JP2006009082A - 基板ドーム回転機構 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空槽、真空槽内部に固定されるベース、ベースに取り付けられる回転機構、及び、成膜基板が搭載され回転機構によって水平に回転される基板ドームからなる真空装置であって、回転機構をベースから真空槽底面方向に着脱可能な構成とした。
【選択図】 図1
Description
上記の真空蒸着装置は、例えば特許文献1などに開示される。
基板ドーム回転機構42は、ドーム側歯車2、ドーム側歯車2に固定される回転軸6、ドーム側歯車2に接合して荷重方向の負荷を受けるスラストベアリング機構51、回転軸6に接合して円周方向の負荷をうけるラジアルベアリング機構52、スラストベアリング機構51及びラジアルベアリング機構52を支える軸受53、ボルト55によりドーム側歯車2に固定されるドームキャッチャー10とにより構成され、ドーム側歯車2が駆動源41に接続する駆動源側歯車15からの伝達を受けて回転することにより、回転機構42が回転する構造となっている。
まず、ドーム側歯車2に回転軸6及びドームキャッチャー10を固定し、軸受5上にスラストベアリング機構3及びラジアルベアリング機構4を組立て、スラストベアリング機構3にドーム側歯車2を、ラジアルベアリング機構4に回転軸6を接合させた状態で軸受5をボルト7によりベース1に固定する。このとき、ドーム側歯車2とドームキャッチャー10との固定には皿ビス8を使用する。次に、基板11を搭載した基板ドーム12をドームキャッチャー10に取付け、皿ビス9で固定し、芯だしを行なう。駆動源のモーターによりドーム側歯車2を所定の回転数で回転をさせる。ドーム側歯車2とドームキャッチャー10との接続、及びドームキャッチャー10と基板ドーム12との接続に皿ビス8,9を使用することにより、ドーム側歯車2の中心と基板ドーム12の中心とを正確に合わせ、基板ドーム12を芯振れなく回転させることが可能となる。実施例で皿ビス8,9を使用することにより、メンテナンス時の作業者による個人差を解消し、芯振れを解消して、成膜時における膜厚分布の悪化を防止することが可能となった。
2 ドーム側歯車
3 スラストベアリング機構
4 ラジアルベアリング機構
5 軸受
6 回転軸
7 ボルト
8 皿ビス
9 皿ビス
10 ドームキャッチャー
11 成膜基板
12 基板ドーム
13 ヒータードーム
14 回転機構
15 駆動源側歯車
20 スチールボール
21 潤滑材
30 ストッパー
31 溝
40 真空槽
41 駆動源
42 回転機構
43 蒸着材料
44 坩堝
45 電子銃
46 シャッター
47 基板加熱ヒーター
50 ベース
51 スラストベアリング機構
52 ラジアルベアリング機構
53 軸受
54 ボルト
55 ボルト
56 ボルト
60 粉塵
Claims (16)
- 真空槽、該真空槽内部に固定されるベース、該ベースに取り付けられる回転機構、及び、成膜基板が搭載され該回転機構によって水平に回転される基板ドームからなる真空装置であって、
該回転機構を該ベースから該真空槽底面方向に着脱可能な構成としたことを特徴とする真空装置。 - 請求項1記載の真空装置であって、
該回転機構が少なくとも、
該ドーム基板の回転中心と同じ回転中心を持つように配置され、該回転機構外部に設けられた駆動源からの動力により水平に回転されるドーム側歯車、
該ベースに対して該ドーム側歯車を支持するための支持手段、及び、
該基板ドームを該ドーム側歯車に取り付けるための保持手段からなり、
該ドーム側歯車の外径が該ベースの内径よりも小さいことを特徴とする真空装置。 - 請求項2記載の真空装置であって、
該支持手段が該ベースの下端に取り付けられることを特徴とする真空装置。 - 請求項2又は請求項3記載の真空装置であって、
該支持手段が、少なくとも、
該ドーム側歯車と同心円状に該ドーム側歯車に固定される回転軸、及び、
該ドーム側歯車と同心円状に配置され、該ベースに取り付けられる軸受からなり、
該軸受が該ベースの下端に取り付けられることを特徴とする真空装置。 - 請求項4記載の真空装置であって、
該支持手段が、さらに、
該ドーム側歯車と同心円状に配置され、該軸受に支持され該ドーム側歯車を支持するスラストベアリング、及び、
該ドーム側歯車と同心円状に配置され、該回転軸に設置されるラジアルベアリングからなることを特徴とする真空装置。 - 真空槽、該真空槽内部に固定されるベース、該ベースに取り付けられる回転機構、及び、成膜基板が搭載され該回転機構によって水平に回転される基板ドームからなる真空装置であって、
該回転機構が少なくとも、
該ドーム基板の回転中心と同じ回転中心を持つように配置され、該回転機構外部に設けられた駆動源からの動力により水平に回転されるドーム側歯車、
該ベースに対して該ドーム側歯車を支持するための支持手段、及び、
該基板ドームを該ドーム側歯車に取り付けるための保持手段からなり、
該支持手段が、
該ドーム側歯車と同心円状に配置され、該軸受に支持され該ドーム側歯車を支持するスラストベアリング、及び、該ドーム側歯車と同心円状に配置され、該回転軸に設置されるラジアルベアリングからなることを特徴とする真空装置。 - 請求項5又は請求項6記載の真空装置であって、
該スラストベアリングと該ラジアルベアリングとが略同一平面上に配置されたことを特徴とする真空装置。 - 請求項5又は請求項6記載の真空装置であって、
該スラストベアリングが切る面の高さ方向の幅と該ラジアルベアリングが切る面の高さ方向の幅とが重なる部分を持つように配置されたことを特徴とする真空装置。 - 真空槽、該真空槽内部に固定されるベース、該ベースに取り付けられる回転機構、成膜基板が搭載され該回転機構によって水平に回転される基板ドーム、並びに、該回転機構が環状溝に収容した複数のボール及び潤滑油により構成されるベアリングからなる真空装置であって、
該基板ドームの上方に該基板ドームの少なくとも一部分を覆う粉塵受けを配置したことを特徴とする真空装置。 - 請求項9記載の真空装置であって、
該粉塵受けは該成膜基板加熱用のドームヒーターであることを特徴とする真空装置。 - 請求項10記載の真空装置であって、
該成膜基板加熱用のドームヒーターが該ベースに固定されたことを特徴とする真空装置。 - 請求項9から請求項11いずれか一項に記載の真空装置であって、
該回転機構は、さらに、
該ドーム側歯車と同心円状に該ドーム側歯車に固定される回転軸、及び、
該ドーム側歯車と同心円状に配置され、該ベースに取り付けられる軸受からなり、
該回転軸が外周方向に伸びる突起部を有し、
該粉塵受けは該突起部に設けられた溝であることを特徴とする真空装置。 - 請求項3から請求項12いずれか一項に記載の真空装置であって、
該保持手段の少なくとも1箇所に皿ビスを用いたことを特徴とする真空装置。 - 真空槽、成膜基板が搭載される基板ドーム、該基板ドームの直上に配置され該基板ドームを回転させる回転機構、及び、該真空槽の天板に配置され少なくとも該回転機構を該真空槽の内部に取り付けるベースからなる真空装置の組立分解方法であって、
少なくとも該回転機構を該真空槽底面側に着脱することを特徴とする組立分解方法。 - 請求項14記載の組立分解方法であって、
該回転機構と該基板ドームと固定する固定具をさらに有する真空装置において、
該固定具と該回転機構間、又は、該固定具と該基板ドーム間の少なくとも一方を皿ビスで固定し、該基板ドームの位置出しを行なうことを特徴とする組立分解方法。 - 真空槽、成膜材料を充填する蒸発源、成膜基板が搭載され該成膜材料に対向配置される基板ドーム、該基板ドームの直上に配置され該基板ドームを回転させる回転機構、及び、該真空槽の天板に配置され該回転機構又は回転機構及び基板ドームを該真空槽の内部に取り付けるベースからなる真空装置における該基板ドームを回転させた状態で該成膜基板に該成膜材料を堆積させる成膜方法であって、
該回転機構と該基板ドームの間に設けられた粉塵受けにより該回転機構から発生する粉塵を受けることを特徴とする成膜方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004187285A JP4002959B2 (ja) | 2004-06-25 | 2004-06-25 | 基板ドーム回転機構 |
PCT/JP2005/000851 WO2006001095A1 (ja) | 2004-06-25 | 2005-01-24 | 基板ドーム回転機構 |
KR1020067022026A KR100855174B1 (ko) | 2004-06-25 | 2005-01-24 | 기판 돔을 포함하는 진공 장치, 그 조립 및 분해 방법, 및 기판 돔을 포함하는 진공장치에서의 성막 방법 |
CN2005800131933A CN1946873B (zh) | 2004-06-25 | 2005-01-24 | 基板拱顶转动机构 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004187285A JP4002959B2 (ja) | 2004-06-25 | 2004-06-25 | 基板ドーム回転機構 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006009082A true JP2006009082A (ja) | 2006-01-12 |
JP2006009082A5 JP2006009082A5 (ja) | 2007-02-15 |
JP4002959B2 JP4002959B2 (ja) | 2007-11-07 |
Family
ID=35776645
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004187285A Expired - Fee Related JP4002959B2 (ja) | 2004-06-25 | 2004-06-25 | 基板ドーム回転機構 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4002959B2 (ja) |
KR (1) | KR100855174B1 (ja) |
CN (1) | CN1946873B (ja) |
WO (1) | WO2006001095A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008138276A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Tsukishima Kikai Co Ltd | 真空成膜装置 |
CN104651795A (zh) * | 2015-03-10 | 2015-05-27 | 丹阳市鼎新机械设备有限公司 | 一种镜片真空镀膜机用旋转台 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6019310B1 (ja) * | 2015-04-16 | 2016-11-02 | ナルックス株式会社 | 蒸着装置及び蒸着装置による成膜工程を含む製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2853267B2 (ja) * | 1990-05-25 | 1999-02-03 | 本田技研工業株式会社 | 3組の遊星歯車列を用いた一体遊星歯車変速機 |
JPH0754286Y2 (ja) * | 1990-06-27 | 1995-12-18 | 関西日本電気株式会社 | 蒸着用プラネタ |
KR960013625B1 (ko) * | 1992-12-22 | 1996-10-10 | 재단법인 한국전자통신연구소 | 진공 열증착장치 |
JPH0835065A (ja) * | 1994-07-22 | 1996-02-06 | Murata Mfg Co Ltd | 真空成膜装置 |
US6294025B1 (en) * | 1996-11-01 | 2001-09-25 | THEVA DüNNSCHICHTTECHNIK GMBH | Device for producing oxidic thin films |
JP4482972B2 (ja) * | 1999-09-08 | 2010-06-16 | 株式会社昭和真空 | 光学薄膜製造装置 |
-
2004
- 2004-06-25 JP JP2004187285A patent/JP4002959B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-01-24 KR KR1020067022026A patent/KR100855174B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2005-01-24 WO PCT/JP2005/000851 patent/WO2006001095A1/ja active Application Filing
- 2005-01-24 CN CN2005800131933A patent/CN1946873B/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008138276A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Tsukishima Kikai Co Ltd | 真空成膜装置 |
CN104651795A (zh) * | 2015-03-10 | 2015-05-27 | 丹阳市鼎新机械设备有限公司 | 一种镜片真空镀膜机用旋转台 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1946873B (zh) | 2010-09-29 |
KR100855174B1 (ko) | 2008-08-29 |
CN1946873A (zh) | 2007-04-11 |
WO2006001095A1 (ja) | 2006-01-05 |
KR20070024518A (ko) | 2007-03-02 |
JP4002959B2 (ja) | 2007-11-07 |
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A521 | Written amendment |
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|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
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A975 | Report on accelerated examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070424 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070531 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070702 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070723 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100831 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110831 Year of fee payment: 4 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110831 Year of fee payment: 4 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120831 Year of fee payment: 5 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313532 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120831 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130831 Year of fee payment: 6 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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