JP2005310664A - Electric wire and its manufacturing method - Google Patents

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秀之 岡本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electric wire whose covering layers can be easily peeled on the terminal treatment, and provide its manufacturing method. <P>SOLUTION: The electric wire has a conductor 10, and a first covering layer and a second covering layer which are disposed outside the conductor adjacently to each other, and are composed of crosslinkable materials. For example, let the first covering layer be an insulation layer 30, and let the second covering layer be an outer semiconductor layer 40. The crosslinking degrees of the first and second covering layers are different. By making the crosslinking degrees of the first and second covering layers different and changing the hardnesses of the layers, the interlayer peelability on the terminal treatment is improved, and the workability of the terminal treatment is improved. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、電線とその製造方法に関するものである。特に、端末処理時に半導電層と絶縁層とを容易に剥離することができる電線とその製造方法に関するものである。   The present invention relates to an electric wire and a manufacturing method thereof. In particular, the present invention relates to an electric wire capable of easily peeling a semiconductive layer and an insulating layer during terminal processing and a method for manufacturing the electric wire.

従来から自動車のワイヤハーネス用電線として、図3に記載のものが知られている。これは中心側から順に導体10、絶縁層30、シールド層50、シース60を具えている(例えば特許文献1参照)。このような電線は、通常の内燃機関を用いた自動車は勿論、電気自動車やハイブリッド車などにも利用されている。   Conventionally, the wire shown in FIG. 3 is known as an electric wire for an automobile wire harness. This includes a conductor 10, an insulating layer 30, a shield layer 50, and a sheath 60 in order from the center side (see, for example, Patent Document 1). Such electric wires are used not only for automobiles using ordinary internal combustion engines but also for electric cars and hybrid cars.

特に、電気自動車やハイブリッド車などに利用される電線では、一層の耐高圧化が求められている。例えば、高圧化に伴う部分放電の抑制策として、絶縁層の内側および外側の少なくとも一方に半導電層を設けることが考えられる。   In particular, electric wires used in electric vehicles and hybrid vehicles are required to have higher pressure resistance. For example, it is conceivable to provide a semiconductive layer on at least one of the inside and the outside of the insulating layer as a measure for suppressing the partial discharge accompanying the increase in the voltage.

この半導電層は、部分放電抑制の観点からは、ボイドがなく絶縁層と密着していることが必要であるが、端末処理時には、電線の被覆層を段剥ぎする必要上、半導電層が絶縁層から容易に剥離できることが好ましい。   From the viewpoint of suppressing partial discharge, this semiconductive layer needs to be in close contact with the insulating layer without any voids. It is preferable that it can be easily peeled from the insulating layer.

一般の電力ケーブルなどにおける半導電層は絶縁層と共に押出被覆され、1回の架橋工程にて絶縁層と半導電層とを架橋する手法がとられている。   A semiconductive layer in a general power cable or the like is extrusion-coated with an insulating layer, and a method of cross-linking the insulating layer and the semiconductive layer in one cross-linking step is employed.

特開平6-124608号公報(図17)JP-A-6-124608 (Fig. 17)

しかし、上記の半導電層の形成技術では、絶縁層と半導電層との高い密着力が得られるものの、端末処理時に半導電層を絶縁層から剥離することが難しいという問題があった。   However, although the semiconductive layer forming technique described above provides high adhesion between the insulating layer and the semiconductive layer, there is a problem that it is difficult to peel the semiconductive layer from the insulating layer during terminal processing.

絶縁層と半導電層を同時押出して、両層を1回の架橋工程で架橋すると、両層間も架橋されるため密着力が高まり、互いの層を端末処理時に容易に剥離することができなくなる。   When the insulating layer and the semiconductive layer are coextruded and both layers are cross-linked in a single cross-linking step, both the layers are also cross-linked, so that the adhesion is increased and the layers cannot be easily separated during the terminal treatment. .

従って、本発明の主目的は、端末処理時に各被覆層の剥離を容易にできる電線を提供することにある。   Accordingly, a main object of the present invention is to provide an electric wire that can easily peel off each coating layer during terminal processing.

また、本発明の他の目的は、端末処理時に各被覆層の剥離を容易にできる電線の製造方法を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing an electric wire that can easily peel off each coating layer during terminal processing.

本発明は、端末処理時に剥離したい2層の架橋度を異ならせることで上記の目的を達成する。   The present invention achieves the above object by varying the degree of cross-linking of the two layers to be peeled off during terminal processing.

すなわち、本発明電線は、導体と、導体の外方に互いに隣接して配されると共に架橋可能な材料で形成される第一被覆層と第二被覆層とを有する電線であって、第一被覆層と第二被覆層の架橋度が異なることを特徴とする。   That is, the electric wire of the present invention is an electric wire having a conductor, a first coating layer and a second coating layer which are arranged adjacent to each other outside the conductor and are formed of a crosslinkable material. The degree of cross-linking between the coating layer and the second coating layer is different.

この電線は、代表的には、中心から外周側に向かって順に、導体、内部半導電層、絶縁層、外部半導電層、シールド層、シースからなる。このうち、内部半導電層または外部半導電層のいずれかを省略しても良い。そして、例えば、絶縁層を第一被覆層、外部半導電層を第二被覆層とする。   This electric wire typically includes a conductor, an internal semiconductive layer, an insulating layer, an external semiconductive layer, a shield layer, and a sheath in order from the center toward the outer peripheral side. Of these, either the internal semiconductive layer or the external semiconductive layer may be omitted. For example, the insulating layer is a first coating layer, and the external semiconductive layer is a second coating layer.

本発明電線の導体は、必要な送電容量が確保できるものであればよく、特に材質・構成が限定されるわけではない。材質としては、銅線、錫めっき銅線、アルミ線、アルミ合金線、鋼心アルミ線、カッパーフライ線、ニッケルめっき銅線、銀めっき銅線、銅覆アルミ線などが挙げられる。導体の構成としては、単線とより線が考えられるが、一般に複数の素線をより合せたより線構造が好適である。   The conductor of the electric wire of the present invention is not particularly limited as long as the necessary power transmission capacity can be secured, and the material and configuration are not particularly limited. Examples of the material include copper wire, tin-plated copper wire, aluminum wire, aluminum alloy wire, steel core aluminum wire, copper fly wire, nickel-plated copper wire, silver-plated copper wire, and copper-covered aluminum wire. As the configuration of the conductor, a single wire and a stranded wire are conceivable, but generally a stranded wire structure in which a plurality of strands are combined is preferable.

絶縁層は電線の電圧に応じた耐電圧性を具える構成とする。絶縁層の材質としては、架橋可能な材料で構成する。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニルが好適である。この絶縁層は押出して形成すれば良い。   The insulating layer is configured to have voltage resistance according to the voltage of the electric wire. The insulating layer is made of a crosslinkable material. For example, polyethylene, polypropylene, and polyvinyl chloride are suitable. This insulating layer may be formed by extrusion.

半導電層、つまり内部半導電層と外部半導電層は、ベース樹脂と導電性フィラーとの混合物で構成することが好ましい。導電性フィラーの混合により、所定の導電率を半導電層に付与することができる。ベース樹脂は架橋可能な材料、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニルなどが望ましい。フィラーはカーボンブラックが好適に利用できる。   The semiconductive layer, that is, the internal semiconductive layer and the external semiconductive layer are preferably composed of a mixture of a base resin and a conductive filler. Predetermined conductivity can be imparted to the semiconductive layer by mixing conductive fillers. The base resin is preferably a crosslinkable material such as polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride and the like. Carbon black can be suitably used as the filler.

絶縁層や半導電層のベース樹脂がポリエチレンの場合、架橋剤としては、例えばジクミルパーオキサイド、1,3-ビス(ターシャリブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン(P-14)、2,5-ジメチル-2,5-ジ(ターシャリブチルパーオキシ)ヘキシン-3(カヤヘキサYD)等が挙げられる。これらの架橋剤は一種または二種以上の混合物として使用してもよい。この架橋剤の配合量は、得られる絶縁体の使用目的等によって適宜決められ、特に限定されない。好ましい配合量としては、ポリエチレン100重量部に対し1.5〜2.5重量部程度である。   When the base resin of the insulating layer or semiconductive layer is polyethylene, examples of the crosslinking agent include dicumyl peroxide, 1,3-bis (tertiarybutylperoxyisopropyl) benzene (P-14), 2,5-dimethyl. -2,5-di (tertiarybutylperoxy) hexyne-3 (Kayahexa YD) and the like. These crosslinking agents may be used as one kind or a mixture of two or more kinds. The amount of the crosslinking agent is appropriately determined according to the purpose of use of the obtained insulator, and is not particularly limited. A preferred blending amount is about 1.5 to 2.5 parts by weight per 100 parts by weight of polyethylene.

この場合の架橋助剤としては、例えばトリアリルイソシアヌレート、N,N’-メタフェニレンジマレイミド、トリアリルシアネート、ジアリルフタレート等が挙げられる。これらは一種または二種以上の混合物として使用することができる。この架橋助剤の配合量は、ポリエチレン100重量部に対し0.2〜3.0重量部程度が好ましい。   Examples of the crosslinking aid in this case include triallyl isocyanurate, N, N′-metaphenylene dimaleimide, triallyl cyanate, diallyl phthalate, and the like. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds. The amount of the crosslinking aid is preferably about 0.2 to 3.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of polyethylene.

ベース樹脂がポリプロピレンの場合、架橋剤としては、例えばt-ブチルクミルパーオキサイド、2,5ジメチル-2,5ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン-3などが好ましい。これらの架橋剤は一種または二種以上の混合物として使用してもよい。この架橋剤の配合量は、ポリプロピレンの合計量に対して0.2〜5重量部が好ましい。   When the base resin is polypropylene, the cross-linking agent is preferably t-butylcumyl peroxide, 2,5 dimethyl-2,5 di (t-butylperoxy) hexyne-3, for example. These crosslinking agents may be used as one kind or a mixture of two or more kinds. The amount of the crosslinking agent is preferably 0.2 to 5 parts by weight with respect to the total amount of polypropylene.

この場合の架橋助剤としては、キノンジオキシム、トリアリルトリメリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレングリコールジメタクリレートなどが利用できる。これらの架橋助剤の添加割合は、樹脂成分の合計量100重量部に対して0.2〜5重量部程度が好ましい。   As the crosslinking aid in this case, quinone dioxime, triallyl trimellylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and the like can be used. The addition ratio of these crosslinking aids is preferably about 0.2 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the resin components.

ベース樹脂がポリ塩化ビニルの場合、架橋剤としては、イソシアネート化合物が利用できる。イソシアネート化合物としては、イソシアネートモノマーや、ポリイソシアネート等を主体とする化合物を挙げることができる。   When the base resin is polyvinyl chloride, an isocyanate compound can be used as the crosslinking agent. Examples of the isocyanate compound include compounds mainly composed of an isocyanate monomer and polyisocyanate.

この場合の架橋助剤は、金属塩を主体とする化合物が利用できる。具体例としては、例えばラウリン酸、ステアリン酸、ナフテン酸、リシノレイン酸、オクチル酸、バリウム、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウム、鉛、スズ、カドミウム、亜鉛等の金属塩を挙げることができる。   In this case, the crosslinking assistant can be a compound mainly composed of a metal salt. Specific examples include metal salts such as lauric acid, stearic acid, naphthenic acid, ricinoleic acid, octylic acid, barium, calcium, magnesium, strontium, lead, tin, cadmium, and zinc.

その他、本発明電線の被覆材料には、酸化防止剤、顔料、紫外線安定剤、充填剤、可塑剤、滑剤などを適宜加えることができる。   In addition, antioxidants, pigments, UV stabilizers, fillers, plasticizers, lubricants, and the like can be appropriately added to the coating material for the electric wire of the present invention.

この半導電層は、絶縁層とは独立して押出にて形成すればよい。押出にて各半導電層を形成すれば、導電性布テープを利用した場合と異なって導電性布テープの端部やケバなどの不整部がなく、水トリーの起点を排除することができる。   This semiconductive layer may be formed by extrusion independently of the insulating layer. If each semiconductive layer is formed by extrusion, unlike the case where the conductive cloth tape is used, there is no irregular portion such as an end portion or an edge of the conductive cloth tape, and the origin of the water tree can be eliminated. .

その他、本発明電線は、通常、外部半導電層の上にシールド層を形成し、さらにシールド層の上にシースを設ける。シールド層は銅線などの金属線の編組材を用いることが望ましい。シールド層を設けることで、誘導防止用の遮蔽と危険防止用の遮蔽を行うことができる。シースは、一般にクロロプレンゴム、ビニル樹脂、ポリエチレンなどで構成される。シースを設けることで、絶縁層(シールド層)の機械的保護を図ることができる。   In addition, in the electric wire of the present invention, a shield layer is usually formed on the outer semiconductive layer, and a sheath is further provided on the shield layer. It is desirable to use a braided material of metal wire such as copper wire for the shield layer. By providing the shield layer, guidance prevention shielding and danger prevention shielding can be performed. The sheath is generally made of chloroprene rubber, vinyl resin, polyethylene or the like. By providing the sheath, the insulating layer (shield layer) can be mechanically protected.

本発明電線は、自動車用の配線に用いられるワイヤハーネス用電線として用いることが好適である。特に、近時、耐高圧化が求められる電気自動車やハイブリッド車用のワイヤハーネス用電線としての利用が最適である。特に600V以上、より好ましくは800V以上、さらに好ましくは1kV以上の耐電圧特性を有する電線としての利用が期待できる。   The electric wire of the present invention is preferably used as a wire harness wire used for wiring for automobiles. In particular, it is most suitable to be used as an electric wire for a wire harness for an electric vehicle or a hybrid vehicle that is required to have high voltage resistance recently. In particular, it can be expected to be used as an electric wire having a withstand voltage characteristic of 600 V or higher, more preferably 800 V or higher, and further preferably 1 kV or higher.

一方、本発明電線の製造方法は、導体の外方に架橋可能な材料からなる第一被覆層と第二被覆層とを互いに隣接して形成する電線の製造方法である。このような製造方法において、架橋方法に応じて異なる手法を採用することで、第一被覆層と第二被覆層の架橋度を異ならせることを特徴とする。   On the other hand, the electric wire manufacturing method of the present invention is an electric wire manufacturing method in which a first coating layer and a second coating layer made of a crosslinkable material are formed adjacent to each other. In such a production method, the degree of crosslinking between the first coating layer and the second coating layer is made different by adopting different methods depending on the crosslinking method.

架橋度を各被覆層で異ならせるには、架橋方式が放射線架橋方式の場合、放射線の照射量を変えることで、架橋方式が化学架橋方式の場合、架橋剤の種類および含有量、架橋助剤の種類および含有量の一つ以上を異ならせることで実現できる。もちろん、これら両手法を併用することで、両被覆層の架橋度を異ならせても良い。なお、化学架橋方式の場合、蒸気架橋、熱線架橋、水架橋など種々の架橋方式が利用できる。   In order to vary the degree of crosslinking in each coating layer, when the crosslinking method is a radiation crosslinking method, by changing the radiation dose, when the crosslinking method is a chemical crosslinking method, the type and content of the crosslinking agent, the crosslinking aid This can be realized by varying one or more of the types and contents. Of course, the degree of cross-linking of both coating layers may be varied by using both of these methods in combination. In the case of the chemical crosslinking method, various crosslinking methods such as vapor crosslinking, heat ray crosslinking, and water crosslinking can be used.

まず、放射線架橋方式の場合、照射する放射線、例えば電子線やγ線の照射量を第一被覆層と第二被覆層で変える。この放射線架橋方式を行う場合、第一被覆層と第二被覆層とは独立して押出して形成し、各押出ごとに放射線の照射を行なえば良い。例えば、絶縁層上に外部半導電層を形成する場合、まず押出で絶縁層を形成し、この絶縁層に放射線を照射して架橋させ、架橋された絶縁層上に押出で外部半導電層を形成して、さらに外部半導電層に放射線を照射して架橋させる。その際、絶縁層と外部半導電層とで放射線の照射量を変えることにより、両層の架橋度を変えればよい。   First, in the case of the radiation cross-linking method, the irradiation amount of radiation, for example, electron beam or γ-ray, is changed between the first coating layer and the second coating layer. When this radiation crosslinking method is performed, the first coating layer and the second coating layer may be formed by extrusion independently, and radiation may be irradiated for each extrusion. For example, when an external semiconductive layer is formed on an insulating layer, an insulating layer is first formed by extrusion, and this insulating layer is irradiated with radiation to be crosslinked, and the external semiconductive layer is formed by extrusion on the crosslinked insulating layer. Then, the external semiconductive layer is further irradiated with radiation to be crosslinked. At this time, the degree of crosslinking between the two layers may be changed by changing the radiation dose between the insulating layer and the external semiconductive layer.

次に、化学架橋方式の場合、架橋される被覆材料に応じて種々の種類の架橋剤や架橋助剤が利用されるため、各種架橋剤、架橋助剤の種類、含有量の少なくとも一つを調整して各被覆層の架橋度を変えればよい。   Next, in the case of the chemical crosslinking method, since various types of crosslinking agents and crosslinking aids are used depending on the coating material to be crosslinked, at least one of various crosslinking agents, types of crosslinking aids, and content is selected. What is necessary is just to adjust and to change the crosslinking degree of each coating layer.

本発明電線によれば、第一被覆層と第二被覆層の架橋度を異ならせることで各層の硬度を変え、端末処理時の層間剥離性を向上させることで、端末処理の作業性を改善することができる。   According to the electric wire of the present invention, the hardness of each layer is changed by changing the degree of crosslinking between the first coating layer and the second coating layer, and the delamination property at the time of terminal processing is improved, thereby improving the workability of the terminal processing. can do.

本発明電線において、第一被覆層が絶縁層、第二被覆層が外部半導電層であれば、端末処理時に外部半導電層を絶縁層から容易に剥離することができる。   In the electric wire of the present invention, if the first covering layer is an insulating layer and the second covering layer is an external semiconductive layer, the external semiconductive layer can be easily peeled from the insulating layer during terminal processing.

本発明電線によれば、半導電層を設けることで耐高圧性に優れ、層間剥離性の高い半導電層とすることができ、ワイヤハーネス用電線として好適に利用することができる。   According to the electric wire of the present invention, by providing a semiconductive layer, it is possible to obtain a semiconductive layer having excellent high voltage resistance and high delamination properties, and can be suitably used as a wire harness electric wire.

本発明電線の製造方法によれば、放射線架橋方式により第一被覆層と第二被覆層を架橋する場合、容易に両層の架橋度を異ならせることができ、層間剥離性に優れた電線を得ることができる。   According to the method for producing an electric wire of the present invention, when the first coating layer and the second coating layer are cross-linked by a radiation cross-linking method, the cross-linking degree of both layers can be easily changed, and an electric wire excellent in delamination property can be obtained. Can be obtained.

本発明電線の製造方法によれば、化学架橋方式により第一被覆層と第二被覆層を架橋する場合、容易に両層の架橋度を異ならせることができ、層間剥離性に優れた電線を得ることができる。   According to the method for producing an electric wire of the present invention, when the first coating layer and the second coating layer are cross-linked by a chemical cross-linking method, the cross-linking degree of both layers can be easily changed, and an electric wire having excellent delamination property can be obtained. Can be obtained.

本発明電線の製造方法によれば、放射線架橋方式と化学架橋方式とを併用して第一被覆層と第二被覆層を架橋する場合、容易に両層の架橋度を異ならせることができ、層間剥離性に優れた電線を得ることができる。   According to the method for producing an electric wire of the present invention, when the first coating layer and the second coating layer are cross-linked using a radiation cross-linking method and a chemical cross-linking method, the degree of cross-linking of both layers can be easily varied, An electric wire excellent in delamination property can be obtained.

以下、本発明の実施の形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below.

(第一実施形態)
図1は本発明電線の断面図である。この電線は中心から順に、導体10、内部半導電層20、絶縁層30、外部半導電層40、シールド層50、シース60を具えている。
(First embodiment)
FIG. 1 is a cross-sectional view of the electric wire of the present invention. The electric wire includes a conductor 10, an inner semiconductive layer 20, an insulating layer 30, an outer semiconductive layer 40, a shield layer 50, and a sheath 60 in this order from the center.

ここでは、0.32mm径の軟銅線を19本より合わせて撚り素線を形成し、さらに、この撚り素線を19本より合わせて公称断面積30sqの導体10を構成した。   Here, 19 strands of 0.32 mm diameter annealed copper wire were combined to form a twisted strand, and further, 19 strands were combined to form a conductor 10 having a nominal cross-sectional area of 30 sq.

この導体10の直上に内部半導電層20を形成する。この内部半導電層20は次述する絶縁層と同時押出にて形成した。内部半導電層20の材質には軟質ポリエチレンのベース樹脂に導電性フィラーであるアセチレンブラックを配合した混合物を用いた。   An internal semiconductive layer 20 is formed immediately above the conductor 10. The inner semiconductive layer 20 was formed by coextrusion with the insulating layer described below. As the material of the inner semiconductive layer 20, a mixture of a soft polyethylene base resin and acetylene black as a conductive filler was used.

内部半導電層20の上には絶縁層30が形成される。この絶縁層には、ポリエチレンをベース樹脂とし、ジクミルパーオキサイドを架橋剤とした樹脂組成物を用いた。図2に示すように、絶縁層の押出を行なった後、加熱して絶縁層の架橋を行う。   An insulating layer 30 is formed on the inner semiconductive layer 20. For this insulating layer, a resin composition using polyethylene as a base resin and dicumyl peroxide as a crosslinking agent was used. As shown in FIG. 2, after the insulating layer is extruded, the insulating layer is crosslinked by heating.

続いて、架橋された絶縁層30の上に外部半導電層40を形成する。この外部半導電層40は絶縁層とは独立した押出により形成する。外部半導電層にも、軟質ポリエチレンのベース樹脂に導電性フィラーであるアセチレンブラックを配合した混合物を用い、さらに架橋剤としてジクミルパーオキサイドを添加した樹脂組成物を用いた。この架橋剤の配合量は絶縁層の架橋剤の配合量と異なるようにした。そして、押出された外部半導電層も加熱して架橋する。   Subsequently, an external semiconductive layer 40 is formed on the crosslinked insulating layer 30. The outer semiconductive layer 40 is formed by extrusion independent of the insulating layer. Also for the outer semiconductive layer, a resin composition in which a soft polyethylene base resin was mixed with acetylene black, which is a conductive filler, and dicumyl peroxide was added as a crosslinking agent were used. The amount of the crosslinking agent was different from the amount of the crosslinking agent in the insulating layer. The extruded outer semiconductive layer is also heated to crosslink.

架橋された外部半導電層40の上にはシールド層50が形成される。シールド層50は、0.3mm径の錫めっき銅線からなる編組材を用いた。   A shield layer 50 is formed on the cross-linked outer semiconductive layer 40. As the shield layer 50, a braided material made of a tin-plated copper wire having a diameter of 0.3 mm was used.

そして、シールド層50の上にシース60を形成する。ここでは、ポリ塩化ビニルを厚さ1.0mmに押し出してシース60を形成した。   Then, a sheath 60 is formed on the shield layer 50. Here, the sheath 60 was formed by extruding polyvinyl chloride to a thickness of 1.0 mm.

比較のため、絶縁層と外部半導電層の架橋剤の含有量を同じにし、同一の架橋度とした比較電線も作製し、本発明電線と比較電線において外部半導電層の絶縁層に対する剥離容易性を比較した。その結果、本発明電線は比較電線に比べて外部半導電層の剥離が容易に行なえることが確認された。   For comparison, a comparative electric wire having the same cross-linking degree with the same content of the cross-linking agent in the insulating layer and the outer semiconductive layer is also prepared, and the external semiconductive layer is easily peeled from the insulating layer in the electric wire of the present invention and the comparative electric wire. Sex was compared. As a result, it was confirmed that the electric wire of the present invention can easily peel the external semiconductive layer as compared with the comparative electric wire.

(第二実施形態)
次に、電子線架橋を施すことにより、絶縁層と外部半導電層の架橋度を異ならせた本発明電線について説明する。
(Second embodiment)
Next, the electric wire of the present invention in which the degree of crosslinking between the insulating layer and the external semiconductive layer is made different by performing electron beam crosslinking will be described.

この場合も電線の構成は図1に示すとおりである。従って、ここでは第一実施形態との相違点を主として説明する。本実施形態では、図2における絶縁層の架橋と外部半導電層の架橋を電子線照射で行なう。その際、電子線の照射量を絶縁層と外部半導電層とで変える。   Also in this case, the configuration of the electric wire is as shown in FIG. Therefore, the difference from the first embodiment will be mainly described here. In this embodiment, the insulating layer and the external semiconductive layer in FIG. 2 are cross-linked by electron beam irradiation. At that time, the electron beam irradiation amount is changed between the insulating layer and the external semiconductive layer.

比較のため、絶縁層と外部半導電層の電子線の照射量を同じにし、同一の架橋度とした比較電線も作製し、本発明電線と比較電線において外部半導電層の絶縁層に対する剥離容易性を比較した。その結果、本発明電線は比較電線に比べて外部半導電層の剥離が容易に行なえることが確認された。   For comparison, a comparison electric wire with the same electron beam irradiation amount of the insulating layer and the outer semiconductive layer and the same degree of crosslinking was also produced, and the external semiconductive layer was easily peeled from the insulating layer in the electric wire of the present invention and the comparative electric wire. Sex was compared. As a result, it was confirmed that the electric wire of the present invention can easily peel the external semiconductive layer as compared with the comparative electric wire.

本発明電線は、各種電線に利用することができる。内燃機関を有する従来の自動車はもちろん、電気自動車やハイブリッド自動車のワイヤハーネスに利用することができる。また、本発明電線の製造方法は、上記電線の製造分野において利用することが期待される。   The electric wire of the present invention can be used for various electric wires. It can be used for a wire harness of an electric vehicle or a hybrid vehicle as well as a conventional vehicle having an internal combustion engine. Moreover, it is anticipated that the manufacturing method of this invention electric wire will be utilized in the said electric wire manufacturing field.

本発明電線の横断面図である。It is a cross-sectional view of the electric wire of the present invention. 本発明電線の製造方法の一部を示す工程図である。It is process drawing which shows a part of manufacturing method of this invention electric wire. 従来のワイヤハーネス用電線の断面図である。It is sectional drawing of the electric wire for conventional wire harnesses.

符号の説明Explanation of symbols

10 導体
20 内部半導電層
30 絶縁層
40 外部半導電層
50 シールド層
60 シース
10 conductor
20 Internal semiconductive layer
30 Insulation layer
40 External semiconductive layer
50 Shield layer
60 sheath

Claims (6)

導体と、導体の外方に互いに隣接して配されると共に架橋可能な材料で形成される第一被覆層と第二被覆層とを有する電線であって、
前記第一被覆層と第二被覆層の架橋度が異なることを特徴とする電線。
An electric wire having a conductor and a first coating layer and a second coating layer formed of a crosslinkable material arranged adjacent to each other outside the conductor;
The electric wire, wherein the first coating layer and the second coating layer have different degrees of crosslinking.
第一被覆層が絶縁層、第二被覆層が外部半導電層であることを特徴とする請求項1に記載の電線。   The electric wire according to claim 1, wherein the first covering layer is an insulating layer, and the second covering layer is an external semiconductive layer. 電線がワイヤハーネス用電線であることを特徴とする請求項1または2に記載の電線。   The electric wire according to claim 1, wherein the electric wire is a wire harness electric wire. 導体の外方に架橋可能な材料からなる第一被覆層と第二被覆層とを互いに隣接して形成する電線の製造方法であって、
第一被覆層と第二被覆層を各々独立した押出工程により形成し、
各押出工程ごとに放射線架橋工程を行い、第一被覆層の放射線照射量と第二被覆層の放射線照射量とを異ならせることで、両被覆層の架橋度を異ならせることを特徴とする電線の製造方法。
A method of manufacturing an electric wire, wherein a first coating layer and a second coating layer made of a crosslinkable material are formed adjacent to each other outside the conductor,
Forming the first coating layer and the second coating layer by independent extrusion processes,
A wire cross-linking step is performed for each extrusion step, and the degree of cross-linking of both coating layers is varied by making the radiation dose of the first coating layer different from the radiation dose of the second coating layer. Manufacturing method.
導体の外方に架橋可能な材料からなる第一被覆層と第二被覆層とを互いに隣接して形成する電線の製造方法であって、
第一被覆層と第二被覆層に含まれる架橋剤の種類および含有量、架橋助剤の種類および含有量の一つ以上を異ならせることで、両被覆層の架橋度を異ならせることを特徴とする電線の製造方法。
A method of manufacturing an electric wire, wherein a first coating layer and a second coating layer made of a crosslinkable material are formed adjacent to each other outside the conductor,
It is characterized in that the degree of cross-linking of both coating layers is made different by changing one or more of the type and content of the crosslinking agent and the type and content of the crosslinking aid contained in the first coating layer and the second coating layer. A method for manufacturing an electric wire.
導体の外方に架橋可能な材料からなる第一被覆層と第二被覆層とを互いに隣接して形成する電線の製造方法であって、
両被覆層の架橋度を異ならせるために以下の(A)と(B)の手段を併用することを特徴とする電線の製造方法。
(A)第一被覆層と第二被覆層を各々独立した押出工程により形成し、各押出工程ごとに放射線架橋工程を行い、第一被覆層の放射線照射量と第二被覆層の放射線照射量とを異ならせる。
(B)第一被覆層と第二被覆層に含まれる架橋剤の種類および含有量、架橋助剤の種類および含有量の一つ以上を異ならせる。
A method of manufacturing an electric wire, wherein a first coating layer and a second coating layer made of a crosslinkable material are formed adjacent to each other outside the conductor,
A method for producing an electric wire, characterized in that the following means (A) and (B) are used in combination in order to make the degree of cross-linking of both coating layers different.
(A) The first coating layer and the second coating layer are formed by independent extrusion processes, and the radiation crosslinking process is performed for each extrusion process. The radiation dosage of the first coating layer and the radiation dosage of the second coating layer And different.
(B) One or more of the types and contents of the crosslinking agents and the types and contents of the crosslinking aids contained in the first coating layer and the second coating layer are varied.
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