JP2006049755A - Rotation center calculation method and work positioning device using the same - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、回転機構を具備するステージ上にガラス基板などのワークを支持し、このワークに設けられた位置決めマークを指標として前記ステージの動作を制御することにより、ワークの位置合わせを行う技術に関する。特に、この発明は、前記ワーク位置合わせ処理において、ワークの回転ずれを補正するのに必要なステージの回転中心の座標を求める方法、およびこの方法が適用されたワーク位置決め装置に関する。 The present invention relates to a technique for aligning a workpiece by supporting a workpiece such as a glass substrate on a stage having a rotation mechanism and controlling the operation of the stage using a positioning mark provided on the workpiece as an index. . In particular, the present invention relates to a method for obtaining coordinates of a rotation center of a stage necessary for correcting a rotational deviation of a workpiece in the workpiece alignment process, and a workpiece positioning apparatus to which this method is applied.
この種のワーク位置決め装置で使用されるステージには、一般に、水平方向(X軸方向)および垂直方向(Y軸方向)への移動機構と回転機構とが含まれる。ステージ上に設置されたワークは、各移動機構により所定の位置まで移送された後、回転機構により適切な姿勢になるように調整される。 The stage used in this type of workpiece positioning apparatus generally includes a moving mechanism and a rotating mechanism in the horizontal direction (X-axis direction) and the vertical direction (Y-axis direction). The workpiece placed on the stage is transferred to a predetermined position by each moving mechanism and then adjusted so as to have an appropriate posture by the rotating mechanism.
また、代表的なワークである基板には、上記の位置合わせのために、角部などに位置決めマーク(以下、単に「マーク」という場合もある。)が設けられている。従来の位置決め装置では、各マークがそれぞれあらかじめ定めた規準位置付近に位置するようにワークを移動させた後、カメラによりワークを撮像し、得られた画像を用いて各マークの位置と前記基準位置とのずれ量を算出し、そのずれが解消するように前記移動機構や回転機構を制御するようにしている。 Further, a substrate that is a typical workpiece is provided with a positioning mark (hereinafter sometimes simply referred to as a “mark”) at a corner or the like for the above-described alignment. In the conventional positioning device, after moving the workpiece so that each mark is positioned in the vicinity of a predetermined reference position, the workpiece is imaged by the camera, and the position of each mark and the reference position are obtained using the obtained image. The shift mechanism and the rotation mechanism are controlled so that the shift is eliminated.
また、液晶基板やプラズマディスプレイなど、微細構造を有する複数の基板が重ね合わせられた構造物を製造する場合には、各層を構成する基板を精度良く位置合わせする必要がある。このような場合には、対角関係にある2個以上のマークの基準位置に向けてそれぞれ個別にカメラを設置し、これらのカメラの視野内にそれぞれ対応するマークが入るまでワークを移動させた後、各カメラにより得た画像を用いて各マークの微小なずれ量を抽出するようにしている。 Further, when manufacturing a structure in which a plurality of substrates having a fine structure such as a liquid crystal substrate or a plasma display are overlaid, it is necessary to accurately align the substrates constituting each layer. In such a case, the cameras were individually installed toward the reference positions of two or more marks in a diagonal relationship, and the workpiece was moved until the corresponding marks were in the field of view of these cameras. Thereafter, a minute shift amount of each mark is extracted using an image obtained by each camera.
下記の特許文献1には、2台のカメラにより、基板に形成された2個の位置合わせマークを同時に観測することにより、ワークの回転ずれ量を調整することが記載されている(段落[0005]参照。)。
2台のカメラを用いてワークの回転ずれを調整する場合の従来の方法では、各マーク毎に基準位置に対するずれ量(x方向およびy方向におけるずれ量)を抽出し、これらのずれ量を用いてワークの回転角度を算出する。そして、この回転角度に応じてステージを回転させる。 In the conventional method in which the rotational deviation of the workpiece is adjusted using two cameras, a deviation amount (deviation amount in the x direction and the y direction) with respect to the reference position is extracted for each mark, and these deviation amounts are used. To calculate the rotation angle of the workpiece. Then, the stage is rotated according to this rotation angle.
ワークの回転角度を求めるには、ステージの回転中心の座標が必要である。従来の方法では、あらかじめ、ステージの回転軸など中心とみなされる位置の座標を計測し、これを回転中心の座標として使用するようにしている。 In order to obtain the rotation angle of the workpiece, the coordinates of the rotation center of the stage are required. In the conventional method, the coordinates of a position regarded as the center, such as the rotation axis of the stage, are measured in advance and used as the coordinates of the rotation center.
また、モデルのワークを用いて、演算により回転中心の座標を求める場合もある。この方法では、各カメラによりマークを撮像した後、定められた角度だけステージを回転させ、マークを再度撮像する。そして、回転前の各画像から計測したマークの座標と、回転後の各画像から計測したマークの座標と、前記ステージの回転角度とを用いて、回転中心の座標を算出する。 Also, the coordinates of the center of rotation may be obtained by calculation using a model work. In this method, after the mark is imaged by each camera, the stage is rotated by a predetermined angle, and the mark is imaged again. Then, the coordinates of the center of rotation are calculated using the coordinates of the mark measured from each image before rotation, the coordinates of the mark measured from each image after rotation, and the rotation angle of the stage.
回転中心の座標をあらかじめ計測する方法では、計測した座標が実際の回転中心に相当するとは限らないため、算出されたワークの回転角度は不正確になる。また、回転中心を演算で求める方法でも、実際のステージの回転角度には誤差が生じるため、回転中心の算出結果が不正確になり、その不正確な回転中心を使用することによりワークの回転角度も不正確になる。
このように、いずれの方法を用いても、ワークの回転角度を精度良く求めるのは困難である。
In the method of measuring the coordinates of the rotation center in advance, the calculated coordinates of the workpiece are not accurate because the measured coordinates do not necessarily correspond to the actual rotation center. Even in the method of calculating the rotation center by calculation, an error occurs in the actual stage rotation angle, so the calculation result of the rotation center becomes inaccurate, and the rotation angle of the workpiece can be obtained by using the incorrect rotation center. Will also be inaccurate.
As described above, it is difficult to obtain the rotation angle of the workpiece with high accuracy regardless of which method is used.
この発明は上記の問題に着目し、ステージの回転中心の座標を簡易な方法で精度良く求めることにより、ワークの位置決めを高精度で行うことができるようにすることを、目的とする。 This invention pays attention to said problem, and it aims at enabling positioning of a workpiece | work with high precision by calculating | requiring accurately the coordinate of the rotation center of a stage with a simple method.
この発明は、表面に複数の位置決めマークが設けられたワークを回転機構を具備するステージ上に設置するとともに、少なくとも対角関係にある2個の位置決めマークの基準位置に向けてそれぞれ撮像手段を設置し、各撮像手段により得た画像を用いて各位置決めマークがそれぞれ前記基準位置に合うように前記ステージの動作を制御するワーク位置決め処理に適用される。なお、この明細書で言うところの「対角関係にあるマーク」は、ワークの対角線で結ばれる角部にそれぞれ設けられた一対のマークのほか、ワークの中心点を挟んで対向する関係にある一対のマークを含むものとする。 In this invention, a work having a plurality of positioning marks on its surface is set on a stage having a rotation mechanism, and at least imaging means are set toward the reference positions of two positioning marks having a diagonal relationship. Then, the present invention is applied to a workpiece positioning process for controlling the operation of the stage so that each positioning mark matches the reference position by using an image obtained by each imaging means. The “diagonal marks” referred to in this specification are in a relationship of facing each other across the center point of the workpiece in addition to a pair of marks provided at the corners connected by the diagonal lines of the workpiece. It shall include a pair of marks.
上記のワーク位置決め処理において、各撮像手段は、それぞれ対応する位置決めマークの基準位置に向けて固定設置されるのが望ましい。ただし、複数種のワークを処理対象とする場合には、ワークに合わせて撮像手段の位置を変更できるようにするのが望ましい。またこれらのカメラについては、あらかじめキャリブレーションを行って、画像上の座標からステージ上の実座標(ステージの上面が含まれる仮想平面に設定された座標)を求められるようにしておくのが望ましい。 In the workpiece positioning process described above, it is desirable that each imaging unit is fixedly installed toward the reference position of the corresponding positioning mark. However, when a plurality of types of workpieces are to be processed, it is desirable that the position of the imaging means can be changed in accordance with the workpiece. For these cameras, it is desirable that calibration is performed in advance so that real coordinates on the stage (coordinates set on a virtual plane including the upper surface of the stage) can be obtained from the coordinates on the image.
各撮像手段の視野は、前記基準位置を中心とする極小領域に設定されるのが望ましい。この場合、各撮像手段からの画像から抽出したマークの中心位置の座標を、前記キャリブレーションにより求めたパラメータを用いて実座標系の座標に変換し、その変換後の座標の基準位置に対するずれ量を求めることができる。また、マークの座標と基準位置の座標と回転中心の座標とを用いて、回転ずれ量(ワークの回転角度)を求めることができる。 It is desirable that the field of view of each imaging means is set in a minimal region centered on the reference position. In this case, the coordinates of the center position of the mark extracted from the image from each imaging means are converted into the coordinates of the real coordinate system using the parameters obtained by the calibration, and the shift amount of the converted coordinates with respect to the reference position Can be requested. Further, the amount of rotation deviation (rotation angle of the workpiece) can be obtained using the coordinates of the mark, the coordinates of the reference position, and the coordinates of the rotation center.
この発明では、前記ワーク上の位置決めマーク間の距離を特定するデータを入力するステップAと、モデルのワークを前記ステージ上に設置して、各撮像手段にそれぞれ対応する位置決めマークを撮像させるステップBと、前記各位置決めマークが対応する撮像手段の視野から出ない範囲で前記ステージを回転させ、各撮像手段に位置決めマークを再度撮像させるステップCとを実行した後、前記ステップB,Cで得た画像と前記位置決めマーク間の距離とを用いて、前記ステージの回転中心の座標を算出するようにしている。 In this invention, the step A for inputting data for specifying the distance between the positioning marks on the workpiece, and the step B for setting the model workpiece on the stage and imaging the corresponding positioning marks by the respective imaging means. Obtained by the steps B and C, after the stage is rotated in a range where the positioning marks do not come out of the field of view of the corresponding imaging means, and the imaging marks are imaged again by the imaging means. The coordinates of the rotation center of the stage are calculated using the image and the distance between the positioning marks.
図1は、この発明の回転中心の座標の算出方法の原理を示すものである。
この例では、対角関係にある2つのマーク(以下、「マークM1,M2」とする。)の基準位置に向けてそれぞれ撮像手段を設置した状態を想定している。図中のR1は、マークM1に対応する撮像手段の視野であり、R2は、マークM2に対応する撮像手段の視野である。また、ステージを反時計回りに回転させることにより、マークM1は、視野R1内の点a1から点b1に移動し、マークM2は、視野R2内の点a2から点b2に移動するものとする。この場合、点a1から点a2に向かうベクトル(以下、「ベクトルA」とする。)と点b1から点b2に向かうベクトル(以下、「ベクトルB」とする。)との交点Cが回転中心に相当し、各ベクトルA,Bのなす角度dTがステージの回転角度に相当すると考えることができる。
FIG. 1 shows the principle of the method for calculating the coordinates of the center of rotation of the present invention.
In this example, it is assumed that the imaging unit is installed toward the reference position of two marks (hereinafter referred to as “marks M1 and M2”) in a diagonal relationship. In the figure, R1 is the field of view of the imaging means corresponding to the mark M1, and R2 is the field of view of the imaging means corresponding to the mark M2. Further, by rotating the stage counterclockwise, the mark M1 moves from the point a1 in the visual field R1 to the point b1, and the mark M2 moves from the point a2 in the visual field R2 to the point b2. In this case, an intersection C between a vector from the point a1 to the point a2 (hereinafter referred to as “vector A”) and a vector from the point b1 to the point b2 (hereinafter referred to as “vector B”) is the rotation center. It can be considered that the angle dT formed by the vectors A and B corresponds to the rotation angle of the stage.
この発明では、ステージの回転角度dTを任意の角度にしているので、回転中心の座標を算出する際には、まず前記回転角度dTを求める必要がある。ここで、各マークM1,M2間の距離をLとすると、回転角度dTは、前記ベクトルA,Bおよび距離Lを用いた下記の(1)式により求めることができる。 In the present invention, the rotation angle dT of the stage is set to an arbitrary angle. Therefore, when calculating the coordinates of the rotation center, it is necessary to first obtain the rotation angle dT. Here, if the distance between the marks M1 and M2 is L, the rotation angle dT can be obtained by the following equation (1) using the vectors A and B and the distance L.
つぎに、各マークM1,M2につき、x,yの各軸方向毎の移動量を(dx1,dy1)、(dx2,dy2)として、ベクトルA=(xA,yA)、ベクトルB=(xA+(dx2−dx1),yA+(dy2−dy1))とすると、内積A・Bは、(2)式のようになる。
A・B=xA 2+yA 2+xA(dx2−dy1)+yA(dy2−dy1)・・・(2)
Next, with respect to the marks M1 and M2, the amounts of movement in the respective axial directions of x and y are (dx1, dy1) and (dx2, dy2), and the vector A = (x A , y A ) and the vector B = ( x A + (dx2−dx1), y A + (dy2−dy1)), the inner product A · B is expressed by equation (2).
A · B = x A 2 + y A 2 + x A (dx2-dy1) + y A (dy2-dy1) (2)
また|A|=|B|=L2より、
xA 2+yA 2=(xA+dx2−dy1)2+(yA+dy2−dy1)2 =L2となるから、上記の(2)式を(3)式のように変形することができる。
From | A | = | B | = L 2 ,
Since x A 2 + y A 2 = (x A + dx2−dy1) 2 + (y A + dy2−dy1) 2 = L 2 , the above equation (2) can be transformed into equation (3). .
よって、各マークM1,M2の移動量(dx1,dy1)、(dx2,dy2)および各マーク間の距離Lを(3)式にあてはめることにより、内積A・Bを求め、さらにこの内積A・Bと前記距離Lとを(1)式にあてはめることにより、回転角度dTを求めることができる。ここで、距離Lは、モデルのワークから計測することができ、各移動量は、ステージの回転前の各マークの位置(点a1,a2の座標)と回転後の各マークの位置(点b2,b2の座標)により求めることができる。したがって、各マークM1,M2が視野R1,R2から出ることがない範囲で任意の角度だけステージを回転させるとともに、その回転前および回転後に各マークを撮像してその位置を計測することにより、これらの位置とあらかじめ計測した距離Lとから回転角度dTを求めることができる。 Therefore, the inner product A · B is obtained by applying the movement amounts (dx1, dy1), (dx2, dy2) of the marks M1, M2 and the distance L between the marks to the equation (3), and further calculating the inner product A · B. By applying B and the distance L to the equation (1), the rotation angle dT can be obtained. Here, the distance L can be measured from the workpiece of the model, and the amount of each movement is the position of each mark before the stage is rotated (the coordinates of points a1 and a2) and the position of each mark after the rotation (point b2). , B2 coordinates). Therefore, by rotating the stage by an arbitrary angle within a range where the marks M1 and M2 do not come out of the visual fields R1 and R2, the marks M1 and M2 are imaged before and after the rotation and the positions thereof are measured. And the rotation angle dT can be obtained from the position L measured in advance.
このようにして回転角度dTを求めた後は、各マークM1,M2の回転前および回転後の位置と回転角度dTとを用いて、回転中心Cの座標(cx,cy)を求めることができる。
すなわち、マークMi(i=1,2)の回転前の位置を(sxi,syi)、回転後の位置を(xi,yi)、θ=−dTとすると、
xi=cosθ(sxi−cx)−sinθ(syi−cy)+cx
yi=sinθ(sxi−cx)+cosθ(syi−cy)+cy となる。
この2式により、cx,cyの算出式として、それぞれ(4)(5)式を導き出すことができる。
After obtaining the rotation angle dT in this way, the coordinates (cx, cy) of the rotation center C can be obtained using the positions before and after the rotation of the marks M1, M2 and the rotation angle dT. .
That is, if the position of the mark M i (i = 1, 2) before rotation is (sx i , sy i ), the position after rotation is (x i , y i ), and θ = −dT,
x i = cos θ (sx i −cx) −sin θ (sy i −cy) + cx
y i = sin θ (sx i −cx) + cos θ (sy i −cy) + cy
From these two formulas, formulas (4) and (5) can be derived as formulas for calculating cx and cy, respectively.
なお、上記の(4)(5)式は、マークM1,M2毎に実行することができるが、少なくとも1つのマークについて実行すればよい。より好ましくは、マークM1,M2毎に(4)(5)式を実行し、マーク毎に求めたcx,cyの平均値を回転中心の座標とするのがよい。 The above equations (4) and (5) can be executed for each of the marks M1 and M2, but may be executed for at least one mark. More preferably, equations (4) and (5) are executed for each of the marks M1 and M2, and the average value of cx and cy obtained for each mark is used as the rotation center coordinate.
このように、この発明では、ステージの回転前および回転後に得た各画像とマーク間の距離とを用いてステージの回転中心を算出することができる。しかも、ステージの回転角度は、各マークが対応するカメラの視野から出ない範囲で任意に設定することができるので、回転機構の精度に左右されることなく、実際のステージの回転角度に基づき精度の良い算出処理を行うことができる。よって、ワークの位置決め処理では、前記撮像手段により得た画像から求めた各マークの位置と、各マークの基準位置と、前記回転中心の座標とを用いて、ワークの回転角度を精度良く求めた後、前記回転機構を駆動することにより、ワークの姿勢を調整することができる。 Thus, in the present invention, the rotation center of the stage can be calculated using the images obtained before and after the rotation of the stage and the distance between the marks. In addition, the rotation angle of the stage can be set arbitrarily within the range where each mark does not come out of the field of view of the corresponding camera, so the accuracy based on the actual rotation angle of the stage is not affected by the accuracy of the rotation mechanism. It is possible to perform a good calculation process. Therefore, in the workpiece positioning process, the rotation angle of the workpiece is accurately obtained by using the position of each mark obtained from the image obtained by the imaging means, the reference position of each mark, and the coordinates of the rotation center. Thereafter, the posture of the workpiece can be adjusted by driving the rotation mechanism.
なお、前記マーク間の距離Lを特定するデータとして入力されるデータは、Lの値そのものであるのが望ましいが、これに限らず、各マークのワーク上の位置を示すデータなど、距離Lを算出可能なデータを入力してもよい。 The data input as the data for specifying the distance L between the marks is preferably the value of L itself, but is not limited to this, and the distance L such as data indicating the position of each mark on the workpiece is not limited. Data that can be calculated may be input.
この発明にかかる回転中心算出方法の好ましい態様では、前記ステージの回転中心の座標を算出する処理において、対角関係にある2個の位置決めマークについて、それぞれ前記ステップB,Cで得た画像を用いてステージ回転前の座標とステージ回転後の座標とを求める第1ステップと、第1ステップで算出された各座標から前記ステージの回転による各位置決めマークの移動量を求める第2ステップと、前記位置決めマーク間の距離と前記第2ステップで求めた各位置決めマークの移動量とを用いて、前記ステージの回転角度を求める第3ステップと、前記第3ステップで求めた回転角度と少なくとも1つの位置決めマークのステージ回転前および回転後の座標とを用いて、前記回転中心の座標を算出する第4ステップとを実行する。この場合の第3ステップでは、ステージ回転前の各位置決めマークを結ぶベクトルとステージ回転後の前記ベクトルとの内積を用いて前記回転角度を算出する処理が実行されていると考えることができる。 In a preferred aspect of the rotation center calculation method according to the present invention, in the process of calculating the coordinates of the rotation center of the stage, the images obtained in the steps B and C are used for the two positioning marks having a diagonal relationship, respectively. A first step for obtaining the coordinates before the stage rotation and the coordinates after the stage rotation, a second step for obtaining a movement amount of each positioning mark due to the rotation of the stage from the coordinates calculated in the first step, and the positioning Using the distance between the marks and the amount of movement of each positioning mark obtained in the second step, a third step for obtaining the rotation angle of the stage, and the rotation angle obtained in the third step and at least one positioning mark The fourth step of calculating the coordinates of the rotation center using the coordinates before and after the stage rotation is executed. In the third step in this case, it can be considered that the process of calculating the rotation angle using the inner product of the vector connecting the positioning marks before the stage rotation and the vector after the stage rotation is executed.
なお、回転中心の算出に使用するマークは2個に限らず、3個以上のマークを使用することもできる。この場合には、対角関係にあるワークの組を順に選択しながら、組毎に上記した手順で回転角度dTおよび回転中心Cを求め、各組の算出結果を平均化した値を回転中心とすることができる。 Note that the number of marks used for calculating the center of rotation is not limited to two, and three or more marks may be used. In this case, the rotation angle dT and the rotation center C are obtained by the above-described procedure for each set while sequentially selecting a pair of workpieces in a diagonal relationship, and a value obtained by averaging the calculation results of each set is set as the rotation center. can do.
この発明にかかるワーク位置決め装置は、回転機構を具備するステージと、前記ステージ上のワークの位置決めマークを撮像するための複数の撮像手段と、各撮像手段により得た画像を用いて各位置決めマークがそれぞれ前記基準位置に合うように前記ステージの動作を制御する制御装置とを具備するもので、前記複数の撮像手段は、少なくとも対角関係にある2個の位置決めマークの基準位置に向けてそれぞれ配備される。前記制御装置は、前記対角関係にある位置決めマーク間の距離を特定するデータを入力するための入力手段を具備し、前記ステージにモデルのワークが設置されたとき、各撮像手段にそれぞれ対応する位置決めマークを撮像させた後、ステージを所定量だけ回転させて各撮像手段に各位置決めマークを再度撮像させ、前記ステージの回転前および回転後に得た各画像と前記入力手段から入力された位置決めマーク間の距離とを用いて、前記ステージの回転中心の座標を算出する。 A workpiece positioning apparatus according to the present invention includes a stage having a rotation mechanism, a plurality of imaging means for imaging a positioning mark of the workpiece on the stage, and each positioning mark using an image obtained by each imaging means. And a control device that controls the operation of the stage so as to match each of the reference positions, and the plurality of imaging units are respectively arranged toward the reference positions of at least two diagonal positioning marks. Is done. The control device includes input means for inputting data for specifying a distance between the positioning marks in the diagonal relationship, and corresponds to each imaging means when a model workpiece is placed on the stage. After imaging the positioning mark, the stage is rotated by a predetermined amount so that each imaging means images each positioning mark again, and each image obtained before and after the rotation of the stage and the positioning mark input from the input means The coordinates of the rotation center of the stage are calculated using the distance between them.
前記制御装置は、コンピュータを制御主体とするのが望ましい。入力手段は、キーボードやマウスなどの入力用デバイスにより構成することができるが、これに限定されるものではない。たとえば、外部装置からマーク間の距離を特定するデータの伝送を受け付ける通信回路を入力手段として機能させることもできる。 The control device is preferably a computer as a control subject. The input means can be configured by an input device such as a keyboard or a mouse, but is not limited to this. For example, a communication circuit that accepts transmission of data specifying the distance between marks from an external device can be made to function as the input means.
前記制御装置には、前記した回転中心算出方法を実行するためのプログラムを組み込むことができる。なお、1回目の撮像後にステージを回転させる処理においては、各マークが対応する撮像手段の視野から出ることがないように、あらかじめ回転機構の動作量を設定しておくのが望ましい。ただし、ステージの回転は自動制御に限らず、ユーザーの操作に応じて制御することもできる。
また、この制御装置が算出した回転中心の座標は、以後の処理対象のワークの回転角度を算出するために、内部のメモリに格納しておくのが望ましい。
A program for executing the above-described rotation center calculation method can be incorporated in the control device. In the process of rotating the stage after the first imaging, it is desirable to set the operation amount of the rotation mechanism in advance so that each mark does not go out of the field of view of the corresponding imaging means. However, the rotation of the stage is not limited to automatic control, but can be controlled in accordance with a user operation.
Further, it is desirable to store the coordinates of the rotation center calculated by the control device in an internal memory in order to calculate the rotation angle of the workpiece to be processed thereafter.
好ましい態様にかかるワーク位置決め装置では、制御装置は、前記対角関係にある2個の位置決めマークについて、それぞれ前記撮像手段から得た画像を用いてステージ回転前の座標とステージ回転後の座標とを求める座標算出手段;前記座標算出手段が算出した各座標から前記ステージの回転による各位置決めマークの移動量を求める移動量算出手段;前記位置決めマーク間の距離と前記移動量算出手段が算出した各位置決めマークの移動量とを用いて、前記ステージの回転角度を求める回転角度算出手段の各手段を含み、前記回転角度算出手段が算出した回転角度と少なくとも1つの位置決めマークにかかるステージ回転前およびステージ回転後の座標とを用いて、前記回転中心の座標を算出するように構成される。 In the workpiece positioning apparatus according to a preferred aspect, the control device uses, for each of the two positioning marks in the diagonal relationship, the coordinates before the stage rotation and the coordinates after the stage rotation using the images obtained from the imaging means. Coordinate calculation means to be obtained; Movement amount calculation means for obtaining a movement amount of each positioning mark by rotation of the stage from each coordinate calculated by the coordinate calculation means; Distance between the positioning marks and each positioning value calculated by the movement amount calculation means And a rotation angle calculation means for obtaining the rotation angle of the stage using the movement amount of the mark, and the rotation angle calculated by the rotation angle calculation means and the stage rotation before and after the stage applied to at least one positioning mark The coordinates of the rotation center are calculated using the later coordinates.
この発明によれば、ステージの回転前および回転後に得た各画像とマーク間の距離とを用いてステージの回転中心の座標を算出することができる。しかも、ステージの回転角度は、各マークが対応するカメラの視野から出ない範囲で任意に設定することができるので、回転機構の精度に左右されることなく、精度の良い算出処理を行うことができる。よって、簡単かつ精度良くステージの回転中心を算出することができるので、その算出結果を用いることにより、ワークの位置決めの精度を大幅に向上することができる。 According to the present invention, the coordinates of the rotation center of the stage can be calculated using the images obtained before and after the rotation of the stage and the distance between the marks. In addition, the rotation angle of the stage can be arbitrarily set within a range where each mark does not come out of the field of view of the corresponding camera, so that accurate calculation processing can be performed without being influenced by the accuracy of the rotation mechanism. it can. Therefore, since the rotation center of the stage can be calculated easily and accurately, the accuracy of workpiece positioning can be significantly improved by using the calculation result.
図2は、この発明が適用されたワーク位置決め装置の構成例を示す。このワーク位置決め装置は、液晶基板のような多層基板の製造工程において、各層を構成する基板の位置合わせに使用されるもので、ワーク支持用のステージ1、2台のCCDカメラ21,22(以下、単に「カメラ21,22」という。)、コントローラ3などにより構成される。
FIG. 2 shows a configuration example of a workpiece positioning apparatus to which the present invention is applied. This work positioning apparatus is used for alignment of the substrates constituting each layer in the manufacturing process of a multilayer substrate such as a liquid crystal substrate. , Simply referred to as “
前記ステージ1は、ワーク4を支持するテーブル部10を本体とする。また、ここには図示していないが、このステージ1には、前記テーブル部10をx,yの各軸方向に移動させる移動機構や、テーブル部10を回転させるための回転機構などが含められる。各カメラ21,22は、移動可能なアーム部(図示せず。)により、前記テーブル部10の上方の所定位置に光軸を鉛直方向に向けた状態で支持される。
The
この実施例の位置決め対象のワーク4(基板)の上面には、対角関係にある2個の角部41,42にそれぞれ位置決めマークM1,M2が設けられている。各カメラ21,22は、このマークM1,M2の基準位置に対応する位置に配備される。
On the upper surface of the workpiece 4 (substrate) to be positioned in this embodiment, positioning marks M1 and M2 are provided on the two
前記コントローラ3は、パーソナルコンピュータにより構成されるもので、図3に示すように、CPU34を制御主体として、メモリ35、画像メモリ33、各カメラ21,22に対応する画像入力部31,32、ステージ制御部36、入力部37、出力部38などを具備する。
As shown in FIG. 3, the
画像入力部31,32は、カメラ用のインターフェース回路やA/D変換回路などにより構成される。画像メモリ33は、各画像入力部31,32でディジタル変換された画像データを記憶するためのもので、カメラ毎に複数枚の画像を蓄積できるだけの容量を具備する。前記メモリ35には、CPU34の動作に必要なプログラムや設定データが格納されるほか、作業用のデータ格納領域が設定される。
The
ステージ制御部36は、前記ステージ1の各移動機構や回転機構に、CPU34により計算された動作量に応じた制御信号を出力する。これにより各移動機構は、前記動作量に応じた距離だけテーブル部10を移動させ、回転機構は、動作量に応じた角度だけテーブル部10を回転させる。
The
入力部37は、マークM1,M2間の距離Lなどの設定データを入力するためのもので、図2のキーボード371やマウス372などにより構成される。出力部38は、位置合わせ処理が完了した旨や後記する設定処理における計測結果(回転角度や中心位置の座標など)などを出力するためのもので、図2のモニタ30などにより構成される。
The
上記構成において、コントローラ3は、各カメラ21,22により得たマークM1,M2の画像を用いて、ワーク4のx軸方向におけるずれ量dx、y軸方向におけるずれ量dy、およびワーク4の回転角度dθを算出する(以下では、dx,dy,dθをまとめて「ずれ量」という。)。そして、これらのずれ量に基づき前記ステージ1の各移動機構や回転機構を動作させることにより、前記ワーク4の各マークM1,M2を前記基準位置に位置合わせする。
In the above configuration, the
また、コントローラ3は、上記の位置合わせ処理を行うのに先立ち、カメラ21,22毎にキャリブレーションを行って、そのカメラからの画像に含まれる各点を実座標に置き換えるのに必要なパラメータを算出する。さらに、この実施例のコントローラ3では、前記ワークのずれ量のうちの回転角度dθを算出するために、ステージ1の回転中心の座標を求める処理を実行する。
なお、前記した実座標とは、テーブル部10の上面を含む仮想平面上での位置を表すもので、たとえばテーブル部10の可動領域の左上端点に原点が設定される。
Further, prior to performing the above alignment processing, the
The real coordinates described above represent a position on a virtual plane including the upper surface of the
図4は、前記コントローラ3による設定処理時の手順を示す。
まず、最初のST1(STはステップの略である。以下も同じ。)では、前記したカメラ21,22のキャリブレーションを実行する。このキャリブレーションで求められた各変換用パラメータは、前記メモリ35に格納される。
FIG. 4 shows a procedure at the time of setting processing by the
First, in the first ST1 (ST is an abbreviation of a step. The same applies to the following), the calibration of the
つぎに、ST2では、前記マークM1,M2の基準位置およびこれらマークM1,M2間の距離Lの入力を受け付けて、これらを登録する。なお、ユーザーは、実物のワーク4を用いた計測またはワーク4の設計データから、ワーク4の所定位置(たとえば左上端点)から見た各マークM1,M2の位置を求め、これらの位置データに基づき、各マークM1,M2の位置すべき実座標を特定することができる。ここで特定された実座標が基準位置として入力される。同様に、各マークM1,M2の位置データからマーク間の距離Lを求め、入力することができる。
Next, in ST2, the reference positions of the marks M1 and M2 and the distance L between the marks M1 and M2 are received and registered. The user obtains the positions of the marks M1 and M2 viewed from a predetermined position (for example, the upper left end point) of the
ST3では、モデルのワークをステージ1上に設置し、前記マークM1,M2がそれぞれ対応するカメラ21,22の視野に含まれるまでステージ1を移動させる。つぎのST4では、各カメラ21,22を駆動して前記各マークM1,M2の画像を生成する。
なお、ST3,4におけるステージ1の移動は、あらかじめ設定された動作量に基づき自動的に行うことができるが、これに限らず、ユーザーの操作に応じて移動させてもよい。これは、図5中のST21においても同様である。
In ST3, the model work is placed on the
Note that the movement of the
続くST5では、各カメラ21,22により得た画像を用いて各マークM1,M2の位置を計測する。この計測処理では、まず、画像上のマークの中心点を抽出し、その中心点の座標を前記ST1で設定されたパラメータを用いて実座標に変換する。このST5で得た各マークM1、M2の実座標は、前記図1の点a1,a2に対応する。
In subsequent ST5, the positions of the marks M1 and M2 are measured using images obtained by the
つぎのST6では、各マークM1,M2が対応するカメラ21,22の視野を出ない範囲でステージ1を回転させる。ST7では、各カメラ21,22を再駆動して2回目の撮像処理を実行する。またST8では、この2回目の撮像処理で得た画像を用いて各マークM1,M2の位置を再度計測する。このST8で得た各マークM1,M2の実座標は、前記図1の点b1,b2に対応する。
In the next ST6, the
つぎのST9では、ステージ1の回転角度dTを求める処理を実行する。このステップでは、まず前記ST5で求めた点a1,a2の座標と、ST8で求めた点b1,b2の座標とを用いて、各マークM1,M2の移動量(dx1、dy1)(dx2,dy2)を算出する。つぎに、これらの移動量と前記マーク間の距離Lとを前述した(3)式にあてはめることにより、ベクトルA,Bの内積を求める。そして、この内積と前記距離Lとを(1)式にあてはめることにより、回転角度dTを算出する。
In the next ST9, processing for obtaining the rotation angle dT of the
このようにして回転角度dTが求められると、ST10では、各マークM1,M2の移動前の座標(点a1,a2の座標)、移動後の座標(点b1,b2の座標)、および前記回転角度dTを用いて、(4)(5)式を実行し、マーク毎に回転中心Cの座標を算出する。そして、これらの座標の平均値をもって、回転中心の座標とする。ST11では、この最終の回転中心の座標をメモリ35に登録し、しかる後に処理を終了する。
When the rotation angle dT is obtained in this way, in ST10, the coordinates before the movement of the marks M1, M2 (the coordinates of the points a1, a2), the coordinates after the movement (the coordinates of the points b1, b2), and the rotation Using the angle dT, the equations (4) and (5) are executed to calculate the coordinates of the rotation center C for each mark. The average value of these coordinates is used as the rotation center coordinate. In ST11, the coordinates of the final center of rotation are registered in the
なお、上記の設定処理において、回転中心の算出精度をさらに向上したい場合には、ST4〜10の処理を複数サイクル繰り返して実行し、サイクル毎に得た回転中心の座標の平均値をもって、最終的な回転中心とすればよい。この場合、サイクル毎にステージ1の回転角度が異なっても支障はない。
In the above setting process, when it is desired to further improve the calculation accuracy of the rotation center, the processes of ST4 to ST10 are repeatedly executed for a plurality of cycles, and the average value of the rotation center coordinates obtained for each cycle is used as the final value. The center of rotation may be used. In this case, there is no problem even if the rotation angle of the
図5は、前記コントローラ3による位置合わせ処理の手順を示す。
まず最初のステップであるST21では、処理対象のワーク4が設置されたステージ1を、前記マークM1,M2がカメラ21,22の視野に含まれる位置まで移動させる。つぎのST22では、各カメラ21,22を駆動してマークM1,M2の画像を生成する。
FIG. 5 shows a procedure of alignment processing by the
In ST21, which is the first step, the
ST23では、各カメラ21,22からの画像を用いて各マークM1,M2の位置を計測する。なお、このステップでも図4のST5やST8と同様に、画像中のマークの中心位置を抽出した後、この中心位置の座標を実座標に変換する処理を実行する。
In ST23, the positions of the marks M1 and M2 are measured using images from the
ST24では、前記ST23で得た各マークM1,M2の計測位置を用いて、ワークのずれ量dx,dy,dθを算出する。なお、dx,dyについては、マーク毎に計測位置と基準位置からの座標の差を求めた後、これらの差の平均値を算出する。一方、dθについては、マーク毎に、計測位置および基準位置と、前記設定処理で求めた回転中心の座標とを用いて回転角度を求めた後、各回転角度の平均値を算出する。 In ST24, using the measurement positions of the marks M1 and M2 obtained in ST23, workpiece displacement amounts dx, dy, and dθ are calculated. For dx and dy, after obtaining the difference in coordinates from the measurement position and the reference position for each mark, the average value of these differences is calculated. On the other hand, for dθ, the rotation angle is obtained for each mark using the measurement position and the reference position and the coordinates of the rotation center obtained in the setting process, and then the average value of each rotation angle is calculated.
ST25では、ST24で求めたずれ量dx,dy,dθに基づき、各移動機構および回転機構の動作量を決定する。そして、各機構をそれぞれ決定した動作量により順に制御することにより、x,yの各軸方向における位置ずれおよび回転ずれを補正し、しかる後に処理を終了する。 In ST25, based on the deviations dx, dy, dθ obtained in ST24, the operation amount of each moving mechanism and rotating mechanism is determined. Then, each mechanism is sequentially controlled by the determined operation amount, thereby correcting the positional deviation and rotational deviation of each of x and y in the respective axial directions, and thereafter the processing is terminated.
ところで、ステージの回転中心の座標を演算により求める従来の方法でも、対角関係にある2個のマークを撮像してからステージを回転させ、回転後に各マークを再度撮像し、2回の撮像で得た画像を用いた演算を実行する。すなわち、この実施例における回転中心の算出方法にかかる手順は、一見すると、従来の方法と何ら変わりがないように思われる。 By the way, even in the conventional method for obtaining the coordinates of the rotation center of the stage by calculation, after imaging two marks in a diagonal relationship, the stage is rotated, and after the rotation, each mark is imaged again. An operation using the obtained image is executed. That is, at first glance, the procedure related to the calculation method of the rotation center in this embodiment seems to be no different from the conventional method.
しかしながら、この実施例では、ステージの回転角度を特に規定していないのに対し、従来の方法では、ステージの回転角度を定めてから回転させるようにしている。
ステージの実際の回転角度には回転機構の性能に起因する誤差が生じるから、従来のようにステージが正確に回転していることを前提にした演算を行うと、不正確な回転中心が導出されることになる。この不正確な回転中心により、回転ずれ補正では、ワークの回転角度を精度良く求められない上、回転補正のためにステージを回転させた際にも誤差が生じる。つまり従来の方法では、誤差が重畳されて、回転ずれ補正の精度が著しく悪くなる可能性がある。
However, in this embodiment, the rotation angle of the stage is not particularly defined, whereas in the conventional method, the rotation angle is determined after the rotation angle of the stage is determined.
Since the actual rotation angle of the stage has an error due to the performance of the rotation mechanism, if the calculation is performed on the assumption that the stage is rotating accurately as in the past, an incorrect rotation center is derived. Will be. Due to this inaccurate rotation center, the rotation deviation correction cannot accurately determine the rotation angle of the workpiece, and an error also occurs when the stage is rotated for rotation correction. That is, in the conventional method, errors may be superimposed, and the accuracy of rotational deviation correction may be significantly deteriorated.
これに対し、この実施例では、ステージ1の回転前および回転後の各マークの計測位置と、マーク間の距離Lとを用いることにより、ステージ1の実際の回転角度を精度良く求めることができるので、回転中心の座標を的確に求めることができる。よって、回転ずれ補正の際にも、ワーク4の回転角度を精度良く求めることができ、補正時に生じる誤差を大幅に削減して位置合わせの精度を高めることができる。
On the other hand, in this embodiment, the actual rotation angle of the
1 ステージ
3 制御装置
4 ワーク
10 テーブル部
21,22 カメラ
34 CPU
35 メモリ
37 入力部
M1,M2 マーク
DESCRIPTION OF
35
Claims (5)
前記ワーク上の位置決めマーク間の距離を特定するデータを入力するステップAと、モデルのワークを前記ステージ上に設置して、各撮像手段にそれぞれ対応する位置決めマークを撮像させるステップBと、前記各位置決めマークが対応する撮像手段の視野から出ない範囲で前記ステージを回転させ、各撮像手段に位置決めマークを再度撮像させるステップCとを実行した後、前記ステップB,Cで得た画像と前記位置決めマーク間の距離とを用いて、前記ステージの回転中心の座標を算出することを特徴とする回転中心算出方法。 A workpiece having a plurality of positioning marks on its surface is set on a stage having a rotation mechanism, and at least imaging means are set toward the reference positions of two positioning marks that are in a diagonal relationship. In the work positioning process for controlling the operation of the stage so that each positioning mark matches the reference position using the image obtained by the means, the coordinates of the rotation center of the stage necessary for correcting the rotational deviation of the work are obtained. A method,
Step A for inputting data for specifying a distance between positioning marks on the workpiece, Step B for placing a model workpiece on the stage, and causing each imaging means to image a corresponding positioning mark, The stage is rotated within a range where the positioning mark does not come out of the field of view of the corresponding imaging means, and after performing Step C in which each imaging means images the positioning mark again, the image obtained in Steps B and C and the positioning are obtained. A rotation center calculation method, wherein a coordinate of a rotation center of the stage is calculated using a distance between marks.
前記ステージの回転中心の座標を算出する処理では、前記対角関係にある2個の位置決めマークについて、それぞれ前記ステップB,Cで得た画像を用いてステージ回転前の座標とステージ回転後の座標とを求める第1ステップと、第1ステップで算出された各座標から前記ステージの回転による各位置決めマークの移動量を求める第2ステップと、前記位置決めマーク間の距離と前記第2ステップで求めた各位置決めマークの移動量とを用いて、前記ステージの回転角度を求める第3ステップと、前記第3ステップで求めた回転角度と少なくとも1つの位置決めマークの回転前および回転後の座標とを用いて、前記ステージの回転中心の座標を算出する第4ステップとを実行する回転中心算出方法。 The method of claim 1, wherein
In the process of calculating the coordinates of the rotation center of the stage, for the two positioning marks having the diagonal relationship, the coordinates before the stage rotation and the coordinates after the stage rotation are obtained using the images obtained in the steps B and C, respectively. The first step for obtaining the distance, the second step for obtaining the movement amount of each positioning mark by the rotation of the stage from the coordinates calculated in the first step, and the distance between the positioning marks and the second step. Using the movement amount of each positioning mark, the third step for obtaining the rotation angle of the stage, the rotation angle obtained in the third step, and the coordinates before and after rotation of at least one positioning mark. And a fourth step of calculating the coordinates of the rotation center of the stage.
前記第3ステップでは、ステージ回転前の各位置決めマークを結ぶベクトルとステージ回転後の前記ベクトルとの内積を用いて前記回転角度を算出する回転中心算出方法。 The method of claim 2, wherein
In the third step, a rotation center calculation method for calculating the rotation angle using an inner product of a vector connecting the positioning marks before the stage rotation and the vector after the stage rotation.
前記複数の撮像手段は、少なくとも対角関係にある2個の位置決めマークの基準位置に向けてそれぞれ配備されており、
前記制御装置は、前記対角関係にある位置決めマーク間の距離を特定するデータを入力するための入力手段を具備し、前記ステージにモデルのワークが設置されたとき、各撮像手段にそれぞれ対応する位置決めマークを撮像させた後、ステージを所定量だけ回転させて各撮像手段に各位置決めマークを再度撮像させ、前記ステージの回転前および回転後に得た各画像と前記入力手段から入力された位置決めマーク間の距離とを用いて、前記ステージの回転中心の座標を算出するワーク位置決め装置。 A stage having a rotation mechanism, a plurality of imaging means for imaging the positioning marks of the workpiece on the stage, and the positioning marks using the images obtained by the imaging means so that each positioning mark matches the reference position, respectively. In a workpiece positioning device comprising a control device for controlling the operation of the stage,
The plurality of imaging means are respectively arranged toward the reference positions of at least two positioning marks in a diagonal relationship,
The control device includes input means for inputting data for specifying a distance between the positioning marks in the diagonal relationship, and corresponds to each imaging means when a model work is placed on the stage. After imaging the positioning mark, the stage is rotated by a predetermined amount so that each imaging means images each positioning mark again, and each image obtained before and after the rotation of the stage and the positioning mark input from the input means A workpiece positioning device that calculates the coordinates of the rotation center of the stage using the distance between them.
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---|---|
JP (1) | JP4345607B2 (en) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008256411A (en) * | 2007-04-02 | 2008-10-23 | Yaskawa Electric Corp | Device and method for image processing of position determination |
WO2011071813A1 (en) | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Cognex Corporation | Object control system, object control method and program, and rotational center position specification device |
WO2011163209A2 (en) | 2010-06-23 | 2011-12-29 | Cognex Corporation | Mobile object control system and program, and mobile object control method |
JP2012074455A (en) * | 2010-09-28 | 2012-04-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Alignment unit, substrate processing apparatus, and alignment method |
KR101320712B1 (en) | 2012-02-23 | 2013-10-21 | 인하대학교 산학협력단 | Method for aligning rotation axis of two-axis rotation stage using alignment mark and apparatus thereof |
KR101407473B1 (en) * | 2013-06-10 | 2014-06-17 | 배옥임 | Apparatus for controlling cutting and polishing machine using pattern mark |
EP2789431A2 (en) | 2013-04-08 | 2014-10-15 | Omron Corporation | Control system and control method |
CN110857924A (en) * | 2018-08-22 | 2020-03-03 | 皓琪科技股份有限公司 | System for assisting array typesetting circuit board identification and recording defect position |
CN112908172A (en) * | 2021-02-01 | 2021-06-04 | 深圳市冠运智控科技有限公司 | Full-automatic mobile phone screen laminating system and laminating method thereof |
CN113306130A (en) * | 2021-04-26 | 2021-08-27 | 欧拓飞科技(珠海)有限公司 | PCB protective film attaching method |
CN113720280A (en) * | 2021-09-03 | 2021-11-30 | 北京机电研究所有限公司 | Bar center positioning method based on machine vision |
-
2004
- 2004-08-09 JP JP2004232059A patent/JP4345607B2/en active Active
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008256411A (en) * | 2007-04-02 | 2008-10-23 | Yaskawa Electric Corp | Device and method for image processing of position determination |
CN102598896B (en) * | 2009-12-07 | 2015-06-03 | 康耐视公司 | Object control system, object control method and program, and rotational center position specification device |
WO2011071813A1 (en) | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Cognex Corporation | Object control system, object control method and program, and rotational center position specification device |
JP2011117914A (en) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Cognex Corp | Object control system, object control method, program, and rotation center position specification device |
CN102598896A (en) * | 2009-12-07 | 2012-07-18 | 康耐视公司 | Object control system, object control method and program, and rotational center position specification device |
US9247684B2 (en) | 2009-12-07 | 2016-01-26 | Cognex Corporation | Object control system, object control method and program, and rotational center position specification device |
TWI494535B (en) * | 2009-12-07 | 2015-08-01 | Cognex Corp | Object control system, object control method and program, and rotational center position specification device |
WO2011163209A2 (en) | 2010-06-23 | 2011-12-29 | Cognex Corporation | Mobile object control system and program, and mobile object control method |
JP2012007934A (en) * | 2010-06-23 | 2012-01-12 | Cognex Corp | Mobile object control system, program and mobile object control method |
WO2011163209A3 (en) * | 2010-06-23 | 2012-04-12 | Cognex Corporation | Mobile object control system and program, and mobile object control method |
JP2012074455A (en) * | 2010-09-28 | 2012-04-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Alignment unit, substrate processing apparatus, and alignment method |
KR101320712B1 (en) | 2012-02-23 | 2013-10-21 | 인하대학교 산학협력단 | Method for aligning rotation axis of two-axis rotation stage using alignment mark and apparatus thereof |
KR20140121780A (en) | 2013-04-08 | 2014-10-16 | 오므론 가부시키가이샤 | Control system and control method |
JP2014203365A (en) * | 2013-04-08 | 2014-10-27 | オムロン株式会社 | Control system and control method |
EP2789431A2 (en) | 2013-04-08 | 2014-10-15 | Omron Corporation | Control system and control method |
US9424646B2 (en) | 2013-04-08 | 2016-08-23 | Omron Corporation | Control system and control method |
KR101407473B1 (en) * | 2013-06-10 | 2014-06-17 | 배옥임 | Apparatus for controlling cutting and polishing machine using pattern mark |
CN110857924A (en) * | 2018-08-22 | 2020-03-03 | 皓琪科技股份有限公司 | System for assisting array typesetting circuit board identification and recording defect position |
CN112908172A (en) * | 2021-02-01 | 2021-06-04 | 深圳市冠运智控科技有限公司 | Full-automatic mobile phone screen laminating system and laminating method thereof |
CN113306130A (en) * | 2021-04-26 | 2021-08-27 | 欧拓飞科技(珠海)有限公司 | PCB protective film attaching method |
CN113720280A (en) * | 2021-09-03 | 2021-11-30 | 北京机电研究所有限公司 | Bar center positioning method based on machine vision |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4345607B2 (en) | 2009-10-14 |
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