JP2006011398A - Liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflection type and semi-transmission type LCD which has a high aperture ratio and whose power consumption is low. <P>SOLUTION: A 1st substrate 40 is equipped with TFTs as switching elements provided to each pixel. An auxiliary capacitor CSC is composed of an active layer 42 of a TFT, a silicon thin film 43 as a common layer, an auxiliary capacitance line formed by patterning a 1st metallic layer 46 laminated across a gate insulating film 44. An inter-layer insulating film 48 and a flattening insulating film 54 are laminated in order covering the auxiliary capacitance line 26. A reflecting layer 56 and a pixel electrode 28 are provided on the flattening insulating film 54. Consequently, the auxiliary capacitance line is not a disturbance to the aperture of a pixel in a reflection type area where the reflection layer 56 is formed and a transmission type area where the reflection layer 56 is not formed. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、液晶表示装置、特に外光を反射させる機能を備えた反射型あるいは半透過型液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a reflective or transflective liquid crystal display device having a function of reflecting external light.

薄型化、小型化が可能で低消費電力の液晶表示装置は、現在様々な機器の表示器として採用されている。この液晶表示装置(以下、LCD)は、それぞれの対向面側に電極が形成された2枚の基板を、間に液晶を封入して貼り合わせた構成を備え、電極間に電圧信号を印加し、配向状態によって光学特性の変化する液晶の配向を制御して光源からの光の透過率を制御することで表示を行う。   Liquid crystal display devices that can be reduced in thickness and size and have low power consumption are currently used as displays for various devices. This liquid crystal display device (hereinafter referred to as LCD) has a structure in which two substrates each having an electrode formed on the opposite surface side are sealed with liquid crystal interposed therebetween, and a voltage signal is applied between the electrodes. Display is performed by controlling the light transmittance from the light source by controlling the alignment of the liquid crystal whose optical characteristics change depending on the alignment state.

ここで、基板の対向面側に形成されている電極間に直流電圧を印加し続けると、液晶分子の配向状態が固定される、つまり、いわゆる焼き付きの問題が発生することが知られており、従来より、液晶を駆動する電圧信号としては、基準電圧に対する極性が周期的に反転する交流電圧信号が採用されている。   Here, it is known that when a DC voltage is continuously applied between the electrodes formed on the opposite surface side of the substrate, the alignment state of the liquid crystal molecules is fixed, that is, a so-called burn-in problem occurs. Conventionally, as a voltage signal for driving a liquid crystal, an AC voltage signal whose polarity with respect to a reference voltage is periodically inverted is employed.

この液晶駆動電圧信号の極性反転のタイミングは、マトリクス状に複数の画素が配列されている液晶表示装置において、1フレーム毎の反転、1垂直走査(1V)期間(または1フィールド期間)毎の反転、1水平走査(1H)期間毎の反転、1画素(1ドット)期間毎の反転が知られている。   The timing of the polarity inversion of the liquid crystal drive voltage signal is the inversion for each frame and the inversion for each vertical scanning (1 V) period (or one field period) in a liquid crystal display device in which a plurality of pixels are arranged in a matrix. Inversion every 1 horizontal scanning (1H) period is known inversion every 1 pixel (1 dot) period.

本来的に表示品質、特に他の方式に比較して動画の表示品質の高いアクティブマトリクス型LCDは、その表示領域内にマトリクス状に複数の画素が配列されており、各画素は、それぞれ薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)のようなスイッチング素子、補助容量、画素電極と液晶層を挟んで対向する対向電極により構成される液晶容量を備えている。そして、対向電極(共通電極)側に印加する電圧信号(共通電圧信号)Vcomに対して、TFTに接続され画素毎に個別の画素電極に印加される画素電圧VPを、周期的に極性反転している。対向電極及び補助容量の両方の矯正を周期的に変化させることにより、液晶の劣化を防止すると同時に、各データラインにデータ信号を出力するHドライバの電圧振幅を小さくし、Hドライバの低消費電力を実現していた。   An active matrix LCD that inherently has high display quality, particularly high-quality video display compared to other methods, has a plurality of pixels arranged in a matrix within the display area. A switching element such as a thin film transistor (TFT), an auxiliary capacitor, and a liquid crystal capacitor including a counter electrode facing the pixel electrode with a liquid crystal layer interposed therebetween are provided. Then, with respect to the voltage signal (common voltage signal) Vcom applied to the counter electrode (common electrode) side, the polarity of the pixel voltage VP connected to the TFT and applied to the individual pixel electrode for each pixel is periodically inverted. ing. By periodically changing the correction of both the counter electrode and the auxiliary capacitor, deterioration of the liquid crystal is prevented, and at the same time, the voltage amplitude of the H driver that outputs a data signal to each data line is reduced, and the H driver has low power consumption. Was realized.

しかし、1水平期間ごとに各データラインに与えるビデオ電圧信号極性を反転する水平反転対極AC駆動では、1水平期間ごとに、対向電極及び全補助容量ラインの電圧の極性を反転させるため、対向電極及び全補助容量ラインにおける容量性の負荷及びこれらによる消費電力は依然として大きかった。   However, in the horizontal inversion counter electrode AC drive that inverts the video voltage signal polarity applied to each data line every horizontal period, the polarity of the voltage of the counter electrode and all the auxiliary capacitance lines is inverted every horizontal period. And the capacitive loads in all the auxiliary capacity lines and the power consumption due to them were still large.

そこで、本出願人は、特許文献1において、さらなる低消費電力化を実現するため、対向電極と補助容量とに電圧を与える配線を分け、容量性の負荷の大きい対向電極(Vcom)の電圧を一定にし、全補助容量ラインの電圧の極性を反転させることにより、Hドライバの電流及び電圧を下げるという駆動方法(以下、「SC駆動」という。)を提案している。   Therefore, in order to achieve further reduction in power consumption, the present applicant divides the wiring for applying voltage to the counter electrode and the auxiliary capacitor, and sets the voltage of the counter electrode (Vcom) having a large capacitive load. A driving method (hereinafter referred to as “SC driving”) is proposed in which the current and voltage of the H driver are lowered by inverting the polarity of the voltage of all auxiliary capacitance lines.

ここで、液晶に印可する電圧の極性を周期的に反転させる反転駆動方式には、大きく分けて「ライン反転駆動」と「ドット反転駆動」の2種類がある。縦または横方向1ラインごとに極性を反転するライン反転駆動の場合、データ信号と共にVcomを反転させることで、ビデオ電圧の電圧振幅をドット反転駆動の2分の1に抑えている。しかしながら、正極ラインと負極ラインのわずかな輝度差などからちらつき(フリッカー)が目立ちやすく、また横もしくは縦方向にプラスかマイナスが並ぶことになり、反転周波数(1フレーム毎に反転させる場合はフレームレート)を下げた場合に横もしくは縦線がフリッカーとして現れやすい。したがって、ライン反転駆動は、フレームレートを高くしなければならない。一方、上下左右隣り合う画素全てに逆の極性が印加されるドット反転駆動の場合、Vcom(対向電極)を一定にし、ビデオ電圧としてVcomを基準としてそれぞれプラス/マイナスに極性を反転した電圧をかける。したがって、画素が集積された表示装置としては、正負の極が均一に混ざるため低フレームでもちらつきが目立ちにくいが大きな電圧の振幅が必要である。液晶の消費電力は、駆動周波数と電圧の振幅で決まるため、いずれの方式も低消費電力化が困難であった。   Here, inversion driving methods for periodically inverting the polarity of the voltage applied to the liquid crystal are roughly classified into two types: “line inversion driving” and “dot inversion driving”. In the case of line inversion driving in which the polarity is inverted for each line in the vertical or horizontal direction, the voltage amplitude of the video voltage is suppressed to half that of dot inversion driving by inverting Vcom together with the data signal. However, flickering is easily noticeable due to a slight luminance difference between the positive and negative lines, and plus or minus is lined up in the horizontal or vertical direction, and the inversion frequency (the frame rate when inverting every frame) ), The horizontal or vertical lines are likely to appear as flicker. Therefore, the line inversion drive has to increase the frame rate. On the other hand, in the case of dot inversion driving in which the opposite polarity is applied to all the pixels adjacent to the upper, lower, left, and right sides, Vcom (counter electrode) is made constant, and a video voltage having a polarity inverted to plus / minus on the basis of Vcom is applied. . Therefore, as a display device in which pixels are integrated, the positive and negative poles are uniformly mixed, and flickering is not noticeable even in a low frame, but a large voltage amplitude is required. Since the power consumption of the liquid crystal is determined by the driving frequency and the amplitude of the voltage, it is difficult to reduce the power consumption in either method.

そこで、ドット反転駆動方式において、画素ごとに設けられたデータ信号電圧を保持する補助容量を利用して駆動に必要な電圧の振幅を低く押さえて、大幅な低消費電力化を実現させる方法が提案された(例えば、特許文献2参照)。この駆動方法は、画素電極および補助容量にデータ信号電圧を書き込んだ後、補助容量の一方の電極電圧を変化させることにより、画素電圧を高電位側又は、低電位側にシフトさせ、このシフトさせた後の画素電圧が従来のドット反転駆動のデータ信号電圧に相当させることとするものである。この電圧シフト動作により表示制御に必要な所望の電圧を画素に印加することができる。この結果、フレームレートを落としてもフリッカーノイズに強いドット反転駆動において、駆動する電圧の振幅を低く押さえることが可能となり、大幅な低消費電力化が実現できた。   Therefore, in the dot inversion driving method, a method has been proposed in which an auxiliary capacitor that holds a data signal voltage provided for each pixel is used to reduce the voltage amplitude necessary for driving to achieve a significant reduction in power consumption. (For example, see Patent Document 2). In this driving method, after the data signal voltage is written to the pixel electrode and the auxiliary capacitor, the pixel voltage is shifted to the high potential side or the low potential side by changing one electrode voltage of the auxiliary capacitor. Thereafter, the pixel voltage is made to correspond to the data signal voltage of the conventional dot inversion drive. By this voltage shift operation, a desired voltage necessary for display control can be applied to the pixel. As a result, in dot inversion driving that is resistant to flicker noise even when the frame rate is lowered, the amplitude of the driving voltage can be kept low, and a significant reduction in power consumption can be realized.

特開2000−81606号公報JP 2000-81606 A 特開2003−150127号公報JP 2003-150127 A

しかしながら、特許文献2に記載されるドット反転駆動を行う透過型液晶表示装置において、補助容量の隣接列ごとに異なる極性の電圧を印加させるために列方向の1ラインに2本の補助容量ラインが必要である。補助容量ラインは光を透過しない金属により形成されるため、画素領域内の2本の補助容量ラインは、画素の開口率を低下させるものとなっていた。   However, in the transmissive liquid crystal display device that performs dot inversion driving described in Patent Document 2, two auxiliary capacitor lines are provided in one column in the column direction in order to apply voltages having different polarities to adjacent columns of the auxiliary capacitors. is necessary. Since the auxiliary capacitance line is formed of a metal that does not transmit light, the two auxiliary capacitance lines in the pixel region reduce the aperture ratio of the pixel.

本発明は、複数の画素がマトリクス配置され、前記各画素毎にその画素における液晶に対する印加電圧を制御するアクティブマトリクス型液晶表示装置であって、行方向に複数延在し、ゲート電圧が印加されるゲートラインと、列方向に複数延在し、データ信号が印加されるデータラインと、前記ゲートラインと前記データラインとの交点に対応して各画素毎に配置されるスイッチング素子と、各画素毎に設けられ、前記スイッチング素子に接続される画素電極と、前記画素電極が設けられる領域の少なくとも一部に設けられ前記液晶層を通過してきた光を反射する反射層と、前記画素の各行に対してそれぞれ設けられる第1および第2の補助容量ラインと、前記補助容量ラインに対し補助容量電極を絶縁膜を介し重畳することで形成される補助容量と、を有し、前記第1及び第2の補助容量ラインは、前記各画素において前記反射層の形成領域内であって液晶層が位置する側に対し反対の側を通過するように配置されることを特徴とする。   The present invention is an active matrix liquid crystal display device in which a plurality of pixels are arranged in a matrix, and a voltage applied to the liquid crystal in each pixel is controlled. The active matrix liquid crystal display device extends in the row direction and is applied with a gate voltage. A plurality of gate lines, a plurality of data lines extending in the column direction, to which a data signal is applied, a switching element disposed for each pixel corresponding to an intersection of the gate line and the data line, and each pixel A pixel electrode connected to the switching element; a reflective layer that is provided in at least a part of a region where the pixel electrode is provided and reflects light that has passed through the liquid crystal layer; and The first and second auxiliary capacitance lines respectively provided for the auxiliary capacitance lines are formed by superimposing auxiliary capacitance electrodes on the auxiliary capacitance lines via an insulating film. And the first and second auxiliary capacitance lines pass through the opposite side to the side where the liquid crystal layer is located in the reflective layer formation region in each pixel. It is characterized by being arranged.

また、前記ゲートラインは、前記第1および第2の補助容量ラインの間に配置されることが好適である。   The gate line is preferably disposed between the first and second auxiliary capacitance lines.

また、前記反射層は、各画素の液晶層を光が通過してくる部分の一部のみに設けられており、前記反射層が設けられていない部分においては液晶層を通過してきた光はそのまま透過することが好適である。   The reflective layer is provided only in a part of the portion where light passes through the liquid crystal layer of each pixel, and the light that has passed through the liquid crystal layer is left as it is in the portion where the reflective layer is not provided. It is preferable to transmit.

また、前記反射層は、画素の行方向の中央部分にのみに設けられていることが好適である。   In addition, it is preferable that the reflective layer is provided only in a central portion of the pixel in the row direction.

本発明によれば、2本の補助容量ラインは、各画素において反射層の形成領域内を通過するように配置される。このため、画素領域内の2本の補助容量ラインが画素領域の開口の妨げとならないので、高い開口率を得ることができる。   According to the present invention, the two auxiliary capacitance lines are arranged so as to pass through the reflective layer forming region in each pixel. For this reason, since the two auxiliary capacitance lines in the pixel region do not hinder the opening of the pixel region, a high aperture ratio can be obtained.

以下、本発明を実施するための最良の形態(以下、実施形態という)について、図面に基づいて説明する。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as an embodiment) will be described with reference to the drawings.

[液晶表示装置の構成]
まず、最初に構成の概要および補助容量ライン(以下、SCラインという)の配置について説明する。図1は、本発明の実施形態に係るLCDである半透過型LCD10の構成の概略を示す図であり、図2は、LCD10の数画素分の等価回路図である。
[Configuration of liquid crystal display device]
First, the outline of the configuration and the arrangement of auxiliary capacity lines (hereinafter referred to as SC lines) will be described. FIG. 1 is a diagram schematically showing the configuration of a transflective LCD 10 that is an LCD according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of several pixels of the LCD 10.

図1に示すように、本実施形態に係るLCD10は、ドライバ内蔵のアクティブマトリクス型LCDであり、このLCD10は、同一基板上にHドライバ12と、Vドライバ14と、補助容量ドライバ(SCドライバ)16と、表示を行う表示領域20とを有する。Hドライバ12は、ビデオ信号ラインからの各画素毎のデータ信号を各列毎に配置された垂直方向(垂直走査方向)に伸びるデータラインへ順次供給する。Vドライバ14は、表示領域20の各画素に水平方向(水平走査方向)に複数延びたゲートライン(GL)を介して表示領域20の画素18を順次選択するための選択信号を順次出力する。SCドライバ16は、表示領域20の各画素に水平方向に複数延びた補助容量ラインSC1及び第2の補助容量ラインSC2を介して補助容量に電圧を印加する。   As shown in FIG. 1, the LCD 10 according to the present embodiment is an active matrix LCD with a built-in driver. The LCD 10 has an H driver 12, a V driver 14, and an auxiliary capacitor driver (SC driver) on the same substrate. 16 and a display area 20 for displaying. The H driver 12 sequentially supplies the data signal for each pixel from the video signal line to the data line extending in the vertical direction (vertical scanning direction) arranged for each column. The V driver 14 sequentially outputs a selection signal for sequentially selecting the pixels 18 in the display area 20 to each pixel in the display area 20 via a plurality of gate lines (GL) extending in the horizontal direction (horizontal scanning direction). The SC driver 16 applies a voltage to the storage capacitor via the storage capacitor line SC1 and the second storage capacitor line SC2 that extend in the horizontal direction to each pixel in the display area 20.

表示領域20には、複数の画素18がマトリクス配置される。各画素18には、Hドライバ12からの配線パターンであるデータライン(DL)と、Vドライバ14からの配線パターンであるゲートライン(GL)と、SCドライバからの配線パターンである第1の補助容量ラインSC1及び第2の補助容量ラインSC2と、が配線される。GLとSC1およびSC2とは水平方向に並列して配置される。   A plurality of pixels 18 are arranged in a matrix in the display area 20. Each pixel 18 includes a data line (DL) that is a wiring pattern from the H driver 12, a gate line (GL) that is a wiring pattern from the V driver 14, and a first auxiliary that is a wiring pattern from the SC driver. The capacitor line SC1 and the second auxiliary capacitor line SC2 are wired. GL and SC1 and SC2 are arranged in parallel in the horizontal direction.

図2に示すように、画素18は、スイッチング素子としてダブルゲート構成のTFT30が設けられる。すなわち、TFT30は図示のように、2つのTFTが直列接続されゲート電極が共通化されている。このTFT30は、ゲート電極がGLに接続され、ドレイン(または、ソース)がDLに接続され、ソース(またはドレイン)が液晶容量CLCの一方の電極(画素毎に個別に設けられる画素電極)および補助容量CSCの一方の電極(補助容量電極)に接続される。液晶容量CLCの他方の電極は全画素共通の共通電極に接続され、この共通電極には、共通電圧信号(Vcom)が供給され、電圧がVcomに維持され、この画素電極と共通電極間に液晶層が挟持され、液晶容量CLCが形成されている。そして、補助容量CLCの他方の電極は、補助容量ラインSC1またはSC2のいずれか一方の一部として形成されている。また、補助容量CLCの他方の電極は、1つおきに補助容量ラインSC1またはSC2に接続されるため、隣接する画素においては使用される補助容量ラインが異なっている。   As shown in FIG. 2, the pixel 18 is provided with a TFT 30 having a double gate structure as a switching element. That is, as shown in the figure, the TFT 30 has two gates connected in series and a common gate electrode. The TFT 30 has a gate electrode connected to the GL, a drain (or source) connected to the DL, and a source (or drain) connected to one electrode of the liquid crystal capacitor CLC (a pixel electrode provided individually for each pixel) and an auxiliary. It is connected to one electrode (auxiliary capacitor electrode) of the capacitor CSC. The other electrode of the liquid crystal capacitor CLC is connected to a common electrode common to all pixels. A common voltage signal (Vcom) is supplied to the common electrode, and the voltage is maintained at Vcom. A liquid crystal is connected between the pixel electrode and the common electrode. The layers are sandwiched to form a liquid crystal capacitor CLC. The other electrode of the auxiliary capacitance CLC is formed as a part of either one of the auxiliary capacitance lines SC1 or SC2. Further, since the other electrode of the auxiliary capacitor CLC is connected to the auxiliary capacitor line SC1 or SC2 every other electrode, the auxiliary capacitor lines used in adjacent pixels are different.

図3は、本実施形態に係る半透過型LCD10の第1基板側(画素電極やTFT30が形成される基板)の概略平面図であり、図4、図5、および図6は、それぞれ図3のA−A線、B−B線、およびC−C線に沿った位置におけるLCD10の概略断面図である。   FIG. 3 is a schematic plan view of the first substrate side (substrate on which the pixel electrodes and the TFTs 30 are formed) of the transflective LCD 10 according to the present embodiment. FIGS. 4, 5, and 6 are FIGS. It is a schematic sectional drawing of LCD10 in the position along the AA line, BB line, and CC line.

図3に示すように、ゲートラインGL24が水平方向に配置され、データラインDL22が垂直方向に配置されている。GL24とDL22との交差点付近にスイッチング素子であるTFT30が配置される。このTFT30は、ドレインがDL22に接続される能動層を有し、この能動層は一旦データラインDLと平行に伸びてGL24の厚み方向の下方を通過し、その後Uターンしてもう一度GL24の下方を通過している。従って、GL24の下方に能動層が存在する部分がTFT30のゲート電極30g、能動層のDL22に接続する部分がドレイン領域30d、能動層の他端側がソース領域30sとなる。   As shown in FIG. 3, the gate line GL24 is arranged in the horizontal direction, and the data line DL22 is arranged in the vertical direction. A TFT 30 serving as a switching element is disposed near the intersection between the GL 24 and the DL 22. This TFT 30 has an active layer whose drain is connected to DL 22, and this active layer once extends parallel to the data line DL and passes below the thickness direction of the GL 24, and then makes a U-turn and again below the GL 24. Has passed. Therefore, the portion where the active layer exists below the GL 24 is the gate electrode 30g of the TFT 30, the portion connected to the DL 22 of the active layer is the drain region 30d, and the other end side of the active layer is the source region 30s.

このソース領域30sには、コンタクトを介しソース電極52が接続されており、このソース電極52は、ソース領域30sの上方に当たる部分を真ん中として、ここから2方向に伸びる逆L字型になっている。ソース電極52の逆Lの一端は、コンタクトを介し補助容量電極32が接続されている。この補助容量電極32はTFT30に利用される半導体の能動層と同一プロセスで形成された半導体層で形成される。従って、TFT30の半導体能動層をそのまま延長して補助容量電極32を形成することもできる。しかし、この例では、補助容量電極32をTFT30の能動層とは切り離して形成し、ソース電極52によって接続する構成としている。また、補助容量電極32は、補助容量ラインSC1またはSC2の下方に広がっており、補助容量電極32と補助容量ラインによりゲート絶縁膜を挟んで補助容量CLCを形成している。   A source electrode 52 is connected to the source region 30s through a contact. The source electrode 52 has an inverted L-shape extending in two directions from the center of the portion corresponding to the source region 30s. . One end of the inverted L of the source electrode 52 is connected to the auxiliary capacitance electrode 32 via a contact. The auxiliary capacitance electrode 32 is formed of a semiconductor layer formed by the same process as the semiconductor active layer used for the TFT 30. Therefore, the auxiliary capacitance electrode 32 can be formed by extending the semiconductor active layer of the TFT 30 as it is. However, in this example, the auxiliary capacitance electrode 32 is formed separately from the active layer of the TFT 30 and connected by the source electrode 52. The auxiliary capacitance electrode 32 extends below the auxiliary capacitance line SC1 or SC2, and forms an auxiliary capacitance CLC with a gate insulating film interposed between the auxiliary capacitance electrode 32 and the auxiliary capacitance line.

一方、ソース電極52の逆Lの他端は、コンタクトを介し、上方の画素電極28に接続されている。この画素電極(第1電極)28は、ITO(Indium Tin Oxide)等の透明導電材料により形成される。そして、この例では、TFT30およびソース電極52が存在する部分を中央として、両側に伸びる細長の長方形状になっている。   On the other hand, the other end of the inverted L of the source electrode 52 is connected to the upper pixel electrode 28 via a contact. The pixel electrode (first electrode) 28 is formed of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide). In this example, the portion where the TFT 30 and the source electrode 52 are present is the center, and the shape is an elongated rectangle extending on both sides.

また、第1の補助容量ライン(SC1)26aと第2の補助容量ライン(SC2)26bとは、GL24を挟むように並設されている。すなわち、3本のラインが水平方向に平行に伸びている。1つの画素内では、補助容量ライン26aまたは26bのいずれか一方のみの下方に補助容量電極32が形成されて補助容量CSCが形成され、補助容量CSCの電極となる補助容量ライン26は、幅が拡大され、補助容量CSCの容量を確保している。   The first auxiliary capacitance line (SC1) 26a and the second auxiliary capacitance line (SC2) 26b are arranged in parallel so as to sandwich the GL24. That is, three lines extend parallel to the horizontal direction. In one pixel, the auxiliary capacitance electrode 32 is formed below only one of the auxiliary capacitance lines 26a or 26b to form the auxiliary capacitance CSC. The auxiliary capacitance line 26 serving as an electrode of the auxiliary capacitance CSC has a width. The capacity of the auxiliary capacity CSC is secured.

ここで、逆L字型のソース電極52の一部が突出部が形成され、ゲートラインGL24に至っている。すなわち、この突出部は、ゲートラインGL24に層間絶縁膜を介し位置する。ノーマリブラックの液晶パネルにおいて、TFT30が異常により、常時オンになってしまうと、その画素が輝点になってしまう。本実施形態では、前記突出部にレーザを照射することで、ソース電極52をゲートラインGL24と短絡することができ、画素を暗点化することができる。   Here, a part of the inverted L-shaped source electrode 52 has a protruding portion and reaches the gate line GL24. That is, the protruding portion is located on the gate line GL24 via the interlayer insulating film. In a normally black liquid crystal panel, if the TFT 30 is always turned on due to an abnormality, the pixel becomes a bright spot. In the present embodiment, by irradiating the projecting portion with laser, the source electrode 52 can be short-circuited with the gate line GL24, and the pixel can be darkened.

さらに、長方形の画素の周辺部であって、2つのSCライン26a、16bの外側に当たる部分には、遮光パターン34が形成されている。すなわち、2つのSCライン26a、26bで挟まれる領域およびSCライン26a、26bと遮光パターン34の間の領域については、データラインDL22の幅を広げることによって、遮光している。従って、長方形の画素、すなわち画素電極28の周辺部分は、遮光パターン34、データライン22またはSCライン26a、26bのいずれかによって覆われており、画素周辺が全体として遮光されている。これによって、表示が画素毎に行われ、きれいな表示ができる。   Further, a light-shielding pattern 34 is formed in a peripheral portion of the rectangular pixel and a portion corresponding to the outside of the two SC lines 26a and 16b. In other words, the region between the two SC lines 26a and 26b and the region between the SC lines 26a and 26b and the light shielding pattern 34 are shielded from light by increasing the width of the data line DL22. Accordingly, a rectangular pixel, that is, a peripheral portion of the pixel electrode 28 is covered with any one of the light shielding pattern 34, the data line 22 or the SC lines 26a and 26b, and the pixel periphery is shielded as a whole. As a result, display is performed for each pixel, and a clear display can be achieved.

図4に示すように、TFT30は、第1基板40側に形成され、このTFT30に画素毎に設けられた画素電極(第1電極)28が接続される。   As shown in FIG. 4, the TFT 30 is formed on the first substrate 40 side, and a pixel electrode (first electrode) 28 provided for each pixel is connected to the TFT 30.

第1及び第2基板40,70には、ガラスなどの透明基板が用いられ、第1基板40と対向する第2基板70側には、カラー表示液晶装置の場合にはカラーフィルタ68が画素電極28に対応して形成され、このカラーフィルタ68上(液晶側)に透明導電材料からなる第2電極である対向電極66が形成される。対向電極66の透明導電材料としては、IZO(Indium Zinc Oxide)やITOなどが採用される。なお、この対向電極66は各画素に共通する共通電極として形成されている。また、この対向電極66の上には、ポリイミドなどからなる第2配向膜64が形成されている。   A transparent substrate such as glass is used for the first and second substrates 40 and 70, and in the case of a color display liquid crystal device, a color filter 68 is provided on the second substrate 70 side facing the first substrate 40. 28, and a counter electrode 66 that is a second electrode made of a transparent conductive material is formed on the color filter 68 (liquid crystal side). As the transparent conductive material of the counter electrode 66, IZO (Indium Zinc Oxide), ITO, or the like is employed. The counter electrode 66 is formed as a common electrode common to the pixels. A second alignment film 64 made of polyimide or the like is formed on the counter electrode 66.

第1基板40上には、ポリシリコンからなる能動層42が所定の領域に形成される。この例は、TFT30は、ダブルゲート構成であり、能動層42の一端がドレイン領域42d、その隣がチャネル領域42c、その隣がソースおよびゲート領域、その隣がチャネル領域42c、そして他端がソース領域42sとなっている。能動層42上には、ゲート絶縁膜44が形成され、そのゲート絶縁膜44上のチャネル領域42cの上方位置にゲートラインGL46が位置する。ゲートライン44を覆って層間絶縁膜48が形成され、その上面にデータラインDLとなる金属層50が形成され、またソース電極52が形成される。金属層50はコンタクトを介しTFT30のドレイン領域42dに接続され、ソース電極52は、コンタクトを介しソース領域42sに接続される。   On the first substrate 40, an active layer 42 made of polysilicon is formed in a predetermined region. In this example, the TFT 30 has a double gate configuration. One end of the active layer 42 is a drain region 42d, next to the channel region 42c, next to the source and gate region, next to the channel region 42c, and the other end to the source. This is a region 42s. A gate insulating film 44 is formed on the active layer 42, and the gate line GL 46 is positioned above the channel region 42 c on the gate insulating film 44. An interlayer insulating film 48 is formed so as to cover the gate line 44, a metal layer 50 to be the data line DL is formed on the upper surface, and a source electrode 52 is formed. The metal layer 50 is connected to the drain region 42d of the TFT 30 via a contact, and the source electrode 52 is connected to the source region 42s via a contact.

また、図5に示すように、ソース電極52は、コンタクトを介し、能動層42と同一プロセスで形成される多結晶シリコン薄膜43にも接続される。この多結晶シリコン薄膜43は、補助容量CSCの容量電極32を形成する。すなわち、多結晶シリコン薄膜43とSCライン26となる第1金属層46がゲート絶縁膜44を介し対向する部分が補助容量CSCとなる。   As shown in FIG. 5, the source electrode 52 is also connected to a polycrystalline silicon thin film 43 formed by the same process as the active layer 42 through a contact. The polycrystalline silicon thin film 43 forms the capacity electrode 32 of the auxiliary capacity CSC. That is, the portion where the polycrystalline silicon thin film 43 and the first metal layer 46 which becomes the SC line 26 are opposed to each other through the gate insulating film 44 is the auxiliary capacitance CSC.

また、ソース電極52の上の平坦化絶縁膜54にコンタクトホールが形成され、ここに形成された接続用金属層55により、平坦化絶縁膜54上に形成された画素電極28が接続されている。また、画素電極28と平坦化絶縁膜54との間の所定部分には、反射層56が形成されている。図3〜5からわかるように、この反射膜56は、TFT30や、容量ラインSCL46等が配置される画素の中央部分を横断するように形成されている。従って、配線などによって光が透過しない部分を反射領域とすることで、透過領域の面積を確保しつつ、反射領域を確保することができる。   Further, a contact hole is formed in the planarization insulating film 54 on the source electrode 52, and the pixel electrode 28 formed on the planarization insulating film 54 is connected by a connection metal layer 55 formed here. . A reflective layer 56 is formed in a predetermined portion between the pixel electrode 28 and the planarization insulating film 54. As can be seen from FIGS. 3 to 5, the reflective film 56 is formed so as to cross the central portion of the pixel where the TFT 30, the capacitor line SCL 46 and the like are disposed. Accordingly, by setting a portion where light is not transmitted due to wiring or the like as the reflective region, it is possible to secure the reflective region while securing the area of the transmissive region.

さらに、図6には、補助容量CLCの部分が示されている。このように、容量電極を形成する多結晶シリコン薄膜43は、補助容量ラインSCLを形成する金属層46の下方において隣接する画素内にまで至っており、これらの層間にはゲート絶縁膜44が介在されている。従って、補助容量CLCは、その一部が隣接する画素内に存在する。補助容量ラインSCLが存在する部分は光が透過しないため、ここに補助容量を形成しても透過領域の面積には影響しない。また、本実施形態では、2本の補助容量ラインSCLが存在し、隣接する画素同士は利用する補助容量ラインSCLが異なる。従って、隣接する画素内に補助容量の一部を形成することが好適である。   Further, FIG. 6 shows a portion of the auxiliary capacitor CLC. As described above, the polycrystalline silicon thin film 43 forming the capacitor electrode reaches the adjacent pixel below the metal layer 46 forming the auxiliary capacitor line SCL, and the gate insulating film 44 is interposed between these layers. ing. Therefore, a part of the auxiliary capacitor CLC exists in adjacent pixels. Since the portion where the auxiliary capacitance line SCL exists does not transmit light, even if the auxiliary capacitance is formed here, the area of the transmission region is not affected. Further, in the present embodiment, there are two auxiliary capacitance lines SCL, and adjacent pixels use different auxiliary capacitance lines SCL. Therefore, it is preferable to form a part of the auxiliary capacitor in the adjacent pixel.

なお、ゲートラインGL24およびSCライン26となる第1金属層46は、第1基板40上のゲート絶縁膜44の直上に同一プロセス形成され、その上にこれらを覆うようにSiNx等からなる層間絶縁膜48が形成される。また、Al、Mo等からなりデータラインDL22となる第2金属層50は、ソース電極52等と同一プロセスで形成される。すなわち、金属層形成後のエッチングおよびパターン化で一緒に形成される。さらにその上に形成される平坦化絶縁膜54は、アクリル樹脂などから形成される。   The first metal layer 46 to be the gate line GL24 and the SC line 26 is formed in the same process immediately above the gate insulating film 44 on the first substrate 40, and an interlayer insulating layer made of SiNx or the like is formed thereon so as to cover them. A film 48 is formed. The second metal layer 50 made of Al, Mo or the like and serving as the data line DL22 is formed by the same process as the source electrode 52 and the like. That is, they are formed together by etching and patterning after forming the metal layer. Further, the planarization insulating film 54 formed thereon is formed from acrylic resin or the like.

平坦化絶縁膜54の上に半透過LCDの反射領域を形成するために、第2基板側からの入射光を反射する反射層56が形成されている。反射層56は、Al、Ag、これらの合金、例えばAl−Nd合金から構成されている。   In order to form a reflective region of the transflective LCD on the planarization insulating film 54, a reflective layer 56 that reflects incident light from the second substrate side is formed. The reflective layer 56 is made of Al, Ag, or an alloy thereof such as an Al—Nd alloy.

さらに、反射層56の上に画素電極28、第1配向膜60が順に形成され第1基板が構成され、この第1基板と、第2基板との間に液晶層62が挟まれる。   Further, the pixel electrode 28 and the first alignment film 60 are sequentially formed on the reflective layer 56 to constitute a first substrate, and the liquid crystal layer 62 is sandwiched between the first substrate and the second substrate.

図7は、本実施形態に係るLCD10における反射層56の配置を示す平面図である。画素18のSC1とSC2とに挟まれる領域に反射層56が配置され、反射層56が配置される反射領域が反射型LCDとして機能し、反射層56が配置されない透過領域が透過型LCDとして機能する。   FIG. 7 is a plan view showing the arrangement of the reflective layer 56 in the LCD 10 according to the present embodiment. A reflective layer 56 is disposed in a region sandwiched between SC1 and SC2 of the pixel 18, the reflective region where the reflective layer 56 is disposed functions as a reflective LCD, and the transmissive region where the reflective layer 56 is not disposed functions as a transmissive LCD. To do.

このような構成をとることにより、反射層56を備える反射領域では、第2基板70側から入射した光が反射層56で反射されて第2基板70側に戻るため、そのTFT30や、SCラインが存在しても問題ない。また、反射層56が設けられていない透過領域には、SCラインが無いため、画素領域の開口がSCラインにより妨げられることが無い。したがって、画素一行当たりSCラインを2本必要とするドット反転駆動を行うLCDにおいて、画素領域を効率的に利用して、実質的な開口率を高くすることができる。   By adopting such a configuration, in the reflective region including the reflective layer 56, light incident from the second substrate 70 side is reflected by the reflective layer 56 and returns to the second substrate 70 side. There is no problem even if exists. Further, since there is no SC line in the transmissive region where the reflective layer 56 is not provided, the opening of the pixel region is not hindered by the SC line. Therefore, in an LCD that performs dot inversion driving that requires two SC lines per pixel row, the pixel area can be efficiently used to increase the substantial aperture ratio.

ここで、本実施形態では、図3および図4に示すように、TFT30としては、トップゲート型を採用している。また、能動層42としてアモルファスシリコン(a−Si)をレーザアニールで多結晶化して得た多結晶シリコン(p−Si)を用いている。なお、TFT30は、トップゲート型p−Siに限定されるものではなく、ボトムゲート型でもよいし、能動層42にa−Siが採用することも可能である。   Here, in this embodiment, as shown in FIGS. 3 and 4, a top gate type is adopted as the TFT 30. As the active layer 42, polycrystalline silicon (p-Si) obtained by polycrystallizing amorphous silicon (a-Si) by laser annealing is used. The TFT 30 is not limited to the top gate type p-Si, but may be a bottom gate type, and a-Si may be used for the active layer 42.

図4に示す、TFT30の能動層42のソース・ドレイン領域42s、42dにドープされる不純物は、n導電型、p導電型のいずれでもよいが、本実施形態ではリンなどのn導電型不純物をドープし、n−ch型のTFT30を採用している。そして不純物がドープされないチャネル領域42cが形成される。TFT30の能動層42のソース領域42sは、コンタクトを介してソース電極52に接続され、さらにソース電極52は、コンタクトを介してTFT30の能動層42と多結晶シリコン薄膜43よりなる補助容量電極32xに接続されている。   Impurities doped in the source / drain regions 42s and 42d of the active layer 42 of the TFT 30 shown in FIG. 4 may be either n-conductivity type or p-conductivity type. In this embodiment, n-conductivity impurities such as phosphorus are used. Doped and n-ch TFT 30 is employed. Then, a channel region 42c that is not doped with impurities is formed. The source region 42 s of the active layer 42 of the TFT 30 is connected to the source electrode 52 through a contact, and the source electrode 52 is further connected to the auxiliary capacitance electrode 32 x formed of the active layer 42 of the TFT 30 and the polycrystalline silicon thin film 43 through the contact. It is connected.

図3および図6に示すように、第1の補助容量32aは、ゲート絶縁膜44を挟んで対向する補助容量電極32xと第1の補助容量ライン26aから延びて形成された補助容量電極32yとで形成されている。第2の補助容量32bは、ゲート絶縁膜44を挟んで対向する上記の補助容量電極32xと、第2の補助容量ライン26bから延びて形成された補助容量電極32zとで形成されている。補助容量電極32xは、能動層42と同一プロセスで形成された多結晶シリコン薄膜をエッチング工程により、第1の補助容量ライン26aおよび第2の補助容量ライン26bに重畳する領域にパターン化して形成される。   As shown in FIGS. 3 and 6, the first auxiliary capacitance 32a includes an auxiliary capacitance electrode 32x opposed to the gate insulating film 44 and an auxiliary capacitance electrode 32y formed extending from the first auxiliary capacitance line 26a. It is formed with. The second auxiliary capacitance 32b is formed by the auxiliary capacitance electrode 32x opposed to the gate insulating film 44 and the auxiliary capacitance electrode 32z formed extending from the second auxiliary capacitance line 26b. The auxiliary capacitance electrode 32x is formed by patterning a polycrystalline silicon thin film formed by the same process as that of the active layer 42 into a region overlapping the first auxiliary capacitance line 26a and the second auxiliary capacitance line 26b by an etching process. The

図6に示すように、ゲート絶縁膜44は、能動層42を覆うように、例えばSiNx及びSiO2の積層構造又はいずれか一方より形成され、その上にCr、Ta、Mo等の第1金属層46をパターニングして補助容量ラインSCLが形成される。なお、ゲートラインGL24も補助容量ラインSCLと同一プロセスで形成される。また、遮光パターン34は、第1金属層46と同一プロセスで形成される(図5参照)。 As shown in FIG. 6, the gate insulating film 44 is formed of, for example, a laminated structure of SiNx and SiO 2 or any one so as to cover the active layer 42, and a first metal such as Cr, Ta, or Mo is formed thereon. The layer 46 is patterned to form the auxiliary capacitance line SCL. The gate line GL24 is also formed by the same process as the auxiliary capacitance line SCL. The light shielding pattern 34 is formed by the same process as that of the first metal layer 46 (see FIG. 5).

また、図4に示すように、DL22となる第2金属層50およびソース電極52は、層間絶縁膜48に設けられたコンタクトにより上記能動層42に形成されたソース領域42s、ドレイン領域42dに接続されている。   Further, as shown in FIG. 4, the second metal layer 50 and the source electrode 52 to be the DL 22 are connected to the source region 42s and the drain region 42d formed in the active layer 42 by contacts provided in the interlayer insulating film 48. Has been.

また、TFT30及び層間絶縁膜48を覆うように平坦化のための平坦化絶縁膜54が1μm程度或いはそれ以上の厚さに形成されている。平坦化絶縁膜54は、例えばSOG(Spin On Grass)、BPSG(Boro−phospho−Silicate Glass)、アクリル樹脂等が用いられている。また、反射型領域において、平坦化絶縁膜54上に反射層56が設けられ、この反射層56および反射層56が設けられている反射領域と、反射層56が設けられていない透過領域を含む画素領域全体に画素電極28が形成される。画素電極28には、ITO等の透明導電膜が用いられる。なお、この画素電極28は、接続用金属層55により平坦化絶縁膜54に設けられたコンタクトを介してTFT30のソース電極52に接続されている。   Further, a flattening insulating film 54 for flattening is formed to have a thickness of about 1 μm or more so as to cover the TFT 30 and the interlayer insulating film 48. For the planarization insulating film 54, for example, SOG (Spin On Glass), BPSG (Boro-phospho-Silicate Glass), acrylic resin, or the like is used. Further, the reflection type region includes a reflection layer 56 on the planarization insulating film 54, and includes a reflection region where the reflection layer 56 and the reflection layer 56 are provided, and a transmission region where the reflection layer 56 is not provided. A pixel electrode 28 is formed in the entire pixel region. A transparent conductive film such as ITO is used for the pixel electrode 28. The pixel electrode 28 is connected to the source electrode 52 of the TFT 30 through a contact provided on the planarization insulating film 54 by the connecting metal layer 55.

画素電極28とTFT30のソース電極52とを接続する接続用金属層55に求められる条件は、
(i)IZOやITOなどからなる画素電極28との電気的接続がとれること、
(ii)TFT30のAlなどのソース電極52と電気的にコンタクトでき、ソース電極52が省略される場合には、半導体(ここでは多結晶シリコン)能動層と電気的接続できること、
(iii)画素ごとの個別形状に反射層56をパターニングする際に、この反射層56のエッチング液によって除去されないこと、
などである。このような接続用金属層55としては、Mo、Ti、Crなどの高融点金属材料を用いることが好適である。
The conditions required for the connecting metal layer 55 that connects the pixel electrode 28 and the source electrode 52 of the TFT 30 are:
(I) An electrical connection with the pixel electrode 28 made of IZO, ITO, or the like can be obtained.
(Ii) It can be electrically contacted with a source electrode 52 such as Al of the TFT 30, and when the source electrode 52 is omitted, it can be electrically connected to a semiconductor (here, polycrystalline silicon) active layer;
(Iii) When the reflective layer 56 is patterned into individual shapes for each pixel, the reflective layer 56 is not removed by the etching solution.
Etc. As such a connection metal layer 55, it is preferable to use a refractory metal material such as Mo, Ti, or Cr.

なお、図5の構成では、平坦化絶縁膜54の各画素領域内の反射領域と透過領域の境界付近に透過領域側が薄くなるようにしてその表面に所望の角度の傾斜面が形成されている。従って、この平坦化絶縁膜54を覆って反射層56を積層することで、反射層56の表面に同様な傾斜が形成される。このような傾斜面を適切な角度、位置に形成すれば、各画素毎における反射光の向きを制御して射出することができる。もちろん、このような傾斜面は必ずしも存在しなくてもよい。   In the configuration of FIG. 5, an inclined surface having a desired angle is formed on the surface of the planarizing insulating film 54 so that the transmissive region side is thin in the vicinity of the boundary between the reflective region and the transmissive region in each pixel region. . Therefore, by laminating the reflective layer 56 so as to cover the planarization insulating film 54, a similar inclination is formed on the surface of the reflective layer 56. If such an inclined surface is formed at an appropriate angle and position, the direction of the reflected light in each pixel can be controlled and emitted. Of course, such an inclined surface does not necessarily exist.

さらに、平坦化絶縁膜54を反射領域で十分に厚くして、反射領域における液晶層の厚さを薄くすることで、液晶層の光路長を反射領域と非反射領域とで合わせることができる。   Furthermore, by making the planarization insulating film 54 sufficiently thick in the reflective region and reducing the thickness of the liquid crystal layer in the reflective region, the optical path length of the liquid crystal layer can be matched between the reflective region and the non-reflective region.

上述のように反射層56はAl−Nd合金などの導電性材料によって構成されるが、この反射層56上に積層される画素電極28と、反射層56とは電気的に絶縁される。絶縁される理由は、Alなどからなる反射層56の表面が、画素電極28の材料としてIZOや、ITO等をスパッタリングによって成膜される際に、スパッタリング雰囲気に晒されることで、その表面で酸化反応が起き、自然酸化膜で覆われるためである。そこで、本実施形態では、反射層56の上に形成した透明導電層を画素電極28として用いて液晶層62に表示内容に応じた電圧を印加する。   As described above, the reflective layer 56 is made of a conductive material such as an Al—Nd alloy, but the pixel electrode 28 laminated on the reflective layer 56 and the reflective layer 56 are electrically insulated. The reason for the insulation is that the surface of the reflective layer 56 made of Al or the like is oxidized on the surface by being exposed to a sputtering atmosphere when IZO or ITO or the like is formed as a material of the pixel electrode 28 by sputtering. This is because the reaction takes place and is covered with a natural oxide film. Therefore, in the present embodiment, a voltage corresponding to the display content is applied to the liquid crystal layer 62 using the transparent conductive layer formed on the reflective layer 56 as the pixel electrode 28.

また、図4から図6に示すように、画素電極28を覆うように第1基板40のほぼ全面には、液晶分子を垂直方向に配向させるための配向膜として、例えばポリイミド等を用いた第1垂直配向膜60が形成されている。   Further, as shown in FIGS. 4 to 6, for example, polyimide is used as an alignment film for aligning liquid crystal molecules in the vertical direction on almost the entire surface of the first substrate 40 so as to cover the pixel electrode 28. One vertical alignment film 60 is formed.

以上のような各素子が形成された第1基板側と液晶層62を挟んで対向配置される第2基板側は、第1基板と同様にガラス等から構成されており、図4から図6に示すように、第1基板40との対向側表面には、液晶分子を垂直方向に配向させるための配向膜として、例えばポリイミド等を用いた第2垂直配向膜64が形成されている。   The first substrate side on which each element as described above is formed and the second substrate side disposed opposite to each other with the liquid crystal layer 62 interposed therebetween are made of glass or the like, similar to the first substrate. As shown in FIG. 2, a second vertical alignment film 64 using, for example, polyimide is formed on the surface facing the first substrate 40 as an alignment film for aligning liquid crystal molecules in the vertical direction.

第2垂直配向膜64の第2基板70側には、図4から図6に示すように、対向する画素電極28とで液晶を駆動するためのITOなどからなる第2電極である対向電極66が形成されている。また、対向電極66の第2基板70側には画素電極28と対応するようにRGBのカラーフィルタ68が所定の配列で形成されている。カラーフィルタ68の画素18間には隣接画素との光の干渉を避けるためブラックマトリクス72が設けられる。なお、図5に示すように、本実施形態では、遮光パターン34と、ブラックマトリクス72の両方を設けているが、通常はいずれか一方のみを設ける。   On the second substrate 70 side of the second vertical alignment film 64, as shown in FIGS. 4 to 6, the counter electrode 66, which is a second electrode made of ITO or the like for driving the liquid crystal with the opposing pixel electrode 28. Is formed. In addition, RGB color filters 68 are formed in a predetermined arrangement on the second substrate 70 side of the counter electrode 66 so as to correspond to the pixel electrodes 28. A black matrix 72 is provided between the pixels 18 of the color filter 68 in order to avoid light interference with adjacent pixels. As shown in FIG. 5, in the present embodiment, both the light shielding pattern 34 and the black matrix 72 are provided, but usually only one of them is provided.

次に、上述した構成の機能について説明する。Hドライバ12には、互いに逆の極性を持つ第1のデータ信号電圧VDa及び第2のデータ信号電圧VDbが入力される。通常は、これらデータ信号電圧VDam、VDbは、ビデオ信号ラインにより供給され、またRGB毎に別の信号として供給される。   Next, functions of the above-described configuration will be described. A first data signal voltage VDa and a second data signal voltage VDb having opposite polarities are input to the H driver 12. Normally, these data signal voltages VDam and VDb are supplied by a video signal line, and are supplied as separate signals for each of RGB.

Hドライバ12は、入力されてくる水平クロック信号に応じて、データ信号電圧VDa、VDbを対応するデータラインDLに供給する。すなわち、ビデオ信号ラインには、各データラインDLがそれぞれスイッチを介し接続しており、Hドライバ12はこのスイッチを順次オンしてビデオ信号ラインに供給されているデータ信号電圧VDa、VDbを対応するデータラインDLに供給する。Vドライバ16は、GL24を順次選択して、ゲート信号GVを印加する。   The H driver 12 supplies the data signal voltages VDa and VDb to the corresponding data line DL according to the input horizontal clock signal. That is, each data line DL is connected to the video signal line via a switch, and the H driver 12 sequentially turns on the switch to correspond to the data signal voltages VDa and VDb supplied to the video signal line. Supply to the data line DL. The V driver 16 sequentially selects the GL 24 and applies the gate signal GV.

なお、第1の補助容量ライン26aには、第1の補助容量電圧が供給され、第2の補助容量ライン26bには、第1の補助容量電圧とは逆の極性をもつ第2の補助容量電圧が供給される。   The first auxiliary capacitance line 26a is supplied with a first auxiliary capacitance voltage, and the second auxiliary capacitance line 26b is supplied with a second auxiliary capacitance having a polarity opposite to that of the first auxiliary capacitance voltage. Voltage is supplied.

第1の補助容量32a及び第2の補助容量32bは、DL22からTFT30を介して供給されたデータ信号電圧VDによる電荷を1フレーム期間保持する。   The first auxiliary capacitor 32a and the second auxiliary capacitor 32b hold the charge due to the data signal voltage VD supplied from the DL 22 via the TFT 30 for one frame period.

対向電極66には、一定の電圧Vcomが印加され、画素電極28に印加されたデータ信号電圧VDの電圧差により液晶が駆動される。   A constant voltage Vcom is applied to the counter electrode 66, and the liquid crystal is driven by the voltage difference of the data signal voltage VD applied to the pixel electrode 28.

なお、本実施形態では、できるだけ画像のムラやフリッカを小さくするために第1及び第2の補助容量ラインが、1つの画素電極を単位として、行方向において交互に補助容量電極を有する構成としている。しかし、本発明はこれに限定されることはなく、複数画素を単位として、利用する補助容量電極を交互に変更する構成としても構わない。例えば、RGBを表示する3つの画素を一つの単位として、この単位ごとに第1もしくは第2の補助容量ラインのいずれかを利用する構成としても構わない。   In the present embodiment, the first and second auxiliary capacitance lines are configured to alternately have auxiliary capacitance electrodes in the row direction in units of one pixel electrode in order to reduce image unevenness and flicker as much as possible. . However, the present invention is not limited to this, and an auxiliary capacitance electrode to be used may be alternately changed in units of a plurality of pixels. For example, a configuration may be adopted in which three pixels that display RGB are used as one unit, and either the first or second auxiliary capacitance line is used for each unit.

また、本実施形態において、ダブルゲート型のTFTを例示したが、本発明はこれに限定されず、ゲート電極は1つでも、3つ以上でも構わない。また、補助容量ラインをゲートラインと同じ層に形成していたが、補助容量ラインをゲートラインと別の層に形成してもよい。   In this embodiment, a double gate type TFT is exemplified, but the present invention is not limited to this, and the number of gate electrodes may be one or three or more. Further, although the auxiliary capacitance line is formed in the same layer as the gate line, the auxiliary capacitance line may be formed in a layer different from the gate line.

また、本実施形態において、表示領域20の同一色の画素が垂直方向に直線的に並ぶストライプ配列するものとしたが、画素の配列はストライプ配列に限定されない。例えば、画素は図8に示すようにデルタ配列としても構わない。   In the present embodiment, the pixels of the same color in the display area 20 are arranged in a stripe arrangement in a straight line in the vertical direction, but the arrangement of the pixels is not limited to the stripe arrangement. For example, the pixels may have a delta arrangement as shown in FIG.

図8に示す液晶表示装置において、多結晶シリコン薄膜43で構成される補助容量電極32xは、対応する液晶容量CLCが属する画素に隣接する両隣の画素領域まで延びている。この構成によれば、補助容量電極32xの幅が画素の幅に制限されることがない。補助容量CSCは、能動層42と重畳する補助容量電極32xの面積に比例するため、画素ピッチの極小化、SCライン幅の細化等により、当該画素内において補助容量電極32xの面積が所望の補助容量CSCを確保することができない場合においても、隣接画素領域にまで補助容量電極32xが延びることにより、所望の補助容量CSCを確保することができる。本構成が実現できるのは、行方向に隣接する画素間において、補助容量が、それぞれ異なる補助容量ライン26a、26bを交互に利用して構成されていることによる。したがって、補助容量電極32xの境界は、2つ隣の同じ補助容量ラインにより補助容量を構成する画素に属する補助容量電極32xと絶縁できる位置になる。すなわち、隣接する画素の中央から絶縁が確保できる幅だけ狭い領域をおけば両側の画素の補助容量電極をそこまで伸ばすことができる。なお、図8に液晶表示装置において、スイッチング素子であるTFT30を構成する多結晶シリコン薄膜は、TFT30の能動層と補助容量電極32xが一体に形成されている。すなわち、前の実施形態のように、ソース電極52を介し、TFT30のソース領域と、補助容量電極を接続するのではなく、ソース領域を形成する多結晶シリコン薄膜43がそのまま延長形成され補助容量電極となっている。   In the liquid crystal display device shown in FIG. 8, the auxiliary capacitance electrode 32x formed of the polycrystalline silicon thin film 43 extends to both adjacent pixel regions adjacent to the pixel to which the corresponding liquid crystal capacitance CLC belongs. According to this configuration, the width of the auxiliary capacitance electrode 32x is not limited to the width of the pixel. Since the auxiliary capacitance CSC is proportional to the area of the auxiliary capacitance electrode 32x overlapping the active layer 42, the area of the auxiliary capacitance electrode 32x within the pixel is desired by minimizing the pixel pitch, reducing the SC line width, or the like. Even when the auxiliary capacitance CSC cannot be secured, the desired auxiliary capacitance CSC can be secured by extending the auxiliary capacitance electrode 32x to the adjacent pixel region. This configuration can be realized because the auxiliary capacitors are configured by alternately using different auxiliary capacitor lines 26a and 26b between pixels adjacent in the row direction. Therefore, the boundary of the auxiliary capacitance electrode 32x is a position where it can be insulated from the auxiliary capacitance electrode 32x belonging to the pixel constituting the auxiliary capacitance by the two adjacent auxiliary capacitance lines. That is, if a region narrow enough to ensure insulation from the center of adjacent pixels is provided, the auxiliary capacitance electrodes of the pixels on both sides can be extended to that extent. In the liquid crystal display device shown in FIG. 8, an active layer of the TFT 30 and the auxiliary capacitance electrode 32x are integrally formed in the polycrystalline silicon thin film constituting the TFT 30 as a switching element. That is, as in the previous embodiment, the source region 52 is not connected to the source region of the TFT 30 via the source electrode 52, but the polycrystalline silicon thin film 43 forming the source region is extended as it is, and the auxiliary capacitor electrode It has become.

また、本実施形態に係る液晶表示装置10は、垂直配向型(Vatically Aligned;VA)であることが好適である。また、VA型を採用し、LCDの一層の視野角の拡大と表示品質の向上のため、電極不在部(窓)もしくは突起などを画素内に設けて液晶の配向を1画素内で分割することが好ましい。例えば図9に示すように、対向電極66にX字状の電極不在部を各画素電極28と対向する領域に配向制御窓80として形成する。電極不在部による配向制御窓80は、各画素の反射領域に1つ、2つの透過領域にそれぞれ1つづつ設けられ、各領域内において液晶の配向を分割している。   In addition, the liquid crystal display device 10 according to the present embodiment is preferably of a vertically aligned type (VA). In addition, adopting the VA type, in order to further expand the viewing angle of LCD and improve display quality, the absence of electrodes (windows) or protrusions are provided in the pixels to divide the liquid crystal alignment within one pixel. Is preferred. For example, as shown in FIG. 9, an X-shaped electrode absence portion is formed in the counter electrode 66 as an alignment control window 80 in a region facing each pixel electrode 28. One alignment control window 80 due to the absence of the electrode is provided in the reflection region of each pixel and one in each of the two transmission regions, and the alignment of the liquid crystal is divided in each region.

この電極不在部による配向分割は、画素電極28と対向電極66との間に電圧を印加し始めたときの弱電界の傾きを利用している。この弱電界下では、電極不在部からの電気力線は、電極不在部による配向制御窓80の端部、つまり、電極の端から電極不在部の中央に向かって広がるように斜めに傾く。そして、負の誘電率異方性を有する液晶の短軸が、この斜めの電気力線に沿うように配向していくので、液晶への印加電圧の上昇に追随して液晶分子が初期の垂直配向状態から倒れていく方角が斜め電界によって規定される。   This alignment division by the absence of the electrode utilizes the gradient of the weak electric field when a voltage starts to be applied between the pixel electrode 28 and the counter electrode 66. Under this weak electric field, the electric lines of force from the electrode absent portion are inclined so as to spread from the end of the orientation control window 80 by the electrode absent portion, that is, from the end of the electrode toward the center of the electrode absent portion. Then, since the minor axis of the liquid crystal having negative dielectric anisotropy is aligned along the oblique lines of electric force, the liquid crystal molecules follow the rise in the voltage applied to the liquid crystal and the initial vertical liquid crystal molecules The direction of falling from the orientation state is defined by the oblique electric field.

また、対向電極66の上又は電極の下に突起部を形成した場合、これらを覆って形成される配向膜64には、突起に応じた傾斜が形成される。液晶は配向膜64の面に垂直に配向されるため、したがってここでは対向電極66側に設けられた突起を境に液晶の配向を分割できる。なお、以上では、電極不在構造を対向電極に設けるものとしたが、画素電極側に設けても良い。   In addition, when the protrusions are formed on the counter electrode 66 or below the electrodes, the alignment film 64 formed so as to cover them has an inclination corresponding to the protrusion. Since the liquid crystal is aligned perpendicular to the surface of the alignment film 64, therefore, the alignment of the liquid crystal can be divided here with the protrusion provided on the counter electrode 66 side as a boundary. In the above description, the electrode absence structure is provided on the counter electrode, but may be provided on the pixel electrode side.

[液晶表示装置の動作]
図10は、本実施形態に係る液晶表示装置10における各制御信号の関連を示すタイミングチャートであり、ゲート信号GV(GV1〜3)、第1の補助容量ラインSC1の電位Vsca、第2の補助容量ラインSC2の電位Vscbのタイミングを示している。
[Operation of liquid crystal display]
FIG. 10 is a timing chart showing the relationship between the control signals in the liquid crystal display device 10 according to the present embodiment. The gate signal GV (GV1 to GV3), the potential Vsca of the first auxiliary capacitance line SC1, and the second auxiliary signal. The timing of the potential Vscb of the capacitor line SC2 is shown.

まず、1フレームの始めに垂直スタート信号STVにパルスが発生され、STVが所定時間だけ立ち上がる。垂直スタート信号STVの立ち下がりに応じて、各水平ラインにデータ信号電圧を供給するために、ゲート信号GV1,GV2、・・・が順番に1水平走査期間内においてHレベルになる。すなわち、最初に、ゲート信号GV1が立ち上がり、1行目のGL1にゲート信号GV1が供給される。従って、GL1に接続されたTFT30がオンになる。なお、水平スタート信号STHのパルスは、Hドライブ内の水平転送シフトレジスタに水平クロック信号CKHに従って順次転送される。   First, a pulse is generated in the vertical start signal STV at the beginning of one frame, and STV rises for a predetermined time. In order to supply the data signal voltage to each horizontal line in response to the fall of the vertical start signal STV, the gate signals GV1, GV2,... Sequentially become H level within one horizontal scanning period. That is, first, the gate signal GV1 rises, and the gate signal GV1 is supplied to GL1 in the first row. Accordingly, the TFT 30 connected to GL1 is turned on. The pulse of the horizontal start signal STH is sequentially transferred according to the horizontal clock signal CKH to the horizontal transfer shift register in the H drive.

1行目のゲートラインGL1にゲート信号GV1が供給されている期間(Hレベルの期間)中に、水平クロック信号CKHが所定の周期で立ち上がり、立ち下がりを繰り返す。この周期は、画素毎のデータ信号電圧VDからなる映像信号のデータ信号電圧VDの切り替わりに同期しており、従ってSTHのHレベルを取り込んだレジスタによってスイッチがオンされ、そのデータラインDLに接続されている画素についてのデータ信号電圧VDが順次供給される。また、2本の容量ラインSCLは、GLがLレベルに立ち下がった後に、状態が互いに反転し、1フレームの期間その状態を維持する。すなわち、データ電圧を補助容量に書き込み、TFT30を閉じた後、容量ラインSCLの電圧がシフトする。従って、1つの画素としては、1フレームごとにシフト方向が反転する。なお、1つの画素におけるデータ電圧VDも1フレームごとに反転し、容量ラインSCLによる電圧シフトの方向は常に保持容量に保持された電圧がVcomから離れる方向に設定されている。   During the period (H level period) in which the gate signal GV1 is supplied to the gate line GL1 in the first row, the horizontal clock signal CKH rises and falls repeatedly at a predetermined cycle. This cycle is synchronized with the switching of the data signal voltage VD of the video signal consisting of the data signal voltage VD for each pixel. Therefore, the switch is turned on by the register that takes in the H level of STH and connected to the data line DL. The data signal voltage VD for the current pixel is sequentially supplied. In addition, after the GL falls to the L level, the two capacitor lines SCL are inverted from each other and maintained in that state for one frame. That is, after the data voltage is written to the auxiliary capacitor and the TFT 30 is closed, the voltage of the capacitor line SCL shifts. Therefore, the shift direction is inverted for each pixel for each frame. Note that the data voltage VD in one pixel is also inverted every frame, and the direction of voltage shift by the capacitor line SCL is always set to the direction in which the voltage held in the holding capacitor is away from Vcom.

全てのDLにデータ信号電圧VDが印加されると、1行目のゲートラインGL1のゲート信号GV1はLowレベルとなり、これに接続されるTFT30はオフとなる。そして、順次ゲート信号GV2、ゲート信号GV3のパルスが立ち上がり、2行目のゲートラインGL2にはゲート信号GV2、3行目のゲートラインGL3にはゲート信号GV3がそれぞれ印加され、上記の動作を繰り返す。   When the data signal voltage VD is applied to all the DLs, the gate signal GV1 of the gate line GL1 in the first row becomes the Low level, and the TFT 30 connected thereto is turned off. Then, the pulses of the gate signal GV2 and the gate signal GV3 sequentially rise, the gate signal GV2 is applied to the second gate line GL2, and the gate signal GV3 is applied to the third gate line GL3, and the above operation is repeated. .

そして、全てのゲートラインGLにゲート信号GVが順次供給されると、再び垂直スタート信号STVのパルスが立ち上がり、それに同期して1行目のゲートラインGL1にゲート信号GVが供給され、同様の動作を繰り返す。   When the gate signal GV is sequentially supplied to all the gate lines GL, the pulse of the vertical start signal STV rises again, and the gate signal GV is supplied to the gate line GL1 in the first row in synchronism with this, so that the same operation is performed. repeat.

図11は、本実施形態に係る液晶表示装置10の駆動方法を示す信号波形図であり、ゲートライン方向に隣り合う画素領域における1フレーム間の信号波形を示している。図11Aは、第1の補助容量32aの信号波形を示し、図11Bは、第2の補助容量32bの信号波形を示すこととする。   FIG. 11 is a signal waveform diagram showing a driving method of the liquid crystal display device 10 according to this embodiment, and shows a signal waveform between one frame in a pixel region adjacent in the gate line direction. 11A shows the signal waveform of the first auxiliary capacitor 32a, and FIG. 11B shows the signal waveform of the second auxiliary capacitor 32b.

図11Aおよび図11Bには、1つの画素に印加されるゲート電圧VG、画素電圧VP、ソース電圧VS、データ信号電圧VD、補助容量電圧VSC、対向電極電圧Vcomが示されている。図11Aは、Vcomより高い電圧のデータ電圧VDを書き込む画素を示しており、図11BVcomより低い電圧のデータ電圧VDを書き込む画素を示している。   11A and 11B show a gate voltage VG, a pixel voltage VP, a source voltage VS, a data signal voltage VD, an auxiliary capacitance voltage VSC, and a counter electrode voltage Vcom applied to one pixel. FIG. 11A shows a pixel to which the data voltage VD having a voltage higher than Vcom is written, and FIG. 11B shows a pixel to which the data voltage VD having a voltage lower than Vcom is written.

ゲート電圧VGは、1フレーム間に一度、1水平期間のON期間(TFT30のオン期間)がある。ゲート電圧VGのON期間において、GLに印加されるゲート電圧VGが高(以下、「High」という。)レベルになる。この期間中、TFT30がオンしてドレイン・ソース間が導通し、ソース電圧VSが、データラインDLに印加されているデータ信号電圧VDに追従して同じレベルになり、液晶容量CLC及び補助容量CSCの一方(CSCaまたはCSCbのいずれか一方)に印加される。ゲートのOFF期間になるとゲート電圧VGがLowレベルとなってTFT30がオフし、ソース電圧VSが決まるとともに、ゲート電圧VGの立ち下がりに伴ってΔVsだけレベルが降下し、ソース電極の電圧(=画素電極の電圧)はVPLとなる。なお、このΔVsは、ゲートライン電圧VGの変化量や寄生容量などによって決定される電圧である。   The gate voltage VG has one horizontal period (on period of the TFT 30) once per frame. During the ON period of the gate voltage VG, the gate voltage VG applied to the GL is at a high level (hereinafter referred to as “High”). During this period, the TFT 30 is turned on and the drain-source is made conductive, and the source voltage VS follows the data signal voltage VD applied to the data line DL to the same level, and the liquid crystal capacitor CLC and the auxiliary capacitor CSC. (One of CSCa or CSCb). When the gate is turned off, the gate voltage VG becomes low level and the TFT 30 is turned off, the source voltage VS is determined, and the level is lowered by ΔVs as the gate voltage VG falls, and the voltage of the source electrode (= pixel The voltage of the electrode is VPL. Note that ΔVs is a voltage determined by the amount of change in the gate line voltage VG, parasitic capacitance, and the like.

一方、対向電極電圧Vcomは一定の電圧で、予めソース電圧VSの降下分ΔVsだけ、データ信号電圧VDのセンターレベルVCよりも低下したレベルにある。   On the other hand, the counter electrode voltage Vcom is a constant voltage and is at a level that is lower than the center level VC of the data signal voltage VD by a drop ΔVs of the source voltage VS in advance.

各補助容量ラインには、対応するゲートラインGLに印加されるゲート電圧VGの立ち下がり後に反転する補助容量電圧VSCが印加される。補助容量電圧VSCはVSCH及びVSCLという高低2つのレベル間で反転し、例えば、ソース電圧VSが対向電極電圧Vcomよりも高い正極性期間では、図11Aに示すように、ゲート電圧VGの立ち下がり後に、低いレベルVSCLから高いレベルVSCHに立ち上がる。したがって、ゲート電圧VGが立ち下がってソース電圧VSがいったん決まり得られた画素電圧VPは、補助容量CSCを介して補助容量電圧VSCの立ち上がりの影響を受けてΔVPだけ上昇する。このときの画素電圧VPが、ゲートのOFF期間中、保持される。   Each auxiliary capacitance line is applied with an auxiliary capacitance voltage VSC that is inverted after the fall of the gate voltage VG applied to the corresponding gate line GL. The auxiliary capacitance voltage VSC is inverted between two levels, VSCH and VSCL. For example, in the positive polarity period in which the source voltage VS is higher than the common electrode voltage Vcom, as shown in FIG. 11A, after the fall of the gate voltage VG. , Rising from the low level VSCL to the high level VSCH. Therefore, the pixel voltage VP once the source voltage VS can be determined by the fall of the gate voltage VG rises by ΔVP due to the influence of the rise of the auxiliary capacitance voltage VSC via the auxiliary capacitance CSC. The pixel voltage VP at this time is held during the gate OFF period.

このように、補助容量電圧VSCの立ち上がりによって、この補助容量電圧の変化量に応じて画素電圧VPがシフトするが、液晶容量CLCと補助容量CSC間で電荷の再配分が生じ、画素電圧VPは、ΔVP=VPH−VPLだけ上昇する。   As described above, the pixel voltage VP shifts in accordance with the amount of change in the auxiliary capacitance voltage due to the rise of the auxiliary capacitance voltage VSC. However, charge redistribution occurs between the liquid crystal capacitance CLC and the auxiliary capacitance CSC, and the pixel voltage VP is , ΔVP = VPH−VPL.

また、ソース電圧VSが対向電極電圧Vcomよりも低い負極期間では、図11Bに示すように、補助容量電圧VSCは正側から負側へ立ち下がるので、画素電圧VPは、ΔVPだけ降下する。   In addition, in the negative electrode period in which the source voltage VS is lower than the counter electrode voltage Vcom, as shown in FIG. 11B, the auxiliary capacitance voltage VSC falls from the positive side to the negative side, so the pixel voltage VP drops by ΔVP.

この結果、図11A、図11Bのいずれの場合においても、補助容量電圧VSCの変化によって、画素電圧VPの振幅(Vcomとの差)が大きくなり、液晶容量CLCに印加される電圧を大きくすることができる。つまり、補助容量電圧VSCを2つのレベルに反転させることによって、対向電極電圧Vcomを一定電圧としても、データ信号電圧VDの振幅を小さくすることができ、ドット反転駆動を低消費電力で行うことができる。なお、上述のように、行方向において隣接する画素において、2つの補助容量ラインSCLaまたはSCLbのうちの異なる補助容量ラインSCLに接続され、データラインDLに供給するデータ電圧VDも極性を反転しているので、ドット反転駆動が達成されている。なお、各画素において1フレームごとに供給するデータ電圧VDの極性および補助容量電圧VSCのHレベル、Lレベルが反転されるため、AC駆動が達成されている。   As a result, in either case of FIG. 11A or FIG. 11B, the amplitude of the pixel voltage VP (difference from Vcom) increases due to the change of the auxiliary capacitance voltage VSC, and the voltage applied to the liquid crystal capacitance CLC is increased. Can do. That is, by inverting the auxiliary capacitance voltage VSC to two levels, the amplitude of the data signal voltage VD can be reduced even when the counter electrode voltage Vcom is constant, and dot inversion driving can be performed with low power consumption. it can. As described above, in a pixel adjacent in the row direction, the data voltage VD that is connected to a different auxiliary capacitance line SCL of the two auxiliary capacitance lines SCLa or SCLb and supplied to the data line DL is also inverted in polarity. Therefore, dot inversion driving has been achieved. Note that AC drive is achieved because the polarity of the data voltage VD supplied for each frame and the H level and L level of the auxiliary capacitance voltage VSC are inverted in each pixel.

本発明の実施形態に係る半透過型液晶表示装置の構成の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of a structure of the transflective liquid crystal display device which concerns on embodiment of this invention. 図1の半透過型液晶表示装置の第1基板側の概略を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view schematically showing a first substrate side of the transflective liquid crystal display device of FIG. 1. 図1の半透過型液晶表示装置の等価回路を示す図である。It is a figure which shows the equivalent circuit of the transflective liquid crystal display device of FIG. 図1のA−A線に沿った位置における半透過型液晶表示装置の概略断面構成を示す図である。It is a figure which shows schematic sectional structure of the transflective liquid crystal display device in the position along the AA line of FIG. 図1のB−B線に沿った位置における半透過型液晶表示装置の概略断面構成を示す図である。It is a figure which shows schematic sectional structure of the transflective liquid crystal display device in the position along the BB line of FIG. 図1のC−C線に沿った位置における半透過型液晶表示装置の概略断面構成を示す図である。It is a figure which shows schematic sectional structure of the transflective liquid crystal display device in the position along the CC line | wire of FIG. 図1に示す半透過型液晶表示装置のにおける反射層56の配置を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing an arrangement of a reflective layer 56 in the transflective liquid crystal display device shown in FIG. 1. デルタ配列とした半透過型液晶表示装置の平面図である。It is a top view of the transflective liquid crystal display device made into the delta arrangement. VA型の半透過型液晶表示装置の配向制御窓を示す図である。It is a figure which shows the orientation control window of a VA type transflective liquid crystal display device. 本実施形態に係る液晶表示装置における各制御信号の関連を示すタイミングチャートである。4 is a timing chart showing the relationship between control signals in the liquid crystal display device according to the present embodiment. 本実施形態に係る液晶表示装置の駆動方法を示す信号波形図である。It is a signal waveform diagram which shows the drive method of the liquid crystal display device which concerns on this embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

10 液晶表示装置、12,14,16 ドライバ、18 画素、20 表示領域、22 データライン、24 ゲートライン、26 補助容量ライン、28 画素電極、30 TFT、32 補助容量、34 遮光パターン、40,70 基板、42 能動層、43 シリコン薄膜、44 ゲート絶縁膜、46 第1金属層、48 層間絶縁膜、50 第2金属層、52 ソース電極、52g 短絡処理領域、54 平坦化絶縁膜、55 接続用金属層、56 反射層、60,64 配向膜、 62 液晶層、66 対向電極、68 カラーフィルタ、72 ブラックマトリクス、80 配向制御窓。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Liquid crystal display device 12, 14, 16 Driver, 18 pixels, 20 Display area, 22 Data line, 24 Gate line, 26 Auxiliary capacity line, 28 Pixel electrode, 30 TFT, 32 Auxiliary capacity, 34 Shading pattern, 40, 70 Substrate, 42 active layer, 43 silicon thin film, 44 gate insulating film, 46 first metal layer, 48 interlayer insulating film, 50 second metal layer, 52 source electrode, 52g short-circuited region, 54 planarization insulating film, 55 for connection Metal layer, 56 reflective layer, 60, 64 alignment film, 62 liquid crystal layer, 66 counter electrode, 68 color filter, 72 black matrix, 80 alignment control window.

Claims (4)

複数の画素がマトリクス配置され、前記各画素毎にその画素における液晶に対する印加電圧を制御するアクティブマトリクス型液晶表示装置であって、
行方向に複数延在し、ゲート電圧が印加されるゲートラインと、
列方向に複数延在し、データ信号が印加されるデータラインと、
前記ゲートラインと前記データラインとの交点に対応して各画素毎に配置されるスイッチング素子と、
各画素毎に設けられ、前記スイッチング素子に接続される画素電極と、
前記画素電極が設けられる領域の少なくとも一部に設けられ前記液晶層を通過してきた光を反射する反射層と、
前記画素の各行に対してそれぞれ設けられる第1および第2の補助容量ラインと、
前記補助容量ラインに対し補助容量電極を絶縁膜を介し重畳することで形成される補助容量と、
を有し、
前記第1及び第2の補助容量ラインは、前記各画素において前記反射層の形成領域内であって液晶層が位置する側に対し反対の側を通過するように配置されることを特徴とする液晶表示装置。
A plurality of pixels are arranged in a matrix, and an active matrix liquid crystal display device that controls an applied voltage to liquid crystal in each pixel,
A plurality of gate lines extending in the row direction to which a gate voltage is applied;
A plurality of data lines extending in the column direction to which data signals are applied;
A switching element disposed for each pixel corresponding to the intersection of the gate line and the data line;
A pixel electrode provided for each pixel and connected to the switching element;
A reflective layer that is provided in at least a part of a region where the pixel electrode is provided and reflects light that has passed through the liquid crystal layer;
First and second auxiliary capacitance lines respectively provided for each row of the pixels;
An auxiliary capacitance formed by superimposing an auxiliary capacitance electrode on the auxiliary capacitance line through an insulating film;
Have
The first and second auxiliary capacitance lines are arranged so as to pass through the opposite side to the side where the liquid crystal layer is located in the reflective layer formation region in each pixel. Liquid crystal display device.
請求項1に記載の液晶表示装置において、
前記ゲートラインは、前記第1および第2の補助容量ラインの間に配置されることを特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1.
The liquid crystal display device, wherein the gate line is disposed between the first and second auxiliary capacitance lines.
請求項1または2に記載の液晶表示装置において、
前記反射層は、各画素の液晶層を光が通過してくる部分の一部のみに設けられており、前記反射層が設けられていない部分においては液晶層を通過してきた光はそのまま透過することを特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1 or 2,
The reflection layer is provided only in a part of the portion where light passes through the liquid crystal layer of each pixel, and the light passing through the liquid crystal layer is transmitted as it is in a portion where the reflection layer is not provided. A liquid crystal display device characterized by the above.
請求項3に記載の液晶表示装置において、
前記反射層は、画素の行方向の中央部分にのみに設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 3.
The liquid crystal display device, wherein the reflective layer is provided only at a central portion in a row direction of pixels.
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