JP2006022360A - Partial plating device for electronic component - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、気密端子などの電子部品に部分めっきを施す装置および該装置を用いる部分めっき方法に関する。 The present invention relates to an apparatus for performing partial plating on an electronic component such as an airtight terminal and a partial plating method using the apparatus.
電子部品のめっき方法として最も一般的に利用されているのは、多数の電子部品を、電源の一方の極に電気的に接続している網篭に収容し、この電子部品を収容した網篭をめっき浴中に浸漬し、めっき浴中に別に用意した電極(前記電源の他方の極に電気的に接続している)と網篭との間に電位差を印加しながら、網篭を回転させる方法である「バレルめっき法」である。 The most commonly used method for plating electronic components is to accommodate a large number of electronic components in a mesh that is electrically connected to one pole of a power supply, and the mesh containing the electronic components. Is immersed in a plating bath, and the mesh cage is rotated while a potential difference is applied between the electrode prepared separately in the plating bath (electrically connected to the other electrode of the power source) and the mesh mesh. This is the “barrel plating method”.
バレルめっき法は、最も単純で、かつ安定しためっき層を電子部品に形成させることのできる方法であるが、一方では、いくつかの問題がある。まず、導電性部位が複数領域ある電子部品の特定の領域のみのめっき処理ができないことがあり、また多量のめっき液を必要とする点である。後者の点は、特に金めっきなどの貴金属めっきを行なう必要がある時に、特に問題となる。 The barrel plating method is the simplest method capable of forming an electronic component with a stable plating layer, but has several problems. First, there is a case where only a specific region of an electronic component having a plurality of conductive parts cannot be plated, and a large amount of plating solution is required. The latter point is particularly problematic when it is necessary to perform precious metal plating such as gold plating.
特許文献1には、気密端子の一方の側のリード部のみをバレル法によりめっき(部分めっき)するために、特別に用意した治具を用いて、非めっき部を保護しながらめっきする装置と方法が記載されている。 Patent Document 1 discloses an apparatus for plating while protecting a non-plated portion using a specially prepared jig in order to plate (partial plating) only a lead portion on one side of an airtight terminal by a barrel method. A method is described.
一方、バレル法ではなく、気密端子の一方の側のリード部のみをめっき処理する方法として、めっき浴に、めっき予定のリード部のみを接触させる方法があるが、この方法では、めっきの進行に伴い、リード部周囲のめっき浴組成が急激に変動するため、厚膜のめっき層の形成が必要な場合には、均一なめっき層の形成が難しいという問題がある。 On the other hand, instead of the barrel method, there is a method in which only the lead portion on one side of the hermetic terminal is plated, and only the lead portion to be plated is brought into contact with the plating bath. Along with this, the plating bath composition around the lead portion changes abruptly, so that it is difficult to form a uniform plating layer when it is necessary to form a thick plating layer.
上記の部分浸漬法を利用して、気密端子の一方の側のリード部のみを均一にめっきする方法としては、長尺のめっき浴を用意し、このめっき浴中でめっき液を長尺方向に沿って移動させ、かつめっき液に接触しているリード部を長尺方向に沿って、めっき液の移動方向と逆の方向に移動させる方法もある。しかしながら、この方法で、厚膜のめっき層を形成しようとすると、めっき層の長さが長大となり、めっき工場におけるめっき装置の配置が難しいという問題が発生する。
本発明は、電子部品に対して、特に厚膜の部分めっきを効率よく施すことを可能にする部分めっき装置を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a partial plating apparatus that can efficiently perform partial plating of a thick film on an electronic component.
本発明は、頂面と底面の双方にて開口した複数の筒状めっき液保持容器、各筒状めっき液保持容器の内部に備えられた一方の電極、該電極に電気的に接続された電源、各筒状めっき液保持装置の開口底面に接続するめっき液供給容器、筒状めっき保持装置の周囲に備えられためっき液回収容器、そして上記電源の他方の極に電気的に接続された電子部品仮保持具からなる電子部品の部分めっき装置にある。 The present invention includes a plurality of cylindrical plating solution holding containers opened on both the top surface and the bottom surface, one electrode provided in each cylindrical plating solution holding container, and a power source electrically connected to the electrodes A plating solution supply container connected to the bottom of each cylindrical plating solution holding device, a plating solution recovery container provided around the cylindrical plating holding device, and an electron electrically connected to the other electrode of the power source. It is in the partial plating apparatus of the electronic component which consists of a component temporary holder.
本発明の部分めっき装置の好ましい構成を次に記載する。
(1)複数の筒状めっき液保持容器が、めっき液回収容器を介して直列に並べられている。
(2)複数の筒状めっき液保持容器が、めっき液回収容器を介して直列に、かつ円弧状に並べられている。
(3)電源が、パルス電流を発生させることのできる電源である。
(4)筒状めっき液保持容器の各々に開口底面に接続するめっき液供給容器が互いに接続している。
(5)各筒状めっき保持装置の周囲に備えられた各々のめっき液回収容器が互いに接続している。
A preferred configuration of the partial plating apparatus of the present invention will be described below.
(1) A plurality of cylindrical plating solution holding containers are arranged in series via the plating solution recovery container.
(2) A plurality of cylindrical plating solution holding containers are arranged in series and arcuately via the plating solution recovery container.
(3) The power source is a power source capable of generating a pulse current.
(4) A plating solution supply container connected to the bottom of the opening is connected to each of the cylindrical plating solution holding containers.
(5) The respective plating solution recovery containers provided around each cylindrical plating holding device are connected to each other.
本発明はまた、上記の本発明の部分めっき装置を用意する工程;部分めっきの対象の電子部品のめっき予定部位と電気的に接続している導電性部位に電子部品仮保持具を接続して、電子部品を仮支持する工程;めっき液供給容器より、複数の筒状めっき液保持容器に、その底部から、めっき液を、該保持容器開口頂部にてめっき液を表面張力により盛り上がるように維持しながら供給し、次いで該めっき液をめっき液回収容器に流入させる工程;電子部品のめっき予定部位のみを、第一の筒状めっき液保持容器内のめっき液に接触させ、上記電子部品仮保持具と筒状めっき液保持用具の内部に備えられた電極との間に電位差を印加して、該電子部品のめっき液接触部位に第一次のめっき処理を施す工程;該電子部品を該めっき液保持容器より取り出す工程;次いで上記工程で第一次のめっき処理が施された電子部品を第二の筒状めっき液保持容器内のめっき液に接触させ、該電子部品の第一次のめっき処理が施された部位に同様にして第二次のめっき処理を施す工程;さらにこのめっき処理工程を所望回数繰り返す工程;複数回の部分めっき処理を施した電子部品のめっき処理部位を洗浄し、乾燥する工程からなる電子部品の部分めっき方法にもある。 The present invention is also a step of preparing the partial plating apparatus of the present invention described above; an electronic component temporary holder is connected to a conductive portion electrically connected to a planned plating portion of an electronic component to be partially plated. , A step of temporarily supporting electronic components; from a plating solution supply container to a plurality of cylindrical plating solution holding containers, and maintaining the plating solution from the bottom so that the plating solution rises due to surface tension at the top of the holding container opening Supplying the plating solution to the plating solution recovery container; bringing only the planned plating part of the electronic component into contact with the plating solution in the first cylindrical plating solution holding container, and temporarily holding the electronic component Applying a potential difference between the tool and an electrode provided inside the cylindrical plating solution holding tool to subject the plating component contact portion of the electronic component to a primary plating treatment; From liquid holding container Next, the electronic component subjected to the first plating process in the above step is brought into contact with the plating solution in the second cylindrical plating solution holding container, and the first plating process of the electronic component is performed. A step of performing a second plating process in the same manner on the formed portion; a step of repeating this plating step a desired number of times; a step of washing and drying a plating portion of an electronic component that has been subjected to a plurality of partial plating treatments There is also a method for partial plating of electronic parts comprising:
本発明の部分めっき装置を用いることにより、比較的コンパクトなめっき装置にて、各種の電子部品に対して、厚膜の部分めっきを効率よく施すことが可能になる。 By using the partial plating apparatus of the present invention, it is possible to efficiently perform partial plating of thick films on various electronic components with a relatively compact plating apparatus.
本発明の部分めっき装置について、添付図面を参照しながら詳しく説明する。 The partial plating apparatus of this invention is demonstrated in detail, referring an accompanying drawing.
図1は、本発明の部分めっき装置を利用してめっき処理する対象の代表的な電子部品である気密端子のステム(ステム部分)の構成を示す斜視図である。図1において、ステム1は、気密容器部(図示せず)とはめ合わされて気密容器を形成する台座部11と上側リード部12a、12b、そして上側リード部12a、12bに各々電気的に接続している下側リード部13a、13b、そして絶縁材料部14a、14bから構成されている。なお、本発明の部分めっきの対象となる電子部品は、図1に示すようなステム(部分)に限られるものではなく、ひとつの部品内にめっき対象導電性部位と非めっき対象導電性部位とが存在し、それらの部位が電気的に接続している電子部品であれば、特に制限はない。
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a stem (stem portion) of an airtight terminal which is a representative electronic component to be plated using the partial plating apparatus of the present invention. In FIG. 1, a stem 1 is electrically connected to a pedestal portion 11,
図2は、図1の気密端子を用いた自動車搭載エアバックの膨張を発生させるための起爆装置の構成の例を示す断面図である。図2において、図1で説明したステムの上側リード部12aと12bの間にはニクロム線のような通電発熱体15が架けられる。そして、台座部11の上部に火薬16が充填された状態で、台座部11に、気密容器17がはめ合わされる。すなわち、下側リード部13aと13bとの間に電流が流れると、通電発熱体15が発熱して、火薬16が発火して、気密容器17を爆破し、気密容器の周囲に装着されているエアバック(図示せず)を急速に膨張させることができる。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of a detonator for generating expansion of an automobile-mounted airbag using the airtight terminal of FIG. In FIG. 2, an
図3は、本発明の部分めっき装置と、このめっき装置を利用する部分めっき作業を説明する模式図である。
本発明のめっき装置は、頂面と底面の双方にて開口した複数の筒状めっき液保持容器31a、31b、31c、各筒状めっき液保持容器の内部に備えられた一方の電極32a、32b、32c、該電極に同一の極にて電気的に接続された電源33a、33b、33c、各筒状めっき液保持装置の開口底面に接続するめっき液供給容器34、筒状めっき保持装置の周囲に備えられためっき液回収容器35、そして上記電源33a、33b、33cの他方の極に電気的に接続された電子部品仮保持具36a、36b、36cから構成されている。電源は、各めっき液保持容器毎に独立に用意する必要はなく、共通の電源を切り換え式で使用してもよい。また、めっき液供給容器、そしてめっき液回収容器は、各めっき液保持容器に対して、ひとつずつ用意してもよい。めっき液供給容器34は通常、めっき液供給源(図示せず)に接続しており、まためっき液回収容器35も通常は、別に用意するめっき液溜め(図示せず)に接続している。
FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a partial plating apparatus of the present invention and a partial plating operation using the plating apparatus.
The plating apparatus of the present invention includes a plurality of cylindrical plating
次に、図3に示した部分めっき装置を用いて、図1に示したステムの下側リード13a、13bにめっきを施す操作について説明する。
Next, an operation for plating the
まず、図3の部分めっき装置を用意し、部分めっきの対象のステム1のめっき予定部位(下側リード部)と電気的に接続している導電性部位(上側リード部)に電子部品仮保持具36aを接続して、電子部品を仮保持する。この仮保持と同時、あるいは前後して、めっき液供給容器34より、筒状めっき液保持容器31aに、その底部から、めっき液を、該保持容器開口頂部にてめっき液を表面張力により盛り上がるように維持しながら供給し、次いで該めっき液をめっき液回収容器35に流入させる。なお、めっき液供給容器は通常、各円筒状めっき液保持容器の底部に連結しているため、各円筒状めっき液保持容器31a、31b、31cには同時にめっき液が供給される。そして、めっき液は、円筒状めっき液保持容器内を上昇し、該円筒状容器の頂面にて表面張力により中央で盛り上がった状態を維持しながらあふれ出て、円筒状容器の周囲に設けられているめっき液回収容器35に流れ込む。
First, the partial plating apparatus shown in FIG. 3 is prepared, and electronic parts are temporarily held in a conductive portion (upper lead portion) electrically connected to a plating scheduled portion (lower lead portion) of the stem 1 to be partially plated. The
円筒状容器内のめっき液が上記の状態にある段階で、電子部品仮保持具36aで接続され、仮保持されているステムの下側リード部をめっき液の頂部から差し入れ、図3に示されているように、その下側リード部の略全体をめっき液に接触させる。そして、この状態で、電子部品仮保持具36aと筒状めっき液保持用具の内部に備えられた電極32aとの間に電位差をパルス的に印加して、該電子部品のめっき液接触部位(下側リード部)に第一次のめっき処理(通常は、1〜5秒間)を施し、その後、該電子部品を該めっき液保持容器より取り出す。次いで、上記工程で第一次のめっき処理が施された電子部品を第二の筒状めっき液保持容器内のめっき液に接触させ、該電子部品の第一次のめっき処理が施された部位に同様にして第二次のめっき処理を施す。さらに、必要に応じて、このめっき処理工程を所望回数繰り返し、このようにして複数回の部分めっき処理を施す。その後、電子部品のめっき処理部位を洗浄し、最後に乾燥を行なって電子部品の部分めっきを完了する。
At the stage where the plating solution in the cylindrical container is in the above state, the lower lead portion of the stem which is connected by the electronic component
本発明の部分めっき装置において、円筒状めっき液保持容器(めっき浴)は、二個以上用いるが、厚いめっき層を形成させるためには、4〜8個程度の円筒状めっき液保持容器を直列で図3のように、めっき液回収容器を介して直列に配列して用いることが望ましい。 In the partial plating apparatus of the present invention, two or more cylindrical plating solution holding containers (plating baths) are used. In order to form a thick plating layer, about 4 to 8 cylindrical plating solution holding containers are connected in series. Thus, as shown in FIG. 3, it is desirable to use them arranged in series via a plating solution recovery container.
図4は、5の円筒状めっき液保持容器31a、31b、31c、31d、31eを直列に、円弧状に配置して構成した部分めっき装置の構成を示す平面図である。なお、電子部品のめっき処理を行なう場合には通常、めっき処理を行なう前に、まず前処理(洗浄、脱脂、酸処理など)を行ない、まためっき処理の終了後には、洗浄(水洗浄、純水洗浄)と乾燥が行なわれる。従って、図4のめっき装置では、前処理部37、38、そして後処理部39が設けられている。矢印は、それぞれ電子部品の供給位置と排出位置を示している。図4の直列かつ円弧状に配置した円筒状めっき液保持容器の個数は、二個以上であれば特に制限はなく、また前処理部と後処理部の個数についても特に制限はない。
FIG. 4 is a plan view showing a configuration of a partial plating apparatus in which five cylindrical plating
1 ステム
11 台座部
12a,12b 上側リード部
13a,13b 下側リード部
14a,14b 絶縁材料部
15 通電発熱体(ニクロム線)
16 火薬
17 気密容器
31a,31b,31c 円筒状めっき液保持容器
32a,32b,32c 電極
33a,33b,33c 電源
34 めっき液供給容器
35 めっき液回収容器
36a,36b,36c 電子部品仮保持具
37,38 前処理部
39 後処理部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Stem 11
16
Claims (6)
A step of preparing a partial plating apparatus for an electronic component according to any one of claims 1 to 5; an electron in a conductive portion electrically connected to a planned plating portion of an electronic component to be partially plated A step of temporarily holding an electronic component by connecting a component temporary holder; from a plating solution supply container to a plurality of cylindrical plating solution holding containers, and from the bottom of the plating solution, a plating solution at the top of the holding container opening The step of supplying the plating solution to the plating solution recovery container while maintaining the surface so as to rise due to the surface tension; the plating solution in the first cylindrical plating solution holding container is used only for the planned plating portion of the electronic component. Applying a potential difference between the electronic component temporary holding tool and the electrode provided inside the cylindrical plating solution holding tool to perform a first plating process on the plating solution contact portion of the electronic component Step; the electronic component Step of removing from the plating solution holding container; Next, the electronic component subjected to the first plating process in the above step is brought into contact with the plating solution in the second cylindrical plating solution holding container to A step of performing the second plating process in the same manner on the portion subjected to the plating treatment; a step of repeating this plating treatment step as many times as desired; and washing a plating treatment portion of an electronic component that has been subjected to a plurality of partial plating treatments And a method for partially plating electronic parts comprising a drying step.
Priority Applications (1)
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