JP2005331819A - Viewing field control sheet and its manufacturing method - Google Patents

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Kazuo Taima
一夫 泰磨
Taro Yoshida
太郎 吉田
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Fujimori Kogyo Co Ltd
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Fujimori Kogyo Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a viewing field controlling sheet, having an improved view field control function, in which the wall faces of light-shielding walls are prevented from sagging and the light-shielding walls can be arranged finely arranged with narrow gaps, and to provide a method for manufacturing the sheet. <P>SOLUTION: The view field controlling sheet 1 comprises a visible light transmitting substrate 2 and light-shielding walls 20 arranged in rows on the substrate. The light-shielding walls 20 comprise a light-shielding pattern 10 laid on the substrate 2 and a solidified product 5 of a photosensitive resin composition formed by using above pattern as a mask. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ＣＲＴ、ＬＣＤ、ＥＬＤ、ＰＤＰ、電子ペーパー等の表示素子の表示面に貼付されて、視野を制限したり、外光を遮断する等の用途あるいはそれらの表示素子や背面透過型スクリーン等のコントラスト向上のために用いられる視野制御シート及びその製造方法に関する。   The present invention is applied to a display surface of a display element such as a CRT, LCD, ELD, PDP, or electronic paper to limit the field of view or block outside light, or the display element or rear transmission type screen. The present invention relates to a visual field control sheet used for improving contrast and the like, and a method for manufacturing the same.

従来、この種の視野制御シートに関しては、特許文献１に開示のものがある。この先行発明のライトコントロールフィルムは、ガラス、透明プラスチックフィルム、又はシートからなる透明支持体上に、ハロゲン化銀乳剤を塗布して、銀塩感光層を形成する。
次いで、この銀塩感光層にマスクを介して露光するか、或いはレーザーにより露光描画して潜像パターンを形成し、次いで現像、定着して透明基板上に金属塩からなるパターンを形成し、このパターンの平面形状を格子状とすることで、視野制御機能を持たすようにしたものである。 Conventionally, this type of visual field control sheet is disclosed in Patent Document 1. In the light control film of the prior invention, a silver halide emulsion is coated on a transparent support made of glass, a transparent plastic film or a sheet to form a silver salt photosensitive layer.
Next, the silver salt photosensitive layer is exposed through a mask or exposed and drawn by a laser to form a latent image pattern, and then developed and fixed to form a pattern made of a metal salt on a transparent substrate. By making the planar shape of the pattern a lattice shape, a visual field control function is provided.

また、特許文献２に開示された外光反射防止遮光スクリーンは、透明板上に感光性樹脂組成物層を形成し、この上に露光マスクを置き、露光マスク側から紫外線を照射し、次いで、現像を行って非露光部分の感光性樹脂組成物を除去して、透明板上に縞又は格子模様状の突起を形成したものである。
特開平１１−７２６０３号公報 特公平２−１９４４９号公報 In addition, the external light anti-reflection light shielding screen disclosed in Patent Document 2 forms a photosensitive resin composition layer on a transparent plate, puts an exposure mask thereon, irradiates ultraviolet rays from the exposure mask side, Development is performed to remove the photosensitive resin composition in the non-exposed portion, and stripes or lattice pattern-like protrusions are formed on the transparent plate.
Japanese Patent Laid-Open No. 11-72603 Japanese Patent Publication No. 2-19449

しかしながら、特許文献１に係るライトコントロールフィルムでは、視野制御機能を担う金属銀パターンが銀塩感光層の露光、現像によってなされるため、この厚さ、すなわち、パターンの高さが数十μｍにとどまることから、視野制御機能が不充分である欠点がある。   However, in the light control film according to Patent Document 1, since the metallic silver pattern responsible for the visual field control function is formed by exposure and development of the silver salt photosensitive layer, the thickness, that is, the height of the pattern is only tens of μm. For this reason, there is a drawback that the visual field control function is insufficient.

また、特許文献２に係る外光反射防止遮光スクリーンでは、露光マスク側から紫外線を照射する方法を採用しており、マスクと感光性樹脂組成物との間にマスク保護用の中間層を設ける必要があるため、露光時にマスクと感光性樹脂組成物との間を完全に密着できず、紫外線の回折現象により、感光性樹脂組成物層の壁面がシャープにならず、だれることと、露光後、このマスクを除去する手間がかかるという欠点がある。   In addition, the external light antireflection light shielding screen according to Patent Document 2 employs a method of irradiating ultraviolet rays from the exposure mask side, and it is necessary to provide an intermediate layer for mask protection between the mask and the photosensitive resin composition. Therefore, the mask and the photosensitive resin composition cannot be completely adhered at the time of exposure, and the wall surface of the photosensitive resin composition layer does not become sharp due to the diffraction phenomenon of ultraviolet rays, and after exposure, There is a drawback that it takes time and effort to remove the mask.

本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、遮光壁の壁面のだれが少なく、遮光壁を狭い間隔で微細に配列することができ、視野制御機能が向上した視野制御シート及びその製造方法を提供することを目的とする。   In view of the above-mentioned problems of the prior art, the present invention provides a visual field control sheet and a manufacturing method thereof, in which the light shielding wall is less bent, the light shielding walls can be finely arranged at narrow intervals, and the visual field control function is improved. The purpose is to provide.

かかる課題を解決するため、
請求項１にかかる発明は、可視光透過性基材上に、遮光壁を列状に設けたシートであって、この遮光壁が前記基材上に設けられた遮光パターンと、これをマスクとして形成された感光性樹脂組成物からなる固化物とから構成されていることを特徴とする視野制御シートである。 To solve this problem,
The invention according to claim 1 is a sheet in which light shielding walls are provided in a row on a visible light transmissive substrate, the light shielding pattern in which the light shielding walls are provided on the substrate, and the mask as a mask. A visual field control sheet comprising a solidified product made of a formed photosensitive resin composition.

請求項２にかかる発明は、前記遮光パターンが、銀錯塩拡散転写現像法により物理現像された金属銀と、この金属銀を触媒核として、金属をめっきしためっき金属層とからなるものであることを特徴とする請求項１に記載の視野制御シートである。   According to a second aspect of the present invention, the light-shielding pattern is composed of metallic silver physically developed by a silver complex diffusion transfer development method and a plated metal layer plated with metal using the metallic silver as a catalyst nucleus. The field-of-view control sheet according to claim 1.

請求項３にかかる発明は、前記感光性樹脂組成物が、紫外線感光性であることを特徴とする請求項１又は２に記載の視野制御シートである。   The invention according to claim 3 is the visual field control sheet according to claim 1 or 2, wherein the photosensitive resin composition is ultraviolet-sensitive.

請求項４にかかる発明は、前記感光性樹脂組成物からなる固化物が、可視光を吸収することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の視野制御シートである。   The invention according to claim 4 is the visual field control sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the solidified product made of the photosensitive resin composition absorbs visible light.

請求項５にかかる発明は、前記感光性樹脂組成物からなる固化物が、可視光を散乱することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の視野制御シーである。   The invention according to claim 5 is the visual field control sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the solidified product made of the photosensitive resin composition scatters visible light.

請求項６にかかる発明は、微粒子を０．５〜３０質量％含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の視野制御シートである。   The invention according to claim 6 is the visual field control sheet according to any one of claims 1 to 5, wherein the fine particle is contained in an amount of 0.5 to 30% by mass.

請求項７にかかる発明は、前記遮光壁の幅が３〜３００μｍ、高さが１０〜３００μｍであって、幅／高さの比が１／３〜３であり、かつ前記遮光壁の間隔が５〜５００μｍであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の視野制御シートである。   According to a seventh aspect of the present invention, the light shielding wall has a width of 3 to 300 μm, a height of 10 to 300 μm, a width / height ratio of 1 to 3 and a distance between the light shielding walls. It is 5-500 micrometers, It is a visual field control sheet as described in any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned.

請求項８にかかる発明は、垂直入射光の全光線透過率が４０％以上であって、３０度斜め入射光の光線透過率が２０％以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の視野制御シートである。   The invention according to claim 8 is characterized in that the total light transmittance of vertically incident light is 40% or more and the light transmittance of 30 ° obliquely incident light is 20% or less. It is a visual field control sheet | seat as described in any one.

請求項９にかかる発明は、可視光透過性基材上に、遮光パターンを形成した後、前記基材及び前記遮光パターン上に、感光性樹脂組成物を被覆し、次いで前記基材側より、前記遮光パターンを介して前記感光性樹脂組成物を露光した後、露光された前記感光性樹脂組成物を除去することを特徴とする視野制御シートの製造方法である。   In the invention according to claim 9, after forming a light-shielding pattern on the visible light transmissive substrate, the substrate and the light-shielding pattern are coated with a photosensitive resin composition, and then from the substrate side, After exposing the said photosensitive resin composition through the said light-shielding pattern, it is the manufacturing method of the visual field control sheet | seat characterized by removing the exposed said photosensitive resin composition.

請求項１０にかかる発明は、可視光透過性基材上に予め設けられた物理現像核層に、未露光のハロゲン化銀を物理現像処理により供給し、前記物理現像核層上に任意の細線パターンで金属銀を析出させた後、前記物理現像された金属銀を触媒核として金属をめっきし、前記金属銀上にめっき金属層を形成して、遮光パターンを形成することを特徴とする視野制御シートの製造方法である。   According to a tenth aspect of the present invention, unexposed silver halide is supplied by physical development processing to a physical development nucleus layer provided in advance on a visible light transmissive substrate, and an arbitrary fine line is formed on the physical development nucleus layer. Field of view characterized in that after depositing metallic silver in a pattern, metal is plated using said physically developed metallic silver as a catalyst nucleus, and a plated metal layer is formed on said metallic silver to form a light shielding pattern It is a manufacturing method of a control sheet.

請求項１１にかかる発明は、前記基材上に、物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層をこの順序で有する感光材料を露光し、物理現像処理により前記物理現像核層上に任意の細線パターンで金属銀を析出させ、次いで前記物理現像核層上に設けられた層を除去した後、前記物理現像された金属銀を触媒核として金属をめっきし、前記金属銀上にめっき金属層を形成して前記遮光パターンを形成することを特徴とする請求項９又は１０に記載の視野制御シートの製造方法である。   According to an eleventh aspect of the present invention, a photosensitive material having a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer in this order is exposed on the substrate, and an arbitrary fine line pattern is formed on the physical development nucleus layer by physical development processing. After depositing metallic silver, and then removing the layer provided on the physical development nucleus layer, plating the metal using the physically developed metallic silver as a catalyst nucleus to form a plated metal layer on the metallic silver The method of manufacturing a visual field control sheet according to claim 9 or 10, wherein the light shielding pattern is formed.

本発明の視野制御シート及びその製造方法によれば、遮光壁の壁面のだれが少なく、遮光壁を狭い間隔で微細に配列し、かつ視野制御機能の向上した視野制御シートを得ることができる。   According to the visual field control sheet and the method for manufacturing the same of the present invention, it is possible to obtain a visual field control sheet in which the wall of the light shielding wall is small, the light shielding walls are finely arranged at narrow intervals, and the visual field control function is improved.

［第１の実施形態］
図１は、第１の実施形態に係る視野制御シート１の断面図である。本発明の視野制御シート１は、基材２と、この基材２上に列状に設けた遮光壁２０から構成されている。 [First Embodiment]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a visual field control sheet 1 according to the first embodiment. The visual field control sheet 1 of the present invention includes a base material 2 and light shielding walls 20 provided in a row on the base material 2.

この基材２は、光透過性材料からなり、可視領域で透明であり、またフレキシブル性を有するものが好ましい。このような材料として、好ましくはプラスチック樹脂フィルムが挙げられる。例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、マレイミド樹脂、エポキシ樹脂等からなる厚さが１０〜２００μｍの単層又は複合フィルムが挙げられる。
また、厚さ０．１〜１０ｍｍのソーダガラス、耐熱ガラス、石英ガラス等のガラス板を用いてもよい。 The substrate 2 is preferably made of a light-transmitting material, transparent in the visible region, and having flexibility. Such a material is preferably a plastic resin film. For example, polyester resin such as polyethylene terephthalate, diacetate resin, triacetate resin, acrylic resin, polycarbonate resin, polyarylate resin, polyvinyl chloride, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyimide resin, polyamide resin, polyolefin resin, cyclic polyolefin resin , A single layer or a composite film having a thickness of 10 to 200 μm made of maleimide resin, epoxy resin or the like.
Moreover, you may use glass plates, such as 0.1-10 mm thick soda glass, heat-resistant glass, and quartz glass.

この基材２上には、多数の遮光壁２０が、列状に立設されている。この遮光壁２０は、幅が３〜３００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍ、高さが１０〜３００μｍ、好ましくは２０〜３００μｍであって、幅／高さの比が１／３〜３、好ましくは１〜３のものである。またこの遮光壁２０の間隔は５〜５００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍである。
遮光壁２０の幅を３〜３００μｍ、高さを１０〜３００μｍ、幅／高さの比を１／３〜３、遮光壁２０の間隔を５〜５００μｍとして基材上に立設することにより、光の入射角度や出射角度を制御できるため、視野を制限したり、外光を遮断する機能を持たせることができる。
この遮光壁２０は、遮光パターン１０と、感光性樹脂組成物からなる固化物５とから構成されている。 On the base material 2, a large number of light shielding walls 20 are erected in a row. The light shielding wall 20 has a width of 3 to 300 μm, preferably 10 to 100 μm, a height of 10 to 300 μm, preferably 20 to 300 μm, and a width / height ratio of 1 to 3 to 3, preferably 1. ~ 3. The interval between the light shielding walls 20 is 5 to 500 μm, preferably 10 to 100 μm.
By standing on the substrate with the width of the light shielding wall 20 being 3 to 300 μm, the height being 10 to 300 μm, the ratio of width / height being 1 to 3 and the interval between the light shielding walls 20 being 5 to 500 μm, Since the incident angle and the outgoing angle of light can be controlled, it is possible to provide a function of limiting the field of view and blocking outside light.
The light shielding wall 20 includes a light shielding pattern 10 and a solidified product 5 made of a photosensitive resin composition.

この遮光パターン１０は、感光性樹脂組成物からなる固化物５を設ける際にフォトマスクとしての役割を果たすため、不透明、あるいは半透明な材料からなるものである。この遮光パターン１０は、例えば、エッチング法、スクリーン印刷、インクジェット法、銀錯塩拡散転写現像法（ＤＴＲ現像法）等の現像法により形成することができる。また、必要に応じて、無電解めっき法、電解めっき法を併用することもできる。
そのなかでも、銀、銅、ニッケル、鉄、アルミニウム等の金属やこれら１種以上の合金からなる遮光パターン１０が、パターン形成の容易な点から好ましく、銀錯塩拡散転写現像法（ＤＴＲ現像法）により物理現像された金属銀３と、この金属銀３を触媒核としてその上に銅、ニッケル、銀、鉄等の１種以上の金属をめっきしためっき金属層４とからなるのが、より好ましい。 The light-shielding pattern 10 is made of an opaque or translucent material in order to serve as a photomask when the solidified product 5 made of the photosensitive resin composition is provided. This light-shielding pattern 10 can be formed by developing methods, such as an etching method, screen printing, an inkjet method, a silver complex diffusion transfer developing method (DTR developing method), for example. Moreover, an electroless plating method and an electroplating method can also be used together as needed.
Of these, the light-shielding pattern 10 made of a metal such as silver, copper, nickel, iron, and aluminum, or an alloy of one or more of these is preferable from the viewpoint of easy pattern formation. Silver complex diffusion transfer development (DTR development) It is more preferable that the metal silver 3 physically developed by the above-described method and the plated metal layer 4 on which one or more metals such as copper, nickel, silver, and iron are plated on the metal silver 3 as a catalyst nucleus. .

この遮光パターン１０の幅と間隔は上述した遮光壁２０と等しい。そして、この遮光パターン１０を形成する金属銀３の高さは５ｎｍ〜１μｍ、好ましくは１０ｎｍ〜０．５μｍであって、めっき金属層４の高さは０．３〜５μｍ、好ましくは０．５〜２μｍである。   The light shielding pattern 10 has the same width and interval as the light shielding wall 20 described above. And the height of the metallic silver 3 which forms this light-shielding pattern 10 is 5 nm-1 micrometer, Preferably it is 10 nm-0.5 micrometer, Comprising: The height of the plating metal layer 4 is 0.3-5 micrometers, Preferably it is 0.5. ~ 2 μm.

この遮光パターン１０上には、遮光パターン１０と同じ幅で、感光性樹脂組成物からなる固化物５が設けられている。この感光性樹脂組成物には、感光性を有するいかなる樹脂も用いられる。そのなかでも、紫外線感光性であることが好ましい。
感光性を有する樹脂としては、例えば、紫外線露光部分が化学的に分解すること等により、アルカリ水溶液等の現像液への溶解性が向上するようなポジ型感光性樹脂が挙げられる。 On this light shielding pattern 10, a solidified product 5 made of a photosensitive resin composition having the same width as that of the light shielding pattern 10 is provided. Any photosensitive resin is used for the photosensitive resin composition. Among these, it is preferable that it is ultraviolet-sensitive.
Examples of the resin having photosensitivity include a positive photosensitive resin whose solubility in a developing solution such as an alkaline aqueous solution is improved by chemically decomposing an ultraviolet-exposed portion.

このようなポジ型感光性樹脂としては、例えばナフトキノンジアジド、ベンゾキノンジアジド等のキノンジアジド類やジアゾ化合物、ｏ−ニトロベンジルエステル、オニウム塩、オニウム塩とポリフタルアルデヒド、コリン酸ｔ−ブチルの混合物のような光分解剤（溶解抑制剤）と、ＯＨ基を持ちアルカリに可溶なハイドロキノン、フロログルシン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン等のモノマーやフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂等のノボラック樹脂、スチレンとマレイン酸、マレイミドの共重合物フェノールとメタクリル酸、スチレン、アクリロニトリルの共重合物等のポリマー混合物や縮合物、あるいはポリメチルメタクリレート、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸ヘキサフルオロブチル、ポリメタクリル酸ジメチルテトラフルオロプロピル、メタクリル酸メチル−アクリロニトリル共重合体、ポリメチルイソプロペニルケトン、ポリ−α−シアノアクリレート等が挙げられる。   Examples of such positive photosensitive resins include quinonediazides such as naphthoquinonediazide and benzoquinonediazide, diazo compounds, o-nitrobenzyl esters, onium salts, onium salts and polyphthalaldehyde, and a mixture of t-butyl cholate. Monomers such as hydroquinone, phloroglucin, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, phenol novolac resin, cresol novolac resin and other styrene, styrene And maleic acid, maleimide copolymer phenolic and methacrylic acid, styrene, acrylonitrile copolymer mixture and condensate, or polymethyl methacrylate, polymethyl methacrylate, polyhexafluorobutyl methacrylate, Li methacrylate dimethyl tetrafluoropropyl, methyl methacrylate - acrylonitrile copolymer, polymethyl isopropenyl ketone, polymethyl -α- cyano acrylate.

この感光性樹脂組成物からなる固化物５は、パターン形成された感光性樹脂組成物を乾燥等により固化し、形成されたものであればよく、透明あるいは不透明に限定されない。
感光性樹脂組成物からなる固化物５が透明である場合でも、入射光の屈折、散乱等により、遮光パターン１０との組合せで視野制御が可能となる。視野制御機能向上のためには、感光性樹脂組成物からなる固化物５は、可視光を吸収するもの、あるいは可視光を散乱するものであることが好ましい。 The solidified product 5 made of the photosensitive resin composition may be formed by solidifying the patterned photosensitive resin composition by drying or the like, and is not limited to transparent or opaque.
Even when the solidified product 5 made of the photosensitive resin composition is transparent, the field of view can be controlled in combination with the light shielding pattern 10 due to refraction, scattering, and the like of incident light. In order to improve the visual field control function, the solidified product 5 made of the photosensitive resin composition is preferably one that absorbs visible light or scatters visible light.

また、感光性樹脂組成物が、微粒子を０．５〜３０質量％含有することが好ましい。このような微粒子としては、平均粒径１０ｎｍ〜１５μｍ、好ましくは５０ｎｍ〜１０μｍの透明又は不透明の微粒子を好適に用いることができる。
透明微粒子としては、ガラスビーズ、透明樹脂微粒子が挙げられ、不透明な微粒子としては、溶性アゾ顔料、不溶性アゾ顔料、金属錯塩アゾ顔料、フタロシアニン顔料、縮合多環顔料等の有機顔料、カーボンブラック、グラファイトや、ヘマタイト、マグネタイト等の酸化鉄や、クロム、鉛、カドミウム、銅クロム黒等の金属複合系等の無機顔料や、アクリル樹脂等の有機材料よりなる着色微粒子が挙げられる。そのなかでも遮光性が高い、耐候性がよい等の点から無機顔料が好ましい。 Moreover, it is preferable that the photosensitive resin composition contains 0.5 to 30% by mass of fine particles. As such fine particles, transparent or opaque fine particles having an average particle diameter of 10 nm to 15 μm, preferably 50 nm to 10 μm can be suitably used.
Examples of transparent fine particles include glass beads and transparent resin fine particles, and opaque fine particles include soluble azo pigments, insoluble azo pigments, metal complex salt azo pigments, phthalocyanine pigments, condensed polycyclic pigments and other organic pigments, carbon black, graphite And iron oxides such as hematite and magnetite, inorganic pigments such as metal composites such as chromium, lead, cadmium and copper chromium black, and colored fine particles made of organic materials such as acrylic resins. Of these, inorganic pigments are preferred from the viewpoints of high light shielding properties and good weather resistance.

本発明では、複数の色の着色微粒子を混合して、使用することもできる。
さらに本発明では、微粒子の感光性樹脂組成物中の分散性を向上したり、遮光性を高める目的で、表面に高分子化合物がグラフトされている微粒子、あるいは樹脂により被覆された微粒子を用いることもできる。グラフトする高分子化合物、被覆樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。樹脂全体に対する微粒子の含有量は、好ましくは０．５〜３０質量％、最も好ましくは３〜２０質量％である。 In the present invention, colored fine particles of a plurality of colors can be mixed and used.
Furthermore, in the present invention, for the purpose of improving the dispersibility of the fine particles in the photosensitive resin composition or improving the light shielding property, fine particles having a polymer compound grafted on the surface or fine particles coated with a resin are used. You can also. Examples of the polymer compound and the coating resin to be grafted include an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, and a urethane resin. The content of fine particles with respect to the entire resin is preferably 0.5 to 30% by mass, and most preferably 3 to 20% by mass.

この感光性樹脂組成物にはイソシアネート系化合物、メラミン系化合物、酸無水物系化合物、アミン系化合物等の架橋剤を添加することができ、露光部の感光性樹脂組成物を除去した後、遮光パターン上に形成された感光性樹脂組成物の固化物は、熱処理や電子線照射等により硬化させてもよい。   A crosslinking agent such as an isocyanate compound, a melamine compound, an acid anhydride compound, and an amine compound can be added to the photosensitive resin composition, and after removing the photosensitive resin composition in the exposed area, the light shielding is performed. The solidified product of the photosensitive resin composition formed on the pattern may be cured by heat treatment or electron beam irradiation.

また、感光性樹脂組成物からなる固化物５は、遮光パターン１０上に形成した感光性樹脂組成物を染色し形成したものであってもよい。感光性樹脂組成物を染色する染料としては、例えば、カチオン染料、分散染料、酸性染料、反応性染料等を用いることができる。染色は、表面が染色されるのみでもよい。   Further, the solidified product 5 made of the photosensitive resin composition may be formed by dyeing the photosensitive resin composition formed on the light shielding pattern 10. As a dye for dyeing the photosensitive resin composition, for example, a cationic dye, a disperse dye, an acid dye, a reactive dye, or the like can be used. The dyeing may only be that the surface is dyed.

本発明では、感光性樹脂組成物からなる固化物５を遮光パターン１０上に形成することにより、シートを透過する可視光の入射角度範囲を制限することにより、視野を制御することが可能となる。   In the present invention, the visual field can be controlled by forming the solidified product 5 made of the photosensitive resin composition on the light-shielding pattern 10 and limiting the incident angle range of the visible light transmitted through the sheet. .

本実施形態では、この遮光壁２０及び遮光壁２０の形成されていない基材２の上に帯電防止処理層６と防汚処理層７とが設けられている。この帯電防止処理層６は、厚さ５０ｎｍ〜５μｍのアクリル系樹脂等からなる層である。帯電防止処理層６を設けることにより、表面の抵抗値を１０１１Ω／□以下とし、帯電による汚れの付着を防止することができる。 In this embodiment, the antistatic treatment layer 6 and the antifouling treatment layer 7 are provided on the light shielding wall 20 and the substrate 2 on which the light shielding wall 20 is not formed. The antistatic treatment layer 6 is a layer made of an acrylic resin having a thickness of 50 nm to 5 μm. By providing the antistatic treatment layer 6, the surface resistance value can be 10 11 Ω / □ or less, and contamination due to charging can be prevented.

また、防汚処理層７は、厚さ５０ｎｍ〜３μｍのフッ素樹脂、シリコン変性樹脂、アルキルカルバメート系樹脂等からなる層である。防汚処理層７を設けることにより、指紋やほこり等による汚染を防止することができる。   Further, the antifouling treatment layer 7 is a layer made of a fluororesin having a thickness of 50 nm to 3 μm, a silicon-modified resin, an alkyl carbamate resin, or the like. By providing the antifouling treatment layer 7, contamination due to fingerprints or dust can be prevented.

これら帯電防止処理層６と防汚処理層７は、基材２の遮光壁が形成された側の面だけでなく、基材２の遮光壁が形成されていない側の面に設けることができる。どちらか一方の面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。
なお、これら帯電防止処理層６と防汚処理層７を設けなくても、本発明の効果を発揮する視野制御シートが得られる。 These antistatic treatment layer 6 and antifouling treatment layer 7 can be provided not only on the surface of the substrate 2 on which the light shielding wall is formed, but also on the surface of the substrate 2 on which the light shielding wall is not formed. . It may be provided on either one side or on both sides.
Even if the antistatic treatment layer 6 and the antifouling treatment layer 7 are not provided, a visual field control sheet that exhibits the effects of the present invention can be obtained.

この視野制御シート１は、垂直入射光の全光線透過率が４０％以上、好ましくは５０％以上、さらに好ましくは６０％以上であって、３０度斜め入射光の光線透過率が２０％以下、好ましくは１５％以下である。全光線透過率が４０％未満であると、透明性が低下するため、視野が暗くなるからである。また、３０度斜め入射光の光線透過率が２０％を超えると、視野制御できないからである。   The visual field control sheet 1 has a total light transmittance of vertically incident light of 40% or more, preferably 50% or more, more preferably 60% or more, and a light transmittance of 30 ° oblique incident light is 20% or less. Preferably it is 15% or less. This is because if the total light transmittance is less than 40%, the transparency is lowered and the field of view becomes dark. Moreover, it is because a visual field control cannot be performed when the light transmittance of 30 degree obliquely incident light exceeds 20%.

本発明の視野制御シート１の製造方法は、以下の通りである。まず、基材２上に、遮光パターン１０を形成した後、基材２及び遮光パターン１０上に、感光性樹脂組成物を被覆し、次いで遮光パターン１０を設けた基材２の反対側より、この遮光パターン１０を介して感光性樹脂組成物を露光した後、露光された感光性樹脂組成物を除去する。   The manufacturing method of the visual field control sheet 1 of the present invention is as follows. First, after forming the light shielding pattern 10 on the base material 2, the photosensitive resin composition is coated on the base material 2 and the light shielding pattern 10, and then, from the opposite side of the base material 2 on which the light shielding pattern 10 is provided, After exposing the photosensitive resin composition through the light-shielding pattern 10, the exposed photosensitive resin composition is removed.

この遮光パターン１０を形成するには、特公昭４２−２３７４５号公報に記載された銀錯塩拡散転写現像法（ＤＴＲ現像法）を応用することができる。この方法は、基材上に、物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層をこの順序で有する感光材料層を露光し、物理現像処理により、前記物理現像核層上に任意の細線パターンで金属銀を析出させ、次いで前記物理現像核層上に設けられた層を除去した後、前記物理現像された金属銀を触媒核として金属をめっきし、前記金属銀上にめっき金属層を形成するものである。   In order to form the light-shielding pattern 10, a silver complex diffusion transfer development method (DTR development method) described in Japanese Patent Publication No. 42-23745 can be applied. In this method, a light-sensitive material layer having a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer in this order is exposed on a substrate, and metal silver with an arbitrary fine line pattern is formed on the physical development nucleus layer by physical development processing. Then, after removing the layer provided on the physical development nucleus layer, metal is plated using the physically developed metal silver as a catalyst nucleus to form a plated metal layer on the metal silver. is there.

具体的には、基材２上に、物理現像核層を設け、この上にハロゲン化銀乳剤層を塗布して感光層を形成した後、この感光層を露光し、物理現像処理により露光された物理現像核層上に金属銀３を析出させ、次いでこの物理現像核層の上に設けられた余分のハロゲン化銀乳剤層を除去した後、物理現像された金属銀３を触媒核として金属をめっきし、金属銀３上にめっき金属層４を形成するものである。   Specifically, a physical development nucleus layer is provided on the substrate 2, and a silver halide emulsion layer is coated thereon to form a photosensitive layer. Then, the photosensitive layer is exposed and exposed by physical development processing. The metallic silver 3 is deposited on the physical development nucleus layer, and then the excess silver halide emulsion layer provided on the physical development nucleus layer is removed, and then the metal silver 3 physically developed is used as a catalyst nucleus to form a metal. To form a plated metal layer 4 on the metal silver 3.

この物理現像核層とは、金属銀３を析出させるため、還元反応の出発点となるものである。この物理現像核層には、物理現像核と親水性バインダーが含まれている。この物理現像核としては、重金属又はその硫化物からなる微粒子（粒子サイズは１〜数十ｎｍ程度）が用いられる。例えば、金、銀等のコロイド、パラジウム、亜鉛等の水溶性塩と硫化物を混合した金属硫化物等が挙げられる。   The physical development nucleus layer is a starting point for the reduction reaction in order to deposit the metallic silver 3. The physical development nucleus layer contains physical development nuclei and a hydrophilic binder. As the physical development nuclei, fine particles (having a particle size of about 1 to several tens of nanometers) made of heavy metal or a sulfide thereof are used. Examples thereof include colloids such as gold and silver, metal sulfides obtained by mixing water-soluble salts such as palladium and zinc and sulfides, and the like.

また、親水性バインダーとしては、ゼラチン、アラビアゴム、セルロース、アルブミン、カゼイン、アルギン酸ナトリウム、各種デンプン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、アクリルアミドとビニルイミダゾールの共重合体等を用いることができる。   As the hydrophilic binder, gelatin, gum arabic, cellulose, albumin, casein, sodium alginate, various starches, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide, copolymers of acrylamide and vinyl imidazole, and the like can be used.

この物理現像核層の形成には、物理現像核と親水性バインダー等からなる組成物を、ディップコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、バーコーティング、エアーナイフコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング等で塗布する方法が用いられる。   This physical development nucleus layer is formed by dip coating, slide coating, curtain coating, bar coating, air knife coating, roll coating, gravure coating, spray coating, etc. using a composition comprising physical development nuclei and a hydrophilic binder. A coating method is used.

この物理現像核層の上に、金属銀３を析出させるためのハロゲン化銀乳剤層を塗布する。このハロゲン化銀乳剤層とは、ハロゲン化銀乳剤を含有するものであり、ハロゲン化銀写真感光材料の一般的なハロゲン化銀乳剤の製造方法に従って製造することができるものである。
物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層とは、この順に一体的に基材２上に設けて感光層を形成してもよい。 On this physical development nucleus layer, a silver halide emulsion layer for depositing metallic silver 3 is applied. This silver halide emulsion layer contains a silver halide emulsion and can be produced according to a general method for producing a silver halide emulsion of a silver halide photographic light-sensitive material.
The physical development nucleus layer and the silver halide emulsion layer may be integrally provided on the substrate 2 in this order to form a photosensitive layer.

次いで、この感光層を露光し、物理現像処理により物理現像核層上に金属銀３を析出させた後、この物理現像核層の上に設けられた余分のハロゲン化銀乳剤層を除去する。
露光に際しては、ストライプ状のパターンが描かれた透過原稿とこの感光層を密着させて露光させることができる。 Next, the photosensitive layer is exposed to deposit metal silver 3 on the physical development nucleus layer by physical development, and then the excess silver halide emulsion layer provided on the physical development nucleus layer is removed.
In the exposure, the transparent original on which a stripe pattern is drawn and this photosensitive layer can be brought into close contact with each other for exposure.

露光方法として、パターンの透過原稿とハロゲン化銀乳剤層を密着して紫外光で露光する方法、あるいは各種レーザー光を用いて走査露光する方法等がある。
前者の紫外光を用いた密着露光は、ハロゲン化銀の感光性は比較的低くても可能であるが、レーザー光を用いた走査露光の場合は比較的高い感光性が要求される。従って、後者の露光方法を用いる場合は、ハロゲン化銀の感光性を高めるために、ハロゲン化銀は化学増感あるいは増感色素による分光増感を施してもよい。化学増感としては、金化合物や銀化合物を用いた金属増感、硫黄化合物を用いた硫黄増感、あるいはこれらの併用が挙げられる。好ましくは、金化合物と硫黄化合物を併用した金−硫黄増感である。 Examples of the exposure method include a method in which a pattern transmission original and a silver halide emulsion layer are brought into close contact with each other and exposed with ultraviolet light, or a method in which scanning exposure is performed using various laser beams.
The former contact exposure using ultraviolet light is possible even if the silver halide has relatively low photosensitivity, but in the case of scanning exposure using laser light, relatively high photosensitivity is required. Therefore, when the latter exposure method is used, the silver halide may be subjected to chemical sensitization or spectral sensitization with a sensitizing dye in order to increase the sensitivity of the silver halide. Chemical sensitization includes metal sensitization using a gold compound or silver compound, sulfur sensitization using a sulfur compound, or a combination thereof. Gold-sulfur sensitization using a gold compound and a sulfur compound in combination is preferable.

上記したレーザー光で露光する方法においては、４５０ｎｍ以下の発振波長の持つレーザー光、例えば４００〜４３０ｎｍに発振波長を有する青色半導体レーザー（バイオレットレーザーダイオードとも云う）を用いることによって、明室下（明るいイエロー蛍光灯下）でも取り扱いが可能となる。   In the exposure method using the laser beam described above, a laser beam having an oscillation wavelength of 450 nm or less, for example, a blue semiconductor laser (also referred to as a violet laser diode) having an oscillation wavelength of 400 to 430 nm is used. It can be handled even under a yellow fluorescent lamp.

この感光層を、可溶性銀錯塩形成剤と還元剤の存在下、アルカリ液中で物理現像処理することにより、銀錯塩拡散転写現像（ＤＴＲ現像）が起こる。この時、露光された部分はハロゲン化銀乳剤層中で化学現像されて黒化した金属銀となる。一方、非露光部のハロゲン化銀は、可溶性銀錯塩形成剤により溶解されて銀錯塩となり、これが物理現像核上で還元剤により還元されてコロイド状の金属銀を形成する。このコロイド状の金属銀が先の黒化銀上に吸着して析出し、透過原稿のパターンに応じた銀色の金属銀３（物理現像された金属銀）を得ることができる。   When this photosensitive layer is subjected to physical development processing in an alkaline solution in the presence of a soluble silver complex salt forming agent and a reducing agent, silver complex diffusion transfer development (DTR development) occurs. At this time, the exposed portion is chemically developed in the silver halide emulsion layer to become blackened metallic silver. On the other hand, the silver halide in the non-exposed area is dissolved by a soluble silver complex salt forming agent to form a silver complex salt, which is reduced by a reducing agent on the physical development nuclei to form colloidal metallic silver. The colloidal metallic silver is adsorbed and deposited on the blackened silver, and silver metallic silver 3 (physically developed metallic silver) corresponding to the pattern of the transmission original can be obtained.

このような可溶性銀錯塩形成剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムのようなチオ硫酸塩、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウムのようなチオシアン酸塩、アルカノールアミン、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素カリウムのような亜硫酸塩等が挙げられる。   Such soluble silver complex salt forming agents include sodium thiosulfate, thiosulfates such as ammonium thiosulfate, thiocyanates such as sodium thiocyanate and ammonium thiocyanate, alkanolamines, sodium sulfite, and potassium bisulfite. A sulfite etc. are mentioned.

また、還元剤としては、写真現像の分野で公知の現像主薬を用いることができる。例えば、ハイドロキノン、カテコール等のポリヒドロキシベンゼン類、１−フェニル−４−ジメチル−３−ピラゾリドン等の３−ピラゾリドン類等が挙げられる。   As the reducing agent, a developing agent known in the field of photographic development can be used. Examples thereof include polyhydroxybenzenes such as hydroquinone and catechol, and 3-pyrazolidones such as 1-phenyl-4-dimethyl-3-pyrazolidone.

現像後、余分のハロゲン化銀乳剤層を水洗除去して、金属銀３を基材２表面に露出させる。次いで、この物理現像された金属銀３を触媒核として金属をめっきし、金属銀３上にめっき金属層４を形成して遮光パターン１０を作製する。   After development, the excess silver halide emulsion layer is washed away with water to expose the metallic silver 3 on the surface of the substrate 2. Next, metal is plated using the physically developed metal silver 3 as a catalyst nucleus, and a plated metal layer 4 is formed on the metal silver 3 to produce a light shielding pattern 10.

この金属めっき方法は、公知の方法で行うことができるが、例えば、無電解めっき法、電解めっき法又は両者を組み合わせためっき法のいずれでも可能である。電解メッキ法としては、銅、ニッケル、銀、金、半田、若しくは銅及び／又はニッケルの多層あるいは複合系等の従来公知の方法を使用できる。   Although this metal plating method can be performed by a well-known method, for example, any of an electroless plating method, an electrolytic plating method, or a plating method in which both are combined is possible. As the electrolytic plating method, a conventionally known method such as copper, nickel, silver, gold, solder, or a multilayer or composite system of copper and / or nickel can be used.

その後、基材２及び遮光パターン１０上に、感光性樹脂組成物を被覆し、次いで遮光パターン１０を設けた基材２の反対側より、この遮光パターン１０を介して感光性樹脂組成物に紫外線を照射して露光する。   Thereafter, the photosensitive resin composition is coated on the substrate 2 and the light shielding pattern 10, and then the ultraviolet light is applied to the photosensitive resin composition via the light shielding pattern 10 from the opposite side of the substrate 2 on which the light shielding pattern 10 is provided. To expose.

この感光性樹脂組成物からなる固化物５は、上記に説明した樹脂を、ディップコーティング、バーコーティング、ロールコーティング等で塗布又は積層することにより形成できる。   The solidified product 5 made of the photosensitive resin composition can be formed by applying or laminating the above-described resin by dip coating, bar coating, roll coating, or the like.

次いで、紫外線露光部分は現像液に対する溶解性が向上しているため、この溶解性の高い感光性樹脂組成物を除去する。この除去には、アルカリ水又は溶剤等の現像液による溶解等の公知の除去方法を用いることができる。露光部の感光性樹脂組成物を除去することにより、遮光パターン１０上に形成された感光性樹脂組成物からなる固化物５のみを残し、これ以外の余分に塗布又は積層した感光性樹脂組成物を取り除くことができる。   Next, since the solubility in the developer is improved in the ultraviolet-exposed portion, the highly soluble photosensitive resin composition is removed. For this removal, a known removal method such as dissolution with a developing solution such as alkaline water or a solvent can be used. By removing the photosensitive resin composition at the exposed portion, only the solidified product 5 made of the photosensitive resin composition formed on the light-shielding pattern 10 is left, and the other photosensitive resin composition is applied or laminated in excess. Can be removed.

現像液としては、上記の感光性樹脂組成物の露光部の溶解性は高いのだが、未露光部の溶解性が低い、あるいは全く溶解しないものを用いる。具体的な現像液としては、例えばメタケイ酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等の無機アルカリ、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド等の有機アルカリのアルカリ水溶液、エタノールアミンのアルコール溶液、アルコール等の有機溶剤等が挙げられるが、均一で精度の高い現像、水系化が可能である点からアルカリ水溶液が好ましい。
遮光パターン１０上に形成された感光性樹脂組成物からなる固化物５は、強度、形状維持、耐熱性の向上のため、熱処理、電子線照射等の処理を行ってもよい。 As the developer, one having a high solubility in the exposed portion of the above-described photosensitive resin composition but a low solubility in the unexposed portion or not dissolving at all is used. Specific examples of the developer include inorganic alkalis such as sodium metasilicate, sodium phosphate, and sodium hydroxide, alkali aqueous solutions of organic alkali such as tetraalkylammonium hydroxide, alcohol solutions of ethanolamine, and organic solvents such as alcohol. However, an aqueous alkali solution is preferable from the viewpoint that uniform and highly accurate development and aqueous system are possible.
The solidified product 5 made of the photosensitive resin composition formed on the light shielding pattern 10 may be subjected to a treatment such as heat treatment or electron beam irradiation in order to improve strength, shape maintenance, and heat resistance.

この感光性樹脂組成物からなる固化物５の上に、アクリル系樹脂等の帯電防止処理層６及びフッ素樹脂、シリコン変性樹脂、アルキルカルバメート系樹脂等の防汚処理層７を、ディップコーティング、バーコーティング、ロールコーティング等の塗布・乾燥方法でコートしたり、酸化錫、酸化インジウム等の金属酸化物の帯電防止処理層６及び酸化チタン等の防汚処理層７を、ＣＶＤ法、スパッタリング法、蒸着法等の薄膜形成方法により形成することができる。   On the solidified product 5 made of the photosensitive resin composition, an antistatic treatment layer 6 such as an acrylic resin and an antifouling treatment layer 7 such as a fluororesin, a silicon-modified resin, and an alkyl carbamate resin are formed by dip coating, bar Coating by coating and drying methods such as coating and roll coating, antistatic treatment layer 6 of metal oxide such as tin oxide and indium oxide, and antifouling treatment layer 7 such as titanium oxide, CVD method, sputtering method, vapor deposition It can form by thin film formation methods, such as a method.

［第２の実施形態］
図２は、第２の実施形態に係る視野制御シート１の断面図である。本実施形態の視野制御シート１は、基材２と、この基材２上に列状に設けた遮光壁２０及び透明樹脂層８とから構成される。以下に、第１の実施形態と異なる部分を説明し、第１の実施形態と同様の部分の説明は省略する。 [Second Embodiment]
FIG. 2 is a cross-sectional view of the visual field control sheet 1 according to the second embodiment. The visual field control sheet 1 of the present embodiment includes a base material 2, a light shielding wall 20 and a transparent resin layer 8 provided in a row on the base material 2. Below, a different part from 1st Embodiment is demonstrated and description of the part similar to 1st Embodiment is abbreviate | omitted.

本実施形態では、第１の実施形態と異なり、遮光壁２０の列間に透明樹脂層８が、遮光壁２０と同じ高さで設けられている。ここで、感光性樹脂組成物からなる固化物５は、透明あるいは不透明に限定されないが、可視光を吸収するもの又は散乱するもので形成されていることが好ましい。そして、この遮光壁２０と透明樹脂層８の上に、帯電防止処理層６及び防汚処理層７が設けられている。   In the present embodiment, unlike the first embodiment, the transparent resin layer 8 is provided between the rows of the light shielding walls 20 at the same height as the light shielding walls 20. Here, the solidified product 5 made of the photosensitive resin composition is not limited to transparent or opaque, but is preferably formed of a material that absorbs or scatters visible light. An antistatic treatment layer 6 and an antifouling treatment layer 7 are provided on the light shielding wall 20 and the transparent resin layer 8.

この透明樹脂層８には、透明ないかなる樹脂組成物も用いられる。そのなかでも、アクリル系等、エポキシ系等の光重合性樹脂等の放射線硬化型樹脂やエポキシ系、ウレタン系等の熱硬化型樹脂が挙げられる。これらの透明樹脂層８は、遮光パターン上に形成した感光性樹脂組成物の固化物５を硬化する際、同時に放射線や熱等により硬化することもできる。   Any transparent resin composition is used for the transparent resin layer 8. Among them, radiation curable resins such as photopolymerizable resins such as acrylic resins and epoxy resins, and thermosetting resins such as epoxy resins and urethane resins can be used. These transparent resin layers 8 can be cured by radiation, heat, or the like at the same time as the solidified product 5 of the photosensitive resin composition formed on the light shielding pattern is cured.

この透明樹脂層８は、遮光パターン１０上に、感光性樹脂組成物からなる固化物５を形成した後、上記樹脂を、ディップコーティング、バーコーティング、ロールコーティング等で塗布する方法や、透明熱可塑性樹脂組成物からなるホットメルト剤を溶融して付着、塗布する方法で形成することができる。
この透明樹脂層８を設けることにより、視野制御シート１の機械的強度を向上させることができる。 The transparent resin layer 8 is formed by forming a solidified product 5 made of a photosensitive resin composition on the light shielding pattern 10 and then applying the resin by dip coating, bar coating, roll coating, or the like, or transparent thermoplasticity. It can be formed by a method in which a hot melt agent made of a resin composition is melted and adhered and applied.
By providing this transparent resin layer 8, the mechanical strength of the visual field control sheet 1 can be improved.

本実施形態の視野制御シートでは、感光性樹脂組成物の固化物５と透明樹脂層８の上に、さらに透明プラスチックフィルム又は透明樹脂よりなる保護層を形成し、シートの強度を向上することもできる。これらの保護層は、感光性樹脂組成物の固化物５と透明樹脂層８の上部に、熱融着、接着剤による接着等の方法により積層形成することができる。その際、帯電防止処理層６及び防汚処理層７は、この保護層上に設けられることが好ましい。   In the visual field control sheet of this embodiment, a protective layer made of a transparent plastic film or a transparent resin is further formed on the solidified product 5 of the photosensitive resin composition and the transparent resin layer 8 to improve the strength of the sheet. it can. These protective layers can be laminated and formed on the solidified product 5 of the photosensitive resin composition and the upper part of the transparent resin layer 8 by a method such as heat fusion or adhesion with an adhesive. At that time, the antistatic treatment layer 6 and the antifouling treatment layer 7 are preferably provided on this protective layer.

本発明の視野制御シートは、遮光パターンをマスクとして利用することにより、露光時にマスクと感光性樹脂組成物との間が完全に密着できるため、紫外線の回折現象による遮光壁の壁面のだれを少なくすることができる。   The field-of-view control sheet of the present invention uses the light-shielding pattern as a mask so that the mask and the photosensitive resin composition can be completely adhered to each other at the time of exposure. can do.

また、本発明の視野制御シートは、遮光パターンとして、銀錯塩拡散転写現像法により物理現像した金属銀を用いるため、幅の細い遮光壁を狭い間隔で微細に配列させることができる。   Moreover, since the visual field control sheet of the present invention uses metallic silver physically developed by a silver complex diffusion transfer development method as the light shielding pattern, narrow light shielding walls can be finely arranged at narrow intervals.

以下、実施例により、本発明をさらに詳しく説明する。本発明は、下記実施例に何ら制限されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples. The present invention is not limited to the following examples.

［実施例１］
〈視野制御シートの作製〉
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムに、固形分で１ｍｇ／ｍ２の硫化パラジウムのヒドロゾル液を塗布し、乾燥して物理現像核層を設けた。続いて、写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造したハロゲン化銀乳剤層（塩化銀９０モル％と臭化銀１０モル％で、平均粒径が０．２３μｍになるように調製）を上記物理現像核層の上に塗布した。ハロゲン化銀乳剤層の銀（硝酸銀）／ゼラチンの質量比は１．５で、ハロゲン化銀量（硝酸銀に換算）が２ｇ／ｍ２になるように塗布して感光層を作製した。 [Example 1]
<Fabrication control sheet production>
A 100 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film was coated with a 1 mg / m 2 palladium sulfide hydrosol solution in solids and dried to provide a physical development nucleus layer. Subsequently, a silver halide emulsion layer produced by a general double jet mixing method of a photographic silver halide emulsion (90 mol% of silver chloride and 10 mol% of silver bromide so that the average grain size becomes 0.23 μm). Prepared on the physical development nucleus layer. The silver halide emulsion layer was coated so that the silver (silver nitrate) / gelatin mass ratio was 1.5 and the amount of silver halide (converted to silver nitrate) was 2 g / m 2 to prepare a photosensitive layer.

この感光層を水銀灯を光源とする明室用密着プリンターで、幅２０μｍ、この幅と幅との間隔が５０μｍのストライプ状の透過原稿を介して露光し、続いて市販の銀錯塩拡散転写用現像液で、２５℃で４０秒間浸漬現像した後、ハロゲン化銀乳剤層を水洗除去して、幅２０μｍ、幅と幅との間隔５０μｍ、高さ７０ｎｍの物理現像した金属銀を形成した。   This photosensitive layer is exposed through a stripe-shaped transparent original having a width of 20 μm and an interval between the widths of 50 μm using a mercury lamp as a light source, followed by development for commercial silver complex salt diffusion transfer. After immersion and development with a solution at 25 ° C. for 40 seconds, the silver halide emulsion layer was removed by washing with water to form physically developed metallic silver having a width of 20 μm, a width-to-width interval of 50 μm, and a height of 70 nm.

次いで、平均粒径１μｍのカーボンブラックを５質量％含有した紫外線ポジ型樹脂 ノボラック樹脂／キノンジアジド系樹脂溶液（シプレイ・ファーイースト（株）製）３０μｍをアプリケーターで塗布し、波長３６５ｎｍ、３００ｍＪの紫外線を照射した。露光部をアルカリ水溶液で洗浄して除去し、乾燥し、遮光壁を形成した。さらに、１２０℃で１０分の熱処理を行った。
その上に、アクリル系帯電防止コート剤を厚さ１μｍ塗布し帯電防止層を形成し、さらにフッ素樹脂コート剤を厚さ０．５μｍ塗布して防汚層を形成した。 Next, an ultraviolet positive resin novolak resin / quinonediazide resin solution (manufactured by Shipley Far East Co., Ltd.) 30 μm containing 5% by mass of carbon black having an average particle diameter of 1 μm was applied with an applicator, and ultraviolet light having a wavelength of 365 nm and 300 mJ was applied. Irradiated. The exposed portion was removed by washing with an alkaline aqueous solution and dried to form a light shielding wall. Further, heat treatment was performed at 120 ° C. for 10 minutes.
On top of that, an acrylic antistatic coating agent was applied to a thickness of 1 μm to form an antistatic layer, and a fluororesin coating agent was applied to a thickness of 0.5 μm to form an antifouling layer.

〈評価方法〉
得られた視野制御シートの全光線透過率（％）は、ＪＩＳ Ｋ ７３６１の測定法に従って測定した。基材とのなす角度が９０度の垂直入射光の全光線透過率と基材とのなす角度が３０度斜め入射光の光線透過率を測定した。
これらの結果を表１に示す。 <Evaluation methods>
The total light transmittance (%) of the obtained visual field control sheet was measured according to the measuring method of JIS K 7361. The total light transmittance of vertically incident light having an angle of 90 ° with the base material and the light transmittance of light incident at an angle of 30 ° with the base material were measured.
These results are shown in Table 1.

Figure 2005331819
Figure 2005331819

［実施例２］
実施例１と同様にして遮光壁を形成した後、アクリル樹脂からなる紫外線硬化型透明樹脂“デナオプトＸＮＲ５４７２Ｆ”（ナガセケムテックス（株）製）をアプリケーターで塗布し、さらに溝のないバーでスキージし、遮光壁の列間にのみ透明樹脂が残るよう余分の樹脂を除去した。つづいて波長３６５ｎｍ、４００ｍＪの紫外線を照射して、透明樹脂を硬化し、遮光壁の列間に透明樹脂を埋め込んだ。その後、実施例１と同様にして、帯電防止層と防汚層を形成した。
得られた視野制御シートは、実施例１と同様に評価した。
結果を表１に示す。 [Example 2]
After forming the light-shielding wall in the same manner as in Example 1, UV curable transparent resin “Denaopt XNR5472F” (manufactured by Nagase ChemteX Corp.) made of acrylic resin was applied with an applicator, and further squeegeeed with a bar without grooves. The excess resin was removed so that the transparent resin remained only between the rows of light shielding walls. Subsequently, ultraviolet rays having wavelengths of 365 nm and 400 mJ were irradiated to cure the transparent resin, and the transparent resin was embedded between the rows of light shielding walls. Thereafter, in the same manner as in Example 1, an antistatic layer and an antifouling layer were formed.
The obtained visual field control sheet was evaluated in the same manner as in Example 1.
The results are shown in Table 1.

以上の結果から、本発明による視野制御シートは、垂直入射光の全光線透過率が４０％以上であって、３０度斜め入射光の光線透過率が２０％以下であることが確認された。   From the above results, it was confirmed that the visual field control sheet according to the present invention has a total light transmittance of 40% or more for normal incident light and a light transmittance of 30% oblique incident light for 20% or less.

第１の実施形態に係る視野制御シートの断面図である。It is sectional drawing of the visual field control sheet which concerns on 1st Embodiment. 第２の実施形態に係る視野制御シートの断面図である。It is sectional drawing of the visual field control sheet which concerns on 2nd Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

１ 視野制御シート
２ 基材
３ 金属銀
４ めっき金属層
５ 感光性樹脂組成物からなる固化物
１０ 遮光シート
２０ 遮光壁


DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 View control sheet 2 Base material 3 Metal silver 4 Plating metal layer 5 Solidified material made of photosensitive resin composition 10 Light shielding sheet 20 Light shielding wall


Claims (11)

可視光透過性基材上に、遮光壁を列状に設けたシートであって、この遮光壁が前記基材上に設けられた遮光パターンと、これをマスクとして形成された感光性樹脂組成物からなる固化物とから構成されていることを特徴とする視野制御シート。   A sheet having light shielding walls arranged in a row on a visible light transmissive substrate, the light shielding pattern having the light shielding walls provided on the substrate, and a photosensitive resin composition formed using the light shielding pattern as a mask A visual field control sheet comprising: a solidified product comprising: 前記遮光パターンが、銀錯塩拡散転写現像法により物理現像された金属銀と、この金属銀を触媒核として、金属をめっきしためっき金属層とからなるものであることを特徴とする請求項１に記載の視野制御シート。   2. The light-shielding pattern comprises metal silver physically developed by a silver complex diffusion transfer development method, and a plated metal layer plated with metal using the metal silver as a catalyst nucleus. The field of view control sheet described. 前記感光性樹脂組成物が、紫外線感光性であることを特徴とする請求項１又は２に記載の視野制御シート。   The visual field control sheet according to claim 1, wherein the photosensitive resin composition is ultraviolet-sensitive. 前記感光性樹脂組成物からなる固化物が、可視光を吸収することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の視野制御シート。   The visual field control sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the solidified product made of the photosensitive resin composition absorbs visible light. 前記感光性樹脂組成物からなる固化物が、可視光を散乱することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の視野制御シート。   The visual field control sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the solidified product made of the photosensitive resin composition scatters visible light. 前記感光性樹脂組成物が、微粒子を０．５〜３０質量％含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の視野制御シート。   The visual field control sheet according to claim 1, wherein the photosensitive resin composition contains 0.5 to 30% by mass of fine particles. 前記遮光壁の幅が３〜３００μｍ、高さが１０〜３００μｍであって、幅／高さの比が１／３〜３であり、かつ前記遮光壁の間隔が５〜５００μｍであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の視野制御シート。   The light shielding wall has a width of 3 to 300 μm, a height of 10 to 300 μm, a width / height ratio of 1 to 3 to 3, and a space between the light shielding walls of 5 to 500 μm. The visual field control sheet according to any one of claims 1 to 6. 垂直入射光の全光線透過率が４０％以上であって、３０度斜め入射光の光線透過率が２０％以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の視野制御シート。   The visual field according to any one of claims 1 to 7, wherein the total light transmittance of vertically incident light is 40% or more and the light transmittance of 30-degree obliquely incident light is 20% or less. Control sheet. 可視光透過性基材上に、遮光パターンを形成した後、前記基材及び前記遮光パターン上に、感光性樹脂組成物を被覆し、次いで前記基材側より、前記遮光パターンを介して前記感光性樹脂組成物を露光した後、露光された前記感光性樹脂組成物を除去することを特徴とする視野制御シートの製造方法。   After forming a light shielding pattern on a visible light transmissive substrate, a photosensitive resin composition is coated on the substrate and the light shielding pattern, and then, from the substrate side, the photosensitive resin is passed through the light shielding pattern. After exposing a photosensitive resin composition, the exposed said photosensitive resin composition is removed, The manufacturing method of the visual field control sheet | seat characterized by the above-mentioned. 可視光透過性基材上に予め設けられた物理現像核層に、未露光のハロゲン化銀を物理現像処理により供給し、前記物理現像核層上に任意の細線パターンで金属銀を析出させた後、前記物理現像された金属銀を触媒核として金属をめっきし、前記金属銀上にめっき金属層を形成して、遮光パターンを形成することを特徴とする視野制御シートの製造方法。   Unexposed silver halide was supplied to a physical development nucleus layer previously provided on a visible light transmissive substrate by physical development processing, and metallic silver was deposited on the physical development nucleus layer in an arbitrary thin line pattern. Thereafter, a metal is plated using the physically developed metal silver as a catalyst nucleus, a plated metal layer is formed on the metal silver, and a light shielding pattern is formed. 前記基材上に、物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層をこの順序で有する感光材料を露光し、物理現像処理により前記物理現像核層上に任意の細線パターンで金属銀を析出させ、次いで前記物理現像核層上に設けられた層を除去した後、前記物理現像された金属銀を触媒核として金属をめっきし、前記金属銀上にめっき金属層を形成して前記遮光パターンを形成することを特徴とする請求項９又は１０に記載の視野制御シートの製造方法。


A photosensitive material having a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer in this order is exposed on the substrate, and metal silver is deposited in an arbitrary fine line pattern on the physical development nucleus layer by physical development, and then After removing the layer provided on the physical development nucleus layer, metal is plated using the physically developed metal silver as a catalyst nucleus, and a plated metal layer is formed on the metal silver to form the light shielding pattern. The manufacturing method of the visual field control sheet according to claim 9 or 10.


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