JP2005349430A - Laser beam machine - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、たとえばレンズを鏡筒内に嵌め込むレンズ固定装置に使用され、樹脂接合等を行うレーザ加工装置、特にその駆動回路に関するものである。 The present invention relates to a laser processing apparatus that is used in, for example, a lens fixing device for fitting a lens into a lens barrel and performs resin bonding or the like, and more particularly to a drive circuit thereof.
上記レーザ加工装置の駆動回路が、たとえば非特許文献1に開示されている。
この開示されたレーザ加工装置の駆動回路を図9に示す。
図9に示すように、内蔵フォトダイオード(PD)とレーザ素子(LD)とから構成される半導体レーザと、レーザ光出力を調整するための可変抵抗RVなどを備え、内蔵フォトダイオードからのモニタ電流により光出力を制御するCW(連続)動作APC回路により形成されており、このAPC回路の制御により温度の変化にかかわらず、一定のレーザ光出力を得ることができるように形成されている。
A driving circuit for the laser processing apparatus is disclosed in
A drive circuit of the disclosed laser processing apparatus is shown in FIG.
As shown in FIG. 9, includes a built-in photodiode (PD) and the semiconductor laser constructed from a laser element (LD), and the variable resistor R V for adjusting the laser beam output, a monitor from the internal photodiode It is formed by a CW (continuous) operation APC circuit that controls the light output by current, and it is formed so that a constant laser light output can be obtained regardless of the temperature change by the control of this APC circuit.
この構成のもと、レーザ光出力の調整は、まず可変抵抗RVを最大値に調整し、電源の出力レベルを徐々に規定電圧まで上昇し、その後、光パワーメータなどを用いて光出力をモニタしながら、可変抵抗RVを小さく調整して半導体レーザからのレーザ光出力を増大させることにより行われる。
しかし、上記従来のレーザ加工装置の駆動回路の構成によると、レーザ光出力はCW(連続)出力のために、動作APC回路の特性や半導体レーザの特性等によりレーザ光の強度が変動すると、融点と分解溶融点との温度差が小さい樹脂を接合する際、樹脂が分解されて接合できなくなるという問題がある。 However, according to the configuration of the drive circuit of the conventional laser processing apparatus, the laser beam output is a CW (continuous) output, so that if the intensity of the laser beam fluctuates due to the characteristics of the operating APC circuit or the characteristics of the semiconductor laser, the melting point When a resin having a small temperature difference between the melting point and the melting point is bonded, there is a problem that the resin is decomposed and cannot be bonded.
また、電源として通常市販されている安価な絶縁型スイッチング電源を用いるとノイズが多いため、半導体レーザが破損する恐れがある。
そこで本発明は、安定した樹脂接合を行うことができ、さらに絶縁型スイッチング電源による作動を可能としたレーザ加工装置を提供することを目的としたものである。
Further, when an inexpensive isolated switching power supply that is usually marketed as a power supply is used, there is a risk that the semiconductor laser may be damaged due to a lot of noise.
Therefore, an object of the present invention is to provide a laser processing apparatus that can perform stable resin bonding and that can be operated by an insulating switching power supply.
前記した目的を達成するために、本発明の請求項1記載のレーザ加工装置は、融点と分解溶融点または沸点との温度差が小さい物質に向けてこの物質を溶解させるライン状レーザ光を光軸センタを中心に出射するワンチップ半導体レーザ光源と、前記ワンチップ半導体レーザ光源より照射される前記レーザ光の強度を制御するレーザ駆動回路を設けるレーザ加工装置であって、前記レーザ駆動回路は、前記ワンチップ半導体レーザ光源からレーザ発振された前記レーザ光を受光して電気信号に変換する光変換素子と、発光素子と受光素子とから形成され、前記受光素子が前記光変換素子と直列に接続され、光変換素子とともに前記ワンチップ半導体レーザ光源に並列に接続された電気−光変換素子と、前記ワンチップ半導体レーザ光源に供給する電流を制御する前記ワンチップ半導体レーザ光源の駆動素子と、前記光変換素子と前記電気−光変換素子の前記受光素子との接続点に接続され、前記レーザ光の変化に伴う前記光変換素子の電気信号の変化に起因する前記接続点の電圧の変化により、前記駆動素子を駆動して前記レーザ光の強度を制御する出力制御回路を備え、前記レーザ光の強度の指令データとして前記電気−光変換素子の発光素子に高速強度変調をかけた動作電流を入力して、前記受光素子を介して前記接続点の電圧を変化させ、この接続点の電圧の変化により前記出力制御回路により前記駆動素子を駆動させ、前記レーザ光の強度の指令データに基づいて前記ワンチップ半導体レーザ光源から出力されるレーザ光を高速強度変調することを特徴としたものである。
In order to achieve the above-described object, a laser processing apparatus according to
また請求項2記載のレーザ加工装置は、請求項1に記載の発明であって、外部からの前記レーザ光の強度の指令データに応じて、前記電器−光変換素子の前記発光素子へ高速強度変調をかけた前記動作電流を出力して、前記発光素子を駆動する指令回路を備えたことを特徴としたものである。 According to a second aspect of the present invention, there is provided the laser processing apparatus according to the first aspect, wherein the high-speed intensity is applied to the light-emitting element of the electric-light conversion element in accordance with external command data of the intensity of the laser beam. A command circuit for driving the light emitting element by outputting the modulated operating current is provided.
そして請求項3記載のレーザ加工装置は、請求項1または請求項2に記載の発明であって、前記高速強度変調は、光出力を短時間で、最高値である融点まで上昇させているとともに、最低値である分解溶融点以下まで下降させていることを特徴としたものである。
The laser processing apparatus according to
さらに請求項4記載のレーザ加工装置は、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の発明であって、前記ワンチップ半導体レーザ光源に印加される電圧を所定の値まで徐々に上昇させながら出力するスロースタート回路を設けたことを特徴としたものである。 Furthermore, a laser processing apparatus according to a fourth aspect is the invention according to any one of the first to third aspects, wherein the voltage applied to the one-chip semiconductor laser light source is gradually increased to a predetermined value. This is characterized in that a slow start circuit is provided for outputting the output.
また請求項5記載のレーザ加工装置は、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の発明であって、筒状に形成された金属製の本体を備え、前記本体内に前記レーザ駆動回路を設けたことを特徴としたものである。
The laser processing apparatus according to
そして請求項6記載のレーザ加工装置は、請求項5に記載の発明であって、前記光変換素子を、前記本体内で、前記ワンチップ半導体レーザ光源のファースト方向レーザ光の前記光軸センタを中心としたビーム拡散角において30°〜90°の範囲内に配置したことを特徴としたものである。 According to a sixth aspect of the present invention, there is provided the laser processing apparatus according to the fifth aspect, wherein the optical conversion element is disposed within the main body at the optical axis center of the first direction laser light of the one-chip semiconductor laser light source. It is characterized in that it is arranged in the range of 30 ° to 90 ° at the central beam diffusion angle.
本発明のレーザ加工装置は、絶縁型の電気−光変換素子を備え、この電気−光変換素子の発光素子へ高速強度変調をかけた動作電流を出力し、ワンチップ半導体レーザ光源から出力されるレーザ光を高速強度変調することにより、融点と分解溶融点との温度差が小さい樹脂に対して、安定した樹脂接合を行うことができる。 The laser processing apparatus of the present invention includes an insulating electro-optical conversion element, outputs an operating current subjected to high-speed intensity modulation to the light emitting element of the electro-optical conversion element, and is output from a one-chip semiconductor laser light source. By performing high-speed intensity modulation of the laser light, stable resin bonding can be performed on a resin having a small temperature difference between the melting point and the decomposition melting point.
以下に、本発明の実施の形態におけるレーザ加工装置について、図面を参照しながら説明する。
このレーザ加工装置11には、融点と分解溶融点または沸点との温度差が小さい物質に向けてこの物質を溶解させるライン状レーザ光Lを光軸センタ22を中心に出射するワット級ワンチップ半導体レーザ13と、ワット級ワンチップ半導体レーザ13より照射されるレーザ光Lの強度を制御するレーザ駆動回路31が設けられている。
Hereinafter, a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
The
図1に本発明の実施の形態におけるレーザ加工装置を用いたレンズ固定装置の概略図を示す。
図1において、1はレーザ加工対象物の鏡筒であり、この鏡筒1は、ファイバー強化された熱可塑性樹脂(融点と分解溶融点との温度差が小さい物質の一例;たとえば融点が250゜C、分解溶融点または沸点が300゜Cの樹脂)で形成されており、内方にカメラ用レンズ5が嵌め込まれる孔部4と、この孔部4の周囲上部に形成され、内側にカメラ用レンズ5と当接するかしめ面2Aを有し、孔部4に嵌め込まれたカメラ用レンズ5をかしめるためのかしめ部2とを設けている。またこの鏡筒1を前記かしめ部2が上向きとなるように固定する受け治具3が備えられている。なお、上記孔部4の径は、カメラ用レンズ5の径より僅かに大きく形成されており、カメラ用レンズ5が中心に配置されたとき、カメラ用レンズ5の両側面5Aと孔部4の内壁面4Aとの間に隙間6(約20μm)ができるよう形成されている。
FIG. 1 shows a schematic diagram of a lens fixing device using a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
In FIG. 1,
また、かしめ部2は、カメラ用レンズ5の側面5Aの上端位置からかしめ部2の上端位置までの距離Kが、レーザ加工装置1によるかしめ部2の溶融を行ってもカメラ用レンズ5をかしめることが可能な距離(約1mm)となるよう形成されており、カメラ用レンズ5をかしめる際は、カメラ用レンズ5の側部の上端位置とかしめ部2の上端位置との中央部X位置(かしめ部の上端から約0.5mm)をレーザ光Lにより照射する。
Further, the
図1において、11は受け治具3の上方に配置されたレーザ加工装置であり、このレーザ加工装置11は、図1および図2(a),(b)に示すように、上記鏡筒1側が開放され筒状に形成された金属製の本体12と、この本体12内に2本の樹脂ねじ21により絶縁フィルム(絶縁体の一例)16を介して固定され、上記鏡筒1のかしめ部2を溶解させるレーザ光Lを光軸センタ22を中心に出射する出射部23を有する連続発振(CW)タイプのワット級ワンチップ半導体レーザ(LD)(ワンチップ半導体レーザ光源の一例)13と、本体12内で且つ鏡筒1とワット級ワンチップ半導体レーザ13との間で光軸センタ22上に配置され、ワット級ワンチップ半導体レーザ13の出射部23から出射されるレーザ光Lを集光させる非球面レンズ14と、本体12内で且つ開放された鏡筒1側で非球面レンズ14を保持し、調整具により光軸センタ22上における非球面レンズ14の位置を可変可能としたレンズ保持部15と、本体12に配置され、外方から引き込まれた給電線24により給電されて、ワット級ワンチップ半導体レーザ13を駆動するパワートランジスタ17{第1パワートランジスタ17A(Tr1),第2パワートランジスタ17B(Tr2),第3パワートランジスタ17C(Tr3),第4パワートランジスタ17D(Tr4)}と、本体12内で且つ本体12の後端部(鏡筒1とは反対の端部)に設けられた係合部25からワット級ワンチップ半導体レーザ13の近傍まで配置された水冷却配管26と、本体12内に配置され、給電線24により給電される回路基板27と、本体12内に配置され、ワット級ワンチップ半導体レーザ13に接続されたプラス電源ラインに一端が接続され、ワット級ワンチップ半導体レーザ13の出射部23からレーザ発振されたレーザ光Lを受光するフォトダイオード(PD)(光変換素子の一例)28などから構成されている。
In FIG. 1,
また、図3に示すように、本体12内には、ワット級ワンチップ半導体レーザ13、各パワートランジスタ17、回路基板27およびフォトダイオード28によりレーザ駆動回路31が形成されており、上記回路基板27は、LED(発光素子の一例)32Aとフォトトランジスタ(受光素子の一例)32Bとから形成され、フォトトランジスタ32Bの一端がフォトダイオード28の他端に接続され、フォトトランジスタ32Bの他端が抵抗39の一端に接続されるフォトカプラ(電気−光変換素子の一例)32と、入力端子SIGから入力される外部からのレーザ光の強度の指令データに応じて、フォトカプラ32のLED32Aへ高速強度変調をかけた動作電流を出力してLED32Aを駆動するE/O変換回路(指令回路の一例)33と、フォトダイオード28の他端とフォトカプラ32のフォトトランジスタ32Bとの一端との接続点であるA点に接続され、前記A点とマイナス電源ライン間の電圧に基づいて第1パワートランジスタ17Aを駆動してワット級ワンチップ半導体レーザ13の電流制御を行うAPC回路(出力制御回路の一例)34と、入力端がプラス電源ラインと接続され、出力端がワット級ワンチップ半導体レーザ13の一端と接続され、このワット級ワンチップ半導体レーザ13に印加される電圧を所定の値まで徐々に上昇させながら出力するスロースタート回路35と、第4パワートランジスタ17Dのベースおよびマイナス電源ラインと接続され、過電流が流れた場合などに回路を保護するサーマルオーバーカレントシャットダウン38などから形成されている。
As shown in FIG. 3, a
なお、上記第1パワートランジスタ17A(駆動素子の一例)は、ベースがAPC回路34と接続され、コレクタが抵抗39の他端およびワット級ワンチップ半導体レーザ13の他端と接続され、エミッタがマイナス電源ラインと接続されている。
The
また、上記APC回路34は、例えばベースがA点と接続され、コレクタが第1パワートランジスタ17Aのベースおよび抵抗を介してマイナス電源ラインと接続され、エミッタがプラス電源ラインと接続されたトランジスタにより形成される。
The
また上記スロースタート回路35は、一端がプラス電源ラインに接続され、他端がワット級ワンチップ半導体レーザ13と接続された出力電圧調整素子(ダーリントン接続された第2,第3パワートランジスタ17B,17C)と、一端がプラス電源ラインに接続され、他端が第3パワートランジスタ17Cのベースに接続された抵抗36と、プラス端子が抵抗36および第3パワートランジスタ17Cのベースに接続された電解コンデンサ37とから形成されている。
The
また、図2,図4に示すように、フォトダイオード28を、本体12内で、ワット級ワンチップ半導体レーザ13のファースト方向レーザ光Lの光軸センタ22を中心としたビーム拡散角において30°〜90°の範囲内に配置、すなわち本体12内におけるレーザ光Lの光軸センタ22から30°〜90°上方に位置する場所にフォトダイオード28を配置させており、このフォトダイオード28は可視光カットフィルタを備えている。
As shown in FIGS. 2 and 4, the
このように、レーザ発振領域A、すなわちLEDモードでない領域にフォトダイオード28を配置することにより、フォトダイオード28がレーザ光L(戻光)の影響を受けることを回避している。
In this manner, by arranging the
以下に、上記した実施の形態における作用を説明する。
まず、図1に示すように、受け治具3にレーザ加工対象の鏡筒1を上向きに固定し、この鏡筒1の孔部4にレンズ5を嵌め込み、調芯を行う。この調芯の結果、隙間6は数10μm〜数μmとなる。そして、レーザ加工装置11から照射されるレーザ光Lを水平位置から上方へα(15°〜30°)傾けた状態で、レーザ光Lの集光部Mが鏡筒1のかしめ面2Aの中央部X位置に合うように、そしてスロー方向のレーザ光Lが水平となるように、レーザ加工装置11を調整する。
The operation in the above embodiment will be described below.
First, as shown in FIG. 1, the
そして、ワット級ワンチップ半導体レーザ13によりカメラ用レンズ5をかしめる際、かしめ面2Aの中央部Xに窒素ガスを噴き付けた窒素ガス雰囲気の中で、レーザ光Lを、水平位置から上方へα(15°〜30°)傾けた状態で、集光部Mであるかしめ面2Aの中央部X位置に対してスロー方向のレーザ光Lが水平となりファースト方向のレーザ光Lが集光するよう照射する。ファースト方向のレーザ光Lのビーム幅B(約20μm)が集光部である中央部Xの高さ方向の幅となる。
When the
このときの、レーザ駆動回路31の作用を説明する。
レーザ光Lを出射するためにレーザ駆動回路31を作動させる際、通常市販されている安価な絶縁型スイッチング電源(図示せず)を用いて、給電線24を介してレーザ駆動回路31のワット級ワンチップ半導体レーザ13に電圧の供給を行う。ここで、レーザ駆動回路31はスロースタート回路35を備えているため、絶縁型スイッチング電源より入力された電圧は、所定の値まで徐々に増加されてワット級ワンチップ半導体レーザ13などへ印加される。これにより、絶縁型スイッチング電源によるワット級ワンチップ半導体レーザ13の安定した作動が可能となる。
The operation of the
When operating the
上述の如くワット級ワンチップ半導体レーザ13は、レーザ光Lをかしめ面2Aへ出力するとともに、フォトダイオード28に対して光信号を出力し、この光信号を受けたフォトダイオード28は、その光信号を電気信号に変換してフォトカプラ32へ電流I2を流す。
As described above, the watt-class one-
これらフォトダイオード28とフォトカプラ32の接続点であるA点の電位は、ワット級ワンチップ半導体レーザ13の光出力の変化に伴い変化する前記電流I2、およびE/O変換回路33からの動作電流により変動する。
Potential at point A which is the connection point of these
i.E/O変換回路33から、フォトカプラ32内のLED32Aへ高速強度変調をかけた動作電流が出力されると、前記動作電流はLED32Aにより光信号に変換され、その光信号に応じてフォトカプラ32のフォトトランジスタ32Bにより前記電流I2は調整され電流I3として抵抗39へ流れ、このときA点の電位は前記動作電流の変調に応じて高速で変動する。また入力端子SIGから入力された指令データに応じて前記高速強度変調をかけた動作電流の実効値が増加(減少)されると、A点の電位が増加(減少)する。
i. When an operating current subjected to high-speed intensity modulation is output from the E / O conversion circuit 33 to the
このとき、APC回路34は、A点の電位の変動に応答して第1トランジスタ17Aを駆動してワット級ワンチップ半導体レーザ13へ供給する電流I1を変動させ、レーザ光の光出力(強度)を前記動作電流の変調に応じて高速で変動させるとともに、高速強度変調をかけた動作電流が増加(減少)し、A点の電位が増加(減少)すると、ワット級ワンチップ半導体レーザ13へ供給する電流I1を増加(減少)させ、前記指令データに応じた出力を、ワット級ワンチップ半導体レーザ13より出力させる。このように、APC回路34は、常にE/O変換回路33から出力される動作電流により定められた電位(以下、基準電位と称す)に応答して、ワット級ワンチップ半導体レーザ13の光出力を制御している。
In this case,
ii.ワット級ワンチップ半導体レーザ13の光出力が周囲温度により変化すると、フォトダイオード28の電気信号が変化し、これに起因してA点の電位が変化する。周囲温度が上昇(下降)し、ワット級ワンチップ半導体レーザ13の光出力が減少(増加)すると、逆にA点の電位は増加(減少)する。
ii. When the optical output of the watt-class one-
このようにレーザ光の光出力が減少(増加)し、A点の電位が増加(減少)すると、APC回路34は、第1トランジスタ17Aのベース電流に対して電流制御を行い、第1トランジスタ17Aへ流れる電流I1を増加(減少)させ、ワット級ワンチップ半導体レーザ13の光出力を増加(減少)させる。したがって周囲温度が変化しても、フォトダイオード28の受光出力電圧、すなわちレーザ光の光出力が一定に維持される。
When the light output of the laser beam decreases (increases) and the potential at point A increases (decreases) in this way, the
以上のように、ワット級ワンチップ半導体レーザ13の光出力の変化(フォトダイオード28によりフィードバックされる周囲温度の変動に伴う光出力の変化)、およびE/O変換回路33からの動作電流の変化(指令データの変更)によるA点の電位の変動に基づいて、APC回路34により第1トランジスタ17Aが駆動されてワット級ワンチップ半導体レーザ13へ供給される電流I1が制御され、ワット級ワンチップ半導体レーザ13の光出力が制御されている。
As described above, the change in the optical output of the watt-class one-chip semiconductor laser 13 (the change in the optical output accompanying the change in ambient temperature fed back by the photodiode 28) and the change in the operating current from the E / O conversion circuit 33. based on the change in the potential of the point a by (change in command data), the current I 1
レーザ加工装置11のワット級ワンチップ半導体レーザ13から出射されるレーザ光Lの入出力特性図を図5に示す。
上述した制御を行うことにより、図5に示すように、ワット級ワンチップ半導体レーザ13の入力電圧の上昇に比例して、ワット級ワンチップ半導体レーザ13から出力されるレーザ光の出力を上昇させることができ、すなわち入力電圧−光出力特性図において直線性をもたせたグラフを得ることができるため、ワット級ワンチップ半導体レーザ13から安定したレーザ光Lを出射することができる。
An input / output characteristic diagram of the laser beam L emitted from the watt-class one-
By performing the control described above, as shown in FIG. 5, the output of the laser beam output from the watt-class one-
レーザ加工装置11のワット級ワンチップ半導体レーザ13から出射されるレーザ光Lの強度変動図を図6に示す。
図6に示すように、上記動作電流はE/O変換回路33によって高速強度変調がかけられ、光出力を短時間で最高値まで上昇させており、最高値で融点に達し、最低値で分解溶融点以下となるよう、ワット級ワンチップ半導体レーザ13からレーザ加工対象物1へ高速強度変調をかけたレーザ光が出射されている。これにより、集光部Mの周囲へ伝熱する前に融点に達するため、すなわち集光部Mの周囲への伝熱を小さくすることができるため、レーザ加工対象物1に対してこげをつくることなく、安定して強く溶かすことができ、したがって熱影響を減らして集光部Mにおける溶け込みを深くすることができる。
FIG. 6 shows an intensity fluctuation diagram of the laser light L emitted from the watt class one-
As shown in FIG. 6, the operating current is subjected to high-speed intensity modulation by the E / O conversion circuit 33, increasing the optical output to the maximum value in a short time, reaching the melting point at the maximum value, and decomposing at the minimum value. Laser light subjected to high-speed intensity modulation is emitted from the watt-class one-
レーザ加工装置11のワット級ワンチップ半導体レーザ13から出射されるレーザ光Lの温度−光出力特性図を図7および図8に示す。
図7に示すように、広い温度範囲に亘って定光出力を行えるよう、周囲温度変化にともなって第1トランジスタ17Aのベース電流をAPC回路34によって自動的に変化させることにより、すなわちA点の電位をフィードバックしてワット級ワンチップ半導体レーザ13を制御することにより、所定時間内に5℃前後から35℃前後まで上昇させた後、再び5℃前後まで下降させた場合、すなわち40度変動環境においても、レーザ光Lの出力の誤差を±2%以内とすることができ、また、図8に示すように、温度調整が行われない状況のもと時間が経過してもレーザ光Lの出力の誤差を1%以内とすることができ、また絶縁型スイッチング電源によるワット級ワンチップ半導体レーザ13の安定した作動が可能となる。
FIG. 7 and FIG. 8 show temperature-light output characteristic diagrams of the laser light L emitted from the watt-class one-
As shown in FIG. 7, the base current of the
以上のように実施の形態によれば、E/O変換回路33から高速強度変調をかけた動作電流をフォトカプラ32へ出力することにより、ワット級ワンチップ半導体レーザ13から高速強度変調をかけたレーザ光が出力され、よって上述したように集光部Mの周囲への伝熱を小さくすることができるため、レーザ加工対象物1に対してこげをつくることなく、安定して強く溶かすことができ、また光出力の変動がフォトダイオード28によりフィードバックされる周囲温度の変動に伴う光出力の変動が補償されるため、融点と分解溶融点との温度差が小さい樹脂に対して、安定した樹脂接合を行うことができる。
As described above, according to the embodiment, the operating current subjected to the high-speed intensity modulation is output from the E / O conversion circuit 33 to the
また、実施の形態によれば、レーザ駆動回路31はスロースタート回路35により、絶縁型スイッチング電源より入力された電圧を所定の値まで徐々に増加させることができるため、絶縁型スイッチング電源によるワット級ワンチップ半導体レーザ13の安定した作動が可能となる。
In addition, according to the embodiment, the
また、実施の形態によれば、ファースト方向のレーザ光Lの発光部における光軸センタ22を中心としたビーム拡散角において、30°〜90°の範囲内に位置する場所、すなわち本体12内におけるレーザ光Lの光軸センタ22から30°〜90°上方に位置する場所にフォトダイオード28を配置させ、その配置場所をレーザ発振領域A、すなわちLEDモードでない領域とすることにより、フォトダイオード28がレーザ光Lの戻光の影響を受けることを回避することができる。
Further, according to the embodiment, the position of the beam diffusion angle around the
また、実施の形態によれば、フォトダイオード28がレーザ光L(戻光)の影響を受けず遮光されることにより、レーザ駆動回路31による自動電流制御動作(ACC動作ともいう)を正確に実行することが可能となる。
Further, according to the embodiment, the
なお、本実施の形態では、物質を融点と分解点との温度差の小さい熱可塑性樹脂としているが、このような可塑性樹脂に限ることはなく、融点と沸点との温度差の小さい金属、たとえば亜鉛ダイキャストなどでもよい。 In this embodiment, the substance is a thermoplastic resin having a small temperature difference between the melting point and the decomposition point, but is not limited to such a plastic resin, for example, a metal having a small temperature difference between the melting point and the boiling point, for example, Zinc die-casting etc. may be used.
また本実施の形態では、フォトカプラ32の発光素子としてLED32A、受光素子としてフォトトランジスタ32Bが使用されていたが、これに限るものではなく、受光素子がフォトダイオードやフォトサイリスタなどで構成されたフォトカプラを使用してもよい。
In this embodiment, the
また本実施の形態では、E/O変換回路33は、本体12内に設けられていたが、これに限るものではなく、本体12の外部に設けてもよい。
In the present embodiment, the E / O conversion circuit 33 is provided in the
11 レーザ加工装置
12 本体
13 ワット級ワンチップ半導体レーザ(ワンチップ半導体レーザ光源)
17 パワートランジスタ(駆動素子)
22 光軸センタ
28 フォトダイオード(光変換素子)
31 レーザ駆動回路
32 フォトカプラ(電気−光変換素子)
32A LED(発光素子)
32B フォトトランジスタ(受光素子)
33 E/O変換回路(指令回路)
34 APC回路(出力制御回路)
35 スロースタート回路
39 抵抗
L レーザ光
DESCRIPTION OF
17 Power transistor (driving element)
22
31
32A LED (light emitting device)
32B Phototransistor (light receiving element)
33 E / O conversion circuit (command circuit)
34 APC circuit (output control circuit)
35
Claims (6)
前記レーザ駆動回路は、
前記ワンチップ半導体レーザ光源からレーザ発振された前記レーザ光を受光して電気信号に変換する光変換素子と、
発光素子と受光素子とから形成され、前記受光素子が前記光変換素子と直列に接続され、光変換素子とともに前記ワンチップ半導体レーザ光源に並列に接続された電気−光変換素子と、
前記ワンチップ半導体レーザ光源に供給する電流を制御する前記ワンチップ半導体レーザ光源の駆動素子と、
前記光変換素子と前記電気−光変換素子の前記受光素子との接続点に接続され、前記レーザ光の変化に伴う前記光変換素子の電気信号の変化に起因する前記接続点の電圧の変化により、前記駆動素子を駆動して前記レーザ光の強度を制御する出力制御回路
を備え、
前記レーザ光の強度の指令データとして前記電気−光変換素子の発光素子に高速強度変調をかけた動作電流を入力して、前記受光素子を介して前記接続点の電圧を変化させ、この接続点の電圧の変化により前記出力制御回路により前記駆動素子を駆動させ、前記レーザ光の強度の指令データに基づいて前記ワンチップ半導体レーザ光源から出力されるレーザ光を高速強度変調すること
を特徴とするレーザ加工装置。 A one-chip semiconductor laser light source that emits a line-shaped laser beam that melts this material toward a material having a small temperature difference between the melting point and the decomposition melting point or boiling point, centered on the optical axis center, and irradiated from the one-chip semiconductor laser light source A laser processing device provided with a laser drive circuit for controlling the intensity of the laser beam,
The laser driving circuit includes:
A light conversion element that receives the laser light laser-oscillated from the one-chip semiconductor laser light source and converts it into an electrical signal;
An electro-optical conversion element formed of a light emitting element and a light receiving element, wherein the light receiving element is connected in series with the light converting element, and connected in parallel to the one-chip semiconductor laser light source together with the light converting element;
A driving element of the one-chip semiconductor laser light source for controlling a current supplied to the one-chip semiconductor laser light source;
Due to a change in voltage at the connection point that is connected to a connection point between the light conversion element and the light-receiving element of the electro-light conversion element, and is caused by a change in an electrical signal of the light conversion element due to a change in the laser light An output control circuit for controlling the intensity of the laser beam by driving the drive element;
As the command data of the intensity of the laser beam, an operating current subjected to high-speed intensity modulation is input to the light emitting element of the electro-optical conversion element, and the voltage at the connection point is changed via the light receiving element. The drive element is driven by the output control circuit according to a change in the voltage of the laser beam, and the laser light output from the one-chip semiconductor laser light source is subjected to high-speed intensity modulation based on the command data of the intensity of the laser light. Laser processing equipment.
を特徴とする請求項1に記載のレーザ加工装置。 A command circuit for driving the light-emitting element by outputting the operating current obtained by applying high-speed intensity modulation to the light-emitting element of the electro-optical conversion element in accordance with external command data of the laser beam intensity; The laser processing apparatus according to claim 1, wherein:
光出力を短時間で、最高値である融点まで上昇させているとともに、最低値である分解溶融点以下まで下降させていること
を特徴とする請求項1または請求項2に記載のレーザ加工装置。 The fast intensity modulation is
3. The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the optical output is raised to a melting point which is a maximum value in a short time and is lowered to a temperature equal to or lower than a decomposition melting point which is a minimum value. .
を特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。 The laser according to any one of claims 1 to 3, further comprising a slow start circuit that outputs the voltage applied to the one-chip semiconductor laser light source while gradually increasing the voltage to a predetermined value. Processing equipment.
を特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。 The laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 4, further comprising a metal main body formed in a cylindrical shape, wherein the laser drive circuit is provided in the main body.
を特徴とする請求項5に記載のレーザ加工装置。 The light conversion element is arranged in a range of 30 ° to 90 ° in a beam diffusion angle around the optical axis center of the first direction laser light of the one-chip semiconductor laser light source in the main body. The laser processing apparatus according to claim 5.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004171950A JP2005349430A (en) | 2004-06-10 | 2004-06-10 | Laser beam machine |
Applications Claiming Priority (1)
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US9429021B2 (en) | 2013-04-04 | 2016-08-30 | General Electric Technology Gmbh | Method for welding rotors for power generation |
-
2004
- 2004-06-10 JP JP2004171950A patent/JP2005349430A/en active Pending
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