JP2005336083A - 芳香族アミノ化合物の製造方法 - Google Patents

芳香族アミノ化合物の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2005336083A
JP2005336083A JP2004155794A JP2004155794A JP2005336083A JP 2005336083 A JP2005336083 A JP 2005336083A JP 2004155794 A JP2004155794 A JP 2004155794A JP 2004155794 A JP2004155794 A JP 2004155794A JP 2005336083 A JP2005336083 A JP 2005336083A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
formula
optionally substituted
benzene
cyano
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Abandoned
Application number
JP2004155794A
Other languages
English (en)
Inventor
Atsushi Ueno
敦史 上野
Mikio Sasaki
幹雄 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Pharmaceuticals Co Ltd
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Pharmaceuticals Co Ltd
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Pharmaceuticals Co Ltd, Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Pharmaceuticals Co Ltd
Priority to JP2004155794A priority Critical patent/JP2005336083A/ja
Publication of JP2005336083A publication Critical patent/JP2005336083A/ja
Abandoned legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

【課題】炭酸カリウム等の弱い塩基を用いて、目的とする芳香族アミノ化合物を有利に製造する方法を提供すること。
【解決手段】有機溶媒に可溶な二座配位子とパラジウム化合物とからなる均一系パラジウム触媒および塩基の存在下に、式(1)
Figure 2005336083

(式中、Arは置換されていてもよいアリール基等を表わし、Xは脱離基を表わす。)
で示される芳香族化合物と式(2)
Figure 2005336083

(式中、R1は置換されていてもよいアルキル基等を、R2は水素原子、置換されていてもよいアルキル基等を表わす。)
で示されるアミノ化合物を反応させることを特徴とする式(3)
Figure 2005336083

(式中、Ar、R1およびR2は上記と同一の意味を表わす。)
で示される芳香族アミノ化合物の製造方法であって、塩基として、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の炭酸塩、リン酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、炭酸水素塩、リン酸一水素塩もしくはフッ化物塩を用い、水の共存下に反応を実施することを特徴とする芳香族アミノ化合物の製造方法。
【選択図】なし

Description

本発明は、芳香族アミノ化合物の製造方法に関する。
式(3)
Figure 2005336083
(式中、Arは置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいヘテロアリール基を表わし、R1は置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいアリール基を表わし、R2は水素原子、置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいアリール基を表わす。また、R1とR2が結合してその結合窒素原子を含む環を形成してもよい。また、R1とR2が一緒になって、下記式
Figure 2005336083
で示される基を表わしてもよい。ここで、R3およびR4はそれぞれ同一または相異なって、置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいアリール基を表わす。)
で示される芳香族アミノ化合物は、医薬、農薬等の中間体として有用である。
かかる式(3)で示される芳香族アミノ化合物の製造方法としては、式(1)
Figure 2005336083
(式中、Arは上記と同一の意味を表わし、Xは脱離基を表わす。)
で示される芳香族化合物と式(2)
Figure 2005336083
(式中、R1およびR2は上記と同一の意味を表わす。)
で示されるアミノ化合物を、有機溶媒中で、二座ホスフィン配位子である2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチルとパラジウム化合物とからなる均一系パラジウム触媒およびナトリウムtert−ブトキシドの存在下に反応させる方法が知られている(例えば非特許文献1参照。)。しかしながら、ナトリウムtert−ブトキシドは比較的高価で、強い塩基であるため、式(1)で示される芳香族化合物の種類によっては、その強塩基性や求核性に起因する副反応が進行するという問題があった。一方で、例えば炭酸セシウム等の弱い塩基を用いて反応を行うと、副反応を抑制することはできるものの、反応の進行自体が遅いという問題があった。
J.Am.Chem.Soc.,1996,118,7215
このような状況のもと、本発明者らは、炭酸カリウム等の比較的安価で、弱い塩基を用いて、目的とする芳香族アミノ化合物を有利に製造する方法を開発すべく検討したところ、水の存在下に反応を実施することにより、反応速度が増大し、良好な反応速度で、芳香族アミノ化合物が得られることを見出し、本発明に至った。
すなわち本発明は、有機溶媒に可溶な二座配位子とパラジウム化合物とからなる均一系パラジウム触媒および塩基の存在下に、式(1)
Figure 2005336083
(式中、Arは置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいヘテロアリール基を表わし、Xは脱離基を表わす。)
で示される芳香族化合物と式(2)
Figure 2005336083
(式中、R1は置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいアリール基を表わし、R2は水素原子、置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいアリール基を表わす。また、R1とR2が結合してその結合窒素原子を含む環を形成してもよい。また、R1とR2が一緒になって、下記式
Figure 2005336083
で示される基を表わしてもよい。ここで、R3およびR4はそれぞれ同一または相異なって、置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいアリール基を表わす。)
で示されるアミノ化合物を反応させることを特徴とする式(3)
Figure 2005336083
(式中、Ar、R1およびR2は上記と同一の意味を表わす。)
で示される芳香族アミノ化合物の製造方法であって、塩基として、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の炭酸塩、リン酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、炭酸水素塩、リン酸一水素塩もしくはフッ化物塩を用い、水の共存下に反応を実施することを特徴とする芳香族アミノ化合物の製造方法を提供するものである。
本発明によれば、炭酸カリウム等の弱い塩基を用い、良好な反応速度で、目的とする芳香族アミノ化合物を得ることができる。そのため、ナトリウムtert−ブトキシド等の強い塩基を用いた場合にはその強塩基性や求核性に起因する副反応が進行するおそれの高い芳香族化合物を用いても反応を行うことができ、工業的にも有利である。
式(1)
Figure 2005336083
で示される芳香族化合物(以下、芳香族化合物(1)と略記する。)の式中、Arは置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいヘテロアリール基を表わし、Xは脱離基を表わす。置換されていてもよいアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナンスレニル基等の無置換アリール基、およびかかる無置換アリール基を構成する芳香環の一つもしくは二つ以上の水素原子が、例えば無置換もしくは置換アルキル基、無置換もしくは置換アルコキシ基、無置換もしくは置換アリール基、無置換もしくは置換アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、無置換もしくは置換カルバモイル基、置換カルボニルアミノ基、フッ素原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基等の置換基で置換された置換アリール基が挙げられる。Xが臭素原子もしくはヨウ素原子のときには、かかるアリール基は塩素原子で置換されていてもよい。
無置換もしくは置換アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数1〜6の直鎖状、分枝鎖状もしくは環状の無置換アルキル基およびこれら無置換アルキル基の一つもしくは二つ以上の水素原子が、例えばフッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子、例えばアルコキシ基、アルコキシカルボニルアミノ基等の置換基で置換された、例えばクロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、クロロジフルオロメチル基、2−メトキシエチル基、4−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシル基、2−(N−ベンジルオキシカルボニルアミノ)エチル基等の置換アルキル基が挙げられる。また、かかる無置換もしくは置換アルキル基を構成するメチレン基は、例えばtert−ブトキシカルボニルイミノ基等の置換イミノ基等で置換されていてもよく、かかるアルキル基としては、例えば1−(N−tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン−4−イル基等が挙げられる。無置換もしくは置換アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数1〜6の直鎖状、分枝鎖状もしくは環状の無置換アルコキシ基およびこれら無置換アルコキシ基の一つもしくは二つ以上の水素原子が、例えばハロゲン原子、アルコキシ基等で置換された、例えばトリフルオロメトキシ基、2−メトキシエトキシ基等の置換アルコキシ基が挙げられる。
無置換もしく置換アラルキル基としては、例えばベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられる。アシル基としては、例えばアセチル基、プロピオニル基等の前記アルキル基とカルボニル基とから構成されるものが挙げられ、アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の前記アルコキシ基とカルボニル基とから構成されるものが挙げられる。無置換もしくは置換カルバモイル基としては、例えばカルバモイル基、N−メチルカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基等があげられ、置換カルボニルアミノ基としては、例えばメトキシカルボニルアミノ基、tert−ブトキシカルボニルアミノ基、ベンジルオキシカルボニルアミノ基、アセチルアミノ基、クロロアセチルアミノ基等が挙げられる。
かかる置換アリール基としては、例えば2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、3−メトキシフェニル基、2,4−ジメトキシフェニル基、4−フルオロフェニル基、4−シアノフェニル基、4−ニトロフェニル基、4−メトキシカルボニルフェニル基、4−アセチルフェニル基、4−カルバモイルフェニル基、3−トリフルオロメチルフェニル基、ビフェニル−2−イル基、3−フルオロ−4−シアノフェニル基、4−カルバモイル−3−フルオロフェニル基、3−ヒドロキシフェニル基、2−メチル−1−ナフチル基、4−メチル−1−ナフチル基等が挙げられる。置換されていてもよいヘテロアリール基としては、例えばフリル基、チエニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ピリミジル基、インドリル基等の無置換ヘテロアリール基、およびかかる無置換ヘテロアリール基を構成する芳香環の一つもしくは二つ以上の水素原子が前記置換基で置換された、例えば5−トリフルオロメチル−2−ピリジル基、6−メトキシ−2−ピリジル基、6−メチル−2−ピリジル基等の置換ヘテロアリール基が挙げられる。Xが臭素原子もしくはヨウ素原子のときには、例えば2−クロロフェニル基、2−クロロ−5−フルオロフェニル基等の塩素原子で置換されたアリール基も挙げられる。
脱離基としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、例えばトリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基等のアルカンスルホニルオキシ基、例えばベンゼンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基等のアリールスルホニルオキシ基が挙げられ、好ましくはハロゲン原子が挙げられる。
かかる芳香族化合物(1)としては、例えばブロモベンゼン、2−メチル−1−ブロモベンゼン、3−メチル−1−ブロモベンゼン、4−メチル−1−ブロモベンゼン、1,3−ジメチル−2−ブロモベンゼン、2−メトキシ−1−ブロモベンゼン、3−メトキシ−1−ブロモベンゼン、4−メトキシ−1−ブロモベンゼン、2,4−ジメトキシ−1−ブロモベンゼン、2,5−ジメトキシ−1−ブロモベンゼン、4−フルオロ−1−ブロモベンゼン、3−ニトロ−1−ブロモベンゼン、4−ニトロ−1−ブロモベンゼン、4−シアノ−1−ブロモベンゼン、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼン、4−アセチル−1−ブロモベンゼン、2−トリフルオロメチル−1−ブロモベンゼン、3−トリフルオロメチル−1−ブロモベンゼン、4−ブロモ安息香酸メチル、3−ブロモビフェニル、1−ブロモナフタレン、2−ブロモナフタレン、1−ブロモ−2−メチルナフタレン、2−ブロモチオフェン、3−ブロモチオフェン、5−クロロ−1−エチル−2−メチルイミダゾール、2−ブロモピリジン、3−ブロモピリジン、4−ブロモピリジン、2−メチル−6−ブロモピリジン、5−ブロモインドール、4−ブロモ−3,5−ジメチルピラゾール、4−カルバモイル−1−ブロモベンゼン、4−カルバモイル−3−フルオロ−1−ブロモベンゼン、2−クロロ−1−ブロモベンゼン、2−クロロ−5−フルオロ−1−ブロモベンゼン、3−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)ベンゼン、
クロロベンゼン、2−メチル−1−クロロベンゼン、3−メチル−1−クロロベンゼン、4−メチル−1−クロロベンゼン、1,3−ジメチル−2−クロロベンゼン、2−メトキシ−1−クロロベンゼン、3−メトキシ−1−クロロベンゼン、4−メトキシ−1−クロロベンゼン、2,4−ジメトキシ−1−クロロベンゼン、2,5−ジメトキシ−1−クロロベンゼン、4−フルオロ−1−クロロベンゼン、3−ニトロ−1−クロロベンゼン、4−ニトロ−1−クロロベンゼン、4−シアノ−1−クロロベンゼン、4−シアノ−3−フルオロ−1−クロロベンゼン、4−アセチル−1−クロロベンゼン、2−トリフルオロメチル−1−クロロベンゼン、3−トリフルオロメチル−1−クロロベンゼン、4−クロロ安息香酸メチル、3−クロロビフェニル、1−クロロナフタレン、2−クロロナフタレン、1−クロロ−2−メチルナフタレン、2−クロロチオフェン、3−クロロチオフェン、5−クロロ−1−エチル−2−メチルイミダゾール、2−クロロピリジン、3−クロロピリジン、4−クロロピリジン、2−メチル−6−クロロピリジン、5−クロロインドール、4−クロロ−3,5−ジメチルピラゾール、4−カルバモイル−1−クロロベンゼン、4−カルバモイル−3−フルオロ−1−クロロベンゼン、
ヨードベンゼン、2−メチル−1−ヨードベンゼン、3−メチル−1−ヨードベンゼン、4−メチル−1−ヨードベンゼン、1,3−ジメチル−2−ヨードベンゼン、2−メトキシ−1−ヨードベンゼン、3−メトキシ−1−ヨードベンゼン、4−メトキシ−1−ヨードベンゼン、2,4−ジメトキシ−1−ヨードベンゼン、2,5−ジメトキシ−1−ヨードベンゼン、4−フルオロ−1−ヨードベンゼン、3−ニトロ−1−ヨードベンゼン、4−ニトロ−1−ヨードベンゼン、4−シアノ−1−ヨードベンゼン、4−シアノ−3−フルオロ−1−ヨードベンゼン、4−アセチル−1−ヨードベンゼン、2−トリフルオロメチル−1−ヨードベンゼン、3−トリフルオロメチル−1−ヨードベンゼン、4−ヨード安息香酸メチル、3−ヨードビフェニル、1−ヨードナフタレン、2−ヨードナフタレン、1−ヨード−2−メチルナフタレン、2−ヨードチオフェン、3−ヨードチオフェン、5−ヨード−1−エチル−2−メチルイミダゾール、2−ヨードピリジン、3−ヨードピリジン、4−ヨードピリジン、2−メチル−6−ヨードピリジン、5−ヨードインドール、4−ヨード−3,5−ジメチルピラゾール、4−カルバモイル−1−ヨードベンゼン、4−カルバモイル−3−フルオロ−1−ヨードベンゼン、
トリフルオロメタンスルホニルオキシベンゼン、2−メチル−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、3−メチル−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−メチル−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジメチル−2−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、2−メトキシ−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、3−メトキシ−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−メトキシ−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、2,4−ジメトキシ−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、2,5−ジメトキシ−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−フルオロ−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、3−ニトロ−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−ニトロ−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−シアノ−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−シアノ−3−フルオロ−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−アセチル−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、2−トリフルオロメチル−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、3−トリフルオロメチル−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)安息香酸メチル、3−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ビフェニル、1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ナフタレン、2−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ナフタレン、1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)−2−メチルナフタレン、2−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)チオフェン、3−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)チオフェン、5−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)−1−エチル−2−メチルイミダゾール、2−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ピリジン、3−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ピリジン、4−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ピリジン、2−メチル−6−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ピリジン、5−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)インドール、4−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)−3,5−ジメチルピラゾール、4−カルバモイル−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−カルバモイル−3−フルオロ−1−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ベンゼン、
p−トルエンスルホニルオキシベンゼン、2−メチル−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、3−メチル−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−メチル−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジメチル−2−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、2−メトキシ−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、3−メトキシ−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−メトキシ−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、2,4−ジメトキシ−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、2,5−ジメトキシ−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−フルオロ−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、3−ニトロ−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−ニトロ−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−シアノ−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−シアノ−3−フルオロ−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−アセチル−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、2−トリフルオロメチル−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、3−トリフルオロメチル−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−(p−トルエンスルホニルオキシ)安息香酸メチル、3−(p−トルエンスルホニルオキシ)ビフェニル、1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ナフタレン、2−(p−トルエンスルホニルオキシ)ナフタレン、1−(p−トルエンスルホニルオキシ)−2−メチルナフタレン、2−(p−トルエンスルホニルオキシ)チオフェン、3−(p−トルエンスルホニルオキシ)チオフェン、5−(p−トルエンスルホニルオキシ)−1−エチル−2−メチルイミダゾール、2−(p−トルエンスルホニルオキシ)ピリジン、3−(p−トルエンスルホニルオキシ)ピリジン、4−(p−トルエンスルホニルオキシ)ピリジン、2−メチル−6−(p−トルエンスルホニルオキシ)ピリジン、5−(p−トルエンスルホニルオキシ)インドール、4−(p−トルエンスルホニルオキシ)−3,5−ジメチルピラゾール、4−カルバモイル−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−カルバモイル−3−フルオロ−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン、
メタンスルホニルオキシベンゼン、2−メチル−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、3−メチル−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−メチル−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジメチル−2−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、2−メトキシ−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、3−メトキシ−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−メトキシ−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、2,4−ジメトキシ−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、2,5−ジメトキシ−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−フルオロ−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、3−ニトロ−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−ニトロ−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−シアノ−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−シアノ−3−フルオロ−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−アセチル−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、2−トリフルオロメチル−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、3−トリフルオロメチル−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−(メタンスルホニルオキシ)安息香酸メチル、3−(メタンスルホニルオキシ)ビフェニル、1−(メタンスルホニルオキシ)ナフタレン、2−(メタンスルホニルオキシ)ナフタレン、1−(メタンスルホニルオキシ)−2−メチルナフタレン、2−(メタンスルホニルオキシ)チオフェン、3−(メタンスルホニルオキシ)チオフェン、5−(メタンスルホニルオキシ)−1−エチル−2−メチルイミダゾール、2−(メタンスルホニルオキシ)ピリジン、3−(メタンスルホニルオキシ)ピリジン、4−(メタンスルホニルオキシ)ピリジン、2−メチル−6−(メタンスルホニルオキシ)ピリジン、5−(メタンスルホニルオキシ)インドール、4−(メタンスルホニルオキシ)−3,5−ジメチルピラゾール、4−カルバモイル−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、4−カルバモイル−3−フルオロ−1−(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン等が挙げられる。
かかる芳香族化合物(1)は、市販されているものを用いてもよいし、公知の方法により製造したものを用いてもよい。
式(2)
Figure 2005336083
で示されるアミノ化合物(以下、アミノ化合物(2)と略記する。)の式中、R1は置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいアリール基を表わし、R2は水素原子、置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいアリール基を表わす。
置換されていてもよいアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数1〜6の直鎖状、分枝鎖状もしくは環状の無置換アルキル基、これら無置換アルキル基を構成する一つもしくは二つ以上の水素原子が、前記置換基で置換された置換アルキル基が挙げられる。置換アルキル基としては、例えばベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、メトキシメチル基、2−メトキシエチル基等が挙げられる。置換されていてもよいアリール基としては、前記したものと同様のものが挙げられる。
上記式(2)の式中、R1とR2が結合してその結合窒素原子を含む環を構成してもよく、かかる窒素原子を含む環としては、例えばピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環等が挙げられる。また、上記式(2)の式中、R1とR2が一緒になって、下記式
Figure 2005336083
で示される基を表わしてもよい。ここで、R3およびR4はそれぞれ同一または相異なって、置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいアリール基を表わし、前記したものと同様のものが挙げられる。前記式
Figure 2005336083
で示される基としては、例えば1−フェニルベンジリデン基、シクロヘキシリデン基、2,2,4,4−テトラメチル−3−ペンチリデン基等が挙げられる。
かかるアミノ化合物(2)としては、例えばメチルアミン、エチルアミン、n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチルアミン、イソブチルアミン、sec−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、アニリン、4−メトキシアニリン、trans−4−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミン、cis−4−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミン、4−アミノ−1−(tert−ブトキシカルボニル)ピペリジン等の一級アミン、例えばジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−n−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、メチルエチルアミン、エチルイソプロピルアミン、N−メチルベンジルアミン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン等の二級アミン、例えばベンゾフェノンイミン、シクロヘキシルイミン、2,2,4,4−テトラメチル−3−ペンタンイミン等のイミン化合物等が挙げられる。かかるアミノ化合物(2)は、通常市販されているものを用いてもよいし、公知の方法により製造したものを用いてもよい。
かかるアミノ化合物(2)の使用量は、芳香族化合物(1)に対して、通常0.5〜3モル倍であり、好ましくは0.8〜2モル倍である。
有機溶媒に可溶な二座配位子とパラジウム化合物とからなる均一系パラジウム触媒の有機溶媒に可溶な二座配位子としては、その分子内にパラジウムに配位可能な窒素原子、リン原子等の原子を少なくとも二つ有する配位子であればよく、なかでも、その分子内にパラジウムに配位可能なリン原子を一つもしくは二つ有する配位子がより好ましい。かかる二座配位子としては、例えば1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)ベンゼン、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、1,1’−(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、4,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)−9,9−ジメチルキサンテン、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ジフェニルエーテル、2−(N,N−ジメチルアミノ)−2’−(ジシクロヘキシルホスフィノ)ビフェニル、5,5’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−4,4’−ビ(1,3−ベンゾジオキソール)等の二座ホスフィン配位子等が挙げられ、例えば2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル、4,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)−9,9−ジメチルキサンテン、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ジフェニルエーテル等の2,2’−ビナフチル骨格もしくはジフェニルエーテル骨格を有する二座ホスフィン配位子が好ましく、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチルまたは4,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)−9,9−ジメチルキサンテンが特に好ましい。かかる二座配位子は、市販されているものを用いてもよいし、公知の方法により製造したものを用いてもよい。
有機溶媒に可溶な二座配位子の使用量は、パラジウム化合物中のパラジウムに対して、通常1〜5モル倍である。
パラジウム化合物としては、例えば酢酸パラジウム、塩化パラジウム、ジクロロビス(アセトニトリル)パラジウム、パラジウムアセチルアセトナート、ジクロロ(シクロオクタ−1,5−ジエン)パラジウム、ジブロモビス(ベンゾニトリル)パラジウム、ジ−μ−クロロビス(π−アリル)ジパラジウム、ジクロロビス(ピリジン)パラジウム等の2価のパラジウム化合物、例えばトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム・クロロホルム錯体、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム等の0価のパラジウム化合物等が挙げられ、中でも酢酸パラジウムが好ましい。かかるパラジウム化合物は、通常市販されているものを用いてもよいし、公知の方法により製造したものを用いてもよい。
有機溶媒に可溶な二座配位子とパラジウム化合物とからなる均一系パラジウム触媒は、前記有機溶媒に可溶な二座配位子と前記パラジウム化合物とを、予め有機溶媒中で接触せしめることにより調製したものを用いてもよいし、反応系内でその両者を接触せしめ、調製してもよい。
かかる均一系パラジウム触媒の使用量は、パラジウム換算で、芳香族化合物(1)に対して、通常0.01〜20モル%である。
芳香族化合物(1)とアミノ化合物(2)との反応は、無溶媒で行ってもよいが、通常は有機溶媒中で行われる。有機溶媒としては、反応に不活性な有機溶媒であればよく、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、例えばヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、例えばメタノール、イソプロパノール、tert−ブタノール等のアルコール系溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、例えばクロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒等の単独もしくは混合溶媒が挙げられ、芳香族炭化水素系溶媒またはエーテル系溶媒が好ましい。かかる有機溶媒を使用する場合の使用量は特に制限されないが、あまり多いと容積効率が悪くなるため、実用的には、芳香族化合物(1)に対して、1〜100重量倍である。
本発明に用いられる塩基は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の炭酸塩、リン酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、炭酸水素塩、リン酸一水素塩もしくはフッ化物塩であり、なかでもアルカリ金属の炭酸塩またはリン酸塩が好ましい。アルカリ金属またはアルカリ土類金属の炭酸塩としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸マグネシウム等が挙げられる。アルカリ金属またはアルカリ土類金属のリン酸塩としては、例えばリン酸ナトリウム、リン酸カリウム等が挙げられる。アルカリ金属またはアルカリ土類金属の酢酸塩としては、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸マグネシウム等、アルカリ金属またはアルカリ土類金属のトリフルオロ酢酸塩としては、例えばトリフルオロ酢酸ナトリウム、トリフルオロ酢酸カリウム等が挙げられる。アルカリ金属またはアルカリ土類の炭酸水素塩としては、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられる。アルカリ金属またはアルカリ土類金属のリン酸一水素塩としては、例えばリン酸一水素二ナトリウム、リン酸一水素二カリウム等が、アルカリ金属またはアルカリ土類金属のフッ化物としては、例えばフッ化ナトリウム等が挙げられる。
かかる塩基の使用量は、芳香族化合物(1)に対して、通常1〜10モル倍、好ましくは1〜5モル倍である。
本発明は、水の共存下に実施されるが、水の使用量は、塩基に対して、通常0.005〜2重量倍、好ましくは0.005〜1重量倍、より好ましくは0.01〜0.5重量倍、さらに好ましくは0.02〜0.2重量倍である。かかる水は、芳香族化合物(1)、アミノ化合物(2)、塩基もしくは有機溶媒と予め混合しておいてもよい。また、かかる水を含んだ塩基を用いてもよい。
本反応は、通常芳香族化合物(1)、アミノ化合物(2)、塩基、均一系パラジウム触媒および水をそのままもしくは有機溶媒中で混合、接触させることにより実施される。その混合順序は特に制限されない。
反応温度は、通常0℃〜反応液の還流温度の範囲、好ましくは40℃〜反応液の還流温度の範囲である。
反応終了後、例えば反応液に水および必要に応じて水に不溶の有機溶媒を加え、抽出処理し、得られる有機層を濃縮処理することにより、式(3)
Figure 2005336083
(式中、Ar、R1およびR2は上記と同一の意味を表わす。)
で示される芳香族アミノ化合物(以下、芳香族アミノ化合物(3)と略記する。)を取り出すことができる。また、例えば反応液に、必要に応じて水を加え、冷却処理して、芳香族アミノ化合物(3)の結晶を析出させ、該析出結晶を濾取することにより、取り出すこともできる。取り出した芳香族アミノ化合物(3)は、例えば再結晶等通常の精製手段によりさらに精製してもよい。
かかる芳香族アミノ化合物(3)としては、例えばN−メチルアニリン、N−エチルアニリン、N−n−プロピルアニリン、N−イソプロピルアニリン、N−n−ブチルアニリン、N−イソブチルアニリン、N−sec−ブチルアニリン、N−tert−ブチルアニリン、ジフェニルアミン、N−ベンジルアニリン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、N,N−ジ−n−プロピルアニリン、N,N−ジイソプロピルアニリン、N,N−ジ−n−ブチルアニリン、N,N−ジイソブチルアニリン、N−メチル−N−エチルアニリン、N−エチル−N−イソプロピルアニリン、N−ベンジル−N−メチルアニリン、N−フェニルピロリジン、N−フェニルピペリジン、N−フェニルモルホリン、N−メチル−4−メチルアニリン、N−エチル−4−メチルアニリン、N−n−プロピル−4−メチルアニリン、N−イソプロピル−4−メチルアニリン、N−n−ブチル−4−メチルアニリン、N−イソブチル−4−メチルアニリン、N−sec−ブチル−4−メチルアニリン、N−tert−ブチル−4−メチルアニリン、N−フェニル−4−メチルアニリン、N−フェニル−2,6−ジメチルアニリン、N−ベンジル−4−メトキシアニリン、N−フェニル−3−メトキシアニリン、N−ベンジル−2−メトキシアニリン、2,4−ジメトキシ−1−モルホリノベンゼン、2,5−ジメトキシ−1−モルホリノベンゼン、N−ベンジル−4−フルオロアニリン、N−フェニル−3−ニトロアニリン、N−フェニル−4−ニトロアニリン、4−シアノ−1−モルホリノベンゼン、4−アセチル−1−モルホリノベンゼン、N−ベンジル−2−トリフルオロメチルアニリン、N−フェニル−3−トリフルオロメチルアニリン、4−(フェニルアミノ)安息香酸メチル、3−(フェニルアミノ)ビフェニル、2−(フェニルアミノ)ナフタレン、2−(フェニルアミノ)ピリジン、3−(フェニルアミノ)ピリジン、4−(フェニルアミノ)ピリジン、6−(フェニルアミノ)−2−メチルピリジン、4−(フェニルアミノ)−3,5−ジメチルピラゾール、5−(フェニルアミノ)−1−エチル−2−メチルイミダゾール、5−(フェニルアミノ)インドール、3−(フェニルアミノ)チオフェン、2−(フェニルアミノ)チオフェン、
N−フェニル−4−カルバモイルアニリン、N−フェニル−4−カルバモイル−3−フルオロアニリン、N−フェニル−2−クロロアニリン、N−フェニル−2−クロロ−5−フルオロアニリン、4−カルバモイル−1−[trans−4−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミノ]ベンゼン、4−カルバモイル−3−フルオロ−1−[trans−4−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミノ]ベンゼン、2−クロロ−1−[trans−4−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミノ]ベンゼン、2−クロロ−5−フルオロ−1−[trans−4−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミノ]ベンゼン、1−tert−ブトキシカルボニル−4−(フェニルアミノ)ピペリジン、4−(4−シアノ−3−フルオロフェニル)アミノ−1−tert−ブトキシカルボニルピペリジン、N−ベンジル−4−メチルアニリン、N,N−ジメチル−4−メチルアニリン、N,N−ジエチル−4−メチルアニリン、N,N−ジ−n−プロピル−4−メチルアニリン、N,N−ジイソプロピル−4−メチルアニリン、N,N−ジ−n−ブチル−4−メチルアニリン、N,N−ジイソブチル−4−メチルアニリン、N−メチル−N−エチル−4−メチルアニリン、N−エチル−N−イソプロピル−4−メチルアニリン、N−ベンジル−N−メチル−4−メチルアニリン、N−(4−メチルフェニル)ピロリジン、N−(4−メチルフェニル)ピペリジン、N−(4−メチルフェニル)モルホリン、4−シアノ−3−フルオロ−1−[trans−4−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミノ]ベンゼン、4−シアノ−3−フルオロ−1−[cis−4−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミノ]ベンゼン、4−シアノ−3−フルオロ−N−フェニルアニリン、4−シアノ−3−フルオロ−1−モルノリノベンゼン、フェニルトリルアミン、フェニル(4−ニトロフェニル)アミン、4−シアノ−3−フルオロ−1−[N−(1−フェニルベンジリデン)アミノ]ベンゼン、4−シアノ−3−フルオロ−1−(N−シクロヘキシリデンアミノ)ベンゼン、4−シアノ−3−フルオロ−1−[N−(2,2,4,4−テトラメチル−3−ペンチリデン)アミノ]ベンゼン等が挙げられる。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。なお、特に記載のない限り、塩基は、減圧条件下、150℃で6時間程度乾燥処理したものを用いた。また、分析には、高速液体クロマトグラフィ(HPLC)法を用いた。
実施例1
酢酸パラジウム1.12g、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル4.67g、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼン100g、トルエン1000mL、水9.01g、炭酸セシウム228.1gおよびtrans−4−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミン117.9gを混合し、内温70℃で16時間攪拌、反応させた(16時間後に、HPLCにおいて、4−シアノ−3−フルオロブロモベンゼンのピークが検出されなくなった)。反応液に水を加え、室温まで冷却し、析出した結晶を濾取した。濾取した結晶を、トルエン、水およびアセトニトリルで順に洗浄した後、減圧条件下で乾燥させ、4−シアノ−3−フルオロ−1−[4−trans−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミノ]ベンゼン148gを得た。収率:89%、HPLC面積百分率値:99%以上。
実施例2
酢酸パラジウム224mg、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル934mg、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼン10g、トルエン100mL、水1.14g、炭酸セシウム22.8gおよびtrans−4−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミン11.8gを混合し、内温70℃で9時間攪拌、反応させた(9時間後に、HPLCにおいて、4−シアノ−3−フルオロブロモベンゼンのピークが検出されなくなった)。反応液を濃縮処理し、濃縮残渣にクロロホルム160gおよび水40gを加え、さらに0.5N硫酸水素カリウム水溶液180gを加え、pH6に調整した。クロロホルム80gをさらに加え、分液処理し、有機層と水層を得た。水層をクロロホルム100gで2回抽出処理し、クロロホルム層を先に得た有機層に合一した。合一後の有機層を飽和食塩水60gで洗浄処理した後、減圧条件下で濃縮処理した。濃縮残渣にアセトニトリル50gを加え、内温60℃で1時間保持した後、内温0℃まで冷却した。析出した結晶を濾取し、冷アセトニトリル12gで洗浄処理した後、減圧条件下で乾燥させ、4−シアノ−3−フルオロ−1−[4−trans−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミノ]ベンゼン14.4gを得た。収率:86%、HPLC面積百分率値:99%以上。
比較例1
実施例2において、水1.14gを用いない以外は実施例2と同様に実施し、9時間後の反応液をHPLC分析したところ、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンの残存率は、61%であり、反応が完結していないことが分かった。なお、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンの残存率は、下記式に従い、算出した(なお、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンの修正面積百分率値は、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンの面積百分率値を、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンと4−シアノ−3−フルオロ−1−[4−trans−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミノ]ベンゼンのHPLC感度比をもとに補正したものである。以下の実施例も同様。)。
Figure 2005336083
実施例3
実施例2において、水の使用量を1.14gから0.63gに代えた以外は実施例2と同様に実施したところ、9時間後に、HPLCにおいて、4−シアノ−3−フルオロブロモベンゼンのピークが検出されなくなった。反応液に水を加え、室温まで冷却し、析出した結晶を濾取した。濾取した結晶を、トルエン、水およびアセトニトリルで順に洗浄した後、減圧条件下で乾燥させ、4−シアノ−3−フルオロ−1−[4−trans−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミノ]ベンゼン14.8gを得た。収率:89%、HPLC面積百分率値:99%以上。
実施例4
酢酸パラジウム22mg、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル93mg、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼン1g、トルエン10mL、炭酸セシウム(水0.7重量%含有)2.28gおよびtrans−4−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミン1.18gを混合し、内温100℃で反応させたところ、15時間後に、HPLCにおいて、4−シアノ−3−フルオロブロモベンゼンのピークが検出されなくなった。反応液を濃縮処理し、濃縮残渣にクロロホルム16gおよび水4gを加え、さらに0.5N硫酸水素カリウム水溶液18gを加えて、pH6に調整した。クロロホルム8gを加え、分液処理し、有機層と水層に分離した。水層をクロロホルム10gで2回抽出処理し、得られたクロロホルム層を先に得た有機層と合一した。合一後の有機層を飽和食塩水6gで洗浄処理した後、減圧条件下で濃縮処理した。得られた濃縮残渣にアセトニトリル5gを加え、内温60℃で1時間保持した後、室温まで冷却し、析出した結晶を濾取した。濾取した結晶を冷アセトニトリル1.2gで洗浄した後、減圧条件下で乾燥させ、4−シアノ−3−フルオロ−1−[4−trans−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミノ]ベンゼン1.36gを得た。収率:81%、HPLC面積百分率値:99%以上。
実施例5
酢酸パラジウム11mg、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル47mg、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼン0.5g、トルエン5mL、炭酸セシウム1.14g、水6mgおよびtrans−4−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミン0.59gを混合し、内温100℃で反応させた。14時間後の4−シアノ−3−フルオロブロモベンゼンの残存率(実施例1記載の式に従い算出)は0.3%であり、4−シアノ−3−フルオロ−1−[4−trans−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミノ]ベンゼンのHPLC面積百分率値は93%であった。
比較例2
実施例5において、水6mgを使用しない以外は実施例5と同様に実施したところ、15時間後の4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンの残存率(実施例1記載の式に従い算出)は11%であった。さらに内温100℃で5時間反応を継続したが、残存率には変化がなく、実施例5と比べて反応が遅く、完結していないことが分かった。
実施例6
実施例5において、水の使用量を6mgから0.11gに代えた以外は実施例5と同様に実施したところ、10時間後に、HPLCにおいて、4−シアノ−3−フルオロブロモベンゼンのピークが検出されなくなり、4−シアノ−3−フルオロ−1−[4−trans−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミノ]ベンゼンのHPLC面積百分率値は96%であった。
実施例7
酢酸パラジウム11mg、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル47mg、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼン0.5g、トルエン5mL、炭酸カリウム1.04g、水60mgおよびtrans−4−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミン0.59gを混合し、内温80℃で反応させたところ、7時間後に、HPLCにおいて、4−シアノ−3−フルオロブロモベンゼンのピークが検出されなくなり、4−シアノ−3−フルオロ−1−[4−trans−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミノ]ベンゼンのHPLC面積百分率値は96%であった。
比較例3
実施例7において、水60mgを使用しない以外は実施例7と同様に実施したところ、10時間後の4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンの残存率(実施例1記載の式に従い算出)は16%であり、実施例7と比べて反応が遅いことが分かった。
実施例8
酢酸パラジウム11mg、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル47mg、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼン0.5g、トルエン5mL、リン酸カリウム0.74g、水60mgおよびtrans−4−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミン0.59gを混合し、内温70℃で反応させたところ、20時間後の4−シアノ−3−フルオロブロモベンゼンの残存率(実施例1記載の式に従い算出)は15%であり、4−シアノ−3−フルオロ−1−[4−trans−(N−tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロヘキシルアミノ]ベンゼンのHPLC面積百分率値は96%であった。
実施例9
酢酸パラジウム11mg、4,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)−9,9−ジメチルキサンテン43mg、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼン0.5g、トルエン5mL、炭酸セシウム1.14g、水60mgおよびアニリン0.26gを混合し、内温100℃で反応させたところ、7時間後に、HPLCにおいて、4−シアノ−3−フルオロブロモベンゼンのピークが検出されなくなり、4−シアノ−3−フルオロ−N−フェニルアニリンのHPLC面積百分率値は96%であった。
比較例4
実施例9において、水60mgを使用しない以外は実施例9と同様に実施したところ、7時間後の4−シアノ−3−フルオロブロモベンゼンの残存率(実施例1記載の式に従い算出)は47%であり、実施例9と比べて反応が遅いことが分かった。
実施例10
酢酸パラジウム22mg、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル93mg、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼン1g、トルエン10mL、炭酸セシウム2.28g、水114mgおよびモルホリン480mgを混合し、内温70℃で反応させたところ、8時間後の4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンの残存率(下記式に従い算出)は8%であった。なお、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンの修正面積百分率値は、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンの面積百分率値を、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンと4−シアノ−3−フルオロ−1−モルホリノベンゼンのHPLC感度比をもとに補正したものである。)
Figure 2005336083
反応液にトルエンおよび水を加え、分液処理した。得られた有機層を水洗浄した後、減圧条件下で濃縮処理し、濃縮残渣をシリカゲルカラムにより精製処理(展開液:ヘプタン/酢酸エチル(6/4→5/5))し、4−シアノ−3−フルオロ−1−モルホリノベンゼン877mgを得た。収率:85%。
比較例5
実施例10において、水114mgを使用しない以外は実施例10と同様に実施したところ、8時間後の4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンの残存率(実施例10記載の式に従い算出)は72%であり、実施例10と比べて反応が遅いことが分かった。
実施例11
実施例10において、モルホリン480mgに代えてアニリン515mgを用いた以外は実施例10と同様に実施したところ、4時間後に、HPLCにおいて、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンのピークが検出されなくなり、4−シアノ−3−フルオロ−N−フェニルアニリンのHPLC面積百分率値は96%であった。
比較例6
実施例11において、水114mgを使用しない以外は実施例11と同様に実施したところ、8時間後における4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンの残存率(下記式に従い算出)は53%であり、実施例11と比べて反応が遅いことがわかった。なお、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンの修正面積百分率値は、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンの面積百分率値を、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンと4−シアノ−3−フルオロ−N−フェニルアニリンのHPLC感度比をもとに補正したものである。
Figure 2005336083
実施例12
酢酸パラジウム11mg、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル47mg、4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼン0.5g、トルエン5mL、炭酸セシウム1.14g、水450mgおよびアニリン256mgを混合し、内温100℃で反応させたところ、8時間後に、HPLCにおいて、4−シアノ−3−フルオロブロモベンゼンのピークが検出されなくなり、4−シアノ−3−フルオロ−N−フェニルアニリンのHPLC面積百分率は96%であった。
実施例13
実施例12において、水の使用量を450mgから2.25gに代えた以外は実施例12と同様に実施したところ、9.5時間後の4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンの残存率(比較例6記載の式に従い算出)は14%であり、4−シアノ−3−フルオロ−N−フェニルアニリンのHPLC面積百分率値(ただし、原料を除く。)は95%であった。
比較例7
実施例12において、水450mgを使用しない以外は実施例12と同様に実施したところ、10時間後の4−シアノ−3−フルオロ−1−ブロモベンゼンの残存率(比較例6記載の式に従い算出)は27%であり、実施例12および実施例13と比べて反応が遅いことが分かった。
実施例14
酢酸パラジウム22mg、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル93mg、ブロモベンゼン785mg、トルエン10mL、炭酸セシウム2.28g、水114mgおよびアニリン515mgを混合し、内温70℃で4時間、さらに内温90℃で4時間反応させたところ、ブロモベンゼンの残存率(下記式に従い算出)は10%であった。
Figure 2005336083
反応液にトルエンおよび水を加え、分液処理した。得られた有機層を水洗浄した後、減圧条件下で濃縮処理し、濃縮残渣をシリカゲルカラムにより精製処理(展開液:ヘプタン/酢酸エチル(8/2))し、ジフェニルアミン699mgを得た。収率:79%。
比較例8
実施例14において、水114mgを使用しない以外は実施例14と同様に実施したところ、ブロモベンゼンの残存率(実施例14に記載の式に従い算出)は55%であり、実施例14と比べて反応が遅いことが分かった。
実施例15
実施例14において、ブロモベンゼン785mgに代えて4−ブロモトルエン855mgを用いた以外は実施例14と同様に実施したところ、4−ブロモトルエンの残存率(下記式に従い算出)は61%であった。
Figure 2005336083
比較例9
実施例15において、水114mgを使用しない以外は実施例15と同様に実施したところ、4−ブロモトルエンの残存率(実施例15に記載の式に従い算出)は70%であり、実施例15と比べて反応が遅いことが分かった。
実施例16
実施例14において、ブロモベンゼン785mgに代えて4−クロロニトロベンゼン788mgを用い、内温70℃で6時間反応させた以外は実施例14と同様に実施したところ、6時間後の4−クロロニトロベンゼンの残存率(下記式に従い算出)は8%であり、フェニル(4−ニトロフェニル)アミンのHPLC面積百分率値(ただし、原料および溶媒を除く。)は73%であった。
Figure 2005336083
比較例10
実施例16において、水114mgを使用しない以外は実施例16と同様に実施したところ、4−クロロニトロベンゼンの残存率(実施例16に記載の式に従い算出)は50%であり、実施例16と比べて反応が遅いことが分かった。

Claims (7)

  1. 有機溶媒に可溶な二座配位子とパラジウム化合物とからなる均一系パラジウム触媒および塩基の存在下に、式(1)
    Figure 2005336083
    (式中、Arは置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいヘテロアリール基を表わし、Xは脱離基を表わす。)
    で示される芳香族化合物と式(2)
    Figure 2005336083
    (式中、R1は置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいアリール基を表わし、R2は水素原子、置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいアリール基を表わす。また、R1とR2が結合してその結合窒素原子を含む環を形成してもよい。また、R1とR2が一緒になって、下記式
    Figure 2005336083
    で示される基を表わしてもよい。ここで、R3およびR4はそれぞれ同一または相異なって、置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいアリール基を表わす。)
    で示されるアミノ化合物を反応させることを特徴とする式(3)
    Figure 2005336083
    (式中、Ar、R1およびR2は上記と同一の意味を表わす。)
    で示される芳香族アミノ化合物の製造方法であって、塩基として、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の炭酸塩、リン酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、炭酸水素塩、リン酸一水素塩もしくはフッ化物塩を用い、水の共存下に反応を実施することを特徴とする芳香族アミノ化合物の製造方法。
  2. 水の使用量が、塩基に対して、0.005〜2重量倍である請求項1に記載の芳香族アミノ化合物の製造方法。
  3. 水の使用量が、塩基に対して、0.01〜0.5重量倍である請求項1に記載の芳香族アミノ化合物の製造方法。
  4. 有機溶媒に可溶な二座配位子が、リン原子を有する有機溶媒に可溶な二座配位子である請求項1に記載の芳香族アミノ化合物の製造方法。
  5. リン原子を有する有機溶媒に可溶な二座配位子が、有機溶媒に可溶な二座ホスフィン配位子である請求項4に記載の芳香族アミノ化合物の製造方法。
  6. 二座ホスフィン配位子が、2,2’−ビナフチル骨格もしくはジフェニルエーテル骨格を有する二座ホスフィン配位子である請求項5に記載の芳香族アミノ化合物の製造方法。
  7. 塩基として、アルカリ金属炭酸塩またはアルカリ金属リン酸塩を用いる請求項1に記載の芳香族アミノ化合物の製造方法。
JP2004155794A 2004-05-26 2004-05-26 芳香族アミノ化合物の製造方法 Abandoned JP2005336083A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004155794A JP2005336083A (ja) 2004-05-26 2004-05-26 芳香族アミノ化合物の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004155794A JP2005336083A (ja) 2004-05-26 2004-05-26 芳香族アミノ化合物の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005336083A true JP2005336083A (ja) 2005-12-08

Family

ID=35490043

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004155794A Abandoned JP2005336083A (ja) 2004-05-26 2004-05-26 芳香族アミノ化合物の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005336083A (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006335712A (ja) * 2005-06-03 2006-12-14 Nagoya Industrial Science Research Inst トリアリールアミンの製造方法
US7405227B2 (en) 2005-07-18 2008-07-29 Bipar Sciences, Inc. Treatment of cancer
US7732491B2 (en) 2007-11-12 2010-06-08 Bipar Sciences, Inc. Treatment of breast cancer with a PARP inhibitor alone or in combination with anti-tumor agents
JP2010189320A (ja) * 2009-02-18 2010-09-02 Chiba Univ 光学活性なアミノオキシ化合物の製造方法
US7994222B2 (en) 2006-09-05 2011-08-09 Bipar Sciences, Inc. Monitoring of the inhibition of fatty acid synthesis by iodo-nitrobenzamide compounds
US8084611B2 (en) 2006-03-30 2011-12-27 Mitsubishi Tanabe Pharma Corporation Process for preparing tetrahydroquinoline derivatives
US8143447B2 (en) 2006-09-05 2012-03-27 Bipar Sciences, Inc. Treatment of cancer
JP2015534969A (ja) * 2012-10-18 2015-12-07 バイエル ファーマ アクチエンゲゼルシャフト スルホン基を含んでいるn−(ピリジン−2−イル)ピリミジン−4−アミン誘導体
WO2020027258A1 (ja) * 2018-08-03 2020-02-06 日産化学株式会社 フッ化芳香族第二級アミン化合物の製造方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006335712A (ja) * 2005-06-03 2006-12-14 Nagoya Industrial Science Research Inst トリアリールアミンの製造方法
US7405227B2 (en) 2005-07-18 2008-07-29 Bipar Sciences, Inc. Treatment of cancer
US8377985B2 (en) 2005-07-18 2013-02-19 Bipar Sciences, Inc. Treatment of cancer
US8084611B2 (en) 2006-03-30 2011-12-27 Mitsubishi Tanabe Pharma Corporation Process for preparing tetrahydroquinoline derivatives
US7994222B2 (en) 2006-09-05 2011-08-09 Bipar Sciences, Inc. Monitoring of the inhibition of fatty acid synthesis by iodo-nitrobenzamide compounds
US8143447B2 (en) 2006-09-05 2012-03-27 Bipar Sciences, Inc. Treatment of cancer
US7732491B2 (en) 2007-11-12 2010-06-08 Bipar Sciences, Inc. Treatment of breast cancer with a PARP inhibitor alone or in combination with anti-tumor agents
JP2010189320A (ja) * 2009-02-18 2010-09-02 Chiba Univ 光学活性なアミノオキシ化合物の製造方法
JP2015534969A (ja) * 2012-10-18 2015-12-07 バイエル ファーマ アクチエンゲゼルシャフト スルホン基を含んでいるn−(ピリジン−2−イル)ピリミジン−4−アミン誘導体
WO2020027258A1 (ja) * 2018-08-03 2020-02-06 日産化学株式会社 フッ化芳香族第二級アミン化合物の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Zhang et al. Highly efficient and practical phosphoramidite–copper catalysts for amination of aryl iodides and heteroaryl bromides with alkylamines and N (H)-heterocycles
Ehrentraut et al. A new improved catalyst for the palladium-catalyzed amination of aryl chlorides
Zhao et al. Selective synthesis of functionalized pyrroles from 3-aza-1, 5-enynes
Sergeev et al. Variation of xanthene-based bidentate ligands in the palladium-catalyzed arylation of ureas
JP2005336083A (ja) 芳香族アミノ化合物の製造方法
Hollmann et al. A novel salt-free ruthenium-catalyzed alkylation of aryl amines
Battula et al. A mild and efficient copper-catalyzed N-arylation of unprotected sulfonimidamides using boronic acids
Cho et al. Synthesis and palladium-catalyzed coupling reactions of enantiopure p-bromophenyl methyl sulfoximine
Valente et al. High yielding alkylations of unactivated sp 3 and sp 2 centres with alkyl-9-BBN reagents using an NHC-based catalyst: Pd-PEPPSI-IPr
US5977361A (en) Transition metal-catalyzed process for preparing N-aryl compounds
Zhu et al. Copper-catalyzed cross-coupling of arenediazonium tetrafluoroborates with polyfluoroarenes
Xia et al. Nickel-catalyzed cyanation of unactivated alkyl sulfonates with Zn (CN) 2
Zhang et al. Copper (I) carboxylate catalyzed C–N coupling of 2-amino pyrimidines with aryl halides to selectively generate secondary and tertiary amines
Sera et al. Development of Large-Scale Synthesis using a Palladium-Catalyzed Cross-Coupling Reaction for an Isoquinolone Derivative as a Potent DPP-4 Inhibitor
Lange et al. A novel atom-efficient, one-pot synthesis of sulfonylguanidines and sulfamoylguanidines
Lu et al. Palladium-catalyzed allylation of aminophenol with alkynes to construct C–N bonds
BRPI0616596A2 (pt) processo para a preparação de anilinas
Liu et al. Efficient synthesis of substituted biaryl anilines and biaryl phenols via a Suzuki cross-coupling reaction
JP2005336084A (ja) 芳香族アミン化合物の製造方法
US7102046B2 (en) Process for the arylation of olefins
JP5471005B2 (ja) 芳香族アミン化合物の製造方法
Sakata et al. Synthesis of Azidoanilines by the Buchwald–Hartwig Amination
Shumaila et al. Diastereoselective synthesis of tetrasubstituted-octahydro-3, 6-diazacarbazoles and tetrasubstituted-3, 6-diazacarbazoles via double Pictet–Spengler reaction
CN109956893B (zh) 一种多取代3-氨基吡咯化合物的制备方法
US8742127B2 (en) Production method of 6-halogeno-3-arylpyridine derivative

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20051026

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20060421

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060721

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070509

A762 Written abandonment of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762

Effective date: 20100210