JP2006012987A - Manufacturing method of printed-wiring board - Google Patents

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Tatsunori Shinoda
辰規 篠田
Masateru Ichikawa
雅照 市川
Shoji Mimura
彰治 味村
Shuichi Sugiyama
秀一 杉山
Tomomitsu Senso
智充 千艘
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a printed-wiring circuit capable of improving migration resistance particularly in a flexible printed circuit regarding a printed circuit with a circuit pattern in which electronic parts are mounted. <P>SOLUTION: A circuit pattern 2 composed of a conductive material is formed on the surface of an insulating base material 1a composed of an insulating material. On the surface of the circuit pattern 2, an oxide film 2a is formed by thermal oxidation processing. On this circuit pattern 2, the press cure of a cover layer 3 composed of an adhesive-bond layer 3a and an insulating layer 3b is carried out for constituting a flexible printed circuit. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、電子部品が実装される回路パターンを有するプリント配線板の製造方法に関し、特に、フレキシブルプリント回路における耐マイグレーション性の向上に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board having a circuit pattern on which an electronic component is mounted, and particularly relates to improvement of migration resistance in a flexible printed circuit.

従来、プリント配線板を用いた電子回路として、FPC(フレキシブルプリント回路)が知られている。このFPCは、図3に示すように、概略、CCL(Copper Clad Lamination:銅貼積層板)101をエッチング処理することにより、回路パターン102を形成し、次に、この回路パターン付きCCL201上に、カバー層(CL:Cover Lay)103を圧着(プレスキュア)することによって作製される。   Conventionally, FPC (flexible printed circuit) is known as an electronic circuit using a printed wiring board. As shown in FIG. 3, the FPC roughly forms a circuit pattern 102 by etching a CCL (Copper Clad Lamination) 101, and then, on the CCL 201 with the circuit pattern, The cover layer (CL: Cover Lay) 103 is produced by pressure bonding (press cure).

前記CCLは、ポリイミド樹脂の如き絶縁材料からなる絶縁基材101aと、この絶縁基材101aの表面上に形成され回路パターン102となる銅の如き導電材料層101bとの二層構造となっている。このCCL101は、絶縁基材101a・導電材料層101b間に接着剤層(図3において図示せず)が介在された三層構造のものも使用される。   The CCL has a two-layer structure of an insulating base material 101a made of an insulating material such as polyimide resin and a conductive material layer 101b such as copper which is formed on the surface of the insulating base material 101a and becomes a circuit pattern 102. . The CCL 101 may also have a three-layer structure in which an adhesive layer (not shown in FIG. 3) is interposed between the insulating base material 101a and the conductive material layer 101b.

カバー層103は、接着剤層103aと、ポリイミド樹脂の如き絶縁材料からなる絶縁層103bとから構成されている。このカバー層103は、接着剤層103a側を回路パターン102側として、回路パターン付きCCL201に接合される。   The cover layer 103 includes an adhesive layer 103a and an insulating layer 103b made of an insulating material such as polyimide resin. The cover layer 103 is bonded to the CCL 201 with a circuit pattern with the adhesive layer 103a side as the circuit pattern 102 side.

すなわち、このフレキシブルプリント回路は、絶縁基材101a及び絶縁層103bの間に接着剤層103aが挟まれ、この接着剤層103a中に回路パターン102が埋設された状態に構成される。   That is, the flexible printed circuit is configured such that the adhesive layer 103a is sandwiched between the insulating base material 101a and the insulating layer 103b, and the circuit pattern 102 is embedded in the adhesive layer 103a.

さらに、このようなフレキシブルプリント回路の両面側に、リジットプリント回路(RPC)を積層させて接合することによって、多層プリント回路であるリジット−フレックスプリント回路(R−F)が作製されている。   Further, a rigid-print circuit (R-F), which is a multilayer printed circuit, is manufactured by laminating and bonding a rigid print circuit (RPC) on both sides of such a flexible printed circuit.

ところで、このようなプリント配線板においては、回路パターン102に対する電圧の印加及び接着剤層103a中における水分の存在により、イオンマイグレーション(以下、「マイグレーション」という。)が発生することが問題となる。   By the way, in such a printed wiring board, the problem is that ion migration (hereinafter referred to as “migration”) occurs due to the application of voltage to the circuit pattern 102 and the presence of moisture in the adhesive layer 103a.

このマイグレーションとは、回路パターン102をなす金属材料が、絶縁層である接着剤層103a中に移行する現象である。すなわち、回路パターン102における+極において、この回路パターン102をなす金属材料が接着剤層103a中にイオン化し、イオン化した金属材料が、回路パターン102における−極において析出する。この析出現象が進展し、析出した金属材料が+極にまで達すると、回路パターン102における+極と−極との間の絶縁破壊が起こる。   This migration is a phenomenon in which the metal material forming the circuit pattern 102 moves into the adhesive layer 103a that is an insulating layer. That is, the metal material forming the circuit pattern 102 is ionized in the adhesive layer 103 a at the + pole in the circuit pattern 102, and the ionized metal material is deposited at the − pole in the circuit pattern 102. When this precipitation phenomenon progresses and the deposited metal material reaches the positive electrode, dielectric breakdown occurs between the positive electrode and the negative electrode in the circuit pattern 102.

特に、リジット−フレックスプリント回路において内層部分となるフレキシブルプリント回路においては、フレキシブルプリント回路を単体で用いる場合よりも、析出の進展が早いことが問題となっている。   In particular, in a flexible printed circuit that is an inner layer portion of a rigid-flex printed circuit, the problem is that the progress of precipitation is faster than when the flexible printed circuit is used alone.

従来、リジット−フレックスプリント回路の如き多層プリント回路においては、特許文献1及び特許文献2に記載されているように、回路パターン102と接着剤層103aとの密着性の向上や、耐マイグレーション性の向上などの目的で、回路パターン102の表面部に酸化膜を形成することが提案されている。この酸化膜の存在により、回路パターン102における+極での金属材料の溶解が抑制され、マイグレーションを抑制することができると考えられる。   Conventionally, in a multilayer printed circuit such as a rigid-flex printed circuit, as described in Patent Document 1 and Patent Document 2, the adhesion between the circuit pattern 102 and the adhesive layer 103a is improved, and migration resistance is improved. For the purpose of improvement or the like, it has been proposed to form an oxide film on the surface portion of the circuit pattern 102. It is considered that the presence of this oxide film suppresses the dissolution of the metal material at the positive electrode in the circuit pattern 102 and can suppress migration.

このような酸化膜は、回路パターン付きCCL201にカバー層103を圧着する前に、亜塩素酸ナトリウムや水酸化ナトリウムなどを含むアルカリ性水溶液中に、回路パターン付きCCL201を浸漬することによって作製されている。
特開平8−204336号公報 特開平11−354923号公報
Such an oxide film is produced by immersing the CCL 201 with a circuit pattern in an alkaline aqueous solution containing sodium chlorite or sodium hydroxide before the cover layer 103 is pressure-bonded to the CCL 201 with a circuit pattern. .
JP-A-8-204336 JP-A-11-354923

しかし、前述のようなフレキシブルプリント回路においては、回路パターン付きCCL201をアルカリ性水溶液中に浸漬すると、このアルカリ性水溶液のpHによっては、ポリイミド樹脂などからなる回路パターン付きCCL201の絶縁基材101aや、前記絶縁基材101a・回路パターン102間の接着剤層(図3において図示せず)がアルカリ性水溶液によって冒されてしまう可能性がある。これら絶縁基材101aや接着剤層が冒されてしまうと、これら絶縁基材101a等に穴が空いてしまうなどの虞れがある。したがって、これら絶縁基材101a等がアルカリ性水溶液によって冒されてしまうと、フレキシブルプリント回路を構成することができなくなってしまう。   However, in the above-described flexible printed circuit, when the CCL 201 with a circuit pattern is immersed in an alkaline aqueous solution, depending on the pH of the alkaline aqueous solution, the insulating substrate 101a of the CCL 201 with a circuit pattern made of polyimide resin or the like, There is a possibility that the adhesive layer (not shown in FIG. 3) between the substrate 101a and the circuit pattern 102 is affected by the alkaline aqueous solution. If the insulating base material 101a or the adhesive layer is affected, there is a possibility that a hole is formed in the insulating base material 101a or the like. Therefore, if these insulating base materials 101a and the like are affected by the alkaline aqueous solution, a flexible printed circuit cannot be configured.

また、アルカリ性水溶液によって回路パターン表面の酸化を行った場合には、マイグレーションを十分に抑制することができないことがわかった。   It was also found that migration could not be sufficiently suppressed when the circuit pattern surface was oxidized with an alkaline aqueous solution.

したがって、フレキシブルプリント回路においては、回路パターン102の表面部の酸化膜を、アルカリ性水溶液を用いて形成することは適当ではない。   Therefore, in a flexible printed circuit, it is not appropriate to form an oxide film on the surface portion of the circuit pattern 102 using an alkaline aqueous solution.

そこで、本発明の目的は、電子部品が実装される回路パターンを有するプリント配線板、特に、フレキシブルプリント回路において、絶縁基材や接着剤層を冒すことなく、耐マイグレーション性を向上させることができるプリント配線板の製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to improve migration resistance without affecting an insulating base material or an adhesive layer in a printed wiring board having a circuit pattern on which an electronic component is mounted, particularly a flexible printed circuit. It is in providing the manufacturing method of a printed wiring board.

本発明者らは、CCLにおいて回路パターンを形成した後に、この回路パターンの表面部において、熱酸化によって酸化膜を形成することより、前記課題が解決できるという知見を得た。   The present inventors have found that the above problem can be solved by forming an oxide film by thermal oxidation on the surface portion of the circuit pattern after forming the circuit pattern in the CCL.

熱酸化によって酸化膜を形成すれぱ、CCLにおける絶縁基材や、この絶縁基材及び回路パターンの間の接着剤層が冒されることがなく、回路パターンの表面部に良好な酸化膜を形成することができる。   When an oxide film is formed by thermal oxidation, the insulating base material in CCL and the adhesive layer between the insulating base material and the circuit pattern are not affected, and a good oxide film is formed on the surface portion of the circuit pattern. can do.

そして、このような酸化膜の存在によって、回路パターンにおける+極での金属材料の溶解が抑制され、マイグレーションが抑制されると考えられる。   And, it is considered that the presence of such an oxide film suppresses the dissolution of the metal material at the positive electrode in the circuit pattern and suppresses migration.

絶縁基材上に回路パターンが形成された二層構造のCCLにおいては、熱酸化を行うための温度は、140°C乃至300°C、処理時間は、30分以上が望ましい。140°C以下、または、30分未満の処理では、十分な酸化膜が形成されず、300°Cより高温の処理では、ポリイミドなどからなる絶縁基材の熱劣化により、フレキシブルプリント回路が製造できなくなってしまうからである。   In a CCL having a two-layer structure in which a circuit pattern is formed on an insulating substrate, the temperature for performing thermal oxidation is preferably 140 ° C. to 300 ° C., and the treatment time is preferably 30 minutes or more. When the treatment is performed at 140 ° C. or lower or less than 30 minutes, a sufficient oxide film is not formed, and when the treatment is performed at a temperature higher than 300 ° C., a flexible printed circuit can be manufactured due to thermal deterioration of an insulating substrate made of polyimide or the like. Because it will disappear.

また、絶縁基材上に接着剤層を介して回路パターンが形成された三層構造のCCLにおいては、熱酸化を行うための温度は、140°C乃至200°C、処理時間は、30分以上が望ましい。140°C以下、または、30分未満の処理では、十分な酸化膜が形成されず、200°Cより高温の処理では、絶縁基材と回路パターンとの間の接着剤層の熱劣化が生じ、また、接着剤層中の難燃剤が反応することによって、カバー層の接着剤層に対する密着性の低下が起こってしまうからである。   In the CCL having a three-layer structure in which a circuit pattern is formed on an insulating substrate via an adhesive layer, the temperature for performing thermal oxidation is 140 ° C. to 200 ° C., and the processing time is 30 minutes. The above is desirable. When the treatment is performed at 140 ° C. or less or for less than 30 minutes, a sufficient oxide film is not formed. When the treatment is performed at a temperature higher than 200 ° C., the adhesive layer between the insulating substrate and the circuit pattern is thermally deteriorated. Moreover, it is because the adhesiveness of the cover layer to the adhesive layer is lowered by the reaction of the flame retardant in the adhesive layer.

したがって、本発明に係るプリント配線板の製造方法は、以下の構成の少なくとも一つを備えるものである。   Therefore, the printed wiring board manufacturing method according to the present invention includes at least one of the following configurations.

〔構成1〕
本発明に係るプリント配線板の製造方法は、絶縁材料からなる絶縁基材の表面上に導電材料からなる回路パターンを形成し、回路パターンの表面上に熱酸化処理によって酸化膜を形成することを特徴とするものである。
[Configuration 1]
The method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention includes forming a circuit pattern made of a conductive material on a surface of an insulating base material made of an insulating material, and forming an oxide film on the surface of the circuit pattern by thermal oxidation treatment. It is a feature.

〔構成2〕
本発明は、構成1を有するプリント配線板の製造方法において、酸化膜を形成するための熱酸化処理は、回路パターンを140°C乃至300°Cに加熱することによって行うことを特徴とするものである。
[Configuration 2]
The present invention is a method for manufacturing a printed wiring board having Configuration 1, wherein the thermal oxidation treatment for forming an oxide film is performed by heating a circuit pattern to 140 ° C. to 300 ° C. It is.

〔構成3〕
本発明に係るプリント配線板の製造方法は、絶縁材料からなる絶縁基材の表面上に接着剤層を形成し、この接着剤層上に導電材料からなる回路パターンを形成し、この回路パターンの表面上に熱酸化処理によって酸化膜を形成することを特徴とするものである。
[Configuration 3]
In the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, an adhesive layer is formed on the surface of an insulating substrate made of an insulating material, a circuit pattern made of a conductive material is formed on the adhesive layer, and the circuit pattern An oxide film is formed on the surface by thermal oxidation treatment.

〔構成4〕
本発明は、構成3を有するプリント配線板の製造方法において、酸化膜を形成するための熱酸化処理は、回路パターンを140°C乃至200°Cに加熱することによって行うことを特徴とするものである。
[Configuration 4]
The present invention is a method of manufacturing a printed wiring board having Configuration 3, wherein the thermal oxidation treatment for forming the oxide film is performed by heating the circuit pattern to 140 ° C. to 200 ° C. It is.

〔構成5〕
本発明は、構成1乃至構成4のいずれか一を有するプリント配線板の製造方法において、酸化膜が形成された回路パターンの表面上に、接着剤層及び絶縁層からなるカバー層を形成することを特徴とするものである。
[Configuration 5]
The present invention provides a method for manufacturing a printed wiring board having any one of configurations 1 to 4, wherein a cover layer including an adhesive layer and an insulating layer is formed on a surface of a circuit pattern on which an oxide film is formed. It is characterized by.

〔構成6〕
本発明に係るプリント配線板の製造方法は、構成5記載のプリント配線板の製造方法により製造されたプリント配線板を内層として使用し、このプリント配線板の両面側にリジットプリント配線板を積層させて、リジット−フレックスプリント基板とすることを特徴とするものである。
[Configuration 6]
A printed wiring board manufacturing method according to the present invention uses a printed wiring board manufactured by the printed wiring board manufacturing method described in Structure 5 as an inner layer, and laminates a rigid printed wiring board on both sides of the printed wiring board. And a rigid-flex printed circuit board.

本発明に係るプリント配線板の製造方法においては、回路パターンの表面上に、熱酸化処理によって酸化膜が形成される。この酸化膜は、絶縁基材や接着剤層を破壊したり、これら絶縁基材や接着剤層の特性を損なうことなく、良好に形成することができる。   In the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, an oxide film is formed on the surface of the circuit pattern by thermal oxidation. This oxide film can be satisfactorily formed without destroying the insulating base material or the adhesive layer or damaging the characteristics of the insulating base material or the adhesive layer.

すなわち、本発明は、電子部品が実装される回路パターンを有するプリント配線板、特に、フレキシブルプリント回路において、耐マイグレーション性を向上させることができるプリント配線板の製造方法を提供することができるものである。   That is, this invention can provide the manufacturing method of the printed wiring board which can improve migration resistance in the printed wiring board which has a circuit pattern in which an electronic component is mounted especially a flexible printed circuit. is there.

また、本発明は、プリント配線板、特に、フレキシブルプリント回路であって、耐マイグレーション性が向上されたプリント配線板を提供することができるものである。   In addition, the present invention can provide a printed wiring board, particularly a flexible printed circuit, which can provide a printed wiring board with improved migration resistance.

以下、本発明を実施するための最良の形態について図面を参照して説明する。   The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.

この実施の形態は、本発明に係るプリント配線板の製造方法を、いわゆるフレキシブルプリント回路(FPC)の製造方法としたものである。   In this embodiment, the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention is a so-called flexible printed circuit (FPC) manufacturing method.

図1は、本発明に係るプリント配線板の製造方法の第1の実施形態を示す工程図である。   FIG. 1 is a process diagram showing a first embodiment of a method for producing a printed wiring board according to the present invention.

このプリント配線板の製造方法においては、図1に示すように、まず、CCL(Copper Clad Lamination:銅貼積層板)1をエッチング処理することにより、このCCL1において所定の回路パターン2を形成する。この回路パターン付きCCL31は、ポリイミド樹脂の如き絶縁材料からなる絶縁基材1aと、この絶縁基材1aの表面上に形成され回路パターン2となる銅の如き導電材料層1bとから、二層構造として構成されている。   In this printed wiring board manufacturing method, as shown in FIG. 1, first, a predetermined circuit pattern 2 is formed in the CCL 1 by etching a CCL (Copper Clad Lamination) 1. This CCL 31 with a circuit pattern is composed of an insulating base material 1a made of an insulating material such as a polyimide resin, and a conductive material layer 1b such as copper which is formed on the surface of the insulating base material 1a and becomes a circuit pattern 2. It is configured as.

そして、回路パターン2の表面上に、熱酸化処理によって、酸化膜2aを形成する。この熱酸化処理は、回路パターン2を140°C乃至300°Cに30分以上に亘って加熱することによって行うことが望ましい。   Then, an oxide film 2a is formed on the surface of the circuit pattern 2 by thermal oxidation treatment. This thermal oxidation treatment is desirably performed by heating the circuit pattern 2 to 140 ° C. to 300 ° C. for 30 minutes or more.

次に、この回路パターン付きCCL31上に、カバー層(CL:Cover Lay)3を圧着(プレスキュア)する。カバー層3は、接着剤層3aと、ポリイミド樹脂の如き絶縁材料からなる絶縁層3bとから構成されている。このカバー層3は、接着剤層3a側を回路パターン2側として、回路パターン付きCCL31に接合する。   Next, a cover layer (CL: Cover Lay) 3 is pressure-bonded (press cured) on the CCL 31 with a circuit pattern. The cover layer 3 is composed of an adhesive layer 3a and an insulating layer 3b made of an insulating material such as polyimide resin. The cover layer 3 is bonded to the CCL 31 with a circuit pattern with the adhesive layer 3a side as the circuit pattern 2 side.

このようにして、絶縁基材1a及び絶縁層3bの間に接着剤層3aが挟まれ、この接着剤層3a中に回路パターン2が埋設された状態のフレキシブルプリント回路が構成される。   Thus, the flexible printed circuit in which the adhesive layer 3a is sandwiched between the insulating substrate 1a and the insulating layer 3b and the circuit pattern 2 is embedded in the adhesive layer 3a is configured.

さらに、このようなフレキシブルプリント回路の両面側に、リジットプリント回路(RPC)4,4を積層させて接合することによって、多層プリント回路であるリジット−フレックスプリント回路(R−F)が作製される。   Furthermore, a rigid-flex printed circuit (R-F), which is a multilayer printed circuit, is produced by laminating and bonding rigid printed circuits (RPC) 4, 4 on both sides of such a flexible printed circuit. .

図2は、本発明に係るプリント配線板の製造方法の第2の実施形態を示す工程図である。   FIG. 2 is a process diagram showing a second embodiment of a method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.

このプリント配線板の製造方法においては、図2に示すように、ポリイミド樹脂の如き絶縁材料からなる絶縁基材11aと、この絶縁基材11aの表面上に形成され回路パターン12となる銅の如き導電材料層11bと、絶縁基材11a・導電材料層11b間に介在された接着剤層11cとから、三層構造として構成されたCCL11を用いて、フレキシブルプリント回路として構成する。   In this printed wiring board manufacturing method, as shown in FIG. 2, an insulating base material 11a made of an insulating material such as a polyimide resin, and copper or the like which is formed on the surface of the insulating base material 11a and becomes a circuit pattern 12 are used. The conductive material layer 11b and the adhesive layer 11c interposed between the insulating base material 11a and the conductive material layer 11b are used to form a flexible printed circuit using the CCL 11 configured as a three-layer structure.

この方法においても、CCL11をエッチング処理することにより、このCCL11において所定の回路パターン12を形成し、回路パターン付きCCL51を構成する。   Also in this method, the CCL 11 is etched, thereby forming a predetermined circuit pattern 12 in the CCL 11 and configuring the CCL 51 with a circuit pattern.

そして、回路パターン12の表面上に、熱酸化処理によって、酸化膜12aを形成する。この熱酸化処理は、回路パターン2を140°C乃至200°Cに30分以上に亘って加熱することによって行うことが望ましい。   Then, an oxide film 12a is formed on the surface of the circuit pattern 12 by thermal oxidation treatment. This thermal oxidation treatment is desirably performed by heating the circuit pattern 2 to 140 ° C. to 200 ° C. for 30 minutes or more.

次に、この回路パターン付きCCL51上に、カバー層(CL:Cover Lay)3を圧着(プレスキュア)する。カバー層3は、接着剤層3aと、ポリイミド樹脂の如き絶縁材料からなる絶縁層3bとから構成されている。このカバー層3は、接着剤層3a側を回路パターン12側として、回路パターン付きCCL51に接合する。   Next, a cover layer (CL: Cover Lay) 3 is pressure-bonded (press cured) on the CCL 51 with a circuit pattern. The cover layer 3 is composed of an adhesive layer 3a and an insulating layer 3b made of an insulating material such as polyimide resin. The cover layer 3 is bonded to the CCL 51 with a circuit pattern with the adhesive layer 3a side as the circuit pattern 12 side.

このようにして、絶縁基材11a及び絶縁層3bの間に接着剤層3aが挟まれ、この接着剤層3a中に回路パターン12が埋設された状態のフレキシブルプリント回路が構成される。   Thus, the flexible printed circuit in which the adhesive layer 3a is sandwiched between the insulating substrate 11a and the insulating layer 3b and the circuit pattern 12 is embedded in the adhesive layer 3a is configured.

さらに、このようなフレキシブルプリント回路の両面側に、リジットプリント回路4,4を積層させて接合することによって、多層プリント回路であるリジット−フレックスプリント回路が作製される。   Furthermore, the rigid-print circuit which is a multilayer printed circuit is produced by laminating and bonding the rigid printed circuits 4 and 4 on both sides of such a flexible printed circuit.

以下、本発明に係るプリント配線板の製造方法についての実施例及び比較例を挙げる。   Hereinafter, the Example and comparative example about the manufacturing method of the printed wiring board concerning this invention are given.

絶縁基材としては、ポリイミドフィルムである「カプトンEN」(商品名:東レデュポン社製)を使用した。   As the insulating substrate, “Kapton EN” (trade name: manufactured by Toray DuPont), which is a polyimide film, was used.

〔二層構造CCLの実施例〕
ポリイミド上に接着剤を用いないで銅箔を積層した二層構造のCCLに、〔L/S〕=80/80μm(回路幅と回路間隔がともに80μm)の櫛歯回路パターンを形成した。その後、熱酸化処理として、以下の〔表1〕に示すように、実施例1乃至実施例6の各実施例ごとに異なる処理温度において異なる処理時間に亘って保持し、回路パターンの表面部に酸化膜を形成した。
[Example of a two-layer structure CCL]
A comb circuit pattern of [L / S] = 80/80 μm (both the circuit width and the circuit interval were 80 μm) was formed on a CCL having a two-layer structure in which a copper foil was laminated without using an adhesive on polyimide. After that, as shown in the following [Table 1], as the thermal oxidation treatment, it is held for different treatment times at different treatment temperatures for each of Examples 1 to 6, and is applied to the surface portion of the circuit pattern. An oxide film was formed.

これら各実施例のCCLにカバー層をプレスキュアすることによって、フレキシブルプリント回路を作成した。カバー層としては、実験的に、マイグレーションが起こり易い接着剤からなるものを使用した。   A flexible printed circuit was prepared by precuring the cover layer on the CCL of each of these examples. As the cover layer, an experimentally formed layer made of an adhesive that easily migrates was used.

各実施例について、85°C、85%RHで50Vの電圧を印加し、250時間後の絶縁抵抗値と、マイグレーション発生の有無を調べた。なお、マイグレーション発生の有無は、顕微鏡により、フレキシブルプリント回路の回路パターンにおける金属の析出の有無を観察することによって判断した。   For each example, a voltage of 50 V was applied at 85 ° C. and 85% RH, and the insulation resistance value after 250 hours and the occurrence of migration were examined. The presence or absence of migration was determined by observing the presence or absence of metal deposition in the circuit pattern of the flexible printed circuit with a microscope.

これらの結果を以下の〔表1〕中の「絶縁抵抗(Ω)」の欄及び「マイグレーション」の欄に示す。   These results are shown in the column of “Insulation resistance (Ω)” and “Migration” in the following [Table 1].

なお、85°C、85%RHで50Vの電圧を250時間印加したときの絶縁抵抗値を基準とした判定は、一応の目安であり、実際の使用条件は、必ずしもこの基準に一致するものではない。   The determination based on the insulation resistance value when applying a voltage of 50 V at 85 ° C. and 85% RH for 250 hours is only a guideline, and the actual use conditions do not necessarily match this standard. Absent.

また、これら各実施例のフレキシブルプリント回路の両面側にリジットプリント回路を積層させてリジット−フレックスプリント回路とし、85°C、85%RHで50Vの電圧を印加し、抵抗値が10Ω以上を維持する時間を調べた。 In addition, a rigid-print circuit is formed by laminating a rigid-print circuit on both sides of the flexible printed circuit of each of these examples, and a voltage of 50 V is applied at 85 ° C. and 85% RH, and the resistance value is 10 7 Ω or more. Investigate the time to maintain.

これらの結果を以下の〔表1〕中の「R−F抵抗維持時間(h)」の欄に示す。

Figure 2006012987
These results are shown in the column of “RF resistance maintenance time (h)” in the following [Table 1].
Figure 2006012987

これら各実施例においては、250時間後の絶縁抵抗値は十分に高い値となっており、マイグレーションの発生は認められず、また、リジット−フレックスプリント回路として構成した場合においても、抵抗値が10Ω以上を維持する時間として十分に長い時間となっている。 In each of these examples, the insulation resistance value after 250 hours is a sufficiently high value, the occurrence of migration is not recognized, and even when configured as a rigid-flex printed circuit, the resistance value is 10 It is a sufficiently long time to maintain 7 Ω or more.

〔二層構造CCLの比較例〕
前述の二層構造CCLの実施例と同様に、ポリイミド上に接着剤を用いないで銅箔を積層した二層構造のCCLに、〔L/S〕=80/80μmの回路パターンを形成した。
[Comparative example of two-layer structure CCL]
Similar to the above-described two-layer structure CCL, a circuit pattern of [L / S] = 80/80 μm was formed on a two-layer CCL in which a copper foil was laminated on polyimide without using an adhesive.

その後、比較例1については、熱酸化処理を行わず、比較例2乃至比較例6については、熱酸化処理として、前記〔表1〕に示すように、各比較例ごとに異なる処理温度において異なる処理時間に亘って保持し、回路パターンの表面部に酸化膜を形成した。   Thereafter, the thermal oxidation treatment is not performed for the comparative example 1, and the thermal oxidation treatments for the comparative examples 2 to 6 are different at different treatment temperatures for each comparative example as shown in [Table 1]. An oxide film was formed on the surface portion of the circuit pattern while maintaining the treatment time.

これら各比較例のCCLにカバー層をプレスキュアすることによって、フレキシブルプリント回路を作成した。   A flexible printed circuit was prepared by precuring the cover layer on the CCLs of these comparative examples.

各比較例について、85°C、85%RHで50Vの電圧を印加し、250時間後の絶縁抵抗値と、マイグレーション発生の有無を調べた(なお、マイグレーション発生の有無は、顕微鏡により、フレキシブルプリント回路の回路パターンにおける金属の析出の有無を観察することによって判断した)。   For each comparative example, a voltage of 50 V was applied at 85 ° C. and 85% RH, and the insulation resistance value after 250 hours and the presence or absence of the occurrence of migration were examined. Judgment was made by observing the presence or absence of metal deposition in the circuit pattern of the circuit).

これらの結果を以下の〔表1〕中の「絶縁抵抗(Ω)」の欄及び「マイグレーション」の欄に示す。   These results are shown in the column of “Insulation resistance (Ω)” and “Migration” in the following [Table 1].

また、これら各比較例のフレキシブルプリント回路の両面側にリジットプリント回路を積層させてリジット−フレックスプリント回路とし、85°C、85%RHで50Vの電圧を印加し、抵抗値が10Ω以上を維持する時間を調べた。 Also, a rigid-print circuit is formed by laminating a rigid-print circuit on both sides of the flexible printed circuit of each comparative example, and a voltage of 50 V is applied at 85 ° C. and 85% RH, and the resistance value is 10 7 Ω or more. Investigate the time to maintain.

これらの結果を以下の〔表1〕中の「R−F抵抗維持時間(h)」の欄に示す。   These results are shown in the column of “RF resistance maintenance time (h)” in the following [Table 1].

これら各比較例においては、250時間後の絶縁抵抗値が十分に高い値とはいえず、マイグレーションの発生が認められ、また、リジット−フレックスプリント回路として構成した場合においては、抵抗値が10Ω以上を維持する時間として十分な時間が確保されなかった。 In each of these comparative examples, the insulation resistance value after 250 hours cannot be said to be a sufficiently high value, the occurrence of migration is observed, and when configured as a rigid-flex printed circuit, the resistance value is 10 7. Sufficient time was not secured for maintaining Ω or more.

すなわち、本発明においては、プリント配線板、特に、フレキシブルプリント回路において、耐マイグレーション性を向上させることができることが確認された。   That is, in the present invention, it was confirmed that the migration resistance can be improved in a printed wiring board, particularly in a flexible printed circuit.

〔三層構造CCLの実施例〕
ポリイミド上に接着剤を介して銅箔を積層させた三層構造のCCLに、〔L/S〕=80/80μm(回路幅と回路間隔がともに80μm)の回路パターンを形成した。その後、熱酸化処理として、以下の〔表2〕に示すように、実施例1乃至実施例4の各実施例ごとに異なる処理温度において異なる処理時間に亘って保持し、回路パターンの表面部に酸化膜を形成した。
[Example of three-layer structure CCL]
A circuit pattern of [L / S] = 80/80 μm (both the circuit width and the circuit interval are 80 μm) was formed on a CCL having a three-layer structure in which a copper foil was laminated on polyimide via an adhesive. Then, as shown in the following [Table 2], as thermal oxidation treatment, it is held for different treatment times at different treatment temperatures for each of Examples 1 to 4, and is applied to the surface portion of the circuit pattern. An oxide film was formed.

これら各実施例のCCLにカバー層をプレスキュアすることによって、フレキシブルプリント回路を作成した。カバー層としては、実験的に、マイグレーションが起こり易い接着剤からなるものを使用した。   A flexible printed circuit was prepared by precuring the cover layer on the CCL of each of these examples. As the cover layer, an experimentally formed layer made of an adhesive that easily migrates was used.

各実施例について、85°C、85%RHで50Vの電圧を印加し、250時間後の絶縁抵抗値と、マイグレーション発生の有無を調べた(なお、マイグレーション発生の有無は、顕微鏡により、フレキシブルプリント回路の回路パターンにおける金属の析出の有無を観察することによって判断した)。   For each example, a voltage of 50 V was applied at 85 ° C. and 85% RH, and the insulation resistance value after 250 hours and the presence or absence of migration were examined. Judgment was made by observing the presence or absence of metal deposition in the circuit pattern of the circuit).

これらの結果を以下の〔表2〕中の「絶縁抵抗(Ω)」の欄及び「マイグレーション」の欄に示す。   These results are shown in the column of “Insulation resistance (Ω)” and “Migration” in the following [Table 2].

なお、85°C、85%RHで50Vの電圧を250時間印加したときの絶縁抵抗値を基準とした判定は、一応の目安であり、実際の使用条件は、必ずしもこの基準に一致するものではない。   The determination based on the insulation resistance value when applying a voltage of 50 V at 85 ° C. and 85% RH for 250 hours is only a guideline, and the actual use conditions do not necessarily match this standard. Absent.

また、これら各実施例のフレキシブルプリント回路の両面側にリジットプリント回路を積層させてリジット−フレックスプリント回路とし、85°C、85%RHで50Vの電圧を印加し、抵抗値が10Ω以上を維持する時間を調べた。 In addition, a rigid-print circuit is formed by laminating a rigid-print circuit on both sides of the flexible printed circuit of each of these examples, a voltage of 50 V is applied at 85 ° C. and 85% RH, and a resistance value is 10 7 Ω or more. Investigate the time to maintain.

これらの結果を以下の〔表2〕中の「R−F抵抗維持時間(h)」の欄に示す。

Figure 2006012987
These results are shown in the column of “RF resistance maintenance time (h)” in the following [Table 2].
Figure 2006012987

これら各実施例においては、250時間後の絶縁抵抗値は十分に高い値となっており、マイグレーションの発生は認められず、また、リジット−フレックスプリント回路として構成した場合においても、抵抗値が10Ω以上を維持する時間として十分に長い時間となっている。 In each of these examples, the insulation resistance value after 250 hours is a sufficiently high value, the occurrence of migration is not recognized, and even when configured as a rigid-flex printed circuit, the resistance value is 10 It is a sufficiently long time to maintain 7 Ω or more.

〔三層構造CCLの比較例〕
前述の三層構造CCLの実施例と同様に、ポリイミド上に接着剤を介して銅箔を積層させた三層構造のCCLに、〔L/S〕=80/80μmの回路パターンを形成した。
[Comparative example of three-layer structure CCL]
Similar to the above-described three-layer structure CCL example, a circuit pattern of [L / S] = 80/80 μm was formed on a three-layer structure CCL in which a copper foil was laminated on polyimide via an adhesive.

その後、比較例1については、熱酸化処理を行わず、比較例2乃至比較例5については、熱酸化処理として、前記〔表2〕に示すように、各比較例ごとに異なる処理温度において異なる処理時間に亘って保持し、回路パターンの表面部に酸化膜を形成した。   Thereafter, the thermal oxidation treatment is not performed for the comparative example 1, and the thermal oxidation treatments for the comparative examples 2 to 5 are different for each comparative example at different treatment temperatures as shown in [Table 2]. An oxide film was formed on the surface portion of the circuit pattern while maintaining the treatment time.

これら各比較例のCCLにカバー層をプレスキュアすることによって、フレキシブルプリント回路を作成した。   A flexible printed circuit was prepared by precuring the cover layer on the CCLs of these comparative examples.

各比較例について、85°C、85%RHで50Vの電圧を印加し、250時間後の絶縁抵抗値と、マイグレーション発生の有無を調べた(なお、マイグレーション発生の有無は、顕微鏡により、フレキシブルプリント回路の回路パターンにおける金属の析出の有無を観察することによって判断した)。   For each comparative example, a voltage of 50 V was applied at 85 ° C. and 85% RH, and the insulation resistance value after 250 hours and the presence or absence of the occurrence of migration were examined. Judgment was made by observing the presence or absence of metal deposition in the circuit pattern of the circuit).

これらの結果を以下の〔表2〕中の「絶縁抵抗(Ω)」の欄及び「マイグレーション」の欄に示す。   These results are shown in the column of “Insulation resistance (Ω)” and “Migration” in the following [Table 2].

また、これら各比較例のフレキシブルプリント回路の両面側にリジットプリント回路を積層させてリジット−フレックスプリント回路とし、85°C、85%RHで50Vの電圧を印加し、抵抗値が10Ω以上を維持する時間を調べた。 Also, a rigid-print circuit is formed by laminating a rigid-print circuit on both sides of the flexible printed circuit of each comparative example, and a voltage of 50 V is applied at 85 ° C. and 85% RH, and the resistance value is 10 7 Ω or more. Investigate the time to maintain.

これらの結果を以下の〔表2〕中の「R−F抵抗維持時間(h)」の欄に示す。   These results are shown in the column of “RF resistance maintenance time (h)” in the following [Table 2].

これら各比較例においては、250時間後の絶縁抵抗値が十分に高い値とはいえず、マイグレーションの発生が認められ、また、リジット−フレックスプリント回路として構成した場合においては、抵抗値が10Ω以上を維持する時間として十分な時間が確保されなかった。 In each of these comparative examples, the insulation resistance value after 250 hours cannot be said to be a sufficiently high value, the occurrence of migration is observed, and when configured as a rigid-flex printed circuit, the resistance value is 10 7. Sufficient time was not secured for maintaining Ω or more.

すなわち、本発明においては、プリント配線板、特に、フレキシブルプリント回路において、耐マイグレーション性を向上させることができることが確認された。   That is, in the present invention, it was confirmed that the migration resistance can be improved in a printed wiring board, particularly in a flexible printed circuit.

〔アルカリ性水溶液によって回路パターン表面の酸化を行った場合〕
次に、アルカリ性水溶液を用いて回路パターンの表面を酸化させた場合に、マイグレーションが抑制されるかどうかを確認した。
[When the surface of the circuit pattern is oxidized with an alkaline aqueous solution]
Next, it was confirmed whether or not migration was suppressed when the surface of the circuit pattern was oxidized using an alkaline aqueous solution.

処理条件としては、薬液として、〔NaClO〕;15g/l、〔NaOH〕;5g/lのアルカリ性水溶液を用い、処理温度を85°Cとして、1分間の処理を行った。 As treatment conditions, an alkaline aqueous solution of [NaClO 2 ]; 15 g / l, [NaOH]; 5 g / l was used as a chemical solution, and the treatment temperature was 85 ° C., and the treatment was performed for 1 minute.

前述の実施例と同様に、85°C、85%RHで50Vの電圧を印加し、250時間後の絶縁抵抗値を調べたところ、3.2×10Ωであった。また、マイグレーション発生の有無を調べたところ、マイグレーションが発生していた。 As in the previous example, a voltage of 50 V was applied at 85 ° C. and 85% RH, and the insulation resistance value after 250 hours was examined. As a result, it was 3.2 × 10 7 Ω. Further, when the presence or absence of migration occurred was examined, migration occurred.

また、これら各比較例のフレキシブルプリント回路の両面側にリジットプリント回路を積層させてリジット−フレックスプリント回路とし、85°C、85%RHで50Vの電圧を印加し、抵抗値が10Ω以上を維持する時間を調べたところ、10.25時間であった。 Also, a rigid-print circuit is formed by laminating a rigid-print circuit on both sides of the flexible printed circuit of each of these comparative examples, and a voltage of 50 V is applied at 85 ° C. and 85% RH, and the resistance value is 10 7 Ω or more. It was 10.25 hours when the time which maintains this was investigated.

すなわち、アルカリ性水溶液を用いて回路パターンの表面を酸化させても、十分にマイグレーションを抑制することができないことがわかった。これは、アルカリ性水溶液による酸化では、緻密な酸化膜が形成されないためであると思われる。   That is, it was found that even if the surface of the circuit pattern was oxidized using an alkaline aqueous solution, migration could not be sufficiently suppressed. This seems to be because a dense oxide film is not formed by oxidation with an alkaline aqueous solution.

本発明に係るプリント配線板の製造方法の第1の実施形態を示す工程図である。It is process drawing which shows 1st Embodiment of the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on this invention. 本発明に係るプリント配線板の製造方法の第2の実施形態を示す工程図である。It is process drawing which shows 2nd Embodiment of the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on this invention. 従来のプリント配線板の製造方法を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing method of the conventional printed wiring board.

符号の説明Explanation of symbols

1,11 CCL
1a,11a 絶縁基材
1b,11b 導電材料層
11c 接着剤層
2,12 回路パターン
2a,12a 酸化膜
3 カバー層
3a 接着剤層
3b 絶縁層
4 リジットプリント回路
1,11 CCL
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a, 11a Insulating base material 1b, 11b Conductive material layer 11c Adhesive layer 2,12 Circuit pattern 2a, 12a Oxide film 3 Cover layer 3a Adhesive layer 3b Insulating layer 4 Rigid printed circuit

Claims (6)

絶縁材料からなる絶縁基材の表面上に、導電材料からなる回路パターンを形成し、
前記回路パターンの表面上に、熱酸化処理によって、酸化膜を形成する
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。
A circuit pattern made of a conductive material is formed on the surface of an insulating base material made of an insulating material,
An oxide film is formed on the surface of the circuit pattern by thermal oxidation treatment. A method for manufacturing a printed wiring board, comprising:
前記酸化膜を形成するための熱酸化処理は、前記回路パターンを140°C乃至300°Cに加熱することによって行う
ことを特徴とする請求項1記載のプリント配線板の製造方法。
The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the thermal oxidation treatment for forming the oxide film is performed by heating the circuit pattern to 140 ° C to 300 ° C.
絶縁材料からなる絶縁基材の表面上に、接着剤層を形成し、
前記接着剤層上に、導電材料からなる回路パターンを形成し、
前記回路パターンの表面上に、熱酸化処理によって、酸化膜を形成する
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。
Form an adhesive layer on the surface of an insulating substrate made of an insulating material,
A circuit pattern made of a conductive material is formed on the adhesive layer,
An oxide film is formed on the surface of the circuit pattern by thermal oxidation treatment. A method for manufacturing a printed wiring board, comprising:
前記酸化膜を形成するための熱酸化処理は、前記回路パターンを140°C乃至200°Cに加熱することによって行う
ことを特徴とする請求項3記載のプリント配線板の製造方法。
The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 3, wherein the thermal oxidation treatment for forming the oxide film is performed by heating the circuit pattern to 140 ° C to 200 ° C.
前記酸化膜が形成された前記回路パターンの表面上に、接着剤層及び絶縁層からなるカバー層を形成する
ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一に記載のプリント配線板の製造方法。
The printed wiring board according to any one of claims 1 to 4, wherein a cover layer made of an adhesive layer and an insulating layer is formed on a surface of the circuit pattern on which the oxide film is formed. Manufacturing method.
請求項5記載のプリント配線板の製造方法により製造されたプリント配線板を内層として使用し、
前記プリント配線板の両面側にリジットプリント配線板を積層させて、リジット−フレックスプリント基板とする
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。
Using the printed wiring board manufactured by the method for manufacturing a printed wiring board according to claim 5 as an inner layer,
A method of manufacturing a printed wiring board, wherein a rigid-print printed circuit board is formed by laminating a rigid printed circuit board on both sides of the printed circuit board.
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