JP2006030896A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】表示品位を保ちながら広い有効表示領域を確保する。
【解決手段】第１の基板３２と第２の基板３１との間に液晶層３３を設けている液晶表示装置２９であって、第１の基板３２の主面および第２の基板３１の主面において２次元状に並んだ状態で規定され、第１の基板３２側から液晶層３３に入射する光を第１の基板３２側に反射して映像を表示する複数の反射領域Ｒと、第１の基板３２の主面および第２の基板３１の主面において２次元状に並んだ状態で規定され、第２の基板３１側から液晶層３３に入射する光を第１の基板３２側へ透過して映像を表示する複数の透過領域Ｔとを備え、第１の基板３２は、反射領域Ｒに配置されて所定の色を透過する第１の着色層５１を含み、第２の基板３１は、透過領域Ｔのみに配置されて所定の色の光を透過する第２の着色層４４を含む。
【選択図】図１

Description

本発明は、外光を反射する反射領域と光源からの光を透過する透過領域とを１絵素内に設けている半透過型の液晶表示装置に関するものである。

近年、携帯電話やＰＤＡ端末等のように液晶表示装置を備えた携帯用情報機器が急速に発達している。この携帯用情報機器に用いられる液晶表示装置には、屋外・屋内等の環境によらない高表示品位と低消費電力とが求められている。これら要求を満たす液晶表示装置として１絵素内に反射領域と透過領域とを備えて反射型と透過型の両モードで表示可能な半透過型の液晶表示装置が注目されている。

たとえば、特開２００２−２９６５８２号公報において図８に示すような半透過型の液晶表示装置が開示されている。この液晶表示装置は、下側基板１とカラーフィルタ基板２との間に液晶層３を介設しており、観測者側である上方から入射する外光を反射させて表示を行う反射領域Ｒと、下方のバックライト（図示せず）からの光を透過させて表示を行う透過領域Ｔとを１絵素内に備えている。下側基板１の液晶層３側の主面の透過領域Ｔには透明電極４を形成している。下側基板１の液晶層３側の主面の反射領域Ｒには凹凸部５を形成すると共にその上層に反射電極６を形成している。カラーフィルタ基板２は、ガラス基板７にカラーフィルタ層８を形成し、そのカラーフィルタ層８の液晶層側に対向電極９を形成している。

上記した半透過型液晶表示装置では、透過領域Ｔにおける表示品位と反射領域Ｒにおける表示品位とを等しくするため、図９に示すように、１絵素内のカラーフィルタ層８には、互いに色濃度が異なる透過用カラーフィルタ領域８ａと反射用カラーフィルタ領域８ｂとの２種類を形成している。すなわち、カラーフィルタ層８は全部で６色（赤緑青３色×透過・反射２種類＝６色）を使用している。具体的には、透過領域Ｔに存在する透過用カラーフィルタ領域８ａにはバックライト（図示せず）からの透過光が１回通過するだけであるが、反射領域Ｒに存在する反射用カラーフィルタ領域８ｂには外光が反射電極６で反射して２回通過することになる。したがって、反射モードと透過モードとで表示品位を合わせるために、反射用カラーフィルタ領域８ｂの色濃度を透過用カラーフィルタ領域８ａの色濃度よりも小さくしている。

しかしながら、上記のようなカラーフィルタ層８を６色としている半透過型液晶表示装置では、透過用カラーフィルタ領域８ａと反射用カラーフィルタ領域８ｂとが異なる工程で作成される。そのため、図１０に示すように、フォトリソグラフィ工程でのマスク位置あわせのマージンなどを考慮すると、隣接する２つのカラーフィルタ領域８ａ、８ｂの境界はきれいにつながらずに、カラーフィルタ領域８ａ、８ｂの端部同士が互いに被さってしまう。その結果、正しい表示に寄与できない無効領域Ａが発生してしまい、有効表示領域の開口率の向上が実現できない問題が生じる。
特開２００２−２９６５８２号公報

本発明は、上記問題に鑑みてなされたもので、表示品位を保ちながら、広い有効表示領域を確保することを課題としている。

上記課題を解決するため、本発明は、第１の基板と、当該第１の基板に対向するように配置される第２の基板と、当該第１の基板と当該第２の基板との間に設けられる液晶層とを有する液晶表示装置であって、
前記第１の基板の主面および第２の基板の主面において２次元状に並んだ状態で規定され、前記第１の基板側から前記液晶層に入射する光を当該第１の基板側に反射して映像を表示する複数の反射領域と、
前記第１の基板の主面および前記第２の基板の主面において２次元状に並んだ状態で規定され、前記第２の基板側から前記液晶層に入射する光を当該第１の基板側へ透過して映像を表示する複数の透過領域とを備え、
前記第１の基板は、所定の色の光を透過し、各前記反射領域に配置されて第１の着色層を含み、
前記第２の基板は、所定の色の光を透過し、各前記反射領域と各前記透過領域との内、各当該透過領域のみに配置される第２の着色層を含む、液晶表示装置を提供している。

前記構成とすると、透過表示に寄与する第２の着色層と、反射表示に寄与する第１の着色層とが異なる基板に形成されるので、従来例のように第１の着色層の端部と第２の着色層の端部とがオーバラップして重なり無効領域を生じるといったことがなく、有効表示領域の開口率を向上させることができる。また、１絵素内において一方の基板に異なる着色層を混在させずに、対向する別の基板に夫々分けて形成しているので、重なり部分の不具合を修正することが不要となりプロセス工程が簡素化されて製造工数の増加を抑制することもできる。

前記第１の着色層は、前記第１の基板の前記透過領域にも配置されていることを特徴とする。

前記構成とすると、第１の着色層は、反射表示と透過表示の両方に寄与し、反射領域と透過領域との両方に配置される。すなわち、第１の着色層は反射領域と透過領域との間に境界を生じない。したがって、第１の基板と第２の基板とを貼り合わせる際に、反射領域と透過領域との境界における位置合わせを意識する必要がないので、第１の基板を第２の基板に貼り合わせる際の位置あわせに要求される精度を緩和させることが可能となる。

前記第１の着色層と前記第２の着色層とは、略同一の色素含有濃度を有し、かつ略同一の膜厚を有することを特徴とする。

即ち、第１の着色層が反射領域と透過領域の両方に配置される際に、色素含有濃度が同じである第１の着色層と第２の着色層とをそれぞれ同じ膜厚に形成すれば、第１の着色層を１度通過する反射領域と、第２の着色層および第１の着色層をそれぞれ１度通過する透過領域とで光の吸収率が略同一となる。したがって、反射モードと透過モードとの間で光透過率の整合を図ることができる。

前記第２の基板の前記液晶層側における主面には、前記反射領域における前記液晶層の層厚が前記透過領域における前記液晶層の層厚よりも小さくなるように、凸部が形成されていることを特徴とする。

前記構成のように、反射領域に凸部を設けて液晶層の厚さを変化させたマルチギャップ構造とすることにより、透過領域の光路長と反射領域の光路長とを整合させることができ、反射モードと透過モードとの両方で最適な輝度を確保できる。具体的には、透過領域における液晶層の厚さが反射領域における液晶層の厚さの約２倍となるようにして、反射表示と透過表示との光路長の整合を図ることで、両モードでの光の利用効率を最適化することができる。

前記反射領域であって、かつ前記第２の基板の前記液晶層側における主面には、凹凸面が形成されていることを特徴とする。

前記構成とすると、凹凸面により反射光が散乱されて光の指向性が低減され、紙のように良好な視認性を得ることができる。この際、第２の着色層は透過領域にのみ設けているため、膜厚制御が行いにくい凹凸面の上に着色層を形成する必要がないという大きな利点がある。

前記第１の着色層および前記第２の着色層の構造は、前記第１の着色層を光が２度通過したときの光透過率と前記第２の着色層を１度通過したときの光透過率とが略同一となる構成であることを特徴とする。

前記構成とすることで、第１の着色層を反射領域に形成すると共に第２の着色層を透過領域に形成した場合には、観測者側からの外光が第１の着色層を２回通過することで表示を行う反射モードと、バックライトからの光が第１の着色層および第２の着色層とを透過することで表示を行う透過モードとの間で、輝度および色再現性の整合性がとれるので、両モードでギャップのない優れた表示を行うことができる。

以上の説明より明らかなように、本発明によれば、第１の着色層と第２の着色層とが異なる基板に形成されるので、従来例のように１絵素内で隣接する着色層の端部同士が重なり無効領域を生じるといった問題がなくなり、有効表示領域を広くすることができる。さらに、１絵素内において一方の基板に異なる着色層を混在させずに、対向する別の基板に分けて形成しているので、プロセス工程が簡素化されて製造効率が向上する。また、第１の着色層を反射領域と透過領域との両方に配置した場合には、反射領域と透過領域との間に着色層の境界を生じないので、第１の基板を第２の基板に貼り合わせる際の位置合わせ精度を緩和させることができる。さらに、反射領域に光散乱のための凹凸面を形成した場合、本発明では第２の着色層を透過領域のみに形成するため、膜厚制御が行いにくい凹凸面の上に着色層を形成する必要がない利点もある。

本発明の第１実施形態を図面を参照して説明する。
本実施形態の半透過型液晶表示装置２９は、図１に示すように、アクティブマトリクス基板（第２の基板）３１の主面Ｓ２と、対向基板（第１の基板）３２の主面Ｓ１とで液晶層３３を挟持した液晶パネル３０を備え、液晶パネル３０の背面側（図１中の下側）にバックライト（図示せず）を配置している。液晶表示装置２９は、１つの絵素領域内にバックライトからの光を上方に透過して表示を行う透過領域Ｔと、観測者側からの外光を反射して表示を行う反射領域Ｒとを備えた半透過型の液晶表示装置としている。なお、対向基板３２の主面Ｓ１とは、観測者側の面ではない液晶層３３側に対向する面を意味する。また、アクティブマトリクス基板３１の主面Ｓ２とは、バックライト側の面ではない液晶層３３側に対向する面を意味する。

アクティブマトリクス基板３１は、ガラス等からなる絶縁性の透明基板３４上にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）３５が形成されている。ＴＦＴ３５は、下から順にゲート電極３６、ゲート絶縁膜３７、半導体薄膜３８を備えていると共にチャネル領域がストッパ３９により保護されており、層間絶縁膜４１で被覆している。その層間絶縁膜４１にはコンタクトホール４９が開口していると共に、ドレイン電極４３およびソース電極４０が半導体薄膜３８に電気接続されている。また、透明樹脂からなり上面に滑らかな凹凸面４２ａを有する凸部４２を層間絶縁膜４１の一部を覆うように設けてマルチギャップ構造が形成されている。凸部４２は、透過領域Ｔ以外の領域に設けられ、反射領域Ｒに位置する上面を凹凸面４２ａとしている。凸部４２の厚さは、透過領域Ｔにおける液晶層３３の厚さＴｄと、反射領域Ｒにおける液晶層３３の厚さＲｄとの関係が、Ｔｄ≒２Ｒｄとなるようにして、反射表示と透過表示との光路長の整合を図り、両モードでの光の利用効率を最適化している。

透過領域Ｔでは層間絶縁膜４１の上面に第２の着色層４４を形成している。すなわち、アクティブマトリクス基板３１では透過領域Ｔのみに着色層４４を形成し、反射領域Ｒには着色層を形成しない。第２の着色層４４および凸部４２の上面には透過領域Ｔと反射領域Ｒの両方にわたって透明電極４５が形成されている。この透明電極４５はコンタクトホール４９を介してＴＦＴ３５のドレイン電極４３と電気接続している。凹凸面４２ａ上に位置する透明電極４５の上には反射電極４６を形成している。即ち、反射電極４６の表面が凹凸状になるようにして反射光の光散乱を促してペーパーホワイト表示を行っている。なお、反射電極の表面を平坦にして、別途、観測者側に拡散手段を設置しても良い。また、透明基板３４の下面側には１／４波長板４７と偏光板４８とを積層している。

対向基板３２は、ガラス等からなる絶縁性の透明基板５０上に、反射表示と透過表示の両方に寄与する第１の着色層５１を絵素領域の全面に形成している。また、第１の着色層５１の液晶層側には透明電極５２が形成されており、透明基板５０の上面側には１／４波長板５３と偏光板５４とを積層している。

上記液晶表示装置２９は、観測者側である上方から入射した外光が反射領域Ｒにおいて反射電極４６で反射され、第１の着色層５１を２回通過して表示する。一方、透過領域Ｔではバックライト（図示せず）からの光が第２の着色層４４と第１の着色層５１とをそれぞれ１回透過することで表示を行うが、透過領域Ｔの色度特性と反射領域Ｒの色度特性をできるだけ一致させるように（若しくは近づけるように）設定することが望ましい。そこで、第２の着色層４４の色素含有濃度を第１の着色層５１の色素含有濃度と実質的に同一にすると共に、第２の着色層４４の膜厚を第１の着色層５１の膜厚と実質的に同一にしている。その結果、第１の着色層５１を１回通過したときの光透過率が、第２の着色層４４を１回通過したときの光透過率と略同一となり、両モードで輝度および色再現性の整合性がとれた優れた表示品位を確保している。なお、ここで、「実質的に同一」とは±５％の誤差範囲を許容するものである。

上記構成からなる半透過型の液晶表示装置２９であれば、第１の着色層５１と第２の着色層４４とが別々の基板３１、３２に形成されているため、図３に示すように、第２の着色層４４の端部４４ａが第１の着色層５１と重なって無効領域が発生するといった問題が起きず、有効表示領域の開口率が向上する構造となっている。また、アクティブマトリクス基板３１と対向基板３２とに分けて第１の着色層５１と第２の着色層４４とを形成しており、１絵素内において一方の基板に異なる着色層を混在させていないので、プロセス工程が簡素化でき製造工数を低減することができる。

また、第１の着色層５１は反射領域Ｒと透過領域Ｔとに連続して形成され、反射領域Ｒと透過領域Ｔとの間において第１の着色層５１の境界が生じないので、アクティブマトリクス基板３１に対向基板３２を貼り合わせる際の位置合わせ精度を緩和させることができる。このように、対向基板３２は反射領域Ｒと透過領域Ｔとで違いがないため、アクティブマトリクス基板３１に対して対向基板３２を貼り合わせる際に、反射領域Ｒと透過領域Ｔとの境界の位置合わせを意識する必要がなくなり、製造効率が向上する。

また、着色層は膜厚により光透過率が異なるため、１つの着色層を形成する際には膜厚が均一になるように形成して表示品位を保つ必要がある。本実施形態では、第２の着色層４４は透過領域Ｔのみに形成しているため、膜厚制御が行いにくい凹凸面４２ａの上に着色層を形成する必要がなく、表示品位が良好に保たれると共に生産性が良好になるメリットがある。

（実施例）
以下に、アクティブマトリクス基板３１の製造工程を具体的に説明する。
ガラス基板３４上に公知の手法によりＴＦＴ（薄膜トランジスタ）３５を形成する。そして、層間絶縁膜４１の上に赤の顔料が分散された樹脂フィルム（ドライフィルム）を全面にラミネートし、露光、現像及びベーク（熱処理）を行って所要の絵素領域内における透過領域Ｔに第２の着色層（赤）４４Ａを形成する（図２）。
次に、これに重ねて、緑の顔料が分散されたドライフィルムを全面にラミネートし、露光、現像及びベークを行って隣接する絵素領域内における透過領域Ｔに第２の着色層（緑）４４Ｂを形成する。
次に、これに重ねて、青の顔料が分散されたドライフィルムを全面にラミネートし、露光、現像及びベークを行って隣接する絵素領域内における透過領域Ｔに第２の着色層（青）４４Ｃを形成してＲＧＢ３色の第２の着色層４４が形成される。該第２の着色層４４の膜厚は約１．２μｍとしている。なお、ドライフィルムをラミネートする代わりに、顔料が分散された感光性樹脂材料をスピンコートにより全面に塗布してもよい。また、各色の形成順序は他の順序であってもよい。

次に、層間絶縁膜４１上の透過領域Ｔ以外の領域にアクリル樹脂を塗布して凸部４２を形成し（膜厚約２．５μｍ）、凸部４２の上面の反射領域Ｒにおいてフォトリソグライフィ工程と熱処理工程により滑らかな凹凸面４２ａを形成する。
次に、スパッタリング法により、ＩＺＯ(Indium Zinc Oxide)またはＩＴＯ(Indium Tin Oxide)膜を形成（約１．０００Å）し、フォトリソグラフィ工程とエッチングにより透明電極４５を形成する。
次に、スパッタリング法により、アルミ、モリブデン膜を成膜し、フォトリソグラフィ工程によりパターン形成した後（アルミ、モリブデンそれぞれ約１．０００Å）、エッチングを行うことにより凹凸面４２ａ上に位置する透明電極４５の上に反射電極４６を形成する。

続いて、対向基板３２の製造工程を説明する。
まず、ガラス基板３４上に、第２の着色層４４を形成した手法と同様にして、赤の顔料が分散された樹脂フィルム（ドライフィルム）を全面にラミネートし、露光、現像及びベーク（熱処理）を行って所要の絵素領域内の全面に第１の着色層（赤）５１Ａを形成する（図２）。
次に、これに重ねて、緑の顔料が分散されたドライフィルムを全面にラミネートし、露光、現像及びベークを行って隣接する絵素領域内の全面に第１の着色層（緑）５１Ｂを形成する。
次に、これに重ねて、青の顔料が分散されたドライフィルムを全面にラミネートし、露光、現像及びベークを行って隣接する絵素領域内の全面に第１の着色層（青）５１Ｃを形成してＲＧＢ３色の第１の着色層５１が形成される。該第１の着色層５１は、第２の着色層４４と同じ膜厚（約１．２μｍ）としている。
なお、ドライフィルムをラミネートする代わりに、顔料を分散した感光性樹脂材料をスピンコートにより全面に塗布してもよい。さらに、各色の形成順序は他の順序であってもよい。また、着色層の形成方法は上記以外にも、Electron deposition、Printing、Ink-jet方式を用いてもよい。
次に、スパッタリング法によりＩＺＯ(Indium Zinc Oxide)またはＩＴＯ(Indium Tin Oxide)を形成し、フォトリソグラフィ工程によりマスクを用いて絵素単位毎に所要形状に成膜（約１．０００Å）し、透明電極５２を形成する。

最終的には、アクティブマトリクス基板３１と対向基板３２の対向面に配向処理を施した後に互いを貼り合わせ、液晶材料を注入して液晶層３３を形成し液晶パネル３０を製造する。さらに、液晶パネル３０の両面に偏光板４８、５４や位相差板（ex.１／４波長板など）４７、５３を貼りあわせ、バックライト（図示せず）を背面側に配置して液晶表示装置２９が完成する。

液晶層３３の層厚に関しては、反射領域Ｒにおける液晶層３３の層厚をＲｄ、透過領域Ｔにおける液晶層３３の層厚をＴｄ、凸部４２の厚さをＺｄとすると、Ｔｄ≒Ｒｄ＋Ｚｄの関係が成り立つように設計している。ここでは、Ｔｄ＝約５．０μｍ、Ｒｄ＝約２．５μｍ、Ｚｄ＝約２．５μｍに設定している。アクティブマトリクス基板３１と対向基板３２との間に柱状スペーサ（図示せず）を介設する際に、反射領域Ｒに設ける場合はスペーサ高さを約２．５μｍとし、透過領域Ｔやゲートバスライン上、ソースバスライン上に設ける場合はスペーサ高さを約５．０μｍに設定する。球状スペーサを用いる場合は基板全面に散布するため、粒径が約２．５μｍのものを使用する。

図４および図５は、本実施例に係る液晶表示装置２９の光学特性に関するシミュレーション結果を示している。図４は光の波長と反射率との関係を表すグラフであり、図５は色再現性を表す色度グラフを示す。これらの結果から、本発明によれば反射率と色再現性において良好な表示が実現できることが確認された。

図６は第２実施形態を示す。
本実施形態に係る液晶表示装置６０の液晶パネル６１は、対向基板６３側の第１の着色層６５が透過領域Ｔを除いた領域に形成されている。また、アクティブマトリクス基板６２に形成された第２の着色層６４の膜厚は、対向基板６３に形成された第１の着色層６５の膜厚の約２倍にしている。例えば、第２の着色層６４の膜厚を約２．４μｍ、第１の着色層６５の膜厚を約１．２μｍとしている。また、第１の着色層６５の色素含有濃度と第２の着色層６４の色素含有濃度とは略同一としている。

反射領域Ｒでは外光が反射電極４６で反射して第１の着色層６５を２回通過して表示を行う一方、透過領域Ｔではバックライト（図示せず）からの光が第２の着色層６４のみを１回透過して表示を行うことになる。本実施形態では、第２の着色層６４の膜厚を第１の着色層６５の膜厚の約２倍にし、かつ、第１の着色層６５と第２の着色層６４の色素含有濃度が略同一とすることで、第２の着色層６４を１度通過したときの光透過率が、第１の着色層６５を２度通過したときの光透過率と略同一となる構成としているので、透過領域Ｔの色度特性と反射領域Ｒの色度特性を整合させることができる。
また、透過表示に寄与する第２の着色層６４と反射表示に寄与する第１の着色層６５とが異なる基板６２、６３に形成されるので、第２の着色層６４の端部６４ａと第１の着色層６５の端部６５ａとが接触して重なることもない。したがって、目的とする表示に寄与しない無効領域が生じず、有効表示領域の開口率が向上する。また、第２の着色層６４と第１の着色層６５とが別基板６２、６３に分けて形成されることで、プロセス工程が簡素化されて製造工数を低減することができる。なお、他の構成は第１実施形態と同様であるため同一符号を付して説明を省略する。

図７は第３実施形態を示す。
本実施形態に係る液晶表示装置７０の液晶パネル７１では、対向基板７３に形成された第１の着色層７５は反射領域Ｒでの膜厚よりも透過領域Ｔでの膜厚を大きくしている。また、アクティブマトリクス基板７２に形成された第２の着色層７４の色素含有濃度は、対向基板７３に形成された第１の着色層７５の色素含有濃度よりも小さくしている。該構成とすることで、観測者側からの外光が反射領域Ｒで第１の着色層７５を２回通過したときの透過率と、バックライト（図示せず）からの光が透過領域Ｔで第２の着色層７４および第１の着色層７５をそれぞれ１回通過したときの透過率とを略同一となる構成としている。
これにより、透過領域Ｔの色度特性と反射領域Ｒの色度特性を整合させることができる。また、色素含有濃度の異なる第２の着色層７４と第１の着色層７５とが別々の基板７２、７３に形成されるので、従来例のように第２の着色層７４と第１の着色層７５との境界で無効領域が発生するといったこともない。なお、他の構成は第１実施形態と同様であるため同一符号を付して説明を省略する。

本発明の第１実施形態の液晶表示装置の断面図である。 第１実施形態の液晶表示装置の模式的な平面図である。 図１の要部拡大図である。 反射率の計算結果を示すグラフである。 色再現性の計算結果を示すグラフである。 第２実施形態の液晶表示装置の断面図である。 第３実施形態の液晶表示装置の断面図である。 従来例を示す断面図である。 従来例のカラーフィルタ層を示す断面図である。 従来例の要部拡大図である。

符号の説明

２９、６０、７０ 液晶表示装置
３０、６１、７１ 液晶パネル
３１、６２、７２ アクティブマトリクス基板（第２の基板）
３２、６３、７３ 対向基板（第１の基板）
３３ 液晶層
３４、５０ 透明基板
３５ ＴＦＴ
３６ ゲート電極
３７ ゲート保護膜
３８ 半導体薄膜
３９ ストッパ
４０ ソース電極
４１ 層間絶縁膜
４２ 凸部
４２ａ 凹凸面
４３ ドレイン電極
４４、６４、７４ 第２の着色層
４５、５２ 透明電極
４６ 反射電極
４７、５３ １／４波長板
４８、５４ 偏光板
５１、６５、７５ 第１の着色層
Ｒ 反射領域
Ｔ 透過領域

Claims (6)

1. 第１の基板と、当該第１の基板に対向するように配置される第２の基板と、当該第１の基板と当該第２の基板との間に設けられる液晶層とを有する液晶表示装置であって、
   前記第１の基板の主面および第２の基板の主面において２次元状に並んだ状態で規定され、前記第１の基板側から前記液晶層に入射する光を当該第１の基板側に反射して映像を表示する複数の反射領域と、
   前記第１の基板の主面および前記第２の基板の主面において２次元状に並んだ状態で規定され、前記第２の基板側から前記液晶層に入射する光を当該第１の基板側へ透過して映像を表示する複数の透過領域とを備え、
   前記第１の基板は、所定の色の光を透過し、各前記反射領域に配置されて第１の着色層を含み、
   前記第２の基板は、所定の色の光を透過し、各前記反射領域と各前記透過領域との内、各当該透過領域のみに配置される第２の着色層を含む、液晶表示装置。
2. 前記第１の着色層は、前記第１の基板の前記透過領域にも配置されていることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 前記第１の着色層と前記第２の着色層とは、略同一の色素含有濃度を有し、かつ略同一の膜厚を有することを特徴とする、請求項２に記載の液晶表示装置。
4. 前記第２の基板の前記液晶層側における主面には、前記反射領域における前記液晶層の層厚が前記透過領域における前記液晶層の層厚よりも小さくなるように、凸部が形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。
5. 前記反射領域であって、かつ前記第２の基板の前記液晶層側における主面には、凹凸面が形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。
6. 前記第１の着色層および前記第２の着色層の構造は、前記第１の着色層を光が２度通過したときの光透過率と前記第２の着色層を１度通過したときの光透過率とが略同一となる構成であることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。

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