JP2006090926A - Probe unit, and producing method and inspecting method of probe unit - Google Patents
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Abstract
Description
本発明はプローブユニット、プローブユニットの製造方法及び検査方法に関し、特にプローブユニットと検体との位置合わせに関する。 The present invention relates to a probe unit, a probe unit manufacturing method, and an inspection method, and more particularly, to alignment between a probe unit and a specimen.
従来、電子デバイスを検査するためのプローブユニットが知られている。特許文献1には、電子デバイスの電極に接触する導線がリソグラフィにより形成され基板の端部から突出していないプローブユニットが開示されている。このプローブユニットを用いて検体としての電子デバイスを検査する場合は、検体の電極とプローブユニットの導線とを顕微鏡等で観察しながら位置合わせすることは困難である。なぜならば、基板の電子デバイス側の面に設けられた導線を基板の検体側から観察しようとすると、検体が載置されるテーブルが邪魔になり、また、その導線を検体と反対側から観察しようとすると基板が邪魔になるからである。このような場合、プローブユニットの導線を検体の電極に大きな接触圧で接触させ、プローブユニットの導線により形成される接触痕跡の位置を検査することによってプローブユニットと検体との位置合わせをすることが考えられる。
Conventionally, a probe unit for inspecting an electronic device is known.
しかし、電極に形成される接触痕跡は、検体の電極における配線不良の原因となる。したがって、接触痕跡による配線不良が生じないように、プローブユニットの導線に接触する検査用パッドが電極とは別に検体に必要になる。このような検査用パッドは電極毎に必要になるため、基板の大型化により検体の製造コストが増大する。 However, the contact trace formed on the electrode causes a wiring failure in the electrode of the specimen. Therefore, a test pad that contacts the conducting wire of the probe unit is required for the specimen separately from the electrodes so that wiring failure due to contact traces does not occur. Since such a test pad is required for each electrode, the manufacturing cost of the specimen increases as the substrate size increases.
本発明は、上述の問題に鑑みて創作されたものであって、検査用パッドが電極毎に検体に設けられていなくても、接触痕跡を用いて電極に対する導線の位置を調整することができるプローブユニット、検査方法及びプローブユニットの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been created in view of the above-described problem, and even if a test pad is not provided for each electrode, the position of the conductor with respect to the electrode can be adjusted using the contact trace. It is an object of the present invention to provide a probe unit, an inspection method and a probe unit manufacturing method.
(1) 上記目的を達成するための本発明によるプローブユニットは、電極と前記電極に対して位置決めされた位置確認用パッドとを備える検体を検査するためのプローブユニットであって、基板と、前記基板上に形成され前記電極に接触する接触部を有する導線と、前記基板上に形成され、前記電極に前記接触部が接触している状態で前記接触部より狭い面積で前記位置確認用パッドに接触することにより前記位置確認用パッドに接触痕跡を形成する痕跡形成部と、を備える。 (1) A probe unit according to the present invention for achieving the above object is a probe unit for inspecting a specimen including an electrode and a position confirmation pad positioned with respect to the electrode, the substrate, A conductive wire having a contact portion formed on a substrate and in contact with the electrode; and the position confirmation pad formed on the substrate and having a smaller area than the contact portion in a state where the contact portion is in contact with the electrode. And a trace forming part that forms a contact trace on the position confirmation pad by contact.
導線の接触部は相対的に広い面積で電極と接触し、痕跡形成部は相対的に狭い面積で位置確認用パッドに接触するため、痕跡形成部が位置確認用パッドに接触する単位面積当たりの圧力よりも、導線の接触部が電極に接触する単位面積当たりの圧力を低くすることができる。したがって、本発明によると、導線の接触部が電極に接触している状態で痕跡形成部を位置確認用パッドに接触させても、電極に接触痕跡を形成することなく、位置確認用パッドに接触痕跡を形成することができる。したがって、本発明によると、プローブユニットの導線に接触するだけで実装時には配線されない検査用パッドが電極毎に検体に設けられていなくても、検査用パッド上の接触痕跡の有無や位置を検査した結果に応じて検体の電極に対するプローブユニットの導線の位置を調整することができる。その結果、本発明によると、配線用の電極にプローブユニットの導線を接触させて検体を検査できるため、小型化により検体の製造コストを低減できる。 The contact portion of the conductive wire is in contact with the electrode in a relatively large area, and the trace formation portion is in contact with the position confirmation pad in a relatively small area, so that the trace formation portion is in contact with the position confirmation pad. The pressure per unit area where the contact portion of the conductive wire contacts the electrode can be made lower than the pressure. Therefore, according to the present invention, even if the trace forming portion is brought into contact with the position confirmation pad in a state where the contact portion of the conducting wire is in contact with the electrode, the contact is made on the position confirmation pad without forming a contact trace on the electrode. Traces can be formed. Therefore, according to the present invention, the presence / absence and position of the contact trace on the test pad was inspected even if the test pad that is in contact with the lead wire of the probe unit and not wired at the time of mounting is not provided for each specimen. The position of the lead wire of the probe unit relative to the electrode of the specimen can be adjusted according to the result. As a result, according to the present invention, since the specimen can be examined by bringing the lead wire of the probe unit into contact with the wiring electrode, the manufacturing cost of the specimen can be reduced by downsizing.
(2) 前記痕跡形成部は、前記接触部より硬くてもよい。
痕跡形成部が硬いほど位置確認用パッドに接触痕跡が形成されやすい。
(3) 上記目的を達成するための本発明によるプローブユニットは、電極と前記電極に対して位置決めされた位置確認用パッドとを備える検体を検査するためのプローブユニットであって、基板と、前記基板上に形成され前記電極に接触する接触部を有する導線と、前記基板上に形成され、前記接触部より硬く、前記位置確認用パッドに接触することにより前記位置確認用パッドに接触痕跡を形成する痕跡形成部と、を備える。
(2) The trace formation part may be harder than the contact part.
The harder the trace formation portion, the easier it is for contact traces to be formed on the position confirmation pad.
(3) A probe unit according to the present invention for achieving the above object is a probe unit for inspecting a specimen including an electrode and a position confirmation pad positioned with respect to the electrode, the substrate; A conductor formed on the substrate and having a contact portion that contacts the electrode, and formed on the substrate, harder than the contact portion, and forms a contact trace on the position confirmation pad by contacting the position confirmation pad. And a trace forming part.
本発明によると、導線の接触部より痕跡形成部が硬いため、導線の接触部が電極に接触している状態で痕跡形成部を位置確認用パッドに接触させても、電極に接触痕跡を形成することなく、位置確認用パッドに接触痕跡を形成することができる。したがって、本発明によると、プローブユニットの導線に接触するだけで実装時には配線されない検査用パッドが電極毎に検体に設けられていなくても、検査用パッド上の接触痕跡の有無や位置を検査した結果に応じて検体の電極に対するプローブユニットの導線の位置を調整することができる。その結果、本発明によると、配線用の電極にプローブユニットの導線を接触させて検体を検査できるため、小型化により検体の製造コストを低減できる。 According to the present invention, since the trace formation part is harder than the contact part of the conductive wire, even if the trace formation part is in contact with the position confirmation pad while the contact part of the conductive wire is in contact with the electrode, a contact trace is formed on the electrode. Without this, contact marks can be formed on the position confirmation pad. Therefore, according to the present invention, the presence / absence and position of the contact trace on the test pad was inspected even if the test pad that is in contact with the lead wire of the probe unit and not wired at the time of mounting is not provided for each specimen. The position of the lead wire of the probe unit relative to the electrode of the specimen can be adjusted according to the result. As a result, according to the present invention, since the specimen can be examined by bringing the lead wire of the probe unit into contact with the wiring electrode, the manufacturing cost of the specimen can be reduced by downsizing.
(4) 前記痕跡形成部は、前記接触部より狭い面積で前記位置確認用パッドに接触してもよい。
痕跡形成部が位置確認用パッドに接触する面積が狭いほど、位置確認用パッドに接触痕跡が形成されやすい。
(4) The trace formation part may contact the position confirmation pad with an area smaller than the contact part.
As the area where the trace forming portion contacts the position confirmation pad is smaller, the contact trace is more likely to be formed on the position confirmation pad.
(5) 前記痕跡形成部は、前記接触部より先鋭であってもよい。
接触部より先鋭な痕跡形成部は、接触部より狭い面積で位置確認用パッドに接触する。
(6) 前記痕跡形成部は、前記接触部より粗い面であってもよい。
接触部より粗い面である痕跡形成部は、接触部より狭い面積で位置確認用パッドに接触する。
(5) The trace formation part may be sharper than the contact part.
The trace forming part sharper than the contact part comes into contact with the position confirmation pad in a smaller area than the contact part.
(6) The trace forming part may be a surface rougher than the contact part.
The trace forming portion, which is a rougher surface than the contact portion, contacts the position confirmation pad with a smaller area than the contact portion.
(7) 前記接触部は、前記導線の前記基板の外側に突出した部位に形成されていてもよい。
導線の基板の外側に突出した部位に形成された接触部を検体の電極に接触させることにより、導線の基板の外側に突出した部位が撓むため、接触部が電極に接触する単位面積当たりの圧力を抑制しつつ接触部と電極とを確実に接触させることができる。
(7) The said contact part may be formed in the site | part protruded outside the said board | substrate of the said conducting wire.
By contacting the contact portion formed on the portion of the lead wire that protrudes outside the substrate with the electrode of the specimen, the portion of the lead wire that protrudes outside the substrate bends, so the contact portion per unit area that contacts the electrode A contact part and an electrode can be made to contact reliably, suppressing a pressure.
(8) 前記基板は可撓性であってもよい。前記接触部が基板の真上に位置してもよい。
接触部が基板の真上に位置していても、可撓性の基板を用いることにより、接触部が電極に接触する単位面積当たりの圧力を抑制しつつ接触部と電極とを確実に接触させることができる。
(9) 上記目的を達成するための本発明によるプローブユニットの製造方法は、電極と前記電極に対して位置決めされた位置確認用パッドとを備える検体を検査するためのプローブユニットの製造方法であって、前記電極に接触する接触部を有する導線をリソグラフィにより形成する導線形成段階と、前記接触部より狭い面積で前記位置確認用パッドに接触することにより前記位置確認用パッドに接触痕跡を形成する痕跡形成部を前記基板上にリソグラフィにより形成する痕跡形成部形成段階と、を含む。
(8) The substrate may be flexible. The contact portion may be located immediately above the substrate.
Even if the contact portion is located directly above the substrate, by using a flexible substrate, the contact portion reliably contacts the electrode while suppressing the pressure per unit area where the contact portion contacts the electrode. be able to.
(9) A probe unit manufacturing method according to the present invention for achieving the above object is a method for manufacturing a probe unit for inspecting a specimen including an electrode and a position confirmation pad positioned with respect to the electrode. Forming a conductive wire having a contact portion in contact with the electrode by lithography, and forming a contact trace on the position confirmation pad by contacting the position confirmation pad with a smaller area than the contact portion. Forming a trace forming portion on the substrate by lithography.
導線をリソグラフィにより形成することにより導線の接触部の位置を微細に制御することができる。痕跡形成部をリソグラフィにより形成することにより、接触部に対する痕跡形成部の位置を微細に制御することができる。 By forming the conducting wire by lithography, the position of the contact portion of the conducting wire can be finely controlled. By forming the trace forming part by lithography, the position of the trace forming part with respect to the contact part can be finely controlled.
(10) 前記痕跡形成部形成段階において、前記痕跡形成部を前記接触部より先鋭にしてもよい。
痕跡形成部を先鋭にすることにより、痕跡形成部が位置確認用パッドに接触する面積を小さくすることができる。
(10) In the step of forming the trace forming part, the trace forming part may be sharper than the contact part.
By sharpening the trace forming portion, the area where the trace forming portion contacts the position confirmation pad can be reduced.
(11) 前記痕跡形成部形成段階において、前記痕跡形成部を前記接触部より粗い面に形成してもよい。
痕跡形成部を粗面化することにより、痕跡形成部が位置確認用パッドに接触する面積を小さくすることができる。
(11) In the step of forming the trace forming portion, the trace forming portion may be formed on a rougher surface than the contact portion.
By roughening the trace forming portion, the area where the trace forming portion contacts the position confirmation pad can be reduced.
(12) 上記目的を達成するための本発明によるプローブユニットの製造方法は、電極と前記電極に対して位置決めされた位置確認用パッドとを備える検体を検査するためのプローブユニットの製造方法であって、前記電極に接触する接触部を有する導線を基板上にリソグラフィにより形成する導線形成段階と、前記接触部より硬く、前記位置確認用パッドに接触することにより前記位置確認用パッドに接触痕跡を形成する痕跡形成部を前記基板上にリソグラフィにより形成する痕跡形成部形成段階と、を含む。 (12) A probe unit manufacturing method according to the present invention for achieving the above object is a probe unit manufacturing method for inspecting a specimen including an electrode and a position confirmation pad positioned with respect to the electrode. Forming a lead having a contact portion in contact with the electrode by lithography on a substrate, and forming a contact trace on the position check pad by contacting the position check pad, which is harder than the contact portion and contacting the position check pad. Forming a trace forming portion to be formed on the substrate by lithography.
導線をリソグラフィにより形成することにより導線の接触部の位置を微細に制御することができる。痕跡形成部をリソグラフィにより形成することにより、接触部に対する痕跡形成部の位置を微細に制御することができる。 By forming the conducting wire by lithography, the position of the contact portion of the conducting wire can be finely controlled. By forming the trace forming part by lithography, the position of the trace forming part with respect to the contact part can be finely controlled.
(13) 上記目的を達成するための検査方法は、電極と前記電極に対して位置決めされた位置確認用パッドとを備える検体の検査方法であって、プローブユニットの導線の接触部を前記電極に接触させ前記プローブユニットの痕跡形成部を前記接触部より狭い面積で前記位置確認用パッドに接触させることにより前記位置確認用パッドに形成された接触痕跡を検査する段階と、前記接触痕跡の検査結果に応じて前記検体に対する前記プローブユニットの位置を調整する段階と、前記接触部を前記電極に接触させ前記痕跡形成部を前記位置確認用パッドに接触させた状態で前記検体の導通を検査する段階と、を含む。 (13) A test method for achieving the above object is a test method for a specimen comprising an electrode and a position confirmation pad positioned with respect to the electrode, wherein the contact portion of the lead wire of the probe unit is used as the electrode. Inspecting the contact trace formed on the position confirmation pad by contacting the trace formation portion of the probe unit with the position confirmation pad in a smaller area than the contact portion, and the inspection result of the contact trace And adjusting the position of the probe unit relative to the specimen, and testing the continuity of the specimen in a state where the contact portion is in contact with the electrode and the trace forming portion is in contact with the position confirmation pad. And including.
本発明によると、相対的に広い面積で導線の接触部を電極に接触させ、相対的に狭い面積で位置確認用パッドに痕跡形成部を接触させるため、痕跡形成部が位置確認用パッドに接触する単位面積当たりの圧力よりも、導線の接触部が電極に接触する単位面積当たりの圧力を低くすることができる。したがって、本発明によると、導線の接触部が電極に接触している状態で痕跡形成部を位置確認用パッドに接触させても、電極に接触痕跡を形成することなく、位置確認用パッドに接触痕跡を形成することができる。したがって、本発明によると、プローブユニットの導線に接触するだけで実装時には配線されない検査用パッドが電極毎に検体に設けられていなくても、検査用パッド上の接触痕跡の有無や位置を検査した結果に応じて検体の電極に対するプローブユニットの導線の位置を調整することができる。その結果、本発明によると、配線用の電極にプローブユニットの導線を接触させて検体を検査できるため、小型化により検体の製造コストを低減できる。 According to the present invention, the contact portion of the conductive wire is brought into contact with the electrode over a relatively large area, and the trace formation portion is brought into contact with the position confirmation pad over a relatively small area. The pressure per unit area where the contact portion of the conducting wire contacts the electrode can be made lower than the pressure per unit area. Therefore, according to the present invention, even if the trace forming portion is brought into contact with the position confirmation pad in a state where the contact portion of the conducting wire is in contact with the electrode, the contact is made on the position confirmation pad without forming a contact trace on the electrode. Traces can be formed. Therefore, according to the present invention, the presence / absence and position of the contact trace on the test pad was inspected even if the test pad that is in contact with the lead wire of the probe unit and not wired at the time of mounting is not provided for each sample. The position of the lead wire of the probe unit relative to the electrode of the specimen can be adjusted according to the result. As a result, according to the present invention, since the specimen can be examined by bringing the lead wire of the probe unit into contact with the wiring electrode, the manufacturing cost of the specimen can be reduced by downsizing.
(14) 上記目的を達成するための検査方法は、電極と前記電極に対して位置決めされた位置確認用パッドとを備える検体の検査方法であって、プローブユニットの導線の接触部を前記電極に接触させ前記プローブユニットの前記接触部より硬い痕跡形成部を前記位置確認用パッドに接触させることにより前記位置確認用パッドに形成された接触痕跡を検査する段階と、前記接触痕跡の検査結果に応じて前記検体に対する前記プローブユニットの位置を調整する段階と、前記接触部を前記電極に接触させ前記痕跡形成部を前記位置確認用パッドに接触させた状態で前記検体の導通を検査する段階と、を含む。 (14) A test method for achieving the above object is a test method for a specimen comprising an electrode and a position confirmation pad positioned with respect to the electrode, wherein the contact portion of the lead wire of the probe unit is used as the electrode. Inspecting the contact trace formed on the position confirmation pad by contacting the position confirmation pad with a trace formation portion harder than the contact portion of the probe unit, and according to the inspection result of the contact trace Adjusting the position of the probe unit relative to the sample, and testing the continuity of the sample in a state where the contact portion is in contact with the electrode and the trace forming portion is in contact with the position confirmation pad, including.
本発明によると、導線の接触部より硬い痕跡形成部を検体の位置確認用パッドに接触させるため、導線の接触部が電極に接触している状態で痕跡形成部を位置確認用パッドに接触させても、電極に接触痕跡を形成することなく、位置確認用パッドに接触痕跡を形成することができる。したがって、本発明によると、プローブユニットの導線に接触するだけで実装時には配線されない検査用パッドが電極毎に検体に設けられていなくても、検査用パッド上の接触痕跡の有無や位置を検査した結果に応じて検体の電極に対するプローブユニットの導線の位置を調整することができる。その結果、本発明によると、配線用の電極にプローブユニットの導線を接触させて検体を検査できるため、小型化により検体の製造コストを低減できる。
尚、本明細書において、「・・・上に形成する」とは、技術上の阻害要因がない限りにおいて、「・・・上に直に形成する」と、「・・・上に中間物を介して形成する」の両方を含む意味とする。
また、請求項に記載された方法の各動作の順序は、技術上の阻害要因がない限り、記載順に限定されるものではなく、どのような順番で実行されてもよく、また同時に実行されてもよい。
According to the present invention, since the trace formation portion harder than the contact portion of the conductive wire is brought into contact with the specimen position confirmation pad, the trace formation portion is brought into contact with the position confirmation pad while the contact portion of the conductive wire is in contact with the electrode. However, the contact trace can be formed on the position confirmation pad without forming the contact trace on the electrode. Therefore, according to the present invention, the presence / absence and position of the contact trace on the test pad was inspected even if the test pad that is in contact with the lead wire of the probe unit and not wired at the time of mounting is not provided for each specimen. The position of the lead wire of the probe unit relative to the electrode of the specimen can be adjusted according to the result. As a result, according to the present invention, since the specimen can be examined by bringing the lead wire of the probe unit into contact with the wiring electrode, the manufacturing cost of the specimen can be reduced by downsizing.
In the present specification, “... formed on” means “... formed directly on” and “... on the intermediate” unless there is a technical obstruction factor. It is meant to include both “formed through”.
In addition, the order of each operation of the method described in the claims is not limited to the order of description unless there is a technical impediment, and may be executed in any order, and may be executed simultaneously. Also good.
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。各実施例において同一の符号が付された構成要素は、その符号が付された他の実施例の構成要素と対応する。
(第一実施例)
図1は、本発明の第一実施例によるプローブユニットを示す図である。
図1に示すように、第一実施例によるプローブユニット1は、樹脂フィルムなどからなる可撓性の基板10と、基板10上に所定の間隔で配列されている複数の導線14からなる導線群12と、導線群12の両側に位置するように基板10上に導線14とともに配列されている位置合わせ用導線16とを備える。導線14と位置合わせ用導線16とは同じ材料で構成してもよいし、位置合わせ用導線16を導線14よりも硬い材料で構成してもよい。位置合わせ用導線16を導線14よりも硬くすることにより、検体の位置確認用パッドに接触痕跡が形成され易くなる。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In each of the embodiments, the component having the same reference sign corresponds to the component of the other embodiment having the reference sign.
(First Example)
FIG. 1 is a diagram showing a probe unit according to a first embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 1, the
各導線14の先端部18は、請求項に記載の接触部に相当する。
位置合わせ用導線16の先端部20は、請求項に記載の痕跡形成部に相当し、導線14の先端部18に比べて先鋭である。先端部20は、例えば60°で交わる2つ側面と頂面とで形成される。位置合わせ用導線16の先端部20が導線14の先端部18より先鋭であるため、検体の検査時、位置合わせ用導線16の先端部20は検体の位置確認用パッドと導線14の先端部18よりも狭い面積で接触する。導線14及び位置合わせ用導線16の先端部18、20はともに基板10の真上に位置している。
The
The
図2及び図3(A)、(B)は、本発明の第一実施例によるプローブユニットを用いた検査方法を示す図である。尚、図3では、弾性体、プローブベース及びフレキシブルプリント配線板の図示を省略し、図3(B)ではさらに基板10の図示を省略している。後述する図5から図8も図3と同様にこれらの部材の図示を省略する。
図2に示すように、プローブユニット1を検体8の導通検査に使用する際、基板10とプローブベース92の間に弾性体90が狭持される状態でプローブユニット1はプローブベース92に固定される。以下、プローブユニット1、弾性体90及びプローブベース92で構成される検査装置のモジュールをプローブヘッド9という。プローブユニット1の各導線14には、導通検査装置本体(図示せず)と接続されているフレキシブルプリント配線板7を接続する。プローブヘッド9は、導通検査時にプローブユニット1が検体8に対して所定の角度で接触する姿勢で、導通検査装置本体(図示せず)に取り付けられる。検体8はテーブル120に載置される。導通検査装置本体は、テーブル120又はプローブヘッド9をテーブル120の盤面122と平行な方向に移動させることにより、検体8の電極80の位置とプローブユニット1の先端部18の位置とを調整する。導通検査装置本体は、テーブル120又はプローブヘッド9をテーブル120の盤面122と垂直な方向に移動させることにより、検体8の電極80にプローブユニット1の先端部18を接触させる。
2 and 3A and 3B are views showing an inspection method using the probe unit according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 3, the elastic body, the probe base, and the flexible printed wiring board are not shown, and in FIG. 3B, the
As shown in FIG. 2, when the
図2及び図3(A)、(B)に示すように、本実施例で検査される検体8は、基板84上に所定の間隔で線状の電極80が配列されている液晶パネル、LSIチップ等の電子デバイスである。検体8は、基板84上の複数の電極80の両側にそれぞれ位置確認用パッド82を備える。位置確認用パッド82は、電極80と同時にリソグラフィで形成する方法等により、電極80に対して位置決めされている。尚、位置確認用パッド82に接触痕跡を形成しやすくするため、位置確認用パッド82を電極80よりも軟らかい材質にしてもよい。
As shown in FIG. 2 and FIGS. 3A and 3B, the
検体8の検査は、一次接触段階と、位置合わせ段階と、二次接触段階と、信号入力段階とを含む。
一次接触段階では、テーブル120又はプローブヘッド9を移動させることによりプローブユニット1を検体8に接触させる。位置合わせ用導線16の先端部20が検体8の位置確認用パッド82に接触すると、図3(C)に示すように、位置確認用パッド82には接触痕跡86が形成される。
The examination of the
In the primary contact stage, the
位置合わせ段階では、位置確認用パッド82の表面を観察し、接触痕跡86の位置を計測する。次に接触痕跡86の位置に応じて、テーブル120又はプローブヘッド9を移動させることにより検体8の電極80の位置と導線14の先端部18の位置とを一致させる。
In the alignment step, the surface of the
二次接触段階では、テーブル120又はプローブヘッド9を移動させることにより電極80と導線14の先端部18とを接触させる。
信号入力段階では、フレキシブルプリント配線板7を介して検査信号をプローブユニット1に入力し、検体8の導通検査を行う。具体的には例えば、検査信号に応じて発光する液晶パネルの画素のパターンを検査する。
In the secondary contact stage, the
In the signal input stage, a test signal is input to the
ところで、導線によって形成される接触痕跡を検査することでプローブユニットと検体とを位置合わせする場合、導線の接触部によって形成される接触痕跡によって電極に配線不良が生じないようにするため、図4(A)に示すように、電極毎の検査用パッド104が検体100に必要である。検査用パッド104は、検体100の電極102の導通検査を目的として導線の接触部と接触し検査信号が入力される検査用のパッドである。検体100には、検査用パッド104が電極102とは別に設けられているため、プローブユニットと検体100との位置合わせを目的として検査用パッド104に接触痕跡106を形成することができる。また検査用パッド104は検査時のみに必要なものであるため、検査終了後、検体100の検査用パッド104近傍の部位100aは不要であり、分離されて除去される。以上説明したように、プローブユニットによる検査信号の入力のために検査用パッド104を検体100に形成する必要があるため、検体100が大型化され、検体100の製造コストが増大する。さらに検体100の検査終了後、検査用パッド100の近傍の不要な部位100aを除去する必要があることにより、検体100の製造コストが増大する。
By the way, when the probe unit and the specimen are aligned by inspecting the contact trace formed by the conducting wire, in order to prevent the wiring defect from occurring in the electrode due to the contact trace formed by the contact portion of the conducting wire, FIG. As shown to (A), the test |
これに対し本実施例によれば、位置合わせ用導線16の先端部20を導線14の先端部18に比べて先鋭に形成することにより、位置合わせ用導線16の先端部20と検体8の位置確認用パッド82とを導線14の先端部18が電極80に接触する面積より狭い面積で接触させる。この結果、位置合わせ用導線16の先端部20と位置確認用パッドとの接触圧よりも、導線14の先端部18と電極との接触圧が小さくなる。このため、導線14の先端部18が電極80に接触した状態で位置合わせ用導線16の先端部20を検体8の位置確認用パッド82に接触させても、電極80に接触痕跡を形成することなく、位置確認用パッド82に接触痕跡86を形成することができる。したがって本実施例によると、図4(B)に示すように、検体8に導通検査のための検査用パッドを電極毎に設ける必要がなく、小数の位置決め用パッド82を検体8に設ければよいだけなので、検体8を小型化できる。また本実施例によると、検査終了後に検体8の一部を除去する必要がない。したがって本実施例によると、検体8の製造コストを低減できる。
On the other hand, according to the present embodiment, the
また本実施例によると、位置確認用パッド82に接触痕跡86を形成するときに検体8の電極80に接触痕跡を形成しないことにより、電極80の接触痕跡による配線不良を防止することができ、検体8の品質を向上させることができる。
尚、図5(A)に示すように、導線14の先端部18及び位置合わせ用導線16の先端部20とを基板10から突出させてもよい。導線14の先端部18及び位置合わせ用導線16の先端部20が基板10から突出している場合、導線14と位置合わせ用導線16とは互いに独立に撓むことができる。したがってこの場合、導線14の先端部18と電極80との接触圧と、位置合わせ用導線16の先端部20と位置確認用パッド82との接触圧との差を大きくすることができる。
Further, according to the present embodiment, when the
As shown in FIG. 5A, the
また検体8は、上述した液晶パネルに限らず、どんなものであってもよい。例えば図6(A)、(B)に示すように、電極80がブロック状であってもよい。
また図7(A)、(B)に示すように、位置合わせ導線16及び検体8の位置確認用パッド82はそれぞれ1つだけでもよい。
また図8(A)、(B)に示すように、位置合わせ導線16が基板10上で導線群12の配列方向の中央付近に設けられていてもよい。
Further, the
Further, as shown in FIGS. 7A and 7B, only one
Further, as shown in FIGS. 8A and 8B, the
図9及び図10は、本発明の第一実施例によるプローブユニット1を製造する方法を示す図である。
はじめに図9(A1)、(B1)に示すように、基板10上に導体膜下地層30をスパッタ、蒸着などにより成長させる。基板10には例えば部分安定化ジルコニアからなる厚さ1.2mmの基板を用いる。導体膜下地層30は例えば、厚さ200ÅのTi層と厚さ1500ÅのNi層とからなる複層で構成する。Ni層の代わりに、NiW層、NiFe層、NiMo層などを用いてもよい。
9 and 10 are views showing a method of manufacturing the
First, as shown in FIGS. 9A1 and 9B1, a
次に図9(A2)、(B2)に示すように、導線群12を形成する部位に第一開口部34を有し位置合わせ用導線16を形成する部位に第二開口部36を有するレジスト膜32を形成する。具体的には導体膜下地層30上にレジストを塗布し、導線群12及び位置合わせ用導線16のパターンに対応するマスクを用いて露光した後現像し、第一開口部34及び第二開口部36を有するレジスト膜32を形成する。
Next, as shown in FIGS. 9A2 and 9B2, a resist having a
次に図9(A3)、(B3)に示すように、第一開口部34及び第二開口部36内にめっきによって導体膜38を成長させる。導体膜38は例えば厚さ20μmのNi膜で構成する。
次に図10(A1)、(B1)に示すように、レジスト膜32を除去する。
次に図10(A2)、(B2)に示すように、露出している導体膜下地層30をミリングによって除去する。
Next, as shown in FIGS. 9A3 and 9B3, a
Next, as shown in FIGS. 10A1 and 10B1, the resist
Next, as shown in FIGS. 10A2 and 10B2, the exposed
次に図10(A3)、(B3)に示すように、基板10をダイシングによって切断し不要な部位を除去すると、プローブユニット1が得られる。プローブユニット1の導線群12及び位置合わせ用導線16は導体膜下地層30及び導体膜38からなる。
本実施例によると、導線群12及び位置合わせ用導線16を構成する導体膜38をリソグラフィによって形成することにより、導線14の接触部としての先端部18の位置を微細に制御することができ、位置合わせ用導線16の痕跡形成部としての先端部20の位置を導線14の先端部18に対して微細に制御することができる。
Next, as shown in FIGS. 10A3 and 10B3, when the
According to the present embodiment, by forming the
尚、基板10を研磨で薄くする工程を追加してもよい。例えば基板10を約0.2mmにしてもよい。基板10を薄くすると、基板10の可撓性を増すことができるため、導線14の先端部18と検体の電極とを低い接触圧で確実に接触させることができる。特に、検体の電極表面に凹凸がある場合でも導線14の先端部18と電極とを確実に接触させることができる。
Note that a step of thinning the
また、導線群12及び位置合わせ用導線16を別工程で形成してもよい。その場合、導線群12を構成する膜の成長時間と位置合わせ導線16を構成する膜の成長時間とを個別に調整したり、成膜後に膜を研磨したりすることにより、導線14の先端部18の高さと位置合わせ用導線16の先端部20の高さとを調整する。
Moreover, you may form the
(第二実施例)
図11は、本発明の第二実施例によるプローブユニットを示す図である。
図11に示すように、第二実施例によるプローブユニット2では、基板10の一側の部位11が他の部位に比べて薄く形成されている。導線群12及び位置合わせ用導線16はともに基部側が基板10上に直に形成され、先端部18、20側が基板10の薄い部位11の表面から離れ、先端部18、20が基板10の薄い部位11の真上に位置している。このため、導線14と位置合わせ用導線16とは、基板10に接触するまで互いに独立に撓むことができる。したがって第二実施例によると、導線14の先端部18と電極との接触圧と、位置合わせ用導線16の先端部20と位置確認用パッド82との接触圧との差を、第一実施例に比べて大きくすることができる。
(Second embodiment)
FIG. 11 shows a probe unit according to the second embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 11, in the
図12から図14は、本発明の第二実施例によるプローブユニット2の製造する方法を示す図である。
はじめに図12(A1)、(B1)に示すように、基板10に樋状の凹部40を形成した後、基板10上に犠牲膜下地層42を成長させる。具体的には例えばガラスセラミックからなる基板10に深さ150μmの凹部40を形成した後、Cu層などの犠牲膜下地層42をスパッタによって厚さ3000Åに成長させる。Cu層を成長させる前に密着層を成膜してもよい。密着層には例えば厚さ300ÅのCr層、Ti層などを用いる。
12 to 14 are views showing a method of manufacturing the
First, as shown in FIGS. 12A1 and 12B1, after forming a bowl-shaped
次に図12(A2)、(B2)に示すように、犠牲膜下地層42上に犠牲膜44を凹部40が犠牲膜44で充填されるように形成する。犠牲膜44には例えばCuを用いる。めっきにより犠牲膜44を形成してもよいし、ペーストを塗布することにより犠牲膜44を形成してもよい。
次に図12(A3)、(B3)に示すように、基板10が露出するまで犠牲膜44を研磨し、基板10、犠牲膜下地層42及び犠牲膜44で構成される平坦な研磨面46を形成する。
Next, as shown in FIGS. 12A2 and 12B2, a
Next, as shown in FIGS. 12A3 and 12B3, the
次に図13(A1)、(B1)に示すように、研磨面46上に導体膜下地層30を成長させる。具体的には図9(A1)、(B1)に示す工程に準じる。
次に図9(A2)、(B2)から図10(A2)、(B2)に示す工程に準じて、導体膜38を形成した後、露出した導体膜下地層30を除去する。
次に図13(A2)、(B2)に示すように、犠牲膜44を除去する。
Next, as shown in FIGS. 13A1 and 13B1, a
Next, after the
Next, as shown in FIGS. 13A2 and 13B2, the
次に図13(A3)、(B3)に示すように、犠牲膜下地層42を除去する。犠牲膜下地層42がCrからなる場合、硝酸第二セリウムアンモニウムで除去する。
次に図14(A)、(B)に示すように、基板10をダイシングによって切断し不要な部位を除去すると、プローブユニット2が得られる。
Next, as shown in FIGS. 13A3 and 13B3, the sacrificial
Next, as shown in FIGS. 14A and 14B, when the
(第三実施例)
図15は、本発明によるプローブユニットの第三実施例を示す図である。
図15に示すように、第三実施例によるプローブユニット3では、位置合わせ用導線16の先端部20が導線群12の先端位置よりも基板10から突出している。このため第三実施例によると、導線14の先端部18と電極との接触圧と、位置合わせ用導線16の先端部20と位置確認用パッド82との接触圧との差を、第二実施例に比べて大きくすることができる。
(Third embodiment)
FIG. 15 is a view showing a third embodiment of the probe unit according to the present invention.
As shown in FIG. 15, in the
(第四実施例)
図16は、本発明の第四実施例によるプローブユニットを示す図である。
図16に示すように、第四実施例によるプローブユニット4では、基板10は外側ほど薄くなるように形成された外縁部13を有する。導線群12の先端及び位置合わせ用導線16の先端が基板10の外側に突出している。
(Fourth embodiment)
FIG. 16 shows a probe unit according to the fourth embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 16, in the
導線14の突出部位と位置合わせ用導線16の突出部位とは実質的に同一の形状である。各導線14の先端近傍に第一バンプ22が形成されている。第一バンプ22は請求項に記載の接触部に相当する。第一バンプ22は、断面が台形であって、導線14の長手方向軸線と垂直な方向に突出した四角錐台形状である。
位置合わせ用導線16の先端近傍に第二バンプ24が形成されている。第二バンプ24は請求項に記載の痕跡形成部に相当する。第二バンプ24は、断面が三角形であって、位置合わせ用導線16の長手方向軸線と垂直な方向に突出している。第二バンプ24が第一バンプ22よりも先鋭であるため、第二バンプ24は第一バンプ22よりも狭い面積で検体の位置確認用パッドに接触する。尚、第一バンプ22の導線14からの高さと第二バンプ24の位置合わせ用導線16からの高さにばらつきがあっても、導線14及び位置合わせ用導線16が撓むことで、第一バンプ22を検体の電極に接触させ、第二バンプ24を検体の位置確認パッドに接触させることができる。
The protruding portion of the
A
また、導線群12及び位置合わせ用導線16を基板10の外側に突出させないように基板10上に直に形成し、導線14の第一バンプ22と位置合わせ用導線16の第二バンプ24とを基板10の真上に配置してもよい。また、基板10上に位置合わせ用導線16を形成せず、第二バンプ24を基板10上に直に形成してもよい。
図17(A)、(B)は、本発明の第四実施例によるプローブユニットを用いた検査方法を示す図である。図17(A)、(B)に示すように、第一バンプ22が導線14上に形成され第二バンプ24が位置合わせ用導線16上に形成されているプローブユニット4を用いることにより、プローブユニット4と検体8とをプローブユニット4の基板10と検体8の基板84とが平行な状態で接触させることができる。第二バンプ24が第一バンプ22よりも先鋭であるため、電極80に接触痕跡を形成せずに位置確認用パッド82に接触痕跡86(図17(C)参照)を形成することができる。
Further, the
17A and 17B are views showing an inspection method using the probe unit according to the fourth embodiment of the present invention. As shown in FIGS. 17A and 17B, by using a
図18及び図19は、本発明の第四実施例によるプローブユニット4を製造する方法を示す図である。
はじめに図12(A1)、(B1)から図13(A1)、(B1)に示す工程に準じて、犠牲膜下地層42、犠牲膜44及び基板10で構成される研磨面46上に導体膜下地層30を形成する。その後、図9(A2)、(B2)から図10(A1)、(B1)に示す工程に準じて、導体膜下地層30上に第一導体膜38を形成する。
18 and 19 are views showing a method of manufacturing the
First, in accordance with the steps shown in FIGS. 12A1 and 12B1 to FIGS. 13A1 and 13B1, a conductive film is formed on the polishing
次に図18(A1)、(B1)に示すように、導線14の第一バンプ22を形成する部位に第一開口部50を有し位置合わせ用導線16の第二バンプ24を形成する部位に第二開口部52を有するレジスト膜48を導体膜下地層30及び第一導体膜38上に形成した後、第一開口部50及び第二開口部52内に第二導体膜54をめっきで成長させる。
具体的には導体膜下地層30及び第一導体膜38上にレジストを塗布し、第一バンプ22および第二バンプ24のパターンに対応するマスクを用いて露光した後現像し、第一開口部50及び第二開口部52を有するレジスト膜48を形成する。第二導体膜54にはNiや、NiFeなどを用いる。
Next, as shown in FIGS. 18A1 and 18B1, a portion where the
Specifically, a resist is applied on the
尚本工程は、第一導体膜38を形成するためのリソグラフィで形成されたレジスト膜32を除去してから行ってもよいし、除去せずに行ってもよい。
次に図18(A2)、(B2)に示すように、第二導体膜54の表面近傍部位が露出するまでレジスト膜48を除去する。具体的には例えばO2ガスを用いた反応性イオンエッチングによってレジスト膜48を除去する。
This step may be performed after removing the resist
Next, as shown in FIGS. 18A2 and 18B2, the resist
次に図18(A3)、(B3)に示すように、第二導体膜54の露出部位を一部除去することにより第二導体膜54を先鋭化する。具体的にはArイオンを用いたイオンミリングで第二導体膜54を先鋭化する。
次に図19(A1)、(B1)に示すように、レジスト膜48をアセトンやNMP(N−メチル−2−ピロリドン)を用いて除去した後、露出した導体膜下地層30を除去する。さらに、基板10の凹部40の反対側から犠牲膜44中に至るまでダイサーで切削し切れ込み56を入れることで、基板10を必要な部位10aと不要な部位10bとに分割する。
Next, as shown in FIGS. 18A3 and 18B3, the
Next, as shown in FIGS. 19A1 and 19B1, the resist
次に図19(A2)、(B2)に示すように、犠牲膜44をエッチング液などで除去することにより、基板10の不要な部位10bを分離し除去する。
次に図19(A3)、(B3)に示すように、犠牲膜下地層42を除去すると、プローブユニット4が得られる。犠牲膜下地層42がCrからなる場合、硝酸第二セリウムアンモニウムで除去する。本実施例では、導線14の第一バンプ22と位置合わせ用導線16の第二バンプ24とはともに第二導体膜54から構成される。
Next, as shown in FIGS. 19A2 and 19B2, by removing the
Next, as shown in FIGS. 19A3 and 19B3, when the sacrificial
本実施例によると、導線群12を構成する第一導体膜38をリソグラフィで形成し、接触部としての第一バンプ22を構成する第二導体膜54をリソグラフィで形成することにより、導線群12及び第一バンプ22の位置を微細に制御することができる。また位置合わせ用導線16を構成する第一導体膜38をリソグラフィで形成し、痕跡形成部としての第二バンプ24を構成する第二導体膜54をリソグラフィで形成することにより、導線群12に対する位置合わせ用導線16の位置を微細に制御することができ、第一バンプ22に対する第二バンプ24の位置を微細に制御することができる。
According to the present embodiment, the
図20は、本発明の第四実施例によるプローブユニット4とフレキシブルプリント配線板との接続方法を説明するための図である。
図20に示すように、フレキシブルプリント配線板7はその高い柔軟性により折り曲げ可能であって、ポリイミドからなる絶縁基板70上にCu配線72が形成され、特定部位がフォトソルダーレジストなどの絶縁膜74で覆われ、さらに補強基板76が設けられている。また、Cu配線72の電極78表面はAuめっき層71で覆われている。プローブユニット4にフレキシブルプリント配線板7を接続するには、プローブユニット4の導線12の第一バンプ22と反対側の一端上に設けられた電極58と、フレキシブルプリント配線板7のCu配線72の電極78とを異方性導電フィルム73によって接続する。位置合わせ用導線16は、検体とプローブユニット4との位置合わせを目的として形成され検体の導通検査には使用されないため、フレキシブルプリント配線板7のCu配線72と接続しなくともよい。
FIG. 20 is a view for explaining a method of connecting the
As shown in FIG. 20, the flexible printed
(第五及び第六実施例)
図21は、本発明の第五実施例によるプローブユニットを示す図である。図22は、本発明の第六実施例によるプローブユニットを示す図である。
第五実施例によるプローブユニット5では、位置合わせ用導線16の第二バンプ24は導線14の第一バンプ22よりも硬い。図21(A)では第二バンプ24に相当する部位にハッチングを付している。第一バンプ22、第二バンプ24は、図21に示すように同一の形状であってもよいし、第二バンプ24を第一バンプ22より先鋭にしてもよい。つまり、第二バンプ24が第一バンプ22と等しい面積で検体の位置確認用パッドと接触するようにしてもよいし、又は第二バンプ24が第一バンプ22よりも狭い面積で位置確認用パッドと接触するようにしてもよい。
(Fifth and sixth examples)
FIG. 21 shows a probe unit according to the fifth embodiment of the present invention. FIG. 22 shows a probe unit according to the sixth embodiment of the present invention.
In the
第六実施例によるプローブユニット6では、位置合わせ用導線16の硬い第二バンプ24の先端面28が導線14の第一バンプ22の先端面26よりも粗い面であるため、第二バンプ24は第一バンプ22よりも狭い面積で検体の位置確認パッドと接触する。このため本実施例によると、検体の電極に接触痕跡を形成することなく検体の位置確認用パッドに接触痕跡を形成することができる。
In the
図23(A)、(B)は、本発明による第五実施例によるプローブユニットを用いた検査方法を示す図である。図23(A)、(B)に示すように、本実施例によると、第一バンプ22を検体8の電極80に接触させた状態で、第一バンプ22よりも硬い第二バンプ24と検体8の位置確認用パッド82とを接触させることにより、検体8の電極80に接触痕跡を形成させずに位置確認用パッド82に接触痕跡86(図23(C)参照)を形成することができる。また、第二バンプ24を第一バンプ22よりも狭い面積で検体8の位置確認用パッド82に接触させれば、第二バンプ24と位置確認用パッド82との接触圧をさらに大きくすることができるため、位置確認用パッド82に接触痕跡を形成し易い。
FIGS. 23A and 23B are diagrams showing an inspection method using the probe unit according to the fifth embodiment of the present invention. As shown in FIGS. 23A and 23B, according to the present embodiment, the
図24は、本発明の第五及び第六実施例によるプローブユニット5、6を製造する方法を示す図である。
第五実施例によるプローブユニット5の製造方法では、はじめに図12(A1)、(B1)から図13(A1)、(B1)に示す工程に準じて、犠牲膜下地層42、犠牲膜44及び基板10で構成される研磨面46上に導体膜下地層30を形成する。その後、図9(A2)、(B2)から図10(A1)、(B1)に示す工程に準じて、導体膜下地層30上に第一導体膜38を形成する。
FIG. 24 is a diagram showing a method of manufacturing the
In the method of manufacturing the
次に図24(A1)、(B1)に示すように、導線14の第一バンプ22を形成する部位に開口部50を有するレジスト膜60を導体膜下地層30及び第一導体膜38上に形成した後、開口部50内に第二導体膜54をめっきで成長させる。具体的には、導体膜下地層30及び第一導体膜38上にレジストを塗布し、第一バンプ22のパターンに対応するマスクを用いて露光した後現像し、開口部50を有するレジスト膜60を形成する。第二導体膜54にはNiや、NiFeなどを用いる。
Next, as shown in FIGS. 24A1 and 24B1, a resist
尚本工程は、第一導体膜38を形成するためのリソグラフィで形成されたレジスト膜32を除去してから行ってもよいし、除去せずに行ってもよい。
次に図24(A2)、(B2)に示すように、レジスト膜60を除去した後、位置合わせ用導線16の第二バンプ24を形成する部位に開口部52を有するレジスト膜62を導体膜下地層30、第一導体膜38及び第二導体膜54上に形成し、開口部52内に高硬度膜64をめっきで成長させる。具体的には、導体膜下地層30、第一導体膜38及び第二導体膜54上にレジストを塗布し、第二バンプ24のパターンに対応するマスクを用いて露光した後現像し、開口部52を有するレジスト膜62を形成する。高硬度膜64は、第二導体膜54よりも硬い膜であり、例えばRhからなる。Rhの代わりに、NiW、NiFe、NiB、NiMn、NiPなどを用いてもよい。
This step may be performed after removing the resist
Next, as shown in FIGS. 24 (A2) and (B2), after removing the resist
次に図18(A2)、(B2)から図19(A3)、(B3)に示す工程に準じて、第二導体膜54及び高硬度膜64を先鋭化し、基板10を必要な部位と不要な部位とに分割してから犠牲膜44及び犠牲膜下地層42を除去すると、プローブユニット5が得られる。本実施例によれば、第一バンプ22が第二導体膜54で構成され、第二バンプ24が高硬度膜64で構成される。
Next, the
第六実施例によるプローブユニット6の製造方法では、図24(A2)、(B2)に示す工程を行った後、図24(A3)、(B3)に示すように高硬度膜64を塩化第二鉄でエッチングし、その表面を粗面化する。それ以降の工程は第五実施例によるプローブユニット5の製造方法と同様である。
第五及び第六実施例によると、導線群12を構成する第一導体膜38をリソグラフィで形成し、第一バンプ22を構成する第二導体膜54をリソグラフィで形成することにより、導線群12及び第一バンプ22の位置を微細に制御することができる。また位置合わせ用導線16を構成する第一導体膜38をリソグラフィで形成し、第二バンプ22を構成する高硬度膜64をリソグラフィで形成することにより、導線群12に対する位置合わせ用導線16の位置を微細に制御することができ、第一バンプ22に対する第二バンプ24の位置を微細に制御することができる。
In the method of manufacturing the
According to the fifth and sixth embodiments, the
さらに第五及び第六実施例によると、位置合わせ用導線16の第二バンプ24を構成する高硬度膜64を先鋭化することにより、第二バンプ24と検体の位置確認用パッドとの接触面積を小さくすることができる。
また第六実施例によると、位置合わせ用導線16の第二バンプ24を構成する高硬度膜64の表面を粗面化することにより、第二バンプ24と検体の位置確認用パッドとの接触面積を小さくすることができる。
Further, according to the fifth and sixth embodiments, the
Further, according to the sixth embodiment, the surface area of the
1〜6 プローブユニット、8 検体、10 基板、14 導線、18 先端部(接触部)、20 先端部(痕跡形成部)、22 第一バンプ(接触部)、24 第二バンプ(痕跡形成部)、80 電極、82 位置確認用パッド、86 接触痕跡 1-6 Probe unit, 8 specimens, 10 substrate, 14 conductor, 18 tip (contact part), 20 tip (trace forming part), 22 first bump (contact part), 24 second bump (trace forming part) , 80 electrode, 82 position confirmation pad, 86 contact trace
Claims (14)
基板と、
前記基板上に形成され前記電極に接触する接触部を有する導線と、
前記基板上に形成され、前記電極に前記接触部が接触している状態で前記接触部より狭い面積で前記位置確認用パッドに接触することにより前記位置確認用パッドに接触痕跡を形成する痕跡形成部と、
を備えることを特徴とするプローブユニット。 A probe unit for inspecting a specimen comprising an electrode and a position confirmation pad positioned with respect to the electrode,
A substrate,
A conductor having a contact portion formed on the substrate and in contact with the electrode;
Forming traces formed on the substrate and forming contact traces on the position confirmation pads by contacting the position confirmation pads with a smaller area than the contact parts in a state where the contact parts are in contact with the electrodes. And
A probe unit comprising:
基板と、
前記基板上に形成され前記電極に接触する接触部を有する導線と、
前記基板上に形成され、前記接触部より硬く、前記電極に前記接触部が接触している状態で前記位置確認用パッドに接触することにより前記位置確認用パッドに接触痕跡を形成する痕跡形成部と、
を備えることを特徴とするプローブユニット。 A probe unit for inspecting a specimen comprising an electrode and a position confirmation pad positioned with respect to the electrode,
A substrate,
A conductor having a contact portion formed on the substrate and in contact with the electrode;
A trace forming portion formed on the substrate, harder than the contact portion, and forming a contact trace on the position check pad by contacting the position check pad in a state where the contact portion is in contact with the electrode. When,
A probe unit comprising:
前記接触部は前記基板の真上に位置することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載のプローブユニット。 The substrate is flexible;
The probe unit according to claim 1, wherein the contact portion is located immediately above the substrate.
前記電極に接触する接触部を有する導線を基板上にリソグラフィにより形成する導線形成段階と、
前記接触部より狭い面積で前記位置確認用パッドに接触することにより前記位置確認用パッドに接触痕跡を形成する痕跡形成部を前記基板上にリソグラフィにより形成する痕跡形成部形成段階と、
を含むことを特徴とするプローブユニットの製造方法。 A method of manufacturing a probe unit for inspecting a specimen comprising an electrode and a position confirmation pad positioned with respect to the electrode,
A lead forming step of forming a lead having a contact portion in contact with the electrode by lithography on a substrate;
A trace formation part forming step of forming a trace formation part on the substrate by lithography on the position confirmation pad by contacting the position confirmation pad with a smaller area than the contact part; and
A method for manufacturing a probe unit comprising:
前記電極に接触する接触部を有する導線を基板上にリソグラフィにより形成する導線形成段階と、
前記接触部より硬く、前記位置確認用パッドに接触することにより前記位置確認用パッドに接触痕跡を形成する痕跡形成部を前記基板上にリソグラフィにより形成する痕跡形成部形成段階と、
を含むことを特徴とするプローブユニットの製造方法。 A method of manufacturing a probe unit for inspecting a specimen comprising an electrode and a position confirmation pad positioned with respect to the electrode,
A lead forming step of forming a lead having a contact portion in contact with the electrode by lithography on a substrate;
A trace formation part forming step of forming a trace formation part on the substrate by lithography, which is harder than the contact part and forms a contact trace on the position confirmation pad by contacting the position confirmation pad;
A method for manufacturing a probe unit comprising:
プローブユニットの導線の接触部を前記電極に接触させ前記プローブユニットの痕跡形成部を前記接触部より狭い面積で前記位置確認用パッドに接触させることにより前記位置確認用パッドに形成された接触痕跡を検査する段階と、
前記接触痕跡の検査結果に応じて前記検体に対する前記プローブユニットの位置を調整する段階と、
前記接触部を前記電極に接触させ前記痕跡形成部を前記位置確認用パッドに接触させた状態で前記検体の導通を検査する段階と、
を含むことを特徴とする検査方法。 A specimen inspection method comprising an electrode and a position confirmation pad positioned with respect to the electrode,
Contact traces formed on the position confirmation pad by contacting a contact portion of the lead wire of the probe unit with the electrode and bringing a trace formation portion of the probe unit into contact with the position confirmation pad in a smaller area than the contact portion. The stage of inspection;
Adjusting the position of the probe unit relative to the specimen according to the test result of the contact trace;
Testing the continuity of the specimen in a state where the contact portion is in contact with the electrode and the trace forming portion is in contact with the position confirmation pad;
The inspection method characterized by including.
プローブユニットの導線の接触部を前記電極に接触させ前記プローブユニットの前記接触部より硬い痕跡形成部を前記位置確認用パッドに接触させることにより前記位置確認用パッドに形成された接触痕跡を検査する段階と、
前記接触痕跡の検査結果に応じて前記検体に対する前記プローブユニットの位置を調整する段階と、
前記接触部を前記電極に接触させ前記痕跡形成部を前記位置確認用パッドに接触させた状態で前記検体の導通を検査する段階と、
を含むことを特徴とする検査方法。
A specimen inspection method comprising an electrode and a position confirmation pad positioned with respect to the electrode,
The contact trace formed on the position confirmation pad is inspected by bringing the contact portion of the lead wire of the probe unit into contact with the electrode and bringing the trace formation portion harder than the contact portion of the probe unit into contact with the position confirmation pad. Stages,
Adjusting the position of the probe unit relative to the specimen according to the test result of the contact trace;
Testing the continuity of the specimen in a state where the contact portion is in contact with the electrode and the trace forming portion is in contact with the position confirmation pad;
The inspection method characterized by including.
Priority Applications (1)
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JP2004278898A JP2006090926A (en) | 2004-09-27 | 2004-09-27 | Probe unit, and producing method and inspecting method of probe unit |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2008034562A (en) * | 2006-07-27 | 2008-02-14 | Yamaha Corp | Method for forming bump for electric connection |
JP2019505791A (en) * | 2016-01-15 | 2019-02-28 | カスケード マイクロテック インコーポレイテッドCascade Microtech,Incorporated | Probe with fiducial mark, probe system including the probe, and related method |
-
2004
- 2004-09-27 JP JP2004278898A patent/JP2006090926A/en active Pending
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