JP2006060116A - Organic thin film transistor, material therefor, field effect transistor and switching device - Google Patents

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Tatsuo Tanaka
達夫 田中
Katsura Hirai
桂 平井
Chiyoko Takemura
千代子 竹村
Hiroshi Kita
弘志 北
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  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic TFT and a field effect transistor having high carrier mobility and high durability by molecularly designing an organic TFT material useful for a thin film transistor and using the obtained organic TFT material, and to provide a switching device having the organic TFT or the field effect transistor. <P>SOLUTION: The organic thin film transistor material contains a macromolecule comprising a π conjugated system structure having weight average molecular weight Mw in a range of 5,000-10,000,000, and the ratio between the Mw and number average molecular weight Mn i.e. Mw/Mn ≤3 as a partial structure. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、有機薄膜トランジスタ材料、有機薄膜トランジスタ、電界効果トランジスタ及びスイッチング素子に関する。   The present invention relates to an organic thin film transistor material, an organic thin film transistor, a field effect transistor, and a switching element.

情報端末の普及に伴い、コンピュータ用のディスプレイとしてフラットパネルディスプレイに対するニーズが高まっている。また、更に情報化の進展に伴い、従来紙媒体で提供されていた情報が電子化されて提供される機会が増え、薄くて軽い、手軽に持ち運びが可能なモバイル用表示媒体として、電子ペーパーあるいはデジタルペーパーへのニーズも高まりつつある。   With the widespread use of information terminals, there is an increasing need for flat panel displays as computer displays. In addition, with the progress of computerization, information that has been provided on paper media in the past has become more and more electronically provided. As a mobile display medium that is thin, light, and easy to carry, electronic paper or There is a growing need for digital paper.

一般に平板型のディスプレイ装置においては液晶、有機EL、電気泳動などを利用した素子を用いて表示媒体を形成している。またこうした表示媒体では画面輝度の均一性や画面書き換え速度などを確保するために、画像駆動素子としてアクティブ駆動素子(TFT素子)を用いる技術が主流になっている。例えば、通常のコンピュータディスプレイではガラス基板上にこれらTFT素子を形成し、液晶、有機EL素子等が封止されている。   In general, in a flat display device, a display medium is formed using an element utilizing liquid crystal, organic EL, electrophoresis, or the like. In such display media, a technique using an active drive element (TFT element) as an image drive element has become mainstream in order to ensure uniformity of screen brightness, screen rewrite speed, and the like. For example, in a normal computer display, these TFT elements are formed on a glass substrate, and liquid crystal, organic EL elements, etc. are sealed.

ここでTFT素子には主にa−Si(アモルファスシリコン)、p−Si(ポリシリコン)などの半導体を用いることができ、これらのSi半導体(必要に応じて金属膜も)を多層化し、ソース、ドレイン、ゲート電極を基板上に順次形成していくことでTFT素子が製造される。こうしたTFT素子の製造には通常、スパッタリング、その他の真空系の製造プロセスが必要とされる。   Here, semiconductors such as a-Si (amorphous silicon) and p-Si (polysilicon) can be mainly used for the TFT element, and these Si semiconductors (and metal films as necessary) are formed into a multilayer structure. The TFT element is manufactured by sequentially forming the drain and gate electrodes on the substrate. The manufacture of such a TFT element usually requires sputtering or other vacuum manufacturing processes.

しかしながら、このようなTFT素子の製造では真空チャンバーを含む真空系の製造プロセスを何度も繰り返して各層を形成せざるを得ず、装置コスト、ランニングコストが非常に膨大なものとなっていた。   However, in the manufacture of such a TFT element, the vacuum system manufacturing process including the vacuum chamber must be repeated many times to form each layer, and the apparatus cost and running cost have become enormous.

例えば、TFT素子では通常、それぞれの層の形成のために、真空蒸着、ドープ、フォトリソグラフ、現像等の工程を何度も繰り返す必要があり、何十もの工程を経て素子を基板上に形成しているのが通常である。スイッチング動作の要となる半導体部分に関してもp型、n型等、複数種類の半導体層を積層している。こうした従来のSi半導体による製造方法ではディスプレイ画面の大型化のニーズに対し、真空チャンバー等の製造装置の大幅な設計変更が必要とされるなど、設備の変更が容易ではない。   For example, in a TFT element, it is usually necessary to repeat processes such as vacuum deposition, dope, photolithography, development, etc. many times to form each layer, and the element is formed on a substrate through tens of steps. It is normal. A plurality of types of semiconductor layers, such as p-type and n-type, are also stacked on the semiconductor portion that is the key to the switching operation. In such a conventional manufacturing method using a Si semiconductor, it is not easy to change the equipment, for example, a design change of a manufacturing apparatus such as a vacuum chamber is required in response to the need for a large display screen.

また、このような従来からのSi材料を用いたTFT素子の形成には高い温度の工程が含まれるため、基板材料には工程温度に耐える材料であるという制限が加わることになる。このため実際上はガラスを用いざるをえず、先に述べた電子ペーパーあるいはデジタルペーパーといった薄型ディスプレイを、こうした従来知られたTFT素子を利用して構成した場合、そのディスプレイは重く、柔軟性に欠け、落下の衝撃で割れる可能性のある製品となってしまう。ガラス基板上にTFT素子を形成することに起因するこれらの特徴は、情報化の進展に伴う手軽な携行用薄型ディスプレイへのニーズを満たすにあたり望ましくないものである。   In addition, since the formation of such a conventional TFT element using a Si material includes a process at a high temperature, the substrate material is restricted to be a material that can withstand the process temperature. Therefore, in practice, glass must be used, and when the above-described thin display such as electronic paper or digital paper is configured using such a conventionally known TFT element, the display is heavy and flexible. Products that may break due to chipping or dropping impact. These characteristics resulting from the formation of TFT elements on a glass substrate are undesirable in satisfying the need for an easy-to-carry-type thin display accompanying the progress of computerization.

一方、近年において高い電荷輸送性を有する有機化合物として、有機半導体材料の研究が精力的に進められている。これらの化合物は有機EL素子用の電荷輸送性材料のほか、有機レーザー発振素子や、多数の論文にて報告されている有機薄膜トランジスタへの応用が期待されている(例えば、非特許文献1、非特許文献2参照。)。   On the other hand, in recent years, organic semiconductor materials have been energetically studied as organic compounds having high charge transport properties. These compounds are expected to be applied to organic laser oscillation devices and organic thin film transistors reported in many papers in addition to charge transport materials for organic EL devices (for example, Non-Patent Document 1, Non-Patent Document 1, (See Patent Document 2).

これら有機半導体デバイスを実現できれば、比較的低い温度での真空ないし低圧蒸着による製造プロセスの簡易化や、更にはその分子構造を適切に改良することによって、溶液化できる半導体を得る可能性があると考えられ、有機半導体溶液をインク化することによりインクジェット方式を含む印刷法による製造も考えられる。これらの低温プロセスによる製造は、従来のSi系半導体材料については不可能と考えられてきたが、有機半導体を用いたデバイスにはその可能性があり、したがって前述の基板耐熱性に関する制限が緩和され、透明樹脂基板上にも例えばTFT素子を形成できる可能性がある。透明樹脂基板上にTFT素子を形成し、そのTFT素子により表示材料を駆動させることができれば、ディスプレイを従来のものよりも軽く、柔軟性に富み、落としても割れない(もしくは非常に割れにくい)ディスプレイとすることができるであろう。   If these organic semiconductor devices can be realized, there is a possibility of obtaining a semiconductor that can be made into a solution by simplifying the manufacturing process by vacuum or low-pressure deposition at a relatively low temperature and further improving the molecular structure appropriately. It is conceivable that the organic semiconductor solution is made into an ink and manufactured by a printing method including an ink jet method. Manufacturing by these low-temperature processes has been considered impossible for conventional Si-based semiconductor materials, but there is a possibility for devices using organic semiconductors, so the above-mentioned restrictions on substrate heat resistance are relaxed. For example, a TFT element may be formed on the transparent resin substrate. If a TFT element is formed on a transparent resin substrate and the display material can be driven by the TFT element, the display is lighter and more flexible than conventional ones, and will not crack even if dropped (or very difficult to break) It could be a display.

しかしながら、こうしたTFT素子を実現するための有機半導体としてこれまでに検討されてきたのは、ペンタセンやテトラセンといったアセン類(例えば、特許文献1参照。)、鉛フタロシアニンを含むフタロシアニン類、ペリレンやそのテトラカルボン酸誘導体といった低分子化合物(例えば、特許文献2参照。)や、α−チエニールもしくはセクシチオフェンと呼ばれるチオフェン6量体を代表例とする芳香族オリゴマー(例えば、特許文献3参照。)、ナフタレン、アントラセンに5員の複素芳香環が対称に縮合した化合物(例えば、特許文献4参照。)、モノ、オリゴ及びポリジチエノピリジン(例えば、特許文献5参照。)、更にはポリチオフェン、ポリチエニレンビニレン、ポリ−p−フェニレンビニレンといった共役高分子など限られた種類の化合物(例えば、非特許文献1〜3参照。)でしかなく、高いキャリア移動度を示す新規な電荷輸送性材料を用いた半導体性組成物の開発が待望されていた。   However, organic semiconductors for realizing such TFT elements have been studied so far as acenes such as pentacene and tetracene (for example, see Patent Document 1), phthalocyanines including lead phthalocyanine, perylene and its tetra. Low molecular weight compounds such as carboxylic acid derivatives (for example, see Patent Document 2), aromatic oligomers typically represented by thiophene hexamers called α-thienyl or sexithiophene (for example, see Patent Document 3), naphthalene, Compounds in which a 5-membered heteroaromatic ring is condensed symmetrically on anthracene (for example, see Patent Document 4), mono, oligo and polydithienopyridines (for example, see Patent Document 5), polythiophene, polythienylene vinylene, poly -Conjugated polymers such as p-phenylene vinylene Etc. limited number of compounds (e.g., see Non-Patent Documents 1 to 3.) Have only in the development of the semiconductor composition using the novel charge-transporting material showing high carrier mobility has been awaited.

また、特開2003−292588号公報、米国特許出願公開第2003/136958号明細書、同2003/160230号明細書、同2003/164495号明細書では「マイクロエレクトロニクス用の集積回路論理素子にポリマーTFTを用いると、その機械的耐久性が大きく向上し、その使用可能寿命が長くなる。   In addition, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-292588, US Patent Application Publication Nos. 2003/136958, 2003/160230, and 2003/164495, “integrated circuit logic element for microelectronics and polymer TFT When is used, its mechanical durability is greatly improved and its usable life is extended.

しかし、半導体ポリチオフェン類の多くは、周囲の酸素によって酸化的にドープされ、導電率が増大してしまうため空気に触れると安定ではないと考えられる。この結果、これらの材料から製造したデバイスのオフ電流は大きくなり、そのため電流オン/オフ比は小さくなる。従ってこれらの材料の多くは、材料加工とデバイス製造の間に環境酸素を排除して酸化的ドーピングを起こさない、あるいは最小とするよう厳重に注意しなければならない。この予防措置は製造コストを押し上げるため、特に大面積デバイスのための、アモルファスシリコン技術に代わる経済的な技術としてのある種のポリマーTFTの魅力が削がれてしまう。これら及びその他の欠点は、本発明の実施の形態において回避され、あるいは最小となる。   However, many of the semiconductor polythiophenes are oxidatively doped with ambient oxygen, and the conductivity increases, so it is considered unstable when exposed to air. As a result, the off-state current of devices made from these materials is increased, thus reducing the current on / off ratio. Therefore, many of these materials must be taken with utmost care to eliminate or minimize oxidative doping by eliminating environmental oxygen during material processing and device fabrication. This precautionary measure increases manufacturing costs, and the attractiveness of certain polymer TFTs as an economic alternative to amorphous silicon technology, especially for large area devices, is diminished. These and other disadvantages are avoided or minimized in embodiments of the present invention.

従って、酸素に対して強い対抗性を有し、比較的高い電流オン/オフ比を示すエレクトロニックデバイスが望まれている」との記載があり、その解決手段が種々提案されている(例えば、特許文献6参照。)が、改善のレベルは満足できるものではなく、更なる改良が望まれている。
特開平5−55568号公報 特開平5−190877号公報 特開平8−264805号公報 特開平11−195790号公報 特開2003−155289号公報 特開2003−261655号公報 『サイエンス』(Science)誌289巻、599ページ(2000) 『ネイチャー』(Nature)誌403巻、521ページ(2000) 『アドバンスド・マテリアル』(Advanced Material)誌、2002年、第2号、99ページ
Therefore, an electronic device having a strong resistance against oxygen and a relatively high current on / off ratio is desired ", and various solutions have been proposed (for example, patents). However, the level of improvement is not satisfactory, and further improvements are desired.
JP-A-5-55568 Japanese Patent Laid-Open No. 5-190877 JP-A-8-264805 JP-A-11-195790 JP 2003-155289 A JP 2003-261655 A “Science” 289, 599 (2000) “Nature” 403, 521 (2000) Advanced Material, 2002, No. 2, page 99

薄膜トランジスタ用途に有用な有機TFT材料を分子設計し、得られた有機TFT材料を用いて、キャリア移動度が高く、且つ、高耐久性を併せ持つ、有機TFT、電界効果トランジスタ、更に、該有機TFTまたは該電界効果トランジスタを有するスイッチング素子を提供することである。   Organic TFT materials useful for thin film transistor applications are molecularly designed, and using the obtained organic TFT materials, organic TFTs, field effect transistors having high carrier mobility and high durability, and further, It is to provide a switching element having the field effect transistor.

本発明の上記目的は下記の構成1〜8により達成された。   The above object of the present invention has been achieved by the following configurations 1 to 8.

(請求項1)
重量平均分子量Mwが5,000〜10,000,000の範囲に有し、且つ、前記Mwと数平均分子量Mnとの比率Mw/Mnが3以下であるπ共役系構造を部分構造として有する高分子を含有することを特徴とする有機薄膜トランジスタ材料。
(Claim 1)
A high molecular weight Mw in the range of 5,000 to 10,000,000 and a π-conjugated structure having a ratio Mw / Mn of Mw to number average molecular weight Mn of 3 or less as a partial structure An organic thin film transistor material containing a molecule.

(請求項2)
重量平均分子量Mwが5,000〜10,000,000の範囲に有し、且つ、前記Mwと数平均分子量Mnとの比率Mw/Mnが2以下であるπ共役系構造を部分構造として有する高分子を含有することを特徴とする有機薄膜トランジスタ材料。
(Claim 2)
A high molecular weight Mw in the range of 5,000 to 10,000,000 and a π-conjugated structure having a ratio Mw / Mn of Mw to number average molecular weight Mn of 2 or less as a partial structure An organic thin film transistor material containing a molecule.

(請求項3)
重量平均分子量Mwが5,000〜10,000,000の範囲に有し、且つ、前記Mwと数平均分子量Mnとの比率Mw/Mnが1.5以下であるπ共役系構造を部分構造として有する高分子を含有することを特徴とする有機薄膜トランジスタ材料。
(Claim 3)
As a partial structure, a π-conjugated structure having a weight average molecular weight Mw in the range of 5,000 to 10,000,000 and a ratio Mw / Mn of Mw to number average molecular weight Mn of 1.5 or less. An organic thin film transistor material comprising a polymer having the same.

(請求項4)
前記π共役系構造を部分構造として有する高分子が部分構造として芳香族複素環を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機薄膜トランジスタ材料。
(Claim 4)
The organic thin film transistor material according to any one of claims 1 to 3, wherein the polymer having the π-conjugated structure as a partial structure includes an aromatic heterocyclic ring as the partial structure.

(請求項5)
前記芳香族複素環が5員環または6員環であることを特徴とする請求項4に記載の有機薄膜トランジスタ材料。
(Claim 5)
The organic thin film transistor material according to claim 4, wherein the aromatic heterocycle is a 5-membered ring or a 6-membered ring.

(請求項6)
請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機薄膜トランジスタ材料をチャネル層に用いることを特徴とする有機薄膜トランジスタ。
(Claim 6)
An organic thin film transistor, wherein the organic thin film transistor material according to claim 1 is used for a channel layer.

(請求項7)
有機電荷輸送性材料と、該有機電荷輸送性材料に直接または間接に接するゲート電極から構成され、該ゲート電極及び前記有機電荷輸送性材料の間に電荷を印加することで、前記有機電荷輸送性材料中の電流を制御する電界効果トランジスタにおいて、
該有機電荷輸送性材料が請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機薄膜トランジスタ材料であることを特徴とする電界効果トランジスタ。
(Claim 7)
An organic charge transporting material and a gate electrode directly or indirectly in contact with the organic charge transporting material, and by applying a charge between the gate electrode and the organic charge transporting material, the organic charge transporting property In a field effect transistor that controls the current in a material,
A field effect transistor, wherein the organic charge transporting material is the organic thin film transistor material according to any one of claims 1 to 5.

(請求項8)
請求項6に記載の有機薄膜トランジスタまたは請求項7に記載の電界効果トランジスタを用いることを特徴とするスイッチング素子。
(Claim 8)
A switching element comprising the organic thin film transistor according to claim 6 or the field effect transistor according to claim 7.

有機薄膜トランジスタ(以下、有機TFTと略称する)作製に有用な、有機TFT材料を分子設計し、該有機TFT材料を用いて、キャリア移動度が高く、良好なON/OFF特性を示す等、優れたトランジスタ特性を示しながら、且つ、高耐久性を併せ持つ、有機TFT、電界効果トランジスタが得られた。また、それらを用いることにより、スイッチング特性の良好なスイッチング素子を提供することが出来た。   Useful for manufacturing organic thin-film transistors (hereinafter abbreviated as organic TFTs), molecular design of organic TFT materials, excellent carrier mobility, good ON / OFF characteristics, etc. using these organic TFT materials An organic TFT and a field effect transistor having transistor characteristics and high durability were obtained. Moreover, by using them, it was possible to provide a switching element with good switching characteristics.

本発明の有機TFT材料においては、請求項1〜5のいずれか1項に規定される構成を用いることにより、薄膜トランジスタ用途に有用な有機TFT材料を得ることが出来る。   In the organic TFT material of the present invention, an organic TFT material useful for thin film transistor applications can be obtained by using the configuration defined in any one of claims 1 to 5.

また、該有機TFT材料を用いて作製した有機TFT、電界効果トランジスタは、キャリア移動度が高く、良好なON/OFF特性を示す等、優れたトランジスタ特性を示しながら、且つ、高耐久性であることがわかった。また、該有機TFTまたは該電界効果トランジスタを用いて作製されたスイッチング素子は良好なスイッチング特性を示すことが判った。   In addition, organic TFTs and field-effect transistors manufactured using the organic TFT material have excellent transistor characteristics such as high carrier mobility and good ON / OFF characteristics, and are highly durable. I understood it. Moreover, it turned out that the switching element produced using this organic TFT or this field effect transistor shows a favorable switching characteristic.

これまで良好なTFT特性が報告されているペンタセン等では、分子間でπスタックを形成しながら、分子が規則正しく配列していることが知られている。しかしながら、PHT等のポリチオフェンでは、分子間の規則的な配列は部分的にしか形成されていない。   In pentacene and the like that have been reported to have good TFT characteristics so far, it is known that molecules are regularly arranged while forming a π stack between molecules. However, in polythiophene such as PHT, a regular arrangement between molecules is only partially formed.

また、上記の特許文献6には、特定のポリチオフェン類がポリチオフェン主鎖上に位置規則性に並んだ側鎖を含み、前記ポリチオフェン類を含有する溶液から約10nm〜約500nmの薄膜を製造すると、密に積み重なったラメラ構造を形成し、前記薄膜は導電性で効率よく電荷キャリアを移動するとの記載がある。   In addition, in Patent Document 6 described above, when a specific polythiophene includes side chains arranged in a regioregular manner on a polythiophene main chain, and a thin film of about 10 nm to about 500 nm is produced from a solution containing the polythiophene, There is a description that a dense lamellar structure is formed, and the thin film is electrically conductive and efficiently moves charge carriers.

しかしながら、前記記載のポリチオフェンを使用した場合には、巨大なポリマー分子であるが故に、πスタックが部分的にしか形成されず、πスタックに関われない部分は、配向性の乱れた部分として、数多く存在する為に、十分なキャリア移動度やON/OFF特性が得られていないのだと推定した。   However, when the polythiophene described above is used, the π stack is formed only partially because it is a huge polymer molecule, and there are many parts that are not related to the π stack as parts with disordered orientation. Since it exists, it was estimated that sufficient carrier mobility and ON / OFF characteristics were not obtained.

本発明者等は、上記の問題点を種々検討した結果、本発明に係るπ共役系構造を部分構造として有する高分子のように、重量平均分子量Mwが5,000〜10,000,000の範囲に有し、且つ、前記Mwと数平均分子量Mnとの比率Mw/Mnが3以下であるように調整することにより、従来公知のペンタセン等で見られたような理想的な分子配列を持った塗布膜を形成することが可能となり、TFT性能の大幅なる向上を達成出来た。   As a result of various investigations on the above problems, the present inventors have a weight average molecular weight Mw of 5,000 to 10,000,000 as in a polymer having a π-conjugated structure as a partial structure according to the present invention. By adjusting the ratio Mw / Mn of the Mw and the number average molecular weight Mn to be 3 or less, it has an ideal molecular arrangement as found in a conventionally known pentacene. It was possible to form a coating film, and a significant improvement in TFT performance could be achieved.

本発明においては、前記π共役系構造を部分構造として有する高分子が部分構造として芳香族複素環を含んでいることが好ましく、更に好ましくは、前記芳香族複素環が5員環の場合である。   In the present invention, the polymer having the π-conjugated structure as a partial structure preferably contains an aromatic heterocycle as a partial structure, and more preferably, the aromatic heterocycle is a 5-membered ring. .

以下、本発明に係る各構成要素の詳細について、順次説明する。   Hereinafter, details of each component according to the present invention will be sequentially described.

《π共役系構造を部分構造として有する高分子》
本発明に係るπ系高分子について説明する。
<Polymer having π-conjugated structure as partial structure>
The π-based polymer according to the present invention will be described.

《重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)とMw/Mn》
本発明に係るπ共役系構造を部分構造として有する高分子は、重量平均分子量Mwが5,000〜10,000,000の範囲に有し、且つ、前記Mwと数平均分子量Mnとの比率Mw/Mnが3以下である。
<< weight average molecular weight (Mw), number average molecular weight (Mn) and Mw / Mn >>
The polymer having a π-conjugated structure as a partial structure according to the present invention has a weight average molecular weight Mw in the range of 5,000 to 10,000,000, and a ratio Mw between the Mw and the number average molecular weight Mn. / Mn is 3 or less.

ここで、重量平均分子量(Mw)としては、10,000〜1,000,000の範囲が好ましく、更に好ましくは、10,000〜500,000の範囲である。   Here, as a weight average molecular weight (Mw), the range of 10,000-1,000,000 is preferable, More preferably, it is the range of 10,000-500,000.

また、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比率(Mw/Mn)としては、2以下が好ましく、更に好ましくは、1.5以下である。   Moreover, as a ratio (Mw / Mn) of a weight average molecular weight (Mw) and a number average molecular weight (Mn), 2 or less is preferable, More preferably, it is 1.5 or less.

本発明に係るπ共役系構造を部分構造として有する高分子の重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)は、各々当該業者周知のGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて求めた。   The weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of the polymer having a π-conjugated structure as a partial structure according to the present invention were each determined using GPC (gel permeation chromatography) well known to the trader.

《π共役系を付与する部分構造》
本発明に係るπ共役系構造を部分構造として有する高分子に、π共役系を付与する部分構造としては、芳香族複素環(例えば、フラン環、チオフェン環、オキサゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、ベンゾイミダゾール環、オキサジアゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、インドール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノキサリン環、キナゾリン環、フタラジン環、カルバゾール環、カルボリン環、ジアザカルバゾール環(カルボリン環を構成する炭化水素環の炭素原子の一つが更に窒素原子で置換されている環を示す)等)、芳香族炭化水素環(例えば、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、アズレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環、トリフェニレン環、o−テルフェニル環、m−テルフェニル環、p−テルフェニル環、アセナフテン環、コロネン環、フルオレン環、フルオラントレン環、ナフタセン環、ペンタセン環、ペリレン環、ペンタフェン環、ピセン環、ピレン環、ピラントレン環、アンスラアントレン環等)が挙げられるが、好ましくは、芳香族複素環であり、更に好ましくは、5員〜6員の芳香族複素環(例えば、フラン環、チオフェン環、オキサゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、オキサジアゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環等)である。
<< Partial structure imparting π-conjugated system >>
Examples of the partial structure that imparts the π-conjugated system to the polymer having the π-conjugated system structure according to the present invention include an aromatic heterocyclic ring (for example, a furan ring, a thiophene ring, an oxazole ring, a pyridine ring, a pyridazine ring, Pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, benzimidazole ring, oxadiazole ring, triazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, thiazole ring, indole ring, benzimidazole ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring, quinoxaline ring, quinazoline ring , A phthalazine ring, a carbazole ring, a carboline ring, a diazacarbazole ring (representing a ring in which one of the hydrocarbon rings constituting the carboline ring is further substituted with a nitrogen atom)), an aromatic hydrocarbon ring ( For example, benzene ring, biphenyl ring, naphthalene ring, azulene ring, Anthracene ring, phenanthrene ring, pyrene ring, chrysene ring, naphthacene ring, triphenylene ring, o-terphenyl ring, m-terphenyl ring, p-terphenyl ring, acenaphthene ring, coronene ring, fluorene ring, fluoranthrene ring, Naphthacene ring, pentacene ring, perylene ring, pentaphen ring, picene ring, pyrene ring, pyranthrene ring, anthraanthrene ring, etc.), preferably an aromatic heterocyclic ring, more preferably 5 to 6 Member aromatic heterocycles (eg furan ring, thiophene ring, oxazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, oxadiazole ring, triazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, thiazole ring, etc. ).

また、上記の芳香族複素環、芳香族炭化水素環は、各々下記のような置換基を有していてもよく、例えば、例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、p−クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基等)、芳香族複素環基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等)、複素環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)、アルコキシル基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシル基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、スルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、フッ化炭化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シアノ基、シリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等)等が挙げられる。   In addition, each of the above aromatic heterocyclic ring and aromatic hydrocarbon ring may have the following substituents, for example, an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group). Group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, etc.), cycloalkyl group (for example, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), alkenyl group (for example, vinyl) Group, allyl group, etc.), alkynyl group (for example, ethynyl group, propargyl group, etc.), aryl group (for example, phenyl group, p-chlorophenyl group, mesityl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, anthryl group, azulenyl group) , Acenaphthenyl group, fluorenyl group, phenanthryl group, indenyl group, pyrenyl group, bif Nylyl group, etc.), aromatic heterocyclic groups (for example, furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyridazyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, thiazolyl group, benzoimidazolyl group, benzoxazolyl group) Group, quinazolyl group, phthalazyl group, etc.), heterocyclic group (eg, pyrrolidyl group, imidazolidyl group, morpholyl group, oxazolidyl group, etc.), alkoxyl group (eg, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyloxy group, hexyl) Oxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, etc.), cycloalkoxyl group (eg, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.), aryloxy group (eg, phenoxy group, naphthyloxy group, etc.), alkylthio group (eg, methylthio group) Group, ethyl Group, propylthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, dodecylthio group, etc.), cycloalkylthio group (eg, cyclopentylthio group, cyclohexylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), alkoxycarbonyl A group (eg, methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, octyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenyloxycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl group, etc.), Sulfamoyl group (for example, aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylamino group) Sulfonyl group, octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group) Cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group, dodecylcarbonyl group, phenylcarbonyl group, naphthylcarbonyl group, pyridylcarbonyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetyloxy group, ethylcarbonyloxy group, butylcarbonyloxy) Group, octylcarbonyloxy group, dodecylcarbonyloxy group, phenylcarbonyloxy group, etc.), amide group (for example, methylcarbonylamino group, ethyl Nylamino group, dimethylcarbonylamino group, propylcarbonylamino group, pentylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonylamino group, 2-ethylhexylcarbonylamino group, octylcarbonylamino group, dodecylcarbonylamino group, phenylcarbonylamino group, naphthylcarbonylamino group, etc. ), Carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group, dodecylamino) Carbonyl group, phenylaminocarbonyl group, naphthylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), urea Group (for example, methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2-pyridylaminoureido group, etc.), sulfinyl group (for example, Methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, butylsulfinyl group, cyclohexylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, dodecylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, naphthylsulfinyl group, 2-pyridylsulfinyl group, etc.), alkylsulfonyl group (for example, methylsulfonyl Group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, dodecylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group ( For example, phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), amino group (for example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group) Group, anilino group, naphthylamino group, 2-pyridylamino group, etc.), halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom etc.), fluorinated hydrocarbon group (eg, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, penta) Fluoroethyl group, pentafluorophenyl group, etc.), cyano group, silyl group (for example, trimethylsilyl group, triisopropylsilyl group, triphenylsilyl group, phenyldiethylsilyl group, etc.).

これらの置換基は上記の置換基によって更に置換されていても、複数が互いに結合して環を形成していてもよい。   These substituents may be further substituted with the above substituents, or a plurality thereof may be bonded to each other to form a ring.

中でも好ましい置換基は、アルキル基であり、更に好ましくは、炭素原子数が2〜20のアルキル基であり、特に好ましくは、炭素原子数6〜12のアルキル基である。   Among them, a preferable substituent is an alkyl group, more preferably an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group having 6 to 12 carbon atoms.

以下、π共役系構造を部分構造として有する高分子の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。   Hereinafter, although the specific example of the polymer which has (pi) conjugated system structure as a partial structure is shown, this invention is not limited to these.

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《有機TFT、電界効果トランジスタ及びスイッチング素子》
本発明の有機TFT、電界効果トランジスタ及びそれらを用いるスイッチング素子について説明する。ここで、スイッチング素子は、その使用形態により、有機TFT素子といわるることもあり、また、電界効果トランジスタ素子と呼ばれることがある。
<< Organic TFT, field effect transistor and switching element >>
The organic TFT, the field effect transistor and the switching element using them according to the present invention will be described. Here, the switching element is sometimes referred to as an organic TFT element depending on its usage, and is sometimes referred to as a field effect transistor element.

本発明の有機TFT材料は、有機TFTや電界効果トランジスタのチャネル層に用いられることにより、良好に駆動するスイッチング素子(トランジスタ装置ともいう)を提供することができる。有機TFT(有機薄膜トランジスタ)は、支持体上に、チャネルとして有機半導体チャネルで連結されたソース電極とドレイン電極を有し、その上にゲート絶縁層を介してゲート電極を有するトップゲート型と、支持体上にまずゲート電極を有し、ゲート絶縁層を介して有機半導体チャネルで連結されたソース電極とドレイン電極を有するボトムゲート型に大別される。   The organic TFT material of the present invention can be used for a channel layer of an organic TFT or a field effect transistor, thereby providing a switching element (also referred to as a transistor device) that is driven satisfactorily. An organic TFT (organic thin film transistor) has a source electrode and a drain electrode connected by an organic semiconductor channel as a channel on a support, a top gate type having a gate electrode on a gate insulating layer thereon, and a support First, it is roughly classified into a bottom gate type having a gate electrode on a body and having a source electrode and a drain electrode connected by an organic semiconductor channel through a gate insulating layer.

本発明に係るチオフェンオリゴマーを有機TFTまたは電界効果トランジスタを用いたスイッチング素子のチャネル(チャネル層ともいう)に設置するには、真空蒸着により基板上に設置することもできるが、適切な溶剤に溶解し必要に応じ添加剤を加えて調製した溶液をキャストコート、スピンコート、印刷、インクジェット法、アブレーション法等によって基板上に設置するのが好ましい。   In order to install the thiophene oligomer according to the present invention in the channel (also referred to as channel layer) of a switching element using an organic TFT or a field effect transistor, it can be installed on a substrate by vacuum deposition, but it can be dissolved in an appropriate solvent. The solution prepared by adding an additive as required is preferably placed on the substrate by cast coating, spin coating, printing, ink jet method, ablation method or the like.

この場合、本発明の有機TFT材料を溶解する溶剤は、該有機TFT材料を溶解して適切な濃度の溶液が調製できるものであれば格別の制限はないが、具体的にはジエチルエーテルやジイソプロピルエーテル等の鎖状エーテル系溶媒、テトラヒドロフランやジオキサンなどの環状エーテル系溶媒、アセトンやメチルエチルケトン等のケトン系溶媒、クロロホルムや1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、トルエン、o−ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、m−クレゾール等の芳香族系溶媒、N−メチルピロリドン、2硫化炭素等を挙げることができる。   In this case, the solvent for dissolving the organic TFT material of the present invention is not particularly limited as long as the organic TFT material can be dissolved to prepare a solution having an appropriate concentration. Specifically, diethyl ether or diisopropyl is used. Chain ether solvents such as ether, cyclic ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, alkyl halide solvents such as chloroform and 1,2-dichloroethane, toluene, o-dichlorobenzene, Aromatic solvents such as nitrobenzene and m-cresol, N-methylpyrrolidone, carbon disulfide and the like can be mentioned.

本発明において、ソース電極、ドレイン電極及びゲート電極を形成する材料は導電性材料であれば特に限定されず、白金、金、銀、ニッケル、クロム、銅、鉄、錫、アンチモン鉛、タンタル、インジウム、パラジウム、テルル、レニウム、イリジウム、アルミニウム、ルテニウム、ゲルマニウム、モリブデン、タングステン、酸化スズ・アンチモン、酸化インジウム・スズ(ITO)、フッ素ドープ酸化亜鉛、亜鉛、炭素、グラファイト、グラッシーカーボン、銀ペーストおよびカーボンペースト、リチウム、ベリリウム、ナトリウム、マグネシウム、カリウム、カルシウム、スカンジウム、チタン、マンガン、ジルコニウム、ガリウム、ニオブ、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、アルミニウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム混合物、リチウム/アルミニウム混合物等が用いられるが、特に、白金、金、銀、銅、アルミニウム、インジウム、ITOおよび炭素が好ましい。あるいはドーピング等で導電率を向上させた公知の導電性ポリマー、例えば、導電性ポリアニリン、導電性ポリピロール、導電性ポリチオフェン、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸の錯体なども好適に用いられる。中でも半導体層との接触面において電気抵抗が少ないものが好ましい。   In the present invention, the material for forming the source electrode, the drain electrode and the gate electrode is not particularly limited as long as it is a conductive material. Platinum, gold, silver, nickel, chromium, copper, iron, tin, antimony lead, tantalum, indium , Palladium, tellurium, rhenium, iridium, aluminum, ruthenium, germanium, molybdenum, tungsten, tin oxide / antimony, indium tin oxide (ITO), fluorine doped zinc oxide, zinc, carbon, graphite, glassy carbon, silver paste and carbon Paste, lithium, beryllium, sodium, magnesium, potassium, calcium, scandium, titanium, manganese, zirconium, gallium, niobium, sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, aluminum, magnesi A copper / gold mixture, a magnesium / silver mixture, a magnesium / aluminum mixture, a magnesium / indium mixture, an aluminum / aluminum oxide mixture, a lithium / aluminum mixture, etc., in particular, platinum, gold, silver, copper, aluminum, indium, ITO and carbon are preferred. Alternatively, known conductive polymers whose conductivity is improved by doping or the like, for example, conductive polyaniline, conductive polypyrrole, conductive polythiophene, a complex of polyethylenedioxythiophene and polystyrenesulfonic acid, and the like are also preferably used. Among them, those having low electrical resistance at the contact surface with the semiconductor layer are preferable.

電極の形成方法としては、上記を原料として蒸着やスパッタリング等の方法を用いて形成した導電性薄膜を、公知のフォトリソグラフ法やリフトオフ法を用いて電極形成する方法、アルミニウムや銅などの金属箔上に熱転写、インクジェット等によるレジストを用いてエッチングする方法がある。また導電性ポリマーの溶液あるいは分散液、導電性微粒子分散液を直接インクジェットによりパターニングしてもよいし、塗工膜からリソグラフやレーザーアブレーションなどにより形成してもよい。更に導電性ポリマーや導電性微粒子を含むインク、導電性ペーストなどを凸版、凹版、平版、スクリーン印刷などの印刷法でパターニングする方法も用いることができる。   As a method for forming an electrode, a method for forming an electrode using a known photolithographic method or a lift-off method, using a conductive thin film formed by a method such as vapor deposition or sputtering using the above as a raw material, a metal foil such as aluminum or copper There is a method of etching using a resist by thermal transfer, ink jet or the like. Alternatively, a conductive polymer solution or dispersion, or a conductive fine particle dispersion may be directly patterned by ink jetting, or may be formed from a coating film by lithography or laser ablation. Furthermore, a method of patterning an ink containing a conductive polymer or conductive fine particles, a conductive paste, or the like by a printing method such as relief printing, intaglio printing, planographic printing, or screen printing can also be used.

ゲート絶縁層としては種々の絶縁膜を用いることができるが、特に比誘電率の高い無機酸化物皮膜が好ましい。無機酸化物としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化チタン、酸化スズ、酸化バナジウム、チタン酸バリウムストロンチウム、ジルコニウム酸チタン酸バリウム、ジルコニウム酸チタン酸鉛、チタン酸鉛ランタン、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、フッ化バリウムマグネシウム、チタン酸ビスマス、チタン酸ストロンチウムビスマス、タンタル酸ストロンチウムビスマス、タンタル酸ニオブ酸ビスマス、トリオキサイドイットリウムなどが挙げられる。それらのうち好ましいのは酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化チタンである。窒化ケイ素、窒化アルミニウム等の無機窒化物も好適に用いることができる。   Various insulating films can be used as the gate insulating layer, and an inorganic oxide film having a high relative dielectric constant is particularly preferable. Inorganic oxides include silicon oxide, aluminum oxide, tantalum oxide, titanium oxide, tin oxide, vanadium oxide, barium strontium titanate, barium zirconate titanate, lead zirconate titanate, lead lanthanum titanate, strontium titanate, Examples thereof include barium titanate, barium magnesium fluoride, bismuth titanate, strontium bismuth titanate, strontium bismuth tantalate, bismuth tantalate niobate, and yttrium trioxide. Of these, silicon oxide, aluminum oxide, tantalum oxide, and titanium oxide are preferable. Inorganic nitrides such as silicon nitride and aluminum nitride can also be suitably used.

上記皮膜の形成方法としては、真空蒸着法、分子線エピタキシャル成長法、イオンクラスタービーム法、低エネルギーイオンビーム法、イオンプレーティング法、CVD法、スパッタリング法、大気圧プラズマ法などのドライプロセスや、スプレーコート法、スピンコート法、ブレードコート法、デイップコート法、キャスト法、ロールコート法、バーコート法、ダイコート法などの塗布による方法、印刷やインクジェットなどのパターニングによる方法などのウェットプロセスが挙げられ、材料に応じて使用できる。   Examples of the method for forming the film include a vacuum process, a molecular beam epitaxial growth method, an ion cluster beam method, a low energy ion beam method, an ion plating method, a CVD method, a sputtering method, an atmospheric pressure plasma method, and a spray process. Wet processes such as coating methods, spin coating methods, blade coating methods, dip coating methods, casting methods, roll coating methods, bar coating methods, die coating methods, and other wet processes such as printing and ink jet patterning methods, etc. Can be used depending on the material.

ウェットプロセスは、無機酸化物の微粒子を、任意の有機溶剤あるいは水に必要に応じて界面活性剤などの分散補助剤を用いて分散した液を塗布、乾燥する方法や、酸化物前駆体、例えば、アルコキシド体の溶液を塗布、乾燥する、いわゆるゾルゲル法が用いられる。これらのうち好ましいのは、大気圧プラズマ法とゾルゲル法である。   The wet process is a method of applying and drying a liquid in which fine particles of inorganic oxide are dispersed in an arbitrary organic solvent or water using a dispersion aid such as a surfactant as required, or an oxide precursor, for example, A so-called sol-gel method in which a solution of an alkoxide body is applied and dried is used. Among these, the atmospheric pressure plasma method and the sol-gel method are preferable.

大気圧下でのプラズマ製膜処理による絶縁膜の形成方法は、大気圧または大気圧近傍の圧力下で放電し、反応性ガスをプラズマ励起し、基材上に薄膜を形成する処理で、その方法については特開平11−61406号公報、同11−133205号公報、特開2000−121804号公報、同2000−147209号公報、同2000−185362号公報等に記載されている(以下、大気圧プラズマ法とも称する)。これによって高機能性の薄膜を、生産性高く形成することができる。   The method for forming an insulating film by plasma film formation under atmospheric pressure is a process in which a reactive gas is discharged under atmospheric pressure or a pressure near atmospheric pressure to excite reactive gas to form a thin film on a substrate. The method is described in JP-A-11-61406, JP-A-11-133205, JP-A-2000-121804, JP-A-2000-147209, JP-A-2000-185362 (hereinafter referred to as atmospheric pressure). Also called plasma method). Accordingly, a highly functional thin film can be formed with high productivity.

また有機化合物皮膜としては、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、ポリアクリレート、光ラジカル重合系、光カチオン重合系の光硬化性樹脂、あるいはアクリロニトリル成分を含有する共重合体、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコール、ノボラック樹脂、およびシアノエチルプルラン等を用いることもできる。有機化合物皮膜の形成法としては、前記ウェットプロセスが好ましい。無機酸化物皮膜と有機酸化物皮膜は積層して併用することができる。またこれら絶縁膜の膜厚としては、一般に50nm〜3μm、好ましくは100nm〜1μmである。   In addition, as the organic compound film, polyimide, polyamide, polyester, polyacrylate, photo radical polymerization type, photo cation polymerization type photo curable resin, or a copolymer containing an acrylonitrile component, polyvinyl phenol, polyvinyl alcohol, novolac resin, Also, cyanoethyl pullulan or the like can be used. As the method for forming the organic compound film, the wet process is preferable. An inorganic oxide film and an organic oxide film can be laminated and used together. The thickness of these insulating films is generally 50 nm to 3 μm, preferably 100 nm to 1 μm.

また、支持体はガラスやフレキシブルな樹脂製シートで構成され、例えば、プラスチックフィルムをシートとして用いることができる。前記プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリイミド、ボリカーボネート(PC)、セルローストリアセテート(TAC)、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)等からなるフィルム等が挙げられる。このように、プラスチックフィルムを用いることで、ガラス基板を用いる場合に比べて軽量化を図ることができ、可搬性を高めることができるとともに、衝撃に対する耐性を向上できる。   Moreover, a support body is comprised with glass or a flexible resin-made sheet | seat, for example, a plastic film can be used as a sheet | seat. Examples of the plastic film include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone (PES), polyetherimide, polyetheretherketone, polyphenylene sulfide, polyarylate, polyimide, polycarbonate (PC). And a film made of cellulose triacetate (TAC), cellulose acetate propionate (CAP), or the like. Thus, by using a plastic film, the weight can be reduced as compared with the case of using a glass substrate, the portability can be improved, and the resistance to impact can be improved.

以下に、本発明の有機TFT材料を用いて形成された有機薄膜を用いた電界効果トランジスタについて説明する。   Below, the field effect transistor using the organic thin film formed using the organic TFT material of this invention is demonstrated.

図1は、本発明に係る有機TFTの構成例を示す図である。同図(a)は、支持体6上に金属箔等によりソース電極2、ドレイン電極3を形成し、両電極間に本発明の有機半導体材料からなる有機半導体層1を形成し、その上に絶縁層5を形成し、更にその上にゲート電極4を形成して電界効果トランジスタを形成したものである。同図(b)は、有機半導体層1を、(a)では電極間に形成したものを、コート法等を用いて電極及び支持体表面全体を覆うように形成したものを表す。(c)は、支持体6上に先ずコート法等を用いて、有機半導体層1を形成し、その後ソース電極2、ドレイン電極3、絶縁層5、ゲート電極4を形成したものを表す。   FIG. 1 is a diagram showing a configuration example of an organic TFT according to the present invention. In FIG. 2A, a source electrode 2 and a drain electrode 3 are formed on a support 6 by a metal foil or the like, an organic semiconductor layer 1 made of the organic semiconductor material of the present invention is formed between the two electrodes, and a substrate is formed thereon. An insulating layer 5 is formed, and a gate electrode 4 is further formed thereon to form a field effect transistor. FIG. 2B shows the organic semiconductor layer 1 formed between the electrodes in FIG. 1A so as to cover the entire surface of the electrode and the support using a coating method or the like. (C) shows that the organic semiconductor layer 1 is first formed on the support 6 by using a coating method or the like, and then the source electrode 2, the drain electrode 3, the insulating layer 5, and the gate electrode 4 are formed.

同図(d)は、支持体6上にゲート電極4を金属箔等で形成した後、絶縁層5を形成し、その上に金属箔等で、ソース電極2及びドレイン電極3を形成し、該電極間に本発明の有機半導体材料により形成された有機半導体層1を形成する。その他同図(e)、(f)に示すような構成を取ることもできる。   In FIG. 4D, after forming the gate electrode 4 on the support 6 with a metal foil or the like, the insulating layer 5 is formed, and the source electrode 2 and the drain electrode 3 are formed on the metal foil or the like on the insulating layer 5. An organic semiconductor layer 1 made of the organic semiconductor material of the present invention is formed between the electrodes. In addition, the configuration as shown in FIGS.

図2は、有機TFTシートの概略等価回路図の1例を示す図である。   FIG. 2 is a diagram showing an example of a schematic equivalent circuit diagram of an organic TFT sheet.

有機TFTシート10はマトリクス配置された多数の有機TFT11を有する。7は各TFT11のゲートバスラインであり、8は各TFT11のソースバスラインである。各TFT11のソース電極には、出力素子12が接続され、この出力12は例えば液晶、電気泳動素子等であり、表示装置における画素を構成する。画素電極は光センサの入力電極として用いてもよい。図示の例では、出力素子として液晶が、抵抗とコンデンサからなる等価回路で示されている。13は蓄積コンデンサ、14は垂直駆動回路、15は水平駆動回路である。   The organic TFT sheet 10 has a large number of organic TFTs 11 arranged in a matrix. 7 is a gate bus line of each TFT 11, and 8 is a source bus line of each TFT 11. An output element 12 is connected to the source electrode of each TFT 11, and this output 12 is, for example, a liquid crystal, an electrophoretic element or the like, and constitutes a pixel in the display device. The pixel electrode may be used as an input electrode of the photosensor. In the illustrated example, a liquid crystal as an output element is shown by an equivalent circuit composed of a resistor and a capacitor. 13 is a storage capacitor, 14 is a vertical drive circuit, and 15 is a horizontal drive circuit.

以下、実施例により本発明を説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, the embodiment of this invention is not limited to these.

実施例1
化合物(1)(アルドリッチ製、Mw=52500、Mn=17400、Mw/Mn=3.02)から分取GPC(日本分析工業株式会社、LC−9101型、カラム:JAIGEL−2.5H+JAIGEL−3H)を用いて、低分子量成分を除去し、化合物(1−1)と化合物(1−2)を得た。
Example 1
From compound (1) (Aldrich, Mw = 52500, Mn = 17400, Mw / Mn = 3.02), preparative GPC (Nippon Analytical Industrial Co., Ltd., LC-9101 type, column: JAIGEL-2.5H + JAIGEL-3H) Was used to remove low molecular weight components to obtain compound (1-1) and compound (1-2).

同様にして、化合物(11)(特開2003−292588号公報記載化合物、Mw=42500、Mn=9200、Mw/Mn=4.62)から化合物(11−1)と化合物(11−2)を、化合物(13)(特表2001−520289号公報記載化合物、Mw=56000、Mn=14100、Mw/Mn=3.96)から化合物(13−1)と化合物(13−2)を得た。   Similarly, compound (11-1) and compound (11-2) are obtained from compound (11) (compound described in JP-A-2003-292588, Mw = 42500, Mn = 9200, Mw / Mn = 4.62). Compound (13-1) and Compound (13-2) were obtained from Compound (13) (a compound described in JP-T-2001-520289, Mw = 56000, Mn = 14100, Mw / Mn = 3.96).

上記のポリマーの分子量の測定方法は、東ソーHLC8220(カラム:TSKgel SuperHM−M、カラム温度:40℃、溶出液:THF、流量0.6ml、資料量:2mg/2ml、検出機器:RI)を用いて行った。   As a method for measuring the molecular weight of the above-mentioned polymer, Tosoh HLC8220 (column: TSKgel SuperHM-M, column temperature: 40 ° C., eluent: THF, flow rate 0.6 ml, data amount: 2 mg / 2 ml, detection device: RI) is used. I went.

実施例2
《有機薄膜トランジスタ1の作製》
ゲート電極としての抵抗率0.01Ω・cmのSiウェハーに、厚さ2000Åの熱酸化膜を形成してゲート絶縁層とした後、オクタデシルトリクロロシランによる表面処理を行った。化合物1のクロロホルム溶液をアプリケーターを用いて塗布し、自然乾燥することによりキャスト膜(厚さ50nm)を形成して、窒素雰囲気下で50℃、30分間の熱処理を施した。更に、この膜の表面にマスクを用いて金を蒸着してソースおよびドレイン電極を形成した。ソースおよびドレイン電極は幅100μm、厚さ200nmで、チャネル幅W=3mm、チャネル長L=20μmの有機薄膜トランジスタ素子1を作製した。
Example 2
<< Production of Organic Thin Film Transistor 1 >>
A silicon oxide having a resistivity of 0.01 Ω · cm as a gate electrode was formed with a thermal oxide film having a thickness of 2000 mm to form a gate insulating layer, and then surface treatment with octadecyltrichlorosilane was performed. A chloroform solution of Compound 1 was applied using an applicator, and air-dried to form a cast film (thickness 50 nm), followed by heat treatment at 50 ° C. for 30 minutes in a nitrogen atmosphere. Furthermore, gold was deposited on the surface of this film using a mask to form source and drain electrodes. An organic thin film transistor element 1 having a width of 100 μm, a thickness of 200 nm, a channel width W = 3 mm, and a channel length L = 20 μm was prepared.

《有機薄膜トランジスタ2〜9の作製》
有機薄膜トランジスタ1の作製において、化合物1を表1に示した化合物に変更した以外は同様にして、有機薄膜トランジスタ素子2〜9を作製した。
<< Production of Organic Thin Film Transistors 2-9 >>
Organic thin film transistor elements 2 to 9 were produced in the same manner as in the production of the organic thin film transistor 1, except that the compound 1 was changed to the compounds shown in Table 1.

以上のように作製した有機薄膜トランジスタ素子1〜9は、pチャネルのエンハンスメント型FETの良好な動作特性を示した。   The organic thin film transistor elements 1 to 9 produced as described above showed good operating characteristics of a p-channel enhancement type FET.

《キャリア移動度評価及びON/OFF比の評価》
得られた有機TFT素子1〜9の各々について、作製直後と大気中で1ヶ月放置後の各素子のキャリア移動度とON/OFF比を各々求めた。尚、本発明では、I−V特性の飽和領域からキャリア移動度を求め、更に、ドレインバイアス−50Vとし、ゲートバイアス−50Vおよび0Vにしたときのドレイン電流値の比率からON/OFF比を求めた。
<< Evaluation of carrier mobility and ON / OFF ratio >>
For each of the obtained organic TFT elements 1 to 9, the carrier mobility and the ON / OFF ratio of each element immediately after fabrication and after standing for 1 month in the air were determined. In the present invention, the carrier mobility is obtained from the saturation region of the IV characteristic, and the ON / OFF ratio is obtained from the ratio of the drain current values when the drain bias is −50 V and the gate bias is −50 V and 0 V. It was.

得られた結果を表1に示す。   The obtained results are shown in Table 1.

Figure 2006060116
Figure 2006060116

表1から、本発明の有機薄膜トランジスタ素子は、トランジスタとしての特性が良好であり、さらに、経時劣化が抑えられていることが分かった。   From Table 1, it was found that the organic thin film transistor element of the present invention had good characteristics as a transistor and further suppressed deterioration with time.

本発明に係る有機TFTの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the organic TFT which concerns on this invention. 本発明の有機TFTの概略等価回路図の1例である。It is an example of the schematic equivalent circuit schematic of the organic TFT of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 有機半導体層
2 ソース電極
3 ドレイン電極
4 ゲート電極
5 絶縁層
6 支持体
7 ゲートバスライン
8 ソースバスライン
10 有機TFTシート
11 有機TFT
12 出力素子
13 蓄積コンデンサ
14 垂直駆動回路
15 水平駆動回路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Organic-semiconductor layer 2 Source electrode 3 Drain electrode 4 Gate electrode 5 Insulating layer 6 Support body 7 Gate bus line 8 Source bus line 10 Organic TFT sheet 11 Organic TFT
12 Output element 13 Storage capacitor 14 Vertical drive circuit 15 Horizontal drive circuit

Claims (8)

重量平均分子量Mwが5,000〜10,000,000の範囲に有し、且つ、前記Mwと数平均分子量Mnとの比率Mw/Mnが3以下であるπ共役系構造を部分構造として有する高分子を含有することを特徴とする有機薄膜トランジスタ材料。 A high molecular weight Mw in the range of 5,000 to 10,000,000 and a π-conjugated structure having a ratio Mw / Mn of Mw to number average molecular weight Mn of 3 or less as a partial structure An organic thin film transistor material containing a molecule. 重量平均分子量Mwが5,000〜10,000,000の範囲に有し、且つ、前記Mwと数平均分子量Mnとの比率Mw/Mnが2以下であるπ共役系構造を部分構造として有する高分子を含有することを特徴とする有機薄膜トランジスタ材料。 A high molecular weight Mw in the range of 5,000 to 10,000,000 and a π-conjugated structure having a ratio Mw / Mn of Mw to number average molecular weight Mn of 2 or less as a partial structure An organic thin film transistor material containing a molecule. 重量平均分子量Mwが5,000〜10,000,000の範囲に有し、且つ、前記Mwと数平均分子量Mnとの比率Mw/Mnが1.5以下であるπ共役系構造を部分構造として有する高分子を含有することを特徴とする有機薄膜トランジスタ材料。 As a partial structure, a π-conjugated structure having a weight average molecular weight Mw in the range of 5,000 to 10,000,000 and a ratio Mw / Mn of Mw to number average molecular weight Mn of 1.5 or less. An organic thin film transistor material comprising a polymer having the same. 前記π共役系構造を部分構造として有する高分子が部分構造として芳香族複素環を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機薄膜トランジスタ材料。 The organic thin film transistor material according to any one of claims 1 to 3, wherein the polymer having the π-conjugated structure as a partial structure includes an aromatic heterocyclic ring as the partial structure. 前記芳香族複素環が5員環または6員環であることを特徴とする請求項4に記載の有機薄膜トランジスタ材料。 The organic thin film transistor material according to claim 4, wherein the aromatic heterocycle is a 5-membered ring or a 6-membered ring. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機薄膜トランジスタ材料をチャネル層に用いることを特徴とする有機薄膜トランジスタ。 An organic thin film transistor, wherein the organic thin film transistor material according to claim 1 is used for a channel layer. 有機電荷輸送性材料と、該有機電荷輸送性材料に直接または間接に接するゲート電極から構成され、該ゲート電極及び前記有機電荷輸送性材料の間に電荷を印加することで、前記有機電荷輸送性材料中の電流を制御する電界効果トランジスタにおいて、
該有機電荷輸送性材料が請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機薄膜トランジスタ材料であることを特徴とする電界効果トランジスタ。
An organic charge transporting material and a gate electrode directly or indirectly in contact with the organic charge transporting material, and by applying a charge between the gate electrode and the organic charge transporting material, the organic charge transporting property In a field effect transistor that controls the current in a material,
A field effect transistor, wherein the organic charge transporting material is the organic thin film transistor material according to any one of claims 1 to 5.
請求項6に記載の有機薄膜トランジスタまたは請求項7に記載の電界効果トランジスタを用いることを特徴とするスイッチング素子。 A switching element comprising the organic thin film transistor according to claim 6 or the field effect transistor according to claim 7.
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