JP2005501377A - マスクのディテンションを有する陰極線管のためのテンションマスクアセンブリ - Google Patents
マスクのディテンションを有する陰極線管のためのテンションマスクアセンブリ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005501377A JP2005501377A JP2003522968A JP2003522968A JP2005501377A JP 2005501377 A JP2005501377 A JP 2005501377A JP 2003522968 A JP2003522968 A JP 2003522968A JP 2003522968 A JP2003522968 A JP 2003522968A JP 2005501377 A JP2005501377 A JP 2005501377A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support blade
- mask
- tension
- tension mask
- pair
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
- H01J29/073—Mounting arrangements associated with shadow masks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/07—Shadow masks
- H01J2229/0722—Frame
Abstract
陰極線管(1)は、中心の主軸Xに平行な2つの長い側(22、24)と、中心の短軸Yに平行な2つの短い側(26、28)とを有する長方形のマスクフレームアセンブリ(10)に取り付けられたテンションマスク(30)を含む。サポートブレード要素(40、140)のペアは、中心位置で長い側(22、24)又は短い側(26、28)の一つに対して夫々取り付けられる。各サポートブレード要素(40、140)は、比較的低い熱膨張係数の物質から形成される複数の第一の側(42、44、46)を有する内部エッジと、比較的高い熱膨張係数を有する物質で形成される第二の側を有する外部エッジとを含む。質量中心を有する各エッジは、短軸Yに沿って互いから分離される。
Description
【技術分野】
【0001】
本発明は、一般的に陰極線管に関し、より詳細には、ディテンション(detensioning)特質を有するテンションマスクアセンブリに関する。
【背景技術】
【0002】
色陰極線管又はCRTは、管のスクリーンに3つの電子ビームを形成し導くための電子銃を含む。スクリーンは、管の表面カバーの内面に位置し、リン光体を放射する三つの異なる色のアレイ要素で構成される。形成されたマスクであるか、又はストランドを有するテンションマスクのいずれかであってよいシャドーマスクは、電子銃とスクリーンとの間に位置する。電子銃から放射される電子ビームは、シャドーマスクのアパーチャを通過し、画像が、表面カバーパネルの見る表面に表示されるようにリン光体に光を放射させるスクリーンを打ちつける。
【0003】
一つのタイプの色陰極線管は、外部の励起下の多大な振幅を振動させる陰極線管の傾向を縮小するためにマスクサポートフレーム上にテンションされる1セットのストランドを含むテンションマスクを有する。かかる振動は、スクリーン上の総電子ビームのミスレジスターを引き起こし、CRTの視聴者に対して異論のある画像の例外に帰着するでしょう。
【0004】
許容可能な振動性能を達成するために必要とされるマスクのストレスは、管の操作温度でマスク物質の降伏点以下である。しかしながら、高い管の処理温度で、マスクの物質の特徴は変化し、マスク物質の弾性限界はかなり減少される。そのような状態において、マスクのストレスはマスク物質の弾性限界を超過し、物質は非弾性的に引き伸ばされる。処理後に管が冷却された場合、ストランドは処理前よりも多大であり、マスクフレームは処理前のような同レベルのテンションにマスクストランドをテンションできない。テンションマスクフレームアセンブリの別の共通の問題は、マスクストランド物質がマスクサポートフレーム物質よりも低い熱膨張係数を有する場合に起こる。この場合、さらなる非弾性の負荷を引き起こす熱処理中にマスクストランドのテンションが増大する。
【0005】
一つのディテンションシステムは、フレームの反対側の中心に取り付けられたサポートブレード要素のペアを有する2重のコンプライアンスマスクフレームを利用し、テンションはサポートブレード要素の中心で緩和される。2重のコンプライアンスフレームを使用する場合に中心のテンションマスクストランドのディテンションは、ブレードの外部か端へ向かうストランドの上の比較的より大きなテンションに帰着する。より均一なディテンションを達成するために、中心でのディテンションに加えて、さらなるディテンションがマスク端で必要とされる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
したがって、CRTの製造工程で使用される熱サイクル中に調節されるマスクのディテンションのパターン及び度合いを可能にする、マスクフレームアセンブリを開発することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【0007】
テンションマスクアセンブリは、中央の主軸に対して平行に位置する2つの長い側及び主軸に対して直角である中央の短軸に平行に位置する2つの短い側を有して提供される。サポートブレード要素は、長い側の中心位置に沿ってフレームに固定される。各サポートブレード要素は、比較的低い熱膨張係数の物質が形成された側を有する内部エッジと、比較的高い熱膨張係数の物質が形成された少なくとも一つの側又はディテンション要素を有する外部エッジとを含む。各エッジの重力中心は、中心の短軸に沿って互いに分離される。
【発明を実施するための最良の形態】
【0008】
本発明は、添付図を参照して実施例の手法によって記載される。
【0009】
図1は、長方形の表面カバープレート3と、漏斗5によって接続された管状の首4とを含むガラス包2を有する陰極線管1を示す。漏斗5は、陽極ボタン6からパネル3及び首4に延在する、内部の伝導性コーティング(示されていない)を有する。パネル3は、視る表面カバー8と、ガラスフリット7によって漏斗5に密封された周辺のフランジ又は側壁9を含む。3色のリン光体スクリーン12は、パネル3の内部表面によって保持される。スクリーン12は三構造で配置されるリン光体ラインを備えるラインスクリーンであり、各三構造は各々3色のリン光体ラインを含む。テンションマスクフレームアセンブリ10は、スクリーン12に関して所定間隔で取り外し式に設置される。電子銃(図1の点線によって概略的に示される)13は、スクリーン12に対してテンションマスクフレームアセンブリ10を通過する集中経路に沿って3つのインライン電子ビームと、センタービームと、及び2つのサイド又は外部ビームを生成して導くように首4内の中心に設置される。
【0010】
陰極線管1は、漏斗と首の結合の近隣で示される、外部の磁気偏向ヨーク14で使用されるように設計される。活性化された場合、ヨーク14は、スクリーン12上の長方形のラスターで水平及び垂直に走査するビームを引き起こす、磁場に対して3つのビームを当てる。
【0011】
図2で示されるテンションマスクフレームアセンブリ10は、2つの長い側22及び24と、2つの短い側26及び28とを有する。テンションマスクフレームアセンブリ10の2つの長い側22及び24は、管の中心の主軸Xに対して平行であり、短い側26及び28は、管の中心の短軸Yに対して平行である。2つの長い側22及び24と、2つの短い側26及び28とは、それら主軸及び短軸に沿う連続的な平面のマスクサポートフレーム20を形成する。
【0012】
フレームアセンブリ10は、管の短軸Yに対して平行で、金属ストリップの間に多様な拡張されたスリット(示されていない)を有する複数の金属ストライプ(示されていない)を含む、孔のあるテンションシャドーマスク30(ここでは簡素化のためにシートとして概略して示される)を有する。マスク30は、取り付け点52でフレーム20に固定されたサポートブレード要素40のペアに固定される。サポートブレード要素40は、テンションシャドーマスク30上の最良の屈曲及び張力コンプライアンスを可能にするために各サポートブレード要素40の中心から縦にサポートブレード要素40の端までの高さで変化してよい。
【0013】
ここで図3及び4を参照するに、サポートブレード要素40がより詳細に記載される。図4は、図3の線4−4に沿って得られるサポートブレード要素40の断面図を示す。サポートブレード要素40は、低膨張物質としてこれより以下で呼ばれる、比較的低い熱膨張係数を有する物質で形成される、複数の第一の側42、44、46と、高い膨張物質としてこれより以下で呼ばれる比較的高い熱膨張係数を有する物質からなる側48とから構成される、閉じた構造である。各側42、44、46、48は、単一部分から湾曲されるか、共に溶接されるか、又は任意の別の適切な手段によって取り付けられてよい。マスク30は、側48に沿ってエッジ50を受けるマスクで適用される。サポートブレード要素40は、フレームの長い側22、24とは反対のほぼ中心で位置する取り付け点52でサブフレーム20に取り付けられる。
【0014】
図3は、互いから距離αで位置される、取り付け点52を例示する。この距離αは、フレーム20の熱膨張による製造工程の加熱サイクル段階で増大する。二重のコンプライアンスフレーム配置において、フレーム20は、マスク30上のテンションを開放するために加熱された場合、長い側22、24は互いに向かって内部へ曲がるように設計される。サポートブレード要素40が柔軟であり、数多のコンプライアンスを有するために、マスクの中心はエッジよりもディテンションされる。図3で最良に示されるように、サポートブレード要素40は、実線によって示される主軸Xから点線によって示される変形位置まで、その要素の静止位置から偏向するか、又はねじれる。サポートブレード要素40の末端が図3に示される距離βで移動するような加熱段階で変形が生じる。この変形は、本質的に外部エッジが内部エッジよりもさらに迅速に拡張するので、ディテンション特質として作用するサポートブレード要素40の外部エッジに位置する高い膨張物質によって引き起こされる。距離βによって示される移動は、マスク30のエッジに沿ってサポートブレード要素40の末端で増大したテンションを緩和し、それによって、中心から独立したマスクのエッジのディテンションのための機会を提供し、したがって、使用されるブレードのディテンションの量によって調節されるマスクディテンションのパターン及び程度を可能にする。図3の最上部の単一のサポートブレード要素40に変形が示される一方で、底部のサポートブレード要素40はまた加熱段階において同様に変形されることを理解されるべきである。
【0015】
本発明の効果は、図4に参照されて記載される。重量中心のペアL、Hが示され、ここでLは低膨張物質で形成された第一側42、44、46の重量中心であり、一方でHは高膨張物質で形成された側48の重量中心を示す。重量中心L、Hは、短軸Yに沿って互いに分離され、両者はZ平面で分離がないXY平面内に位置する。したがって、加熱段階のサポートブレード要素40の変形は、距離ΔYによってX、Y平面で制御され、一方でΔZ=0によって示されるようにZ方向で安定して維持する。
【0016】
図5は、サポートブレード要素14の代替と成る実施態様を示す。このサポートブレード要素140は、複数の第一側142、144、146及び側148が閉じた構造を生成するように同一物質から形成されることを除き、図4のサポートブレード要素40と構造的に同一である。この物質は、上の記載と同様に、比較的低い熱膨張物質である。ディテンション要素又は高い係数の要素149は、側148に沿って添加される。ディテンション要素又は高い係数の要素149は、比較的高い熱膨張係数を有する物質で形成される。かかる高い膨張要素149は、機械的なファスナー又は接着剤などの別の周知の技術によって側148に溶接されるか、又は適用されてよい。高い係数の要素149は、好ましくは長方形の断面を有し、側148の大部分に延在する。しかしながら、側の大部分をカバーする断面に示される一方で、この断面がサポートブレード要素140の全体の長さにわたって延在することが必要でないことを当業者は合理的に理解するべきである。高い膨張要素149によってカバーされた側148のエリアは、加熱段階において様々なねじれの特徴を達成するために調節されてよい。代替として、高い膨張要素149は、セグメント化されてよく、サポートブレード要素140の長さに沿って固定されてよい。この変化は、サポートブレード要素140の末端でのマスクのディテンションの異なる量に帰着する。この代替の実施態様の効果は、図4で参照された記載と同様であり、ここで加熱段階のサポートブレード要素140の変形は、重量中心LとHとの間の距離ΔYによって制御される一方で、Z芳香で安定して維持する。
【0017】
本発明の利点は、中心位置のフレームに取り付けされるサポートブレード要素を使用してマスクのエッジのディテンションを可能にする。高い係数の要素の長さを調節することによって、エッジでのディテンション量は制御されてよい。サポートブレード要素のより長い部分にわたって延在する高い膨張要素は、比較的短くて高い係数要素よりもエッジにおける多大なディテンションに帰着するであろう。
【図面の簡単な説明】
【0018】
【図1】テンションマスクフレームアセンブリを示す陰極線管の断面図である。
【図2】テンションマスクフレームアセンブリの斜視図である。
【図3】高温度でのサポートブレード要素を示すテンションマスクフレームアセンブリの正面図である。
【図4】図3の線4−4に沿って得られた断面図である。
【図5】代替となるサポートブレード要素を示す図4と同様の断面図である。
【0001】
本発明は、一般的に陰極線管に関し、より詳細には、ディテンション(detensioning)特質を有するテンションマスクアセンブリに関する。
【背景技術】
【0002】
色陰極線管又はCRTは、管のスクリーンに3つの電子ビームを形成し導くための電子銃を含む。スクリーンは、管の表面カバーの内面に位置し、リン光体を放射する三つの異なる色のアレイ要素で構成される。形成されたマスクであるか、又はストランドを有するテンションマスクのいずれかであってよいシャドーマスクは、電子銃とスクリーンとの間に位置する。電子銃から放射される電子ビームは、シャドーマスクのアパーチャを通過し、画像が、表面カバーパネルの見る表面に表示されるようにリン光体に光を放射させるスクリーンを打ちつける。
【0003】
一つのタイプの色陰極線管は、外部の励起下の多大な振幅を振動させる陰極線管の傾向を縮小するためにマスクサポートフレーム上にテンションされる1セットのストランドを含むテンションマスクを有する。かかる振動は、スクリーン上の総電子ビームのミスレジスターを引き起こし、CRTの視聴者に対して異論のある画像の例外に帰着するでしょう。
【0004】
許容可能な振動性能を達成するために必要とされるマスクのストレスは、管の操作温度でマスク物質の降伏点以下である。しかしながら、高い管の処理温度で、マスクの物質の特徴は変化し、マスク物質の弾性限界はかなり減少される。そのような状態において、マスクのストレスはマスク物質の弾性限界を超過し、物質は非弾性的に引き伸ばされる。処理後に管が冷却された場合、ストランドは処理前よりも多大であり、マスクフレームは処理前のような同レベルのテンションにマスクストランドをテンションできない。テンションマスクフレームアセンブリの別の共通の問題は、マスクストランド物質がマスクサポートフレーム物質よりも低い熱膨張係数を有する場合に起こる。この場合、さらなる非弾性の負荷を引き起こす熱処理中にマスクストランドのテンションが増大する。
【0005】
一つのディテンションシステムは、フレームの反対側の中心に取り付けられたサポートブレード要素のペアを有する2重のコンプライアンスマスクフレームを利用し、テンションはサポートブレード要素の中心で緩和される。2重のコンプライアンスフレームを使用する場合に中心のテンションマスクストランドのディテンションは、ブレードの外部か端へ向かうストランドの上の比較的より大きなテンションに帰着する。より均一なディテンションを達成するために、中心でのディテンションに加えて、さらなるディテンションがマスク端で必要とされる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
したがって、CRTの製造工程で使用される熱サイクル中に調節されるマスクのディテンションのパターン及び度合いを可能にする、マスクフレームアセンブリを開発することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【0007】
テンションマスクアセンブリは、中央の主軸に対して平行に位置する2つの長い側及び主軸に対して直角である中央の短軸に平行に位置する2つの短い側を有して提供される。サポートブレード要素は、長い側の中心位置に沿ってフレームに固定される。各サポートブレード要素は、比較的低い熱膨張係数の物質が形成された側を有する内部エッジと、比較的高い熱膨張係数の物質が形成された少なくとも一つの側又はディテンション要素を有する外部エッジとを含む。各エッジの重力中心は、中心の短軸に沿って互いに分離される。
【発明を実施するための最良の形態】
【0008】
本発明は、添付図を参照して実施例の手法によって記載される。
【0009】
図1は、長方形の表面カバープレート3と、漏斗5によって接続された管状の首4とを含むガラス包2を有する陰極線管1を示す。漏斗5は、陽極ボタン6からパネル3及び首4に延在する、内部の伝導性コーティング(示されていない)を有する。パネル3は、視る表面カバー8と、ガラスフリット7によって漏斗5に密封された周辺のフランジ又は側壁9を含む。3色のリン光体スクリーン12は、パネル3の内部表面によって保持される。スクリーン12は三構造で配置されるリン光体ラインを備えるラインスクリーンであり、各三構造は各々3色のリン光体ラインを含む。テンションマスクフレームアセンブリ10は、スクリーン12に関して所定間隔で取り外し式に設置される。電子銃(図1の点線によって概略的に示される)13は、スクリーン12に対してテンションマスクフレームアセンブリ10を通過する集中経路に沿って3つのインライン電子ビームと、センタービームと、及び2つのサイド又は外部ビームを生成して導くように首4内の中心に設置される。
【0010】
陰極線管1は、漏斗と首の結合の近隣で示される、外部の磁気偏向ヨーク14で使用されるように設計される。活性化された場合、ヨーク14は、スクリーン12上の長方形のラスターで水平及び垂直に走査するビームを引き起こす、磁場に対して3つのビームを当てる。
【0011】
図2で示されるテンションマスクフレームアセンブリ10は、2つの長い側22及び24と、2つの短い側26及び28とを有する。テンションマスクフレームアセンブリ10の2つの長い側22及び24は、管の中心の主軸Xに対して平行であり、短い側26及び28は、管の中心の短軸Yに対して平行である。2つの長い側22及び24と、2つの短い側26及び28とは、それら主軸及び短軸に沿う連続的な平面のマスクサポートフレーム20を形成する。
【0012】
フレームアセンブリ10は、管の短軸Yに対して平行で、金属ストリップの間に多様な拡張されたスリット(示されていない)を有する複数の金属ストライプ(示されていない)を含む、孔のあるテンションシャドーマスク30(ここでは簡素化のためにシートとして概略して示される)を有する。マスク30は、取り付け点52でフレーム20に固定されたサポートブレード要素40のペアに固定される。サポートブレード要素40は、テンションシャドーマスク30上の最良の屈曲及び張力コンプライアンスを可能にするために各サポートブレード要素40の中心から縦にサポートブレード要素40の端までの高さで変化してよい。
【0013】
ここで図3及び4を参照するに、サポートブレード要素40がより詳細に記載される。図4は、図3の線4−4に沿って得られるサポートブレード要素40の断面図を示す。サポートブレード要素40は、低膨張物質としてこれより以下で呼ばれる、比較的低い熱膨張係数を有する物質で形成される、複数の第一の側42、44、46と、高い膨張物質としてこれより以下で呼ばれる比較的高い熱膨張係数を有する物質からなる側48とから構成される、閉じた構造である。各側42、44、46、48は、単一部分から湾曲されるか、共に溶接されるか、又は任意の別の適切な手段によって取り付けられてよい。マスク30は、側48に沿ってエッジ50を受けるマスクで適用される。サポートブレード要素40は、フレームの長い側22、24とは反対のほぼ中心で位置する取り付け点52でサブフレーム20に取り付けられる。
【0014】
図3は、互いから距離αで位置される、取り付け点52を例示する。この距離αは、フレーム20の熱膨張による製造工程の加熱サイクル段階で増大する。二重のコンプライアンスフレーム配置において、フレーム20は、マスク30上のテンションを開放するために加熱された場合、長い側22、24は互いに向かって内部へ曲がるように設計される。サポートブレード要素40が柔軟であり、数多のコンプライアンスを有するために、マスクの中心はエッジよりもディテンションされる。図3で最良に示されるように、サポートブレード要素40は、実線によって示される主軸Xから点線によって示される変形位置まで、その要素の静止位置から偏向するか、又はねじれる。サポートブレード要素40の末端が図3に示される距離βで移動するような加熱段階で変形が生じる。この変形は、本質的に外部エッジが内部エッジよりもさらに迅速に拡張するので、ディテンション特質として作用するサポートブレード要素40の外部エッジに位置する高い膨張物質によって引き起こされる。距離βによって示される移動は、マスク30のエッジに沿ってサポートブレード要素40の末端で増大したテンションを緩和し、それによって、中心から独立したマスクのエッジのディテンションのための機会を提供し、したがって、使用されるブレードのディテンションの量によって調節されるマスクディテンションのパターン及び程度を可能にする。図3の最上部の単一のサポートブレード要素40に変形が示される一方で、底部のサポートブレード要素40はまた加熱段階において同様に変形されることを理解されるべきである。
【0015】
本発明の効果は、図4に参照されて記載される。重量中心のペアL、Hが示され、ここでLは低膨張物質で形成された第一側42、44、46の重量中心であり、一方でHは高膨張物質で形成された側48の重量中心を示す。重量中心L、Hは、短軸Yに沿って互いに分離され、両者はZ平面で分離がないXY平面内に位置する。したがって、加熱段階のサポートブレード要素40の変形は、距離ΔYによってX、Y平面で制御され、一方でΔZ=0によって示されるようにZ方向で安定して維持する。
【0016】
図5は、サポートブレード要素14の代替と成る実施態様を示す。このサポートブレード要素140は、複数の第一側142、144、146及び側148が閉じた構造を生成するように同一物質から形成されることを除き、図4のサポートブレード要素40と構造的に同一である。この物質は、上の記載と同様に、比較的低い熱膨張物質である。ディテンション要素又は高い係数の要素149は、側148に沿って添加される。ディテンション要素又は高い係数の要素149は、比較的高い熱膨張係数を有する物質で形成される。かかる高い膨張要素149は、機械的なファスナー又は接着剤などの別の周知の技術によって側148に溶接されるか、又は適用されてよい。高い係数の要素149は、好ましくは長方形の断面を有し、側148の大部分に延在する。しかしながら、側の大部分をカバーする断面に示される一方で、この断面がサポートブレード要素140の全体の長さにわたって延在することが必要でないことを当業者は合理的に理解するべきである。高い膨張要素149によってカバーされた側148のエリアは、加熱段階において様々なねじれの特徴を達成するために調節されてよい。代替として、高い膨張要素149は、セグメント化されてよく、サポートブレード要素140の長さに沿って固定されてよい。この変化は、サポートブレード要素140の末端でのマスクのディテンションの異なる量に帰着する。この代替の実施態様の効果は、図4で参照された記載と同様であり、ここで加熱段階のサポートブレード要素140の変形は、重量中心LとHとの間の距離ΔYによって制御される一方で、Z芳香で安定して維持する。
【0017】
本発明の利点は、中心位置のフレームに取り付けされるサポートブレード要素を使用してマスクのエッジのディテンションを可能にする。高い係数の要素の長さを調節することによって、エッジでのディテンション量は制御されてよい。サポートブレード要素のより長い部分にわたって延在する高い膨張要素は、比較的短くて高い係数要素よりもエッジにおける多大なディテンションに帰着するであろう。
【図面の簡単な説明】
【0018】
【図1】テンションマスクフレームアセンブリを示す陰極線管の断面図である。
【図2】テンションマスクフレームアセンブリの斜視図である。
【図3】高温度でのサポートブレード要素を示すテンションマスクフレームアセンブリの正面図である。
【図4】図3の線4−4に沿って得られた断面図である。
【図5】代替となるサポートブレード要素を示す図4と同様の断面図である。
Claims (7)
- 陰極線管(1)で使用するためのテンションマスクアセンブリ(10)であって、該テンションマスクアセンブリは、
共に端部で取り付けられている長い側のペア(22、24)及び短い側のペア(26、28)によって形成されるマスクサポートフレーム(20)と、
テンションマスク(30)を固定するためのサポートブレード要素のペア(40、140)と、を有し、
前記長い側(22、24)は中心の主軸Xに対して平行に延在し、前記短い側のペア(26、28)は中心の短軸Yに対して平行に延在し、
前記サポートブレード要素(40、140)の各々は、中心の取り付け点(52)で長い側(22、24)のそれぞれの一つに取り付けられ、前記サポートブレード要素(40)は、夫々、第一の重量中心(L)を定義する第一の熱膨張係数の物質で形成される複数の第一の側(42、44、46、142、144、146)を有し、さらに前記第一の側(42、44、46、142、144、146)に固定されて、第二の重量中心(H)を定義する第二の熱膨張係数の物質で形成される第二の側(48、148)を有し、前記第一及び第二の重量中心は、前記サポートブレード要素(40、140)の前記第一の側(42、44、46、142、144、146)及び第二の側(48、148)の隣接する断面によって一般的に定義され、前記第一の重量中心(L)及び第二の重量中心(H)は、前記短軸Yに沿って互いから所定距離で分離され、それによって前記第一及び第二の重量中心は前記サポートブレード要素(40)のサーマルディフレクション段階でアライメントに残在することを特徴とするテンションマスクアセンブリ(10)。 - 前記サポートブレード要素(40)の前記複数の第一の側(42、44、46、142、144、146)は、閉じた構造を形成することを特徴とする請求項1に記載のテンションマスクアセンブリ(10)。
- 前記外部エッジの前記第二の側(48、148)は、前記内部エッジの一部分にわたって延在することを特徴とする請求項1に記載のテンションマスクアセンブリ(10)。
- 互いに垂直な中心の主軸X及び中心の短軸Yを含む実質的に長方形のマスクサポートフレーム(20)と、前記主軸Xに平行して延在する1ペアの相反する長い側(22、24)及び前記短軸に平行して延在する1ペアの相反する短い側(26、28)で形成される前記フレーム(20)と、前記1ペアの相反する側に沿う取り付け点(52)でテンションマスク(30)が前記フレーム(20)に取り付けられてサポートされたサポートブレード要素(40、140)と、を有する陰極線管(1)で使用するためのテンションマスクアセンブリ(10)であって、前記サポートブレード要素(40、140)は、
前記中心の主軸に面して、第一の熱膨張係数を有する物質で形成される内部エッジと、前記内部エッジよりも比較的高い熱膨張係数を有する第二物質で形成され、前記内部エッジに固定されている外部エッジとを有し、前記内部エッジの前記重量中心(L)及び前記外部エッジの前記重量中心(H)が前記短軸Yに沿って分離されることを特徴とするテンションマスクアセンブリ(10)。 - 前記テンションマスク(30)が前記サポートブレード要素(40、140)の前記外部エッジに固定されることを特徴とする請求項4に記載のテンションマスクフレームアセンブリ(10)。
- 前記外部エッジは、前記内部エッジの一部分に沿って延在し、それによって前記サポートブレード要素(40、140)の末端が加熱段階で前記主軸Xに向かって内側にねじれることを特徴とする請求項4に記載のサポートブレード要素(40、140)。
- 前記外部エッジは、複数のディテンション要素(148、149)を有することを特徴とする請求項4に記載のサポートブレード要素(140)。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/934,619 US6734611B2 (en) | 2001-08-22 | 2001-08-22 | Tension mask assembly for a cathode ray tube having mask detensioning |
PCT/US2002/024813 WO2003019602A1 (en) | 2001-08-22 | 2002-08-05 | Tension mask assembly for a cathode ray tube having mask detensioning |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005501377A true JP2005501377A (ja) | 2005-01-13 |
Family
ID=25465818
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003522968A Pending JP2005501377A (ja) | 2001-08-22 | 2002-08-05 | マスクのディテンションを有する陰極線管のためのテンションマスクアセンブリ |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6734611B2 (ja) |
EP (1) | EP1433191B1 (ja) |
JP (1) | JP2005501377A (ja) |
KR (1) | KR20040030985A (ja) |
CN (1) | CN1331184C (ja) |
DE (1) | DE60227685D1 (ja) |
HU (1) | HUP0402302A2 (ja) |
MX (1) | MXPA04001428A (ja) |
PL (1) | PL367730A1 (ja) |
WO (1) | WO2003019602A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6930445B2 (en) * | 2002-01-16 | 2005-08-16 | Thomson Licensing S.A. | Compliant tension mask assembly |
US6794806B2 (en) * | 2002-06-26 | 2004-09-21 | Thomson Licensing S. A. | Warp-free dual compliant tension mask frame |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL8003608A (nl) * | 1980-06-23 | 1982-01-18 | Philips Nv | Kleurenbeeldbuis. |
US5952774A (en) | 1997-04-18 | 1999-09-14 | Thomson Consumer Electronics, Inc. | Color CRT having a support frame assembly with detensioning means |
US6084342A (en) | 1998-07-08 | 2000-07-04 | Thomson Licensing S.A. | Color picture tube having a tensioned mask-support frame assembly |
TW460893B (en) * | 1998-11-27 | 2001-10-21 | Koninkl Philips Electronics Nv | Color selection means for color display tubes and color display tubes provided with the same |
US6246164B1 (en) | 1999-04-01 | 2001-06-12 | Thomson Licensing S.A. | Color picture tube having a low expansion tension mask attached to a higher expansion frame |
-
2001
- 2001-08-22 US US09/934,619 patent/US6734611B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-08-05 DE DE60227685T patent/DE60227685D1/de not_active Expired - Fee Related
- 2002-08-05 MX MXPA04001428A patent/MXPA04001428A/es active IP Right Grant
- 2002-08-05 EP EP02756969A patent/EP1433191B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-08-05 KR KR10-2004-7002577A patent/KR20040030985A/ko not_active Application Discontinuation
- 2002-08-05 JP JP2003522968A patent/JP2005501377A/ja active Pending
- 2002-08-05 PL PL02367730A patent/PL367730A1/xx unknown
- 2002-08-05 WO PCT/US2002/024813 patent/WO2003019602A1/en active Application Filing
- 2002-08-05 CN CNB028163060A patent/CN1331184C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-08-05 HU HU0402302A patent/HUP0402302A2/hu unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
PL367730A1 (en) | 2005-03-07 |
US20030038579A1 (en) | 2003-02-27 |
CN1331184C (zh) | 2007-08-08 |
US6734611B2 (en) | 2004-05-11 |
CN1545718A (zh) | 2004-11-10 |
MXPA04001428A (es) | 2004-05-27 |
DE60227685D1 (de) | 2008-08-28 |
EP1433191B1 (en) | 2008-07-16 |
WO2003019602A1 (en) | 2003-03-06 |
HUP0402302A2 (hu) | 2005-06-28 |
EP1433191A1 (en) | 2004-06-30 |
KR20040030985A (ko) | 2004-04-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR970008561B1 (ko) | 슬롯형 섀도우마스크 구성체를 사용한 컬러음극선관 | |
US6246164B1 (en) | Color picture tube having a low expansion tension mask attached to a higher expansion frame | |
EP1405329B1 (en) | Color cathode ray tube having a detensioning mask frame assembly | |
US6407488B1 (en) | Color picture tube having a low expansion tension mask | |
US6573645B1 (en) | Detensioning mask frame assembly for a cathode-ray tube (CRT) | |
JP2005501377A (ja) | マスクのディテンションを有する陰極線管のためのテンションマスクアセンブリ | |
EP1417696B1 (en) | Cathode-ray tube having a detensioning mask support frame | |
KR100727572B1 (ko) | 섀도우 마스크 진동 감쇠기를 가지는 crt | |
US6731055B2 (en) | Color picture tube having a low expansion tension mask attached to a higher expansion frame | |
US6794806B2 (en) | Warp-free dual compliant tension mask frame | |
JP3476686B2 (ja) | カラー受像管 | |
EP1396006A2 (en) | Mask support blade structure having an insert for a crt | |
EP1428239A2 (en) | Color picture tube having a low expansion tension mask attached to a higher expansion frame | |
KR20020069485A (ko) | 음극선관을 위한 인장 마스크 프레임 어셈블리 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050803 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070608 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070612 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071106 |