JP2006036627A - Method for producing surface-treated silica-based oxide, and method for producing slurry of the surface-treated silica-based oxide - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、表面処理シリカ系酸化物、および該酸化物スラリーの新規な製造方法に関する。詳しくは、工程の簡略化ができ、ナノ粒子レベルでシリカ系酸化物を表面処理することが可能であって、かつ、表面処理シリカ系酸化物の重合度の調整が容易である表面処理シリカ系酸化物の製造方法、および該表面処理シリカ系酸化物スラリーの製造方法に関する。 The present invention relates to a surface-treated silica-based oxide and a novel method for producing the oxide slurry. Specifically, the surface-treated silica system can be simplified, the silica-based oxide can be surface-treated at the nanoparticle level, and the degree of polymerization of the surface-treated silica-based oxide can be easily adjusted. The present invention relates to a method for producing an oxide and a method for producing the surface-treated silica-based oxide slurry.
従来より、塗料、印刷インキ、シリコーンゴム等の充填剤、フィルムのアンチブロッキング剤、化粧料、消火薬剤及び各種粉体の流動化剤等として、湿式法により得られるシリカを表面処理した微細なシリカが使用されている。 Conventionally, fine silica obtained by surface treatment of silica obtained by a wet method as a filler such as paint, printing ink, silicone rubber, anti-blocking agent for film, cosmetics, fire extinguishing agent, and fluidizing agent for various powders. Is used.
一般に、前記湿式法は、珪酸ソーダ水溶液と鉱酸とを中性あるいはアルカリ性下で反応させてシリカの沈殿物を得る沈降法と、珪酸ソーダ水溶液と鉱酸とを酸性下で混合し、ゲル状のシリカを得るゲル法とが知られている。このような湿式法により製造されたシリカを有機珪素化合物等により表面処理する方法も多く提案されている。 In general, the wet method is a gel method in which a sodium silicate aqueous solution and a mineral acid are reacted in a neutral or alkaline condition to obtain a silica precipitate, and a sodium silicate aqueous solution and a mineral acid are mixed under an acidic condition. The gel method for obtaining the silica is known. Many methods for surface-treating silica produced by such a wet method with an organosilicon compound have been proposed.
例えば、湿式シリカを表面処理する方法として、湿式シリカを水溶液に分散し、湿式シリカ水性懸濁液とした後、有機珪素化合物を添加する方法（特許文献１参照）、ゲル法により得られるシリカゲルを破砕しながら表面処理を行う方法（特許文献２参照)等が提案されている。 For example, as a method for surface treatment of wet silica, a method in which wet silica is dispersed in an aqueous solution to form a wet silica aqueous suspension and then an organosilicon compound is added (see Patent Document 1), and silica gel obtained by a gel method is used. A method of performing surface treatment while crushing (see Patent Document 2) has been proposed.
しかしながら、前記方法等は、一度、湿式シリカやシリカゲルとしたものを表面処理するため、工程が多岐にわたり、しかもナノ粒子レベルでシリカを表面処理することが難しいといった点で改善の余地があった。 However, since the method and the like are once surface-treated with wet silica or silica gel, there is room for improvement in that the process is diverse and it is difficult to surface-treat silica at the nanoparticle level.
一方、湿式シリカを製造するのと同時に、有機珪素化合物を反応させ、シリカを表面処理する方法も提案されている。例えば、珪酸ソーダ水溶液中に、鉱酸と有機珪素化合物の混合溶液を添加して疎水性シリカを得る方法（特許文献３参照）、鉱酸中に、珪酸ソーダ水溶液と有機珪素化合物の混合溶液を添加して、有機珪素化合物を含有するシリカの製造方法（特許文献４参照）等が提案されている。 On the other hand, a method has been proposed in which silica is surface-treated by reacting an organosilicon compound simultaneously with the production of wet silica. For example, a method of obtaining a hydrophobic silica by adding a mixed solution of a mineral acid and an organosilicon compound in a sodium silicate aqueous solution (see Patent Document 3), and a mixed solution of a sodium silicate aqueous solution and an organosilicon compound in a mineral acid In addition, a method for producing silica containing an organosilicon compound (see Patent Document 4) has been proposed.
しかしながら、特許文献３に記載されている方法では、沈降法によりシリカを製造するため、瞬時に沈殿物が生成し、ナノ粒子レベルでシリカを表面処理することは困難であった。また、特許文献４に記載されている方法では、高濃度の珪酸ソーダ水溶液を用いた場合、使用する有機珪素化合物によっては、珪酸ソーダ水溶液中に反応生成物が生じるおそれがあった。
However, in the method described in Patent Document 3, since silica is produced by a precipitation method, a precipitate is generated instantaneously, and it is difficult to surface-treat the silica at the nanoparticle level. In the method described in
更に、前記方法等は、珪酸ソーダ水溶液、または鉱酸中に有機珪素化合物を存在させ、湿式シリカを製造するのと同時に表面処理を行うため、得られる表面処理シリカの重合度等の調整が、原料の濃度等でしか調整することができず、製造範囲が限定される点で改善の余地があった。 Furthermore, in the above method, since an organic silicon compound is present in a sodium silicate aqueous solution or mineral acid and surface treatment is performed simultaneously with the production of wet silica, adjustment of the degree of polymerization of the surface-treated silica obtained is adjusted, It could be adjusted only by the concentration of the raw material, and there was room for improvement in that the production range was limited.
従って、本発明の目的は、表面処理シリカ系酸化物の製造において、高濃度で安定したシリカ系ゾルを製造して、該シリカ系ゾルを表面処理することにより、工程が簡略化でき、かつ、ナノ粒子レベルでシリカ系酸化物を表面処理できる、高度に表面処理が可能な表面処理シリカ系酸化物の製造方法を提供することにある。更に、本発明の目的は、前記シリカ系ゾルの重合度を調整した後、表面処理することにより、得られる表面処理シリカ系酸化物の重合度の調整が容易となる表面処理シリカ系酸化物の製造方法を提供することにある。 Therefore, the object of the present invention is to produce a silica-based sol that is stable at a high concentration in the production of a surface-treated silica-based oxide, and by surface-treating the silica-based sol, the process can be simplified, and An object of the present invention is to provide a method for producing a surface-treated silica-based oxide capable of highly surface-treating, which can surface-treat the silica-based oxide at the nanoparticle level. Furthermore, an object of the present invention is to provide a surface-treated silica-based oxide that makes it easy to adjust the degree of polymerization of the surface-treated silica-based oxide obtained by surface treatment after adjusting the degree of polymerization of the silica-based sol. It is to provide a manufacturing method.
本発明者等は、上記目的を達成するために鋭意研究を続けてきた。その結果、２つの原料供給管が合流し、該合流部にて１つの排出管と連結してなる管型反応器を用いてシリカ系ゾルを製造し、得られたシリカ系ゾルを表面処理することにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。 The inventors of the present invention have continually studied to achieve the above object. As a result, two raw material supply pipes join together, and a silica-based sol is produced using a tubular reactor formed by connecting to one discharge pipe at the joining portion, and the resulting silica-based sol is surface-treated. Thus, the inventors have found that the above object can be achieved, and have completed the present invention.
即ち、本発明は、２つの原料供給管が合流し、該合流部にて１つの排出管と連結してなる管型反応器を用い、前記原料供給管から、鉱酸および／または硫酸塩の酸性水溶液と、珪酸ソーダ水溶液とを各々供給し、鉱酸および／または硫酸塩の酸性水溶液と珪酸ソーダ水溶液とを衝突混合させてシリカ系ゾルを製造した後、得られたシリカ系ゾルにシリコーンエマルジョンを添加することにより、シリカ系ゾルを表面処理する表面処理工程、及び前記表面処理工程で得られた表面処理物をゲル化させるゲル化工程とを含むことを特徴とする表面処理シリカの製造方法である。 That is, the present invention uses a tubular reactor in which two raw material supply pipes are joined together and connected to one discharge pipe at the joining part, and the mineral acid and / or sulfate is discharged from the raw material supply pipe. An acidic aqueous solution and a sodium silicate aqueous solution are supplied, and a silica-based sol is produced by colliding the acidic aqueous solution of mineral acid and / or sulfate with a sodium silicate aqueous solution. Then, a silicone emulsion is added to the obtained silica-based sol. And a surface treatment step of surface-treating the silica-based sol, and a gelation step of gelling the surface treatment product obtained in the surface treatment step. It is.
また、本発明は、前記ゲル工程で得られたゲル化物を水洗し、水を加え、粉砕した後、分級してスラリー化するスラリー化工程を含むことを特徴とする表面処理シリカ系酸化物スラリーの製造方法である。 Further, the present invention includes a slurry treatment step of washing the gelled product obtained in the gel step, adding water, pulverizing, classifying and slurrying the surface-treated silica-based oxide slurry It is a manufacturing method.
本発明の表面処理シリカ系酸化物の製造方法によれば、生産性がよく、工程が簡略化でき、かつ得られる表面処理シリカ系酸化物は、シリカ系ゾルを表面処理することによってナノ粒子レベルで表面処理することが可能となり、ゲル状物等を表面処理するものよりも、高度に表面処理されたものとなる。また、特に、Ｙ字管型反応器を用いることにより、高濃度のシリカ系ゾルを安定して製造することができ、該シリカ系ゾルが短時間でゲル化することがないため、表面処理が容易に出来る。更に、シリカ系ゾルの重合度を調整して表面処理ができるため、得られる表面処理シリカ系酸化物の製造範囲を広げることが容易に出来る。そのため、本発明により得られる表面処理シリカ系酸化物は、高度に表面処理されており、塗料、印刷インキ、シリコーンゴム等の充填剤、撥水処理に使用するコーティング剤、水処理凝集剤、アクリル樹脂またはポリカーボネート樹脂のようなガラス材料の代替として使用される透明材料部材の充填剤、フィルムのアンチブロッキング剤、化粧料、消火薬剤及び粉体の流動化剤等の用途に好適に使用することができる。 According to the method for producing a surface-treated silica-based oxide of the present invention, productivity is good, the process can be simplified, and the surface-treated silica-based oxide obtained can be obtained at the nanoparticle level by surface-treating a silica-based sol. Thus, the surface treatment can be performed at a higher level than the surface treatment of gel-like materials. In particular, by using a Y-tube reactor, a high-concentration silica-based sol can be stably produced, and the silica-based sol does not gel in a short time. Easy to do. Furthermore, since the surface treatment can be performed by adjusting the degree of polymerization of the silica-based sol, the production range of the resulting surface-treated silica-based oxide can be easily expanded. Therefore, the surface-treated silica-based oxide obtained by the present invention is highly surface-treated, such as paints, printing inks, silicone rubber fillers, coating agents used for water repellent treatment, water treatment flocculants, acrylics. It can be suitably used for applications such as fillers for transparent materials used as substitutes for glass materials such as resins or polycarbonate resins, anti-blocking agents for films, cosmetics, fire extinguishing agents and powder fluidizing agents. it can.
以下、本発明について詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
本発明は、表面処理シリカ系酸化物を製造する方法であって、珪酸ソーダ水溶液と、鉱酸および／または硫酸塩の酸性水溶液を原料として、２つの原料供給管が合流し、該合流部にて１つの排出管と連結してなる管型反応器を用いてシリカ系ゾルを製造した際に、得られたシリカ系ゾルをシリコーンエマルジョンにより表面処理する工程、次いで、得られた表面処理物をゲル化させる工程とを含むものである。 The present invention is a method for producing a surface-treated silica-based oxide, which comprises a sodium silicate aqueous solution and an acidic aqueous solution of mineral acid and / or sulfate as raw materials. When a silica-based sol is produced using a tubular reactor connected to one discharge pipe, a step of surface-treating the obtained silica-based sol with a silicone emulsion, And a step of gelling.
本発明において、シリカ系ゾルとは、二酸化珪素単独の構造からなるシリカゾル、または、二酸化珪素を主成分とし、一部、他の金属元素が含まれる複合酸化物のゾルを示すものである。また、同様に、表面処理シリカ系酸化物とは、二酸化珪素単独の構造からなるシリカをシリコーンエマルジョンにより表面処理したもの、または、二酸化珪素を主成分とし、一部、他の金属元素が含まれる複合酸化物をシリコーンエマルジョンにより表面処理したものを示すものである。尚、以下、二酸化珪素単独の構造からなる場合、シリカゾル、表面処理シリカと示す場合もある。 In the present invention, the silica-based sol refers to a silica sol having a structure of silicon dioxide alone or a composite oxide sol mainly composed of silicon dioxide and partially containing other metal elements. Similarly, the surface-treated silica-based oxide is obtained by surface-treating silica having a structure of silicon dioxide alone with a silicone emulsion, or mainly composed of silicon dioxide, and partially containing other metal elements. It shows what surface-treated complex oxide with silicone emulsion. In the following, when the structure is composed of silicon dioxide alone, it may be referred to as silica sol or surface-treated silica.
本発明において、前記管型反応器は、Ｙ字管型、Ｔ字管型の管型反応器を挙げることができるが、中でも、排出等の安定性を考慮すると、Ｙ字管型反応器であることが好ましい。 In the present invention, examples of the tubular reactor include a Y-shaped tube reactor and a T-shaped tube reactor. Among them, in consideration of stability such as discharge, the tubular reactor is a Y-shaped tube reactor. Preferably there is.
本発明において、前記管型反応器をＹ字管型反応器とした場合には、例えば、特開２００３−２２１２２２号に記載されている反応器を使用することができる。図１に本発明に使用することができるＹ字管型反応器の例を示す。図１に示すように、このＹ字管型反応器は、鉱酸および／または硫酸塩の酸性水溶液、珪酸ソーダ水溶液が供給される原料供給管１、１’が合流し、合流部３にて排出管２が連結してなる。また、このＹ字管型反応器は、原料供給管１、１’において、原料の流速を調整するための絞り部４、４’を設けたものを使用することができる。
In the present invention, when the tubular reactor is a Y-tube reactor, for example, a reactor described in JP-A No. 2003-221222 can be used. FIG. 1 shows an example of a Y-tube reactor that can be used in the present invention. As shown in FIG. 1, the Y-tube reactor is composed of a raw
本発明において、前記管型反応器の原料供給管から供給する鉱酸は、特に制限されるものではなく、通常の湿式シリカの製造に用いられるものを使用することができる。例えば、塩酸、硫酸、硝酸等が挙げられ、中でも、硫酸を使用することが好ましい。また、使用する鉱酸の濃度も特に制限されるものではないが、中でも、前記Ｙ字管型反応器を使用して、均質なシリカゾルを製造する際に、高濃度で、かつ短時間でゲル化しないシリカゾルを得るためには、鉱酸の濃度は、２〜７Ｎ、特に３〜６Ｎのものを使用することが好ましい。また、鉱酸を供給する流速も特に制限されるものではないが、高濃度で、かつ均質であって短時間でゲル化しないシリカゾルを得るためには、流速が５ｍ／秒以上で供給されることが好ましい。 In the present invention, the mineral acid supplied from the raw material supply pipe of the tubular reactor is not particularly limited, and those used in the production of ordinary wet silica can be used. For example, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and the like can be mentioned. Among them, it is preferable to use sulfuric acid. Further, the concentration of the mineral acid to be used is not particularly limited, but in particular, when producing a homogeneous silica sol using the Y-shaped tube reactor, the gel is formed at a high concentration and in a short time. In order to obtain a silica sol that does not convert, it is preferable to use a mineral acid having a concentration of 2 to 7N, particularly 3 to 6N. Further, the flow rate for supplying the mineral acid is not particularly limited, but in order to obtain a silica sol having a high concentration and being homogeneous and does not gel in a short time, the flow rate is supplied at 5 m / second or more. It is preferable.
また、硫酸塩の酸性水溶液を使用する場合、該硫酸塩の酸性水溶液は、珪酸ソーダ水溶液と反応して珪酸塩（シリカ系ゾル）を形成し得るものが何ら制限無く使用される。例えば、硫酸アルミニウム、硫酸クロム、硫酸チタニウム等が挙げられ、中でも、得られる表面処理シリカ系酸化物に様々な機能を持たせるためには、硫酸チタニウムを使用することが好ましい。 Moreover, when using the acidic aqueous solution of a sulfate, what can react with a sodium silicate aqueous solution and can form a silicate (silica type | system | group sol) as an acidic aqueous solution of this sulfate is used without a restriction | limiting. For example, aluminum sulfate, chromium sulfate, titanium sulfate and the like can be mentioned. Among them, it is preferable to use titanium sulfate in order to give the obtained surface-treated silica-based oxide various functions.
本発明において、硫酸塩の酸性水溶液は、特に、前記Ｙ字型反応器を使用して均質なシリカ系ゾルを製造する際に、高濃度で、かつ短時間でゲル化しないシリカゾルを得るためには、塩の濃度が、酸化物換算の濃度（例えば、酸化チタン）で２〜１０ｇ／１００ｍｌであることが好ましい。また、前記例示した硫酸塩を溶解した水溶液はそのままで酸性を示すが、更に、塩酸や硫酸を添加しても良い。酸性水溶液の酸濃度は２〜５Ｎであることが好ましい。 In the present invention, an acidic aqueous solution of sulfate is used to obtain a silica sol that is highly concentrated and does not gel in a short time, particularly when producing a homogeneous silica-based sol using the Y-shaped reactor. The salt concentration is preferably 2 to 10 g / 100 ml in terms of oxide concentration (for example, titanium oxide). The aqueous solution in which the exemplified sulfate is dissolved is acidic as it is, but hydrochloric acid or sulfuric acid may be further added. The acid concentration of the acidic aqueous solution is preferably 2 to 5N.
また、硫酸塩の酸性水溶液を供給する流速も特に制限されるものではないが、高濃度で、かつ均質であって短時間でゲル化しないシリカ系ゾルを得るためには、流速が５ｍ／秒以上で供給されることが好ましい。 The flow rate at which the acidic aqueous solution of sulfate is supplied is not particularly limited, but in order to obtain a silica-based sol that is high in concentration and homogeneous and does not gel in a short time, the flow rate is 5 m / sec. It is preferable to be supplied as described above.
本発明に用いる珪酸ソーダ水溶液は、特に制限されるものではなく、通常の湿式シリカの製造に用いられるものを使用することができる。例えば、一般式ＳｉＯ２／Ｎａ２Ｏで示される水溶性の珪酸ソーダであって、ＳｉＯ２とＮａ２Ｏのモル比が２．５〜４．０のものを使用することができる。また、使用する珪酸ソーダ水溶液の濃度も特に制限されるものではないが、中でも、前記Ｙ字管型反応器を使用して、均質なシリカ系ゾルを製造する際に、高濃度で、かつ短時間でゲル化しないシリカ系ゾルを得るためには、ＳｉＯ２成分の含有量が１００〜３５０ｇ／Ｌ好ましく、特に２００〜２９０ｇ／Ｌのものが好ましい。また、珪酸ソーダ水溶液が供給される流速も特に制限されるものではないが、高濃度で、かつ均質なシリカ系ゾルを得るためには、流速が５ｍ／秒以上で供給されることが好ましい。 The aqueous sodium silicate solution used in the present invention is not particularly limited, and those used for the production of ordinary wet silica can be used. For example, a water-soluble sodium silicate represented by the general formula SiO 2 / Na 2 O having a molar ratio of SiO 2 to Na 2 O of 2.5 to 4.0 can be used. Further, the concentration of the sodium silicate aqueous solution to be used is not particularly limited, but among them, when producing a homogeneous silica-based sol using the Y-tube reactor, a high concentration and a short concentration are obtained. In order to obtain a silica-based sol that does not gel in time, the content of the SiO 2 component is preferably 100 to 350 g / L, particularly preferably 200 to 290 g / L. Further, the flow rate at which the sodium silicate aqueous solution is supplied is not particularly limited, but in order to obtain a high-concentration and homogeneous silica-based sol, the flow rate is preferably supplied at 5 m / second or more.
本発明において、前記管型反応器を使用してシリカ系ゾルを製造する際に、鉱酸および／または硫酸塩の酸性水溶液と珪酸ソーダ水溶液とを衝突混合して得られるシリカ系ゾルを排出管から取り出す流速は、鉱酸および／または硫酸塩の酸性水溶液と珪酸ソーダ水溶液の濃度にもよるが、短時間でゲル化しないシリカ系ゾルを得られるように適宜調節すればよい。中でも、前記Ｙ字管型反応器を使用し、均質なシリカ系ゾルを得る場合において、高濃度で、かつ短時間でゲル化しないシリカ系ゾルを得るためには、前記濃度範囲の鉱酸または硫酸塩の酸性水溶液と珪酸ソーダ水溶液を衝突混合させて、シリカ系ゾルを１ｍ／秒以上、好ましくは１．３ｍ／秒以上で排出管から取り出す（流出させる）ことが好ましい。排出管から流出させる速度の上限は、特に制限されるものではないが、工業的な生産においては２．０ｍ／秒以下である。 In the present invention, when the silica-based sol is produced using the tubular reactor, the silica-based sol obtained by colliding the acidic aqueous solution of mineral acid and / or sulfate and the aqueous sodium silicate solution is discharged into the discharge pipe. The flow rate taken out from the aqueous solution depends on the concentration of the acidic aqueous solution of mineral acid and / or sulfate and the aqueous solution of sodium silicate, but may be appropriately adjusted so as to obtain a silica-based sol that does not gel in a short time. Among them, in the case of obtaining a homogeneous silica-based sol using the Y-tube reactor, in order to obtain a silica-based sol that is high in concentration and does not gel in a short time, It is preferable to collide and mix an acidic aqueous solution of sulfate and an aqueous solution of sodium silicate and take out (outflow) the silica-based sol from the discharge pipe at 1 m / second or more, preferably 1.3 m / second or more. Although the upper limit of the speed | rate which flows out from a discharge pipe is not restrict | limited in particular, in industrial production, it is 2.0 m / sec or less.
本発明において、安定したシリカ系ゾルを得るためには、鉱酸および／または硫酸塩の酸性水溶液と珪酸ソーダ水溶液の液温は２０〜４５℃の範囲で、衝突混合させることが好ましい。
尚、本発明において、前記シリカ系ゾルが短時間でゲル化しない（安定したシリカ系ゾル）とは、後記のシリコーンエマルジョンにより表面処理する際にゲル化しなければよく、通常、２０〜４０℃の温度で、３０分〜３時間、放置してもシリカ系ゾルがゲル化しないことを示す。
In the present invention, in order to obtain a stable silica-based sol, the acidic temperature of the mineral acid and / or sulfate aqueous solution and the aqueous solution of sodium silicate are preferably collided and mixed in the range of 20 to 45 ° C.
In the present invention, the silica-based sol does not gel in a short time (stable silica-based sol) is not required to be gelled when the surface treatment is performed with a silicone emulsion described later. It shows that the silica-based sol does not gel even if it is allowed to stand for 30 minutes to 3 hours at a temperature.
本発明において、得られるシリカ系ゾルを含む溶液のｐＨは、特に制限されるものではないが、高濃度のシリカ系ゾルを得るためには、前記Ｙ字管型反応器を用いた場合、ｐＨが３未満、好ましくは１．０〜２．５であることが好ましい。また、得られるシリカ系ゾルの粒子径も特に制限されるものではないが、３〜１０ｎｍであることが、経済的であって、工業的生産をする上で好ましい。 In the present invention, the pH of the solution containing the silica-based sol to be obtained is not particularly limited, but in order to obtain a high-concentration silica-based sol, when the Y-shaped tube reactor is used, Is less than 3, preferably 1.0 to 2.5. Further, the particle size of the silica-based sol to be obtained is not particularly limited, but 3 to 10 nm is economical and preferable for industrial production.
また、本発明において、硫酸塩の酸性水溶液を使用して、前記シリカ系ゾルを生成する場合、シリカ系ゾル中の塩の含有量は、金属元素／Ｓｉのモル比（例えば、硫酸チタニウムを使用した場合には、Ｔｉ／Ｓｉモル比）で０．０５〜０．３であることが好ましい。塩の含有量が、上記範囲にあることにより、シリカ系ゾルの製造時、ゲル化物の発生も無く、また、金属元素の酸化物、例えば、酸化チタンと複合することによる性能を十分に発揮できるため好ましい。 Further, in the present invention, when an acidic aqueous solution of sulfate is used to produce the silica-based sol, the content of the salt in the silica-based sol is a metal element / Si molar ratio (for example, using titanium sulfate). In this case, the Ti / Si molar ratio is preferably 0.05 to 0.3. When the salt content is in the above range, no gelled product is produced during the production of the silica-based sol, and the performance by combining with an oxide of a metal element, such as titanium oxide, can be sufficiently exhibited. Therefore, it is preferable.
本発明において、最大の特徴は、前記管型反応器を用いて得られるシリカ系ゾルに、シリコーンエマルジョンを添加して、該シリカ系ゾルを表面処理する表面処理工程を含むことである。本発明は、特に、前記Ｙ字管型反応器を用いた場合、短時間でゲル化せず、均質なシリカ系ゾルを安定して製造することができる。それにより、得られるシリカ系ゾルをシリコーンエマルジョンで表面処理することが可能となり、高度に表面処理された表面処理シリカ系酸化物を得ることができる。本発明により得られる表面処理シリカ系酸化物は、シリカ系ゾルの状態、つまり、３〜１０ｎｍのナノ粒子の状態で表面処理されているものと考えられ、高度に表面処理することができる。 In the present invention, the greatest feature is that it includes a surface treatment step of surface-treating the silica-based sol by adding a silicone emulsion to the silica-based sol obtained by using the tubular reactor. In particular, when the Y-tube reactor is used in the present invention, a homogeneous silica-based sol can be stably produced without gelation in a short time. As a result, the silica-based sol obtained can be surface-treated with a silicone emulsion, and a highly surface-treated silica-based oxide can be obtained. The surface-treated silica-based oxide obtained by the present invention is considered to be surface-treated in a silica-based sol state, that is, in a state of 3 to 10 nm nanoparticles, and can be highly surface-treated.
また、特に、前記Ｙ字型反応器を用いた場合、高濃度であって、短時間でゲル化しないシリカ系ゾルを安定して製造することができ、経済的にも有利である。しかも、シリカ系ゾルが安定なため、表面処理を行う前に、シリカ系ゾルを熟成させ、シリカ系ゾルの重合度を調整することも可能である。ゲル化物のないシリカ系ゾルにおいて、重合度の異なるナノ粒子のシリカ系ゾルを表面処理することにより、得られる表面処理シリカ系酸化物の製造範囲を広げることが可能となる。また、重合度の異なるシリカ系ゾルを表面処理しても、それぞれ得られる表面処理シリカ系酸化物は、高度に表面処理されているため、ゲル化させた後の粉砕がしやすくなるものと考えられる。 In particular, when the Y-shaped reactor is used, a silica-based sol that has a high concentration and does not gel in a short time can be stably produced, which is economically advantageous. Moreover, since the silica-based sol is stable, it is possible to age the silica-based sol and adjust the polymerization degree of the silica-based sol before the surface treatment. By subjecting silica-based sols of nanoparticles having different degrees of polymerization to a silica-based sol having no gelled product, the production range of the surface-treated silica-based oxide obtained can be expanded. In addition, even if the surface treatment is performed on silica-based sols with different degrees of polymerization, the surface-treated silica-based oxides obtained are highly surface-treated, so that it is easy to grind after gelation. It is done.
本発明において、前記シリカ系ゾルの熟成、いわゆるシリカ系ゾルの重合度の調整は、シリカ系ゾルがゲル化しない範囲で重合度を調整してやればよく、通常、２０〜４０℃、３０分〜３時間、攪拌下で放置することにより、調整（熟成）することができる。 In the present invention, the aging of the silica-based sol, that is, the adjustment of the polymerization degree of the so-called silica-based sol may be performed by adjusting the polymerization degree within a range in which the silica-based sol does not gel. It can be adjusted (ripened) by leaving it under stirring for a period of time.
本発明において、シリカ系ゾルを表面処理するシリコーンエマルジョンは、特に制限されるものではなく、シリカ系酸化物の表面処理が可能な一般的なものを使用することができる。具体的には、ジメチル系、アミノ系、有機官能性、反応性等のシリコーンエマルジョンが挙げられ、それらの中でも、高粘度のシリコーンエマルジョンが好ましい。又、イオン性についても、ノニオン、カチオン、アニオン性のシリコーンエマルジョンを使用することができ、中でも、アニオン性のシリコーンエマルジョンが好ましい。例えば、Ｐｏｌｏｎ ＭＦ−３３Ａ（商品名：信越化学製）等が市販されており、かかる市販のシリコーンエマルジョンを使用することができる。 In the present invention, the silicone emulsion for surface-treating the silica-based sol is not particularly limited, and a general emulsion capable of surface-treating the silica-based oxide can be used. Specific examples include dimethyl-based, amino-based, organic functionalities, and reactive silicone emulsions. Among them, high-viscosity silicone emulsions are preferable. Further, nonionic, cationic and anionic silicone emulsions can be used for ionicity, and among these, anionic silicone emulsions are preferred. For example, Polon MF-33A (trade name: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is commercially available, and such a commercially available silicone emulsion can be used.
本発明において、シリカ系ゾルをシリコーンエマルジョンで表面処理する表面処理工程は、シリカ系ゾルがゲル化しない範囲の温度で、シリコーンエマルジョンを添加してやればよいが、この時の温度は、２０〜４０℃であることが好ましい。また、前記表面処理工程は、シリカ系ゾルを撹拌しながら、所定量のシリコーンエマルジョンを添加してやればよい。この時、シリコーンエマルジョンは、直接、添加することもできるし、水溶液により分散させて添加することもできる。また、シリコーンエマルジョンは、連続して一定量をシリカ系ゾル中に添加することが好ましい。尚、本発明において、使用するシリコーンエマルジョン中のシリコーンの量は、得られる表面処理シリカの用途に合わせて適宜調整してやればよいが、表面処理するシリカゾル中のＳｉＯ２濃度に対して、２５〜７０質量％であることが好ましい。 In the present invention, the surface treatment step of surface-treating the silica-based sol with the silicone emulsion may be performed by adding the silicone emulsion at a temperature within a range where the silica-based sol does not gel, but the temperature at this time is 20 to 40 ° C. It is preferable that The surface treatment step may be performed by adding a predetermined amount of silicone emulsion while stirring the silica-based sol. At this time, the silicone emulsion can be added directly or can be added after being dispersed in an aqueous solution. Moreover, it is preferable that a certain amount of the silicone emulsion is continuously added to the silica-based sol. In the present invention, the amount of silicone in the silicone emulsion to be used may be appropriately adjusted according to the use of the surface-treated silica to be obtained, but it is 25 to 70 with respect to the SiO 2 concentration in the silica sol to be surface-treated. It is preferable that it is mass%.
本発明において、前記表面処理工程により得られる表面処理物は、次いで、ゲル化させる。このゲル化工程は、得られる表面処理物を常温で放置することにより達成することができる。又、ゲル化を促進する為に加温しても良い。 In the present invention, the surface-treated product obtained by the surface treatment step is then gelled. This gelation step can be achieved by leaving the obtained surface-treated product at room temperature. Moreover, you may heat in order to accelerate | stimulate gelatinization.
本発明において、前記ゲル化工程で得られるゲル化物は、公知の方法により処理することができる。具体的には、前記ゲル化物を水洗、乾燥、粉砕、分級等の後工程を行うことにより、表面処理シリカ系酸化物を得ることができる。この後工程は、表面処理シリカ系酸化物の使用する用途に応じて、適宜決定してやればよい。例えば、乾燥して粉体とした表面処理シリカ系酸化物は、樹脂等の充填剤およびその他の用途に使用することができる。尚、前記後工程には、熱処理の工程を含むこともでき、熱処理の工程を行うことにより、得られる表面処理シリカ系酸化物の疎水化度を向上させることもできる。また、水洗後に水熱処理を行い、得られる表面処理シリカ系酸化物の構造を制御することも可能である。 In the present invention, the gelled product obtained in the gelation step can be treated by a known method. Specifically, the surface-treated silica-based oxide can be obtained by performing post-processes such as washing, drying, pulverization, and classification of the gelled product. This post-process may be appropriately determined according to the use of the surface-treated silica-based oxide. For example, the surface-treated silica-based oxide dried to a powder can be used for fillers such as resins and other applications. The post-process can include a heat treatment step, and the hydrophobicity of the surface-treated silica-based oxide obtained can be improved by performing the heat treatment step. It is also possible to control the structure of the surface-treated silica-based oxide obtained by performing hydrothermal treatment after washing with water.
また、本発明においては、前記ゲル化物を粉砕、分級等を行い、水を加えて表面処理シリカ系酸化物をスラリー化する工程を含むこともできる。スラリー化する際に、ゲル化物は、水洗した後、粉砕、分級を行うこともできる。また、前記ゲル化物は、乾燥させた後、粉砕することもできるし、ゲル化物を乾燥することなく、水を加えて湿式粉砕することもできる。工程の簡略化を考慮すると、湿式粉砕することが好ましく、具体的には、スラリー化工程は、前記ゲル工程で得られたゲル化物を水洗し、水を加え、粉砕した後、分級してスラリー化する工程であることが好ましい。また、分級した後、必要に応じて水を添加し、スラリーの濃度を調整することもできる。前記スラリー化工程において、前記ゲル化物を粉砕した後、分級する程度、加える水の量等は、得られる表面処理シリカ系酸化物スラリーの用途に応じて適宜決定すればよい。スラリー化工程により得られる表面処理シリカ系酸化物スラリーは、撥水剤等のコーティング剤として有効に使用することができる。 Moreover, in this invention, the process which grind | pulverizes the said gelled material, classifies, etc., adds water, and slurries the surface treatment silica type oxide can also be included. When the slurry is formed, the gelled product can be pulverized and classified after washing with water. Moreover, after making the said gelled material dry, it can also grind | pulverize and it can also wet-grind by adding water, without drying a gelled material. In consideration of simplification of the process, it is preferable to perform wet pulverization. Specifically, in the slurrying process, the gelled product obtained in the gel process is washed with water, added with water, pulverized, classified, and then slurried. It is preferable that it is a process to convert. In addition, after classification, water can be added as necessary to adjust the concentration of the slurry. In the slurrying step, after the gelled product is pulverized, the degree of classification, the amount of water to be added, and the like may be appropriately determined according to the intended use of the surface-treated silica-based oxide slurry. The surface-treated silica-based oxide slurry obtained by the slurrying step can be effectively used as a coating agent such as a water repellent.
以下、本発明を更に具体的に説明するため実施例を示すが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, examples will be shown to describe the present invention more specifically, but the present invention is not limited to these examples.
尚、実施例及び比較例に掲載した測定値は、以下の方法によって行ったものである。 In addition, the measured value published in the Example and the comparative example was performed with the following method.
（１）ナノ粒子の測定、分子量の測定
シスメックス株式会社製 ゼータ電位・粒子径・分子量測定装置（Ｎａｎｏ ＺＳ）を使用して、シリカ系ゾルのＳｉＯ２濃度を０．１〜２（ｗ／ｖｏｌ％）とし、表面処理前のシリカ系ゾルの粒子径、分子量を測定した。
(1) Measurement of nanoparticles and measurement of molecular weight Using a zeta potential / particle diameter / molecular weight measuring device (Nano ZS) manufactured by Sysmex Corporation, the SiO 2 concentration of the silica-based sol is 0.1 to 2 (w / vol). %), And the particle size and molecular weight of the silica-based sol before the surface treatment were measured.
（２）表面処理度の評価
得られる表面処理シリカ系酸化物を、下記の方法でその疎水性を評価することにより、表面処理シリカ系酸化物の疎水化値（表面処理度）を評価した。
(2) Evaluation of surface treatment degree The hydrophobicity (surface treatment degree) of the surface treatment silica type oxide was evaluated by evaluating the hydrophobicity of the obtained surface treatment silica type oxide by the following method.
２００ｍｌコニカルビーカーに純粋５０ｍｌを入れ、得られた表面処理シリカ系酸化物を０．２ｇ前記ビーカーに入れ、水溶液を撹拌する。ビューレットにメタノールを入れ、前記水溶液中に、表面処理シリカが全量懸濁するまでメタノールを滴下する。このメタノール滴下量をＬ（ｍｌ）とした場合に、下記式により疎水化値（以下、Ｍ値とする）を求め、Ｍ値が高いものほど、疎水性が高く、高度に表面処理されたものとする。
Ｍ値＝１００Ｌ／（５０＋Ｌ）
50 ml of pure is put into a 200 ml conical beaker, 0.2 g of the obtained surface-treated silica-based oxide is put into the beaker, and the aqueous solution is stirred. Methanol is added to the burette, and methanol is dropped into the aqueous solution until the entire amount of the surface-treated silica is suspended. When the amount of methanol dropped is L (ml), the hydrophobicity value (hereinafter referred to as M value) is obtained by the following formula. The higher the M value, the higher the hydrophobicity and the higher the surface treatment. And
M value = 100L / (50 + L)
（３）撥水性効果の測定方法
１．テストサンプルの作成
７０＊７０＊２０ｍｍのセメントブロックまたは１０７＊６０＊１０ｍｍのタイルのテストピースの表面に、表面処理シリカ系酸化物のスラリーを塗布し、１５０℃、２時間乾燥させたものをテストサンプルとした。
２．測定条件
サンシャイン・ウェザー・メーター（スガ試験機製ＷＥＬ−ＳＵＮ−ＨＣＨ−Ｂ・Ｅｍ）を使用して、ブラックパネル温度６３℃、降雨条件として２時間に１８分シャワーする条件で、テストサンプル表面に水滴が発生せず、全面が濡れる状態になった時間を目視により観察し、疎水性効果の有無を判断した。尚、表面処理シリカ系酸化物のスラリーを表面に塗布していないセメントブロックでは、直に水が染み込み、撥水性は見られなかった。また、同じく表面に何も塗布していないタイルでは、１００時間で表面水垢が発生し、撥水性がなくなった。
(3) Measuring method of water repellency effect Preparation of test sample A slurry of surface-treated silica-based oxide was applied to the surface of a 70 * 70 * 20mm cement block or 107 * 60 * 10mm tile test piece and dried at 150 ° C for 2 hours to test A sample was used.
2. Measurement conditions Using a sunshine weather meter (WEL-SUN-HCH-B · Em, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), water droplets on the surface of the test sample under conditions where the black panel temperature is 63 ° C. and the rainfall conditions are 18 minutes for 2 hours. The time when the entire surface was wet was not observed visually, and the presence or absence of the hydrophobic effect was judged. In the cement block in which the slurry of the surface-treated silica-based oxide was not applied to the surface, water soaked directly and no water repellency was observed. Further, in the tile that had nothing applied to the surface, surface dirt was generated in 100 hours and water repellency was lost.
実施例１
大きさ４５＊４５ｍｍのＹ字管型反応装置を使用して、珪酸ソーダ水溶液（ＳｉＯ２：２６４．３ｇ／Ｌ、ＳｉＯ２／Ｎａ２Ｏモル比：２．９６）を絞り部径３．０ｍｍに６．１０Ｌ／分（流速１４．４ｍ／秒）、及び４．５Ｎの硫酸を絞り部径２．８ｍｍに４．６３Ｌ／分（流速１２．５ｍ／秒）でそれぞれ供給し、排出口径１０ｍｍ、排出時の流速２．２８ｍ／秒にして、１５分反応させ、１６１Ｌの均質なシリカゾルを得た。この時のＳｉＯ２濃度は１５０．２ｇ／Ｌ、ｐＨは１．６５、液温は３３℃であった。この液温で１２０分間熟成し、液粘度が１２ｍＰａ・ｓになった時、液を抜き出した。シリカゾルの平均粒子径は４．４ｎｍ、分子量は３９７００００ｋＤａであった。このサンプルを１５０ｍｌ採取して、液温を３３℃に保持しながら撹拌し、シリコーンエマルジョンとして、アニオン性のＰｏｌｏｎ ＭＦ−３３Ａ（信越化学製：シリコーンの有効成分３０質量％、比重０．９３５）を５２．５ｍｌ添加した。このシリコーンの添加量は、シリカゾルのＳｉＯ２濃度に対して、６５質量％である。この混合液をそのまま放置し、ゲル化させた。次に、このゲル化物を約５−２０ｍｍの大きさに砕き、籠状の容器に入れ、水洗した後、１５０℃の熱風乾燥機で乾燥した。この乾燥物を粉砕し、疎水化度を測定した。得られた表面処理シリカの疎水化度Ｍ値は４８であった。
Example 1
Using a Y-tube type reactor having a size of 45 * 45 mm, a sodium silicate aqueous solution (SiO 2 : 264.3 g / L, SiO 2 / Na 2 O molar ratio: 2.96) was used to reduce the diameter of the throttle section to 3.0 mm. 6.10 L / min (flow rate: 14.4 m / sec) and 4.5N sulfuric acid were supplied to the throttle portion diameter of 2.8 mm at 4.63 L / min (flow rate: 12.5 m / sec), respectively, and the discharge port diameter was 10 mm. The reaction was performed at a discharge flow rate of 2.28 m / sec for 15 minutes to obtain 161 L of homogeneous silica sol. At this time, the SiO 2 concentration was 150.2 g / L, the pH was 1.65, and the liquid temperature was 33 ° C. The solution was aged at this liquid temperature for 120 minutes, and when the liquid viscosity reached 12 mPa · s, the liquid was extracted. The silica sol had an average particle size of 4.4 nm and a molecular weight of 395,000 kDa. 150 ml of this sample was collected and stirred while maintaining the liquid temperature at 33 ° C., and an anionic Polon MF-33A (manufactured by Shin-Etsu Chemical: 30 mass% active ingredient of silicone, specific gravity 0.935) was used as a silicone emulsion. 52.5 ml was added. The amount of the silicone, with respect to SiO 2 concentration of the silica sol is 65% by mass. This mixed solution was allowed to stand and gelled. Next, this gelled product was crushed to a size of about 5 to 20 mm, put into a bowl-shaped container, washed with water, and dried with a hot air dryer at 150 ° C. The dried product was pulverized and the degree of hydrophobicity was measured. The resulting surface-treated silica had a hydrophobicity M value of 48.
実施例２
実施例１において、シリカゾルを１３０分間熟成し、液粘度を１６ｍＰａ・ｓにした以外は実施例１と同様にして、シリカゾルを製造した。このシリカゾルの平均粒子径は４．２ｎｍ、分子量は４１３００００ｋＤａであった。このサンプルを１５０ｍｌ採取して撹拌し、シリコーンエマルジョン（信越化学製：Ｐｏｌｏｎ ＭＦ−３３Ａ）を３７．５ｍｌ添加した以外は実施例１と同様の操作を行った。このシリコーンの添加量は、シリカゾルのＳｉＯ２濃度に対して、４７質量％である。得られた表面処理シリカの疎水化度Ｍ値は４３であった。
実施例３
実施例１の熟成後のシリカゾルを１５０ｍｌ採取して撹拌し、シリコーンエマルジョン（信越化学製：Ｐｏｌｏｎ ＭＦ−３３Ａ）を２２．５ｍｌ添加した以外は実施例１と同様の操作を行った。このシリコーンの添加量は、シリカゾルのＳｉＯ２濃度に対して、２８質量％である。得られた表面処理シリカの疎水化度Ｍ値は２８であった。
Example 2
A silica sol was produced in the same manner as in Example 1 except that the silica sol was aged for 130 minutes and the liquid viscosity was 16 mPa · s. This silica sol had an average particle size of 4.2 nm and a molecular weight of 4130,000 kDa. 150 ml of this sample was collected and stirred, and the same operation as in Example 1 was performed except that 37.5 ml of a silicone emulsion (manufactured by Shin-Etsu Chemical: Polon MF-33A) was added. The amount of the silicone, with respect to SiO 2 concentration of the silica sol is 47% by mass. The obtained surface-treated silica had a hydrophobicity M value of 43.
Example 3
150 ml of the silica sol after aging in Example 1 was collected and stirred, and the same operation as in Example 1 was performed except that 22.5 ml of a silicone emulsion (manufactured by Shin-Etsu Chemical: Polon MF-33A) was added. The amount of the silicone, with respect to SiO 2 concentration of the silica sol is 28% by mass. The obtained surface-treated silica had a degree of hydrophobicity M of 28.
比較例１
実施例１のシリカゾルを一昼夜放置してゲル化した後、水洗し、乾燥、粉砕した乾燥物を１５０ｇ採取し、水へ再分散させ、シリコーンエマルジョン（信越化学製：Ｐｏｌｏｎ ＭＦ−３３Ａ）を３７．５ｍｌ添加し、２０分攪拌混合した。このシリコーンの添加量は、ＳｉＯ２濃度に対して、実施例２と同じく、４７質量％である。この混合液を１４９μｍの篩いで、固液分離し、篩い上の固形分を実施例１と同様に水洗、乾燥、粉砕処理した。この表面処理シリカの疎水化度Ｍ値は２５であった。
Comparative Example 1
The silica sol of Example 1 was allowed to gel for a whole day and night, then washed with water, dried and pulverized 150 g of a dried product was collected and re-dispersed in water, and a silicone emulsion (manufactured by Shin-Etsu Chemical: Polon MF-33A) 37. 5 ml was added and mixed with stirring for 20 minutes. The amount of silicone added is 47% by mass, as in Example 2, with respect to the SiO 2 concentration. This mixed solution was subjected to solid-liquid separation with a 149 μm sieve, and the solid content on the sieve was washed with water, dried and ground in the same manner as in Example 1. This surface-treated silica had a hydrophobicity M value of 25.
比較例２
珪酸ソーダ水溶液（ＳｉＯ２：２７７．１ｇ／Ｌ、モル比：３．０３）２００ｍｌへシリコーンエマルジョン（信越化学製：Ｐｏｌｏｎ ＭＦ−３３Ａ）を９３ｍｌ（シリコーンは、珪酸ソーダのＳｉＯ２濃度に対して、４７質量％である）添加し、攪拌混合すると透明な粘調なものが生成したため、シリカゾルを製造出来なかった。
Comparative Example 2
Sodium silicate aqueous solution (SiO 2 : 277.1 g / L, molar ratio: 3.03) To 200 ml of silicone emulsion (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: Polon MF-33A) 93 ml (silicone is 47% of
実施例２と比較例１とを比較すると、シリカ濃度あたり同じ量のシリコーン（有機珪素化合物）で表面処理した場合、実施例２の表面処理シリカは、比較例１の表面処理シリカよりも高い疎水性を示すことから、高度に表面処理されていることが分かった。また、実施例３と比較例１を比較すると、実施例３は少ないシリコーンの量で比較例１よりも高い疎水性を示すことも確認された。更に、実施例２は、実施例１のシリカゾルを熟成して、シリカゾルの重合度を調整したものをシリコーンで表面処理したものであり、得られる表面処理シリカの重合度の調整も容易となることが分かった。 When Example 2 and Comparative Example 1 are compared, when the surface treatment is performed with the same amount of silicone (organosilicon compound) per silica concentration, the surface-treated silica of Example 2 is more hydrophobic than the surface-treated silica of Comparative Example 1. It was found that the surface treatment was highly performed. Moreover, when Example 3 was compared with Comparative Example 1, it was also confirmed that Example 3 showed higher hydrophobicity than Comparative Example 1 with a small amount of silicone. Furthermore, in Example 2, the silica sol of Example 1 was aged and the degree of polymerization of the silica sol was adjusted and surface-treated with silicone, and the degree of polymerization of the resulting surface-treated silica can be easily adjusted. I understood.
実施例４
実施例１で得られたゲル化物３００ｇを水洗した後、３ｍｍのセラミックビーズを用いて、湿式粉砕し、７４μｍの篩を使用して篩い分けした。この篩い下のものに、表面処理シリカが１０質量％の濃度となるように水を加え、表面処理シリカスラリーを得た。このスラリーにセメントブロックを浸漬し、該スラリーをセメントへ染み込ませた後、１５０℃、２時間乾燥し、得られたテストサンプルを前記条件のサンシャイン・ウェザー・メーターで撥水性の効果を測定した。撥水性の効果がなくなるまで３６０時間を要した。
Example 4
300 g of the gelled product obtained in Example 1 was washed with water, wet-pulverized using 3 mm ceramic beads, and sieved using a 74 μm sieve. Water was added to the sieved material so that the surface-treated silica had a concentration of 10% by mass to obtain a surface-treated silica slurry. A cement block was immersed in this slurry, the slurry was infiltrated into the cement, dried at 150 ° C. for 2 hours, and the obtained test sample was measured for water repellency with a sunshine weather meter under the above conditions. It took 360 hours until the water-repellent effect disappeared.
実施例５
大きさ４３＊４３ｍｍのＹ字管型反応装置を使用して、珪酸ソーダ水溶液（ＳｉＯ２：１８５．９ｇ／Ｌ、ＳｉＯ２／Ｎａ２Ｏモル比３．０６）を絞り部径１．４ｍｍに１．１８Ｌ／分（流速１２．７８ｍ／秒）、及び硫酸チタン水溶液（Ｈ２ＳＯ４：１４．８０ｇ／１００ｍｌ、ＴｉＯ２：３．６５ｇ／１００ｍｌ）を絞り部径１．２ｍｍに０．９５Ｌ／分（流速１４．０１ｍ／秒）でそれぞれ供給し、排出口径６ｍｍ、排出時の流速１．２６ｍ／秒にして５分間反応させ、１０．６５Ｌの均質なシリカ−チテニアゾル（シリカ系ゾル）を得た。この時のシリカ系ゾルの組成は、ＳｉＯ２１０．３ｇ／１００ｍｌ、ＴｉＯ２１．６３ｇ／１００ｍｌ、Ｔｉ／Ｓｉモル比０．２０、ｐＨ２．３２、液温度３６℃であった。また、このシリカ系ゾルの平均粒子径は５．２ｎｍ、分子量は４２５００００ｋＤａであった。このシリカ系ゾルを５００ｍｌ採取し、液温を３５℃に保持しながら撹拌し、シリコーンエマルジョンとして、アニオン性のＰｏｌｏｎ ＭＦ−３３Ａ（信越化学製：シリコーンの有効成分３０質量％、比重０．９３５）を８３ｍｌ添加した。このシリコーンの添加量は、シリカ系ゾルのＳｉＯ２濃度に対して、４５質量％である。この混合液をそのまま放置し、ゲル化させた。次に、このゲル化物を約５−２０ｍｍの大きさに砕き、籠状の容器に入れ、水洗した後、１５０℃の熱風乾燥機で乾燥した。この乾燥物を粉砕し、疎水化度を測定した。得られた表面処理シリカ系酸化物の疎水化度Ｍ値は４２であった。
Example 5
Using a Y-tube reactor having a size of 43 * 43 mm, a sodium silicate aqueous solution (SiO 2 : 185.9 g / L, SiO 2 / Na 2 O molar ratio: 3.06) was adjusted to a diameter of the throttle portion of 1.4 mm. 1.18 L / min (flow rate: 12.78 m / sec) and titanium sulfate aqueous solution (H 2 SO 4 : 14.80 g / 100 ml, TiO 2 : 3.65 g / 100 ml) at 0.95 L in the diameter of the throttle portion of 1.2 mm / Min (flow rate: 14.01 m / sec), respectively, and the reaction is performed for 5 minutes with a discharge port diameter of 6 mm and a discharge flow rate of 1.26 m / sec, and 10.65 L of homogeneous silica-titania sol (silica-based sol) is obtained. Obtained. The composition of the silica-based sol at this time, SiO 2 10.3g / 100ml, TiO 2 1.63g / 100ml, Ti / Si molar ratio 0.20, pH2.32, was a liquid temperature of 36 ° C.. Further, this silica-based sol had an average particle size of 5.2 nm and a molecular weight of 4250,000 kDa. 500 ml of this silica-based sol was sampled and stirred while maintaining the liquid temperature at 35 ° C., and an anionic Polon MF-33A (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: active ingredient of silicone 30% by mass, specific gravity 0.935) as a silicone emulsion. 83 ml of was added. The amount of silicone added is 45% by mass with respect to the SiO 2 concentration of the silica-based sol. This mixed solution was allowed to stand and gelled. Next, this gelled product was crushed to a size of about 5 to 20 mm, put into a bowl-shaped container, washed with water, and dried with a hot air dryer at 150 ° C. The dried product was pulverized and the degree of hydrophobicity was measured. The obtained surface-treated silica-based oxide had a hydrophobicity M value of 42.
また、前記ゲル化物３００ｇを水洗した後、３ｍｍのセラミックビーズを用いて、湿式粉砕し、７４μｍの篩を使用して篩い分けした。この篩い下のものに、表面処理シリカ系酸化物の濃度が１０質量％になるように水を加え、表面処理シリカ系酸化物スラリーを得た。このスラリーにセラミックタイルを浸漬し、表面処理シリカ系酸化物を塗布した後、１５０℃、２時間乾燥し、得られたテストサンプルを前記条件のサンシャイン・ウェザー・メーターで撥水性の効果を測定した。撥水性の効果がなくなるまで８４０時間を要した。 Further, 300 g of the gelled product was washed with water, wet-pulverized using 3 mm ceramic beads, and sieved using a 74 μm sieve. Water was added to the sieved material so that the concentration of the surface-treated silica-based oxide was 10% by mass to obtain a surface-treated silica-based oxide slurry. A ceramic tile was immersed in this slurry, and a surface-treated silica-based oxide was applied, followed by drying at 150 ° C. for 2 hours. The obtained test sample was measured for water repellency with a sunshine weather meter under the above conditions. . It took 840 hours until the water repellency was lost.
比較例３
比較例１で得られた表面処理シリカを使用し、シリカ濃度が１０質量％となるように水を加え、表面処理シリカスラリーを得た。このスラリーを使用して、実施例４と同様の方法で撥水性効果を確認したところ、撥水性の効果がなくなるまで２２０時間を要した。
Comparative Example 3
Using the surface-treated silica obtained in Comparative Example 1, water was added so that the silica concentration was 10% by mass to obtain a surface-treated silica slurry. Using this slurry, the water repellency effect was confirmed by the same method as in Example 4. As a result, 220 hours were required until the water repellency effect disappeared.
１、１’：原料供給管
２：排出管
３：合流部
４、４’：絞り部
1, 1 ': Raw material supply pipe 2: Discharge pipe 3: Merge
Claims (2)
A method for producing a surface-treated silica-based oxide slurry, comprising a slurrying step of washing the gelated product obtained in the gel step, adding water, pulverizing, classifying and slurrying.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005162322A JP5013683B2 (en) | 2004-06-24 | 2005-06-02 | Method for producing surface-treated silica-based oxide, and method for producing surface-treated silica-based oxide slurry |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004186002 | 2004-06-24 | ||
| JP2004186002 | 2004-06-24 | ||
| JP2005162322A JP5013683B2 (en) | 2004-06-24 | 2005-06-02 | Method for producing surface-treated silica-based oxide, and method for producing surface-treated silica-based oxide slurry |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006036627A true JP2006036627A (en) | 2006-02-09 |
| JP5013683B2 JP5013683B2 (en) | 2012-08-29 |
Family
ID=35902013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005162322A Expired - Fee Related JP5013683B2 (en) | 2004-06-24 | 2005-06-02 | Method for producing surface-treated silica-based oxide, and method for producing surface-treated silica-based oxide slurry |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5013683B2 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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