JP2005535871A - Solid state detector and optical system for microchip analyzer - Google Patents

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Abstract

電気泳動ベースのマイクロチップ及びマイクロアレイにおいて、蛍光標識された検体を検出するための小型化された光励起及び検出器システムを提供する。このシステムは、検出のために、微小な集積型構成要素、光収集、光学蛍光フィルタリング、並びに、アモルファスa−Si:H検出器を用いる。光の収集は近接収集及び/或はマイクロレンズ・システムによって達成される。光学フィルタリングは集積型光学フィルターによって達成される。検出はa-Si:H検出器を利用することで達成される。A miniaturized photoexcitation and detector system for detecting fluorescently labeled analytes in electrophoresis-based microchips and microarrays is provided. This system uses tiny integrated components, light collection, optical fluorescence filtering, and amorphous a-Si: H detectors for detection. Light collection is accomplished by proximity collection and / or a microlens system. Optical filtering is accomplished with an integrated optical filter. Detection is accomplished using an a-Si: H detector.

Description

政府支援
この発明はエネルギー省による補助金番号FG03-91ER61125号のもと、政府支援により為された。政府はこの発明に一定の権利を有する。
Government support This invention was made with government support under grant number FG03-91ER61125 by the Ministry of Energy. The government has certain rights in this invention.

関連出願
この出願は、2002年6月3日出願の合衆国仮出願第60/385,770号の優先権を主張する。
RELATED APPLICATION This application claims priority to US Provisional Application No. 60 / 385,770, filed June 3,2002.

発明の簡単な説明
この発明は、概してマイクロチップ分析器及びマイクロアレイにおける蛍光標識された検体を検出するための固体検出器及び光学システムに関し、特にa-Si:H(水素化非晶質シリコン)光検出器、フィルタ、並びに、マイクロレンズを用いるシステムに関する。
BRIEF DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates generally to solid state detectors and optical systems for detecting fluorescently labeled analytes in microchip analyzers and microarrays, and in particular a-Si: H (hydrogenated amorphous silicon) light. The present invention relates to a detector, a filter, and a system using a microlens.

分析が必要な現場(point-of-careまたはpoint- of- analysis、,以下POCと略す)で高いスループット、かつ、高性能のアッセイ(評価分析)が可能な小型のバイオ・化学分析装置には非常に大きな需要がある。最終的に、これらの装置は携帯可能で使い捨てできるべきである。この目的のため、キャピラリーアレイ電気泳動(μCAE=microfabricated capillary array electronics)装置は有望な候補である。このμCAEは、下記の非特許文献1に示されているように従来の方法に比べて大きく改善された効率で、アミノ酸分析、タンパク質及び小検体分析、DNA断片分離、並びに、DNA塩基配列決定等の広範な種類の分析を行なうために使用することが可能である。 キャピラリー電気泳動(CE)測定は多重化されて、96から384レーンのμCAE装置上で大規模に並列化された高スループット遺伝子型判定を行うこともできる。
Micro Total Analysis Systems 2001 Ed. Ramsey & vanden Berg, Kluwer Academic Press Dordrecht, 2001
For small-scale bio-chemical analyzers that can perform high-throughput and high-performance assays (evaluation analysis) at sites that require analysis (point-of-care or point-of-analysis, hereinafter abbreviated as POC) There is a huge demand. Ultimately, these devices should be portable and disposable. For this purpose, capillary array electrophoresis (μCAE = microfabricated capillary array electronics) devices are promising candidates. As shown in Non-Patent Document 1 below, this μCAE has a greatly improved efficiency compared to conventional methods, such as amino acid analysis, protein and small sample analysis, DNA fragment separation, and DNA base sequencing. Can be used to perform a wide variety of analyses. Capillary electrophoresis (CE) measurements can be multiplexed to perform high-throughput genotyping on a large scale on a 96 to 384 lane μCAE instrument.
Micro Total Analysis Systems 2001 Ed. Ramsey & vanden Berg, Kluwer Academic Press Dordrecht, 2001

しかしながら殆どのμCAE装置は、依然として光電子増倍管、CCD、光学フィルター、レンズ、レーザ等々を含む、通常のオフチップ(チップ上に集積化されてない)レーザ誘起蛍光検出システムを用いている。そうした嵩張った検出システムはμCAE装置で潜在的に可能であるPOC分析の数多くの有益性を妨げている。携帯可能な装置を実現する為に、小型の励起及び検出システムを開発する必要がある。これを達成する1つの手段は、Woolley等の下記の非特許文献2によって示されたような電気化学検出を用いることである。オンチップ(チップ上に集積化された)電気化学検出は、構造が単純であること、製造が容易であること等の魅力的な特徴を有するが、電気化学検出は蛍光検出の場合と比べると検出感度が良くない。更に、DNA塩基配列決定或は一塩基多形(SNP=single nucleotide polymorphism)検出の特定のプロトコル等の多重化されたアッセイを実行することは難しい。
Woolley et al. Analytical Chemistry, 70, 684-698 (1998)
However, most μCAE devices still use conventional off-chip (not integrated on chip) laser-induced fluorescence detection systems, including photomultiplier tubes, CCDs, optical filters, lenses, lasers, and so on. Such a bulky detection system hinders the many benefits of POC analysis that are potentially possible with μCAE instruments. In order to realize a portable device, it is necessary to develop a small excitation and detection system. One means of achieving this is to use electrochemical detection as shown by Woolley et al. On-chip (integrated on the chip) electrochemical detection has attractive features such as simple structure and easy manufacturing, but electrochemical detection is more difficult than fluorescence detection. Detection sensitivity is not good. Furthermore, it is difficult to perform multiplexed assays such as specific protocols for DNA sequencing or single nucleotide polymorphism (SNP) detection.
Woolley et al. Analytical Chemistry, 70, 684-698 (1998)

蛍光検出は、特にレーザ励起と組み合わせされた場合、非常に高感度である。多重検出も実現可能であり、現代のDNAシーケンサーにごく普通に使用される。それ故に、バイオ分析チップのための蛍光検出を維持し、且つ、励起及び検出システムを小型化・集積化する方法を考案することは有益である。Mastrangeloとその共同研究者は、以下の非特許文献3及び4で示されているように、マイクロ流体システムを含むシリコンフォトダイオードをシリコン・ウェハー上に直接製作したシステムを報告している。このモノリシックな製作はSi基板の導電性のために電気泳動を複雑化している。この場合、流体が流れるCEチャネルは、パリレン−C、SiN、或は、SiO2等の材料をそのチャネル上に堆積することによってシリコン基板から電気的に絶縁しなければならなかった。単結晶シリコンを用いたシステムを製作するコストは、単結晶Siウェハーのコストが高いことや多段階のプロセスが必要とされるために比較的高い。下記の非特許文献5で示されているように、Mariellaは、相同なTAQ−manアッセイを用いた蛍光検出に基づくリアルタイムPCR(polymerase-chain-reaction)アッセイを行なう携帯可能なDNA分析装置を報告しているが、彼のシステムはマイクロ流体チャネル用に設計されておらず、さらにμLからmLの大容量のサンプルを用いている。
M.A. Burns et al, Science, 282, 484(1998) J.R. Webster et al., Analytical Chemistry, 73, 1622(2001) Mariella, Jr., JALA, 6, 54(2001)
Fluorescence detection is very sensitive, especially when combined with laser excitation. Multiplex detection is also feasible and is commonly used in modern DNA sequencers. Therefore, it is beneficial to devise a method for maintaining fluorescence detection for a bioanalytical chip and miniaturizing and integrating the excitation and detection system. Mastrangelo and his collaborators have reported a system in which a silicon photodiode containing a microfluidic system is fabricated directly on a silicon wafer, as shown in Non-Patent Documents 3 and 4 below. This monolithic fabrication complicates electrophoresis because of the conductivity of the Si substrate. In this case, the CE channel through which the fluid flowed had to be electrically isolated from the silicon substrate by depositing a material such as Parylene-C, SiN, or SiO2 on the channel. The cost of producing a system using single crystal silicon is relatively high due to the high cost of single crystal Si wafers and the need for multi-step processes. As shown in Non-Patent Document 5 below, Mariella reports a portable DNA analyzer that performs a real-time PCR (polymerase-chain-reaction) assay based on fluorescence detection using a homologous TAQ-man assay. However, his system is not designed for microfluidic channels and uses large samples of μL to mL.
MA Burns et al, Science, 282, 484 (1998) JR Webster et al., Analytical Chemistry, 73, 1622 (2001) Mariella, Jr., JALA, 6, 54 (2001)

本発明においては、水素化非晶質シリコン(a-Si:H)フォトダイオードをμCAEデバイス用の小型集積型蛍光検出システムに用いる。こうしたa-Si:Hフォトダイオードは、SiHガス、あるいはSiHとHガスの混合物のプラズマによる分解によって非常に低温(〜200℃)で堆積することができる。一貫した低温プロセスは、ガラス或は下記の非特許文献6に示されているようにフレキシブルなプラスチック・フィルム等の安価な基板へのa-Si:Hフォトダイオードの直接製膜を可能にする。さらに、a-Si:Hは、大量生産、パターンニング、並びに、低生産コストの点で数多くの長所を有し、アクティブ・マトリックス液晶ディスプレイ用の薄膜トランジスタ(TFT)や下記の非特許文献7及び非特許文献8で示されているように、a−Si:HフォトダイオードをTFT読み出しと組み合わせたイメージセンサ・アレイの具現化によって実証されている。
Ichikawa et al., J. Non-Cryst. Solids, 198-200, 1081(1996) R.A. Street et al., MRS Symp. Proc: 192, 441(1990) R.A. Street and L.E. Antonuk, IEEE Circuit and Devices, Vol. 9, No. 4, 38-42(July 1993)
In the present invention, a hydrogenated amorphous silicon (a-Si: H) photodiode is used in a compact integrated fluorescence detection system for a μCAE device. Such a-Si: H photodiodes can be deposited at very low temperatures (˜200 ° C.) by plasma decomposition of SiH 4 gas or a mixture of SiH 4 and H 2 gas. The consistent low temperature process enables the direct deposition of a-Si: H photodiodes on inexpensive substrates such as glass or flexible plastic films as shown in Non-Patent Document 6 below. Furthermore, a-Si: H has many advantages in terms of mass production, patterning, and low production cost. Thin film transistors (TFTs) for active matrix liquid crystal displays and the following non-patent documents 7 and non- As shown in U.S. Pat. No. 6,057,086, this is demonstrated by the implementation of an image sensor array that combines a-Si: H photodiodes with TFT readout.
Ichikawa et al., J. Non-Cryst. Solids, 198-200, 1081 (1996) RA Street et al., MRS Symp. Proc: 192, 441 (1990) RA Street and LE Antonuk, IEEE Circuit and Devices, Vol. 9, No. 4, 38-42 (July 1993)

本発明の目的は、マイクロチップ分析器における蛍光検出のための集積型検出器及び光学システムを提供することである。   It is an object of the present invention to provide an integrated detector and optical system for fluorescence detection in a microchip analyzer.

本発明の別の目的は、キャピラリー電気泳動デバイスにおける蛍光検出のためのa−Si:H光検出器、光学フィルタ、並びに、マイクロレンズを利用する集積型検出器システムを提供することである。   Another object of the present invention is to provide an integrated detector system that utilizes a-Si: H photodetectors, optical filters, and microlenses for fluorescence detection in capillary electrophoresis devices.

本発明の更なる目的は、マイクロチップ分析器における蛍光検出のための容易に製作できて安価な集積型検出器及び光学システムを提供することである。   It is a further object of the present invention to provide an easily fabricated and inexpensive integrated detector and optical system for fluorescence detection in a microchip analyzer.

本発明の前述および他の目的は、発蛍光性の原子団または官能基が放出する光を検出するための集積型a−Si:Hフォトダイオード及び光学フィルタを利用する検出システムによって達成される。特に、本発明は、電気泳動チャネルにおいて分離される蛍光標識化合物の検出をするためにa−Si:H検出器、光学フィルタ、並びに、レンズの使用を集積化したシステムの使用に関する。   The foregoing and other objects of the present invention are achieved by a detection system that utilizes an integrated a-Si: H photodiode and an optical filter to detect light emitted by a fluorescent group or functional group. In particular, the invention relates to the use of a system that integrates the use of a-Si: H detectors, optical filters, and lenses to detect fluorescently labeled compounds that are separated in an electrophoresis channel.

本発明の前述および他の目的および特徴は、添付図面と連携して以下の説明を参照して読むことでより明白に理解されるであろう。   The foregoing and other objects and features of the invention will be more clearly understood when read in conjunction with the following description, taken in conjunction with the accompanying drawings, in which:

図1は、分離チャネル12及び交差注入チャネル13を有するキャピラリー電気泳動チップ11を概略的に図示している。キャピラリー電気泳動の分離電圧は陰極14及び陽極16の間に印加される。検体又は試料は、井戸状の液溜であるウェル17に導入され、ウェル17,18間に電圧が印加されると、注入チャネル上を移動する。周知の技術に従って、試料は適切な発蛍光性の原子団または官能基によって標識化されて、標識成分がある周波数の光で照射されると、異なる周波数の蛍光を放出する。試料は、分離チャンネル上を移動するとともに、電気泳動によって分離され、標識成分が、光照射されている検出領域に到達すると、蛍光を発する。放出された光は検出され、検出器への到達時間の関数として、標識成分を同定する。   FIG. 1 schematically illustrates a capillary electrophoresis chip 11 having a separation channel 12 and a cross injection channel 13. A separation voltage of capillary electrophoresis is applied between the cathode 14 and the anode 16. The specimen or sample is introduced into the well 17 which is a well-like liquid reservoir, and when a voltage is applied between the wells 17 and 18, the specimen or sample moves on the injection channel. In accordance with well-known techniques, a sample is labeled with an appropriate fluorogenic group or functional group and emits a different frequency of fluorescence when the labeling component is illuminated with a frequency of light. The sample moves on the separation channel and is separated by electrophoresis, and emits fluorescence when the label component reaches the detection region irradiated with light. The emitted light is detected and identifies the label component as a function of the arrival time at the detector.

図2は、集積型a−Si:Hフォトダイオード検出器21、光学干渉フィルタ22、並びに、レンズ23を含む光学システムを示す。SiHガスまたはSiHとHガスの混合物のプラズマ分解により、フォトダイオード検出器を低温で作製する。このプロセスは、ガラス或はプラスチック等の安価な基板24上にa−Si:Hフォトダイオードを作製することを可能にする。フォトダイオードの作製は最初に、クロム或はアルミニウム等の金属層の蒸着或はスパッタリングによって金属電極26を形成することで始められる。次いで、n型a-Si:H層27、真性a-Si:H層28、p型a-Si:H層29が連続的に堆積される。第2のコンタクトは、ITO、SnO、Al若しくはGaドープされたZnO等の透明導電酸化膜の堆積層31を含む。上記のp型層及びn型層の順序は反転することも可能である。しかしながら、p層側からの光注入は、電子と比べてホールの移動度が低いことにより高い光電流が得られる。光学干渉フィルタ22は、石英或は他のガラス・プレート33上に選択された厚みのTiO/SiO/SiN等々の材料から成る層32を堆積することによって形成される。干渉フィルタの作製は当該業界では周知であり、更なる説明はしない。収集効率を増大するためには反射防止コーティング34を石英プレートの他面に施すことが好ましい。マイクロレンズ36は検出と光学システムを完全なものにする。マイクロレンズ36はマイクロレンズ36を射出成形して、プレート37に結合することにより作製可能である。この際プレート37はμCAEデバイスの一部の場合もあり得る。或は代替的には、レンズ36及び支持体37は射出成形によって一体物として作製することもできる。レンズ及び支持体は光検出器及びフィルタに取り付けることができ、集積化されたアセンブリを形成する。マイクロレンズ36は、例えば、凸レンズ、非球面レンズ、半球レンズ、屈折率傾斜レンズ、或は、回折レンズであり得る。これらのレンズは矢印38で示されるように、マイクロチャネル12において発蛍光性の原子団または官能基が放出する蛍光を平行化する役割を果たす。これは、干渉フィルタの光学密度が光の入射角度に依存するために、所望の蛍光の収集およびレーザ励起光の減衰を高める。蛍光を収集するための立体角が大きい場合、マイクロプレートとレンズの間の境界での反射は屈折率マッチング液を用いることにより除去することができる。 FIG. 2 shows an optical system that includes an integrated a-Si: H photodiode detector 21, an optical interference filter 22, and a lens 23. A photodiode detector is fabricated at low temperature by plasma decomposition of SiH 4 gas or a mixture of SiH 4 and H 2 gas. This process makes it possible to produce a-Si: H photodiodes on an inexpensive substrate 24 such as glass or plastic. The production of the photodiode begins by first forming the metal electrode 26 by vapor deposition or sputtering of a metal layer such as chromium or aluminum. Next, an n-type a-Si: H layer 27, an intrinsic a-Si: H layer 28, and a p-type a-Si: H layer 29 are successively deposited. The second contact includes a deposited layer 31 of a transparent conductive oxide film such as ITO, SnO 2 , Al or Ga doped ZnO. The order of the p-type layer and the n-type layer can be reversed. However, light injection from the p-layer side provides a high photocurrent due to the low mobility of holes compared to electrons. The optical interference filter 22 is formed by depositing a layer 32 of a material such as TiO / SiO 2 / SiN of a selected thickness on quartz or other glass plate 33. The production of interference filters is well known in the art and will not be described further. In order to increase the collection efficiency, it is preferable to apply an anti-reflection coating 34 on the other side of the quartz plate. The microlens 36 completes the detection and optical system. The microlens 36 can be manufactured by injection molding the microlens 36 and coupling it to the plate 37. In this case, the plate 37 may be a part of the μCAE device. Alternatively, the lens 36 and support 37 can be made as a single piece by injection molding. The lens and support can be attached to the photodetector and filter to form an integrated assembly. The microlens 36 can be, for example, a convex lens, an aspherical lens, a hemispherical lens, a gradient refractive index lens, or a diffractive lens. These lenses serve to collimate the fluorescence emitted by the fluorescent groups or functional groups in the microchannel 12, as indicated by arrows 38. This enhances the collection of desired fluorescence and attenuation of the laser excitation light because the optical density of the interference filter depends on the incident angle of light. When the solid angle for collecting fluorescence is large, reflection at the boundary between the microplate and the lens can be removed by using a refractive index matching liquid.

本発明の好適実施例に従えば、フォトダイオード21及び光学フィルタ22はピンホール39を有する。励起光ビーム41は、ガラス基板24,ピンホール39、並びに、レンズ36を通じてマイクロチャネル12へ投射される。反射防止コーティング(図示されていない)はガラス基板に施すことができ、ガラス基板を通過する光ビームの透過効率を増大し、散乱光を低減する。光ビームは半導体レーザ(端面発光型または垂直共振型)、小さな従来形レーザ、或は、LEDによって生成することができる。金属コンタクト又は電極26は充分な厚みを有しているので、透過ビームのサイズを規定するアパーチャーとして働く。垂直なレーザ励起のおかげでレーザ光が光学フィルタ及び検出器に直接入射するのを避けることができる。   According to a preferred embodiment of the present invention, the photodiode 21 and the optical filter 22 have a pinhole 39. The excitation light beam 41 is projected onto the microchannel 12 through the glass substrate 24, the pinhole 39, and the lens 36. An anti-reflective coating (not shown) can be applied to the glass substrate, increasing the transmission efficiency of the light beam passing through the glass substrate and reducing scattered light. The light beam can be generated by a semiconductor laser (edge emitting or vertical cavity), a small conventional laser, or an LED. Since the metal contact or electrode 26 has a sufficient thickness, it acts as an aperture that defines the size of the transmitted beam. Thanks to the vertical laser excitation, laser light can be prevented from directly entering the optical filter and detector.

ガラス基板24及びガラス・プレート37は、スペーサ(図示されていない)とフォトダイオード21に取り付けられたフィルタ・アセンブリ32,33,34によって一定の間隔を保って支持することができる。この組み合わせは検出器及び光学アセンブリを提供し、その上にμCAEデバイス11を共同関係となるようにその都度配置することによって該μCAEデバイス11を読み取るために使用することができる。光ビーム41によって励起された発蛍の原子団または官能基が放出する蛍光はレンズによって平行化されて、蛍光波長の光を通過し且つ励起波長の光を吸収或は反射するフィルタ22を透過してフォトダイオード21に到達する。   The glass substrate 24 and the glass plate 37 can be supported at regular intervals by a filter assembly 32, 33, 34 attached to the spacer 21 (not shown) and the photodiode 21. This combination provides a detector and optical assembly that can be used to read the μCAE device 11 by placing the μCAE device 11 in each case in a cooperative relationship. Fluorescence emitted from the fluorescent group or functional group excited by the light beam 41 is collimated by the lens, and passes through the filter 22 that passes the fluorescence wavelength light and absorbs or reflects the excitation wavelength light. To the photodiode 21.

図3は、破線42によって示されるようなμCAEデバイス上に直接、レンズを成形により製作したμCAEデバイスを示す。他の参照番号は図3と同様のパーツを指している。   FIG. 3 shows a μCAE device made by molding a lens directly on a μCAE device as indicated by the dashed line 42. Other reference numbers refer to the same parts as in FIG.

側面からの散乱光の導入の可能性を低減するためには、光学フィルタ及びa-Si:H検出器の間の距離を最小限にすることが重要である。このために、フィルタ層は石英又は透明なプレート33の下側に向けられ、a-Si:H検出器はガラス基板24の上側に向けられる。レーザ散乱光の効果を最小限にするために、金属性光シールドをa-Si:H検出器のアパーチャー又はピンホール内部に形成することが可能である。図4を参照すると、フォトダイオード21は小さなアパーチャー43を有する下部電極26上に形成される。SiN或は酸化物等の絶縁層44が光ダイオード21の外周面およびピンホール39に形成される。続いて、上部電極31と接続するアルミニウム等の金属層46が形成される。この金属電極は散乱光を遮断する役割も果たす。図5は上部電極及び下部部電極に対するコンタクト・パッド47及び48を示す。   In order to reduce the possibility of introducing scattered light from the side, it is important to minimize the distance between the optical filter and the a-Si: H detector. For this purpose, the filter layer is directed to the lower side of the quartz or transparent plate 33 and the a-Si: H detector is directed to the upper side of the glass substrate 24. To minimize the effects of laser scattered light, a metallic light shield can be formed inside the aperture or pinhole of the a-Si: H detector. Referring to FIG. 4, the photodiode 21 is formed on the lower electrode 26 having a small aperture 43. An insulating layer 44 such as SiN or oxide is formed on the outer peripheral surface of the photodiode 21 and the pinhole 39. Subsequently, a metal layer 46 such as aluminum connected to the upper electrode 31 is formed. This metal electrode also serves to block scattered light. FIG. 5 shows contact pads 47 and 48 for the upper and lower electrodes.

レーザ・ビームの経路は反転することも可能である。上側からのCEチャネルの照射には有利な点もあるだろう。透過したビームは検出器のホールを通過する。しかしながらa-Si:H検出器を高強度のレーザ・ビームおよびそのビームからの散乱から保護することはより難しいであろう。さらに、強い前方散乱光は、特に光学系のアライメントの際フィルタに悪影響を与えるかもしれない。   The path of the laser beam can be reversed. There may also be advantages to irradiation of the CE channel from above. The transmitted beam passes through the detector hole. However, it will be more difficult to protect the a-Si: H detector from high intensity laser beams and scattering from the beams. Furthermore, strong forward scattered light may adversely affect the filter, especially during optical system alignment.

図6には、図2から図5の装置構造に基づき光学フィルタ及びa-Si:H検出器をモノリシック集積した装置が示されている。なお、同様な参照番号が同様なパーツに付与されている。a-Si:H検出器は、ZnS/YF3等の幾つかのタイプの光学フィルタのコーティング温度に対して耐久性がある。製作プロセスは以下の通りである。先ず、a-Si:Hフォトダイオードがガラス基板上に堆積された後、酸化シリコン或は窒化シリコン等の拡散障壁層51が堆積される。次に、光学干渉フィルタがその上にコーティングされる。フィルタのコーティング前に、拡散障壁層51は化学機械的研磨(CMP)によって平坦化されるが、これは光学干渉フィルタの品質にとって重要である。また、光検出器の金属性側壁保護は光学干渉フィルタの上部まで拡張することが可能であり、この結果、レーザ光散乱の更なる低減が実現されることにも留意すべきである。   FIG. 6 shows a device in which an optical filter and an a-Si: H detector are monolithically integrated based on the device structure shown in FIGS. Similar reference numbers are assigned to similar parts. The a-Si: H detector is durable against the coating temperature of some types of optical filters such as ZnS / YF3. The manufacturing process is as follows. First, after an a-Si: H photodiode is deposited on a glass substrate, a diffusion barrier layer 51 such as silicon oxide or silicon nitride is deposited. Next, an optical interference filter is coated thereon. Prior to filter coating, the diffusion barrier layer 51 is planarized by chemical mechanical polishing (CMP), which is important for the quality of the optical interference filter. It should also be noted that the metallic sidewall protection of the photodetector can be extended to the top of the optical interference filter, resulting in further reduction of laser light scattering.

検出器、フィルタ、並びに、レンズから成るアレイは離間した電気泳動チャネル12からの蛍光を検出するために用いることができる。図7は、μCAEチャネル12と結合した、モノリシック集積化された光学フィルタ及び検出器から成るアレイを示す。垂直共振器面発光レーザ(VCSEL)52のアレイは検出器及びフィルタと結合されて、励起光を放出する。VCSELアレイは、ウェハー53上に作製することが可能であって、個々のレーザ・ダイオードをフォトリソグラフィによりパターニングすることができるので、本来的にスケーリング可能である。a-Si:H検出器21及びフィルタ22はVCSELアレイとモノリシックに集積することも可能である。a-Si:H検出器及び光学フィルタの堆積温度(<200℃)は非常に低いので、a-Si:HとVCSEL(通常、GaAs合金或はGaN合金等の化合物半導体により作製される)間での元素の相互拡散が抑制されるので、このモノリシック集積はVCSEL及びa-Si:H検出器の性能に悪影響を与えない。この実施例において、レンズ36は例えば成形等によってμCAE11の一部して形成されているが、個別の構成体であってもよく、或は、検出器アレイと集積化してもよい。また、代替的には単一のレーザーであっても、放射状スキャナ、またはガルバノスキャナ、いくつかのビームスピリッター、あるいは光ファイバーアレイと組み合わせることにより、各サンプリングポイントへレーザー光を導くことができることに留意すべきである。アレイは2次元であるので多数のチャネルの各々に沿って蛍光を検知できるのは、明らかである。2次元的配置によって、通常のDNAアレイ或はタンパク質アレイからの蛍光を検出できる。レンズ、フィルタ、検出器、並びに、光源は単一ユニットに集積することができる。このような集積型デバイスは、多数のマイクロチャネルを有するμCAE装置を連続的に受信して読み取るために用いられる。   An array of detectors, filters, and lenses can be used to detect fluorescence from spaced apart electrophoresis channels 12. FIG. 7 shows an array of monolithically integrated optical filters and detectors coupled with μCAE channel 12. An array of vertical cavity surface emitting lasers (VCSEL) 52 is coupled with detectors and filters to emit excitation light. VCSEL arrays can be fabricated on the wafer 53 and are inherently scalable because individual laser diodes can be patterned by photolithography. The a-Si: H detector 21 and the filter 22 can also be monolithically integrated with the VCSEL array. Since the deposition temperature (<200 ° C.) of the a-Si: H detector and optical filter is very low, between a-Si: H and VCSEL (usually made of a compound semiconductor such as GaAs alloy or GaN alloy) This monolithic integration does not adversely affect the performance of VCSELs and a-Si: H detectors since the interdiffusion of elements in the is suppressed. In this embodiment, the lens 36 is formed as a part of the μCAE 11 by molding or the like, but may be a separate component or integrated with a detector array. Also note that alternatively a single laser can be directed to each sampling point by combining it with a radial or galvano scanner, several beam splitters, or an optical fiber array. Should. Obviously, since the array is two-dimensional, fluorescence can be detected along each of a number of channels. The fluorescence from a normal DNA array or protein array can be detected by the two-dimensional arrangement. The lens, filter, detector, and light source can be integrated into a single unit. Such an integrated device is used to continuously receive and read a μCAE apparatus having a large number of microchannels.

図8及び図9は、μCAEデバイス上における光学フィルタ及びa-Si:H検出器をモノリシック集積した2つの例を表している。両構造とも、a-Si:H検出器をフィルタ上に作製しなければならないので、光学フィルタは〜200℃のa-Si:H堆積温度に耐える必要がある。SiO/TiOのような金属酸化物多層の干渉フィルタは、堆積温度が250〜300℃とより高いために、この条件を満たすことができる。したがって、光学フィルタが、μCAEデバイス11上に多層干渉フィルタ32を堆積することによって作製された後、障壁層51上へのフォトダイオード21のa-Si:H層の堆積を行う。このような干渉フィルタが図8に示されるような平面構造に用いられるならば、レーザ散乱光のフィルタへの入射角分布が重要であろう。もし検出器が様々な角度からのレーザ光散乱を被るのであれば、エッジ吸収フィルタ、或は、エッジ吸収フィルタ及び干渉フィルタの組み合わせを使用することもできる。平面構造と良好な光の平行化を維持するために、平面状の屈折率傾斜レンズ(図示していない)を用い、その上に光学フィルタ及びa-Si:H検出器をモノリシックに集積することもできる。検出器をCEチャネルに充分密接させ、レンズ無しで光収集の効率を増大し且つダイオード検出器をより小さく保つことも重要である。 8 and 9 show two examples of monolithic integration of an optical filter and an a-Si: H detector on a μCAE device. In both structures, the a-Si: H detector must be fabricated on the filter, so the optical filter must withstand a-Si: H deposition temperature of ~ 200 ° C. A metal oxide multilayer interference filter such as SiO 2 / TiO 2 can satisfy this condition because the deposition temperature is as high as 250-300 ° C. Therefore, after the optical filter is fabricated by depositing the multilayer interference filter 32 on the μCAE device 11, the a-Si: H layer of the photodiode 21 is deposited on the barrier layer 51. If such an interference filter is used in a planar structure as shown in FIG. 8, the incident angle distribution of the laser scattered light to the filter will be important. If the detector suffers from laser light scattering from various angles, an edge absorbing filter or a combination of edge absorbing and interference filters can be used. To maintain a planar structure and good light collimation, a planar refractive index gradient lens (not shown) is used, on which an optical filter and an a-Si: H detector are monolithically integrated. You can also. It is also important to keep the detector close enough to the CE channel to increase the efficiency of light collection without a lens and keep the diode detector smaller.

散乱光の広い角度分布を軽減する他の方法は、図9に示されるようにCEチャネルを中心点とした球面上にフィルタを製作することである。CEチャネルからの光はフィルタ面に対して垂直に入射する。この湾曲した検出器は図9の破線で示されるように取り外し可能である。この場合、屈折率マッチング液はレンズ36とμCAEデバイス11の間に用いられる。エッジ吸収フィルタ及び干渉フィルタの組み合わせは妥当な選択であろう。もし光学フィルタがa-Si:H検出にとって有害な元素を含有するのであれば、酸化シリコン或は窒化シリコン等の障壁層51が検出器への有害元素の拡散を防止するために用いられるであろう。高い電界から検出器を絶縁するために、この拡散障壁層は、ITO、SnO、Al若しくはGaドープされたZnO等の接地された透明導電性酸化物(TCO)で置き換えることもできる。 Another way to reduce the wide angular distribution of scattered light is to make a filter on a sphere centered on the CE channel as shown in FIG. Light from the CE channel is incident perpendicular to the filter surface. This curved detector is removable as shown by the dashed line in FIG. In this case, the refractive index matching liquid is used between the lens 36 and the μCAE device 11. A combination of edge absorption filters and interference filters would be a reasonable choice. If the optical filter contains elements that are detrimental to a-Si: H detection, a barrier layer 51 such as silicon oxide or silicon nitride may be used to prevent the diffusion of harmful elements into the detector. Let's go. In order to insulate the detector from the high electric field, the diffusion barrier layer, ITO, may be replaced by SnO 2, Al or Ga doped grounded transparent conductive oxide such as ZnO (TCO).

a-Si:H PINフォトダイオードは湾曲した面上でも非常に良好に動作すすることが示されており、膜のコンフォーマル特性も主にプラズマ化学気相成長法(CVD)の堆積圧力が高いために良好である。同様に、CVD及びスパッタリング等のより高い動作圧力プロセスを用いることによって湾曲面上に均一な膜厚の光学フィルタを作製できるだろう。湾曲面をフォトレジストで被覆するには、むしろ従来のスピン・コーティングよりもスプレイ・コーティングが使用されるであろう。コンタクト及び近接等の通常のウェハー露光はマスク・パターンをフォトレジストに転写する。上部湾曲した面上のピンホールは、パターン転写が可能となるようにマスクと充分に密接にできる。他方、検出器及び光学フィルタの外側縁部はマスクから距離があるため(数ミリメートル)、マスク・パターンの解像度は回折効果によって劣化する。しかしながらこの場合、デバイスの特性サイズが大きい(数ミリメートル)ために問題とはならない。   a-Si: H PIN photodiodes have been shown to work very well even on curved surfaces, and the conformal properties of the film are also primarily high in plasma chemical vapor deposition (CVD) deposition pressure. Is good for. Similarly, using a higher operating pressure process such as CVD and sputtering could produce a uniform film thickness optical filter on the curved surface. To coat the curved surface with photoresist, a spray coating would be used rather than a conventional spin coating. Normal wafer exposure, such as contact and proximity, transfers the mask pattern to the photoresist. The pinhole on the upper curved surface can be close enough to the mask to allow pattern transfer. On the other hand, because the outer edges of the detector and optical filter are at a distance from the mask (several millimeters), the resolution of the mask pattern is degraded by diffraction effects. However, this is not a problem because the characteristic size of the device is large (several millimeters).

図10及び図11は、μCAEデバイスのチャネルへレーザ光を導入する代替的な方法を示している。図10においては、μCAEの基板を直接に通過させるか,または、導波路57を利用して、μCAEデバイスの平面と平行にレーザ光56を導入しチャネル12を照射する。高い屈折率の薄膜材料が、CEチャネル12と交差する導波路として、ガラス基板上或はガラス基板内に堆積される。面内レーザ励起のおかげで、ピンホールを使用することなく、レーザ光がフィルタ32及び検出器ユニット21に直接入射するのを回避する。軸線からある角度でのレーザ励起、特にブルースター角での励起も、図11に示されるように同様な効果をもたらす。ビーム・ブロック58は、レーザ光がフィルタ32及び検出器ユニット21に入射するのを防止するために使用される。代替的にレーザ・ビーム56は、チャネルに向かうようにミラー或はプリズムによって底部から導入することもできる。   10 and 11 show an alternative method of introducing laser light into the channel of the μCAE device. In FIG. 10, the channel 12 is irradiated by introducing a laser beam 56 in parallel with the plane of the μCAE device using the waveguide 57 directly through the μCAE substrate. A high refractive index thin film material is deposited on or in the glass substrate as a waveguide that intersects the CE channel 12. Thanks to the in-plane laser excitation, laser light is prevented from directly entering the filter 32 and the detector unit 21 without using pinholes. Laser excitation at an angle from the axis, particularly excitation at the Brewster angle, also has a similar effect as shown in FIG. The beam block 58 is used to prevent laser light from entering the filter 32 and the detector unit 21. Alternatively, the laser beam 56 can be introduced from the bottom by a mirror or prism towards the channel.

もし検出器が、2つ或はそれ以上の扇形に分割され、光学フィルターも同様に区分化され、異なる波長に対応するのであれば、多色検出も可能となる。しかし、扇形区分された検出器あたりの光強度は低減する。a-Si:H検出器は、結晶半導体、非晶質半導体にかかわらず、マイクロPMT、アバランシェフォトダイオード(APD)、或は、APDアレイ等のより高感度な検出器に置き換え可能である。図12及び図13を参照すると、区分化されたフィルタ/検出器アセンブリが示されている。このフィルタ/検出器は3つのフィルタ/検出器61,62,63を含む。これらフィルタ/検出器の各々は先に記載されたように製作され、同様な参照番号が同様なパーツに用いられている。   If the detector is divided into two or more sectors and the optical filter is similarly segmented to accommodate different wavelengths, multicolor detection is possible. However, the light intensity per sectored detector is reduced. The a-Si: H detector can be replaced with a more sensitive detector such as a micro PMT, an avalanche photodiode (APD), or an APD array, regardless of whether it is a crystalline semiconductor or an amorphous semiconductor. Referring to FIGS. 12 and 13, a segmented filter / detector assembly is shown. This filter / detector includes three filters / detectors 61, 62, 63. Each of these filters / detectors is fabricated as described above, and like reference numerals are used for like parts.

検出器は別の配置でも区分化され得る。図14及び図15を参照すると、検出器71,72,73は、それぞれ、2つの区分71a,71b、72a,72b、73a,73bに分割されている。これら2つの区分は、(3つのみがここでは示されている)複数のチャネルを有するμCAEデバイス11内に形成されたキャピラリ−チャネル12a,12b,12cに沿って配置される。各検出器は光検出器及びフィルタを含み、フィルターは隣接する検出器とは異なる波長の放出光を透過する。検出器は先に記載されたように作製され、それ故に同様な参照番号が用いられている。レンズ36は各対と対応している。励起光ビーム76は線77に沿って査走される。多数の集積型多色検出器の他の形態は本発明の教示の範囲内にあることは明白である。   The detector can also be segmented in other arrangements. 14 and 15, the detectors 71, 72, and 73 are each divided into two sections 71a, 71b, 72a, 72b, 73a, and 73b. These two sections are arranged along capillary-channels 12a, 12b, 12c formed in a μCAE device 11 having a plurality of channels (only three are shown here). Each detector includes a light detector and a filter, and the filter transmits emitted light having a wavelength different from that of the adjacent detector. The detector is made as described above and therefore similar reference numbers are used. A lens 36 corresponds to each pair. Excitation light beam 76 is traversed along line 77. It will be apparent that other forms of multiple integrated multicolor detectors are within the teachings of the present invention.

本発明において、a−Si:Hフォトダイオードの使用が集積型検出器に対して強調されている。しかしながらここで指摘すべきことは、水素化微晶質Si(μc−Si:H)或は低温成長ポリ−Si等の他のガラス適合性半導体も集積型検出器に対する材料として適していることである。μc−Si:Hはa−Si:Hと異なる条件下で同じ方法により形成される。ポリSiは、プラズマCVD、LPCVD、あるいは大気圧CVDと、アモルファスシリコンのレーザー結晶化または金属誘起結晶化と組み合わされて作製される。このようなSi材料は、a−Si:Hと比べてずっと高い暗導電率を示すものの、赤或は赤外線領域でより高い感度を示し、赤色蛍光の検出にはより適している。赤色光領域でのa−Si:Hの感度はa−Si:HにGeを取り込み、a−SiGe:Hにすることによって向上させることができる。   In the present invention, the use of a-Si: H photodiodes is emphasized for integrated detectors. However, it should be pointed out here that other glass compatible semiconductors such as hydrogenated microcrystalline Si (μc-Si: H) or low temperature grown poly-Si are also suitable as materials for integrated detectors. is there. μc-Si: H is formed by the same method under different conditions from a-Si: H. Poly-Si is produced by combining plasma CVD, LPCVD, or atmospheric pressure CVD with laser crystallization or metal-induced crystallization of amorphous silicon. Such Si materials exhibit much higher dark conductivity than a-Si: H, but are more sensitive in the red or infrared region and are more suitable for detecting red fluorescence. The sensitivity of a-Si: H in the red light region can be improved by incorporating Ge into a-Si: H and changing it to a-SiGe: H.

ここに記載されたa−Si:H集積型センサ光学システムは、下記の非特許文献9で参照されるように、蛍光検出に基づく全てのタイプの微細加工技術により作製された電気泳動デバイスを用いたタンパク質アッセイおよびアレイを含むDNAアッセイに有効である。そうした電気泳動デバイスは、キャピラリー電気泳動、自由ゾーン電気泳動、および等電点電気泳動を含む。可能な用途は、DNA断片分離、DNA塩基配列決定、DNAパイロシークエシング法、多形分析、タンパク質分析、アミノ酸分析、セル・ソーティング、病原菌及び伝染病検出、食物及び水純度テストを含む。特に、大規模に多重化されたアッセイを行う蛍光ベースのデバイスは、製造の容易さや生産コストの低減により、VCSEL技術と結合された集積型a−Si:Hセンサ・システムから利益を得るだろう。
M. Schena ed., "Microarray Biochip Technology,"Eaton Pub. Co., 1st Ed. (2000)
The a-Si: H integrated sensor optical system described here uses an electrophoretic device manufactured by all types of microfabrication techniques based on fluorescence detection, as referred to in Non-Patent Document 9 below. It is effective for DNA assays including conventional protein assays and arrays. Such electrophoresis devices include capillary electrophoresis, free zone electrophoresis, and isoelectric focusing. Possible applications include DNA fragment isolation, DNA sequencing, DNA pyrosequencing, polymorphism analysis, protein analysis, amino acid analysis, cell sorting, pathogen and infectious disease detection, food and water purity testing. In particular, fluorescence-based devices that perform large-scale multiplexed assays will benefit from integrated a-Si: H sensor systems combined with VCSEL technology due to ease of manufacture and reduced production costs. .
M. Schena ed., "Microarray Biochip Technology," Eaton Pub. Co., 1st Ed. (2000)

図1は、微細加工技術により作製されたキャピラリー電気泳動デバイスを概略的に示す。FIG. 1 schematically shows a capillary electrophoresis device produced by a microfabrication technique. 図2は、電気泳動デバイスと結合した、本発明の一実施例に従った光検出器、フィルタ、並びに、レンズを示す。FIG. 2 shows a photodetector, filter, and lens according to one embodiment of the present invention coupled to an electrophoretic device. 図3は、光検出器、フィルタ、並びに、レンズを示し、該レンズが電気泳動デバイスの一部となっている。FIG. 3 shows a photodetector, a filter, and a lens, which is part of the electrophoresis device. 図4は、本発明に使用される光検出器の詳細図である。FIG. 4 is a detailed view of the photodetector used in the present invention. 図5は、図4の光検出器の上部平面図である。FIG. 5 is a top plan view of the photodetector of FIG. 図6は、フィルタが光検出器に集積化されている検出システムを示す。FIG. 6 shows a detection system in which a filter is integrated in the photodetector. 図7は、図6の集積化されたフィルタ及び光検出器から成るアレイと結合した面発光レーザー(VCSEL)を含むシステムを示す。FIG. 7 shows a system including a surface emitting laser (VCSEL) combined with an array of integrated filters and photodetectors of FIG. 図8は、電気泳動デバイスに集積化されたフィルタ及び光検出器を示す。FIG. 8 shows the filter and photodetector integrated in the electrophoresis device. 図9は、球面上の図8の集積型装置を示す。FIG. 9 shows the integrated device of FIG. 8 on a spherical surface. 図10は、励起光が電気泳動デバイスの平面に平行に照射されるシステムを示す。FIG. 10 shows a system in which excitation light is irradiated parallel to the plane of the electrophoresis device. 図11は、励起光が電気泳動デバイスの平面に対してある角度で導入されているシステムを示す。FIG. 11 shows a system in which excitation light is introduced at an angle with respect to the plane of the electrophoresis device. 図12は、多重波長の光を検出すべく区分化されたフィルタ/検出器を示す。FIG. 12 shows a filter / detector segmented to detect multiple wavelengths of light. 図13は、図12の線13−13に沿って切り取られた断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view taken along line 13-13 of FIG. 図14は、別の検出器アレイの概略図である。FIG. 14 is a schematic diagram of another detector array. 図15は、図14の線15−15に沿って切り取られた断面図である。15 is a cross-sectional view taken along line 15-15 in FIG.

その他Other

原文の「fluorophore」は「発蛍光性の原子団または官能基」の意味を有する。
原文の「DNA sequence」は「DNA塩基配列決定」の意味を有する。
原文の「well」は「井戸状の液溜であるウェル」の意味を有する。
The original “fluorophore” has the meaning of “fluorescent group or functional group”.
The original “DNA sequence” has the meaning of “DNA sequencing”.
The original “well” means “well that is a well-like liquid reservoir”.

Claims (32)

第2波長の励起光に応答する発蛍光性の原子団または官能基によって第1波長で放出される光を検出する検出システムであって、前記第2波長の光を拒絶し且つ前記第1波長で放出される光を光検出器へ通過させるように構成された集積型光検出器及び光学フィルタを備える検出器システム。   A detection system for detecting light emitted at a first wavelength by a fluorescent group or functional group responsive to excitation light of a second wavelength, wherein the detection system rejects the light of the second wavelength and the first wavelength A detector system comprising an integrated photodetector and an optical filter configured to pass light emitted by the optical detector to the photodetector. 前記光検出器がa−Si:Hフォトダイオードである、請求項1に記載の検出器システム。   The detector system of claim 1, wherein the photodetector is an a-Si: H photodiode. 前記放出される光を平行にしてそれを前記光学フィルタへ導くレンズを含む、請求項1または2に記載の検出器システム。   3. A detector system according to claim 1 or 2, comprising a lens that collimates the emitted light and directs it to the optical filter. 前記レンズが前記モノリシック集積された光検出器及びフィルタと集積化されている、請求項3に記載の検出器システム。   The detector system of claim 3, wherein the lens is integrated with the monolithically integrated photodetector and filter. 前記レンズが、凸レンズ、非球面レンズ、半球レンズ、屈折率傾斜レンズ、或は、回折レンズから選択される、請求項4に記載の検出器システム。   The detector system according to claim 4, wherein the lens is selected from a convex lens, an aspherical lens, a hemispherical lens, a refractive index tilt lens, or a diffractive lens. 前記フィルタ及び光検出器が区分化されて、各区分化されたフィルタが他の区分化されたフィルタとは異なる波長の光を通過させ、それによってそれぞれ発蛍光性の原子団または官能基が放出する異なる波長の光を検出する、請求項1または2に記載の検出器システム。   The filters and photodetectors are segmented so that each segmented filter passes light of a different wavelength than the other segmented filters, thereby emitting fluorescent groups or functional groups, respectively. The detector system according to claim 1, wherein the detector system detects light of different wavelengths. 前記放出される光を前記区分化されたフィルタ及び光検出器へ導くレンズを含む、請求項6に記載の検出器システム。   The detector system of claim 6, comprising a lens that directs the emitted light to the segmented filter and photodetector. 前記フィルタ及び光検出器がアパーチャーを含み、前記励起光が前記アパーチャーを通過するように導かれる、請求項1乃至4の内の何れか一項に記載の検出器システム。   The detector system according to claim 1, wherein the filter and the photodetector include an aperture, and the excitation light is guided to pass through the aperture. 光を発生してそれを前記アパーチャーを通過させるようにした、前記光検出器と隣接したVCSELを含む、請求項8に記載の検出器システム。   9. The detector system of claim 8, comprising a VCSEL adjacent to the photodetector that generates light and causes it to pass through the aperture. 蛍光を発して所定の波長の光を放出する原子団または官能基で標識された検体を検出する検出器システムであって、
前記所定の波長の光を前記光検出器へ導くように構成された集積型光検出器及び光学的フィルタと、
異なる波長の光ビームを前記標識された検体に導き、前記所定の波長の光を放出させるレーザと、
を備える検出器システム。
A detector system for detecting an analyte labeled with an atomic group or functional group that fluoresces and emits light of a predetermined wavelength,
An integrated photodetector and an optical filter configured to direct light of the predetermined wavelength to the photodetector;
A laser for directing light beams of different wavelengths to the labeled analyte and emitting light of the predetermined wavelength;
A detector system comprising:
前記放出される光を前記集積化された光検出器及び光学的フィルタに平行化し、導くレンズを含む、請求項10に記載の検出器システム。   The detector system of claim 10, comprising a lens that collimates and directs the emitted light to the integrated photodetector and optical filter. 前記光検出器が前記光ビームが通過するためのアパーチャーを含む、請求項10または11に記載の検出器システム。   12. A detector system according to claim 10 or 11, wherein the photodetector includes an aperture for the light beam to pass through. 前記レーザがVCSELを含む、請求項12に記載の検出器システム。   The detector system of claim 12, wherein the laser comprises a VCSEL. 前記VCSELが前記集積化された光検出器及びフィルタに集積化される、請求項12に記載の検出器システム。   The detector system of claim 12, wherein the VCSEL is integrated into the integrated photodetector and filter. 前記光検出器がa−Si:Hフォトダイオードである、請求項10乃至13の内の何れか一項に記載の検出器システム。   14. A detector system according to any one of claims 10 to 13, wherein the photodetector is an a-Si: H photodiode. 前記光検出器がa−Si:Hフォトダイオードである、請求項14に記載の検出器システム。   The detector system of claim 14, wherein the photodetector is an a-Si: H photodiode. 前記レンズが前記集積化された光検出器及び光学的フィルタに集積化される、請求項7に記載の検出器システム。   The detector system of claim 7, wherein the lens is integrated into the integrated photodetector and optical filter. チャネルに沿って分離される検体を標識する励起された発蛍光性の原子団または官能基が放出する光を検出する検出器システムであって、前記放出される光を前記光検出器へ導くように構成された、前記チャネルに沿って離間された複数の光検出器及び光学フィルタを含む検出器システム。   A detector system for detecting light emitted by an excited fluorogenic group or functional group that labels an analyte separated along a channel, wherein the emitted light is directed to the photodetector A detector system comprising a plurality of photodetectors and optical filters spaced along the channel. 前記検体が異なる波長の光を放出する発蛍光性の原子団および官能基で標識され、異なる検出器上のフィルタが異なる波長の放出光を導くように構成されている、請求項18に記載の検出器システム。   19. The analyte of claim 18, wherein the analyte is labeled with fluorescent groups and functional groups that emit light of different wavelengths, and filters on different detectors are configured to direct different wavelengths of emitted light. Detector system. 各集積型光検出器及び光学フィルターの前記フィルタ及び光検出器が区分化され、区分化された各フィルタが他の区分化されたフィルタとは異なる波長の光を通過させ、それによって発蛍光性の原子団または官能基が放出する異なる波長の光を検出する、請求項18に記載の検出器システム。   The filters and photodetectors of each integrated photodetector and optical filter are segmented, and each segmented filter passes light of a different wavelength than the other segmented filters, thereby producing fluorescence The detector system according to claim 18, which detects light of different wavelengths emitted by the atomic groups or functional groups. 第2波長の励起光に応答して第1波長で放出される光を検出する検出器システムであって、モノリシック集積化された光検出器及びフィルタを含み、前記フィルタが前記第1波長で放出される光を光検出器へ通過させ、前記第2波長の光を拒絶するように構成されている検出器システム。   A detector system for detecting light emitted at a first wavelength in response to excitation light at a second wavelength, comprising a monolithically integrated photodetector and filter, wherein the filter emits at the first wavelength A detector system configured to pass the emitted light to a photodetector and reject the light of the second wavelength. 前記放出される光を前記フィルタ及び光検出器に導く役割を果たすモノリシック集積されたレンズを含む、請求項21に記載の検出器システム。   The detector system of claim 21, comprising a monolithically integrated lens that serves to direct the emitted light to the filter and photodetector. 複数の離間された箇所での発蛍光性の原子団または官能基が放出する光を検出する検出器システムであって、
各々が前記離間された箇所の内の対応する1つにおいて放出される光を検出するように配置されている複数の光検出器及び光学的フィルタを含む集積型システムを含む検出器システム。
A detector system for detecting light emitted by fluorescent groups or functional groups at a plurality of spaced locations,
A detector system comprising an integrated system comprising a plurality of photodetectors and optical filters, each arranged to detect light emitted at a corresponding one of the spaced locations.
前記光検出器及び光学フィルタの各々がアパーチャーを含み、レーザが前記アパーチャーを通過して対応する発蛍光性の原子団または官能基に光を投射し、光を放出させる請求項23に記載の検出器システム。   The detection according to claim 23, wherein each of the photodetector and the optical filter includes an aperture, and a laser projects light through the aperture to a corresponding fluorescent atomic group or functional group to emit light. System. 前記光検出器及び光学フィルタの各々が区分化され、各区分が対応する箇所に配置された発蛍光性の原子団または官能基によって放出される光を受信する、請求項24に記載の検出器システム。   25. The detector of claim 24, wherein each of the photodetector and optical filter is segmented and receives light emitted by a fluorescent group or functional group disposed at a corresponding location in each segment. system. 前記フィルターが光検出器の各区分に対応し、異なる波長の光を通過させる、請求項25に記載の検出器システム。   26. The detector system of claim 25, wherein the filter corresponds to each section of the photodetector and passes light of different wavelengths. レンズが前記区分化された光検出器及びフィルタの各々と対応し、光を区分化されたフィルターに導く、請求項26に記載の検出器システム。   27. The detector system of claim 26, wherein a lens corresponds to each of the segmented photodetectors and filters and directs light to the segmented filter. 前記複数の光検出器及びフィルタが1次元アレイで配列されている、請求項23乃至25の内の何れか一項に記載の検出器システム。   26. The detector system according to any one of claims 23 to 25, wherein the plurality of photodetectors and filters are arranged in a one-dimensional array. 前記複数の光検出器及びフィルタが2次元アレイで配列されている、請求項23乃至25の内の何れか一項に記載の検出器システム。   26. The detector system according to any one of claims 23 to 25, wherein the plurality of photodetectors and filters are arranged in a two-dimensional array. 隣接する電気泳動チャネルの特定箇所で第2波長の光による励起に応答して、発蛍光性の原子団または官能基が放出する第1波長の光を検出する検出器システムであって、
前記隣接するチャネルの特定箇所に配置され、前記第2波長の光を拒絶し且つ前記第1波長で放出される光を通過させるように構成された複数の集積化された光検出器及び光学フィルタを含む集積型システムを備える検出器システム。
A detector system for detecting light of a first wavelength emitted by a fluorescent group or functional group in response to excitation by light of a second wavelength at a specific location in an adjacent electrophoresis channel,
A plurality of integrated photodetectors and optical filters arranged at specific locations in the adjacent channels and configured to reject light of the second wavelength and pass light emitted at the first wavelength A detector system comprising an integrated system.
前記チャネルの各々に沿った離間された特定箇所と、前記チャネルに沿った前記特定箇所における集積化された光検出器及び光学フィルタとを含む、請求項1に記載の検出器システム。   The detector system of claim 1 including spaced apart locations along each of the channels and integrated photodetectors and optical filters at the identified locations along the channel. 各特定箇所での発蛍光性の原子団または官能基が光を放出するように、前記特定箇所で励起光を適用する為の手段を含む、請求項30または31に記載の検出器システム。   32. A detector system according to claim 30 or 31, comprising means for applying excitation light at the specific location such that a fluorescent group or functional group at each specific location emits light.
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