JP2006045294A - Printing ink composition, coating film, its forming method, electronic component and its manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、印刷インキ組成物、塗膜及びその形成方法、並びに、電子部品及びその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a printing ink composition, a coating film and a method for forming the same, and an electronic component and a method for manufacturing the same.
表示部材、光学部材、配線板などの電子部品で用いられる微細パターンの形成方法としては、一般的にフォトレジストを用いたフォトリソグラフィー法が用いられる。このフォトリソグラフィー法は、エッチング処理される被加工膜を形成した基板上に、フォトレジストの塗布、露光、現像、上記被加工膜のエッチング処理、上記フォトレジストの除去を順に行う方法である。特に、フォトリソグラフィー法は、精密なパターン形成を行えることから、例えば、液晶ディスプレイLCDの製造プロセスの配線パターンや素子の形成に用いられている。 As a method for forming a fine pattern used in electronic parts such as a display member, an optical member, and a wiring board, a photolithography method using a photoresist is generally used. This photolithography method is a method in which, on a substrate on which a processed film to be etched is formed, a photoresist is applied, exposed, developed, an etching process for the processed film, and the photoresist is removed in this order. In particular, the photolithography method can be used for forming a wiring pattern or an element in a manufacturing process of a liquid crystal display LCD because it can form a precise pattern.
しかしながら、近年、基板の大型化に伴い、フォトリソグラフィー法を行うためには、大型の露光機、現像装置、ベーク炉やこれらを設置するクリーンルームが必要となってきており、設備投資の巨額化が顕著になる傾向にある。また、フォトリソグラフィー法では、1m角以上の基板はスピンコータでレジストを塗布することが困難であるため、その代替の手段として、スリットコータなどの塗布装置が用いられる。しかしながら、レジストの塗膜を塗布面全体に均一な厚みで形成するのが難しく、しかも作業に手間や費用がかかる。近年では更に、製造コストの削減が強く要求されており、高価な設備や費用を必要とするフォトリソグラフィー法を用いないような電子部品の製造方法が望まれている。 However, in recent years, in order to carry out the photolithography method with the increase in the size of the substrate, a large exposure machine, a developing device, a baking furnace and a clean room in which these are installed are necessary, and the capital investment is increased. It tends to be prominent. In addition, in the photolithography method, it is difficult to apply a resist with a spin coater on a substrate of 1 m square or more, and as an alternative, a coating apparatus such as a slit coater is used. However, it is difficult to form a resist coating film with a uniform thickness on the entire coated surface, and the operation is laborious and expensive. In recent years, there has been a strong demand for reduction in manufacturing cost, and a method for manufacturing an electronic component that does not use a photolithography method that requires expensive equipment and cost is desired.
フォトリソグラフィー法以外の微細パターンの形成方法としては、従来の電着法や印刷法の適用が提案されている。特に、印刷法は比較的廉価に行える方法であるため、注目されている。 As a method for forming a fine pattern other than the photolithography method, application of a conventional electrodeposition method or a printing method has been proposed. In particular, the printing method is attracting attention because it is a relatively inexpensive method.
印刷法の具体例としては、例えば特許文献1に示されているように、インキの膜厚ムラを完全になくすことによってザラツキ感の解消、解像度、平坦性の向上及びゴーストの解消を行うことを意図して、シリコン樹脂面に樹脂を塗布して塗布面を形成する塗布工程と、該塗布面に対し所定の形状で形成された凸版を押圧して凸版の凸部分に樹脂を転写除去する除去工程と、塗布面に残った樹脂を基盤に転写する転写工程とからなる画像形成法が提案されている。 As a specific example of the printing method, for example, as disclosed in Patent Document 1, it is possible to eliminate roughness, improve resolution and flatness, and eliminate ghosting by completely eliminating ink film thickness unevenness. Intentionally, an application process in which a resin is applied to the silicon resin surface to form an application surface, and a removal in which the resin is transferred to and removed from the convex portion of the relief plate by pressing the relief plate formed in a predetermined shape against the application surface. There has been proposed an image forming method including a process and a transfer process in which the resin remaining on the coated surface is transferred to a substrate.
また、特許文献2に示されているように、糸曳き現象がなく、インキの膜厚ムラ(メロンパターン)を発生することのない、高い品質の印刷物を得ることのできる画像形成法を提供することを意図して、シリコンブランケット上に機能性樹脂の塗布面を形成し、凹版又は凸版を塗布面に押圧するとともに圧着された部分の樹脂をシリコンブランケット上から除去し、残った樹脂を非印刷体上に転写してなる画像形成法が提案されている。
しかしながら、かかる従来の方法を電子部品の製造に用いられる微細パターンの形成に用いても、微細パターンを形成する塗膜表面の平滑化や、パターン寸法及び形状の高精密化が必ずしも十分とはいえず、良好な電子部品を得るためには未だ改善の余地がある。 However, even if such a conventional method is used for forming a fine pattern used in the manufacture of electronic components, it is not always sufficient to smooth the surface of the coating film forming the fine pattern and to increase the precision of the pattern size and shape. However, there is still room for improvement in order to obtain good electronic components.
そこで、本発明者らはその原因を追究し、そのなかで印刷インキ組成物に着目した。そして、従来の印刷法、特にオフセット印刷法などでは印刷インキ組成物が電子部品の製造方法に十分に適応できていないことを見出した。 Therefore, the present inventors have investigated the cause and focused on the printing ink composition. And it discovered that the printing ink composition was not fully adaptable to the manufacturing method of an electronic component by the conventional printing method, especially the offset printing method.
本発明は上記事情にかんがみてなされたものであり、電子部品の製造に用いられる微細パターンの形成方法として印刷法を用いたときに、パターンを形成する塗膜厚さの均一性、塗膜表面の平滑性、パターン精度及び形状を向上させる印刷インキ組成物、かかる印刷インキ組成物を用いた塗膜及びその形成方法、並びに、かかる印刷インキ組成物を用いた電子部品の製造方法及びその電子部品を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and when a printing method is used as a method for forming a fine pattern used in the manufacture of electronic components, the uniformity of the coating film thickness that forms the pattern, and the coating film surface Ink composition for improving the smoothness, pattern accuracy and shape of the coating film, coating film using the printing ink composition and method for forming the same, and method for producing electronic components using the printing ink composition and the electronic parts The purpose is to provide.
本発明の印刷インキ組成物は、(a)成分:有機溶剤に可溶な樹脂(以下、「a成分」という。)と、(b)成分:20℃での表面張力が30mN/m以下の有機溶剤(以下、「b成分」という。)と、(c)成分:20℃での蒸気圧が2.0hPa以下の有機溶剤(以下、「c成分」という。)とを含有することを特徴とする。 The printing ink composition of the present invention comprises (a) component: a resin soluble in an organic solvent (hereinafter referred to as “a component”), and (b) component: a surface tension at 20 ° C. of 30 mN / m or less. An organic solvent (hereinafter referred to as “component b”) and (c) component: an organic solvent having a vapor pressure at 20 ° C. of 2.0 hPa or less (hereinafter referred to as “component c”) are included. And
ここで、本発明の印刷インキ組成物において、b成分の表面張力は、例えば、JIS K−2241(2000;切削油剤試験方法)に規定の方法に準拠して、温度一定条件(20℃)のもとに、デュヌイ表面張力計を用いて測定することができる。また、c成分の蒸気圧は、例えば、JIS K−2258(1998;原油及び燃料油蒸気圧試験法(リード法))に規定の方法に準拠して、蒸気圧試験器を用いて測定することができる。 Here, in the printing ink composition of the present invention, the surface tension of the b component is, for example, in accordance with a method defined in JIS K-2241 (2000; cutting oil test method) under a constant temperature condition (20 ° C.). Originally, it can be measured using a Dunui surface tension meter. In addition, the vapor pressure of component c should be measured using a vapor pressure tester in accordance with, for example, the method specified in JIS K-2258 (1998; crude oil and fuel oil vapor pressure test method (Reed method)). Can do.
本発明の印刷インキ組成物によれば、樹脂であるa成分は有機溶剤に可溶であるため、b成分及びc成分に溶解させることができる。このb成分が当該組成物に含まれると、b成分の表面張力が上記条件を満たすことに起因して、シリコン樹脂膜に対する溶剤のぬれ性が良好になり、本発明の印刷インキ組成物をシリコン樹脂膜の表面に塗布した際、十分に膜厚が均一な塗膜を形成することができる。また、c成分は、その蒸気圧が上記条件を満たすことから明らかなように、その蒸発速度が遅く、揮発性が低く抑えられた有機溶剤である。このため、c成分を含むと、本発明の印刷インキ組成物を、例えばシリコンブランケット等のシリコン樹脂面に塗布して塗膜を形成した後、この塗膜を基板等へ転写するときの転写性を向上させることができる。したがって、電子部品の製造で用いられる微細パターンの形成方法として印刷法を用いる際に本発明の印刷インキ組成物を使用すると、パターンを形成する塗膜厚さの均一性及び塗膜表面の平滑性が高まり、その塗膜におけるパターンの精度及び形状を向上させることができる。 According to the printing ink composition of the present invention, since the component a which is a resin is soluble in an organic solvent, it can be dissolved in the components b and c. When this b component is contained in the composition, the surface tension of the b component satisfies the above condition, so that the wettability of the solvent with respect to the silicon resin film is improved, and the printing ink composition of the present invention is made into silicon. When applied to the surface of the resin film, a coating film having a sufficiently uniform film thickness can be formed. The component c is an organic solvent having a low evaporation rate and low volatility, as is clear from the fact that the vapor pressure satisfies the above conditions. For this reason, when the component c is included, the printing ink composition of the present invention is applied to a silicon resin surface such as a silicon blanket to form a coating film, and then transferability when the coating film is transferred to a substrate or the like. Can be improved. Therefore, when the printing ink composition of the present invention is used when a printing method is used as a method for forming a fine pattern used in the manufacture of electronic components, the uniformity of the coating film thickness that forms the pattern and the smoothness of the coating film surface And the accuracy and shape of the pattern in the coating film can be improved.
また、本発明の印刷インキ組成物において、a成分が、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、及び、アクリル樹脂からなる群より選択される1種以上の樹脂であることが好ましい。これにより、後述の電子部品の製造方法を実施する際、エッチング工程時にパターンの変形を抑制する等の耐性特性を向上させることができる。 In the printing ink composition of the present invention, the component a is preferably at least one resin selected from the group consisting of a novolac resin, a polyhydroxystyrene resin, and an acrylic resin. Thereby, when implementing the manufacturing method of the electronic component mentioned later, tolerance characteristics, such as suppressing a deformation | transformation of a pattern at the time of an etching process, can be improved.
また、本発明の塗膜の形成方法は、所定形状にパターン化された塗膜の形成方法であって、上記の印刷インキ組成物をシリコン樹脂膜の表面上に塗布して塗膜を形成する塗膜形成工程と、塗膜の一部を、凸版の凸部表面上に転写することにより、シリコン樹脂膜から剥離除去する剥離除去工程と、剥離除去工程後にシリコン樹脂膜上に残存した塗膜を基板の表面上に転写する塗膜転写工程とを備えることを特徴とする。 The method for forming a coating film of the present invention is a method for forming a coating film patterned into a predetermined shape, and forms the coating film by applying the above-described printing ink composition onto the surface of the silicon resin film. A coating film forming step, a peeling removal step for peeling and removing from the silicon resin film by transferring a part of the coating film onto the convex surface of the relief plate, and a coating film remaining on the silicon resin film after the peeling removal step And a coating film transfer process for transferring the film onto the surface of the substrate.
また、本発明の塗膜は、基板上に設けられており、上記の塗膜の形成方法により形成されてなることを特徴とする。 Moreover, the coating film of this invention is provided on the board | substrate, and is formed by said formation method of a coating film, It is characterized by the above-mentioned.
本発明の塗膜及びその形成方法は、上記本発明の印刷インキ組成物を用いるものであるため、塗膜厚さの均一性及び塗膜表面の平滑性に優れ、かつパターン精度及び形状の優れた塗膜を基板上に形成することができる。 Since the coating film of the present invention and the method for forming the same use the printing ink composition of the present invention, the coating film thickness uniformity and the coating film surface smoothness are excellent, and the pattern accuracy and shape are excellent. A coated film can be formed on the substrate.
また、本発明の電子部品の製造方法は、基板上に配線パターンが形成された電子部品の製造方法であって、基板上に設けられた被加工膜上に、請求項4記載の塗膜を形成する塗膜パターン形成工程と、塗膜を乾燥させ、樹脂膜を形成する樹脂膜形成工程と、被加工膜の露出領域をエッチング処理するエッチング工程と、樹脂膜を除去する樹脂膜除去工程とを備えることを特徴とする。 Moreover, the manufacturing method of the electronic component of this invention is a manufacturing method of the electronic component by which the wiring pattern was formed on the board | substrate, Comprising: The coating film of Claim 4 is formed on the to-be-processed film provided on the board | substrate. A coating film pattern forming process to be formed, a resin film forming process for drying the coating film to form a resin film, an etching process for etching an exposed region of the film to be processed, and a resin film removing process for removing the resin film; It is characterized by providing.
また、本発明の電子部品は、基板上に配線パターンが形成された電子部品であって、上記の電子部品の製造方法により製造されてなることを特徴とする。 The electronic component of the present invention is an electronic component having a wiring pattern formed on a substrate, and is manufactured by the above-described electronic component manufacturing method.
本発明の電子部品及びその製造方法は、上記本発明の印刷インキ組成物を用いるものであるため、パターン間隔を狭小にした場合であっても十分に良好なエッチング処理が可能になり生産性が優れるとともに、電子部品の配線の高密度化及び高解像化が可能となる。 Since the electronic component of the present invention and the method for producing the same use the above-described printing ink composition of the present invention, a sufficiently good etching process can be performed even when the pattern interval is narrowed, and the productivity is improved. In addition to being excellent, it is possible to increase the density and resolution of the wiring of electronic components.
本発明によれば、電子部品の製造に用いられる微細パターンの形成方法として印刷法を用いたときに、パターンを形成する塗膜厚さの均一性、塗膜表面の平滑性、パターン精度及び形状を向上させる印刷インキ組成物を提供することができる。また、かかる印刷インキ組成物を用いた塗膜及びその形成方法、並びに、かかる印刷インキ組成物を用いた電子部品の製造方法及びその電子部品を提供することができる。 According to the present invention, when a printing method is used as a method for forming a fine pattern used for manufacturing an electronic component, the uniformity of the thickness of the coating film forming the pattern, the smoothness of the coating film surface, the pattern accuracy, and the shape A printing ink composition can be provided that improves the above. Moreover, the coating film using this printing ink composition, its formation method, the manufacturing method of an electronic component using this printing ink composition, and its electronic component can be provided.
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、本発明において、(メタ)アクリル酸とはアクリル酸又はメタクリル酸を示し、(メタ)アクリレートとはアクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味し、(メタ)アクリロイル基とはアクリロイル基又はメタクリロイル基を意味する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In the present invention, (meth) acrylic acid means acrylic acid or methacrylic acid, (meth) acrylate means acrylate or a corresponding methacrylate, and (meth) acryloyl group means acryloyl group or methacryloyl group. means.
また、以下に挙げる重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算した値である。 Moreover, the weight average molecular weight given below is a value measured by gel permeation chromatography and converted using a standard polystyrene calibration curve.
本発明の印刷インキ組成物は、a成分の有機溶剤に可溶な樹脂と、b成分の20℃での表面張力が30mN/m以下の有機溶剤と、c成分の20℃での蒸気圧が2.0hPa以下の有機溶剤とを含有するものである。 The printing ink composition of the present invention has a resin soluble in an organic solvent as component a, an organic solvent having a surface tension at 20 ° C. of component b of 30 mN / m or less, and a vapor pressure at 20 ° C. of component c. It contains an organic solvent of 2.0 hPa or less.
(a成分)
a成分は有機溶剤に可溶な樹脂であり、印刷インキ組成物としたときに成膜性、転写性が損なわれないものであれば特に限定されない。
(Component a)
The component a is a resin that is soluble in an organic solvent and is not particularly limited as long as the film-forming property and transferability are not impaired when a printing ink composition is obtained.
a成分としては、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、アクリル樹脂、アミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂等が挙げられる。 Examples of the component a include novolak resins, polyhydroxystyrene resins, acrylic resins, amide resins, polyester resins, polycarbonate resins, polyphenylene ether resins, and the like.
これらの中でもノボラック樹脂、アクリル樹脂及びポリヒドロキシスチレン樹脂は、後述するエッチング工程時において、パターンの変形を抑制する等の耐性特性に優れる点で特に好ましい。 Among these, novolak resin, acrylic resin, and polyhydroxystyrene resin are particularly preferable in that they have excellent resistance characteristics such as suppression of pattern deformation during an etching process described later.
ノボラック樹脂としては、例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール等とホルムアルデヒドとの重縮合体が挙げられる。 Examples of novolak resins include polycondensates of phenol, cresol, xylenol and the like with formaldehyde.
アクリル樹脂としては、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルメタクリレート、ビスグリシジルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ラウリルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ベンジルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、ヘキシルメタクリレート、ヘキシルアクリレート、オクチルメタクリレート、オクチルアクリレート、含リンメタクリレート、等のアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルが挙げられる。また、スチレン、スチレン誘導体、その他の重合性モノマーの単独重合体又は共重合体、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、シトラコン酸、無水シトラコン酸、シトラコン酸モノアルキルエステル等のカルボキシル基含有重合性モノマーと(メタ)アクリル酸エステル、スチレンのスチレン誘導体、その他の重合性モノマーとの共重合体等を使用することができる。 As acrylic resins, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl methacrylate, bisglycidyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, lauryl methacrylate, stearyl methacrylate, benzyl methacrylate, benzyl Acrylic acid ester such as acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, hexyl methacrylate, hexyl acrylate, octyl methacrylate, octyl acrylate, phosphorus-containing methacrylate, etc. Le or methacrylic acid esters. Also, styrene, styrene derivatives, homopolymers or copolymers of other polymerizable monomers, (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, monoalkyl maleate, citraconic acid, citraconic anhydride, A copolymer of a carboxyl group-containing polymerizable monomer such as citraconic acid monoalkyl ester and (meth) acrylic acid ester, a styrene derivative of styrene, other polymerizable monomers, or the like can be used.
ポリヒドロキシスチレン樹脂としては、ヒドロキシスチレン、α−メチルスチレン等の単独重合体のほか、前述の重合性モノマーとの共重合体組成等が挙げられる。 Examples of the polyhydroxystyrene resin include homopolymers such as hydroxystyrene and α-methylstyrene, as well as copolymer compositions with the aforementioned polymerizable monomers.
ノボラック樹脂を用いる場合には、重量平均分子量は1000以上の範囲であることが好ましく、2000以上の範囲内であることがより好ましい。重量平均分子量が1000よりも小さいとエッチング工程時の耐性特性が低下する傾向にある。 When a novolak resin is used, the weight average molecular weight is preferably in the range of 1000 or more, and more preferably in the range of 2000 or more. When the weight average molecular weight is less than 1000, the resistance characteristic during the etching process tends to be lowered.
また、アクリル樹脂を用いる場合には、重量平均分子量は1500〜200000の範囲内であることが好ましく、5000〜100000の範囲内であることがより好ましく、10000〜50000の範囲内であることが特に好ましい。重量平均分子量が1,500よりも小さいとエッチング工程時の耐性特性が低下する傾向にあり、重量平均分子量が200000を超えると本発明の溶剤に対する溶解性が低下する傾向にある。 Moreover, when using an acrylic resin, it is preferable that a weight average molecular weight exists in the range of 1500-200000, It is more preferable in the range of 5000-100000, It is especially in the range of 10000-50000. preferable. When the weight average molecular weight is less than 1,500, the resistance characteristic during the etching process tends to be lowered, and when the weight average molecular weight exceeds 200000, the solubility in the solvent of the present invention tends to be lowered.
また、ポリヒドロキシスチレン樹脂を用いる場合には、重量平均分子量は1000〜100,000の範囲内であることが好ましく、2000〜50000の範囲内であることがより好ましく、5000〜30000の範囲内であることが特に好ましい。重量平均分子量が1000よりも小さいとエッチング工程時の耐性特性が低下し、重量平均分子量が200000を超えると本発明の溶剤に対する溶解性が低下する傾向にある。 When using a polyhydroxystyrene resin, the weight average molecular weight is preferably in the range of 1000 to 100,000, more preferably in the range of 2000 to 50000, and in the range of 5000 to 30000. It is particularly preferred. When the weight average molecular weight is less than 1000, the resistance characteristic during the etching process is lowered, and when the weight average molecular weight exceeds 200000, the solubility in the solvent of the present invention tends to be lowered.
また、本発明の印刷インキ組成物のa成分として、光または熱重合性不飽和結合を有する樹脂を使用してもよい。これにより、本発明の所定形状にパターン化された塗膜を形成した後、光照射又は熱処理を行うことによって、塗膜を容易に硬化させることができる。 Moreover, you may use resin which has a light or a thermopolymerizable unsaturated bond as a component of the printing ink composition of this invention. Thereby, after forming the coating film patterned into the predetermined shape of this invention, a coating film can be hardened easily by performing light irradiation or heat processing.
このような樹脂の好ましい例としては、高酸価のカルボキシ基含有アクリル系樹脂に、グリシジルメタクリレート、グルシジルアクリレート、アリルグリシジルエーテル、α−エチルグリシジルアクリレート、クロトニルグリシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルグリシジルエーテル等のオキシラン環と、エチレン性不飽和結合とをそれぞれ1個有する化合物;アリルアルコール、2−ブテン−4−オール、フルフリルアルコール、オレイルアルコール、シンナミルアルコール、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、N−メチロールアクリルアミド等の水酸基とエチレン性不飽和結合をそれぞれ1個有する化合物(不飽和アルコール)を反応させた樹脂;水酸基を有するカルボキシル基含有樹脂に遊離イソシアネート基含有不飽和化合物を反応させた樹脂;エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸との付加反応物に多塩基酸無水物を反応させた樹脂;共役ジエン重合体や共役ジエン共重合体と不飽和ジカルボン酸無水物との付加反応物に水酸基含有重合性モノマーを反応させた樹脂等が挙げられる。 Preferred examples of such resins include high acid value carboxy group-containing acrylic resins, glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, allyl glycidyl ether, α-ethyl glycidyl acrylate, crotonyl glycidyl ether, itaconic acid monoalkyl glycidyl ether. A compound having one oxirane ring and one ethylenically unsaturated bond; allyl alcohol, 2-buten-4-ol, furfuryl alcohol, oleyl alcohol, cinnamyl alcohol, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxy Resins in which a hydroxyl group such as ethyl methacrylate or N-methylolacrylamide and a compound each having one ethylenically unsaturated bond (unsaturated alcohol) are reacted; a carboxyl group-containing resin having a hydroxyl group Resin obtained by reacting an unsaturated compound containing an isocyanate group; Resin obtained by reacting an addition reaction product of an epoxy resin and an unsaturated carboxylic acid with a polybasic acid anhydride; Conjugated diene polymer or conjugated diene copolymer and unsaturated Examples thereof include a resin obtained by reacting an addition reaction product with a dicarboxylic acid anhydride with a hydroxyl group-containing polymerizable monomer.
上記の光重合性不飽和結合を分子内に2個以上有するモノマーとしては、例えば、EO(エチレンオキシド)変性ビスフェノールAジアクリレート、ECH(エピクロロヒドリン)変性ビスフェノールAジアクリレート、ビスフェノールAジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,3−ブチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、EO変性リン酸ジアクリレート、ECH変性フタル酸ジアクリレート、ポリエチレングリコール400ジアクリレート、ポリプロピレングリコール400ジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ECH変性1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、EO変性リン酸トリアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、PO(プロピレンオキシド)変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス(メタクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等のアクリレート、これらに対応するメタクリレート等が挙げられる。これらのモノマーは、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる Examples of the monomer having two or more photopolymerizable unsaturated bonds in the molecule include EO (ethylene oxide) modified bisphenol A diacrylate, ECH (epichlorohydrin) modified bisphenol A diacrylate, bisphenol A dimethacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, glycerol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, EO-modified phosphate diacrylate, ECH-modified phthalic acid diacrylate, polyethylene glycol 400 Acrylate, polypropylene glycol 400 dimethacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, ECH-modified 1,6-hexanediol diacrylate, toner Methylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, EO modified phosphoric acid triacrylate, EO modified trimethylolpropane triacrylate, PO (propylene oxide) modified trimethylolpropane triacrylate, tris (methacryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetraacrylate Acrylates such as dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and methacrylates corresponding to these. These monomers can be used alone or in combination of two or more.
印刷インキ組成物を紫外線で硬化させる場合には光重合開始剤を使用することも可能である。例えば光重合開始剤として、ベンゾフェノン、N,N’−テトラエチル−4,4’−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−4’−ジメチルアミノベンゾフェノン、ベンジル、2,2−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−1−プロパン、t−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2,3−ジクロロアントラキノン、3−クロル−2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナントラキノン、1,2−ベンゾアントラキノン、1,4−ジメチルアントラキノン、2−フェニルアントラキノン、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体などが挙げられる。これらの光重合開始剤は単独で又は2種以上を組み合わせて使用される。 When the printing ink composition is cured with ultraviolet rays, it is also possible to use a photopolymerization initiator. For example, as a photopolymerization initiator, benzophenone, N, N′-tetraethyl-4,4′-diaminobenzophenone, 4-methoxy-4′-dimethylaminobenzophenone, benzyl, 2,2-diethoxyacetophenone, benzoin, benzoin methyl ether , Benzoin isobutyl ether, benzyldimethyl ketal, α-hydroxyisobutylphenone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1- Propane, t-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2,3-dichloroanthraquinone, 3-chloro-2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 1,4-naphthoquinone, 9,10- Enantorakinon, 1,2-anthraquinone, 1,4-dimethyl anthraquinone, 2-phenyl anthraquinone, 2- (o-chlorophenyl) -4,5 the like and diphenyl imidazole dimer. These photoinitiators are used individually or in combination of 2 or more types.
(b成分)
b成分は20℃での表面張力が30mN/m以下の有機溶剤であり、印刷インキ組成物としたときに成膜性、転写性が損なわれないものであれば特に限定されない。
(Component b)
Component b is an organic solvent having a surface tension at 20 ° C. of 30 mN / m or less, and is not particularly limited as long as the film formability and transferability are not impaired when a printing ink composition is obtained.
b成分としては、その表面張力が上記条件を満たすエステル系溶剤やケトン系溶剤等が挙げられる。 Examples of the component b include ester solvents and ketone solvents whose surface tension satisfies the above conditions.
エステル系溶剤としては、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸i−プロピル、酢酸n−プロピル、酢酸i−ブチル、酢酸n−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル等が挙げられる。また、ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。 Examples of ester solvents include methyl formate, ethyl formate, propyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, i-propyl acetate, n-propyl acetate, i-butyl acetate, n-butyl acetate, methyl propionate, and ethyl propionate. Can be mentioned. Examples of the ketone solvent include acetone and methyl ethyl ketone.
b成分は、上記条件を満たせば特に限定されないが、20℃での表面張力が28mN/m以下であるとより好ましく、26mN/m以下であると更に好ましい。 Although b component will not be specifically limited if the said conditions are satisfy | filled, the surface tension in 20 degreeC is more preferable in it being 28 mN / m or less, and it is still more preferable in it being 26 mN / m or less.
(c成分)
c成分は20℃での蒸気圧が2.0hPa以下の有機溶剤であり、印刷インキ組成物としたときに成膜性、転写性が損なわれないものであれば特に限定されない。
(Component c)
The component c is an organic solvent having a vapor pressure at 20 ° C. of 2.0 hPa or less, and is not particularly limited as long as the film formability and transferability are not impaired when a printing ink composition is obtained.
c成分としては、その蒸気圧が上記条件を満たすアルキレングリコール化合物やアルキレングリコールエーテル化合物等が挙げられる。 Examples of the component c include alkylene glycol compounds and alkylene glycol ether compounds whose vapor pressure satisfies the above conditions.
アルキレングリコール化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール等が挙げられる。 Examples of the alkylene glycol compound include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, and dipropylene glycol.
アルキレングリコールエーテル化合物としては、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエテールアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等が挙げられる。 Examples of alkylene glycol ether compounds include ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol Propylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monopropyl ether acetate Over DOO, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monopropyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate and the like.
c成分は、上記条件を満たせば特に限定されないが、20℃での蒸気圧が1.0hPa以下であるとより好ましく、0.5hPa以下であると更に好ましい。 The component c is not particularly limited as long as the above conditions are satisfied, but the vapor pressure at 20 ° C. is more preferably 1.0 hPa or less, and further preferably 0.5 hPa or less.
上記のa成分、b成分及びc成分はいずれの組み合わせであってもよいが、好適な組み合わせ例として、a成分がクレゾールノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂又はポリt−ブチルメタクリレートであり、b成分が酢酸エチルであり、c成分がジエチレングリコールである組み合わせが挙げられる。 The a component, b component, and c component may be any combination, but as a suitable combination example, the a component is a cresol novolac resin, a polyhydroxystyrene resin, or poly t-butyl methacrylate, and the b component is The combination which is ethyl acetate and c component is diethylene glycol is mentioned.
なお、b成分とc成分とは、上記条件を満たせば同一成分であってもよい。 The b component and the c component may be the same component as long as the above conditions are satisfied.
(各成分の比率)
a成分、b成分、c成分を含有する印刷インキ組成物においては、a成分、b成分及びc成分の総量100質量部において、a成分を1〜70質量部含むことが好ましく、5〜40質量部含むことがより好ましい。a成分が1質量部未満であるとシリコンブランケット等のシリコン樹脂面に本発明の印刷インキ組成物を塗布して塗膜を形成するのが困難になる傾向にあり、70質量部を超えると樹脂の溶解性が悪化する傾向にある。
(Ratio of each component)
In the printing ink composition containing the a component, the b component, and the c component, the total amount of the a component, the b component, and the c component is preferably 100 parts by mass, and preferably includes 1 to 70 parts by mass, and 5 to 40 masses. It is more preferable to include a part. When the component a is less than 1 part by mass, it tends to be difficult to form a coating film by applying the printing ink composition of the present invention to a silicon resin surface such as a silicon blanket. There is a tendency for the solubility of to deteriorate.
また、上記総量において、b成分を5〜95質量部含むことが好ましく、10〜80質量部含むことがより好ましい。b成分が5質量部未満であるとシリコンブランケット等のシリコン樹脂面に本発明の印刷インキ組成物を塗布して塗膜を形成する際、その塗膜にむらが生じる傾向にあり、95質量部を超えるとその塗膜の乾燥が速すぎるため、その塗膜を基板等へ転写するのが困難になる傾向にある。 Moreover, in the said total amount, it is preferable that b component is included 5-95 mass parts, and it is more preferable that 10-80 mass parts is included. When the component b is less than 5 parts by mass, the coating ink composition of the present invention is applied to a silicon resin surface such as a silicon blanket to form a coating film, and the coating film tends to have unevenness, and 95 parts by mass. If it exceeds 1, the coating film is dried too quickly, and it tends to be difficult to transfer the coating film to a substrate or the like.
また、上記総量において、c成分を1〜40質量部含むことが好ましく、2〜30質量部含むことがより好ましい。c成分が1質量部未満であるとシリコンブランケット等のシリコン樹脂面に本発明の印刷インキ組成物を塗布して塗膜を形成した後、その塗膜の乾燥が速すぎるため、その塗膜を基板等へ転写するのが困難になる傾向にあり、40質量部を超えるとその転写時に塗膜が破れる傾向にある。特に、c成分が高沸点アルコール系有機溶剤である場合は、c成分を50質量部以下、好ましくは40質量部以下含むことが好ましい。この場合のc成分が50質量部を超えると基板への転写性が低下する傾向にある。 Moreover, in the said total amount, it is preferable that 1-40 mass parts of c components are included, and it is more preferable that 2-30 mass parts is included. When the c component is less than 1 part by mass, the coating ink composition of the present invention is applied to a silicon resin surface such as a silicon blanket to form a coating film, and then the coating film is dried too quickly. It tends to be difficult to transfer to a substrate or the like, and if it exceeds 40 parts by mass, the coating tends to be broken during the transfer. In particular, when the component c is a high boiling alcohol organic solvent, the component c is preferably contained in an amount of 50 parts by mass or less, and preferably 40 parts by mass or less. If the c component in this case exceeds 50 parts by mass, the transferability to the substrate tends to be reduced.
本発明の印刷インキ組成物は、さらに必要に応じて、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、イソペンタン、イソヘキサン、イソオクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロペンタンなどの炭化水素系溶剤、メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、セカンダリブタノ−ル、タ−シャリブタノ−ル等のアルコ−ル系溶剤を、上記総量に対して、1〜10質量部程度含有することができる。これによって、塗膜の均一性、乾燥性、転写性等を調整することができる。 The printing ink composition of the present invention may further comprise a hydrocarbon solvent such as pentane, hexane, heptane, octane, decane, dodecane, isopentane, isohexane, isooctane, cyclohexane, methylcyclohexane, cyclopentane, methanol, if necessary. , Ethanol, propanol, isopropanol, secondary butanol, tert-butanol and the like can contain about 1 to 10 parts by mass with respect to the total amount. . Thereby, the uniformity, drying property, transferability, etc. of the coating film can be adjusted.
また、本発明の印刷インキ組成物は、上述の効果を妨げない範囲内で、基板との密着性を向上させるためのチタネートカップリング剤(ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基等を有したシランカップリング剤やイソプロピルトリメタクリロイルチタネート、ジイソプロピルイソステアロイル−4−アミノベンゾイルチタネート等)、膜の平滑性を向上させるための界面活性剤(フッ素系、シリコン系、炭化水素系等)及びその他、紫外線吸収剤、酸化防止剤などの各種添加剤を必要に応じて適宜含有させることができる。 In addition, the printing ink composition of the present invention has a titanate coupling agent (vinyl group, epoxy group, amino group, mercapto group, etc.) for improving the adhesion to the substrate within the range that does not interfere with the above effects. Silane coupling agents, isopropyltrimethacryloyl titanate, diisopropylisostearoyl-4-aminobenzoyl titanate, etc.), surfactants for improving the smoothness of the film (fluorine-based, silicon-based, hydrocarbon-based, etc.) and others, Various additives such as an ultraviolet absorber and an antioxidant can be appropriately contained as necessary.
(所定形状にパターン化された塗膜の形成方法)
本発明にかかる所定形状にパターン化された塗膜の形成方法は、上述の印刷インキ組成物をシリコン樹脂膜の表面上に塗布して塗膜を形成する塗膜形成工程と、塗膜の一部を凸版の凸部表面上に転写することにより、シリコン樹脂膜から剥離除去する剥離除去工程と、剥離除去工程後にシリコン樹脂膜上に残存した塗膜を基板の表面上に転写する塗膜転写工程とを備えるものである。以下、図1(a)〜(d)を参照しつつ、その一実施形態について説明する。
(Method for forming a coating film patterned into a predetermined shape)
A method of forming a coating film patterned into a predetermined shape according to the present invention includes a coating film forming step of coating the above-described printing ink composition on the surface of a silicon resin film to form a coating film, The film is transferred to the surface of the substrate by transferring the film remaining on the silicon resin film after the peeling and removing process to the surface of the substrate. A process. Hereinafter, an embodiment will be described with reference to FIGS.
まず、a成分、b成分及びc成分を用意し、フラスコ等を用いてa成分である樹脂をb成分及びc成分の混合液に溶解させ印刷インキ組成物10を作製する。
First, an a component, a b component, and a c component are prepared, and a
次に、図1(a)の模式端面図に示すように、印刷インキ組成物10を貯蔵する貯蔵器20と、一端が貯蔵器20の印刷インキ組成物10に浸された筒状のキャップコータ30と、キャップコータ30の他端側に配置され、表面に印刷インキ組成物10を塗布させるための主胴40とを用意する。ここで、主胴40はドラム形状であり、ドラムのロール面にはシリコン樹脂膜であるブランケット42が形成されている。そして、ブランケット42の表面よりわずかに間を離してキャップコータ30の上他端が配置されている。
Next, as shown in the schematic end view of FIG. 1A, a
塗膜形成工程では、このキャップコータ30の毛細管現象を利用して、主胴40を図1(b)の矢印方向に回転させながら、貯蔵器20の印刷インキ組成物10をブランケット42に塗布する。このようにして、ブランケット42全体に印刷インキ組成物10を塗布した後、数分間風乾させることにより、ブランケット42上に印刷インキ組成物10による塗膜12が形成される。
In the coating film forming process, the
続いて、図1(c)に示すように、主胴40とほぼ同サイズのドラム形状を有し、凸版である版胴50を用意する。主胴40及び版胴50は、ロールの回転軸が互いに平行をなし、ロール面同士が対面するように配置される。また、版胴50の表面は凸状部52を有している。
Subsequently, as shown in FIG. 1C, a
剥離除去工程では、主胴40に形成されている塗膜12に版胴50の凸状部52を押圧し、主胴40及び版胴50をそれぞれ図1(c)の矢印方向に回転させながら、目的のパターンに不要な塗膜領域を凸状部52に転写してブランケット42上から除去する。このようにして、パターン化した塗膜14が形成される。
In the peeling and removing step, the
続いて、図1(d)に示すように、基板60を用意する。
Subsequently, as shown in FIG. 1D, a
塗布転写工程では、主胴40を図1(d)の矢印方向に回転させながら、パターン化した塗膜14をロール形状のブランケット42から基板60面に転写させる。これにより、基板60上に所望の形状にパターン化した塗膜を形成することができる。
In the coating transfer process, the patterned
基板60としては、用途により選択されるが、例えば、白板ガラス、青板ガラス、シリカコート青板ガラス等の透明ガラス板、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂等の合成樹脂製シート、フィルム又は板、アルミニウム板、銅板、ニッケル板、ステンレス板等の金属板、その他セラミック板、光電変換素子を有する半導体基板などが挙げられる。基板60は単層であっても、積層構造を有していてもよい。
The
(電子部品の製造方法)
本発明の電子部品の製造方法は、基板上に配線パターンが形成された電子部品の製造方法であって、基板上に設けられた被加工膜上に、上述の塗膜を形成する塗膜パターン形成工程と、塗膜を乾燥させ、樹脂膜を形成する樹脂膜形成工程と、被加工膜の露出領域をエッチング処理するエッチング工程と、樹脂膜を除去する樹脂膜除去工程とを備えるものである。以下、図2(a)〜(c)を参照しつつ、その一実施形態について説明する。
(Method for manufacturing electronic parts)
An electronic component manufacturing method of the present invention is an electronic component manufacturing method in which a wiring pattern is formed on a substrate, and the coating film pattern that forms the above-described coating film on a film to be processed provided on the substrate. A forming step; a resin film forming step for drying the coating film to form a resin film; an etching step for etching an exposed region of the film to be processed; and a resin film removing step for removing the resin film. . Hereinafter, an embodiment will be described with reference to FIGS.
最初の塗膜パターン形成工程は、上述の所定形状にパターン化された塗膜を形成方法と同様である。ただし、基板60の代わりに、被加工膜74が電子部品用基板72の表面上に形成された積層体70を用いる。電子部品用基板72としては、基板60に挙げたものでもよく、電子部品に適用し、以下の工程の妨げにならないものであれば特に限定されない。
The first coating film pattern forming step is the same as the method for forming the coating film patterned into the predetermined shape described above. However, instead of the
すなわち、塗膜パターン形成工程では、まず、上述の塗膜の形成方法における塗布形成工程、剥離除去工程を行った後、図2(a)に示すとおり、塗膜転写工程において、パターン化された塗膜14をロール形状のブランケット42から、積層体70の被加工膜74面に転写させる。
That is, in the coating film pattern forming process, first, after performing the coating forming process and the peeling removing process in the above-mentioned coating film forming method, as shown in FIG. The
次に、樹脂膜形成工程において、積層体70上にパターン形成された塗膜14は、100〜150℃の温度環境下で1〜15分熱処理することによって十分に乾燥し、塗膜14が硬化して樹脂膜16が形成される。a成分として光重合性不飽和結合を有する樹脂を使用しているときは、上記熱処理前に光照射を行うことで塗膜14を十分に硬化させることができる。このようにして形成された樹脂膜16の厚みは、用途によって適宜定まるが、0.1〜10μmの範囲であることが好ましく、0.2〜5μmの範囲であることがより好ましい。
Next, in the resin film forming step, the
続いて、エッチング工程において、リン酸水溶液、硝酸水溶液、酢酸水溶液等、又はこれらの混合溶液のエッチング液を積層体70の樹脂膜16側の面に供給し、樹脂膜16がその上に形成されていない被加工膜74の露出領域をエッチング処理する(図2(b)参照)。エッチング方法としては、例えば、ディップエッチング法等が挙げられる。
Subsequently, in the etching step, an etching solution of a phosphoric acid aqueous solution, a nitric acid aqueous solution, an acetic acid aqueous solution, or a mixed solution thereof is supplied to the surface of the laminate 70 on the
その後、エタノール等の有機溶媒でエッチング表面をリンスし、樹脂膜除去工程において、エッチング工程でマスクとして用いた樹脂膜16を浸漬方式、スプレー方式等により除去する(図2(c)参照)。これにより、積層体70の被加工膜74を樹脂膜16によるパターン、すなわち塗膜14によるパターンと同一のパターンに加工することができる。このようにして、基板上に回路を作製することにより、電子部品を作製することができる。
Thereafter, the etching surface is rinsed with an organic solvent such as ethanol, and in the resin film removal step, the
かかる製造方法を用いて製造される電子部品としては、具体的に、液晶ディスプレイLCD等が挙げられる。 Specific examples of electronic components manufactured using such a manufacturing method include a liquid crystal display LCD.
以上、本発明の印刷インキ組成物、所定形状にパターン化された塗膜の形成方法、及び、電子部品の製造方法の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。 The preferred embodiments of the printing ink composition of the present invention, the method of forming a coating film patterned into a predetermined shape, and the method of manufacturing an electronic component have been described above, but the present invention is limited to the above-described embodiment. It is not a thing.
例えば、剥離除去工程において、ドラム形状の版胴の代わりに板状の版を用い、主胴40の塗膜12に板状の版の凸状部を押圧し、主胴40をロール方向に回転させつつ、板状の版を接面における主胴40のロール方向と同方向に水平移動させながら、目的のパターンに不要な塗膜領域を凸状部に転写してブランケット42上から除去してもよい。
For example, in the peeling and removing process, a plate-shaped plate is used instead of the drum-shaped plate cylinder, the convex portion of the plate-shaped plate is pressed against the
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.
[実施例1]
まず、1Lスケールの四つ口フラスコにクレゾールノボラック樹脂(明和化成社製、重量平均分子量5000、p−クレゾール:m−クレゾール=60:40(モル比))125gを秤りとって入れた。続いて、この四つ口フラスコに、酢酸エチル200g、2−アセトキシ−1−メトキシプロパン(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)250g、ジエチレングリコール50gを添加し、窒素雰囲気下、6時間攪拌して樹脂を溶解させた。これらの添加物の蒸気圧、表面張力を表1に示す。その後、四つ口フラスコ中の樹脂溶液を2ミクロンのポリテトラフルオロエチレン製フィルターで加圧ろ過し、実施例1の印刷インキ組成物を作製した。
First, 125 g of cresol novolak resin (Maywa Kasei Co., Ltd., weight average molecular weight 5000, p-cresol: m-cresol = 60: 40 (molar ratio)) was weighed and put into a 1 L four-necked flask. Subsequently, 200 g of ethyl acetate, 250 g of 2-acetoxy-1-methoxypropane (propylene glycol monomethyl ether acetate) and 50 g of diethylene glycol are added to this four-necked flask, and the resin is dissolved by stirring for 6 hours in a nitrogen atmosphere. It was. Table 1 shows the vapor pressure and surface tension of these additives. Thereafter, the resin solution in the four-necked flask was pressure filtered through a 2 micron polytetrafluoroethylene filter to produce the printing ink composition of Example 1.
[実施例2〜3]
クレゾールノボラック樹脂、酢酸エチル、2−アセトキシ−1−メトキシプロパン及びジエチレングリコールの分量を表2に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例2〜4の印刷インキ組成物を作製した。
[Examples 2-3]
The printing ink compositions of Examples 2 to 4 were prepared in the same manner as in Example 1 except that the amounts of cresol novolac resin, ethyl acetate, 2-acetoxy-1-methoxypropane and diethylene glycol were changed as shown in Table 2. Produced.
[実施例4]
2−アセトキシ−1−メトキシプロパンを添加せず、クレゾールノボラック樹脂、酢酸エチル及びジエチレングリコールの分量を表2に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例4の印刷インキ組成物を作製した。
[Example 4]
The printing ink composition of Example 4 was the same as Example 1 except that 2-acetoxy-1-methoxypropane was not added and the amounts of cresol novolac resin, ethyl acetate and diethylene glycol were changed as shown in Table 2. A product was made.
[実施例5]
クレゾールノボラック樹脂の代わりにポリヒドロキシスチレン(丸善化学社製、商品名:マルカリンカー、重量平均分子量Mw15000)100gを用い、酢酸エチル、2−アセトキシ−1−メトキシプロパン及びジエチレングリコールの分量を表2に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例5の印刷インキ組成物を作製した。
[Example 5]
Table 2 shows the amounts of ethyl acetate, 2-acetoxy-1-methoxypropane and diethylene glycol using 100 g of polyhydroxystyrene (manufactured by Maruzen Chemical Co., Ltd., trade name: Marcalinker, weight average molecular weight Mw 15000) instead of cresol novolac resin. A printing ink composition of Example 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that the above was changed.
[実施例6]
クレゾールノボラック樹脂の代わりにポリt−ブチルメタクリレート(ポリサイエンス社製、分子量Mw40000)100gを用い、酢酸エチル、2−アセトキシ−1−メトキシプロパン及びジエチレングリコールの分量を表2に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例6の印刷インキ組成物を作製した。
[Example 6]
Except for using 100 g of poly-t-butyl methacrylate (manufactured by Polysciences, molecular weight Mw 40000) instead of cresol novolac resin, the amounts of ethyl acetate, 2-acetoxy-1-methoxypropane and diethylene glycol were changed as shown in Table 2. In the same manner as in Example 1, the printing ink composition of Example 6 was produced.
[比較例1]
ジエチレングリコールを添加せず、酢酸エチル、及び、2−アセトキシ−1−メトキシプロパンの分量を表2に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例1の印刷インキ組成物を作製した。
[Comparative Example 1]
The printing ink composition of Comparative Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1 except that diethylene glycol was not added and the amounts of ethyl acetate and 2-acetoxy-1-methoxypropane were changed as shown in Table 2. Produced.
[比較例2]
酢酸エチルを添加せず、2−アセトキシ−1−メトキシプロパンの分量を表2に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例1の印刷インキ組成物を作製した。
A printing ink composition of Comparative Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1 except that ethyl acetate was not added and the amount of 2-acetoxy-1-methoxypropane was changed as shown in Table 2.
(塗膜外観評価)
実施例1〜6、比較例1〜2の印刷インキ組成物を、上述の実施形態にかかる塗膜の形成方法に準じて、シリコン樹脂面(ブランケット)上にキャップコータを用いて塗布した。そして、2〜3分間乾燥させて膜厚1.0μmの塗膜を形成した。その後、ガラス基板面に転写し、塗膜外観の観察を目視及び光学顕微鏡を用いて行った。なお、ガラス基板面に転写できなかった場合は、転写前での塗膜外観の観察を行った。その結果を表2に示す。なお、表2の塗膜外観において、Aは、はじき、むらが確認されなかったもの、Bは、塗布面にはじきが確認されたものを示す。
(Coating appearance evaluation)
The printing ink compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 were applied using a cap coater on a silicon resin surface (blanket) according to the method for forming a coating film according to the above-described embodiment. And it was made to dry for 2 to 3 minutes, and the coating film with a film thickness of 1.0 micrometer was formed. Then, it transferred to the glass substrate surface, and observation of the coating-film external appearance was performed using visual observation and an optical microscope. In addition, when it was not able to transfer to the glass substrate surface, the coating-film external appearance was observed before transfer. The results are shown in Table 2. In addition, in the coating film appearance of Table 2, A indicates that no repelling or unevenness is confirmed, and B indicates that repelling is confirmed on the coated surface.
実施例1〜6、比較例1の場合、塗膜外観には、はじき、むらが認められなかったが、比較例2の場合、塗膜外観には、はじきが認められた。 In the case of Examples 1 to 6 and Comparative Example 1, no repelling or unevenness was observed in the appearance of the coating film, but in the case of Comparative Example 2, repelling was recognized in the appearance of the coating film.
(パターンの形状評価)
実施例1〜6、比較例1の印刷インキ組成物を、上述の実施形態にかかる塗膜の形成方法に準じて、シリコン樹脂面(ブランケット)上にキャップコータを用いて塗布した。そして、2〜3分間乾燥させて膜厚1.0μmの塗膜を形成した。続いて、版胴を用いて不要部分の塗膜を除去し、パターンを形成した。更に、このパターン形成後の塗膜をガラス基板面に転写した。その後、この転写されたパターンの精度、形状を顕微鏡で観察した。その結果を表3に示す。
(Pattern shape evaluation)
The printing ink compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Example 1 were applied using a cap coater on a silicon resin surface (blanket) according to the method for forming a coating film according to the above-described embodiment. And it was made to dry for 2 to 3 minutes, and the coating film with a film thickness of 1.0 micrometer was formed. Subsequently, an unnecessary portion of the coating film was removed using a plate cylinder to form a pattern. Furthermore, the coating film after this pattern formation was transferred to the glass substrate surface. Thereafter, the accuracy and shape of the transferred pattern were observed with a microscope. The results are shown in Table 3.
実施例1〜6の場合、50ミクロン幅のストライプパターンを形成することができた。しかしながら、比較例1の場合、印刷インキ組成物の乾燥時間が早く、版銅及び基板に転写させることができなかった。 In the case of Examples 1 to 6, a stripe pattern having a width of 50 microns could be formed. However, in the case of Comparative Example 1, the drying time of the printing ink composition was early and could not be transferred to the plate copper and the substrate.
(ゲート膜配線評価)
実施例1〜6の印刷インキ組成物を、上述の実施形態にかかる塗膜の形成方法に準じて、シリコン樹脂面(ブランケット)上にキャップコータを用いて塗布した。そして、2〜3分間乾燥させて膜厚1.0μmの塗膜を形成した。続いて、版胴を用いて不要部分の塗膜を除去し、パターンを形成した。さらに、このパターン形成後の塗膜をTFT電極用下地ゲート膜基板(Mo/Al Nd)に転写した。そして、この塗膜をマスクにして、リン酸/硝酸/酢酸水溶液(リン酸70質量%、硝酸5質量%、酢酸10質量%、水15質量%)で上記基板の下地ゲート膜をエッチング処理した(40℃、2分)。その後、ゲート膜配線が形成されているかどうかを評価した。その結果を表3に示す。
(Gate film wiring evaluation)
The printing ink composition of Examples 1-6 was apply | coated using the cap coater on the silicone resin surface (blanket) according to the formation method of the coating film concerning the above-mentioned embodiment. And it was made to dry for 2 to 3 minutes, and the coating film with a film thickness of 1.0 micrometer was formed. Subsequently, an unnecessary portion of the coating film was removed using a plate cylinder to form a pattern. Further, the coating film after the pattern formation was transferred to a base gate film substrate for TFT electrode (Mo / Al Nd). Then, using this coating film as a mask, the underlying gate film of the substrate was etched with phosphoric acid / nitric acid / acetic acid aqueous solution (
実施例1〜6のいずれの場合も、50ミクロン幅の配線を形成することができた。
10…印刷インキ組成物、12,14…塗膜、16…樹脂膜、42…ブランケット(シリコン樹脂膜)、60…基板、74…被加工膜。
DESCRIPTION OF
Claims (6)
(b)成分:20℃での表面張力が30mN/m以下の有機溶剤と、
(c)成分:20℃での蒸気圧が2.0hPa以下の有機溶剤と、
を含有することを特徴とする印刷インキ組成物。 (A) component: resin soluble in organic solvent;
(B) component: an organic solvent having a surface tension at 20 ° C. of 30 mN / m or less,
(C) Component: an organic solvent having a vapor pressure at 20 ° C. of 2.0 hPa or less,
A printing ink composition comprising:
請求項1又は2に記載の印刷インキ組成物をシリコン樹脂膜の表面上に塗布して塗膜を形成する塗膜形成工程と、
前記塗膜の一部を、凸版の凸部表面上に転写することにより、前記シリコン樹脂膜から剥離除去する剥離除去工程と、
前記剥離除去工程後に前記シリコン樹脂膜上に残存した前記塗膜を基板の表面上に転写する塗膜転写工程と、
を備えることを特徴とする塗膜の形成方法。 A method of forming a coating film patterned into a predetermined shape,
A coating film forming step of forming a coating film by applying the printing ink composition according to claim 1 or 2 on the surface of the silicon resin film; and
A peeling removal step of peeling and removing from the silicon resin film by transferring a part of the coating film onto the convex surface of the relief plate,
A coating film transfer step of transferring the coating film remaining on the silicon resin film after the peeling removal step onto the surface of the substrate;
A method of forming a coating film, comprising:
前記基板上に設けられた被加工膜上に、請求項4記載の塗膜を形成する塗膜パターン形成工程と、
前記塗膜を乾燥させ、樹脂膜を形成する樹脂膜形成工程と、
前記被加工膜の露出領域をエッチング処理するエッチング工程と、
前記樹脂膜を除去する樹脂膜除去工程と、
を備えることを特徴とする電子部品の製造方法。 A method of manufacturing an electronic component having a wiring pattern formed on a substrate,
A coating film pattern forming step for forming a coating film according to claim 4 on a film to be processed provided on the substrate;
A resin film forming step of drying the coating film to form a resin film;
An etching step of etching the exposed region of the film to be processed;
A resin film removing step for removing the resin film;
An electronic component manufacturing method comprising:
請求項5記載の電子部品の製造方法により製造されてなることを特徴とする電子部品。 An electronic component having a wiring pattern formed on a substrate,
An electronic component manufactured by the method for manufacturing an electronic component according to claim 5.
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---|---|
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008251887A (en) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Sony Corp | Pattern forming method and manufacturing method of electronic element |
JP2008251888A (en) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Sony Corp | Pattern forming method and manufacturing method of electronic element |
JP2009221250A (en) * | 2008-03-13 | 2009-10-01 | Az Electronic Materials Kk | Ink composition for highly precise printing, and formation method of highly precise pattern using the same |
WO2011001499A1 (en) | 2009-06-30 | 2011-01-06 | Dic株式会社 | Electronic part manufacturing method and electronic part manufactured by the method |
CN102464917A (en) * | 2010-11-09 | 2012-05-23 | 天津天女化工集团股份有限公司 | Ultraviolet-cured overprinting varnish and its preparation method |
JP2013503433A (en) * | 2009-08-26 | 2013-01-31 | エルジー・ケム・リミテッド | Conductive metal ink composition and method for forming conductive pattern |
WO2014065043A1 (en) | 2012-10-25 | 2014-05-01 | 富士フイルム株式会社 | Printing method |
CN105542553A (en) * | 2016-01-12 | 2016-05-04 | 陕西科技大学 | Iron oxide red ceramic glaze ink and preparation method thereof |
WO2016195025A1 (en) * | 2015-06-05 | 2016-12-08 | 昭和電工株式会社 | Composition for forming insulating protective film by offset printing |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1180641A (en) * | 1997-09-10 | 1999-03-26 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Water repellent overprint vanish composition and printed matter |
JP2000256570A (en) * | 1999-03-05 | 2000-09-19 | Hitachi Maxell Ltd | Dispersion composition and its production |
JP2000289320A (en) * | 1999-04-02 | 2000-10-17 | Mitsumura Printing Co Ltd | Imaging device |
JP2001172540A (en) * | 1999-12-17 | 2001-06-26 | Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd | Water base printing ink composition |
JP2001294785A (en) * | 2000-04-13 | 2001-10-23 | Fuji Xerox Co Ltd | Image-forming material |
JP2002122984A (en) * | 2000-10-13 | 2002-04-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method for producing photosensitive planographic printing plate |
JP2002188031A (en) * | 2000-12-19 | 2002-07-05 | Dainippon Printing Co Ltd | Ink composition for absorbing electromagnetic wave and absorber for electromagnetic wave |
JP2002293832A (en) * | 2000-12-28 | 2002-10-09 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Hardenable composition, hardenable ink, its printing method and printed matter |
JP2002308935A (en) * | 2001-04-09 | 2002-10-23 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Curable composition, curable ink, its printing method and printed product thereof |
JP2003268266A (en) * | 2002-03-13 | 2003-09-25 | Hitachi Maxell Ltd | Ink composition |
JP2003300298A (en) * | 2002-04-09 | 2003-10-21 | Toppan Printing Co Ltd | Decorative sheet |
JP2003327885A (en) * | 2002-05-15 | 2003-11-19 | Hitachi Maxell Ltd | Ink composition |
JP2004186111A (en) * | 2002-12-06 | 2004-07-02 | Sony Corp | Polymeric organic el material composition |
-
2004
- 2004-08-02 JP JP2004225981A patent/JP2006045294A/en active Pending
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1180641A (en) * | 1997-09-10 | 1999-03-26 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Water repellent overprint vanish composition and printed matter |
JP2000256570A (en) * | 1999-03-05 | 2000-09-19 | Hitachi Maxell Ltd | Dispersion composition and its production |
JP2000289320A (en) * | 1999-04-02 | 2000-10-17 | Mitsumura Printing Co Ltd | Imaging device |
JP2001172540A (en) * | 1999-12-17 | 2001-06-26 | Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd | Water base printing ink composition |
JP2001294785A (en) * | 2000-04-13 | 2001-10-23 | Fuji Xerox Co Ltd | Image-forming material |
JP2002122984A (en) * | 2000-10-13 | 2002-04-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method for producing photosensitive planographic printing plate |
JP2002188031A (en) * | 2000-12-19 | 2002-07-05 | Dainippon Printing Co Ltd | Ink composition for absorbing electromagnetic wave and absorber for electromagnetic wave |
JP2002293832A (en) * | 2000-12-28 | 2002-10-09 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Hardenable composition, hardenable ink, its printing method and printed matter |
JP2002308935A (en) * | 2001-04-09 | 2002-10-23 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Curable composition, curable ink, its printing method and printed product thereof |
JP2003268266A (en) * | 2002-03-13 | 2003-09-25 | Hitachi Maxell Ltd | Ink composition |
JP2003300298A (en) * | 2002-04-09 | 2003-10-21 | Toppan Printing Co Ltd | Decorative sheet |
JP2003327885A (en) * | 2002-05-15 | 2003-11-19 | Hitachi Maxell Ltd | Ink composition |
JP2004186111A (en) * | 2002-12-06 | 2004-07-02 | Sony Corp | Polymeric organic el material composition |
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI381567B (en) * | 2007-03-30 | 2013-01-01 | Sony Corp | Pattern forming method and manufacturing method of electronic component |
JP2008251888A (en) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Sony Corp | Pattern forming method and manufacturing method of electronic element |
WO2008126425A1 (en) * | 2007-03-30 | 2008-10-23 | Sony Corporation | Patterning method and method for fabricating electronic element |
WO2008129738A1 (en) * | 2007-03-30 | 2008-10-30 | Sony Corporation | Patterning method and method for fabricating electronic element |
JP2008251887A (en) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Sony Corp | Pattern forming method and manufacturing method of electronic element |
CN101647095B (en) * | 2007-03-30 | 2011-04-20 | 索尼株式会社 | Patterning method and method for fabricating electronic element |
CN101641769B (en) * | 2007-03-30 | 2011-06-08 | 索尼株式会社 | Patterning method and method for fabricating electronic element |
US8048725B2 (en) | 2007-03-30 | 2011-11-01 | Sony Corporation | Method of forming pattern and method of producing electronic element |
US8361372B2 (en) | 2007-03-30 | 2013-01-29 | Sony Corporation | Method of forming pattern and method of producing electronic element |
JP2009221250A (en) * | 2008-03-13 | 2009-10-01 | Az Electronic Materials Kk | Ink composition for highly precise printing, and formation method of highly precise pattern using the same |
WO2011001499A1 (en) | 2009-06-30 | 2011-01-06 | Dic株式会社 | Electronic part manufacturing method and electronic part manufactured by the method |
US8940120B2 (en) | 2009-06-30 | 2015-01-27 | Dic Corporation | Electronic part manufacturing method and electronic part manufactured by the method |
JP2013503433A (en) * | 2009-08-26 | 2013-01-31 | エルジー・ケム・リミテッド | Conductive metal ink composition and method for forming conductive pattern |
CN102464917A (en) * | 2010-11-09 | 2012-05-23 | 天津天女化工集团股份有限公司 | Ultraviolet-cured overprinting varnish and its preparation method |
WO2014065043A1 (en) | 2012-10-25 | 2014-05-01 | 富士フイルム株式会社 | Printing method |
CN104755271A (en) * | 2012-10-25 | 2015-07-01 | 富士胶片株式会社 | Printing method |
US9370936B2 (en) | 2012-10-25 | 2016-06-21 | Fujifilm Corporation | Printing method using white particles |
WO2016195025A1 (en) * | 2015-06-05 | 2016-12-08 | 昭和電工株式会社 | Composition for forming insulating protective film by offset printing |
KR102056657B1 (en) * | 2015-06-05 | 2019-12-17 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | Composition for forming insulating protective film by offset printing |
CN105542553A (en) * | 2016-01-12 | 2016-05-04 | 陕西科技大学 | Iron oxide red ceramic glaze ink and preparation method thereof |
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