JP2006010995A - Method for forming alignment film, and liquid crystal display device using alignment film, and method for manufacturing display device - Google Patents

Method for forming alignment film, and liquid crystal display device using alignment film, and method for manufacturing display device Download PDF

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Kotaro Araya
康太郎 荒谷
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve problems associated with a display malfunction due to uneven film thickness, a high cost of a manufacturing device and so on with respect to an inkject printing method which uses a smaller amount of an alignment layer varnish than those of a relief printing method, a spin coat method and so on, though it is a method for forming an alignment layer hopeful in future. <P>SOLUTION: In the method for forming the alignment layer, the alignment layer varnish is applied to a substrate by using one inkjet head, wherein surface tension of the alignment layer varnish is 32 dyne/cm or less and further the varnish contains a solvent of which the boiling point is 175°C or more. Thereby the method for forming the alignment layer without any residual mark of linking between alignment layer varnish application is provided and the cost of the manufacturing device is reduced. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、基板上に配向膜ワニスを塗布する配向膜形成方法及びそれを用いた液晶表示装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an alignment film forming method for applying an alignment film varnish on a substrate, a liquid crystal display device using the alignment film varnish, and a method for manufacturing the same.

液晶表示装置の製造方法において、ガラス基板上の限定された領域全面に配向膜ワニスを塗布または印刷する方法及び装置として下記に示すいくつかの方法が知られている。
(1)図1に示すように、ドクターロール1,アニックスロール3,液体吐出口2,版胴4から構成され、版胴に固定された樹脂製の凸版5からガラス基板6に配向膜ワニスを塗布する凸版印刷方法である。
(2)回転台に水平に固定されたガラス基板の中央部に、液体吐出口から配向膜ワニスを滴下した後、基板を回転させ、配向膜ワニスを塗布するスピンコート塗布方法である(特許文献1)。
(3)搬送台に水平に固定されたガラス基板上に、液体吐出口から配向膜ワニスを噴霧して、ガラス基板に配向膜ワニスを塗布するスプレイ塗布方法である(特許文献2)。
(4)インクジェットヘッドを用いて、搬送されたガラス基板に配向膜ワニスを塗布するインクジェット印刷方法である(特許文献3)。
In the manufacturing method of a liquid crystal display device, several methods shown below are known as a method and apparatus for applying or printing an alignment film varnish on the entire surface of a limited region on a glass substrate.
(1) As shown in FIG. 1, an alignment film varnish is formed on a glass substrate 6 from a resin relief plate 5 which is composed of a doctor roll 1, an anix roll 3, a liquid discharge port 2, and a plate cylinder 4 and fixed to the plate cylinder. It is a letterpress printing method to apply.
(2) A spin coat coating method in which an alignment film varnish is dropped from a liquid discharge port onto a central portion of a glass substrate horizontally fixed on a turntable, and then the substrate is rotated to apply the alignment film varnish (Patent Document) 1).
(3) A spray coating method in which an alignment film varnish is sprayed from a liquid discharge port onto a glass substrate that is horizontally fixed on a transport table, and the alignment film varnish is applied to the glass substrate (Patent Document 2).
(4) An inkjet printing method in which an alignment film varnish is applied to a conveyed glass substrate using an inkjet head (Patent Document 3).

特開平6−21468号公報JP-A-6-21468 特開2001−174819号公報JP 2001-174819 A 特開平9−105937号公報JP-A-9-105937

凸版印刷による配向膜形成方法は、塗布方法としては生産性が高いことから最も良く用いられている方法であるが、多くの問題点を抱えている。第一番目に配向膜ワニスの使用量が多いという点である。これは配向膜ワニスを凸版以外に、アニックスロール,ドクターロールにも塗布するためである。第二番目に液晶表示装置に特有の課題とされる歩留まり低下である。これは主に凸版による接触塗布であるため、凸版からのコンタミ混入に起因している。第三番目に多品種対応に時間が掛かりすぎる点である。これは基板上の配向膜形成領域の大きさが替わった場合、凸版そのものを替える必要があるためである。   The alignment film forming method by letterpress printing is the most commonly used coating method because of its high productivity, but it has many problems. First, the amount of alignment film varnish used is large. This is because the alignment film varnish is applied to an anix roll and a doctor roll in addition to the letterpress. Second, the yield is a problem that is peculiar to liquid crystal display devices. Since this is mainly contact coating with a relief printing plate, it is caused by contamination from the relief printing plate. The third point is that it takes too much time to handle various products. This is because when the size of the alignment film forming region on the substrate is changed, it is necessary to change the relief plate itself.

スピンコート塗布による配向膜形成方法は、非接触塗布であるため、凸版印刷でのコンタミ混入等を回避できる配向膜形成方法である。ただし、大きなガラス基板では生産性が低いという問題を抱えており、量産適用には向いていない配向膜形成方法である。また、基板上の配向膜形成領域に塗布するにはマスクが必要であり、そのため不必要な配向膜ワニスを使用せざるを得ない。また、マスクを用いない場合は、配向膜ワニスがガラス基板の裏側に回りこむ欠点がある。   Since the alignment film forming method by spin coating is non-contact application, it is an alignment film forming method that can avoid contamination and the like in letterpress printing. However, this is a method of forming an alignment film that has a problem that productivity is low with a large glass substrate and is not suitable for mass production. Further, a mask is required to apply to the alignment film forming region on the substrate, and therefore an unnecessary alignment film varnish must be used. Moreover, when a mask is not used, there exists a fault that an alignment film varnish will wrap around to the back side of a glass substrate.

スプレイ塗布による配向膜形成方法は、スピンコート塗布同様、非接触塗布であるため、凸版印刷でのコンタミ混入等を回避できる塗布方法である。ただし、この場合も基板上の限定された配向膜形成領域に塗布するにはマスクが必要であり、そのため不必要な配向膜ワニスを使用せざるを得ない。   Since the alignment film forming method by spray coating is non-contact coating like spin coating, it is a coating method that can avoid contamination and the like in letterpress printing. However, in this case as well, a mask is required to apply to a limited alignment film forming region on the substrate, and therefore an unnecessary alignment film varnish must be used.

インクジェット印刷による配向膜形成方法は、スプレイ塗布及びスピンコート塗布同様、非接触塗布であるため、凸版印刷でのコンタミ混入等を回避できる塗布方法である。また、配向膜ワニスも必要量しか使用せず、凸版印刷よりもコスト低減が可能である。さらに、基板上の配向膜形成領域の大きさが替わった場合、配向膜ワニスの噴出パターンを変更するだけでよく、凸版印刷よりもより短時間で多品種対応が可能である。   The alignment film forming method by ink jet printing is a non-contact coating method similar to spray coating and spin coating coating, and is therefore a coating method that can avoid contamination and the like in letterpress printing. Further, only the necessary amount of the alignment film varnish is used, and the cost can be reduced as compared with letterpress printing. Furthermore, when the size of the alignment film forming region on the substrate is changed, it is only necessary to change the ejection pattern of the alignment film varnish, and it is possible to cope with various types in a shorter time than letterpress printing.

このように、インクジェット印刷による配向膜形成方法は多くの利点を有する反面、これから量産適用される大型基板に対する配向膜形成という観点からは非常に深刻な問題点を抱えていると言わざるを得ない。一般に、大型基板短辺の長さより小さいの幅を有するインクジェットヘッドを2つ以上組み上げて塗布装置に付設し、基板の長辺に沿って一回の走査で配向膜ワニスを塗布するのが理想的である。しかしながら、ヘッド数の膨大さに起因して多くの課題が生じてくる。一つは製造装置コストが大きくなると言う点である。もう一つはインクジェットヘッドの制御系も複雑になり、インクジェットヘッド間の飛翔バラツキも大きくなる点である。これらに加えて、インクジェットヘッドのメンテナンスも膨大になり、尚且つ、一つのインクジェットヘッドに不具合が生じたら装置全体が機能しなくなってしまうし、不具合時の交換作業も大掛かりなものになってしまう。このように大型基板に対する配向膜形成という観点から信頼性の課題がクローズアップされてくる。   As described above, the alignment film forming method by ink jet printing has many advantages, but it must be said that it has a very serious problem from the viewpoint of forming an alignment film for a large-sized substrate to be mass-produced. . In general, it is ideal to assemble two or more inkjet heads having a width smaller than the length of the short side of the large substrate and attach them to the coating device, and apply the alignment film varnish in one scan along the long side of the substrate. It is. However, many problems arise due to the huge number of heads. One is that the cost of the manufacturing apparatus increases. Another is that the control system of the ink jet head is complicated, and the flying variation between the ink jet heads is also increased. In addition to these, maintenance of the ink jet head becomes enormous, and if a problem occurs in one ink jet head, the entire apparatus becomes inoperable, and replacement work at the time of the trouble becomes large. Thus, the problem of reliability is highlighted from the viewpoint of forming an alignment film on a large substrate.

上記の課題を解決するために、配向ワニスの溶液としての揮発特性および濡れ性に関して鋭意検討した結果、インクジェット印刷によるコンタミ混入回避,コスト低減,多品種対応などの長所を残したまま、大型基板に対応できる配向膜形成方法を見出し、本発明に至った。   In order to solve the above-mentioned problems, as a result of intensive studies on the volatile characteristics and wettability of the alignment varnish as a solution, it is possible to produce large substrates while maintaining the advantages such as contamination contamination avoidance by inkjet printing, cost reduction, and multi-product compatibility. The inventors have found a method for forming an alignment film that can be used, and have reached the present invention.

本発明は、一つのインクジェットヘッドを用いて基板上に配向膜ワニスを塗布し配向膜を形成する方法であり、前記配向膜ワニスが溶媒の一つとして表面張力が32dyne/cm以下であり、且つ、沸点が175℃以上の溶媒を含んでいる方法である。このような配向膜形成方法を用いることにより、製造装置コストを低減できるばかりでなく、ランニングコストも低減できる。また、一つのインクジェットヘッドしか用いないため、インクジェットヘッド間の飛翔バラツキも生じない。また、不具合時の交換作業も容易となる。また、本発明は同様の配向膜ワニスを用い、一つのインクジェットヘッドを2回以上折り返し走査して基板上に配向膜ワニスを塗布し配向膜を形成する方法や、基板を2回以上折り返し走査して一つのインクジェットヘッドから配向膜ワニスを基板上に塗布し配向膜を形成する方法にかかる。   The present invention is a method of forming an alignment film by applying an alignment film varnish on a substrate using a single inkjet head, wherein the alignment film varnish is one of solvents and has a surface tension of 32 dyne / cm or less, and , A method including a solvent having a boiling point of 175 ° C. or higher. By using such an alignment film forming method, not only the manufacturing apparatus cost can be reduced, but also the running cost can be reduced. Further, since only one inkjet head is used, there is no flying variation between the inkjet heads. In addition, replacement work in the event of a failure is also facilitated. In the present invention, the same alignment film varnish is used, and a method of forming an alignment film by applying an alignment film varnish on a substrate by scanning a single ink jet head twice or more, or scanning a substrate twice or more. Then, an alignment film varnish is applied to a substrate from one inkjet head to form an alignment film.

また、本発明は、上記の方法により配向膜を形成することを特徴とする表示装置の製造方法や、上記方法により形成された配向膜を有することを特徴とする表示装置にかかる。   The present invention also relates to a method for manufacturing a display device characterized in that an alignment film is formed by the above method, and a display device comprising the alignment film formed by the above method.

また、本発明は表面張力が32dyne/cm以下であり、且つ、沸点が175℃以上の溶媒を含む配向膜を有する表示装置にかかる。これにより、従来のインクジェット印刷による配向膜形成方法の適用時にしばしば見られた膜厚むらもなく表示特性に優れた製品を提供するだけでなく、生産性向上や装置コスト低減によりコストパフォーマンスにも優れた製品を提供できる。   The present invention also relates to a display device having an alignment film containing a solvent having a surface tension of 32 dyne / cm or less and a boiling point of 175 ° C. or higher. This not only provides products with excellent film display characteristics that are often observed when applying alignment film formation methods by conventional inkjet printing, but also improves cost performance by improving productivity and reducing equipment costs. Product can be provided.

本発明によれば一つのインクジェットヘッドを用いて基板上に配向膜ワニスを塗布し配向膜を形成する方法であって、前記配向膜ワニスの表面張力が32dyne/cm以下であり、且つ、沸点が175℃以上の溶媒を含んでいることにより、配向膜ワニス間のつなぎ目残痕のない配向膜形成方法を提供でき、製造装置コストの低減も図れる。   According to the present invention, there is provided a method for forming an alignment film by applying an alignment film varnish on a substrate using a single inkjet head, wherein the alignment film varnish has a surface tension of 32 dyne / cm or less and a boiling point. By including a solvent at 175 ° C. or higher, it is possible to provide a method for forming an alignment film without a joint mark between alignment film varnishes, and to reduce the manufacturing apparatus cost.

(実施例1)
本発明に係る配向膜形成方法およびそれを用いた液晶表示装置の製造方法の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
Example 1
Embodiments of an alignment film forming method and a liquid crystal display manufacturing method using the same according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

配向膜形成に使用する配向膜ワニスはポリアミック酸を溶質とし、有機溶媒を溶剤とする高分子溶液である。ここでは、主材料であるポリアミック酸と有機溶媒について述べるが、溶質の一部として可溶性ポリイミドが含まれていてもとくにかまわない。   The alignment film varnish used for forming the alignment film is a polymer solution containing polyamic acid as a solute and an organic solvent as a solvent. Here, the polyamic acid which is the main material and the organic solvent will be described, but it is not particularly limited even if a soluble polyimide is included as a part of the solute.

本実施例で使用した配向膜ワニスの溶質はジアミン誘導体としてp−フェニレンジアミン、カルボン酸誘導体としてピロメリット酸二無水物を出発物質としたポリアミック酸である。ポリアミック酸の出発物質となるジアミン誘導体やカルボン酸誘導体としては本実施例以外の組み合せでも同様な効果が得られる。たとえば、ジアミン誘導体としてm−フェニレンジアミン、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジアミノジフェニルメタン、4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′−ジアミノジフェニルプロパン、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ジアミノジフェニルスルホン、1,5−ジアミノナフタレン、2,6−ジアミノナフタレン、4,4′−ジアミノターフェニル、1,1−メタキシリレンジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジブチル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジブトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、2,4−ジアミノ−1−オクチルベンゼン、2,4−ジアミノ−1−オクチルオキシベンゼン、2,4−ジアミノ−1−メトキシメチレンベンゼン、2,4−ジアミノ−1−ブトキシメチレンベンゼン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、1,6−ジアミノヘキサン、1,8−ジアミノオクタン、1,10−ジアミノデカン、1,12−ジアミノドデカン、2,2−ビス〔4−(p−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(p−アミノフェノキシ)フェニル〕ブタン、2,2−ビス〔4−
(p−アミノフェノキシ)フェニル〕ペンタン、2,2−ビス〔4−(p−アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサン、2,2−ビス〔4−(p−アミノフェノキシ)フェニル〕オクタン、2,2−ビス〔4−(p−アミノフェノキシ)フェニル〕デカン、2,2−ビス〔4−(p−アミノフェノキシ)フェニル〕トリデカン、2,2−ビス〔4−(p−アミノフェノキシ)フェニル〕ペンタデカン、2,2−ビス〔4−(p−アミノフェノキシ)フェニル〕メタン、2,2−ビス〔4−(p−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス〔4−(p−アミノフェノキシ)フェニル〕ケトン、2,2−ビス〔4−
(p−アミノフェノキシ)フェニル〕ビフェニル、2,2−ビス〔4−(p−アミノフェノキシ)フェニル〕シクロヘキサン、2,2−ビス〔4−(p−アミノフェノキシ)フェニル〕メチルシクロヘキサン、2,2−ビス〔4−(p−アミノフェノキシ)フェニル〕プロピルシクロヘキサン、ビス〔4−(p−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸〕プロパン、ビス〔4−(m−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸〕プロパン、ビス〔4−(p−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸〕ペンタン、ビス〔4−(p−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸〕オクタン、ビス〔4−(p−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸〕エタン、ビス〔4−(p−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸〕デカン、ビス〔4−(p−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸〕シクロヘキサン、ビス〔4−(p−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸〕メチルシクロヘキサン、ビス〔4−(p−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸〕メタン、ビス〔4−(p−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸〕ブタン、ビス
〔4−(m−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸〕ブタン、ビス〔4−(p−アミノメチルベンゾイルオキシ)安息香酸〕プロパン、ビス〔4−(p−アミノエチルベンゾイルオキシ)安息香酸〕プロパン、ビス〔4−(p−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸〕オクタデカン、ビス〔4−(p−アミノベンゾイルオキシ)安息香酸〕ヘプタン、ビス(p−アミノベンゾイルオキシ)プロパン、ビス(p−アミノベンゾイルオキシ)メタン、ビス(p−アミノベンゾイルオキシ)エタン、ビス(p−アミノベンゾイルオキシ)ブタン、ビス(p−アミノベンゾイルオキシ)ペンタン、ビス(p−アミノベンゾイルオキシ)ヘキサン、ビス(p−アミノベンゾイルオキシ)ヘプタン、ビス(p−アミノベンゾイルオキシ)オクタン、ビス(p−アミベンゾイルオキシ)ノナン、ビス(p−アミノベンゾイルオキシ)デカン、ビス(p−アミノベンゾイルオキシ)ドデカン、ビス(p−アミノベンゾイルオキシ)ドデカン、ビス(p−アミノベンゾイルオキシ)テトラデカン、ビス
(p−アミノベンゾイルオキシ)オクタデカン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔4−(2−アミノフェノキシ)−3,5−ジメチルフェニル〕ヘキサフルオロプロパン、p−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼン、4,4′−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ビフェニル、4,4′−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ジフェニルスルホン、ジアミノシロキサンなどが挙げられる。
The solute of the alignment film varnish used in this example is a polyamic acid starting from p-phenylenediamine as a diamine derivative and pyromellitic dianhydride as a carboxylic acid derivative. The same effect can be obtained by combining diamine derivatives and carboxylic acid derivatives as starting materials for polyamic acid in combinations other than this example. For example, m-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane as diamine derivatives 3,3'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6-diaminonaphthalene, 4,4'-diaminoterphenyl 1,1-metaxylylenediamine, 1,4-diaminocyclohexane, isophthalic acid dihydrazide, sebacic acid dihydrazide, succinic acid dihydrazide, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dibutyl -4,4'-di Minodiphenylmethane, 3,3'-dibutoxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,4-diamino-1-octylbenzene, 2,4-diamino-1-octyloxybenzene, 2,4-diamino-1-methoxy Methylenebenzene, 2,4-diamino-1-butoxymethylenebenzene, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 1,6-diaminohexane, 1,8-diaminooctane, 1,10-diaminodecane 1,12-diaminododecane, 2,2-bis [4- (p-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (p-aminophenoxy) phenyl] butane, 2,2-bis [ 4-
(P-aminophenoxy) phenyl] pentane, 2,2-bis [4- (p-aminophenoxy) phenyl] hexane, 2,2-bis [4- (p-aminophenoxy) phenyl] octane, 2,2- Bis [4- (p-aminophenoxy) phenyl] decane, 2,2-bis [4- (p-aminophenoxy) phenyl] tridecane, 2,2-bis [4- (p-aminophenoxy) phenyl] pentadecane, 2,2-bis [4- (p-aminophenoxy) phenyl] methane, 2,2-bis [4- (p-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (p-aminophenoxy) Phenyl] ketone, 2,2-bis [4-
(P-aminophenoxy) phenyl] biphenyl, 2,2-bis [4- (p-aminophenoxy) phenyl] cyclohexane, 2,2-bis [4- (p-aminophenoxy) phenyl] methylcyclohexane, 2,2 -Bis [4- (p-aminophenoxy) phenyl] propylcyclohexane, bis [4- (p-aminobenzoyloxy) benzoic acid] propane, bis [4- (m-aminobenzoyloxy) benzoic acid] propane, bis [ 4- (p-aminobenzoyloxy) benzoic acid] pentane, bis [4- (p-aminobenzoyloxy) benzoic acid] octane, bis [4- (p-aminobenzoyloxy) benzoic acid] ethane, bis [4- (P-aminobenzoyloxy) benzoic acid] decane, bis [4- (p-aminobenzoyloxy) benzoic acid ] Cyclohexane, bis [4- (p-aminobenzoyloxy) benzoic acid] methylcyclohexane, bis [4- (p-aminobenzoyloxy) benzoic acid] methane, bis [4- (p-aminobenzoyloxy) benzoic acid] Butane, bis [4- (m-aminobenzoyloxy) benzoic acid] butane, bis [4- (p-aminomethylbenzoyloxy) benzoic acid] propane, bis [4- (p-aminoethylbenzoyloxy) benzoic acid] Propane, bis [4- (p-aminobenzoyloxy) benzoic acid] octadecane, bis [4- (p-aminobenzoyloxy) benzoic acid] heptane, bis (p-aminobenzoyloxy) propane, bis (p-aminobenzoyl) Oxy) methane, bis (p-aminobenzoyloxy) ethane, bis (p-amino) Nzoyloxy) butane, bis (p-aminobenzoyloxy) pentane, bis (p-aminobenzoyloxy) hexane, bis (p-aminobenzoyloxy) heptane, bis (p-aminobenzoyloxy) octane, bis (p-amibenzoyl) Oxy) nonane, bis (p-aminobenzoyloxy) decane, bis (p-aminobenzoyloxy) dodecane, bis (p-aminobenzoyloxy) dodecane, bis (p-aminobenzoyloxy) tetradecane, bis (p-aminobenzoyl) Oxy) octadecane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis [ 4- (2-Aminophenoxy) -3,5 Dimethylphenyl] hexafluoropropane, p-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) biphenyl, 4,4'-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) diphenylsulfone, diaminosiloxane and the like can be mentioned.

カルボン酸誘導体としてメチルピロメリット酸二無水物、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ジフェニルメタンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ジフェニルプロパンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕プロパンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕オクチルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)フェニル〕プロパンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)フェニル〕トリデカンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕トリデカンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸クロライド、4,
4′−ジフェニルエーテルジカルボン酸、4,4′−ジフェニルエーテルジカルボン酸クロライド、4,4′−ジフェニルメタンジカルボン酸、4,4′−ジフェニルメタンジカルボン酸クロライド,イソフタル酸,イソフタル酸クロライド,アジピン酸,アジピン酸クロライド,ステアリン酸,ステアリン酸クロライドなどが挙げられる。
Methyl pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride as carboxylic acid derivatives, 3, 3 ', 4,4'-diphenylmethane tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride Anhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenylpropanetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis [4- (3,4 -Dicarboxyphenoxy) phenyl] propanetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] hexafluoropropanetetracarbo Acid dianhydride, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] octyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxybenzoyloxy) Phenyl] propanetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxybenzoyloxy) phenyl] tridecanetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis [4- (3 4-dicarboxyphenoxy) phenyl] tridecanetetracarboxylic dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, butanetetracarboxylic dianhydride, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid chloride, 4,
4'-diphenyl ether dicarboxylic acid, 4,4'-diphenyl ether dicarboxylic acid chloride, 4,4'-diphenylmethane dicarboxylic acid, 4,4'-diphenylmethane dicarboxylic acid chloride, isophthalic acid, isophthalic acid chloride, adipic acid, adipic acid chloride, Examples include stearic acid and stearic acid chloride.

本実施例で使用した配向膜ワニスの溶媒は、オクタノール(2−エチルヘキサノール)10wt%とN−メチル−2−ピロリドン90wt%からなる混合有機溶媒である。本実施例では配向膜ワニスの溶媒としてはポリアミック酸に対する溶解性の大きい溶媒と表面張力が小さく、かつ沸点の高い溶媒から選択される。表面張力の小さい溶媒を混入するのは基板に対する濡れ性を良くするためであり、沸点の高い溶媒を使用するのは濡れ性を維持するためである。本実施例ではポリアミック酸に対する溶解性の大きい溶媒としてN−メチル−2−ピロリドン、表面張力が小さく、かつ沸点の高い溶媒としてオクタノールを選択している。オクタノールの表面張力は30dyne/cmであり、その沸点は184℃である。ポリアミック酸に対する溶解性の大きい溶媒としてN−メチル−2−ピロリドン以外に、ジメチルホルムアミド,ジメチルアセトアミド,ジメチルスルホキサイド,スルフォラン,ブチルラクトン,クレゾール,フェノール,シクロヘキサノン,ジオキサン,テトラヒドロフラン,ブチルセルソルブ,ブチルセルソルブアセテ−ト,アセトフェノンなどを用いることができる。表面張力が32dyne/cm以下であり、かつ沸点の175℃以上である溶媒としてはオクタノール以外に、デカノール,ノナノール,トリデカノール,ジエチレングリコールモノブチルエーテル,エチレングリコールモノヘキシルエーテル,エチレングリコールモノオクチルエーテル,ジプロピレングリコールモノメチルエーテルなどを用いることができる。   The solvent of the alignment film varnish used in this example is a mixed organic solvent composed of 10 wt% octanol (2-ethylhexanol) and 90 wt% N-methyl-2-pyrrolidone. In this embodiment, the solvent for the alignment film varnish is selected from a solvent having a high solubility in polyamic acid and a solvent having a low surface tension and a high boiling point. The reason why the solvent having a small surface tension is mixed is to improve the wettability with respect to the substrate, and the reason why the solvent having a high boiling point is used is to maintain the wettability. In this example, N-methyl-2-pyrrolidone is selected as a solvent having high solubility in polyamic acid, and octanol is selected as a solvent having a low surface tension and a high boiling point. The surface tension of octanol is 30 dyne / cm and its boiling point is 184 ° C. In addition to N-methyl-2-pyrrolidone as a solvent with high solubility in polyamic acid, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, sulfolane, butyllactone, cresol, phenol, cyclohexanone, dioxane, tetrahydrofuran, butylcellosolve, butyl Cellsolve acetate, acetophenone, etc. can be used. In addition to octanol, decanol, nonanol, tridecanol, diethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol monooctyl ether, dipropylene glycol are the solvents having a surface tension of 32 dyne / cm or less and a boiling point of 175 ° C. or higher. Monomethyl ether or the like can be used.

(実施例2)
つぎに、インクジェット印刷方式による配向膜形成について説明する。図2に示すように配向膜塗布装置は配向膜ワニスが飛翔する吐出口を複数有する液体吐出ヘッド7と、吐出ノズルからの配向膜ワニス飛翔を駆動する吐出駆動素子を制御する吐出駆動制御装置9,配向膜ワニスを貯蔵する液体貯蔵容器10と、前記液体貯蔵容器10と液体吐出ヘッド7を連結する供給管8と、図には示してはいないがガラス基板6を搬送する手段とを備えている。つぎに、この配向膜ワニス塗布装置を用いた塗布方法について説明する。配向膜ワニスは液体貯蔵容器10から押し出され、供給管8を通り、液体吐出ヘッド7に送られる。吐出駆動制御装置9による吐出駆動素子のコントロールにより液体吐出ヘッド7から配向膜ワニスを飛翔し、搬送台で搬送されるガラス基板6の上の配向膜形成領域に塗布されることになる。このインクジェット印刷方式で基板上に配向膜ワニスを塗布する工程について説明する。ここでは、カラーフィルタ側のガラス基板への塗工について説明するが、TFT(薄膜トランジスタ)側のガラス基板に対する塗工でもとくに変わるところはない。図2に示したガラス基板6の大きさは280mm(長辺側)×200mm(短辺側)で、厚みが1mmである。塗工表面はITO透明電極であり、塗工前には紫外線照射により表面汚染を除去しておくことが重要で、本実施例ではエキシマランプが付設された洗浄装置を使用した。これ以外に、紫外線照射光源として低圧水銀ランプが付設された洗浄装置も使用可能である。搬送台の搬送速度は250mm/秒である。液体吐出ヘッド7とガラス基板6のギャップは1mmになるように設計されている。吐出駆動制御装置9による液体吐出ヘッド7からの配向膜ワニスの吐出周期は500Hzである。ここで用いた配向膜ワニスの表面張力は36dyne/cm、粘度は20センチポアズであるが、これらの値は駆動電圧に依存しているためにとくに限定される値ではない。図4には1個の液体吐出ヘッドを用いて配向膜ワニスを基板の配向膜形成領域に塗布する方法を示している。図4(a)は塗工前、図4(b)は塗工中、図4(c)は塗工終了後である。矢印は塗工面の移動方向を示している。図4においては、ガラス基板が走査して折り返すため、配向膜ワニス間につなぎ目が生じる。しかしながら、表面張力が小さく、かつ沸点の高い溶媒であるオクタノールを用いていることにより飛翔した配向膜ワニス同士がつながり、乾燥後につなぎ目を観察することは出来なかった。ここではガラス基板を走査して折り返したが、液体吐出ヘッド7を走査して折り返しても良い。また、それらの組み合せでも良い。
(Example 2)
Next, alignment film formation by the ink jet printing method will be described. As shown in FIG. 2, the alignment film coating apparatus has a liquid discharge head 7 having a plurality of discharge ports through which the alignment film varnish flies, and a discharge drive control apparatus 9 that controls a discharge drive element that drives alignment film varnish flight from the discharge nozzle. , A liquid storage container 10 for storing the alignment film varnish, a supply pipe 8 for connecting the liquid storage container 10 and the liquid discharge head 7, and means for transporting the glass substrate 6 (not shown). Yes. Next, a coating method using this alignment film varnish coating apparatus will be described. The alignment film varnish is extruded from the liquid storage container 10, passes through the supply pipe 8, and is sent to the liquid discharge head 7. The alignment film varnish flies from the liquid discharge head 7 by controlling the discharge drive element by the discharge drive control device 9 and is applied to the alignment film forming region on the glass substrate 6 which is transferred by the transfer table. A process of applying the alignment film varnish on the substrate by this ink jet printing method will be described. Here, the application to the glass substrate on the color filter side will be described, but there is no particular change in the application to the glass substrate on the TFT (thin film transistor) side. The size of the glass substrate 6 shown in FIG. 2 is 280 mm (long side) × 200 mm (short side), and the thickness is 1 mm. The coating surface is an ITO transparent electrode, and it is important to remove surface contamination by ultraviolet irradiation before coating. In this example, a cleaning apparatus provided with an excimer lamp was used. In addition, a cleaning apparatus provided with a low-pressure mercury lamp as an ultraviolet irradiation light source can be used. The conveyance speed of the conveyance table is 250 mm / second. The gap between the liquid discharge head 7 and the glass substrate 6 is designed to be 1 mm. The discharge cycle of the alignment film varnish from the liquid discharge head 7 by the discharge drive control device 9 is 500 Hz. The alignment film varnish used here has a surface tension of 36 dyne / cm and a viscosity of 20 centipoise, but these values are not particularly limited because they depend on the driving voltage. FIG. 4 shows a method of applying the alignment film varnish to the alignment film formation region of the substrate using one liquid discharge head. FIG. 4 (a) is before coating, FIG. 4 (b) is during coating, and FIG. 4 (c) is after coating. Arrows indicate the direction of movement of the coated surface. In FIG. 4, since the glass substrate is scanned and folded, a joint is formed between the alignment film varnishes. However, by using octanol which is a solvent having a low surface tension and a high boiling point, the flying alignment film varnishes are connected to each other, and a joint cannot be observed after drying. Although the glass substrate is scanned and folded here, the liquid discharge head 7 may be scanned and folded. Also, a combination thereof may be used.

本実施例では、図5に示したような表面がITO透明電極18であるカラーフィルタ側ガラス基板について説明したが、表面が有機保護膜であるカラーフィルタ側ガラス基板や、表面が有機層間絶縁膜または無機層間絶縁膜のTFT基板側ガラス基板に対して本実施例の方法で配向膜を印刷してもかまわない。   In this embodiment, the color filter side glass substrate whose surface is the ITO transparent electrode 18 as shown in FIG. 5 has been described. However, the color filter side glass substrate whose surface is an organic protective film and the surface is an organic interlayer insulating film Alternatively, the alignment film may be printed on the TFT substrate side glass substrate of the inorganic interlayer insulating film by the method of this embodiment.

本実施例では、乾燥後につなぎ目が観察できないことを述べたが、これ以外に湿度60%,温度25度に保たれた容器内で塗布を実施しているため、揮発による白濁は観測されなかった。また、乾燥後に塗布領域を観察したところ、ピンホールも観察されなかった。得られた配向膜の膜厚は91nmであり、上下端部や左右端部での膜厚誤差はいずれも5%以内であった。   In this example, it was stated that the seam could not be observed after drying, but since the application was performed in a container maintained at 60% humidity and 25 ° C., no cloudiness due to volatilization was observed. . Further, when the coated area was observed after drying, no pinholes were observed. The film thickness of the obtained alignment film was 91 nm, and the film thickness errors at the upper and lower end portions and the left and right end portions were all within 5%.

(比較例1)
配向膜ワニスの溶媒としてエチレングリコールモノブチルエーテル10wt%とN−メチル−2−ピロリドン90wt%からなる混合有機溶媒を用いた以外、実施例と同じ方法で配向膜を作製した。エチレングリコールモノブチルエーテル表面張力は27dyne/cmと小さいものの、沸点が171度と低い溶媒である点がオクタノールと異なる。塗布乾燥後、つなぎ目を観察したところ、明瞭につなぎ目を確認することができた。また、エチレングリコールモノブチルエーテル以外の溶媒として沸点が175℃未満であるブタノール,ペンタノール,ヘキサノール,プロピレングリコールモノメチルエーテル,プロピレングリコールモノプロピルエーテル,プロピレングリコールモノブチルエーテルを用いた場合も同様に、明瞭につなぎ目が観察された。これは、溶媒の沸点が低いため、インクジェットヘッドが折り返した時点で、最初に塗工された領域が乾燥していたためと思われる。
(Comparative Example 1)
An alignment film was prepared in the same manner as in Example except that a mixed organic solvent composed of 10 wt% ethylene glycol monobutyl ether and 90 wt% N-methyl-2-pyrrolidone was used as a solvent for the alignment film varnish. Although the surface tension of ethylene glycol monobutyl ether is as small as 27 dyne / cm, it is different from octanol in that it is a solvent having a boiling point as low as 171 degrees. When the joints were observed after coating and drying, the joints could be clearly confirmed. Similarly, when a butanol, pentanol, hexanol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether having a boiling point of less than 175 ° C. is used as a solvent other than ethylene glycol monobutyl ether, it is clearly connected. Was observed. This is presumably because the area where the ink was first applied was dry when the ink-jet head turned back because the boiling point of the solvent was low.

配向膜塗工時に、基板を室温以下にして溶媒の揮発を抑制することも検討したが、基板面内を一定に温度調整が困難であること、また、装置コストを増加させる欠点もある。さらに、これ以外に湿度60%,温度25度に保たれた容器内で塗布を実施しているにもかかわらず、基板を室温以下にしたため、配向膜表面に白濁化した領域が観察された。これは室温以下にしたことにより基板が結露したためと思われる。   Although it was also considered to suppress the volatilization of the solvent by lowering the substrate to room temperature or less when applying the alignment film, there are also drawbacks in that it is difficult to adjust the temperature uniformly within the substrate surface and the cost of the apparatus is increased. In addition, although the coating was carried out in a container maintained at a humidity of 60% and a temperature of 25 ° C., a white turbid region was observed on the alignment film surface because the substrate was brought to room temperature or lower. This is presumably because the substrate was condensed due to the temperature being lower than room temperature.

(比較例2)
配向膜ワニスの溶媒としては、比較例1と同じくエチレングリコールモノブチルエーテル10wt%とN−メチル−2−ピロリドン90wt%からなる混合有機溶媒を用いた。
(Comparative Example 2)
As a solvent for the alignment film varnish, a mixed organic solvent composed of 10 wt% ethylene glycol monobutyl ether and 90 wt% N-methyl-2-pyrrolidone was used as in Comparative Example 1.

本比較例では、大型基板短辺の長さより小さいの幅を有するインクジェットヘッドを2つ以上組み上げて塗布装置に付設し、基板の長辺に沿って一回の走査で配向膜ワニスの塗布をおこなった。図3には4個の液体吐出ヘッド7を用いて配向膜ワニスを基板の配向膜形成領域に塗布する方法を示している。図3(a)は塗工前、図3(b)は塗工中、図3(c)は塗工終了後である。矢印はヘッドの走査方向を示している。常套手段として配向膜ワニスが基板に濡れ広がるように基板表面を改質してから塗工するので、濡れ広がり領域11を形成しながら、塗工されることになる。したがって、図4のように液体吐出ヘッド7が折り返しによる配向膜ワニス間のつなぎ目は生じない。   In this comparative example, two or more inkjet heads having a width smaller than the length of the short side of the large substrate are assembled and attached to the coating apparatus, and the alignment film varnish is applied in one scan along the long side of the substrate. It was. FIG. 3 shows a method of applying the alignment film varnish to the alignment film formation region of the substrate using four liquid discharge heads 7. 3A is before coating, FIG. 3B is during coating, and FIG. 3C is after coating. The arrow indicates the scanning direction of the head. Since the coating is performed after modifying the substrate surface so that the alignment film varnish wets and spreads on the substrate as a conventional means, it is applied while forming the wet spreading region 11. Therefore, the joint between the alignment film varnishes does not occur due to the liquid discharge head 7 being folded back as shown in FIG.

しかしながら、この比較例のようにインクジェットヘッドを2つ以上組み上げているため、装置コストが増加する欠点がある。また、一つのインクジェットヘッドが不具合を生じると、装置全体が機能しなくなる短所もある。とくに、不具合のあるインクジェットヘッドを交換するのに、2つ以上組み上げて構成されるインクジェットヘッドおよび駆動装置全体を製造装置より取り外して修理する必要があり、段取り時間も大幅に増加せざるを得ないことも明らかになった。   However, since two or more ink jet heads are assembled as in this comparative example, there is a drawback that the apparatus cost increases. In addition, there is a disadvantage that the entire apparatus does not function if one ink jet head is defective. In particular, in order to replace a defective inkjet head, it is necessary to remove and repair the entire inkjet head and drive device constructed by assembling two or more from the manufacturing apparatus, and the setup time must be greatly increased. It became clear.

凸版印刷方法による配向膜ワニス塗布を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating alignment film varnish application | coating by a relief printing method. 本発明に係る配向膜形成方法による配向膜ワニス塗布を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating alignment film varnish application | coating by the alignment film formation method which concerns on this invention. 従来のインクジェット印刷方式による配向膜形成を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating alignment film formation by the conventional inkjet printing system. 本発明に係る配向膜形成方法における配向膜ワニスの濡れ広がりを説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the wetting spread of the alignment film varnish in the alignment film formation method which concerns on this invention. 本発明に係る配向膜形成を用いた液晶表示装置を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the liquid crystal display device using alignment film formation which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…ドクターロール、2…液体吐出口、3…アニックスロール、4…版胴、5…凸版、6…ガラス基板、7…液体吐出ヘッド、8…液体供給管、9…吐出駆動制御装置、10…液体貯蔵容器、11…濡れ広がり領域、12…未塗工領域、13,19…配向膜、14…コンタクトホール、15…TFTドレイン電極、16…無機保護膜、17…有機保護膜、18…ITO透明電極、20…オーバーコート膜、21…カラーフィルタ膜。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Doctor roll, 2 ... Liquid discharge port, 3 ... Anix roll, 4 ... Plate cylinder, 5 ... Letterpress, 6 ... Glass substrate, 7 ... Liquid discharge head, 8 ... Liquid supply pipe, 9 ... Discharge drive control apparatus, 10 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Liquid storage container, 11 ... Wet spreading area, 12 ... Uncoated area, 13, 19 ... Orientation film, 14 ... Contact hole, 15 ... TFT drain electrode, 16 ... Inorganic protective film, 17 ... Organic protective film, 18 ... ITO transparent electrode, 20 ... overcoat film, 21 ... color filter film.

Claims (6)

一つのインクジェットヘッドを用いて基板上に配向膜ワニスを塗布し配向膜を形成する方法であり、前記配向膜ワニスが溶媒の一つとして表面張力が32dyne/cm以下であり、且つ、沸点が175℃以上の溶媒を含んでいる配向膜形成方法。   A method of forming an alignment film by applying an alignment film varnish on a substrate using a single inkjet head, wherein the alignment film varnish is one of solvents and has a surface tension of 32 dyne / cm or less and a boiling point of 175. An alignment film forming method comprising a solvent at a temperature of 0 ° C. or higher. 一つのインクジェットヘッドを2回以上折り返し走査して基板上に配向膜ワニスを塗布し配向膜を形成する方法であり、前記配向膜ワニスが溶媒の一つとして表面張力が32
dyne/cm以下であり、且つ、沸点が175℃以上の溶媒を含んでいる配向膜形成方法。
In this method, a single inkjet head is turned back and forth twice to apply an alignment film varnish on the substrate to form an alignment film. The alignment film varnish is one of the solvents and the surface tension is 32.
An alignment film forming method comprising a solvent having a dyne / cm or less and a boiling point of 175 ° C. or more.
基板を2回以上折り返し走査して一つのインクジェットヘッドから配向膜ワニスを基板上に塗布し配向膜を形成する方法であり、前記配向膜ワニスが溶媒の一つとして表面張力が32dyne/cm以下であり、且つ、沸点が175℃以上の溶媒を含んでいる配向膜形成方法。   A method of forming an alignment film by applying an alignment film varnish onto a substrate from a single inkjet head by folding the substrate twice or more, wherein the alignment film varnish is one of solvents and has a surface tension of 32 dyne / cm or less. An alignment film forming method comprising a solvent having a boiling point of 175 ° C. or higher. 請求項1から請求項3までのいずれかに記載の配向膜形成方法により配向膜を形成することを特徴とする表示装置の製造方法。   A method for manufacturing a display device, comprising forming an alignment film by the alignment film forming method according to claim 1. 請求項1から請求項3までのいずれかに記載の配向膜形成方法により形成された配向膜を有することを特徴とする表示装置。   A display device comprising an alignment film formed by the alignment film forming method according to claim 1. 配向膜を有する表示装置であって、
前記配向膜は表面張力が32dyne/cm以下であり、且つ、沸点が175℃以上の溶媒を含むことを特徴とする表示装置。

A display device having an alignment film,
The display device, wherein the alignment film contains a solvent having a surface tension of 32 dyne / cm or less and a boiling point of 175 ° C. or more.

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