JP2006073912A - 半導体発光装置およびその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】光取り出し効率を高くして、輝度の向上を図ることができる半導体発光装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】フェイスダウンでサブマウント素子4に実装された半導体発光素子3と、半導体発光素子3が搭載されたカップ部2cと、半導体発光素子3を封止した第1の樹脂部5aおよび第2の樹脂部5bとを有する半導体発光装置1において、第1の樹脂部5aは、少なくとも半導体発光素子3の発光層より下部に設けられた電極部分を覆い、かつ半導体発光素子3の主光取り出し面を覆わないように形成され、第2の樹脂部5bは、第1の樹脂部5aの上面に形成され、半導体発光素子3を覆うように形成され、第1の樹脂部5aの屈折率をN1、第2の樹脂部5bの屈折率をN2、半導体発光素子3の屈折率をN3としたときに、N1<N3の関係と、N1<N2の関係を有する。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体発光素子が樹脂により封止される半導体発光装置およびその製造方法に関する。
従来の半導体発光装置は、半導体発光素子を保護するためや、配光特性を調整するために樹脂で半導体素子を封止している。また、白色を発光する半導体発光装置は、青色を発光する半導体発光素子から出射された光を波長変換して白色とするための蛍光体を、半導体発光素子を封止する樹脂に含有させている。
このような樹脂で半導体発光素子を封止した半導体発光装置が特許文献1に記載されている。この特許文献1に記載の半導体発光装置を図5に示す。図5に示される従来の半導体発光装置は、屈折率N1の半導体発光素子10が屈折率N2の第1の樹脂部13で封止され、更にその外側を屈折率N3の第2の樹脂部14で封止されている。そして、それぞれの屈折率の関係がN1>N2>N3となるようにしたものである。
このような構成とすることで、半導体発光素子と空気との屈折率との差がなくなり、反射率の低減が可能となる。
特開平10−65220号公報
図5に示される従来の半導体発光装置は、半導体発光素子10がリードフレーム11と接続するために図示されていない電極が設けられていると思われる。電極は光吸収性を有しており、特に電極が金で形成されていると光吸収性が高いので半導体発光素子の光取り出し効率が低下する。つまり、基板に形成された配線パターンや、リードフレームや、サブマウント素子に、p側電極が形成された面を表面として、その表面を下にした半導体発光素子をフェイスダウンでフリップチップ実装すると、発光層より側方または下方向へ出射された光は、発光層より下部に設けられたp側電極に少なからず吸収されることになり、光取り出し効率が低下することになる。
また、半導体発光素子が絶縁基板で形成されている場合には、n側電極も発光層の下に位置することになり、半導体発光素子の発光層より側方または下方へ出射された光がp側電極とn側電極に吸収されるので、より光取り出し効率が低下することになる。
そこで本発明は、光取り出し効率を高くして、輝度の向上を図ることができる半導体発光装置およびその製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、フェイスダウンで実装された半導体発光素子と、前記半導体発光素子が搭載されたカップ部と、前記半導体発光素子を封止した樹脂部とを有する半導体発光装置において、前記樹脂部は、少なくとも前記半導体発光素子の発光層より下部に設けられた電極を覆い、かつ前記半導体発光素子の主光取り出し面を覆わないように形成された第1の樹脂部と、前記第1の樹脂部の上面に形成され、前記半導体発光素子を覆うように形成された第2の樹脂部からなり、前記第1の樹脂部の屈折率をN1、前記第2の樹脂部の屈折率をN2、前記半導体発光素子の屈折率をN3としたときに、N1<N3の関係と、N1<N2の関係を有することを特徴とする。
本発明の半導体発光装置は、半導体発光素子の発光層から第1の樹脂部の方向へ出射された光は、第1の樹脂部の屈折率をN1、半導体発光素子の屈折率をN3としたときに、N1<N3の関係としているので、半導体発光素子と第1の樹脂部との界面で反射しやすく、また臨界角をより小さくすることで第1の樹脂部へ光を透過しにくくなるため、電極などによる光の吸収を少なくすることができる。
また第2の樹脂部の屈折率をN2としたときに、N1<N2の関係となるようにしたことで、第1の樹脂部から第2の樹脂部へ通過する光がその界面で透過しやすく、反射し難くなるので、第2の樹脂部を通過することができる。
よって、光取り出し効率が高くできるので、高輝度とすることができる。
本願の第1の発明は、フェイスダウンで実装された半導体発光素子と、半導体発光素子が搭載されたカップ部と、半導体発光素子を封止した樹脂部とを有する半導体発光装置において、樹脂部は、少なくとも半導体発光素子の発光層より下部に設けられた電極を覆い、かつ半導体発光素子の主光取り出し面を覆わないように形成された第1の樹脂部と、第1の樹脂部の上面に形成され、半導体発光素子を覆うように形成された第2の樹脂部からなり、第1の樹脂部の屈折率をN1、第2の樹脂部の屈折率をN2、半導体発光素子の屈折率をN3としたときに、N1<N3の関係と、N1<N2の関係を有することを特徴としたものである。
第1の樹脂層の屈折率N1と、半導体発光素子の屈折率N3とをN1<N3の関係となるようにしたことで、半導体発光素子の発光層から第1の樹脂部の方向へ出射された光は、半導体発光素子と第1の樹脂部との界面で反射しやすく、また臨界角をより小さくすることで第1の樹脂部へ光を透過しにくくなるため、半導体発光素子内に戻される。半導体発光素子に戻された光は、半導体発光素子と第1の樹脂部との界面で反射を繰り返しながら第2の樹脂部へ出射される。発光層から第1の樹脂部内へ出射される光を減少させることで、電極などによる光の吸収を少なくすることができる。
また、N1<N2の関係となるようにしたことで、第1の樹脂部から第2の樹脂部へ通過する光がその界面で反射し難くなる。
本願の第2の発明は、第1の樹脂部と、第2の樹脂部と、半導体発光素子とのそれぞれの屈折率が、|N1−N3|>|N2−N3|の関係を有することを特徴としたものである。
第1の樹脂部と、第2の樹脂部と、半導体発光素子とのそれぞれの屈折率を、|N1−N3|>|N2−N3|の関係となるようにしたことで、半導体発光素子と第2の樹脂部との界面より、半導体発光素子と第1の樹脂部との界面の方が反射させやすくすることができる。
本願の第3の発明は、第2の樹脂部の屈折率は、半導体発光素子の屈折率に略等しい値としたことを特徴としたものであり、半導体発光素子と第2の樹脂部との界面で発生する全反射をおこりにくくすることができる。
本願の第4の発明は、基板に積層された半導体層で形成され、フェイスダウンで実装された半導体発光素子と、半導体発光素子が搭載されたカップ部と、半導体発光素子を封止した樹脂部とを有する半導体発光装置において、樹脂部は、少なくとも半導体発光素子の発光層より下部に設けられた電極を覆い、かつ半導体発光素子の主光取り出し面を覆わないように形成された第1の樹脂部と、第1の樹脂部の上面に形成され、半導体発光素子を覆うように形成された第2の樹脂部からなり、第1の樹脂部の屈折率をN1、第2の樹脂部の屈折率をN2、基板の屈折率をN4、半導体層の屈折率をN5としたときに、N1<N4およびN1<N5の関係と、N1<N2の関係を有することを特徴としたものである。
第1の樹脂層の屈折率N1と、半導体発光素子の基板の屈折率N4、半導体層の屈折率N5とをN1<N4およびN1<N5の関係となるようにしたことで、半導体発光素子の発光層から第1の樹脂部の方向へ出射された光は、半導体発光素子の基板および発光層と第1の樹脂部との界面で反射しやすく、また臨界角をより小さくすることで第1の樹脂部へ光を透過しにくくなるため、半導体発光素子内に戻される。半導体発光素子に戻された光は、半導体発光素子と第1の樹脂部との界面で反射を繰り返しながら第2の樹脂部へ出射される。発光層から第1の樹脂部内へ出射される光を減少させることで、電極などによる光の吸収を少なくすることができる。
また、N1<N2の関係となるようにしたことで、第1の樹脂部から第2の樹脂部へ通過する光がその界面で反射し難くなる。
本願の第5の発明は、第1の樹脂部と、第2の樹脂部と、基板と、半導体層とのそれぞれの屈折率が、|N1−N5|>|N2−N4|の関係を有することを特徴としたものである。
基板と半導体層が異なる材質で形成された半導体発光素子である場合に、第1の樹脂部と第2の樹脂部を形成する樹脂を|N1−N5|>|N2−N4|の関係を有するものとするのが望ましい。
これは、半導体発光素子と樹脂部との接する面積において、半導体層は、第1の樹脂層と接する面積が広く、基板は第2の樹脂層と接する面積が広い。従って、基板および半導体層の屈折率と、第1の樹脂部および第2の樹脂部の屈折率との関係を|N1−N5|>|N2−N4|とすることで、半導体発光素子の基板と第2の樹脂部との界面より、半導体発光素子の半導体層と第1の樹脂部との界面の方が反射させやすくすることができる。
基板と半導体層とが同じ材質である場合は、屈折率N4=N5となり、半導体発光素子の屈折率N3に置き換えることで、|N1−N3|>|N2−N3|の式となる。
本願の第6の発明は、第2の樹脂部の屈折率は、半導体発光素子の基板の屈折率に略等しい値としたことを特徴とする。
半導体発光素子と樹脂部との接する面積において、第2の樹脂層は基板と接する面積が広いので、第2の樹脂部の屈折率と、半導体発光素子の基板の屈折率とを略等しい値とすることで、半導体発光素子の基板と第2の樹脂部との界面で発生する全反射をおこりにくくすることができる。
本願の第7の発明は、カップ部は、第1の樹脂部の厚みを深さとした凹部と、凹部の側壁部を延長するように凹部の縁部に接続された周壁部とから構成されたことを特徴としたものである。
第1の樹脂部を形成する際に、第1の樹脂部を形成する樹脂をカップ部の凹部の縁部まで充填すればよく、余分な樹脂は凹部の縁部から溢れるので、容易かつ正確に所望とする第1の樹脂部の厚みを形成することができる。
本願の第8の発明は、フェイスダウンで実装された半導体発光素子と、半導体発光素子が搭載されたカップ部と、半導体発光素子を封止した樹脂部とを有する半導体発光装置の製造方法において、半導体発光素子をカップ部に実装し、カップ部に、半導体発光素子の屈折率をN3としたときに、屈折率がN1であり、N3>N1の関係となる樹脂で、少なくとも半導体発光素子の発光層より下部に設けられた電極を覆い、かつ基板の主光取り出し面を覆わないように第1の樹脂部を形成し、第1の樹脂部が形成された後に、屈折率がN2であり、N1<N2の関係となる樹脂で、第1の樹脂部の上面に半導体発光素子を覆うように第2の樹脂部を形成したことを特徴としたものである。
第1の樹脂部の屈折率N1と、半導体発光素子の屈折率N3とをN1<N3の関係となるようにしたことで、半導体発光素子の発光層から第1の樹脂部の方向へ出射された光は、半導体発光素子と第1の樹脂部との界面で反射しやすく、また臨界角をより小さくすることで第1の樹脂部へ光を透過しにくくなるため、半導体発光素子内に戻される。半導体発光素子に戻された光は、半導体発光素子と第1の樹脂部との界面で反射を繰り返しながら第2の樹脂部へ出射される。発光層から第1の樹脂部内へ出射される光を減少させることで、電極などによる光の吸収を少なくすることができる。
また、N1<N2の関係となるようにしたことで、第1の樹脂部から第2の樹脂部へ通過する光がその界面で反射し難くなる。
本願の第9の発明は、第1の樹脂部と、第2の樹脂部と、半導体発光素子とのそれぞれの屈折率の関係が、|N1−N3|>|N2−N3|としたことを特徴としたものである。
第1の樹脂部と、第2の樹脂部と、半導体発光素子とのそれぞれの屈折率を、|N1−N3|>|N2−N3|の関係となるようにしたことで、半導体発光素子と第2の樹脂部との界面より、半導体発光素子と第1の樹脂部との界面の方が反射させやすくすることができる。
本願の第10の発明は、第2の樹脂部の屈折率は、半導体発光素子の屈折率に略等しい値としたことを特徴としたものであり、半導体発光素子と第2の樹脂部との界面で発生する全反射をおこりにくくすることができる。
本願の第11の発明は、基板に積層された半導体層で形成され、フェイスダウンで実装された半導体発光素子と、半導体発光素子が搭載されたカップ部と、半導体発光素子を封止した樹脂部とを有する半導体発光装置の製造方法において、半導体発光素子をカップ部に実装し、カップ部に、半導体発光素子の基板の屈折率をN4、半導体層の屈折率をN5としたときに、屈折率がN1であり、N4>N1およびN5>N1の関係となる樹脂で、少なくとも半導体発光素子の発光層より下部に設けられた電極を覆い、かつ基板の主光取り出し面を覆わないように第1の樹脂部を形成し、第1の樹脂部が形成された後に、屈折率がN2であり、N1<N2の関係となる樹脂で、第1の樹脂部の上面に半導体発光素子を覆うように第2の樹脂部を形成したことを特徴としたものである。
第1の樹脂層の屈折率N1と、半導体発光素子の基板の屈折率N4、半導体層の屈折率N5とをN1<N4およびN1<N5の関係となるようにしたことで、半導体発光素子の発光層から第1の樹脂部の方向へ出射された光は、半導体発光素子の基板および発光層と第1の樹脂部との界面で反射しやすく、また臨界角をより小さくすることで第1の樹脂部へ光を透過しにくくなるため、半導体発光素子内に戻される。半導体発光素子に戻された光は、半導体発光素子と第1の樹脂部との界面で反射を繰り返しながら第2の樹脂部へ出射される。発光層から第1の樹脂部内へ出射される光を減少させることで、電極などによる光の吸収を少なくすることができる。
また、N1<N2の関係となるようにしたことで、第1の樹脂部から第2の樹脂部へ通過する光がその界面で反射し難くなる。
本願の第12の発明は、第1の樹脂部と、第2の樹脂部と、基板と、半導体層とのそれぞれの屈折率が、|N1−N5|>|N2−N4|の関係を有することを特徴としたものである。
基板と半導体層が異なる材質で形成された半導体発光素子である場合に、第1の樹脂部と第2の樹脂部を形成する樹脂を|N1−N5|>|N2−N4|の関係を有するものとするのが望ましい。
これは、半導体発光素子と樹脂部との接する面積において、半導体層は、第1の樹脂層と接する面積が広く、基板は第2の樹脂層と接する面積が広い。従って、基板および半導体層の屈折率と、第1の樹脂部および第2の樹脂部の屈折率との関係を|N1−N5|>|N2−N4|とすることで、半導体発光素子の基板と第2の樹脂部との界面より、半導体発光素子の半導体層と第1の樹脂部との界面の方を反射させやすくすることができる。
基板と半導体層とが同じ材質である場合は、屈折率N4=N5となり、半導体発光素子の屈折率N3に置き換えることで、|N1−N3|>|N2−N3|の式となる。
本願の第12の発明は、第2の樹脂部の屈折率は、半導体発光素子の屈折率に略等しい値としたことを特徴としたものであり、半導体発光素子と第2の樹脂部との界面で発生する全反射をおこりにくくすることができる。
本願の第13の発明は、第2の樹脂部の屈折率は、半導体発光素子の基板の屈折率に略等しい値としたことを特徴としたものである。
半導体発光素子と樹脂部との接する面積において、第2の樹脂層は基板と接する面積が広いので、第2の樹脂部の屈折率と、半導体発光素子の基板の屈折率とを略等しい値とすることで、半導体発光素子の基板と第2の樹脂部との界面で発生する全反射をおこりにくくすることができる。
本願の第14の発明は、カップ部は、第1の樹脂部の厚みを深さとした凹部と、凹部の側壁部を延長するように凹部の縁部に接続された周壁部とからなり、第1の樹脂部を形成するに際し、凹部の縁部まで第1の樹脂部を形成する樹脂を充填し、周壁部を凹部の縁部に接続して、第1の樹脂部を形成する樹脂を硬化させ、第2の樹脂部を形成することを特徴としたものである。
第1の樹脂部を形成する際に、第1の樹脂部を形成する樹脂をカップ部の凹部の縁部まで充填すればよく、余分な樹脂は凹部の縁部から溢れるので、容易かつ正確に所望とする第1の樹脂部の厚みを形成することができる。
(実施の形態)
本発明の実施の形態に係る半導体発光装置の構成を図1および図2に基づいて説明する。図1は本発明の実施の形態に係る半導体発光装置の構成を説明する垂直断面図である。図2は図1のA部拡大図である。
図1に示すように、本発明の実施の形態に係る半導体発光装置1は、リードフレーム2と、半導体発光素子3と、サブマウント素子4と、樹脂部5から構成される。
リードフレーム2は、アノード側リードフレーム2aとカソード側リードフレーム2bとで構成される一対の電極である。アノード側リードフレーム2aには、カップ部2cが設けられている。カップ部2cの底となる面にはサブマウント素子4が導通搭載されている。また、カソード側リードフレーム2bとサブマウント素子4とはワイヤ6で導通接続されている。
カップ部2cは、縁部に向かって徐々に広がるように傾斜面が形成されている。またカップ部2cは、半導体発光素子3から出射された光を反射するように内側の表面にはメッキが施されている。
図2に示すように、半導体発光素子3は、サファイアなどの絶縁性を有する基板3aと、基板3aに積層されたn型半導体層3bと、n型半導体層3bに積層された発光層3cと、発光層3cに積層されたp型半導体層3dと、n型半導体層に形成されたn側電極3eと、p型半導体層3dに形成されたp側電極3fと、n側電極3eおよびp側電極3fとに形成された突起状電極であるバンプ3gとを備えている。
半導体発光素子3は、基板3aに、n型半導体層3bと、発光層3cとp型半導体層3dとを半導体層として順次積層させ、p側電極3fを形成した面を表面として下にしたフェイスダウンでサブマウント素子4にフリップチップ実装されている。
半導体発光素子3は、バンプ3gを介してp側電極3fに正電位、n側電極3eに負電位を印加することで発光層3cが発光し、基板3aの上面を主光取り出し面として光を出射する。また発光層3cから出射された一部の光は側方へ出射され、一部は下方へ出射される。
サブマウント素子4は、カップ部2cにダイボンドされ、半導体発光素子3がフェイスダウンで搭載されている。サブマウント素子4は、ツェナーダイオードが形成されている。このツェナーダイオードが介在してリードフレーム2と半導体発光素子3を接続することで半導体発光素子3を静電気から保護している。
樹脂部5は、半導体発光素子3の発光層3cより下部に設けられたp側電極3f、n側電極3e、およびバンプ3gとを覆い、かつ基板3aの主光取り出し面を被覆しないように形成された第1の樹脂部5aと、第1の樹脂部5aの上面に形成され、半導体発光素子3を覆うように形成された第2の樹脂部5bから構成される。
第2の樹脂部5bは、外形が砲弾型に形成されている。このように第2の樹脂部5bの外形を形成することで、主光取り出し方向へ集光させる配光特性とすることができる。
第1の樹脂部5aと第2の樹脂部5bとは、第1の樹脂部5aの屈折率をN1とし、第2の樹脂部5bの屈折率をN2としたときに、N1<N2の関係を有している。
本実施の形態では第1の樹脂部5aとして、例えば屈折率1.5に調整されたエポキシ系樹脂を用いることができる。また、第2の樹脂部5bとして、第1の樹脂部5aより大きい屈折率の樹脂とすればよいので、屈折率1.5より大きい、例えば屈折率1.7に調整されたエポキシ系樹脂を採用することができる。つまり第1の樹脂部5aを成形性などの条件により樹脂を選択した場合に、この第1の樹脂部5aより大きい屈折率を有する樹脂で第2の樹脂部5bを形成することで、N1<N2の関係とすることができるので、エポキシ系樹脂に限らず、第1の樹脂部5aを形成する樹脂と、第2の樹脂部5bを形成する樹脂を適宜採用することが可能である。その一例として、第1の樹脂部5aおよび第2の樹脂部5bとして、本実施の形態で用いているエポキシ樹脂の他に、屈折率を調整したシリコーン樹脂を採用することも可能である。
このようにN1<N2の関係とすることで、第1の樹脂部5aから第2の樹脂部5bへ通過する光がその界面で反射し難くなる。
また、第1の樹脂部5aと半導体発光素子3とは、半導体発光素子3の屈折率をN3としたときに、N1<N3の関係を有している。
半導体発光素子3の屈折率は、電極部分であるn側電極3eと、p側電極3fと、突起状電極であるバンプ3gとを除いた半導体で形成された部分は、GaN系であれば約2.5である。また基板3aがサファイアで形成されていれば、基板の屈折率は約1.7である。従って、第1の樹脂部5aの屈折率を1.5とすれば、半導体発光素子3のそれぞれの屈折率は、第1の樹脂部5aの屈折率より大きい関係とすることができる。
このようにN1<N3の関係とすることで、半導体発光素子3の発光層3cから第1の樹脂部5aの方向へ出射された光は、半導体発光素子3と第1の樹脂部5aとの界面で反射しやすくなり、また臨界角をより小さくすることで第1の樹脂部へ光を透過しにくくなるため半導体発光素子3内に戻される。半導体発光素子3に戻された光は、半導体発光素子3と第1の樹脂部5aとの界面で反射を繰り返しながら第2の樹脂部5bへ出射される。発光層3cから第1の樹脂部5a内へ出射される光を抑制することで、p側電極3f、n側電極3e、およびバンプ3gなどによる光の吸収を少なくすることができる。
第1の樹脂部5aと半導体発光素子3との界面で反射しなかった光は、カップ部2cに反射されて主光取り出し面の方向へ出射される。
そして、第2の樹脂部5bと、第1の樹脂部5aと、半導体発光素子3とのそれぞれの屈折率の関係は、|N1−N3|>|N2−N3|である。このような関係とすることで、半導体発光素子3と第1の樹脂部5aとの界面より半導体発光素子3と第2の樹脂部5bとの界面の方が反射を少ないものとすることができる。
また、本実施の形態の半導体発光素子3は、基板3aはサファイアで形成され、半導体層はGaN系で形成されており、異なる材質としている。この場合、半導体発光素子3の基板3aの屈折率をN4、半導体層をN5とすると、第1の樹脂部5aと第2の樹脂部5bを形成する樹脂を|N1−N5|>|N2−N4|の関係とするのが望ましい。
これは、半導体発光素子3と樹脂部5との接する面積において、半導体層は、第1の樹脂層5aと接する面積が広く、基板3aは第2の樹脂層5bと接する面積が広い。従って、基板3aおよび半導体層の屈折率と、第1の樹脂部5aおよび第2の樹脂部5bの屈折率との関係を|N1−N5|>|N2−N4|とすることで、半導体発光素子3の基板3aと第2の樹脂部5bとの界面より、半導体発光素子3の半導体層と第1の樹脂部5aとの界面の方を反射させやすくすることができる。
本実施の形態では、基板3aをサファイアで形成しているので、その屈折率N4は約1.7であり、半導体層をGaN系で形成しているので、その屈折率N5は約2.5であり、第1の樹脂部5aは1.5(N1)、第2の樹脂部5bは1.7(N2)の樹脂を用いているので、|N1−N5|>|N2−N4|の関係とすることができる。
また、基板3aをGaN系で形成し、半導体層をGaN系で形成した半導体発光素子の場合には、基板3aと半導体層とが同じ材質で形成されているので、N4=N5であり、半導体発光素子3としてN3と置き換えることができる。従って、|N1−N5|>|N2−N4|の式は、上述した|N1−N3|>|N2−N3|の関係と同じとなる。
この半導体発光素子3と第2の樹脂部5bとの界面での全反射をおこりにくくするためには、第2の樹脂部5bの屈折率を半導体発光素子3の屈折率と略等しいものとするのが望ましい。更に、第2の樹脂部5bは、半導体発光素子と接する面積においては、半導体層より基板の方が割合が大きいので、第2の樹脂部5bの屈折率N2は、半導体発光素子3の基板3aの屈折率N4に略等しいものとするのが望ましい。
以上のように構成される本発明の実施の形態に係る半導体発光装置の製造方法を図1および図2に基づいて説明する。
まず、半導体発光素子3をフェイスダウンでフリップチップ実装したサブマウント素子4を準備する。
アノード側リードフレーム2aのカップ部2cの底面に、半導体発光素子3をフリップチップ実装したサブマウント素子4を、銀ペーストなどの導電性ペーストを介在させてダイボンドする。ダイボンドした後、サブマウント素子4とカソード側リードフレーム2bとをワイヤ6にて接続する。
そしてカップ部2cに半導体発光素子3の屈折率より小さい屈折率のエポキシ系樹脂をポッティングにより、カップ部2cの底面から半導体発光素子3に設けられたp側電極3f、n側電極3e、およびバンプ3gとを覆う位置まで充填する。そして、樹脂を硬化させて第1の樹脂部5aを形成する。この充填される第1の樹脂部5aを形成する樹脂の量は、少なくとも半導体発光素子3の発光層3cより下部に設けられたp側電極3f、n側電極3e、およびバンプ3gとを覆っていればよい。第1の樹脂5aの厚みを厚くする場合には、基板の主光取り出し面を被覆しないようにする必要がある。これは、主光取り出し面を覆うように第1の樹脂部5aを形成すると、半導体発光素子3から出射された光が第2の樹脂部5bまで到達する光量が少なくなるからである。
次に、砲弾型に凹部が形成された図示しない金型を準備する。この金型の凹部に第1の樹脂部5aの屈折率より高い屈折率を有する第2の樹脂部5bとなる樹脂を充填する。そしてこの凹部に、リードフレーム2の上下を逆にして、カップ部2cを含むリードフレーム2の先端を浸漬して樹脂を硬化させて第2の樹脂部5bを形成する。
このようにして本発明の実施の形態に係る半導体発光装置1を製造することができる。
次に、本発明の他の実施の形態に係る半導体発光装置を図3に基づいて説明する。図3は本発明の他の実施の形態に係る半導体発光装置の構成を説明する拡大図である。なお、図3において、図1および図2と同じ構成は同符号を付して説明を省略する。
図3に示すように、本発明の他の実施の形態に係る半導体発光装置のカップ部7は、第1の樹脂部5aの厚みを深さとした凹部7aと、凹部7aの側壁部7bを延長するように凹部7aの縁部7cに接続された周壁部7dとから構成されている。
第1の樹脂部5aを形成する場合には、凹部7aのみとする。そして第1の樹脂部5aを形成する樹脂を充填する。余分な樹脂は、凹部7aの縁部7cから溢れるので、正確に所望とする第1の樹脂部5aの厚みを形成することができる。次に、第1の樹脂部5aを硬化させる前に、凹部7aの縁部7cに周壁部7dを接続する。そして上述したように第2の樹脂部5bを形成する樹脂の中へ浸漬して硬化させる。
なお、半導体発光素子3から出射された光を、主光取り出し方向へ集光する必要がない場合には、光を反射させるカップ部7の周壁部7dを省略することができる。
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、例えば、サブマウント素子を省略して半導体発光素子を直接リードフレームにフリップチップ実装してもよい。また、基板に凹部が形成され、この凹部の底面に半導体発光素子を搭載した面実装型の半導体発光装置としても、第1の樹脂部と第2の樹脂部とを形成することで、光取り出し効率を向上させることができる。
また、図4(a)に示されるように、基板3aがGaNなどの導電性基板で形成され、その基板3aの上面である主光取り出し面に形成された透明電極であるn側電極3hとし、p側電極3fを下にしたフェイスダウンでサブマウント素子4にフリップ実装した半導体発光素子8や、図4(b)に示されるように、p側電極3fに接続するバンプを省略し、同様にp側電極3fを下にしたフェイスダウンでサブマウント素子4に実装した半導体発光素子9であっても、半導体発光素子8,9の発光層3cより下部に設けられたp側電極3fおよびバンプ3gを覆うように第1の樹脂部5aを形成することで、光取り出し効率を向上させることができる。
本発明は、光取り出し効率を高くすることで、輝度の向上を図ることができるので、半導体発光素子が樹脂により封止される半導体発光装置に好適である。
本発明の実施の形態に係る半導体発光装置の構成を説明する垂直断面図 図1のA部拡大図 本発明の他の実施の形態に係る半導体発光装置の構成を説明する拡大図 (a)および(b)は主光取り出し面に電極が形成された半導体発光装置の構成を説明する拡大図 従来の半導体発光装置の構成を説明する図
符号の説明
1,8,9 半導体発光装置
2 リードフレーム
2a アノード側リードフレーム
2b カソード側リードフレーム
2c カップ部
3 半導体発光素子
3a 基板
3b n型半導体層
3c 発光層
3d p型半導体層
3e n側電極
3f p側電極
3g バンプ
3h n側電極
4 サブマウント素子
5 樹脂部
5a 第1の樹脂部
5b 第2の樹脂部
6 ワイヤ
7 カップ部
7a 凹部
7b 側壁部
7c 縁部
7d 周壁部

Claims (14)

  1. フェイスダウンで実装された半導体発光素子と、前記半導体発光素子が搭載されたカップ部と、前記半導体発光素子を封止した樹脂部とを有する半導体発光装置において、前記樹脂部は、少なくとも前記半導体発光素子の発光層より下部に設けられた電極を覆い、かつ前記半導体発光素子の主光取り出し面を覆わないように形成された第1の樹脂部と、前記第1の樹脂部の上面に形成され、前記半導体発光素子を覆うように形成された第2の樹脂部からなり、前記第1の樹脂部の屈折率をN1、前記第2の樹脂部の屈折率をN2、前記半導体発光素子の屈折率をN3としたときに、N1<N3の関係と、N1<N2の関係を有することを特徴とする半導体発光装置。
  2. 前記第1の樹脂部と、前記第2の樹脂部と、前記半導体発光素子とのそれぞれの屈折率が、|N1−N3|>|N2−N3|の関係を有することを特徴とする請求項1記載の半導体発光装置。
  3. 前記第2の樹脂部の屈折率は、前記半導体発光素子の屈折率に略等しい値としたことを特徴とする請求項1または2記載の半導体発光装置。
  4. 基板に積層された半導体層で形成され、フェイスダウンで実装された半導体発光素子と、前記半導体発光素子が搭載されたカップ部と、前記半導体発光素子を封止した樹脂部とを有する半導体発光装置において、前記樹脂部は、少なくとも前記半導体発光素子の発光層より下部に設けられた電極を覆い、かつ前記半導体発光素子の主光取り出し面を覆わないように形成された第1の樹脂部と、前記第1の樹脂部の上面に形成され、前記半導体発光素子を覆うように形成された第2の樹脂部からなり、前記第1の樹脂部の屈折率をN1、前記第2の樹脂部の屈折率をN2、前記基板の屈折率をN4、前記半導体層の屈折率をN5としたときに、N1<N4およびN1<N5の関係と、N1<N2の関係を有することを特徴とする半導体発光装置。
  5. 前記第1の樹脂部と、前記第2の樹脂部と、前記基板と、前記半導体層とのそれぞれの屈折率が、|N1−N5|>|N2−N4|の関係を有することを特徴とする請求項4記載の半導体発光装置。
  6. 前記第2の樹脂部の屈折率は、前記半導体発光素子の前記基板の屈折率に略等しい値としたことを特徴とする請求項4または5記載の半導体発光装置。
  7. 前記カップ部は、前記第1の樹脂部の厚みを深さとした凹部と、前記凹部の側壁部を延長するように前記凹部の縁部に接続された周壁部とから構成されたことを特徴とする請求項1から6のいずれかの項に記載の半導体発光装置。
  8. フェイスダウンで実装された半導体発光素子と、前記半導体発光素子が搭載されたカップ部と、前記半導体発光素子を封止した樹脂部とを有する半導体発光装置の製造方法において、半導体発光素子をカップ部に実装し、前記カップ部に、前記半導体発光素子の屈折率をN3としたときに、屈折率がN1であり、N3>N1の関係となる樹脂で、少なくとも前記半導体発光素子の発光層より下部に設けられた電極を覆い、かつ前記基板の主光取り出し面を覆わないように第1の樹脂部を形成し、前記第1の樹脂部が形成された後に、屈折率がN2であり、N1<N2の関係となる樹脂で、前記第1の樹脂部の上面に半導体発光素子を覆うように第2の樹脂部を形成したことを特徴とする半導体発光装置の製造方法。
  9. 前記第1の樹脂部と、前記第2の樹脂部と、前記半導体発光素子とのそれぞれの屈折率の関係が、|N1−N3|>|N2−N3|としたことを特徴とする請求項8記載の半導体発光装置の製造方法。
  10. 前記第2の樹脂部の屈折率は、前記半導体発光素子の屈折率に略等しい値としたことを特徴とする請求項8または9記載の半導体発光装置の製造方法。
  11. 基板に積層された半導体層で形成され、フェイスダウンで実装された半導体発光素子と、前記半導体発光素子が搭載されたカップ部と、前記半導体発光素子を封止した樹脂部とを有する半導体発光装置の製造方法において、半導体発光素子をカップ部に実装し、前記カップ部に、前記半導体発光素子の前記基板の屈折率をN4、前記半導体層の屈折率をN5としたときに、屈折率がN1であり、N4>N1およびN5>N1の関係となる樹脂で、少なくとも前記半導体発光素子の発光層より下部に設けられた電極を覆い、かつ前記基板の主光取り出し面を覆わないように第1の樹脂部を形成し、前記第1の樹脂部が形成された後に、屈折率がN2であり、N1<N2の関係となる樹脂で、前記第1の樹脂部の上面に半導体発光素子を覆うように第2の樹脂部を形成したことを特徴とする半導体発光装置の製造方法。
  12. 前記第1の樹脂部と、前記第2の樹脂部と、前記基板と、前記半導体層とのそれぞれの屈折率が、|N1−N5|>|N2−N4|の関係を有することを特徴とする請求項11記載の半導体発光装置。
  13. 前記第2の樹脂部の屈折率は、前記半導体発光素子の前記基板の屈折率に略等しい値としたことを特徴とする請求項11または12記載の半導体発光装置。
  14. 前記カップ部は、前記第1の樹脂部の厚みを深さとした凹部と、前記凹部の側壁部を延長するように前記凹部の縁部に接続された周壁部とからなり、前記第1の樹脂部を形成するに際し、前記凹部の縁部まで前記第1の樹脂部を形成する樹脂を充填し、前記周壁部を前記凹部の縁部に接続して、前記第1の樹脂部を形成する樹脂を硬化させ、前記第2の樹脂部を形成することを特徴とする請求項8から13のいずれかの項に記載の半導体発光装置の製造方法。
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