JP2005326976A - Cad system for electronic circuit board, computer program, and manufacturing method for electronic circuit board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子回路基板用CADシステムとそれに使用するコンピュータプログラム、及び電子回路基板の製造方法に関するものである。 The present invention relates to an electronic circuit board CAD system, a computer program used therefor, and an electronic circuit board manufacturing method.
ICやマイクロプロセッサ等の半導体チップは、近年高集積化が急速に進んでいることから、チップの入出力部の端子数も大幅に増大しつつある。これを受けて、そのようなチップを接続するための電子回路基板も配線部の数が急増しており、高分子材料やセラミック等の誘電体層を介して多層の配線部を作り込んだ積層型のパッケージ基板が増えてきている。最近では、このような電子回路基板の設計を効率よく行うために、コンピュータ作図処理を用いた設計システム、いわゆるCAD(Computer Aided Design)システムが使用されている(特許文献1)。これは、表示装置上に作図画面を開き、配線部、接地用あるいは電源用の面導体パターン、層の異なる配線部同士を接続するビア、あるいは配線端子部をなすパッドやランドなどの基板要素を、CADデータとして、マウス等の入力装置を用いて作図レイヤ上に描くことにより基板設計図を得るものである。 Semiconductor chips such as ICs and microprocessors have been rapidly integrated in recent years, so that the number of terminals at the input / output section of the chip is also increasing significantly. In response, electronic circuit boards for connecting such chips are also rapidly increasing in the number of wiring parts, and multilayer wiring parts are formed through dielectric layers such as polymer materials and ceramics. The number of mold package substrates is increasing. Recently, in order to efficiently design such an electronic circuit board, a so-called CAD (Computer Aided Design) system using a computer drawing process has been used (Patent Document 1). This is done by opening a drawing screen on the display device, and connecting the wiring elements, the surface conductor pattern for grounding or power supply, vias connecting wiring parts of different layers, or board elements such as pads and lands forming wiring terminal parts. As a CAD data, a board design drawing is obtained by drawing on a drawing layer using an input device such as a mouse.
このようなCADシステムを利用して、上記電子回路基板の電源用およびグランド用の2種類の導通路を設計する場合、電子回路基板に搭載されるチップの入出力端子の配列は予め定められており、これらの配列の配列に基づいて電子回路基板における電源用およびグランド用のパッド部やビアが設計され、さらにこれらと導通する配線、スルーホール等が設計される。これらの導通路は、少なくとも電子回路基板のチップ搭載側のパッド部がチップの入出力端子に対応して形成され、そのパッド部から裏面側に形成される周知のボールグリッドアレー(BGA)やピングリッドアレー(PGA)などの接続端子部と導通するような導通路が形成されておればよく、従って、ビアやスルーホールの数や配置位置、形状に関しては、クロストークに関する規格を含むごく少数の規格さえ満たしていれば、特に細かな制約は無く、定められたデザインルールに従って、半マニュアル的に設計されることが多かった。 When two types of conduction paths for the power supply and ground of the electronic circuit board are designed using such a CAD system, the arrangement of input / output terminals of chips mounted on the electronic circuit board is predetermined. Based on these arrangements, the power supply and ground pads and vias in the electronic circuit board are designed, and wirings, through-holes and the like that are connected to these are designed. These conductive paths are formed at least at the pad portion on the chip mounting side of the electronic circuit board corresponding to the input / output terminals of the chip, and are well-known ball grid arrays (BGA) and pins formed on the back side from the pad portion. It is only necessary to form a conduction path that is electrically connected to a connection terminal portion such as a grid array (PGA). Therefore, the number, arrangement position, and shape of vias and through-holes are very small, including standards related to crosstalk. As long as the standard is satisfied, there are no particular restrictions, and it is often designed semi-manually according to established design rules.
ところが、近年の半導体チップの高集積化・多機能化、それによるチップの入出力部をなす端子数の増大に伴って、電子回路基板により安定した電源電圧を供給することが求められるようになった。このため、基板の導通路を形成する場合には、例えば、ビアやスルーホール導体を可能な限り多数配置するとともに、基板内部においてこれらのビアやスルーホールのうち同種のものが導通するように統合させるように設計される。ところが、ビアはチップの端子は列に基づいて形成されるため配置位置は予め定められており、また、スルーホール導体は、その径の大きさによって配置数に限界があり、その数はビアよりも少ない。この場合、数の多いビアを配線によって統合しつつ、スルーホール導体に接続する必要があるが、こうした配線の設計には、複雑な配線レイアウトの設計が必要となる。 However, with the recent trend toward higher integration and multifunctionality of semiconductor chips and the increase in the number of terminals forming the input / output portion of the chip, it has become necessary to supply a stable power supply voltage to an electronic circuit board. It was. For this reason, when forming the conduction path of the substrate, for example, as many vias and through-hole conductors as possible are arranged and integrated so that the same type of these vias and through-holes are conducted inside the substrate. Designed to let you. However, since the vias are formed based on the rows of the chip terminals, the arrangement positions are predetermined, and the number of through-hole conductors is limited by the size of the diameter, and the number of vias is greater than that of the vias. There are few. In this case, it is necessary to connect a large number of vias to the through-hole conductors while integrating the wirings with the wiring. However, designing such wiring requires a complicated wiring layout design.
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、電源用およびグランド用の導通路を構成するビアおよびスルーホール導体に関して、ビアを効率的にマージし、これらとスルーホール導体とを効率的に接続することを可能とする電子回路基板用CADシステムと、該CADシステムの機能をコンピュータ上にて実現するためのコンピュータプログラム、さらに前記電子回路基板用CADシステムを用いた電子回路基板の製造方法とを提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and regarding vias and through-hole conductors constituting power supply and ground conduction paths, the vias are efficiently merged, and these and the through-hole conductors are efficiently combined. CAD system for electronic circuit boards that can be connected to a computer, a computer program for realizing the functions of the CAD system on a computer, and a method of manufacturing an electronic circuit board using the CAD system for electronic circuit boards And to provide.
上記課題を解決するために、本発明の電子回路基板用CADシステムは、
電子部品が搭載される第一主表面において、該電子部品の端子の配列に対応して配列された電源用およびグランド用のパッドアレーと、
該パッドアレーの直下において、前記電源用および前記グランド用のパッドアレーの一方と導通する第一種ビアアレーと他方と導通する第二種ビアアレーとが、前記パッドアレーの配列に対応して配列されたビアアレーが形成される誘電体層と、前記第一種ビアアレーと導通する第一種貫通孔導体と前記第二種ビアアレーと導通する第二種貫通孔導体とが形成されるコア基板と、前記第一種ビアアレーと前記第一種貫通孔導体および前記第二種ビアアレーと前記第二種貫通孔導体を接続する配線層とを有する電子回路基板を設計するためのCADシステムであって、
前記ビアアレーをなす第一種ビア図形と第二種ビア図形とを、ビアレイヤに作図するビア作図手段と、
前記ビア図形より少数の第一種貫通孔導体図形と第二種貫通孔導体図形とを、貫通孔導体レイヤに作図する貫通孔導体作図手段と、
同種の複数のビア図形同士を統合し、対応する種別の前記貫通孔導体図形と導通する配線図形を、配線レイヤに作図する配線作図手段とを有し、
複数の前記第一種ビア図形を統合する第一種ビア統合配線図形と、複数の前記第二種ビア図形を統合する第二種ビア統合配線図形とを第一配線レイヤに作図し、複数の前記第一種貫通孔導体図形を統合する第一種貫通孔導体統合配線図形と、複数の前記第二種貫通孔導体図形を統合する第二種貫通孔導体統合配線図形とを第二配線レイヤに作図する配線作図処理を行う配線作図手段と、
前記配線作図処理の後、前記第一配線レイヤに対応する配線層と前記第二配線レイヤとに対応する配線層に挟まれる誘電体層に対応する中間レイヤに、前記ビア統合配線図形と前記貫通孔導体統合配線図形とを投影し、投影された同種の前記ビア統合配線図形と前記貫通孔導体統合配線図形との交点に、統合用ビア図形を発生させることで、同種の前記ビア図形と前記貫通孔導体図形とを接続させる統合用ビア発生手段とを有することを特徴とする。
In order to solve the above problems, a CAD system for an electronic circuit board according to the present invention includes:
On the first main surface on which the electronic component is mounted, a pad array for power supply and ground arranged corresponding to the arrangement of terminals of the electronic component,
Immediately below the pad array, a first type via array that conducts to one of the power supply and ground pad arrays and a second type via array that conducts to the other are arranged corresponding to the arrangement of the pad array. A core substrate on which a dielectric layer in which a via array is formed, a first type through-hole conductor conducting to the first type via array, and a second type through-hole conductor conducting to the second type via array; A CAD system for designing an electronic circuit board having a kind of via array, the first kind of through-hole conductor, and a wiring layer connecting the second kind of via array and the second kind of through-hole conductor,
Via drawing means for drawing the first type via graphic and the second type via graphic forming the via array on a via layer;
Through-hole conductor drawing means for drawing the first-type through-hole conductor figure and the second-type through-hole conductor figure, which are fewer than the via figure, on the through-hole conductor layer;
A wiring drawing means that integrates a plurality of via figures of the same type and draws a wiring figure that is electrically connected to the corresponding through-hole conductor figure on a wiring layer,
A first type via integrated wiring figure that integrates a plurality of the first type via figures and a second type via integrated wiring figure that integrates the plurality of second type via figures are drawn on the first wiring layer, The first type through-hole conductor integrated wiring graphic that integrates the first type through-hole conductor graphic, and the second type through-hole conductor integrated wiring graphic that integrates a plurality of the second type through-hole conductor graphic. Wiring drawing means for performing wiring drawing processing to be drawn on,
After the wiring drawing process, the via integrated wiring pattern and the through-hole are formed in an intermediate layer corresponding to a dielectric layer sandwiched between a wiring layer corresponding to the first wiring layer and a wiring layer corresponding to the second wiring layer. The hole conductor integrated wiring figure is projected, and by generating an integration via figure at the intersection of the projected same type of via integrated wiring figure and the through-hole conductor integrated wiring figure, the same kind of via figure and the It has an integrated via generation means for connecting the through hole conductor figure.
このCADシステムでは、電子回路基板に搭載される電子部品の直下領域に形成される電源電圧供給用(電源用)と接地用(グランド用)との2種の導通路を設計するために、電子回路基板に搭載されるべき電子部品の入出力端子の端子配列に基づいて、電源用およびグランド用のパッドアレー、ビアアレー、配線、および貫通孔導体(スルーホール導体)に対応する各種の図形を、各作図レイヤ上に作図することで設計することができる。特に、パッド導体と接続するビアと、コア基板に形成されるスルーホール導体との設計には、まず、同種のビアを統合するビア統合配線図形(第一種ビア図形を統合する第一種ビア統合配線図形と第二種ビア図形を統合する第二種ビア統合配線図形)を、第一配線レイヤに作図設計する。次いで、同種の貫通孔導体を統合する貫通孔導体統合配線図形(第一種貫通孔導体図形を統合する第一種貫通孔導体統合配線図形と第二種貫通孔導体図形を統合する第二種貫通孔導体統合配線図形)を、第二配線レイヤに作図設計する。これらの配線作図処理の後、これらの統合配線図形を、第一配線レイヤと第二配線レイヤとに対応する2つの配線層に挟まれる誘電体層に対応する中間レイヤに投影し、投影されたビア統合配線図形と貫通孔導体統合配線図形との交点のうち、同種の図形同士の交点に統合用ビアを作図設計する。これにパッド導体と接続するビアを統合しつつ、コア基板のスルーホール導体と接続させることができる。また、これらはCADシステムのプログラムによって、交点の演算を行わせるだけで容易に行うことができる。 In this CAD system, in order to design two kinds of conduction paths for power supply voltage supply (for power supply) and grounding (for ground) formed in a region immediately below an electronic component mounted on an electronic circuit board, Based on the terminal arrangement of the input / output terminals of the electronic components to be mounted on the circuit board, various figures corresponding to the power supply and ground pad arrays, via arrays, wirings, and through-hole conductors (through-hole conductors) It is possible to design by drawing on each drawing layer. In particular, in designing vias connected to pad conductors and through-hole conductors formed in the core substrate, first, via integrated wiring figures that integrate the same type of vias (first type vias that integrate first type via figures). A second-type via integrated wiring figure that integrates the integrated wiring figure and the second-type via figure) is designed on the first wiring layer. Next, the through hole conductor integrated wiring pattern that integrates the same type of through hole conductor (the first type through hole conductor integrated wiring pattern that integrates the first type through hole conductor graphic and the second type through hole conductor graphic that integrates the second type through hole conductor graphic) Drawing design of the through-hole conductor integrated wiring pattern) on the second wiring layer. After these wiring drawing processes, these integrated wiring figures are projected and projected onto an intermediate layer corresponding to a dielectric layer sandwiched between two wiring layers corresponding to the first wiring layer and the second wiring layer. The integration via is drawn and designed at the intersection of the same type of the intersection of the via integrated wiring pattern and the through-hole conductor integrated wiring pattern. It is possible to connect to the through-hole conductor of the core substrate while integrating the via connected to the pad conductor. Moreover, these can be easily performed only by calculating the intersection by a CAD system program.
また、本発明の電子回路基板用CADシステムでは、
前記ビア作図手段は、前記ビアレイヤ上において、2つの交わる平行線群の交点を格子点とする格子配列上に、前記第一種ビア図形と前記第二種ビア図形とを交互に配列させるものであり、
前記貫通孔導体作図手段は、前記貫通孔導体レイヤ上において、2つの交わる平行線群の交点を格子点とする格子配列上に、前記第一種貫通孔導体図形と前記第二種貫通孔導体図形とを交互に配列させるものであってもよい。
In the CAD system for an electronic circuit board of the present invention,
The via drawing means alternately arranges the first-type via graphic and the second-type via graphic on a lattice arrangement having lattice points at intersections of two intersecting parallel lines on the via layer. Yes,
The through-hole conductor drawing means includes the first-type through-hole conductor figure and the second-type through-hole conductor on a lattice arrangement having lattice points at intersections of two intersecting parallel lines on the through-hole conductor layer. The figure may be arranged alternately.
このように、ビア図形および貫通孔導体図形(スルーホール導体図形)が格子状に規則配列していることで、統合用配線図形の作図設計が容易となる。この場合、図12の(a)や(b)に示すように、ビア図形は格子状に配列され、異種のビア図形が互い違いに配置される。また、貫通孔導体図形も格子状で、かつ種別の異なる図形が互い違いに配列させることが可能となる。これにより、貫通孔導体を基板内において、格子状にバランスよく配置することができ、基板内に局所的な電場が形成されることなく、安定した電源供給を行うことが可能となる。なお、ビア図形や貫通孔導体図形を作図する場合には、異種(電源用とグランド用)の図形間には、クロストークなどの影響を考慮して、所定幅の間隔を隔てて作図される必要がある。また、貫通孔導体に関しては、コア基板内にできるだけ多数配列されるように作図されることが望ましい。 As described above, the via pattern and the through-hole conductor pattern (through-hole conductor pattern) are regularly arranged in a lattice shape, thereby facilitating the design of the integrated wiring pattern. In this case, as shown in FIGS. 12A and 12B, via figures are arranged in a lattice pattern, and different types of via figures are alternately arranged. In addition, the through hole conductor figure is also in a lattice shape, and figures of different types can be alternately arranged. As a result, the through-hole conductors can be arranged in a balanced manner in a lattice pattern in the substrate, and a stable power supply can be performed without forming a local electric field in the substrate. When drawing via graphics or through-hole conductor graphics, drawing between different types (for power supply and ground) with a predetermined width in consideration of the influence of crosstalk and the like. There is a need. Further, it is desirable that the through-hole conductors are drawn so as to be arranged as many as possible in the core substrate.
また、本発明の電子回路基板用CADシステムでは、前記配線作図手段は、前記第一種ビア図形を直線状に結ぶ複数の平行な前記第一種ビア統合配線図形と、前記第二種ビア図形を直線状に結ぶ複数の平行な前記第二種ビア統合配線図形とを前記第一配線レイヤに作図し、前記第一種貫通孔導体図形を直線状に結ぶ複数の平行な前記第一種貫通孔導体統合配線図形と、前記第二種貫通孔導体図形を直線状に結ぶ複数の平行な前記第二種貫通孔導体統合配線図形とを前記第一配線レイヤに作図するものであっても良い。 Also, in the CAD system for an electronic circuit board according to the present invention, the wiring drawing means includes a plurality of parallel first-type via integrated wiring figures that linearly connect the first-type via figures, and the second-type via figures. A plurality of parallel second-type via integrated wiring figures that connect the first-type through-hole conductor figures in a straight line, and a plurality of parallel first-type through-holes that connect the first-type through-hole conductor figures in a straight line. A hole conductor integrated wiring pattern and a plurality of parallel second type through hole conductor integrated wiring patterns that linearly connect the second type through hole conductor pattern may be drawn on the first wiring layer. .
格子状に配列されたビア図形および貫通孔導体図形(スルーホール導体図形)は、複数の直線状の配線図形(ビア統合配線図形と貫通孔導体統合配線図形)を平行に並べた平行配線群によって同種のビア、同種のスルーホール導体図形を統合することができる。これらは、ビアの配列規則さえ明らかとなっていれば、直線状の統合配線図形の作図は容易であるとともに、中間レイヤに投影されたビア統合配線図形と貫通孔導体統合配線図形との交点を演算もきわめて容易となる。また、これらの交点は、ビア図形と貫通孔導体図形が格子状に配列されているため、同じように格子状に配列することができ、従って作図される統合用ビアも誘電体層全体に規則的に配置される。 Via figures and through-hole conductor figures (through-hole conductor figures) arranged in a grid are formed by a parallel wiring group in which a plurality of linear wiring figures (via integrated wiring figures and through-hole conductor integrated wiring figures) are arranged in parallel. The same kind of vias and the same kind of through-hole conductor figures can be integrated. As long as the via arrangement rules are clear, it is easy to draw a linear integrated wiring pattern, and the intersection of the via integrated wiring pattern projected on the intermediate layer and the through-hole conductor integrated wiring pattern Calculation is also very easy. These intersections can also be arranged in the same way because the via figure and the through-hole conductor figure are arranged in a grid pattern, and therefore the integrated vias to be drawn are also arranged in the entire dielectric layer. Arranged.
本発明のコンピュータプログラムは、コンピュータにインストールすることにより、上記本発明の電子回路基板用CADシステムを構成する各手段として当該コンピュータを機能させることを特徴とする。これにより、上記本発明のCADシステムをコンピュータ上にて簡単に実現することができる。該コンピュータプログラムは、光記録媒体(CD−ROM、DVDなど)や光磁気記録媒体(MOなど)などの、コンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録しておき、専用の読取装置にてこれを読み取りつつ、コンピュータ側に設けられた固定記憶装置(例えばハードディスクドライブなど)上にインストールすることもできるし、プログラムの全体又は一部を、インターネットなどの電気通信回線を通じて上位コンピュータからダウンロードすることによっても、同様にインストールが可能である。 The computer program according to the present invention is installed in a computer to cause the computer to function as each means constituting the CAD system for an electronic circuit board according to the present invention. Thereby, the CAD system of the present invention can be easily realized on a computer. The computer program is recorded on a computer-readable recording medium such as an optical recording medium (CD-ROM, DVD, etc.) or a magneto-optical recording medium (MO, etc.), and is read by a dedicated reader. The program can be installed on a fixed storage device (for example, a hard disk drive) provided on the computer side, or the whole or a part of the program can be downloaded from a host computer through an electric communication line such as the Internet. Can be installed.
本発明の電子回路基板の製造方法は、本発明の電子回路基板用CADシステムを用いて、得るべき電子回路基板に形成される電源用またはグランド用の導通路を設計するために、該導通路を構成する基板要素である前記ビア図形、前記貫通孔導体図形、前記配線図形、および前記統合用ビア図形を、図形データとしてそれぞれの図形に対応する前記ビアレイヤ、前記貫通孔導体レイヤ、前記配線レイヤ、および前記中間レイヤ上に作図し、必要に応じて作図されたこれらの図形を修正する電子回路基板設計工程と、前記基板要素設計工程によって得られた前記電子回路基板の前記図形データをもとに、前記電子回路基板の前記基板要素を製造する電子回路基板製造工程と、を含むことを特徴とする。これによれば、電子回路基板設計工程において、効率的な基板要素の設計を行うことができる。 The method for manufacturing an electronic circuit board according to the present invention uses the CAD system for an electronic circuit board according to the present invention to design a power supply or ground conductive path formed on the electronic circuit board to be obtained. As the graphic data, the via layer, the through-hole conductor layer, the wiring layer corresponding to each of the via figure, the through-hole conductor figure, the wiring figure, and the integration via figure that are substrate elements constituting And an electronic circuit board design process for drawing these figures drawn on the intermediate layer and correcting these figures as necessary, and the graphic data of the electronic circuit board obtained by the board element design process. And an electronic circuit board manufacturing process for manufacturing the board element of the electronic circuit board. According to this, in the electronic circuit board design process, efficient board element design can be performed.
以下、本発明の実施の形態を、図面に示す実施例を参照して説明する。図1は本発明の電子回路基板用CADシステム100(以下、単にCADシステムともいう)の一実施例の全体構成を示すブロック図である。CADシステム100は、CPU103と、ROM104、RAM105、入出力インターフェース102等からなるコンピュータ本体112を備え、これに周辺機器として、キーボード106あるいはマウス107等の入力手段、CD−ROMドライブ108あるいはフロッピーディスクドライブ109等の記録媒体読取手段、ハードディスクドライブ(以下、HDDと記す)110、モニタ制御部111を介して接続されるモニタ113、プリンタ114等が接続されたコンピュータシステムとして、全体が構築されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to examples shown in the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing the overall configuration of an embodiment of an electronic circuit board CAD system 100 (hereinafter also simply referred to as a CAD system) according to the present invention. The
なお、CPU103は、図形が作図入力される各種レイヤ(ビアレイヤ、配線レイヤ、貫通孔導体レイヤ等)を設定する作図レイヤ設定手段、ビア作図手段、配線作図手段、貫通孔導体作図手段等の主体をなすものである。また、キーボード106あるいはマウス107は、CPU103とともにビア作図手段、配線作図手段、貫通孔導体作図手段の主体をなすものである。また入出力インターフェース102は、作図が終了した電子回路基板の設計図面を印刷出力する図面出力手段としてCPU103とともに機能する。
Note that the
HDD110には、オペレーティングシステムプログラム(以下、OSという)161及びアプリケーションプログラム(以下、アプリケーションという)162が格納されている。アプリケーション162は、CADシステム100の機能を実現するためのコンピュータプログラムであり、OS161上にてアプリケーションワークメモリ152を作業領域とする形で作動するものである。これは、例えばCD−ROM120等にコンピュータに読み取り可能な状態で記憶され、HDD110上の所定の記憶領域にインストールされるものである。一方、RAM105には、OS161のワークメモリ151、及びアプリケーションのワークメモリ152がそれぞれ形成される。
The
本発明は、上記CADシステム100によって、電子回路基板に形成される電源電圧用の導通路と接地電圧用の導通路を作図設計するものであり、図2は、上設計適用対象となる電子回路基板のうち、電源用およびグランド用の導通路が形成された領域の断面構造を示すものである(なお、この電子回路基板1はオーガニック基板として構成されているが、本発明はこれに限定されるものではなく、セラミック基板への適用も可能である)。以下、図2の電子回路基板1の構造について説明する。
The present invention draws and designs a power supply voltage conduction path and a ground voltage conduction path formed on an electronic circuit board by the
図2の電子回路基板1は、耐熱性樹脂板(例えばビスマレイミド−トリアジン樹脂板)や、繊維強化樹脂板(例えばガラス繊維強化エポキシ樹脂)等で構成された板状のコア材(コア基板)2の両表面に、所定のパターンにコア導体層M1,M11がそれぞれ形成される。これらコア導体層M1,M11はコア材2の表面の大部分を被覆する面導体パターンとして形成される。他方、コア材2には、ドリル等により穿設されたスルーホール12が形成され、その内壁面には第一導体層(以下、コア導体層ともいう)M1,M11を互いに導通させる電源用スルーホール導体30a,グランド用スルーホール導体30bが形成されている。また、スルーホール12は、エポキシ樹脂等の樹脂製穴埋め材31により充填されている。
2 is a plate-shaped core material (core substrate) made of a heat-resistant resin plate (for example, bismaleimide-triazine resin plate) or a fiber reinforced resin plate (for example, glass fiber reinforced epoxy resin). The core conductor layers M1 and M11 are respectively formed in a predetermined pattern on both surfaces of 2. The core conductor layers M1 and M11 are formed as a plane conductor pattern that covers most of the surface of the core material 2. On the other hand, a through
また、第一導体層(コア導体層)M1,M11の上層には、感光性樹脂組成物3にて構成された第一誘電体層V1,V11がそれぞれ形成され、その内部には異なる導体層間を接続する電源用ビア34aとグランド用ビア34bが形成されている。さらに、その表面にはグランド用配線部7bを有する第一配線導体層M2,M12がCuメッキにより形成されている。なお、第一導体層(コア導体層)M1,M11と第二導体層(以下、第一配線導体層ともいう)M2,M12とは、それぞれグランド用ビア34bにより層間接続がなされている。第二導体層(第一配線導体層)M2,M12の上層には、感光性樹脂組成物3を用いた第二誘電体層V2,V12がそれぞれ形成され、その内部には異なる導体層間を接続する電源用ビア34aとグランド用ビア34bが形成されている。その表面にはそれぞれ第三導体層(以下、第二配線導体層ともいう)M3,M13がCuメッキにより形成されている。これら第二導体層(第一配線導体層)M2,M12と第三導体層(第二配線導体層)M3,M13とは、層間接続がなされておらず、第一導体層(コア導体層)M1,M11と第三導体層(第二配線導体層)M3,M13とが電源用ビア34aにより層間接続されている。第三導体層(第二配線導体層)M3,M13の上層には、感光性樹脂組成物3を用いた第三誘電体層)V3,V13がそれぞれ形成され、その内部には異なる導体層間を接続する電源用ビア34aとグランド用ビア34bが形成されている。その表面にはそれぞれ第四導体層(以下、第三配線導体層ともいう)M4,M14がCuメッキにより形成されている。これら第三導体層(第二配線導体層)M3,M13と第四導体層(第三配線導体層)M4,M14とも、それぞれ電源用ビア34aにより層間接続がなされているとともに、第二導体層(第一配線導体層)M2,M12と第四導体層M4,M14とがグランド用ビア34bにより層間接続がなされている。
Further, first dielectric layers V1 and V11 made of the
コア材2の第一主表面側の第三誘電体層V3上には表面配線導体層M4が形成され、ここに複数の半田ランド10a,10bが設けられている。
A surface wiring conductor layer M4 is formed on the third dielectric layer V3 on the first main surface side of the core material 2, and a plurality of
他方、コア材2の第二主表面側の第三誘電体層V13上には、裏面配線導体層M14が形成されている。裏面配線導体層M13には、ボールグリッドアレー(BGA)やピングリッドアレー(PGA)などの周知の接続形態にて、基板1をマザーボードなどの主基板に接続するための複数のランド20a,20bが形成されている。そして、表面配線導体層M3及び裏面配線導体層M13上に、それぞれ、感光性樹脂組成物よりなるソルダーレジスト層8,18(SR1,SR11)が形成されている。表面側のソルダーレジスト層8には、半田ランド10a,10bを露出させるために、これら半田ランド10a,10bに一対一に対応する形で開口部が形成されてなり、その内側に半田ランド10a,10bと導通する形で半田バンプ11a,11bが配置されている。
On the other hand, a back surface wiring conductor layer M14 is formed on the third dielectric layer V13 on the second main surface side of the core material 2. The back surface wiring conductor layer M13 has a plurality of
また、図2の電子回路基板の第一主表面には、チップキャパシタ(以下、C/Cとも言う)200が搭載されている。このチップキャパシタ200は、デカップリングキャパシタであり、電源用導通路とグランド用導通路との間に設けられる。これにより、電子部品(チップ)300内部で発生するスイッチングノイズやクロストークノイズによる回路素子の誤動作を抑制している。本実施例のチップキャパシタ200は、電子部品直下に形成された電源用導通路と図示されない領域において接続されている。また、図示されないキャパシタがグランド用導通路と接続されている。
A chip capacitor (hereinafter also referred to as C / C) 200 is mounted on the first main surface of the electronic circuit board of FIG. The
なお、このキャパシタ200の直下領域においても、上記電子部品直下の領域のように、配線7aやビア34a、スルーホール30a、ランド20a、半田ランド10a、半田バンプ11a等の電源用の基板要素によって、導通路が形成されている。なお、グランド用導通路と接続するキャパシタの場合は、グランド用の基板要素によって導通路が形成されている。
Even in the region immediately below the
これらのランド20a、ビア34a、スルーホール導体30a、半田ランド10a、および半田バンプ11aは、電源電圧を供給するための導通路Aを形成している。この電源電圧供給用の導通路は、ランド20aから半田バンプ11aまでが導通した導通路であり、その中間部であるコア材2の第一主表面側において、配線部7aによって全体が統合されている。また、ランド20b、ビア34b、スルーホール導体30b、半田ランド10b、および半田バンプ11bは、グランド用の導通路Bを形成しており、その中間部であるコア材2の第一主表面側において、配線部7bによって全体が統合されている。
These
なお、図2のビア34a,34bは、各誘電体層にビアアレーとして形成されるが、それら個々の形状は、ビアホールの内部に導体を充填し、底面側にてその導体と導通するように設けられたビアパッドを設けて構成されているが、本発明のCADシステムによる設計に適用できるビアは、この形状に限定されるものではない。また、パッドは、ソルダ−レジスト層SR1,SR2にパッドアレーとして形成されるが、そのパッド個々の構造は、上記実施例のようなランド20a,20bや、半田ランド10a,10bと導通する半田バンプ11a,11bからなる構造に限定されるものではなく、他のパッド構造であっても、本発明のCADシステムによる設計には適用できる。
The
以下、CADシステム100の作動について詳細に説明する。図2のアプリケーションプログラム162を起動させる作図処理プログラム162aが実行可能となり、モニタ113(図2)には、図4に示すように、作図画面40が表示される。本実施例のアプリケーションプログラム162は、公知のCADシステムと同様にドロー系グラフィックソフトウェアとして構築されており、作図画面40上にて、マウス107の操作により、電子回路基板1の基板要素(以下、エレメントともいう)の図形を、CADデータとして個別に入力しながら作図作業を進めるものである。本実施例では、新規図面の作図画面40を立ち上げると、別途HDD110等に記憶された表示データに基づき、該作図画面40内には、設計・作図すべき基板の主面外形線に対応した四辺形状の基準領域51と、デフォルトエレメント図形として、基板表面に標準的に形成される基板要素(本実施形態では、パッド53,55)の図形が表示されるようになっている。この場合、デフォルトエレメントデータを品番と対応付けて記憶するデフォルトエレメントデータ記憶部を例えばHDD110に設けておき、品番をキーボード106(あるいはマウス107による画面上のソフトボタンクリック)により入力することで、対応するデフォルトエレメントデータを読み出し、これを作図画面に表示するようにしておけば、標準的に形成される基板要素上に配線部54等の図形を直ちに作図・入力できるので便利である。
Hereinafter, the operation of the
ここで、設計の対象となる基板は、複数の配線層(導体層)が絶縁層を介して積層されるパッケージ基板等である。そして、形成すべき配線層に対応する複数の作図レイヤが作図画面40に対して設定される。これら作図レイヤ(以下、単にレイヤともいう)は、図4においては重なっているため視覚的には判定できない。また、各レイヤに書き込まれた図形は作図画面40上では重ね表示されるが、特定のレイヤ上の図形のみを表示させたり、あるいは色彩、明るさ、濃淡、塗りつぶしパターンの変更等により、他のレイヤ上の図形とは表示状態を異ならせたりすることが可能である。
Here, the substrate to be designed is a package substrate or the like in which a plurality of wiring layers (conductor layers) are stacked via an insulating layer. Then, a plurality of drawing layers corresponding to the wiring layer to be formed are set on the
図11は、作図処理プログラム162aによる作図処理の流れを示すフローチャートである。まずS1では、エレメントを書き込みたいレイヤを選択する。このレイヤ選択は、例えばマウス107(図2)により、画面上に表示されたレイヤ選択のためのソフトボタン(図示せず)をクリックすることで行なうことができる。そして、図形として入力できるのは上記したエレメントと、異レイヤ間のエレメント同士を接続するためのビアの図形であり、S2及びS8では、そのどちらを選択するかがコマンド入力により決定される。このコマンド入力も、エレメント入力あるいはビア入力を選択するソフトボタン(図示せず)のマウスクリックにより行うことができる。 FIG. 11 is a flowchart showing the flow of the drawing process by the drawing process program 162a. First, in S1, a layer to which an element is to be written is selected. This layer selection can be performed, for example, by clicking a soft button (not shown) for layer selection displayed on the screen with the mouse 107 (FIG. 2). The graphic elements that can be input are the above-described elements and via graphic elements for connecting elements between different layers. In S2 and S8, which one is selected is determined by command input. This command input can also be performed by a mouse click of a soft button (not shown) for selecting element input or via input.
エレメント入力が選択されたらS2からS3に進み、エレメント描画を行なう。エレメントの描画に際しては、公知のCADシステムソフトウェアと同様に、配線描画、パッドやランドあるいは面導体パターンの描画など、描きたいエレメントの種別毎に描画ツールが用意されている。描画ツールも、画面上にソフトボタンとして形成された描画ツール選択ボタン(図示せず)のマウスクリックにより選択できる。そして、所望の描画ツールを選択したら、図4に示すように、作図位置を示すポインタPをマウス操作により移動させつつ、マウスクリックあるいはドラッグ(マウスボタンを押したままマウスを移動させること)等の操作を組み合せながらエレメントを描いてゆく。図4では、各パッド53と55とをつなぐ配線部の図形をエレメントとして描き終わった状態を示している。
If element input is selected, the process proceeds from S2 to S3, and element drawing is performed. When drawing an element, a drawing tool is prepared for each type of element to be drawn, such as wiring drawing, pad, land, or surface conductor pattern drawing, as in known CAD system software. A drawing tool can also be selected by a mouse click of a drawing tool selection button (not shown) formed as a soft button on the screen. Then, when a desired drawing tool is selected, as shown in FIG. 4, a mouse click or drag (move the mouse while holding down the mouse button) while moving the pointer P indicating the drawing position by operating the mouse. Draw elements while combining operations. FIG. 4 shows a state where the figure of the wiring part connecting the
図6に示すように、エレメントは1つ描き終わる毎に、その図形データであるエレメント記述データが、エレメント特定データ(例えばエレメントコード)及びレイヤ特定データ(例えばレイヤ番号)と対応付けた形で、図2の図面データメモリ152gに記憶されてゆく。エレメント記述データは、例えば図5に示すように、エレメントOB11,OB12,OB13,OB14等の形状、大きさ及び描画位置を、画面40(図4)上に設定される座標平面上で規定するためのベクトルデータ、関数式データあるいは特定の基準点の座標及び半径や長さ等の寸法規定データの組として表される。例えば、エレメントOB11は、基準点A11(x0,y0)を起点として所定の向き(例えば右回り)に周回しながら、A11(x1,y1)、A11(x2,y2)、A11(x3,y3)、A11(x0,y0)の順でベクトルを連ねることによりエレメントの外形輪郭を描いた場合の、各ベクトルの終点位置の座標のデータ組として表わされている。エレメントOB12も同じである。また、パッドやランド等を表す円形のエレメントOB13は、その中心座標C13と半径r13とのデータ組として表わされている。さらに、例えば幅Wが一定した配線部の図形であるエレメントOB14などは、その起点位置B14(X0,Y0)及び終点位置B14(X1,Y1)の座標と線幅W14のデータ組として表わすことができる。なお、図5では、4つのエレメントOB11,OB12,OB13,OB14が全て同じレイヤ(M1)に描かれている。 As shown in FIG. 6, every time one element is drawn, the element description data, which is graphic data, is associated with the element specifying data (for example, element code) and the layer specifying data (for example, layer number), It is stored in the drawing data memory 152g of FIG. For example, as shown in FIG. 5, the element description data defines the shape, size, and drawing position of the elements OB11, OB12, OB13, OB14, etc. on a coordinate plane set on the screen 40 (FIG. 4). Vector data, function data, or coordinates of specific reference points, and dimension defining data such as radius and length. For example, the element OB11 rotates in a predetermined direction (for example, clockwise) starting from the reference point A11 (x0, y0), and A11 (x1, y1), A11 (x2, y2), A11 (x3, y3) , A11 (x0, y0) are represented as a data set of coordinates of the end point position of each vector when the outline of the element is drawn by connecting the vectors in the order. The same applies to the element OB12. A circular element OB13 representing a pad, land, or the like is represented as a data set of its center coordinates C13 and radius r13. Further, for example, the element OB14 that is a figure of the wiring portion having a constant width W can be expressed as a data set of the coordinates of the start position B14 (X0, Y0) and the end position B14 (X1, Y1) and the line width W14. it can. In FIG. 5, the four elements OB11, OB12, OB13, and OB14 are all drawn on the same layer (M1).
一方、図11のS8においてビア入力が選択された場合には、S9に進んでビア入力処理となる。ビア34は、異配線層の配線同士を接続するものであるが、本実施例ではそのビア34の図形の入力は、ビア層単位で行なわれ、複数のビア層にまたがるビアは、複数のビアが重ねられたスタックドビアの形で入力される。従って、ビアを入力すべきビア層を指定することにより、単位となるビアを一つ入力することができる。なお、3つ以上のビア層が設けられ、3つ以上のビア層にまたがるビアを入力する場合は、ビア開始層とビア終了層とを指定することにより、中間層のビアを自動発生させるようにしてもよい。そして、このビア図形(これも基板要素の一つである)のデータは、図7に示すように、ビア位置データと、ビア層に対応したレイヤの特定情報(ビア形成レイヤVLY##)との組として、ビア特定データ(例えばビアコード)と対応付けた形で図面データメモリ152gに記憶される。 On the other hand, when the via input is selected in S8 of FIG. 11, the process proceeds to S9 and the via input process is performed. The via 34 connects the wirings of different wiring layers. In this embodiment, the graphic of the via 34 is input in units of via layers, and a via spanning a plurality of via layers is a plurality of vias. Are input in the form of stacked vias. Therefore, by designating a via layer to which a via is to be input, one unit via can be input. When three or more via layers are provided and a via that spans three or more via layers is input, an intermediate layer via is automatically generated by specifying a via start layer and a via end layer. It may be. As shown in FIG. 7, the data of the via graphic (which is also one of the board elements) includes via position data and layer specific information (via formation layer VLY ##) corresponding to the via layer. Are stored in the drawing data memory 152g in association with via specifying data (for example, via code).
図11に戻り、エレメントの描画を行った場合はS4に進み、図9に示すように、同一レイヤ内にその入力したエレメントOB12に部分的に重なる(すなわち、接続されている)入力済のエレメントOB11が存在するか否かを判定する。NoであればさらにS5に進み、図10に示すように、ビアVA11を介した異レイヤ間接続により別のエレメントOB31に接続していないかどうかを判定する。これもNoであればS6に進み、そのエレメントOB12を配線ネット図形として、例えばエレメント特定情報のみを、図面データメモリ152g内の配線ネットデータ登録メモリ152i(図3)に、ネット特定情報(例えばネット番号)を付与して新ネットデータとして書き込み、これを登録する。
Returning to FIG. 11, when the element is drawn, the process proceeds to S4, and as shown in FIG. 9, the input element that partially overlaps (that is, is connected) with the input element OB12 in the same layer. It is determined whether or not OB11 exists. If it is No, it will progress to S5 further, and as shown in FIG. 10, it will be determined whether it is not connected to another element OB31 by the connection between different layers through via | veer VA11. If this is also No, the process proceeds to S6, where the element OB12 is set as a wiring net figure, for example, only the element specifying information is stored in the wiring net
また、図11のS4(図8参照)あるいはS5(図10参照)においてYesの場合はともにS7へ進み、そのエレメントを接続先となるエレメントが属する登録済の配線ネット図形に組み込む処理、すなわち新たに描いたエレメントのエレメント特定データを、配線ネットデータ登録メモリ152i内の対応するネットデータに付加する処理を行なう(S4→S7)。また、ビアによる接続の場合は、そのビア特定データもネット特定情報に付加する(S5→S7)。こうして、図3に示すように、配線ネットデータ登録メモリ152i内には、各ネット特定情報net1,net2,・・と、その配線ネットに属するエレメントの特定データOB11,OB12,・・あるいはビアの特定データVA11,VA12,・・とが互いに対応付けられたネットデータが記憶されてゆくこととなる。
In S4 (see FIG. 8) or S5 (see FIG. 10) of FIG. 11, in both cases, the process proceeds to S7, in which the element is incorporated into the registered wiring net figure to which the element to be connected belongs, that is, a new process. The process of adding the element specifying data of the element drawn in (5) to the corresponding net data in the wiring net
他方、図9に示すように、異レイヤ間で重なるエレメントが発生した場合は、それらエレメント特定データの重なり先のネットデータへの付加は行われない。しかしながら、図11のS10において、新たに入力されたビア図形により互いに接続される配線ネット図形が発生した場合はS11に進み、それらの配線ネット図形のネットデータ同士を統合(マージ)して、それを1つの配線ネット図形のネットデータとして再登録する処理が行われる。この場合、ネット特定情報は、統合前の配線ネット図形の一方に対応するものを残し、他方を削除してこれを欠番として扱うようにしてもよいし、両方のネット特定情報を消して新たなネット特定情報を付与するようにしてもよい。 On the other hand, as shown in FIG. 9, when elements overlapping between different layers occur, the element specifying data is not added to the overlapping net data. However, in S10 of FIG. 11, when a wiring net figure connected to each other by a newly input via graphic is generated, the process proceeds to S11, and the net data of those wiring net figures are merged. Is re-registered as net data of one wiring net figure. In this case, the net specific information may be left as one corresponding to one of the wiring net figures before integration, and the other may be deleted and treated as a missing number. You may make it provide net specific information.
上記のようなエレメントやビアの入力の作図入力を繰り返した後、作図作業を終了する場合は、S12からS13へ進み、図面データメモリ152g内に蓄積されている図形のデータ、すなわち図面データを、配線ネットデータ登録メモリ152i内のネットデータとともにファイル名を付与して、HDD110(図2)の図面データファイル163に書き込み、保存する。
When the drawing operation is to be ended after repeating the drawing input of the elements and vias as described above, the process proceeds from S12 to S13, and the graphic data stored in the drawing data memory 152g, that is, the drawing data, A file name is given together with the net data in the wiring net
上記のようにして作成された、各エレメント(作図対象要素)のCADデータは、CAMデータに変換される。CAMデータは、エレメント又は該エレメントと関連付けた形で電子回路基板1に形成される付加要素(例えばエレメントをなす半田ランド上に形成される半田バンプ)からなる製造対象要素の、製造途上での寸法、形状及び配置位置、あるいは製造対象要素を製造するための治具(例えば、ビアパターン、配線パターン、ガス抜き孔パターンを露光するためのマスクや、半田バンプ形成に使用する半田ペースト塗布用マスクなど)の、該製造対象要素に対応した部分の寸法、形状及び配置位置を特定する図形データである。
The CAD data of each element (drawing target element) created as described above is converted into CAM data. The CAM data is a dimension of a manufacturing target element including an element or an additional element (for example, a solder bump formed on a solder land constituting the element) formed on the
本発明は、このようなCADシステムを用いて、電子回路基板に搭載される電子部品の直下領域に形成される、電源用またはグランド用の導通路を作図するものである。以下、図2の電子回路基板1における電子部品300の直下領域に形成される電源用およびグランド用の2種の導通路を、上記CADシステム100を用いて作図設計方法を説明する。なお、これらの電源用とグランド用の導体図形は、作図処理時に視覚的に異種の図形であると画面上で認識できるように、表示上の違い、例えば配色、線の太さ等に違いを持たせておくことが望ましい。
The present invention uses such a CAD system to draw a power supply or ground conduction path formed in a region immediately below an electronic component mounted on an electronic circuit board. In the following, a method for drawing and designing two types of conductive paths for power supply and ground formed in the region immediately below the
まず、電子回路基板1の第一主表面に形成される電源用およびグランド用のパッドアレー部の設計から行う。これらのパッド部は、電子回路基板1に搭載されるべき電子部品300の端子301と接続するものである。従って、パッドアレー部の設計は、電子部品300の端子配列に対応した配列をなすように、所定のパッド導体図形を作図レイヤ上に作図する。このとき、作図されたパッド導体図形のCADデータは、図面データメモリ152gに記憶され、さらにこれに対応するCAMデータが、CAMデータメモリ152mに記憶される。なお、本実施例の場合、パッド部とは半田バンプ11a(電源用),11b(グランド用)、半田ランド10a(電源用),10b(グランド用)のことであり、これらに関するCADデータとCAMデータとが記憶される。
First, the power supply and ground pad array portions formed on the first main surface of the
パッドアレー部の配置が決定したことで、次は、その直下の第三誘電体層V3に形成されるビアアレー(ビア34a(電源用),34b(グランド用))の配置を決定する。これらのビアは、同種のパッド部と導通するように形成されるものである。従って、第三誘電体層V3のビア34a,34bは、上記パッド部の端子配列に対応した配列をなすよう、所定のビア図形を第三誘電体層V3に対応するビアレイヤ上に作図する。このとき、ビア図形のCADデータは、図面データメモリ152gに記憶され、さらにこれに対応するCAMデータが、CAMデータメモリ152mに記憶される。本実施例の場合、図2の電子回路基板におけるビア図形34a,34bに関する情報がCADデータとCAMデータとして記憶される。
Having determined the arrangement of the pad array portion, the arrangement of via arrays (via 34a (for power supply) and 34b (for ground)) formed in the third dielectric layer V3 immediately below the next is determined. These vias are formed so as to be electrically connected to the same type of pad portion. Therefore, a predetermined via figure is drawn on the via layer corresponding to the third dielectric layer V3 so that the
なお、図12の(a)や(b)は、ビア図形の配列の代表例を表すものである。図12の(a)や(b)に示すビア図形は、2つの異なる平行線群の交点を格子点とし、その格子点上にビア図形が配置されている。具体的には、図の左上から右下に下りる第一の平行線群は、電源用のビア図形(第一種ビア図形)のみが作図される第一平行線と、グランド用のビア図形(第二種ビア図形)のみが作図される第二平行線とが交互に配列してなるものであり、図の右上から左下に下りる第二の平行線群との交点を有し、その交点上にビア図形が配置されている。通常の電子部品の端子も、図12の(a)や(b)に示すような格子状の配列規則を有することが多く、従って、ビアアレーも図12の(a)や(b)のような配列規則で誘電体層に形成される。本実施例では、電子部品300の端子301は、図12(a)に示すような格子配列を有し、従ってビア図形も、図12(a)に示す配列で、ビアレイヤに作図されるものとする。
FIGS. 12A and 12B represent typical examples of via graphic arrangements. In the via graphic shown in FIGS. 12A and 12B, the intersection of two different parallel line groups is set as a lattice point, and the via graphic is arranged on the lattice point. Specifically, the first parallel line group descending from the upper left to the lower right of the figure includes a first parallel line on which only a power supply via graphic (first type via graphic) is drawn, and a ground via graphic ( The second parallel lines on which only the second type via figure is drawn are alternately arranged, and has an intersection with the second parallel line group descending from the upper right to the lower left of the figure, and on the intersection A via figure is placed in Terminals of ordinary electronic components often have a grid-like arrangement rule as shown in FIGS. 12A and 12B, and therefore the via array is also as shown in FIGS. 12A and 12B. The dielectric layer is formed according to the arrangement rule. In the present embodiment, the
このように電子回路基板1の最表面側のビア(この場合、第三誘電体層V3のビア34)の配置が決定すると、次は、コア材2に形成されるスルーホール導体(貫通孔導体)の作図を行う。上記CADシステム100には、アプリケーションプログラム162として、スルーホール導体図形作図処理プログラム162bがHDD110内に記憶されており、このプログラムを実行することで、スルーホール導体図形をレイヤ上に効果的に配列することができる。以下、そのスルーホール導体図形作図プログラム162bを、図13に示すフローチャートに基づいて説明する。なお、本プログラムを適応する基板領域は、電子部品直下におけるコア材2の形成領域である。
When the arrangement of the vias on the outermost surface side of the electronic circuit board 1 (in this case, the vias 34 of the third dielectric layer V3) is determined, the through-hole conductor (through-hole conductor) formed in the core material 2 is next. ). The
まず、S100にて、作図を行うスルーホール導体レイヤ上に、既にスルーホール導体図形が作図されているか否かの判定を行う。既にスルーホール導体が作図されている場合は、その作図がなされた状態から継続してスルーホール導体図形の作図を行うために、S104に進む。また、スルーホール導体レイヤ上に最初のスルーホール導体図形を作図する場合は、S101に進み、S101の初期条件の設定に進む。 First, in S100, it is determined whether or not a through-hole conductor figure has already been drawn on the through-hole conductor layer to be drawn. If the through-hole conductor has already been drawn, the process proceeds to S104 in order to continue drawing the through-hole conductor figure from the state where the drawing has been made. When drawing the first through-hole conductor figure on the through-hole conductor layer, the process proceeds to S101, and the process proceeds to the initial condition setting in S101.
S101では、初期条件の設定を行う。本プログラムでは、その初期条件として、異種のスルーホールを隣接して配置する場合の、その配置間隔の最小値(以下、限界貫通孔導体間隔とも言う)Dの設定を行う。異種のスルーホール導体(電源用のスルーホール導体とグランド用のスルーホール導体)を隣接して配置する場合は、両者の間で電気的ショートと基板の機械的破壊を生じる可能性があるため、これを防ぐ目的で、これらのスルーホール導体を予め定められた間隔を隔てて配置される必要がある。通常、この間隔は電子回路基板のデザインルールとして規定されるものであるため、ここではその値を入力すればよい。入力された値は、RAM105の初期条件データメモリ152aに記憶される。
In S101, initial conditions are set. In this program, as an initial condition, a minimum value (hereinafter also referred to as a limit through-hole conductor interval) D is set for disposing different types of through holes adjacent to each other. When dissimilar through-hole conductors (power through-hole conductors and ground through-hole conductors) are placed adjacent to each other, electrical shorting and mechanical breakage of the board may occur between them. In order to prevent this, it is necessary to arrange these through-hole conductors at a predetermined interval. Since this interval is normally defined as a design rule for an electronic circuit board, the value may be input here. The input value is stored in the initial condition data memory 152a of the
次いで、S102にて基準ビアの設定を行う。基準ビア図形は、図14に示すように、ビアレイヤ上に作図された電源用のビア図形(第一種ビア図形)34a、またはグランド用のビア図形(第二種ビア図形)34bの中から1つのビア図形を選択することで行う。選択された基準ビア図形のCADデータはRAM105の基準ビアデータメモリ152bに記憶される。
In step S102, a reference via is set. As shown in FIG. 14, the reference via graphic is one of the power supply via graphic (first type via graphic) 34a or the ground via graphic (second type via graphic) 34b drawn on the via layer. This is done by selecting one via shape. The CAD data of the selected reference via graphic is stored in the reference via data memory 152b of the
次いで、S103では、S101で設定した限界貫通孔導体間隔Dを初期条件データメモリから読み出し、図14のように、S102で選択された基準ビア図形の中心位置を中心とする半径Dの円領域内を、スルーホール導体禁止領域(貫通孔導体禁止領域)としてビアレイヤ上に設定する。このスルーホール導体禁止領域は、その領域の直下にあたるスルーホール導体レイヤ上にスルーホールが作図されることを禁止するために設定されるものである。このスルーホール導体禁止領域は、RAM105の禁止領域メモリ152cに記憶される。
Next, in S103, the limit through-hole conductor interval D set in S101 is read from the initial condition data memory, and as shown in FIG. 14, within the circular region having the radius D centered on the center position of the reference via graphic selected in S102. Is set on the via layer as a through-hole conductor prohibited region (through-hole conductor prohibited region). This through-hole conductor forbidden area is set to prohibit the through-hole from being drawn on the through-hole conductor layer that is directly below that area. This through-hole conductor prohibited area is stored in the prohibited
次いで、S104では、図14に示すように、ビアレイヤ上の基準ビア図形の直下にあたるスルーホール導体レイヤの領域に、スルーホール導体図形30を発生させる。すなわちビアレイヤ上の基準ビア図形をスルーホール導体レイヤ上に投影し、その投影した基準ビア図形の中心にスルーホール導体図形の中心が位置するように、スルーホール導体図形を発生させる。発生したスルーホール導体図形は、RAM105の図面データメモリ152gに記憶される。
Next, in S104, as shown in FIG. 14, the through-hole conductor graphic 30 is generated in the region of the through-hole conductor layer immediately below the reference via graphic on the via layer. That is, the reference via graphic on the via layer is projected onto the through-hole conductor layer, and the through-hole conductor graphic is generated so that the center of the through-hole conductive graphic is positioned at the center of the projected reference via graphic. The generated through-hole conductor graphic is stored in the drawing data memory 152g of the
続いて、S105では、図15に示すように、その直前に選択された基準ビア図形とは異なる種のビア図形を、新たな基準ビア図形として選択する。このとき、直前に選択されていたビア図形と同種のビア図形が選択された場合には、その旨を警告する警告文等を画面上に表示し、設計者に選択変更を促してもよい。この場合、選択された基準ビア図形と、基準ビアデータメモリ152bに記憶されている基準ビア図形の種別が同じであるか否かを判定し、その結果に基づいて警告文の表示、及び選択の変更を行わせるようにする。なお、このとき選択が許可された新たな基準ビア図形のCADデータはAM105の基準ビアデータメモリ152bに上書きして記憶される。
Subsequently, in S105, as shown in FIG. 15, a type of via graphic different from the reference via graphic selected immediately before is selected as a new reference via graphic. At this time, if a via graphic of the same type as the via graphic selected immediately before is selected, a warning message or the like for warning that effect may be displayed on the screen to prompt the designer to change the selection. In this case, it is determined whether or not the type of the selected reference via graphic and the reference via graphic stored in the reference via data memory 152b are the same, and based on the result, a warning text is displayed and the selection via Make changes. At this time, the CAD data of the new reference via graphic whose selection is permitted is overwritten and stored in the reference via data memory 152b of the
S106では、RAM105の禁止領域メモリ152cに記憶されているスルーホール導体禁止領域を全て読み出し、新たに選択された基準ビア図形が、ビアレイヤ上のスルーホール導体禁止領域(貫通孔導体禁止領域)内にあるか否かを判定する。S105で選択された基準ビア図形が、スルーホール導体禁止領域内にあると判定された場合は、S105に戻り、再度基準ビア図形を選択し直し、スルーホール導体禁止領域外にあると判定された場合は、S107に進む。
In S106, all the through-hole conductor prohibited areas stored in the prohibited
S107では、初期条件データメモリ152aから限界貫通孔導体間隔Dを読み出し、図15に示すように、S105で新たに選択された基準ビア図形の中心位置を中心とする半径Dの円領域内を、スルーホール導体禁止領域(貫通孔導体禁止領域)としてビアレイヤ上に追加設定し、S108に進む。この新たに追加されるスルーホール導体禁止領域は、RAM105の禁止領域メモリ152cに、既に記憶されているスルーホール導体禁止領域のデータを上書きして記憶することが無いよう、禁止領域メモリ152cにこれまでのデータに追加する形で記憶される。
In S107, the limit through-hole conductor interval D is read from the initial condition data memory 152a, and as shown in FIG. 15, within the circular region with the radius D centered on the center position of the reference via figure newly selected in S105, A through-hole conductor prohibited area (through-hole conductor prohibited area) is additionally set on the via layer, and the process proceeds to S108. This newly added through-hole conductor prohibited area is stored in the prohibited
S108では、図15に示すように、ビアレイヤ上に新たに設定された基準ビア図形の直下にあたるスルーホール導体レイヤの領域に、その基準ビア図形と同種のスルーホール導体図形を発生させる。すなわちビアレイヤ上の基準ビア図形をスルーホール導体レイヤ上に投影し、その投影した基準ビア図形の中心にスルーホール導体図形の中心が位置するように、スルーホール導体図形を発生させる。このとき、基準ビア図形が電源用のビア図形34aであれば電源用のスルーホール導体図形(第一種貫通孔導体図形)30aが、基準ビア図形がグランド用のビア図形34bであればグランド用のスルーホール導体図形(第一種貫通孔導体図形)30bが発生する。発生したスルーホール導体図形のCADデータはRAM105の図面データメモリ152gに記憶される。
In S108, as shown in FIG. 15, a through-hole conductor figure of the same type as that of the reference via graphic is generated in the area of the through-hole conductor layer immediately below the reference via graphic newly set on the via layer. That is, the reference via graphic on the via layer is projected onto the through-hole conductor layer, and the through-hole conductor graphic is generated so that the center of the through-hole conductive graphic is positioned at the center of the projected reference via graphic. At this time, if the reference via figure is a via figure 34a for power supply, the through-hole conductor figure (first-type through-hole conductor figure) 30a for power supply is used. If the reference via figure is a via figure 34b for ground, the ground use figure is used. Through-hole conductor pattern (first-type through-hole conductor pattern) 30b is generated. The generated CAD data of the through-hole conductor figure is stored in the drawing data memory 152g of the
S109では、S108にてスルーホール導体図形の作図が完了したことを受けて、次のスルーホール導体図形の作図に移るか否かを選択し、次の作図に移る場合はS105に進み、移らない場合は本プログラムを終了する。終了する場合に関しては、図13のフローチャートには表れていないが、作図されたスルーホール導体図形のCADデータは、RAM105の図面データメモリ152gに記憶されているため、これをHDD110の図面データファイル163に保存し、また、そのCADデータに対応するCAMデータをCAMデータファイル164に保存して、その上で本プログラムを終了するものとする。
In S109, in response to the completion of the drawing of the through-hole conductor figure in S108, it is selected whether or not to move to the drawing of the next through-hole conductor figure. If the drawing is moved to the next drawing, the process proceeds to S105 and does not move. If so, exit this program. As for the case of termination, although the CAD data of the drawn through-hole conductor figure is stored in the drawing data memory 152g of the
このスルーホール導体図形作図プログラム162bによって、スルーホール導体図形30a,30bの作図を繰り返すことで、スルーホール図形の作図が完了する。図16の上側の図の状態は、図13のフローチャートのS100〜S108を、この順に処理した状態である。この後、S109にてS105に戻り、以降順次S105〜S109を繰り返すことで、図16の中央の図のようにビアレイヤ上で基準ビア図形が順次選択され、その結果、図16の下側の図が示すように、スルーホール導体レイヤ上に千鳥格子状のスルーホール導体図形が作図される。図16の中段の図に示される斜線領域は、スルーホール導体図形の作図の過程で設定されたスルーホール導体禁止領域である。 By repeating the drawing of the through-hole conductor figures 30a and 30b by the through-hole conductor figure drawing program 162b, the drawing of the through-hole figure is completed. The state in the upper diagram of FIG. 16 is a state in which S100 to S108 in the flowchart of FIG. 13 are processed in this order. Thereafter, the process returns to S105 in S109, and subsequently repeats S105 to S109, so that the reference via figure is sequentially selected on the via layer as shown in the center diagram of FIG. 16, and as a result, the lower diagram of FIG. As shown, a houndstooth-shaped through-hole conductor figure is drawn on the through-hole conductor layer. The hatched area shown in the middle diagram of FIG. 16 is a through-hole conductor prohibited area set in the process of drawing a through-hole conductor figure.
なお、S105における基準ビア図形の選択によっては、図17の下側の図に示すような、図16とは異なる配列のスルーホール導体図形を配列することもできる。図16の中央の図には、その際に選択された基準ビア図形が表れている。 Depending on the selection of the reference via graphic in S105, a through-hole conductor graphic having an arrangement different from that shown in FIG. 16 can be arranged as shown in the lower diagram of FIG. In the center diagram of FIG. 16, the reference via graphic selected at that time appears.
また、図13に示すスルーホール導体図形作図プログラム162bとはことなる手順でスルーホール度津愛を作図することも可能である。図18は、上記フローチャートとは異なる手順でスルーホール導体図形を作図する手順が示された図である。図18では、その上側の図に示されている最初に選択した基準ビア図形1と、その次に選択された基準ビア図形2(最初の基準ビア図形1によって定められるスルーホール導体禁止領域(図の斜線部)の外側のビア図形)とを結ぶ直線を対角線として有する単位格子を設定し、図18の中央の図のように、その単位規則をビア図形の配列に順次当てはめる。そして、これらの単位格子の上記対角線の端部に形成されるビア図形の直下の、スルーホール導体レイヤ上の領域に、図18の下側の図のように、順次スルーホール導体図形を発生させている。 It is also possible to draw a through-hole degree by a procedure different from the through-hole conductor figure drawing program 162b shown in FIG. FIG. 18 is a diagram showing a procedure for drawing a through-hole conductor figure by a procedure different from the above flowchart. In FIG. 18, the first selected reference via graphic 1 shown in the upper diagram and the next selected reference via graphic 2 (through-hole conductor prohibited region defined by the first reference via graphic 1 (FIG. A unit cell having a straight line connecting the outer via line) to the diagonal line is set as a diagonal line, and the unit rules are sequentially applied to the via graphic array as shown in the center of FIG. Then, through-hole conductor figures are sequentially generated in a region on the through-hole conductor layer immediately below the via figure formed at the end of the diagonal line of these unit lattices as shown in the lower figure of FIG. ing.
スルーホール導体図形(貫通孔導体図形)が、上記の手順によって作図された後には、このスルーホール導体と、電子部品300側のビアとを接続するための導通路の作図を行う。このとき、第三誘電体層に形成されるビアとコア材に形成されるスルーホール導体とでは形成される数が異なり、径の大きいスルーホール導体が少ない。従って、コア材2と第三誘電体層V3との間の領域では、同種のビアを配線によってマージ(統合)して、第三誘電体層のビアと、それよりも数の少ないスルーホール導体とが接続されるように設計される。以下、上記領域における導通路の作図方法について説明を行う。
After the through-hole conductor figure (through-hole conductor figure) is drawn by the above procedure, a conduction path for connecting the through-hole conductor and the via on the
図19は、上記領域において同種のビアを統合し、ビアよりも数の少ないスルーホールと接続させるための、ビア統合処理プログラム162cの流れを示すフローチャートである。なお、本プログラムを適応する基板領域は、電子部品直下で、電子部品とコア材とによって挟まれた領域である。
FIG. 19 is a flowchart showing the flow of the via
S200では、第三誘電体層V3にて、図12の(a)のように配列した電源用のビア図形(第一種ビア図形)同士、グランド用のビア図形(第二種ビア図形)同士を統合する配線図形(ビア統合配線図形)の作図を行う。本実施例の場合、第三誘電体層V3のビアとしてビアレイヤに作図されたビア図形は、図12の(a)に示されるような格子状に配列している。さらに詳しく言えば、このビア配列は、同種のビア図形が斜め方向に直線状に等間隔に並び、かつ同種のビアを結ぶ直線を、ビアの種別を交互に変えて並べることで成立した配列である。従って、本プログラムでは、それら同種のビアを結んだ直線を、配線レイヤ(第一配線レイヤ)に対して投影した投影直線に沿って、直線状の配線図形(ビア統合配線図形)La1,Lb1を作図する。 In S200, power supply via graphics (first-type via graphics) and ground via graphics (second-type via graphics) arranged in the third dielectric layer V3 as shown in FIG. Draw a wiring figure that integrates (via integrated wiring figure). In the case of the present embodiment, via figures drawn on the via layer as vias of the third dielectric layer V3 are arranged in a grid pattern as shown in FIG. More specifically, this via array is an array formed by arranging the same type of via figures in a straight line in the diagonal direction at equal intervals, and arranging the straight lines connecting the same type of vias by alternately changing the via type. is there. Therefore, in this program, linear wiring figures (via integrated wiring figures) La1 and Lb1 are formed along projected straight lines obtained by projecting straight lines connecting these types of vias onto the wiring layer (first wiring layer). Draw.
これにより、第二導体層M2に対応する配線レイヤ(第一配線レイヤ)には、第三誘電体層V3のグランド用のビア34bを統合するために、図20の上側の図に示すような配線図形(第二種ビア統合配線図形)Lb1が作図される。また、第三導体層M3に対応する配線レイヤ(第一配線レイヤ)には、第三誘電体層V3のグランド用のビア34aを統合するために、図20の中央の図に示すような配線図形(第一種ビア統合配線図形)La1が作図される。これらの配線図形La1、Lb1のCADデータは、RAM105の図面データメモリ152gに記憶される。
Accordingly, in order to integrate the ground via 34b of the third dielectric layer V3 into the wiring layer (first wiring layer) corresponding to the second conductor layer M2, as shown in the upper diagram of FIG. A wiring graphic (second-type via integrated wiring graphic) Lb1 is drawn. Further, in order to integrate the ground via 34a of the third dielectric layer V3 into the wiring layer (first wiring layer) corresponding to the third conductor layer M3, the wiring as shown in the center diagram of FIG. A figure (first-type via integrated wiring figure) La1 is drawn. The CAD data of these wiring figures La1 and Lb1 is stored in the drawing data memory 152g of the
次いで、S201では、コア材2にて、図16の下側の図のように配列した電源用のスルーホール図形(第一種貫通孔導体図形)同士、グランド用のスルーホール導体図形(第二種貫通孔導体図形)同士を統合する配線図形(貫通孔導体統合配線図形)の作図を行う。本実施例の場合、コア材2のスルーホール導体としてスルーホール導体レイヤに作図されたスルーホール導体図形は、図16の下側の図に示されるような格子状に配列している。つまり、このスルーホール導体図形の配列は、同種のスルーホール導体図形が図の上下方向に直線状に等間隔に並び、かつ同種のビアを結ぶ上下方向の直線を、スルーホール導体の種別を交互に変えて並べることで成立した配列である。従って、本プログラムでは、その同種のスルーホール導体を結ぶ直線を、配線レイヤ(第二配線レイヤ)に対して投影し、その投影直線に沿うように直線状の配線図形La2、Lb2を作図する。 Next, in S201, the core material 2 is arranged between the power through-hole figures (first-type through-hole conductor figures) arranged as shown in the lower diagram of FIG. The wiring figure (through-hole conductor integrated wiring figure) that integrates the seed through-hole conductor figures) is drawn. In the case of the present embodiment, the through-hole conductor figures drawn on the through-hole conductor layer as the through-hole conductors of the core material 2 are arranged in a grid pattern as shown in the lower diagram of FIG. In other words, this through-hole conductor figure is arranged in such a way that the same type of through-hole conductor figures are arranged in a straight line at equal intervals in the vertical direction of the figure, and the vertical lines connecting the same type of vias are alternated with different types of through-hole conductors. It is an array that is formed by arranging in place of. Therefore, in this program, a straight line connecting the same type of through-hole conductors is projected onto the wiring layer (second wiring layer), and linear wiring figures La2 and Lb2 are drawn along the projected straight line.
これにより、第一導体層M1に対応する配線レイヤ(第二配線レイヤ)には、コア材2のグランド用のスルーホール導体30bを統合するために、図20の下側の図に示すような配線図形(第二種貫通孔導体統合配線図形)Lb2が作図される。また、第一体層M1に対応する配線レイヤ(第二配線レイヤ)には、コア材2の電源用のスルーホール導体30aを統合するために、図20の下側の図に示すような配線図形(第一種貫通孔導体統合配線図形)La2が作図される。これらの配線図形La2、Lb2のCADデータは、RAM105の図面データメモリ152gに記憶される。
Thereby, in order to integrate the ground through-
S200とS201とでなされた上記のような配線作図処理を行った後、S202では、図21の上側の図のように、第一導体層M1に対応する配線レイヤ(第二配線レイヤ)に作図された配線図形La2、Lb2と、第二導体層M2に対応する配線レイヤ(第一配線レイヤ)に作図された配線図形La1と、第三導体層M3に対応する配線レイヤ(第一配線レイヤ)に作図された配線図形Lb1とを同一の平面上に投影した場合の、同種の配線図形、すなわち電源用の配線図形La1(第一種ビア統合配線図形)とLa2(第一種貫通孔導体統合配線図形)、グランド用の配線図形Lb1(第二種ビア統合配線図形)とLb2(第二種貫通孔導体統合配線図形)の交点33a,33bを演算し、その位置座標を特定する。
After performing the wiring drawing process as described above in S200 and S201, in S202, drawing is performed on the wiring layer (second wiring layer) corresponding to the first conductor layer M1 as shown in the upper diagram of FIG. Wiring figures La2, Lb2 drawn, wiring figure La1 drawn on the wiring layer (first wiring layer) corresponding to the second conductor layer M2, and wiring layer (first wiring layer) corresponding to the third conductor layer M3 When the wiring figure Lb1 drawn in FIG. 2 is projected on the same plane, the same kind of wiring figure, that is, the wiring figure La1 for power supply (first-type via integrated wiring figure) and La2 (first-type through-hole conductor integration) The
S203では、図21の中央の図のように、S202で演算された交点33a,33bを第一誘電体層V1に対応するビアレイヤ(中間レイヤ)に投影し、その投影した点を中心として統合用ビア図形34a,34bを発生させる。また、図21の下側の図のように、S202で演算された交点のうち、電源用の配線図形の交点33aを第二誘電体層V1に対応するビアレイヤ(中間レイヤ)に投影し、その投影した点を中心として電源用のビア図形34aを発生させる。さらに第三誘電体層V3のグランド用のビア34bは、第二誘電体層V2にも同じように形成されるため、第三導体層V3に対応するビアレイヤに作図されたグランド用のビア図形34bを、第二誘電体層V2に対応するビアレイヤに投影し、同様のビア図形34bを発生させる。このとき、第一誘電体層V1および第二誘電体層V2に発生する交点33a,33bに基づくビア図形は、交点を形成する2つの配線図形の種別に応じて、電源用のビア図形34aであるかグランド用のビア図形34bであるかが決まる。これらのビア図形のCADデータは、RAM105の図面データメモリ152gに記憶される。なお、本プログラムを終了する際には、図面データメモリに記憶されたCADデータをHDD110の図面データファイル163に保存し、さらにそのCADデータに対応するCAMデータをCAMデータファイル164に保存する。
In S203, the
なお、本実施例では、グランド用の配線図形を配線図形Lb1(図2の配線7b)を第二導体層M2に、電源用の配線図形La1(図2の配線7a)を第三導体層M3に形成している。この場合、種別の異なる配線図形をあえて異なる層に形成することで、電源・グランドの均等化が図られている。また、キャパシタンスを上げて、安定した電圧の供給を可能としている。なお、配線図形Lb1とLa1とは、必ずしも異なる層に形成される必要は無く、同層に形成されていても良い。この場合、配線図形Lb1とLa1とが導通しないように配置される必要があるとともに、両配線図形間には、デザインルールに定められる所定幅の隙間が設けられ、電気的ショートと基板の機械的破壊が発生しないように配慮される必要がある。
In this embodiment, the ground wiring pattern is the wiring pattern Lb1 (
また、このようにして設計された電源用とグランド用の導通路に関しては、それぞれを独立した2つのネットとして配線ネットデータ登録メモリ152iに登録するとともに、それぞれを構成する基板要素をネットデータとして記憶する。
In addition, the power supply and ground conduction paths designed in this way are registered in the wiring net
図22の(a)は、図2が示す電子回路基板1全体を第一主表面側から見たときの図である。電子回路基板1の中央部には電子部品300が配置されるとともに、その周辺にキャパシタ200が配置されている。図2の(b)は、図22の(a)のA−A断面を簡略化して示した図である。上記実施例において、スルーホール導体図形作図プログラム162bを使用してスルーホール導体を設計する領域は、図の領域Bである。また、ビア統合処理プログラム162cを使用してビアや配線を設計する領域は図のA領域である。なお、この図のキャパシタ200の直下領域のうち、E領域に関しては、領域Bと同様のプログラム処理によってスルーホール導体を設計することができる。また、領域Dに関しては、領域Aと同様のプログラム処理によってビアや配線の設計を行うことができる。
FIG. 22A is a diagram when the entire
1 電子回路基板
2 コア材(コア基板)
30a,30b スルーホール導体(貫通孔導体)、スルーホール導体図形(貫通孔導体図形)
34a,34b ビア、ビア図形
101 電子回路基板用CADシステム
102 入出力インターフェース
103 CPU
105 RAM
106 キーボード
107 マウス(CADデータ入力手段)
108 CD−ROMドライブ
110 ハードディスクドライブ(記憶手段)
112 コンピュータ本体
120 CD−ROM
200 キャパシタ
300 電子部品(チップ)
1 Electronic circuit board 2 Core material (core board)
30a, 30b Through-hole conductor (through-hole conductor), through-hole conductor pattern (through-hole conductor pattern)
34a, 34b Via, via graphic 101 CAD system for
105 RAM
106
108 CD-
112
200
Claims (3)
該パッドアレーの直下において、前記電源用および前記グランド用のパッドアレーの一方と導通する第一種ビアアレーと他方と導通する第二種ビアアレーとが、前記パッドアレーの配列に対応して配列されたビアアレーが形成される誘電体層と、前記第一種ビアアレーと導通する第一種貫通孔導体と前記第二種ビアアレーと導通する第二種貫通孔導体とが形成されるコア基板と、前記第一種ビアアレーと前記第一種貫通孔導体および前記第二種ビアアレーと前記第二種貫通孔導体を接続する配線層とを有する電子回路基板を設計するための電子回路基板用CADシステムであって、
前記ビアアレーをなす第一種ビア図形と第二種ビア図形とを、ビアレイヤに作図するビア作図手段と、
前記ビア図形より少数の第一種貫通孔導体図形と第二種貫通孔導体図形とを、貫通孔導体レイヤに作図する貫通孔導体作図手段と、
複数の前記第一種ビア図形を統合する第一種ビア統合配線図形と、複数の前記第二種ビア図形を統合する第二種ビア統合配線図形とを第一配線レイヤに作図し、複数の前記第一種貫通孔導体図形を統合する第一種貫通孔導体統合配線図形と、複数の前記第二種貫通孔導体図形を統合する第二種貫通孔導体統合配線図形とを第二配線レイヤに作図する配線作図処理を行う配線作図手段と、
前記配線作図処理の後、前記第一配線レイヤに対応する配線層と前記第二配線レイヤとに対応する配線層に挟まれる誘電体層に対応する中間レイヤに、前記ビア統合配線図形と前記貫通孔導体統合配線図形とを投影し、投影された同種の前記ビア統合配線図形と前記貫通孔導体統合配線図形との交点に、統合用ビア図形を発生させることで、同種の前記ビア図形と前記貫通孔導体図形とを接続させる統合用ビア発生手段とを有することを特徴とする電子回路基板用CADシステム。 On the first main surface on which the electronic component is mounted, a pad array for power supply and ground arranged corresponding to the arrangement of terminals of the electronic component,
Immediately below the pad array, a first type via array that conducts to one of the power supply and ground pad arrays and a second type via array that conducts to the other are arranged corresponding to the arrangement of the pad array. A core substrate on which a dielectric layer in which a via array is formed, a first type through-hole conductor conducting to the first type via array, and a second type through-hole conductor conducting to the second type via array; A CAD system for an electronic circuit board for designing an electronic circuit board having a kind of via array, the first kind of through-hole conductor, and a wiring layer connecting the second kind of via array and the second kind of through-hole conductor. ,
Via drawing means for drawing the first type via graphic and the second type via graphic forming the via array on a via layer;
Through-hole conductor drawing means for drawing the first-type through-hole conductor figure and the second-type through-hole conductor figure, which are fewer than the via figure, on the through-hole conductor layer;
A first type via integrated wiring figure that integrates a plurality of the first type via figures and a second type via integrated wiring figure that integrates the plurality of second type via figures are drawn on the first wiring layer, The first type through-hole conductor integrated wiring graphic that integrates the first type through-hole conductor graphic and the second type through-hole conductor integrated wiring graphic that integrates a plurality of the second type through-hole conductor graphic. Wiring drawing means for performing wiring drawing processing to be drawn on,
After the wiring drawing process, the via integrated wiring pattern and the through-hole are formed in an intermediate layer corresponding to a dielectric layer sandwiched between a wiring layer corresponding to the first wiring layer and a wiring layer corresponding to the second wiring layer. The hole conductor integrated wiring figure is projected, and by generating an integration via figure at the intersection of the projected same type of via integrated wiring figure and the through-hole conductor integrated wiring figure, the same kind of via figure and the A CAD system for an electronic circuit board, comprising: an integrated via generating means for connecting a through hole conductor figure.
前記基板要素設計工程によって得られた前記電子回路基板の前記図形データをもとに、前記電子回路基板の前記基板要素を製造する電子回路基板製造工程と、
を含むことを特徴とする電子回路基板の製造方法。
In order to design a power supply or ground conductive path formed on an electronic circuit board to be obtained using the electronic circuit board CAD system according to claim 1, there is provided a board element constituting the conductive path. The via graphic, the through-hole conductor graphic, the wiring graphic, and the integration via graphic are displayed on the via layer, the through-hole conductor layer, the wiring layer, and the intermediate layer corresponding to the graphic as graphic data. An electronic circuit board design process that draws and modifies these figures as needed,
An electronic circuit board manufacturing process for manufacturing the board element of the electronic circuit board based on the graphic data of the electronic circuit board obtained by the board element design process;
The manufacturing method of the electronic circuit board characterized by including.
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