直接又は他の層を介して色度補正フィルタ5を形成する工程と、色度補正フィルタ5上に、直接又は他の層を介して一対の電極の内透明導電膜からなる上部電極3を形成する工程とを有する。
このような製造方法によって、基板1側から出射光を取り出すボトムエミッション方式であっても、或いは基板1側とは逆側から光を取り出すトップエミッション方式であっても、効果的に色度を変更して白領域内の所望の位置に色度を設定することができる。
図4は、本発明の実施形態に係る有機ELパネルの他の構成例を示す説明図である。この有機ELパネルは、前述の例と同様に、基板1上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極(下部電極2,上部電極3)間に少なくとも有機EL発光層4を含む有機層を挟持してなる有機EL素子10を形成したものであり、同図に示すように、上部電極3を透明導電膜とし、上部電極からの出射光の光路上に色度補正フィルタ5を設けて、有機EL素子10から得られる発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更するものである。
この実施形態に係る有機ELパネルは基板1とは逆側から光を取り出すトップエミッション方式を前提としており、有機EL発光層4の発光色度に対して各有機層及び透明導電膜からなる上部電極3の膜厚によって設定される有機EL素子10の色度を色度補正フィルタ5によって変更することができるものである。
図5は、図4に示した実施形態に係る有機ELパネルの具体例または製造方法を説明する説明図である。同図(a)に示したものは、前述した有機EL素子10を覆うように封止膜6を設け、その上に(上部電極3からの出射光の光路上に)色度補正フィルタ5を設けたもので、その製造方法は、基板1上に有機EL素子10を形成する工程と、この有機EL素子を封止膜6で覆う工程と、この封止膜6上に色度補正フィルタ5を形成する工程とを有するものである。
封止膜6について説明すると、一例としては、有機EL素子10上にバッファ層として光硬化性樹脂等の有機材料をスピンコート法により塗布し、紫外線を照射して硬化させ、次いで、バリア層としてSiO2の無機材料をスパッタリング等により成膜する。その後、バッファ層(光硬化性樹脂)とバリア層(SiO2)を交互に積層して前述した封止膜6を形成する。
また、このような封止膜6としては、前述した例のように複数の層を積層したものであっても良いし、或いは単層膜であっても良い。使用する材料としては、無機物、有機物のどちらであっても良い。無機物としては、SiN,AIN,GaN等の窒化物、SiO2,Al2O3,Ta2O5、ZnO,GeO等の酸化物、SiON等の酸化窒化物、SiCN等の炭化窒化物、金属フッ素化合物、金属膜等を用いることができる。有機物としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリパラキシレン,パーフルオロオレフィン,パーフルオロエーテル等のフッ素系高分子、CH3OM,C2H5OM等の金属アルコキシド、ポリイミド前駆体、ペリレン系化合物、等を用いることができる。これらの積層形態や材料の選択は有機EL素子10の設計によって適宜選択される。
また、図5(b)に示したものは、基板1に貼り合わせて有機EL素子10を封止する透明ガラス製等の封止基板8の一面に色度補正フィルタ5を設けたものであり、その製造方法は、基板1上に前述の有機EL素子10を形成する工程と、前述の封止基板8の一面に色度補正フィルタ5を形成する工程と、基板1と封止基板8とを封止充填材7を介して貼り合わせて、基板1と封止基板8間で有機EL素子10を封止する工程とを有する。
より具体的には、封止基板8上に色度補正フィルタ5を先に形成し、色度補正フィルタ5上に熱硬化性樹脂,光硬化性樹脂,エラストマー等の封止充填材7を塗布するか、或いはシート状の封止充填材を封止基板上にラミネートする。その後、真空中で封止基板8と有機EL素子10が形成された基板1とを加熱等の条件下で貼り合わせ、硬化・接合させる。このとき、樹脂等を塗布、シート状の樹脂をラミネートするのは封止基板8側ではなく、有機EL素子10が形成された基板1側であっても良い。また、前述の例では封止基板8の有機EL素子10と向き合う面に色度補正フィルタ5を形成したが、それとは反対の外側の面に色度補正フィルタ5を形成し、有機EL素子10と向き合う面に封止充填材7を塗布又はラミネートして接合してもよい。
このような実施形態に係る有機ELパネル及びその製造方法によると、前述した実施形態と同様の効果が得られると共に、基板1と反対側から光を取り出すトップエミッション方式によって、光透過性を有さない基板を用いることができ、またTFT基板を用いた際の開口率低下を解消することができる。
図6は、本発明の実施形態に係る有機ELパネルの他の構成例を示す説明図である。この有機ELパネルは、前述の例と同様に、基板1上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極(下部電極2,上部電極3)間に少なくとも有機EL発光層4を含む有機層を挟持してなる有機EL素子10を形成したものであり、同図(a),(b)に示すように、下部電極2を透明導電膜とし、下部電極2と基板1との間に色度補正フィルタ5を設けて、有機EL素子10から得られる発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更するものである。
この実施形態に係る有機ELパネルは基板1側から光を取り出すボトムエミッション方式を前提としており、有機EL発光層4の発光色度に対して各有機層及び透明導電膜からなる下部電極2の膜厚によって設定される有機EL素子10の色度を色度補正フィルタ5によって変更することができるものである。ここで、同図(a)に示すものは、基板1上に直接色度補正フィルタ5を形成したものであり、同図(b)に示すものは、基板上に他の層を介して色度補正フィルタ5を形成したものである。
その製造方法は、基板1上に、直接又は他の層を介して色度補正フィルタ5を形成する工程と、色度補正フィルタ5上に、直接又は他の層を介して、一対の電極の内基板1側の下部電極2を透明導電膜で形成して有機EL素子10を形成する工程とを有するものである。
この実施形態は、光透過性を有する基板1(好ましくは、透明ガラス基板)が用いられ、この基板1上に、カラーフィルタ層やアクティブ駆動用のTFT層或いはこのTFT層を覆う平坦化層等を設けた上に、色度補正フィルタ5を形成し、その上に有機EL素子10の各構成層を形成することができる。これによると、有機EL素子10の各構成層の成膜工程は従来のままで良いので、パネル製造メーカとしてもコストメリットが大きい。
前述した各実施形態における有機EL素子10について説明する。この有機EL素子10は、従来から知られている材料、製造方法によって形成することができる。例えば、低分子有機材料を真空蒸着にて成膜する方法、高分子有機材料を印刷法にて成膜する方法、予め形成した有機ELフィルムをレーザにて基板側に転写させるレーザ熱転写法等が主な製造方法である。
また、白色の出射光を得る有機EL素子の構造としては、2色又は3色の混色を1層の発光層で得るもの、色毎の発光層の積層構造で得るもの、色毎の発光層の一画素内での並列配置で得るものの何れであっても良い。2色又は3色の混色を1層の発光層で得る場合には、1層の有機EL発光層を形成するに際して、ホスト材と呼ばれる有機材料中にゲスト材と呼ばれる発光色素を複数色(例えばRGB3色)分混合させる。通常は、単にRGB3色のゲスト材(ドーパント)とホスト材を共蒸着しただけでは、発光エネルギーレベルの一番低いRに励起エネルギーが遷移して赤色のみの発光となってしまうので、ドーパント同士の励起エネルギーの遷移が起こらない距離に分散するようにドーパント濃度を低くしてRGB3波長発光を起こさせる。2色の混色によって白色を得る場合(2波長方式)には、再結合界面の両側に補色関係の発光層を積層させたものが効果的である。例えば、ジスチリル誘導体,トリアゾール誘導体等の青色発光層とDCM1等のスチリル色素等の赤色発光層を積層することで適当な白色発光を得ることができる。
以下に、本発明の有機ELパネル及びその製造方法について、更に具体的な実施例を説明する。言うまでもないが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
[実施例1]ガラス基板上に透明導電膜のインジウム錫酸化膜(ITO)を陽極としてスピンコートにて成膜、フォトリソ法にてパターニングを施し、下部電極及び引出配線を形成する。そして、ITOからなる下部電極上に発光領域が開口したポリイミドによる絶縁膜パターンを形成する。そして、このITO付きガラス基板にUVオゾン洗浄を施す(前処理工程)。
この前処理工程の後、前処理を施したガラス基板を10−4Paまで真空排気した真空成膜装置内に搬入し、色度補正フィルタとして銅フタロシアニン(CuPc)とリチウム(Li)を共蒸着にて50nm積層し、次いで正孔輸送層として4,4’−ビス [N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(NPD)を50nm積層する。
次いで、青色発光層とオレンジ色発光層を積層させることで白色有機EL発光層を形成する。この白色有機EL発光層は、先に、青色EL発光層として、4,4’−ビス(2,2−ジフェニルビニル)−ビフェニル(DPVBi)のホスト材に1重量%ドーパントとして4,4’−ビス(2−カルバゾールビニレン)ビフェニル(BCzVBi)を50nm共蒸着し、トリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq3)のホスト材に1重量%ドーパントとして4−ジシアノメチレン−2−メチル−6−(p−ジメチルアミノスチルリン)−4H−ピラン(DCM)を50nm共蒸着させることによって形成する。
その上部に電子輸送層としてAlq3を20nm、陰極としてアルミニウム(Al)を150nm蒸着して形成して成膜工程を終了する。
成膜工程後のガラス基板に対して発光検査工程を施した後に、真空雰囲気化からN2の不活性ガス雰囲気化に施した封止室に搬入する。一方、ブラスト処理で表面に凹部を設け、凹部内にBaOによる乾燥手段を設置したガラス封止基板も合わせて封止室に搬入する。ガラス封止基板上に、1〜300μmの粒径のガラススペーサを0.1〜0.5重量%ほど適量混合した紫外線硬化型エポキシ樹脂製の接着剤を封止基板の側壁に該当する場所にディスペンサー等を使用し塗布し、接着剤を塗布したガラス封止基板と成膜工程後のガラス基板とを接着剤を介して接合し、紫外線をガラス基板側(または封止基板側)から接着剤に照射して硬化させる(封止工程)。
[実施例2]実施例1と同様の製造プロセスにてガラス基板にITOからなる下部電極と絶縁膜パターンを形成する(前処理工程)。
前処理工程後のガラス基板を10−4Paまで真空排気した真空成膜装置内に搬入し、正孔注入層としてCuPcを50nm積層し、次いで正孔輸送層としてNPDを50nm積層する。
次いで、青色発光層とオレンジ色発光層を積層させることで白色有機EL発光層を形成する。この白色有機EL発光層は、先に、青色EL発光層として、DPVBiのホスト材に1重量%ドーパントとしてBCzVBiを50nm共蒸着し、Alq3のホスト材に1重量%ドーパントとしてDCMを50nm共蒸着させる。
その上部に電子輸送層としてAlq3を20nm、陰極としてAlを150nm蒸着して成膜工程を終了する。
成膜工程後のガラス基板に対して発光検査工程を施した後に、真空雰囲気化からN2の不活性ガス雰囲気化に施した封止室に搬入する。一方、ガラス封止基板表面に色度補正フィルタを形成して封止室に搬入する。色度補正フィルタは、バインダー樹脂であるポリメチルメタクリレート樹脂の30重量%トルエン液に対して、ピラゾール系スクアリリウム化合物を0.7重量部混合して塗工液を調整し、塗工液をバーコーティング法にて塗工、乾燥し形成する。
前述した成膜工程後のガラス基板と色度補正フィルタを形成したガラス封止基板を互いに対向させ、シート状にした高分子緩衝部材(封止充填材)である熱可塑性樹脂をガラス基板と封止基板の間に挟みこんで、ガラス基板を70℃で加熱させながら熱可塑性樹脂シートを硬化させることにより基板同士を封止・接合させる(封止工程)。
[実施例3]図7に実施例3の説明図を示す。ガラス基板1上に固相成長法により多結晶シリコン薄膜を形成し、この多結晶シリコン薄膜を島状に加工して、シリコン活性層を得る。次に、シリコン活性層の上にSiO2のゲート絶縁膜21、Alよりなるゲート電極22を形成する。その後、シリコン活性層に不純物をドープしてソース領域23、チャンネル形成領域24、ドレイン領域25を形成する。これらの上全面にSiO2の層間絶縁膜26を形成する。
その後、層間絶縁膜26に有機EL発光の開口部となる部分をエッチング処理にて開孔し、色度補正フィルタ5を実施例2に記載の塗布法にて形成し、その上にITOの画素電極(下部電極)2をスパッタに成膜する。
次に、窒化チタン膜を100nmの厚さに成膜する。これをエッチング処理してソース領域23とドレイン領域25とのITOに接続する部分に窒化チタン膜よりなるバリアメタル27と密着用金属28が同時に形成される。その後、Al膜が600nmの厚さに成膜され、エッチング処理されて、ソース電極29、ドレイン電極30のAl配線が形成される。その後TFTを被覆するようにSiO2の保護膜31を形成する(前処理工程)。
次に、実施例2と同様の製造プロセスにより、色度補正フィルタ5を形成したガラス基板1上の下部電極2上面に有機EL発光層4及び上部電極3を形成する(成膜工程)。ついで、実施例1と同様の製造プロセスにより、有機EL素子を形成したガラス基板1と一段掘り込み凹部を有する封止ガラス基板(図示省略)を対向させ、この掘り込み凹部にSrOによる乾燥手段を設置し、接着剤にて封止・接合させる(封止工程)。
このような実施形態又は実施例によると、有機ELパネルの用途やユーザニーズに応じた白色の色度変更を簡易に且つ不都合なく実行することができ、パネルメーカは有機EL素子構造の設計変更に伴う製造コスト,労力及び時間を著しく削減することができる。
1 基板、ガラス基板
2 下部電極、画素電極
3 上部電極
4 有機EL発光層
5 色補正フィルタ
6 封止膜
7 封止充填材
10 有機EL素子
2 下部電極、画素電極
3 上部電極
4 有機EL発光層
5 色補正フィルタ
6 封止膜
7 封止充填材
10 有機EL素子
Claims (8)
- 基板上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極間に少なくとも有機EL発光層を含む有機層を挟持してなる有機EL素子を形成した有機ELパネルにおいて、
前記有機EL発光層の発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、前記有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更する色度補正フィルタを、前記有機EL発光層と前記透明導電膜との間に設けたことを特徴とする有機ELパネル。 - 基板上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極間に少なくとも有機EL発光層を含む有機層を挟持してなる有機EL素子を形成した有機ELパネルにおいて、
前記一対の電極の内前記基板から離れた側の上部電極を前記透明導電膜で形成し、
前記有機EL素子から得られる発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、前記有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更する色度補正フィルタを、前記上部電極からの出射光の光路上に設けたことを特徴とする有機ELパネル。 - 基板上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極間に少なくとも有機EL発光層を含む有機層を挟持してなる有機EL素子を形成した有機ELパネルにおいて、
前記一対の電極の内前記基板側の下部電極を前記透明電極で形成し、
前記有機EL素子から得られる発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、前記有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更する色度補正フィルタを、前記下部電極と前記基板との間に設けたことを特徴とする有機ELパネル。 - 基板上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極間に少なくとも有機EL発光層を含む有機層を挟持してなる有機EL素子を形成した有機ELパネルの製造方法において、
前記基板上に、直接又は他の層を介して前記一対の電極の内前記透明導電膜からなる下部電極を形成する工程と、
該下部電極上に、直接又は他の層を介して、前記有機EL発光層の発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、前記有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更する色度補正フィルタを形成する工程と、
該色度補正フィルタ上に、直接又は他の層を介して前記有機EL発光層を形成する工程と、
該有機EL発光層上に、直接又は他の層を介して前記一対の電極の内上部電極を形成する工程とを有することを特徴とする有機ELパネルの製造方法。 - 基板上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極間に少なくとも有機EL発光層を含む有機層を挟持してなる有機EL素子を形成した有機ELパネルの製造方法において、
前記基板上に、直接又は他の層を介して前記一対の電極の内下部電極を形成する工程と、
該下部電極の上に、直接又は他の層を介して前記有機EL発光層を形成する工程と、
該有機EL発光層上に、直接又は他の層を介して、前記有機EL発光層の発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、前記有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更する色度補正フィルタを形成する工程と、
該色度補正フィルタ上に、直接又は他の層を介して前記一対の電極の内前記透明導電膜からなる上部電極を形成する工程とを有することを特徴とする有機ELパネルの製造方法。 - 基板上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極間に少なくとも有機EL発光層を含む有機層を挟持してなる有機EL素子を形成した有機ELパネルの製造方法において、
前記基板上に、前記一対の電極の内前記基板から離れた側の上部電極を前記透明導電膜で形成して前記有機EL素子を形成する工程と、
前記有機EL素子を封止膜で覆う工程と、
該封止膜上に、前記有機EL素子から得られる発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、前記有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更する色度補正フィルタを形成する工程とを有することを特徴とする有機ELパネルの製造方法。 - 基板上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極間に少なくとも有機EL発光層を含む有機層を挟持してなる有機EL素子を形成した有機ELパネルの製造方法において、
前記基板上に、前記一対の電極の内前記基板から離れた側の上部電極を前記透明導電膜で形成して前記有機EL素子を形成する工程と、
前記基板に貼り合わせて前記有機EL素子を封止する封止基板の一面に、前記有機EL素子から得られる発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、前記有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更する色度補正フィルタを形成する工程と、
前記基板と前記封止基板とを封止充填部材を介して貼り合わせて、前記基板と前記封止基板間で前記有機EL素子を封止する工程とを有することを特徴とする有機ELパネルの製造方法。 - 基板上に、少なくとも一方の電極が透明導電膜で形成された一対の電極間に少なくとも有機EL発光層を含む有機層を挟持してなる有機EL素子を形成した有機ELパネルの製造方法において、
前記基板上に、直接又は他の層を介して、前記有機EL素子から得られる発光スペクトルにおける一部の波長帯域を吸収し、前記有機ELパネルの出射光をCIExy色度図の白領域又は(x,y)=(0.31,0.316)を中心として半径0.1の円領域における任意の色度に変更する色度補正フィルタを形成する工程と、
該色度補正フィルタ上に、直接又は他の層を介して、前記一対の電極の内前記基板側の下部電極を前記透明導電膜で形成して前記有機EL素子を形成する工程とを有することを特徴とする有機ELパネルの製造方法。
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2004
- 2004-09-27 JP JP2004279938A patent/JP2006093021A/ja active Pending
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