JP2006061847A - Apparatus for ultrasonic cleaning/deburring - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus for ultrasonic cleaning/deburring, capable of improving a cleaning/deburring effect more than usual, wherein an ultrasonic wave is radiated in a cleaning tank in which a material to be cleaned is dipped, to carry out cleaning/deburring of the materia to be cleaned. <P>SOLUTION: The apparatus for ultrasonic cleaning/deburring has the cleaning tank receiving a cleaning liquid, a cleaning-liquid supplying means for supplying the cleaning liquid to the cleaning tank, and an ultrasonic vibrator arranged in the cleaning tank, an oscillator for operating the ultrasonic vibrator, wherein the ultrasonic wave is radiated to the cleaning liquid from the ultrasonic vibrator to carry out cleaning and/or deburring of the material to be cleaned which is dipped in the cleaning liquid. In this apparatus, the cleaning-liquid supplying means has a magnetic-field generating apparatus operating a magnetic field to the cleaning liquid supplied, and a voltage generating circuit supplying a voltage to the magnetic-field generating apparatus, wherein the voltage generating circuit is controlled to repeat the state that the magnetic-field generating apparatus applies the magnetic field for the cleaning liquid and the state that it does not. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、被洗浄物が浸漬された洗浄槽中に超音波を放射して、被洗浄物の洗浄、バリ取りを行う超音波洗浄・バリ取り装置に関し、特に、洗浄、バリ取りの効力を向上することのできる超音波洗浄・バリ取り装置に関する。   The present invention relates to an ultrasonic cleaning / deburring apparatus that performs cleaning and deburring of an object to be cleaned by radiating ultrasonic waves into a cleaning tank in which the object to be cleaned is immersed. The present invention relates to an ultrasonic cleaning / deburring device that can be improved.

通常、機械部品や電子部品等の表面には、その製造工程で油分、フラックス等の異物が付着しており、また、加工の際にできるバリが残っているので、これらの異物等を除去したのちに最終製品とされている。   Normally, foreign matters such as oil and flux are adhered to the surface of mechanical parts and electronic parts in the manufacturing process, and burrs formed during processing remain, so these foreign substances were removed. Later, it is regarded as the final product.

かかる部品等の付着物やバリを除去する方法として、従来から、超音波洗浄方法というものが提案されていた。かかる方法は、洗浄槽内に収められた水などの洗浄液中に被洗浄物である前記部品等を浸漬し、洗浄槽の底部に設けられた超音波振動子から、洗浄液中に超音波を放射し、この超音波により洗浄液中に生じるキャビテーションの作用を利用して被洗浄物の洗浄やバリ取りを行おうとするものである。   Conventionally, an ultrasonic cleaning method has been proposed as a method for removing deposits and burrs from such parts and the like. This method immerses the above-mentioned parts to be cleaned in a cleaning liquid such as water stored in a cleaning tank, and radiates ultrasonic waves into the cleaning liquid from an ultrasonic vibrator provided at the bottom of the cleaning tank. Then, the object to be cleaned and deburred are intended to be utilized by utilizing the action of cavitation generated in the cleaning liquid by the ultrasonic wave.

当該超音波洗浄方法では、前述したキャビテーションが崩壊するときに生じる衝撃波を被洗浄物の表面に作用させることにより前記洗浄やバリ取りがなされることになるが、これらの効力を良好なものとするために、従来より、幾つかの提案がなされている。例えば、下記特許文献1には、洗浄槽に供給される洗浄液に溶存する気体を除去する脱気手段を設け、被洗浄物との間に電界を印加する電極板を洗浄液に浸漬させることが記載されている。
特許第2558470号公報
In the ultrasonic cleaning method, the cleaning and the deburring are performed by applying the shock wave generated when the above-described cavitation collapses to the surface of the object to be cleaned. However, these effects are improved. Therefore, some proposals have been made conventionally. For example, the following Patent Document 1 describes that a degassing unit that removes gas dissolved in the cleaning liquid supplied to the cleaning tank is provided, and an electrode plate that applies an electric field to the object to be cleaned is immersed in the cleaning liquid. Has been.
Japanese Patent No. 2558470

しかしながら、上述した従来の超音波洗浄方法においては、使用する洗浄液の水分子がクラスタ構造を形成しており、その状態で前記超音波が放射されるので、クラスタ構造の大きな分子のかたまりが被洗浄物にぶつかることとなり、あまり放射される超音波を強力なものとすると被洗浄物の表面にキズが付いてしまうという課題があった。そのため、被洗浄物に付着した油分、フラックス等の異物を十分に除去する力の超音波を放射できない場合があった。   However, in the conventional ultrasonic cleaning method described above, the water molecules of the cleaning liquid to be used form a cluster structure, and the ultrasonic waves are emitted in this state, so that a large cluster of molecules having a cluster structure is cleaned. There is a problem that the surface of the object to be cleaned is scratched if the ultrasonic wave that is radiated too much becomes strong. For this reason, there are cases where ultrasonic waves having a force for sufficiently removing foreign matters such as oil and flux adhering to the object to be cleaned cannot be emitted.

また、前述したバリ取りを行う場合には、上記洗浄の場合よりもさらに超音波を強力なものとする必要があるが、従来の方法では除去力が小さく、十分にバリを除去することができないという課題があった。   Further, when performing the above-described deburring, it is necessary to make the ultrasonic wave stronger than in the case of the above cleaning, but the conventional method has a small removal force and cannot sufficiently remove the deburring. There was a problem.

従って、従来提案されている超音波洗浄方法では、洗浄においてもバリ取りにおいてもその効力が十分なものではなかった。   Therefore, the conventionally proposed ultrasonic cleaning methods are not sufficiently effective in cleaning and deburring.

そこで、本発明の目的は、被洗浄物が浸漬された洗浄槽中に超音波を放射して被洗浄物の洗浄、バリ取りを行う超音波洗浄・バリ取り装置であって、従来よりも、洗浄、バリ取りの効力を向上することのできる超音波洗浄・バリ取り装置を提供することである。   Therefore, an object of the present invention is an ultrasonic cleaning / deburring apparatus that performs cleaning and deburring of an object to be cleaned by radiating ultrasonic waves into a cleaning tank in which the object to be cleaned is immersed. It is an object of the present invention to provide an ultrasonic cleaning / deburring device capable of improving the effectiveness of cleaning and deburring.

上記の目的を達成するために、本発明の一つの側面は、洗浄液を収容する洗浄槽と、前記洗浄槽に洗浄液流路を介して前記洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記洗浄槽内に設けられた超音波振動子と、前記超音波振動子を作動させる発振器とを有し、前記超音波振動子から前記洗浄液に超音波を放射して、前記洗浄液中に浸漬された被洗浄物の洗浄及び又はバリ取りを行う超音波洗浄・バリ取り装置において、前記洗浄液供給手段が、前記供給する洗浄液に対して磁場を作用させる磁場発生装置と、前記磁場発生装置に電圧を供給する電圧発生回路とを備え、前記電圧発生回路が、前記磁場発生装置が前記洗浄液に対して磁場を印加する状態と磁場を印加しない状態とを反復するように制御されることである。従って、本発明によれば、洗浄液が洗浄槽に供給される前に、磁場の作用により、そのクラスタ構造が細分化される。よって、洗浄槽内において、被洗浄物の表面にキズがつきずらくなり、放射させる超音波を従来よりも強力なものとすることができるようになって、洗浄、バリ取りの効力を向上させることが可能となる。   In order to achieve the above object, one aspect of the present invention provides a cleaning tank for storing a cleaning liquid, a cleaning liquid supply means for supplying the cleaning liquid to the cleaning tank via a cleaning liquid channel, and a cleaning tank. An ultrasonic vibrator provided, and an oscillator for operating the ultrasonic vibrator, radiating ultrasonic waves from the ultrasonic vibrator to the cleaning liquid, and the object to be cleaned immersed in the cleaning liquid In an ultrasonic cleaning / deburring apparatus that performs cleaning and / or deburring, a magnetic field generator in which the cleaning liquid supply means applies a magnetic field to the supplied cleaning liquid, and a voltage generation circuit that supplies a voltage to the magnetic field generator And the voltage generating circuit is controlled so that the magnetic field generator repeats a state in which a magnetic field is applied to the cleaning liquid and a state in which no magnetic field is applied. Therefore, according to the present invention, the cluster structure is subdivided by the action of the magnetic field before the cleaning liquid is supplied to the cleaning tank. Therefore, in the cleaning tank, it becomes difficult to scratch the surface of the object to be cleaned, and the ultrasonic wave to be emitted can be made stronger than before, thereby improving the effectiveness of cleaning and deburring. It becomes possible.

更に、上記の発明において、その好ましい態様は、前記電圧発生回路は、前記磁場発生装置にパルス電圧を供給することを特徴とする。   Furthermore, in the above invention, a preferred aspect thereof is characterized in that the voltage generation circuit supplies a pulse voltage to the magnetic field generator.

更に、上記の発明において、好ましい態様は、前記磁場発生装置は、前記洗浄液流路の途中に設置されるものであり、中心部に前記洗浄液流路を貫通させるための空洞部を有する円盤状の本体と、前記本体に設けられた少なくとも1個の電磁石とを具備していることを特徴とする。   Furthermore, in the above invention, a preferable aspect is that the magnetic field generator is installed in the middle of the cleaning liquid flow path, and has a disk-like shape having a hollow portion for penetrating the cleaning liquid flow path at the center. It has a main body and at least one electromagnet provided on the main body.

更に、上記の発明において、好ましい態様は、前記電磁石の両極の中央間を結ぶ線分は、前記円盤状の本体の断面の中心を通る前記断面上の直線に沿っていることを特徴とする。   Furthermore, in the above invention, a preferred aspect is characterized in that a line segment connecting the centers of both poles of the electromagnet is along a straight line on the cross section passing through the center of the cross section of the disk-shaped main body.

また、上記の発明において、好ましい態様は、前記本体に嵌合された電磁石は複数個あり、当該複数個の電磁石は、電気的に全て直列接続または全て並列接続されたものであることを特徴とする。   In the above invention, a preferred aspect is characterized in that there are a plurality of electromagnets fitted to the main body, and the plurality of electromagnets are all electrically connected in series or all connected in parallel. To do.

また、上記の発明において、好ましい態様は、前記洗浄液流路は、洗浄液供給管であることを特徴とする。   In the above invention, a preferred aspect is characterized in that the cleaning liquid flow path is a cleaning liquid supply pipe.

更に、上記の発明において、好ましい態様は、前記磁場発生装置は、前記洗浄液流路の途中に所定の間隔を隔てて複数個設置されていることを特徴とする。   Furthermore, in the above invention, a preferred aspect is characterized in that a plurality of the magnetic field generators are installed at a predetermined interval in the middle of the cleaning liquid flow path.

また、上記の発明において、好ましい態様は、前記複数個の磁場発生装置は、各円盤状の本体に設けられた電磁石の位置が隣接する円盤状の本体間で、円盤状本体の中心軸のまわりの回転方向に相互にずれていることを特徴とする。   In the above invention, a preferred aspect is that the plurality of magnetic field generators are arranged around the central axis of the disk-shaped main body between the disk-shaped main bodies where the positions of the electromagnets provided in the respective disk-shaped main bodies are adjacent. It is characterized by the fact that they are mutually offset in the direction of rotation.

更に、上記の発明において、一つの態様は、前記磁場発生装置が三つ設置され、一の前記磁場発生装置が磁場を印加する状態である間は、他の二つは磁場を印加しない状態にあるように、電圧発生回路が制御されることを特徴とする。   Furthermore, in the above invention, one aspect is that, while three of the magnetic field generators are installed and one of the magnetic field generators is in a state of applying a magnetic field, the other two are in a state of not applying a magnetic field. As described above, the voltage generation circuit is controlled.

また、上記の発明において、好ましい態様は、前記磁場発生装置は、前記洗浄液流路の途中に所定の間隔を隔てて3個以上設置されていることを特徴とする。   In the above invention, a preferred aspect is characterized in that three or more of the magnetic field generators are installed at a predetermined interval in the middle of the cleaning liquid flow path.

上記の目的を達成するために、本発明の別の側面は、洗浄液を収容する洗浄槽と、前記洗浄槽内に設けられた超音波振動子と、前記超音波振動子に電圧を印加して前記超音波振動子を作動する発振器とを有し、前記超音波振動子から前記洗浄液に超音波を放射して、前記洗浄液中に浸漬された被洗浄物の洗浄及び又はバリ取りを行う超音波洗浄・バリ取り装置において、前記発振器が、所定周波数の基本波に当該基本波の周波数よりも多い周波数の波を加えた多重波の波形をなす電圧を前記超音波振動子に印加することである。これにより、洗浄及びバリ取りの効力を向上させることができるという効果を得ることができる。   In order to achieve the above object, another aspect of the present invention provides a cleaning tank containing a cleaning liquid, an ultrasonic vibrator provided in the cleaning tank, and applying a voltage to the ultrasonic vibrator. An ultrasonic wave that operates the ultrasonic vibrator and radiates ultrasonic waves from the ultrasonic vibrator to the cleaning liquid to perform cleaning and / or deburring of an object to be cleaned immersed in the cleaning liquid. In the cleaning / deburring apparatus, the oscillator applies a voltage having a multiwave waveform obtained by adding a wave having a frequency higher than the frequency of the fundamental wave to the fundamental wave having a predetermined frequency to the ultrasonic transducer. . Thereby, the effect that the effectiveness of washing and deburring can be improved can be obtained.

上記の目的を達成するために、本発明の更に別の側面は、洗浄液を収容する洗浄槽と、前記洗浄槽内に設けられた超音波振動子と、前記超音波振動子に電圧を印加して前記超音波振動子を作動する発振器とを有し、前記超音波振動子から前記洗浄液に超音波を放射して、前記洗浄液中に浸漬された被洗浄物の洗浄及び又はバリ取りを行う超音波洗浄・バリ取り装置において、前記発振器が、前記超音波振動子に印加する電圧の周波数を有する矩形波の電圧を生成する回路と、前記生成された矩形波の電圧を正弦波の電圧に変換し、変換後の電圧が前記超音波振動子に印加されるコイルとを備え、前記コイルのインダクタンス値が、当該インダクタンス値と前記超音波振動子が有する静電容量から定められる共振周波数が、前記超音波振動子に印加する電圧の周波数に等しくなるような値、とは異なることである。これにより、特にバリ取りの効力を向上させることができるという効果を得ることができる。   In order to achieve the above object, still another aspect of the present invention provides a cleaning tank for storing a cleaning liquid, an ultrasonic vibrator provided in the cleaning tank, and applying a voltage to the ultrasonic vibrator. An ultrasonic oscillator that operates the ultrasonic vibrator, and radiates ultrasonic waves from the ultrasonic vibrator to the cleaning liquid to perform cleaning and / or deburring of an object to be cleaned immersed in the cleaning liquid. In the ultrasonic cleaning / deburring apparatus, the oscillator generates a rectangular wave voltage having a frequency of a voltage applied to the ultrasonic transducer, and converts the generated rectangular wave voltage into a sine wave voltage. And a coil to which the converted voltage is applied to the ultrasonic transducer, and the resonance frequency determined by the inductance value of the coil and the capacitance of the ultrasonic transducer is Ultrasonic vibrator Equal Such values to the frequency of the voltage to be pressurized, it is different from the. Thereby, the effect that the effect of deburring can be improved especially can be acquired.

本発明の更なる目的及び、特徴は、以下に説明する発明の実施の形態から明らかになる。   Further objects and features of the present invention will become apparent from the embodiments of the invention described below.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態例を説明する。しかしながら、かかる実施の形態例が、本発明の技術的範囲を限定するものではない。なお、図において、同一又は類似のものには同一の参照番号又は参照記号を付して説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, such an embodiment does not limit the technical scope of the present invention. In the drawings, the same or similar elements are denoted by the same reference numerals or reference symbols.

図1は、本発明を適用した超音波洗浄・バリ取り装置の実施の形態例に係る概略の構成図である。図1に示す超音波洗浄・バリ取り装置100は、洗浄水61内に超音波を放射させ洗浄水61に浸漬された被洗浄物の洗浄及び又はバリ取りを行うための装置である。そして、当該超音波洗浄・バリ取り装置100は、洗浄水のクラスタ構造を分解する洗浄水処理装置43を設けると共に、前記超音波の発振器50に特徴を有し、従来よりも洗浄、バリ取りの効力を向上させようとするものである。   FIG. 1 is a schematic configuration diagram according to an embodiment of an ultrasonic cleaning / deburring apparatus to which the present invention is applied. An ultrasonic cleaning / deburring apparatus 100 shown in FIG. 1 is an apparatus for cleaning and / or deburring an object to be cleaned immersed in the cleaning water 61 by radiating ultrasonic waves into the cleaning water 61. The ultrasonic cleaning / deburring device 100 is provided with a cleaning water treatment device 43 for decomposing the cluster structure of cleaning water, and is characterized by the ultrasonic oscillator 50. It is intended to improve efficacy.

図1に示すように、超音波洗浄・バリ取り装置100は、大きく洗浄水供給装置40、発振器50、洗浄槽60、及び超音波振動子70から構成されている。洗浄槽60は、その中に被洗浄物80を洗浄するための洗浄水61を収容するタンクである。洗浄水供給装置40は、その洗浄槽60に洗浄水61を供給するための装置であり、図1に示すように、洗浄水供給管41、洗浄水ポンプ42、及び洗浄水処理装置43等が備えられている。洗浄水処理装置43は、洗浄槽60に供給する洗浄水61のクラスタ構造を分解するための装置であり、その詳細は後述する。   As shown in FIG. 1, the ultrasonic cleaning / deburring device 100 is mainly composed of a cleaning water supply device 40, an oscillator 50, a cleaning tank 60, and an ultrasonic transducer 70. The cleaning tank 60 is a tank that stores therein cleaning water 61 for cleaning the article 80 to be cleaned. The cleaning water supply device 40 is a device for supplying cleaning water 61 to the cleaning tank 60. As shown in FIG. 1, a cleaning water supply pipe 41, a cleaning water pump 42, a cleaning water treatment device 43, and the like are provided. Is provided. The cleaning water treatment device 43 is a device for decomposing the cluster structure of the cleaning water 61 supplied to the cleaning tank 60, and details thereof will be described later.

また、発振器50は、超音波振動子70に対して所定の波形の電圧を印加するための装置であり、その具体的な内容については後述する。次に、超音波振動子70は、前記洗浄槽60の下部又は側面に設けられ、前記発振器50から印加される電圧によって振動して、洗浄水61中に超音波を放射する装置である。図1に示すように、超音波振動子70には、複数の振動素子71が備えられ、これらが振動することにより前記超音波が放射される。   The oscillator 50 is a device for applying a voltage having a predetermined waveform to the ultrasonic transducer 70, and the specific contents thereof will be described later. Next, the ultrasonic transducer 70 is a device that is provided in the lower part or the side surface of the cleaning tank 60 and oscillates by the voltage applied from the oscillator 50 to emit ultrasonic waves into the cleaning water 61. As shown in FIG. 1, the ultrasonic transducer 70 includes a plurality of vibration elements 71, and the ultrasonic waves are radiated by vibrating these elements.

このように構成される本超音波洗浄・バリ取り装置100では、被洗浄物80として、洗浄やバリ取りを必要とする機械部品や電子部品等が洗浄槽60の中に入れられる。なお、被洗浄物80は金属である必要はなく、洗浄やバリ取りを必要とする物であればどのようなものでもよい。そして、洗浄やバリ取りを行う際には、洗浄槽60に所定量の洗浄水61が収められ、その洗浄水61は、洗浄やバリ取りの最中、前記洗浄水供給設備40により常に循環している。具体的には、洗浄槽60から抜き取られた洗浄水61は、洗浄水供給管41を介して洗浄水ポンプ42に導かれ、そこから洗浄水処理装置43にポンプアップされる。洗浄水処理装置43では、洗浄水61は、前述の通り、分子のかたまりが細分化され、その状態で洗浄槽60に供給される。なお、本実施の形態例では、超音波洗浄・バリ取り装置の洗浄液として洗浄水61が用いられるが、洗浄液としては単なる水ではなく、いわゆる洗剤が含まれている洗浄液を用いてもよい。   In the ultrasonic cleaning / deburring apparatus 100 configured as described above, mechanical parts and electronic parts that require cleaning and deburring are placed in the cleaning tank 60 as the object to be cleaned 80. The object to be cleaned 80 does not need to be a metal, and any object that needs to be cleaned and deburred may be used. When cleaning or deburring, a predetermined amount of cleaning water 61 is stored in the cleaning tank 60, and the cleaning water 61 is constantly circulated by the cleaning water supply equipment 40 during cleaning and deburring. ing. Specifically, the cleaning water 61 extracted from the cleaning tank 60 is guided to the cleaning water pump 42 through the cleaning water supply pipe 41 and pumped up to the cleaning water treatment device 43 from there. In the cleaning water treatment apparatus 43, the cleaning water 61 is supplied to the cleaning tank 60 in a state where the molecular mass is subdivided as described above. In this embodiment, the cleaning water 61 is used as the cleaning liquid of the ultrasonic cleaning / deburring apparatus. However, the cleaning liquid may be a cleaning liquid containing a so-called detergent instead of mere water.

また、被洗浄物80の洗浄やバリ取りを行う際には、前述の通り、洗浄水61中に超音波を放射するので、発振器50が起動され、そこで生成された所定波形の電圧が振動素子71に印加され、超音波振動子70が振動する。放射された超音波により洗浄水61中にキャビテーションが生じ、その作用を利用して被洗浄物80の洗浄やバリ取りが行なわれる。   Further, when cleaning the object 80 and deburring, as described above, the ultrasonic wave is radiated into the cleaning water 61, so that the oscillator 50 is activated, and the voltage of the predetermined waveform generated there is a vibration element. The ultrasonic vibrator 70 is vibrated by being applied to 71. Cavitation occurs in the cleaning water 61 by the emitted ultrasonic waves, and the cleaning and deburring of the cleaning target 80 are performed using the action.

以上のように作用する本超音波洗浄・バリ取り装置100では、洗浄槽60に供給する洗浄水61のクラスタ構造を分解する処理を行う洗浄水処理装置43と、超音波放射のために超音波振動子70に電圧を印加する発振器50に特徴があり、以下、それらの特徴点について、それぞれ説明する。   In the ultrasonic cleaning / deburring apparatus 100 that operates as described above, the cleaning water processing apparatus 43 that performs processing for decomposing the cluster structure of the cleaning water 61 supplied to the cleaning tank 60, and the ultrasonic wave for ultrasonic radiation. There is a feature in the oscillator 50 that applies a voltage to the vibrator 70, and these feature points will be described below.

まず、洗浄水処理装置43について説明する。図2は、本実施の形態例に係る洗浄水処理装置43の構成を示す構成図である。同図において、本洗浄水処理装置43は、4個の電磁石を固定する円盤状の洗浄水処理装置本体1(基板)と、円盤状本体1の中央部に設けられた洗浄水供給管用空洞部10と、円盤状本体1に固定された電磁石11〜14とを備えて構成されている。   First, the cleaning water treatment device 43 will be described. FIG. 2 is a configuration diagram illustrating the configuration of the cleaning water treatment apparatus 43 according to the present embodiment. In this figure, the cleaning water treatment device 43 includes a disc-shaped cleaning water treatment device main body 1 (substrate) for fixing four electromagnets, and a cleaning water supply pipe cavity provided at the center of the disc-shaped main body 1. 10 and electromagnets 11 to 14 fixed to the disc-shaped main body 1.

電磁石11〜14は、隣接する電磁石同士が円盤状本体1の中心に関して、90°の角度をなすように配置されている。電磁石11〜14は、鉄芯入りの電磁石である。電磁石11〜14は、本実施の形態例では、これら電磁石を同時に励磁するために、電気的には全て直列接続されているものであるが、本発明では、一般に、全てを並列接続することを含めた任意の電気的接続が可能であり、また、電磁石同士を電気的に接続せずに個別に励磁することもできる。   The electromagnets 11 to 14 are arranged such that adjacent electromagnets form an angle of 90 ° with respect to the center of the disc-shaped main body 1. The electromagnets 11 to 14 are iron core-containing electromagnets. In the present embodiment, the electromagnets 11 to 14 are all electrically connected in series in order to excite these electromagnets simultaneously. However, in the present invention, in general, all of them are connected in parallel. Arbitrary electrical connections can be made, and the electromagnets can be individually excited without being electrically connected.

また、電磁石11〜14の磁極の配置は、図2では電流を流した際にN極側が、全て洗浄水供給管用空洞部10の方向に対向して配置されているが、一般に、本発明では、電磁石11〜14の磁極の配置は任意とすることができる。但し、いずれの場合であっても、N極の中央とS極の中央とを結ぶ線分は、本体1の円盤の中心を通る直線に沿うものとすることが好ましい。   In addition, the arrangement of the magnetic poles of the electromagnets 11 to 14 is arranged such that the N pole side is all opposed to the direction of the cavity 10 for the cleaning water supply pipe when an electric current is passed in FIG. The arrangement of the magnetic poles of the electromagnets 11 to 14 can be arbitrary. However, in any case, it is preferable that the line segment connecting the center of the N pole and the center of the S pole is along a straight line passing through the center of the disk of the main body 1.

また、本実施の形態例にあっては、電磁石を4つとしているが、1つ以上であればよく、任意の個数とすることができる。複数とした場合には、形成される磁場が均一に洗浄水供給管41内の水に作用するように、等角度で配置されることが好ましい。なお、図2では省略しているが、上記の構成要素の他にも、本体1には、電磁石11〜14に印加する電圧を供給するためのコネクタ端子や電気配線が存在する。   In the present embodiment, four electromagnets are used, but one or more electromagnets may be used, and an arbitrary number can be used. In the case where a plurality of magnetic fields are formed, it is preferable that the magnetic fields to be formed are arranged at an equal angle so as to uniformly act on the water in the cleaning water supply pipe 41. Although omitted in FIG. 2, in addition to the above-described components, the main body 1 includes connector terminals and electric wiring for supplying a voltage to be applied to the electromagnets 11 to 14.

また、本体1は、洗浄水供給管41を洗浄水供給管用空洞部10に通すために、2個の半円盤に分離することができて、さらに、洗浄水供給管41を洗浄水供給管用空洞部10に通した後では、上記の分離された半円盤を電気的一体性を確保するためのピンコネクタ等により相互に嵌合して、再び元の円盤にすることができる構造となっている。本体1を形成する材質は、例えば、合成樹脂、ガラス、金属とすることができる。洗浄水供給管用空洞部10の直径は、洗浄水供給管41の径に対応している。   Further, the main body 1 can be separated into two semicircular disks so that the cleaning water supply pipe 41 is passed through the cleaning water supply pipe cavity 10, and the cleaning water supply pipe 41 is further separated from the cavity for the cleaning water supply pipe. After passing through the portion 10, the separated semi-discs can be fitted to each other by a pin connector or the like for ensuring electrical integrity so that the original disc can be restored. . The material forming the main body 1 can be, for example, synthetic resin, glass, or metal. The diameter of the cleaning water supply pipe cavity 10 corresponds to the diameter of the cleaning water supply pipe 41.

上記洗浄水供給管41には、洗浄槽60に供給される水が通過するが、この水の種類としては、例えば、純水、DIウォーター(不純物の少ない水)及び水道水が可能である。   The water supplied to the cleaning tank 60 passes through the cleaning water supply pipe 41. Examples of the water include pure water, DI water (water with few impurities), and tap water.

電磁石11〜14の磁力の強さは、洗浄水61の種類、流量、及び洗浄水供給管41の径等によって最適値を選択して設定することができる。また、実験による1つの好適な実施例として、220〔ターン〕(巻き数)により280〔μH〕を得て使用することができる。   The strength of the magnetic force of the electromagnets 11 to 14 can be set by selecting an optimum value according to the type of the cleaning water 61, the flow rate, the diameter of the cleaning water supply pipe 41, and the like. Further, as one preferred embodiment by experiment, 280 [μH] can be obtained by using 220 [turns] (the number of turns).

図3は、本実施の形態例に係る装置の磁場発生装置に印加される電圧の波形例を示す波形図である。図2に示す磁場発生装置(電磁石11〜14)には、パルス電圧が印加される。図3(a)は、デューティ比が1対1ではない場合(ケース1)の波形の1例であり、図3(b)は、デューティ比が1対1の場合(ケース2)の波形である。なお、本実施の形態例では、磁場発生装置に印加される電圧のデューティ比を任意に設定することができる。   FIG. 3 is a waveform diagram showing a waveform example of a voltage applied to the magnetic field generator of the apparatus according to the present embodiment. A pulse voltage is applied to the magnetic field generator (electromagnets 11 to 14) shown in FIG. FIG. 3A is an example of a waveform when the duty ratio is not 1: 1 (case 1), and FIG. 3B is a waveform when the duty ratio is 1: 1 (case 2). is there. In the present embodiment, the duty ratio of the voltage applied to the magnetic field generator can be arbitrarily set.

なお、上記パルス電圧の周波数は、洗浄水61の種類、流量、及び洗浄水供給管41の径等によって適正周波数範囲は上下するが、10KHz〜20GHz、特に、約800KHzの範囲とすることで、高い水質向上効果を達成することができる。   The frequency of the pulse voltage varies depending on the type of cleaning water 61, the flow rate, the diameter of the cleaning water supply pipe 41, etc., but the frequency range is 10 KHz to 20 GHz, particularly about 800 KHz. High water quality improvement effect can be achieved.

図2に示す磁場発生装置には、図3に示すパルス電圧が印加されるので、電磁石11〜14の磁力発生は、パルス状に断続することになり、これにより、水の流路(洗浄液流路)に設置された上記磁場発生装置を通過する水分子のクラスタ構造を効果的に分解して、細分化することができる。   Since the pulse voltage shown in FIG. 3 is applied to the magnetic field generator shown in FIG. 2, the magnetic force generation of the electromagnets 11 to 14 is interrupted in a pulsed manner. It is possible to effectively decompose and subdivide the cluster structure of water molecules passing through the magnetic field generator installed in the road.

図4は、本実施の形態例に係る洗浄水処理装置43のパルス電圧発生回路を含む構成を示す構成図である。図4において、本実施の形態例のパルス電圧発生回路は、直流電源供給部21と、CR発振器22と、電流増幅回路23を具備して構成される。なお、符号24は、磁場発生装置(図2に示す磁場発生装置の回路要素)を示す。   FIG. 4 is a configuration diagram showing a configuration including a pulse voltage generation circuit of the cleaning water treatment apparatus 43 according to the present embodiment. In FIG. 4, the pulse voltage generation circuit according to this embodiment includes a DC power supply unit 21, a CR oscillator 22, and a current amplifier circuit 23. Reference numeral 24 denotes a magnetic field generator (a circuit element of the magnetic field generator shown in FIG. 2).

直流電源供給部21から供給される電力の入力源は、直流安定化電源とする。さらに、専用の電池を使用することも可能である。CR発振器22の主要な構成要素は、抵抗とコンデンサから成るCR発振回路であり、直流電源供給部21から供給される直流電圧をパルス電圧に変換する。電流増幅回路23は、CR発振器22から出力されるパルス電圧を増幅する。磁場発生装置24の電気的に主要な構成要素は、本実施の形態例では、図2に示す電磁石11〜14を直列接続したものである。   An input source of power supplied from the DC power supply unit 21 is a DC stabilized power supply. It is also possible to use a dedicated battery. A main component of the CR oscillator 22 is a CR oscillation circuit including a resistor and a capacitor, and converts a DC voltage supplied from the DC power supply unit 21 into a pulse voltage. The current amplifier circuit 23 amplifies the pulse voltage output from the CR oscillator 22. Electrically main components of the magnetic field generator 24 are the electromagnets 11 to 14 shown in FIG. 2 connected in series in the present embodiment.

以上のように、この実施の形態例の洗浄水処理装置43によれば、水流路(洗浄水供給管41)を流れる水が、水分子のクラスタ構造を有している場合にも、この水を、磁場発生装置を通過させることにより、断続する磁気の作用によりクラスタを細分化することができる効果がある。   As described above, according to the cleaning water treatment apparatus 43 of this embodiment, even when the water flowing through the water flow path (washing water supply pipe 41) has a cluster structure of water molecules, By passing through the magnetic field generator, the cluster can be subdivided by the intermittent magnetic action.

図5は、洗浄水処理装置43の別の実施形態を示す構成図である。図5において、3つの磁場発生装置X,Y,Zが、水流路(洗浄水供給管41)に沿って一定の間隔で配置されている。磁場発生装置X,Y,Zの構成は、図2に示す磁場発生装置と同じである。   FIG. 5 is a configuration diagram showing another embodiment of the cleaning water treatment apparatus 43. In FIG. 5, three magnetic field generators X, Y, and Z are arranged at regular intervals along the water flow path (washing water supply pipe 41). The configuration of the magnetic field generators X, Y, and Z is the same as that of the magnetic field generator shown in FIG.

磁場発生装置X,Y,Zの磁石の配置は、図5(b)に示すように、本体の中心と磁極の中心とを結ぶ線分を、30度づつずれて配置している。即ち、磁場発生装置Yの磁石は、上記線分が磁場発生装置Xの磁石に比べて30度右回転した位置に配置され、磁場発生装置Zの磁石は、上記線分が磁場発生装置Yの磁石に比べて30度右回転した位置に配置されている。   As shown in FIG. 5B, the magnets of the magnetic field generators X, Y, and Z are arranged such that a line segment connecting the center of the main body and the center of the magnetic pole is shifted by 30 degrees. That is, the magnet of the magnetic field generator Y is arranged at a position where the line segment is rotated 30 degrees to the right of the magnet of the magnetic field generator X, and the magnet of the magnetic field generator Z is arranged such that the line segment of the magnetic field generator Y is It is arranged at a position rotated by 30 degrees to the right of the magnet.

本実施の形態では、本体の個数を3としたが、一般に、本発明では、2または4以上の個数とすることができる。しかし、この本体の設置個数は、電磁石のサイズを考慮すると、自ずから制限を有する。なお、上記の回転角度は、各磁場発生装置に嵌合される電磁石の数を4個とした場合には、本体の設置個数をnとする時、(90/n)度とすることにより、水流路を通過する水に対して、均等な回転磁場を与えることとなり、最も良好な水質向上効果を得ることができるが、隣接する磁場発生装置間の回転角度はそれぞれ異なるものとすることも可能である。   In the present embodiment, the number of main bodies is three, but in general, in the present invention, the number can be two or four or more. However, the number of the main bodies to be installed naturally has a limit in consideration of the size of the electromagnet. When the number of electromagnets fitted to each magnetic field generator is four, the above rotation angle is (90 / n) degrees when the number of installed main bodies is n. Evenly rotating magnetic field will be given to the water passing through the water flow path, and the best water quality improvement effect can be obtained, but the rotation angle between adjacent magnetic field generators can also be different It is.

なお、磁場発生装置X,Y,Zの水流路上の配置間隔は、前記磁場発生装置各々が発生する磁力の強さ(磁束の実効到達距離に関係する)と、前記磁場発生装置各々を通過した水のクラスタが再結合を開始する距離とを考慮して設定されるが、磁束の実効到達距離(例えば10cm)の1.0倍〜2.0倍(例えば15cm)とすることができる。また、本実施形態にあっては、配置間隔を一定としているが、各磁場発生装置間の距離を異なったものとすることもできる。   In addition, the arrangement interval on the water flow path of the magnetic field generators X, Y, and Z passes through each of the magnetic field generators and the strength of the magnetic force generated by each of the magnetic field generators (related to the effective reach distance of the magnetic flux). The distance is set in consideration of the distance at which the water cluster starts recombination, but may be 1.0 to 2.0 times (for example, 15 cm) of the effective reach distance (for example, 10 cm) of the magnetic flux. Moreover, in this embodiment, although the arrangement | positioning space | interval is constant, the distance between each magnetic field generator can also be made different.

図6は、図5に示す実施形態の磁場発生装置に印加される電圧の波形例を示す波形図である。図5に示す磁場発生装置X,Y,Zの各々には、図6に示すパルス電圧が印加される。即ち、このパルス電圧のデューティ比は、ローレベル状態の時間帯がハイレベル状態の時間帯の2倍の長さに設定されている。また、その位相に関し、磁場発生装置Yに印加されるパルス電圧は、磁場発生装置Xに印加されるパルス電圧よりもハイレベル状態1つ分の時間長だけ遅らされており、また、磁場発生装置Zに印加されるパルス電圧は、磁場発生装置Yに印加されるパルス電圧よりもハイレベル状態1つ分の時間長だけ遅らされている。   6 is a waveform diagram showing an example of a waveform of a voltage applied to the magnetic field generator of the embodiment shown in FIG. A pulse voltage shown in FIG. 6 is applied to each of the magnetic field generators X, Y, and Z shown in FIG. That is, the duty ratio of the pulse voltage is set to be twice as long as the time period in the low level state as compared to the time period in the high level state. Further, with respect to the phase, the pulse voltage applied to the magnetic field generator Y is delayed by a time length corresponding to one high level state than the pulse voltage applied to the magnetic field generator X, and the magnetic field generation The pulse voltage applied to the device Z is delayed from the pulse voltage applied to the magnetic field generator Y by a time length corresponding to one high level state.

なお、上記パルス電圧の周波数は、処理する水の種類、流量、及び水流路(洗浄水供給管41)の径等によって適正周波数範囲は上下するが、10KHz〜20GHz、特に、約800KHzの範囲とすることで、高い水質向上効果を達成することができる。   The frequency of the pulse voltage varies depending on the type of water to be treated, the flow rate, the diameter of the water flow path (wash water supply pipe 41), etc., but the frequency range is 10 kHz to 20 GHz, particularly about 800 kHz. By doing so, a high water quality improvement effect can be achieved.

図5に示す磁場発生装置X,Y,Zには、図6に示すパルス電圧が印加されるので、磁場発生装置X,Y,Zの各々に保持されている電磁石11〜14の磁力発生は、パルス状に断続することになると共に、図5(a)に示すような回転角が与えられ、さらに、図6に示す印加電圧の波形により、磁場発生装置X,Y,Zの各々の磁力発生時刻が異なることになるので、これにより、水流路に設置された上記磁場発生装置X,Y,Zを通過する水分子のクラスタ構造を、一層細かく分解して、細分化されたクラスタにすることができると共に、水分子の再結合による再クラスタ化を防止することができる。   Since the pulse voltage shown in FIG. 6 is applied to the magnetic field generators X, Y, and Z shown in FIG. 5, the magnetic force generation of the electromagnets 11 to 14 held in each of the magnetic field generators X, Y, and Z is The rotation angle as shown in FIG. 5 (a) is given, and the magnetic force of each of the magnetic field generators X, Y, and Z is given by the waveform of the applied voltage shown in FIG. Since the generation times are different, the cluster structure of water molecules passing through the magnetic field generators X, Y, and Z installed in the water flow path is further finely divided into subdivided clusters. In addition, reclustering due to recombination of water molecules can be prevented.

なお、本実施形態では、磁場発生装置X,Y,Zの各々に印加されるパルス電圧を図6に示すもの(即ち、3系統のパルス電圧のハイレベル状態が連続しているもの)としたが、一般に、本発明では、複数系統のパルス電圧のハイレベル状態が一部重複するものとすることも可能であり、また、3系統のパルス電圧のハイレベル状態間にローレベル状態が介在するものとすること(即ち、図6においては、磁場発生装置Xへの各パルス電圧の終了と同時に磁場発生装置Yへの各パルス電圧が開始されているが、磁場発生装置Xへの各パルス電圧の終了から所定時間経過後に磁場発生装置Yへの各パルス電圧が開始するものとすること)も可能である。   In the present embodiment, the pulse voltage applied to each of the magnetic field generators X, Y, and Z is as shown in FIG. 6 (that is, the high-level state of the three systems of pulse voltages is continuous). However, in general, in the present invention, the high level states of a plurality of pulse voltages can partially overlap, and a low level state is interposed between the high level states of three pulse voltages. (In FIG. 6, each pulse voltage to the magnetic field generator Y is started simultaneously with the end of each pulse voltage to the magnetic field generator X. It is also possible that each pulse voltage to the magnetic field generator Y starts after a lapse of a predetermined time from the end of the above.

図7は、図5に示す実施形態の洗浄水処理装置43のパルス電圧発生回路を含む構成を示す構成図である。   FIG. 7 is a configuration diagram showing a configuration including a pulse voltage generation circuit of the cleaning water treatment apparatus 43 of the embodiment shown in FIG.

図7において、本パルス電圧発生回路は、直流電源供給部31と、CR発振器32と、シフトレジスタ33と、電流増幅回路34とを具備して構成される。なお、符号35〜37は、磁場発生装置(図5に示す磁場発生装置X〜Zの回路要素)を示す。直流電源供給部31から供給される電力の入力源は、直流安定化電源及び専用の電池を使用することも可能である。CR発振器32の主要な構成要素は、抵抗とコンデンサから成るCR発振回路であり、直流電源供給部31から供給される直流電圧をパルス電圧に変換する。   In FIG. 7, the pulse voltage generation circuit includes a DC power supply unit 31, a CR oscillator 32, a shift register 33, and a current amplification circuit 34. Reference numerals 35 to 37 denote magnetic field generators (circuit elements of the magnetic field generators X to Z shown in FIG. 5). As an input source of power supplied from the DC power supply unit 31, a DC stabilized power supply and a dedicated battery can be used. A main component of the CR oscillator 32 is a CR oscillation circuit including a resistor and a capacitor, and converts a DC voltage supplied from the DC power supply unit 31 into a pulse voltage.

シフトレジスタ33は、CR発振器32から供給されるパルス電圧を、図6に示すような磁場発生装置X,Y,Zの各々に印加される複数出力(複数系統)のパルス電圧に変換する。電流増幅回路34は、シフトレジスタ33から出力される磁場発生装置X,Y,Z向けのパルス電圧の各々を増幅する。磁場発生装置X(35)〜磁場発生装置Z(37)の電気的に主要な構成要素は、本実施形態では、図2に示す電磁石11〜14を直列接続したものである。   The shift register 33 converts the pulse voltage supplied from the CR oscillator 32 into a pulse voltage of a plurality of outputs (a plurality of systems) applied to each of the magnetic field generators X, Y, and Z as shown in FIG. The current amplification circuit 34 amplifies each of the pulse voltages for the magnetic field generators X, Y, and Z output from the shift register 33. In the present embodiment, the main electrical components of the magnetic field generator X (35) to the magnetic field generator Z (37) are the electromagnets 11 to 14 shown in FIG. 2 connected in series.

以上のように、この実施形態によれば、水流路を流れる水が、水分子のクラスタ構造を有している場合にも、この水を、前述の磁場発生装置X,Y,Zを通過させることにより、水流路を通過する水分子のクラスタ構造を、パルス状に断続する磁気の作用により一層細かく細分化することができると共に、水分子の再結合による再クラスタ化を防止することができる効果がある。   As described above, according to this embodiment, even when the water flowing through the water flow path has a cluster structure of water molecules, this water is allowed to pass through the magnetic field generators X, Y, and Z described above. As a result, the cluster structure of water molecules passing through the water channel can be further subdivided by the action of magnetism that is intermittently pulsed, and reclustering due to recombination of water molecules can be prevented. There is.

なお、この実施形態にあっては、各々4個の電磁石を備えた、3つの磁場発生装置を用いているが、磁場発生装置に嵌合される電磁石の数を、5以上、又は、3以下とすることも可能であり、個々の磁場発生装置に嵌合される電磁石の数を、磁場発生装置毎に異なるものとし、或いは、同数とすることも可能である。また、それぞれの磁石発生装置における電磁石の配置は、第5図に示すように、本体の中心軸の同心円上に等角度間隔で配置することが好ましいが、当該等角度間隔の配置からずれた位置に配置しても構わない。   In this embodiment, three magnetic field generators each having four electromagnets are used, but the number of electromagnets fitted to the magnetic field generator is 5 or more, or 3 or less. The number of electromagnets fitted to individual magnetic field generators may be different for each magnetic field generator or may be the same. Further, as shown in FIG. 5, it is preferable that the electromagnets in the respective magnet generators are arranged at equiangular intervals on the concentric circle of the central axis of the main body, but the positions deviated from the equiangular intervals are arranged. You may arrange in.

更に、この実施形態の変形例として、この実施形態におけるパルス電圧の印加の方法をそのままに、隣接する電磁石同士が円盤状本体の中心に関して、30°の角度をなす12個の電磁石を有する単一の磁場発生装置により洗浄水処理装置43を構成することもできる。   Further, as a modification of this embodiment, the single electromagnet having twelve electromagnets whose adjacent electromagnets form an angle of 30 ° with respect to the center of the disk-shaped body, with the method of applying the pulse voltage in this embodiment as it is. The washing water treatment device 43 can also be constituted by the magnetic field generator.

この場合、互いに90°の角度をなす4個の電磁石からなる第1のグループが最初に励磁され、次いで該第1のグループの電磁石に対して30°回転した4個の電磁石からなる第2のグループが励磁され、最後に該第2のグループの電磁石に対して30°回転した4個の電磁石からなる第3のグループが励磁されて、再び第1のグループの4個の電磁石の励磁に戻り、以降これを繰り返すこととなる。   In this case, a first group of four electromagnets that are at an angle of 90 ° to each other is first excited and then a second group of four electromagnets rotated by 30 ° relative to the first group of electromagnets. The group is excited, and finally the third group of four electromagnets rotated by 30 ° with respect to the second group of electromagnets is excited, returning to the excitation of the four electromagnets of the first group again. This will be repeated thereafter.

これにより、一の磁場発生装置において回転する磁場が形成され、回転磁場の作用下、水分子を一層効果的に細分化することができる。   Thereby, a rotating magnetic field is formed in one magnetic field generator, and water molecules can be subdivided more effectively under the action of the rotating magnetic field.

更なる変形例として、単一、或いは、3つの円盤状の本体に嵌合される12個の電磁石をグループ化することなく、全ての電磁石に対して一方の回転方向で順次パルス電圧を印加して磁場が360°回転するようにしてもよい。   As a further modification, a pulse voltage is sequentially applied to all electromagnets in one rotational direction without grouping 12 electromagnets fitted to a single or three disc-shaped bodies. The magnetic field may be rotated 360 °.

なお、上記2つの変形例においても、電磁石の個数は本発明の本質ではなく、13以上、又は、11以下の電磁石を使用した洗浄水処理装置43とすることも可能である。   In the two modified examples described above, the number of electromagnets is not the essence of the present invention, and the washing water treatment apparatus 43 using 13 or more or 11 or less electromagnets may be used.

更に、前述した2番目の実施形態、及び、その変形例では、水分子に対して一定方向に回転する磁場が作用するように個々の電磁石に印加するパルス電圧のタイミングが制御される場合について説明したが、磁場の回転方向が所定のタイミングで反転する態様でパルス電圧のタイミングを制御することも可能である。   Furthermore, in the second embodiment described above and its modification, the case where the timing of the pulse voltage applied to each electromagnet is controlled so that a magnetic field rotating in a certain direction acts on water molecules will be described. However, it is also possible to control the timing of the pulse voltage in such a manner that the rotation direction of the magnetic field is reversed at a predetermined timing.

以上説明したように、本実施の形態例に係る超音波洗浄・バリ取り装置100の洗浄水処理装置43によれば、水分子のクラスタを効果的に細分化でき、また、一旦細分化された水分子のクラスタが再結合することを防ぐことができる。従って、クラスタ構造が細分化された洗浄水61が洗浄槽60に提供され、洗浄中に被洗浄物80の表面にキズをつけずらくなるので、放射する超音波を従来よりも強くすることができ、洗浄力を向上させることが可能となる。さらに、本洗浄水処理装置43は、構造が簡単で、かつ水流路の任意の箇所に簡単に設置することができるという利点もある。   As described above, according to the cleaning water treatment apparatus 43 of the ultrasonic cleaning / deburring apparatus 100 according to the present embodiment, the water molecule clusters can be effectively subdivided and once subdivided. It is possible to prevent water molecules from recombining. Accordingly, the cleaning water 61 with the cluster structure subdivided is provided to the cleaning tank 60, and it becomes difficult to scratch the surface of the object 80 during cleaning, so that the emitted ultrasonic waves can be made stronger than before. And the cleaning power can be improved. Furthermore, the cleaning water treatment apparatus 43 has an advantage that the structure is simple and it can be easily installed at an arbitrary location in the water flow path.

次に、本実施の形態例に係る超音波洗浄・バリ取り装置100の発振器50について説明する。図8は、発振器50の概略の回路構成を示した構成図である。前述のように、発振器50は、超音波振動子70に印加する所定波形の電圧を生成する部分であり、図8に示すように、フィルタ回路51、整流回路52、インバータ回路53、パルス発生回路A54、パルス発生回路B55、及び二次回路56等で構成される。   Next, the oscillator 50 of the ultrasonic cleaning / deburring apparatus 100 according to this embodiment will be described. FIG. 8 is a configuration diagram showing a schematic circuit configuration of the oscillator 50. As described above, the oscillator 50 is a part that generates a voltage having a predetermined waveform to be applied to the ultrasonic transducer 70. As shown in FIG. 8, the filter circuit 51, the rectifier circuit 52, the inverter circuit 53, and the pulse generation circuit. A54, a pulse generation circuit B55, a secondary circuit 56, and the like.

当該発振器50では、一般の電源等から入力された電力に対して、フィルタ回路51及び整流回路52においてフィルタリング及び整流の処理がなされ、矩形波となった電圧がインバータ回路53に入力される。インバータ回路53、パルス発生回路A54及びパルス発生回路B55では、超音波振動子70に出力する電圧の周波数と矩形波での波形が決定される。その後、二次回路56との間で変圧され、更に、矩形波であった電圧が正弦波に変換されて超音波振動子70に出力される。なお、超音波洗浄・バリ取り装置における超音波振動子に対しては、矩形波の電圧を印加するよりも正弦波の電圧を印加する方が効力を発揮することが知られている。   In the oscillator 50, filtering and rectification processing are performed in the filter circuit 51 and the rectifier circuit 52 with respect to electric power input from a general power supply or the like, and the voltage that has become a rectangular wave is input to the inverter circuit 53. In the inverter circuit 53, the pulse generation circuit A54, and the pulse generation circuit B55, the frequency of the voltage output to the ultrasonic transducer 70 and the waveform of a rectangular wave are determined. Thereafter, the voltage is transformed with the secondary circuit 56, and the voltage that is a rectangular wave is converted into a sine wave and output to the ultrasonic transducer 70. It is known that applying a sinusoidal voltage to an ultrasonic transducer in an ultrasonic cleaning / deburring apparatus is more effective than applying a rectangular wave voltage.

本発振器50における一つの特徴は、超音波振動子70に出力(印加)される電圧が多重波であるということである。図9は、本発振器50から出力される電圧の波形を例示した図である。図9は、基本波である正弦波(図中のA)に、当該基本波より周波数の大きい波(図中のB)が加えられて上記多重波を形成している例である。かかる多重波は、例えば、25KHzの基本波に25KHz〜535KHzの鋭い波形が加えられて生成される。   One feature of the oscillator 50 is that the voltage output (applied) to the ultrasonic transducer 70 is a multiple wave. FIG. 9 is a diagram illustrating the waveform of the voltage output from the oscillator 50. FIG. 9 shows an example in which a wave having a frequency higher than that of the fundamental wave (B in the figure) is added to a sine wave that is the fundamental wave (A in the figure) to form the multiplexed wave. Such a multiplexed wave is generated, for example, by adding a sharp waveform of 25 KHz to 535 KHz to a fundamental wave of 25 KHz.

この多重波のうち、基本波の部分は、前述したパルス発生回路A54に基づいて生成され、この基本波に加えられる波は、パルス発生回路B55に基づいて生成される。従来の発振器においては、通常、このパルス発生回路B55を有しておらず、本発振器50において当該回路を有し、これに基づいて前述した多重波の電圧が超音波振動子70に印加されることが大きな特徴の一つである。   Of this multiplexed wave, the fundamental wave portion is generated based on the aforementioned pulse generation circuit A54, and the wave added to this fundamental wave is generated based on the pulse generation circuit B55. Conventional oscillators usually do not have this pulse generation circuit B55, and this oscillator 50 has such a circuit. Based on this circuit, the above-described multiwave voltage is applied to the ultrasonic transducer 70. This is one of the major features.

このように、前述したような多重波の電圧が超音波振動子70に印加されると、単なる基本波(例えば、図9のA)のみの電圧を印加する場合よりも、被洗浄物80に対する洗浄及びバリ取りの能力が向上することが実験により得られ、本発振器50を用いることにより、従来よりも、洗浄及びバリ取りの効力を向上させることが可能となる。   As described above, when the multi-wave voltage as described above is applied to the ultrasonic transducer 70, the object 80 to be cleaned is applied rather than the case where only the voltage of only the fundamental wave (for example, A in FIG. 9) is applied. Experiments have shown that the cleaning and deburring capabilities are improved, and the use of the oscillator 50 makes it possible to improve the cleaning and deburring effectiveness than before.

次に、本発振器50におけるもう一つの特徴について説明する。発振器50の二次回路においては、前述のように、周波数と電圧値の決定された電圧を正弦波に変換する処理を行うが、当該変換処理のために設けられるチョークコイル561のインダクタンスL値に特徴がある。   Next, another feature of the present oscillator 50 will be described. As described above, in the secondary circuit of the oscillator 50, the voltage and the voltage value determined are converted into a sine wave. The inductance L value of the choke coil 561 provided for the conversion process is converted into the value. There are features.

図10は、本発振器50における二次回路56周辺の概略の回路を示した図である。図10のチョークコイル561が前述の二次回路56におけるチョークコイルであり、ここで、超音波振動子70に出力する電圧が正弦波に変換される。本発振器50では、このチョークコイル561のインダクタンスL値に特徴がある。従来は、超音波振動子70での静電容量Cと超音波振動子70の振動周波数f(すなわち、前記発振器50から出力される多重波における基本波の周波数)が決まると、二次回路におけるチョークコイルのインダクタンスLは、下記(1)式によって求めていた。   FIG. 10 is a diagram showing a schematic circuit around the secondary circuit 56 in the oscillator 50. The choke coil 561 shown in FIG. 10 is the choke coil in the secondary circuit 56 described above, and the voltage output to the ultrasonic transducer 70 is converted into a sine wave. This oscillator 50 is characterized by the inductance L value of the choke coil 561. Conventionally, when the capacitance C in the ultrasonic transducer 70 and the vibration frequency f of the ultrasonic transducer 70 (that is, the frequency of the fundamental wave in the multiplexed wave output from the oscillator 50) are determined, The inductance L of the choke coil was obtained by the following equation (1).

f=1/(2π(LC)1/2) (1)
この(1)式によるfは、通常、共振周波数と呼ばれるものであり、従って、従来は、超音波振動子70の振動周波数がこの共振周波数となるようにインダクタンスLの値を設定していた。
f = 1 / (2π (LC) 1/2 ) (1)
F in the equation (1) is usually called a resonance frequency. Therefore, conventionally, the value of the inductance L is set so that the vibration frequency of the ultrasonic transducer 70 becomes the resonance frequency.

しかしながら、本発振器50では、このインダクタンスLを前記(1)式から求まる値とは異なる値としている。この様な値とすることにより、同仕様の超音波振動子70について、従来よりもバリ取りの能力が向上することが実験により得られており、本発振器50を用いることで、特に、バリ取りの効力を向上させることが可能となる。なお、本実施の形態例においては、図10に示すように、チョークコイル561を二つのコイルから構成している。   However, in this oscillator 50, the inductance L is set to a value different from the value obtained from the equation (1). It has been experimentally obtained that the deburring capability of the ultrasonic transducer 70 having the same specifications is improved as compared with the conventional value by using such a value. It becomes possible to improve the efficacy of. In the present embodiment, the choke coil 561 is composed of two coils as shown in FIG.

以上説明したように、本実施の形態例に係る発振器50は大きく二つの特徴を有し、これらの特徴により、洗浄、バリ取りの効力を向上させることができる。   As described above, the oscillator 50 according to the present embodiment has two main characteristics, and the effects of cleaning and deburring can be improved by these characteristics.

このように、本超音波洗浄・バリ取り装置100を用いることにより、洗浄水61のクラスタが細分化され、また、洗浄、バリ取りにとって有効な超音波振動子70の振動が行われる。従って、従来よりも、洗浄、バリ取りの効力を向上させることが可能となる。   As described above, by using the ultrasonic cleaning / deburring apparatus 100, the cluster of the cleaning water 61 is subdivided, and the vibration of the ultrasonic vibrator 70 effective for cleaning and deburring is performed. Therefore, it is possible to improve the effectiveness of cleaning and deburring than before.

なお、本実施の形態例に係る超音波洗浄・バリ取り装置100では、洗浄水処理装置43を備えた装置としたが、当該洗浄水処理装置43を備えない構成とし、前述した発振器50における特徴を主な特徴とした装置とすることもできる。この場合には、主に、バリ取り装置として使用されることが好ましい。一方、逆に、洗浄水処理装置43を備えるが、前記発振器50の特徴を備えない構成とすることもできる。すなわち、従来の超音波洗浄・バリ取り装置に洗浄水処理装置43を追加した構成である。この場合には、主に、洗浄装置として使用されることが好ましい。   In the ultrasonic cleaning / deburring apparatus 100 according to the present embodiment, the cleaning water treatment apparatus 43 is provided. However, the cleaning water treatment apparatus 43 is not provided, and the characteristics of the oscillator 50 described above. It can also be set as the apparatus characterized by these. In this case, it is preferably used mainly as a deburring device. On the other hand, although the cleaning water treatment device 43 is provided, the oscillator 50 may not have the characteristics. That is, the cleaning water treatment device 43 is added to the conventional ultrasonic cleaning / deburring device. In this case, it is preferably used mainly as a cleaning device.

本発明の保護範囲は、上記の実施の形態に限定されず、特許請求の範囲に記載された発明とその均等物に及ぶものである。   The protection scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, but covers the invention described in the claims and equivalents thereof.

本発明を適用した超音波洗浄・バリ取り装置の実施の形態例に係る概略の構成図である。1 is a schematic configuration diagram according to an embodiment of an ultrasonic cleaning / deburring apparatus to which the present invention is applied. FIG. 本実施の形態例に係る洗浄水処理装置43の構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the structure of the washing water processing apparatus 43 which concerns on the example of this Embodiment. 本実施の形態例に係る装置の磁場発生装置に印加される電圧の波形を示す波形図である。It is a wave form diagram which shows the waveform of the voltage applied to the magnetic field generator of the apparatus which concerns on the example of this Embodiment. 本実施の形態例に係る洗浄水処理装置43のパルス電圧発生回路を含む構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the structure containing the pulse voltage generation circuit of the washing water treatment apparatus 43 which concerns on this Example. 洗浄水処理装置43の別の実施形態を示す構成図である。It is a block diagram which shows another embodiment of the washing water processing apparatus 43. FIG. 図5に示す実施形態の磁場発生装置に印加される電圧の波形例を示す波形図である。It is a wave form diagram which shows the example of a waveform of the voltage applied to the magnetic field generator of embodiment shown in FIG. 図5に示す実施形態の洗浄水処理装置43のパルス電圧発生回路を含む構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the structure containing the pulse voltage generation circuit of the washing water processing apparatus 43 of embodiment shown in FIG. 発振器50の概略の回路構成を示した構成図である。2 is a configuration diagram showing a schematic circuit configuration of an oscillator 50. FIG. 本発振器50から出力される電圧の波形を例示した図である。6 is a diagram illustrating a waveform of a voltage output from the oscillator 50. FIG. 本発振器50における二次回路56周辺の概略の回路を示した図である。3 is a diagram showing a schematic circuit around a secondary circuit 56 in the oscillator 50. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 洗浄水処理装置本体(基板)、 10 洗浄水供給管用空洞部、 11〜14 電磁石、 21,31 直流電源供給部、 22,32 CR発振器(電圧発生回路)、 23,34 電流増幅回路(電圧発生回路)、 24 磁場発生装置、 33 シフトレジスタ(電圧発生回路)、 35 磁場発生装置X、36 磁場発生装置Y、 37 磁場発生装置Z、 40 洗浄水供給装置(洗浄液供給手段)、 41 洗浄水供給管(洗浄液供給管)、 42 洗浄水ポンプ、 43 洗浄水処理装置、 50 発振器、 51 フィルタ回路、 52 整流回路、 53 インバータ回路、 54 パルス発生回路A、 55 パルス発生回路B、 56 二次回路、 60 洗浄槽、 61 洗浄水、 70 超音波振動子、 71 振動素子、 80 被洗浄物、 100 超音波洗浄・バリ取り装置、 561 チョークコイル   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Washing water processing apparatus main body (board | substrate), 10 Cavity part for washing water supply pipes, 11-14 Electromagnet, 21, 31 DC power supply part, 22, 32 CR oscillator (voltage generation circuit), 23, 34 Current amplification circuit (voltage) Generator circuit), 24 magnetic field generator, 33 shift register (voltage generator circuit), 35 magnetic field generator X, 36 magnetic field generator Y, 37 magnetic field generator Z, 40 washing water supply device (cleaning liquid supply means), 41 washing water Supply pipe (cleaning liquid supply pipe), 42 Washing water pump, 43 Washing water treatment device, 50 Oscillator, 51 Filter circuit, 52 Rectifier circuit, 53 Inverter circuit, 54 Pulse generation circuit A, 55 Pulse generation circuit B, 56 Secondary circuit , 60 cleaning tank, 61 cleaning water, 70 ultrasonic vibrator, 71 vibration element, 80 object to be cleaned, 1 00 Ultrasonic cleaning and deburring device, 561 Choke coil

Claims (14)

洗浄液を収容する洗浄槽と、前記洗浄槽に洗浄液流路を介して前記洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記洗浄槽内に設けられた超音波振動子と、前記超音波振動子を作動させる発振器とを有し、前記超音波振動子から前記洗浄液に超音波を放射して、前記洗浄液中に浸漬された被洗浄物の洗浄及び又はバリ取りを行う超音波洗浄・バリ取り装置であって、
前記洗浄液供給手段は、
前記供給する洗浄液に対して磁場を作用させる磁場発生装置と、
前記磁場発生装置に電圧を供給する電圧発生回路とを備え、
前記電圧発生回路は、前記磁場発生装置が前記洗浄液に対して磁場を印加する状態と磁場を印加しない状態とを反復するように制御される
ことを特徴とする超音波洗浄・バリ取り装置。
A cleaning tank for storing the cleaning liquid, a cleaning liquid supply means for supplying the cleaning liquid to the cleaning tank via a cleaning liquid flow path, an ultrasonic vibrator provided in the cleaning tank, and operating the ultrasonic vibrator An ultrasonic cleaning / deburring device that radiates ultrasonic waves from the ultrasonic vibrator to the cleaning liquid and performs cleaning and / or deburring of an object immersed in the cleaning liquid. ,
The cleaning liquid supply means includes
A magnetic field generator for applying a magnetic field to the supplied cleaning liquid;
A voltage generation circuit for supplying a voltage to the magnetic field generator,
The ultrasonic cleaning / deburring apparatus, wherein the voltage generation circuit is controlled so that the magnetic field generation device repeats a state in which a magnetic field is applied to the cleaning liquid and a state in which no magnetic field is applied.
請求項1において、
前記電圧発生回路は、前記磁場発生装置にパルス電圧を供給する
ことを特徴とする超音波洗浄・バリ取り装置。
In claim 1,
The ultrasonic cleaning / deburring device, wherein the voltage generating circuit supplies a pulse voltage to the magnetic field generating device.
請求項1あるいは請求項2において、
前記磁場発生装置は、前記洗浄液流路の途中に設置されるものであり、中心部に前記洗浄液流路を貫通させるための空洞部を有する円盤状の本体と、前記本体に設けられた少なくとも1個の電磁石とを具備している
ことを特徴とする超音波洗浄・バリ取り装置。
In claim 1 or claim 2,
The magnetic field generator is installed in the middle of the cleaning liquid flow path, and has a disk-shaped main body having a hollow portion for penetrating the cleaning liquid flow path in the center, and at least one provided in the main body. An ultrasonic cleaning / deburring device characterized by comprising an electromagnet.
請求項3において、
前記電磁石の両極の中央間を結ぶ線分は、前記円盤状の本体の断面の中心を通る前記断面上の直線に沿っている
ことを特徴とする超音波洗浄・バリ取り装置。
In claim 3,
The ultrasonic cleaning / deburring apparatus according to claim 1, wherein a line connecting the centers of both poles of the electromagnet is along a straight line on the cross section passing through a center of a cross section of the disk-shaped main body.
請求項3あるいは請求項4において、
前記本体に嵌合された電磁石は複数個あり、当該複数個の電磁石は、電気的に全て直列接続または全て並列接続されたものである
ことを特徴とする超音波洗浄・バリ取り装置。
In claim 3 or claim 4,
There are a plurality of electromagnets fitted to the main body, and the plurality of electromagnets are all electrically connected in series or all connected in parallel.
請求項1乃至5のいずれかにおいて、
前記洗浄液流路は、洗浄液供給管である
ことを特徴とする超音波洗浄・バリ取り装置。
In any one of Claims 1 thru | or 5,
The ultrasonic cleaning / deburring apparatus, wherein the cleaning liquid flow path is a cleaning liquid supply pipe.
請求項1乃至請求項6のいずれかにおいて、
前記磁場発生装置は、前記洗浄液流路の途中に所定の間隔を隔てて複数個設置されている
ことを特徴とする超音波洗浄・バリ取り装置。
In any one of Claims 1 thru | or 6,
The ultrasonic cleaning / deburring device, wherein a plurality of the magnetic field generators are installed at predetermined intervals in the middle of the cleaning liquid flow path.
請求項7において、
前記複数個の磁場発生装置は、各円盤状の本体に設けられた電磁石の位置が隣接する円盤状の本体間で、円盤状本体の中心軸のまわりの回転方向に相互にずれている
ことを特徴とする超音波洗浄・バリ取り装置。
In claim 7,
In the plurality of magnetic field generators, the positions of the electromagnets provided in each disk-shaped body are shifted from each other in the rotation direction around the central axis of the disk-shaped body between adjacent disk-shaped bodies. Features ultrasonic cleaning and deburring equipment.
請求項7あるいは請求項8において、
前記磁場発生装置が三つ設置され、
一の前記磁場発生装置が磁場を印加する状態である間は、他の二つは磁場を印加しない状態にあるように、前記電圧発生回路が制御される
ことを特徴とする超音波洗浄・バリ取り装置。
In claim 7 or claim 8,
Three of the magnetic field generators are installed,
While the one magnetic field generation device is in a state of applying a magnetic field, the voltage generation circuit is controlled so that the other two are in a state in which no magnetic field is applied. Take-off device.
請求項8において、
前記磁場発生装置は、前記洗浄液流路の途中に所定の間隔を隔てて3個以上設置されている
ことを特徴とする超音波洗浄・バリ取り装置。
In claim 8,
The ultrasonic cleaning / deburring apparatus is characterized in that three or more magnetic field generators are installed at predetermined intervals in the middle of the cleaning liquid flow path.
洗浄液を収容する洗浄槽と、前記洗浄槽内に設けられた超音波振動子と、前記超音波振動子に電圧を印加して前記超音波振動子を作動する発振器とを有し、前記超音波振動子から前記洗浄液に超音波を放射して、前記洗浄液中に浸漬された被洗浄物の洗浄及び又はバリ取りを行う超音波洗浄・バリ取り装置であって、
前記発振器は、所定周波数の基本波に当該基本波の周波数よりも多い周波数の波を加えた多重波の波形をなす電圧を前記超音波振動子に印加する
ことを特徴とする超音波洗浄・バリ取り装置。
A cleaning tank that contains a cleaning liquid; an ultrasonic vibrator provided in the cleaning tank; and an oscillator that operates the ultrasonic vibrator by applying a voltage to the ultrasonic vibrator. An ultrasonic cleaning / deburring device that radiates ultrasonic waves from a vibrator to the cleaning liquid and cleans and / or deburrs the object to be cleaned immersed in the cleaning liquid,
The oscillator applies a voltage having a multiple wave waveform obtained by adding a wave having a frequency higher than the frequency of the fundamental wave to a fundamental wave having a predetermined frequency to the ultrasonic transducer. Take-off device.
請求項1乃至請求項10のいずれかにおいて、
前記発振器は前記超音波振動子を作動させるために電圧を印加し、
当該電圧は、所定周波数の基本波に当該基本波の周波数よりも多い周波数の波を加えた多重波の波形をなす
ことを特徴とする超音波洗浄・バリ取り装置。
In any one of Claims 1 to 10,
The oscillator applies a voltage to operate the ultrasonic transducer,
The ultrasonic cleaning / deburring apparatus characterized in that the voltage forms a multi-wave waveform obtained by adding a wave having a frequency higher than the frequency of the fundamental wave to a fundamental wave having a predetermined frequency.
洗浄液を収容する洗浄槽と、前記洗浄槽内に設けられた超音波振動子と、前記超音波振動子に電圧を印加して前記超音波振動子を作動する発振器とを有し、前記超音波振動子から前記洗浄液に超音波を放射して、前記洗浄液中に浸漬された被洗浄物の洗浄及び又はバリ取りを行う超音波洗浄・バリ取り装置であって、
前記発振器は、
前記超音波振動子に印加する電圧の周波数を有する矩形波の電圧を生成する回路と、
前記生成された矩形波の電圧を正弦波の電圧に変換し、変換後の電圧が前記超音波振動子に印加されるコイルとを備え、
前記コイルのインダクタンス値は、当該インダクタンス値と前記超音波振動子が有する静電容量から定められる共振周波数が、前記超音波振動子に印加する電圧の周波数に等しくなるような値、とは異なる
ことを特徴とする超音波洗浄・バリ取り装置。
A cleaning tank that contains a cleaning liquid; an ultrasonic vibrator provided in the cleaning tank; and an oscillator that operates the ultrasonic vibrator by applying a voltage to the ultrasonic vibrator. An ultrasonic cleaning / deburring device that radiates ultrasonic waves from a vibrator to the cleaning liquid and cleans and / or deburrs the object to be cleaned immersed in the cleaning liquid,
The oscillator is
A circuit for generating a rectangular wave voltage having a frequency of a voltage applied to the ultrasonic transducer;
The generated rectangular wave voltage is converted into a sine wave voltage, and the converted voltage is applied to the ultrasonic transducer,
The inductance value of the coil is different from a value such that the resonance frequency determined from the inductance value and the capacitance of the ultrasonic transducer is equal to the frequency of the voltage applied to the ultrasonic transducer. Ultrasonic cleaning and deburring device.
請求項1乃至請求項12のいずれかにおいて、
前記発振器は、
前記超音波振動子に印加する電圧の周波数と等しい周波数を有する矩形波の電圧を生成する回路と、
前記生成された矩形波の電圧を正弦波の電圧に変換し、変換後の電圧が前記超音波振動子に印加されるコイルとを備え、
前記コイルのインダクタンス値は、当該インダクタンス値と前記超音波振動子が有する静電容量から定められる共振周波数が、前記超音波振動子に印加する電圧の周波数に等しくなるような値、とは異なる
ことを特徴とする超音波洗浄・バリ取り装置。
In any one of Claims 1 to 12,
The oscillator is
A circuit for generating a rectangular wave voltage having a frequency equal to the frequency of the voltage applied to the ultrasonic transducer;
The generated rectangular wave voltage is converted into a sine wave voltage, and the converted voltage is applied to the ultrasonic transducer,
The inductance value of the coil is different from a value such that the resonance frequency determined from the inductance value and the capacitance of the ultrasonic transducer is equal to the frequency of the voltage applied to the ultrasonic transducer. Ultrasonic cleaning and deburring device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107754454A (en) * 2016-08-23 2018-03-06 李正荣 A kind of ultrasonic activation water washing device and its cleaning method
CN114404033A (en) * 2022-03-28 2022-04-29 江苏省人民医院(南京医科大学第一附属医院) Carbonization cleaning control system for energy apparatus
CN117373953A (en) * 2023-10-16 2024-01-09 安徽明洋电子有限公司 High-efficient cleaning equipment of electronic device

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