JP2005310636A - Organic el element inspection method and manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、有機物をパターニングしてフルカラーパネルを製造するにあたり、有機膜のパターニングが良好かどうかを検査する工程において、精度良く評価し、有機ＥＬパネル製造時により欠陥を少なくするための有機ＥＬ素子検査方法及び製造方法に関する。 In manufacturing a full color panel by patterning an organic material, the present invention evaluates with high accuracy in the process of inspecting whether the patterning of an organic film is good, and an organic EL element for reducing defects when manufacturing an organic EL panel The present invention relates to an inspection method and a manufacturing method.
従来の液晶ディスプレイに変わる表示装置として、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（有機ＥＬディスプレイ）の有効性が言われている。有機ＥＬディスプレイは、自発光式であるため液晶ディスプレイのようなバックライトが不要である。そのために、液晶ディスプレイと比較して消費電力が抑えられ、視野角が広く、応答性も速いために次世代のディスプレイとして研究開発が盛んに行われている。 The effectiveness of an organic electroluminescence display (organic EL display) is said to be a display device that replaces a conventional liquid crystal display. Since the organic EL display is a self-luminous type, a backlight like a liquid crystal display is unnecessary. For this reason, power consumption is reduced as compared with liquid crystal displays, wide viewing angles, and quick response. Therefore, research and development have been actively conducted as next-generation displays.
フルカラー有機ＥＬディスプレイを造るためにはＲＧＢの画素をそれぞれ異なる色の発光層で塗り分ける必要があり、従来メタルマスクを用いた蒸着等のドライプロセスによるパターニングが行われている。他にもフルカラー有機ＥＬディスプレイの製造方法としては、白色有機ＥＬ素子にカラーフィルターを用いる方法も実現されているが、ＲＧＢ各発行層のパターニングを行う必要はないものの発光効率が落ちると言う欠点がある。 In order to produce a full-color organic EL display, it is necessary to separately coat RGB pixels with light-emitting layers of different colors, and patterning is conventionally performed by a dry process such as vapor deposition using a metal mask. In addition, as a manufacturing method of a full color organic EL display, a method using a color filter for a white organic EL element has been realized. However, although there is no need to perform patterning of each RGB issue layer, there is a drawback that the luminous efficiency is lowered. is there.
ＲＧＢそれぞれの発光層を塗り分けた有機ＥＬディスプレイはカラーフィルター等を用いないために発光効率が非常に優れると言う利点がある。現在、有機材料としては低分子系材料を用いたドライプロセスによるパターニングと高分子系材料を用いたウェットプロセスによるパターニングが行われている。一般的に有機材料は水分に弱いとされており、ドライプロセスによる有機ＥＬ素子の製造が盛んに行われている。そして、ドライプロセスによるＲＧＢ各発光層のパターニングにはメタルマスクが必要不可欠である。 An organic EL display in which RGB light-emitting layers are separately coated has an advantage that light emission efficiency is extremely excellent because a color filter or the like is not used. Currently, patterning by a dry process using a low molecular weight material and patterning by a wet process using a high molecular weight material are performed as an organic material. In general, organic materials are considered to be weak against moisture, and organic EL elements are actively manufactured by a dry process. A metal mask is indispensable for patterning each of the RGB light emitting layers by a dry process.
しかしながら、微細なパターニングを行うためにはメタルマスクと基板の密着性を高くする必要がある。それは、マスクと基板の間に隙間があると、着膜時の膜形状がマスク開口面積より大きくなる傾向であり、塗分けを行う際に隣の画素部分まで着膜する恐れがある。 However, in order to perform fine patterning, it is necessary to increase the adhesion between the metal mask and the substrate. That is, if there is a gap between the mask and the substrate, the film shape at the time of film deposition tends to be larger than the mask opening area, and there is a possibility that the film is deposited up to the adjacent pixel portion when performing coating.
ＲＧＢ有機発光層のパターニングにおいて、非常に重要であるのがメタルマスクの配列精度、開口精度とメタルマスクと基板の密着性である。また、有機膜を成膜する際の温度上昇によるメタルマスク自身の熱膨張も関与していると考えられている。それらの要因により生じたＲＧＢ有機発光層のパターニング不良を確認する方法としては、従来実際に有機ＥＬ素子を発光させる事でしか評価及び検査はする方法はなかった。 In patterning the RGB organic light-emitting layer, the metal mask alignment accuracy, aperture accuracy, and adhesion between the metal mask and the substrate are very important. Further, it is considered that the thermal expansion of the metal mask itself due to the temperature rise when forming the organic film is also involved. As a method for confirming the patterning failure of the RGB organic light emitting layer caused by these factors, there has been a method for evaluating and inspecting only by actually making the organic EL element emit light.
ＲＧＢ有機発光層のパターニングの評価及び検査が困難な理由として、それぞれＲＧＢのパターニングを行わなければならない有機発光層は数十ｎｍと非常に膜厚が薄いためである。単膜での評価を行うためには実際の膜厚よりもかなり厚く着膜させる必要があった。なおマスクに関する技術としては特許文献１などを挙げることができる。
しかしながら、実際の有機ＥＬ素子に用いられる膜厚よりも厚く着膜させた場合、パターニング時の膜形状が異なる事がわかってきた。パターニング時の膜厚が厚くなると、蒸着時の有機膜の形状が台形になってしまい、画素内の膜厚が不均一になってしまう。そのために、実際の有機ＥＬ素子に用いられる膜厚での測定が必要不可欠である。また、有機ＥＬ素子での発光により評価するのではなく、各発光層単膜での評価が必要となってきた。 However, it has been found that the film shape at the time of patterning is different when deposited thicker than the film thickness used in actual organic EL elements. When the film thickness at the time of patterning becomes thick, the shape of the organic film at the time of vapor deposition becomes trapezoid, and the film thickness in the pixel becomes non-uniform. Therefore, it is indispensable to measure with a film thickness used for an actual organic EL element. In addition, it is necessary to evaluate each light emitting layer single film instead of evaluating by light emission from the organic EL element.
そこで、本発明は有機ＥＬ素子を製造するにあたり、実際の発光により評価及び検査をすることなく各発光層単膜での評価及び検査を可能とし、有機ＥＬ素子を製造するにあたり製造工程においても欠陥の発見を容易にする事のできる有機ＥＬ素子の検査方法及び製造方法を提供する事を目的とする。 Therefore, the present invention enables evaluation and inspection of each light emitting layer single film without evaluating and inspecting by actual light emission when manufacturing an organic EL element, and in manufacturing processes of organic EL elements, it is possible to obtain defects. An object of the present invention is to provide an inspection method and a manufacturing method of an organic EL element that can facilitate the discovery of the above.
上記の課題を解決すべく、本発明の有機ＥＬ素子検査方法において、画素ごとに配列された有機膜の各発光層におけるパターニング位置及び発光色の検出することを特徴とする。 In order to solve the above-described problems, the organic EL element inspection method of the present invention is characterized in that a patterning position and a light emission color in each light emitting layer of an organic film arranged for each pixel are detected.
また、画素ごとに配列された有機膜の各発光層におけるパターニング位置及び発光色の検出する有機ＥＬ素子検査方法において、紫外光を集光してスポット照射する事が好ましい。 Further, in the organic EL element inspection method for detecting the patterning position and the emission color in each light emitting layer of the organic film arranged for each pixel, it is preferable to collect ultraviolet light and perform spot irradiation.
さらに、画素ごとに配列された有機膜の各発光層におけるパターニング位置及び発光色の検出する有機ＥＬ素子検査方法において、光学的フィルターを用いることによりＵＶ光源から照射される可視光域波長を除外する事が好ましい。 Furthermore, in the organic EL element inspection method for detecting the patterning position and emission color in each light emitting layer of the organic film arranged for each pixel, the visible light region wavelength irradiated from the UV light source is excluded by using an optical filter. Things are preferable.
さらに、画素ごとに配列された有機膜の各発光層におけるパターニング位置及び発光色の検出する有機ＥＬ素子検査方法において、光学的フィルターを用いる事により可視光域波長のみを撮像素子に取り込む事が好ましい。 Furthermore, in the organic EL element inspection method for detecting the patterning position and emission color in each light emitting layer of the organic film arranged for each pixel, it is preferable to capture only the visible light wavelength in the imaging element by using an optical filter. .
加えて、画素ごとに配列された有機膜の各発光層におけるパターニング位置及び発光色の検出する有機ＥＬ素子検査方法において、有機膜の励起光を取り込み画像処理することが好ましい。 In addition, in the organic EL element inspection method in which the patterning position and the emission color in each light emitting layer of the organic film arranged for each pixel are detected, it is preferable to capture the excitation light of the organic film and perform image processing.
本発明によれば、有機ＥＬ素子を検査するにあたり、フォトルミネッセンスによる有機膜からの励起光を画像処理する事により、画素毎のパターニング検査を行う事が非常に容易になり、検査工程も簡略化することができると言う優れた高価を発揮する。 According to the present invention, when inspecting an organic EL element, it is very easy to perform patterning inspection for each pixel by performing image processing on excitation light from an organic film by photoluminescence, and the inspection process is also simplified. Demonstrate the excellent cost of being able to.
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明するが、本発明は本実施形態に限るものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments.
本実施形態の有機ＥＬ素子検査方法及び製造方法は、有機材料をメタルマスクにてパターニングした後の検査工程において実現され、フォトルミネッセンスを用いて評価する測定方法において、画素ごとに配列された有機膜の各発光層におけるパターニング位置及び発光色を検出することを特徴とする事で、飛躍的に効率よく評価及び検査を行う事が可能となり、より欠陥のない良好なフルカラー有機ＥＬディスプレイを製造する事ができるものである。 The organic EL element inspection method and the manufacturing method of the present embodiment are realized in an inspection process after patterning an organic material with a metal mask, and are organic films arranged for each pixel in a measurement method in which evaluation is performed using photoluminescence. By detecting the patterning position and emission color in each light-emitting layer, it becomes possible to perform evaluation and inspection dramatically more efficiently, and to produce a good full-color organic EL display with fewer defects. It is something that can be done.
図１は、本発明に係る有機ＥＬ素子検査方法を適用する有機ＥＬ素子検査装置の一例を示す模式図である。図１において、１はＵＶ光源、２はＵＶ光、３は有機膜、４は基板、５はハーフミラー、６は撮像レンズ、７はＣＣＤカメラである。 FIG. 1 is a schematic view showing an example of an organic EL element inspection apparatus to which an organic EL element inspection method according to the present invention is applied. In FIG. 1, 1 is a UV light source, 2 is UV light, 3 is an organic film, 4 is a substrate, 5 is a half mirror, 6 is an imaging lens, and 7 is a CCD camera.
例示した有機ＥＬ素子検査装置は、有機膜を励起させるためのＵＶ光源１と、該ＵＶ光源１から照射されるＵＶ光２と該ＵＶ光２を基板４に照射されるように調整されたハーフミラー５と、有機膜３からの励起光を取り込むためのＣＣＤカメラ７と、該ＣＣＤカメラ７の視野範囲を調整するための撮像レンズ６を備えている。
The illustrated organic EL element inspection apparatus includes a UV light source 1 for exciting an organic film, a UV light 2 emitted from the UV light source 1, and a half adjusted so that the substrate 4 is irradiated with the UV light 2. A
例示した有機ＥＬ素子検査装置は、ＵＶ光源１から発生したＵＶ光２はハーフミラー５により基板４へと照射される。基板４上には有機膜３がパターニングされていて、ＵＶ光２を照射する事により励起状態となり発光する。フォトルミネッセンスにより発生した励起光は撮像レンズ６を通りＣＣＤカメラ７によって撮像される。ＣＣＤカメラ７に取り込まれた画像により、パターニングの良否を判断する事が可能となる。
In the exemplified organic EL element inspection apparatus, the UV light 2 generated from the UV light source 1 is irradiated onto the substrate 4 by the
またＵＶ光源１から発生するＵＶ光２は集光レンズ８を用いてワークに対してスポット的に照射する事が好ましい。 Further, it is preferable that the UV light 2 generated from the UV light source 1 is applied to the workpiece in a spot manner using the condenser lens 8.
またＵＶ光源１から発生するＵＶ光２には多くの可視領域の波長を含んでいるため、紫外光域フィルター９を用いる事が好ましい。具体的には４００ｎｍ以上の波長を除外する事が好ましい。 Further, since the UV light 2 generated from the UV light source 1 includes many wavelengths in the visible region, it is preferable to use an ultraviolet light region filter 9. Specifically, it is preferable to exclude wavelengths of 400 nm or longer.
また、ＵＶ光２により有機膜３が励起して発生した光をＣＣＤカメラ７に取り込む際に可視光域フィルターを用いて撮像する事が好ましい。具体的には４００ｎｍ以下の波長を除外する事が好ましい。 Further, it is preferable to pick up an image using a visible light filter when the light generated by the excitation of the organic film 3 by the UV light 2 is taken into the CCD camera 7. Specifically, it is preferable to exclude wavelengths of 400 nm or less.
更に、ＵＶ光２によりＵＶ光２により有機膜３が励起して発生した光をＣＣＤカメラ７にて撮像し、画像処理をかけることが好ましい。 Further, it is preferable that the light generated by the UV film 2 excited by the organic film 3 is picked up by the CCD camera 7 and subjected to image processing.
このように従来の方法では評価及び検査が困難であった有機膜のパターニングに関しても、有機膜を励起状態にする事により単膜での評価も可能となり、有機ＥＬ素子として造らなくてもパターニングの検査が可能となる。すなわち有機ＥＬ素子として作製せずに単膜で評価できるために、電極等を設ける必要はない。 As described above, regarding the patterning of the organic film, which is difficult to evaluate and inspect by the conventional method, it is possible to evaluate the organic film by bringing the organic film into an excited state, and patterning can be performed without making an organic EL element. Inspection is possible. That is, since it can be evaluated as a single film without being produced as an organic EL element, it is not necessary to provide an electrode or the like.
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に限るものではない。 Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.
図１は、実施例１の有機ＥＬ素子検査装置を示しており、具体的にはＵＶ光を照射して有機膜からの励起光を得るフォトルミネッセンスを利用した検査装置において、本発明に関わる有機ＥＬ検査方法を適用する場合の模式図である。ＵＶ光２を有機膜３に照射して励起光を得て、有機膜３のパターニングを評価及び検査するものである。図１において、１はＵＶ光源、２はＵＶ光、３は有機膜、４は基板、５はハーフミラー、６は撮像レンズ、７はＣＣＤカメラである。 FIG. 1 shows an organic EL element inspection apparatus of Example 1, specifically, an inspection apparatus using photoluminescence that obtains excitation light from an organic film by irradiating UV light. It is a schematic diagram in the case of applying an EL inspection method. The organic film 3 is irradiated with UV light 2 to obtain excitation light, and the patterning of the organic film 3 is evaluated and inspected. In FIG. 1, 1 is a UV light source, 2 is UV light, 3 is an organic film, 4 is a substrate, 5 is a half mirror, 6 is an imaging lens, and 7 is a CCD camera.
今回測定に用いたワークはＨＯＹＡ ＮＡ３５無アルカリガラス上にＡｌｑ３を７０ｎｍパターニング蒸着したものである。基板サイズは５５０ｍｍ×６５０ｍｍ×０．７ｍｍである。ＵＶ光源はモリッテックス社製ＭＵＶ−２５０を用いて、φ７ｍｍのファイバーにてＵＶ光の照射を行った。撮像するＣＣＤカメラ７は１／２インチカラーカメラを用い、撮像レンズ６は２倍の固定倍率レンズを用いた。 The workpiece used for the measurement was obtained by depositing Alq3 by 70 nm patterning on HOYA NA35 alkali-free glass. The substrate size is 550 mm × 650 mm × 0.7 mm. The UV light source used was Mirtex Corp. MUV-250 and irradiated with UV light with a 7 mm diameter fiber. The CCD camera 7 for imaging was a 1/2 inch color camera, and the imaging lens 6 was a 2 × fixed magnification lens.
上記の効果を確認する方法として、画像処理を行う事により確認を行った。画像処理は２値化によりエッジ検出を行い、１０回の繰り返し精度を求めた。測定条件と結果を表１に示す。 As a method of confirming the above effect, confirmation was performed by performing image processing. In image processing, edge detection was performed by binarization, and the accuracy of 10 repetitions was obtained. Table 1 shows the measurement conditions and results.
図２は、実施例２の有機ＥＬ素子検査装置を示しており、具体的にはＵＶ光を照射して有機膜からの励起光を得るフォトルミネッセンスを利用した検査装置において、本発明に関わる有機ＥＬ検査方法を適用する場合の模式図である。ＵＶ光源１から発生するＵＶ光２においてＵＶ光集光レンズ８を用いてＵＶ光２を集光させる。ＵＶ光２を有機膜３に照射して励起光を得て、有機膜３のパターニングを評価及び検査するものである。図１において、１はＵＶ光源、２はＵＶ光、３は有機膜、４は基板、５はハーフミラー、６は撮像レンズ、７はＣＣＤカメラ、８はＵＶ光集光レンズである。 FIG. 2 shows an organic EL element inspection apparatus according to the second embodiment. Specifically, in an inspection apparatus using photoluminescence that obtains excitation light from an organic film by irradiating UV light, the organic EL element according to the present invention is used. It is a schematic diagram in the case of applying an EL inspection method. The UV light 2 generated from the UV light source 1 is condensed using the UV light condensing lens 8. The organic film 3 is irradiated with UV light 2 to obtain excitation light, and the patterning of the organic film 3 is evaluated and inspected. In FIG. 1, 1 is a UV light source, 2 is UV light, 3 is an organic film, 4 is a substrate, 5 is a half mirror, 6 is an imaging lens, 7 is a CCD camera, and 8 is a UV light condensing lens.
今回測定に用いたワークはＨＯＹＡ ＮＡ３５無アルカリガラスにＡｌｑ３を７０ｎｍパターニング蒸着したものである。基板サイズは３６０ｍｍ×４６０ｍｍ×０．７ｍｍである。ＵＶ光源はモリッテックス社製ＭＵＶ−２５０を用いて、φ５ｍｍのファイバーからＵＶ光集光レンズ８を用いてＵＶ光２の照射を行った。撮像するＣＣＤカメラ７は１／２インチカラーカメラを用い、撮像レンズ６は２倍の固定倍率レンズを用いた。 The workpiece used for the measurement was obtained by depositing Alq3 by 70 nm patterning on HOYA NA35 alkali-free glass. The substrate size is 360 mm × 460 mm × 0.7 mm. The UV light source used was Mirtex Corp. MUV-250, and UV light 2 was irradiated from a φ5 mm fiber using the UV light condenser lens 8. The CCD camera 7 for imaging was a 1/2 inch color camera, and the imaging lens 6 was a 2 × fixed magnification lens.
上記の効果を確認する方法として、画像処理を行う事により確認を行った。画像処理は２値化によりエッジ検出を行い、１０回の繰り返し精度を求めた。ＵＶ光集光レンズ８を用いる事によりスポット照射が可能となり、ＵＶ光源１の出力は少なくてもよい。測定条件と結果を表２に示す。 As a method of confirming the above effect, confirmation was performed by performing image processing. In image processing, edge detection was performed by binarization, and the accuracy of 10 repetitions was obtained. Spot irradiation is possible by using the UV light condensing lens 8, and the output of the UV light source 1 may be small. Table 2 shows the measurement conditions and results.
図３は、実施例３の有機ＥＬ素子検査装置を示しており、具体的にはＵＶ光を照射して有機膜からの励起光を得るフォトルミネッセンスを利用した検査装置において、本発明に関わる有機ＥＬ検査方法を適用する場合の模式図である。ＵＶ光源１から発生するＵＶ光２においてＵＶ光集光レンズ８を用いてＵＶ光２を集光させる。ＵＶ光２を有機膜３に照射して励起光を得て、有機膜３のパターニングを評価及び検査するものである。図１において、１はＵＶ光源、２はＵＶ光、３は有機膜、４は基板、５はハーフミラー、６は撮像レンズ、７はＣＣＤカメラ、８はＵＶ光集光レンズ、９は紫外光域フィルターである。 FIG. 3 shows an organic EL element inspection apparatus according to Example 3. Specifically, in an inspection apparatus using photoluminescence that obtains excitation light from an organic film by irradiating UV light, the organic EL element according to the present invention is used. It is a schematic diagram in the case of applying an EL inspection method. The UV light 2 generated from the UV light source 1 is condensed using the UV light condensing lens 8. The organic film 3 is irradiated with UV light 2 to obtain excitation light, and the patterning of the organic film 3 is evaluated and inspected. In FIG. 1, 1 is a UV light source, 2 is UV light, 3 is an organic film, 4 is a substrate, 5 is a half mirror, 6 is an imaging lens, 7 is a CCD camera, 8 is a UV light condensing lens, and 9 is ultraviolet light. A bandpass filter.
今回測定に用いたワークはＨＯＹＡ ＮＡ３５無アルカリガラスにＡｌｑ３を７０ｎｍパターニング蒸着したものである。基板サイズは５５０ｍｍ×６５０ｍｍ×０．７ｍｍである。ＵＶ光源はモリッテックス社製ＭＵＶ−２５０を用いて、φ７ｍｍのファイバーからＵＶ光集光レンズ８を用い、更に紫外光域フィルター９からＵＶ光の照射を行った。ＵＶ光集光レンズ８を用いる事により、スポット照射が可能となり、更に紫外光域フィルター９を用いる事でＵＶ光源１から発生する可視光域の波長を除外することができる。撮像するＣＣＤカメラ７は１／２インチカラーカメラを用い、撮像レンズ６は２倍の固定倍率レンズを用いた。 The workpiece used for the measurement was obtained by depositing Alq3 by 70 nm patterning on HOYA NA35 alkali-free glass. The substrate size is 550 mm × 650 mm × 0.7 mm. As the UV light source, MUV-250 manufactured by Morritex was used. The UV light collecting lens 8 was used from a fiber having a diameter of 7 mm, and UV light was further irradiated from the ultraviolet light filter 9. By using the UV light condensing lens 8, it becomes possible to perform spot irradiation, and by using the ultraviolet light region filter 9, the wavelength in the visible light region generated from the UV light source 1 can be excluded. The CCD camera 7 for imaging was a 1/2 inch color camera, and the imaging lens 6 was a 2 × fixed magnification lens.
上記の効果を確認する方法として、画像処理を行う事により確認を行った。画像処理は２値化によりエッジ検出を行い、１０回の繰り返し精度を求めた。ＵＶ光源１から発生する可視光域の波長を除外できるため、有機膜３からの励起光を効率よく撮像する事が可能となった。測定条件と結果を表３に示す。 As a method of confirming the above effect, confirmation was performed by performing image processing. In image processing, edge detection was performed by binarization, and the accuracy of 10 repetitions was obtained. Since the visible light wavelength generated from the UV light source 1 can be excluded, the excitation light from the organic film 3 can be efficiently imaged. Table 3 shows the measurement conditions and results.
図４は、実施例４の有機ＥＬ素子検査装置を示しており、具体的にはＵＶ光を照射して有機膜からの励起光を得るフォトルミネッセンスを利用した検査装置において、本発明に関わる有機ＥＬ検査方法を適用する場合の模式図である。ＵＶ光源１から発生するＵＶ光２においてＵＶ光集光レンズ８を用いてＵＶ光２を集光させる。ＵＶ光２を有機膜３に照射して励起光を得て、有機膜３のパターニングを評価及び検査するものである。図１において、１はＵＶ光源、２はＵＶ光、３は有機膜、４は基板、５はハーフミラー、６は撮像レンズ、７はＣＣＤカメラ、８はＵＶ光集光レンズ、９は紫外光域フィルター、１０は可視光域フィルターである。 FIG. 4 shows an organic EL element inspection apparatus of Example 4. Specifically, in an inspection apparatus using photoluminescence that obtains excitation light from an organic film by irradiating UV light, the organic EL element according to the present invention is used. It is a schematic diagram in the case of applying an EL inspection method. The UV light 2 generated from the UV light source 1 is condensed using the UV light condensing lens 8. The organic film 3 is irradiated with UV light 2 to obtain excitation light, and the patterning of the organic film 3 is evaluated and inspected. In FIG. 1, 1 is a UV light source, 2 is UV light, 3 is an organic film, 4 is a substrate, 5 is a half mirror, 6 is an imaging lens, 7 is a CCD camera, 8 is a UV light condensing lens, and 9 is ultraviolet light. The pass filter 10 is a visible light filter.
今回測定に用いたワークはＨＯＹＡ ＮＡ３５無アルカリガラスにＡｌｑ３を７０ｎｍパターニング蒸着したものである。基板サイズは３６０ｍｍ×４６０ｍｍ×０．７ｍｍである。ＵＶ光源はモリッテックス社製ＭＵＶ−２５０を用いて、φ７ｍｍのファイバーからＵＶ光集光レンズ８を用い、更に紫外光域フィルター９からＵＶ光の照射を行った。ＵＶ光集光レンズ８を用いる事により、スポット照射が可能となり、更に紫外光域フィルターを用いる事でＵＶ光源１から発生する可視光域の波長を除外することができる。撮像するＣＣＤカメラ７は１／２インチカラーカメラを用い、レンズ６は２倍の固定倍率レンズを用いた。有機膜３からの励起光をＣＣＤカメラ７で撮像するにあたり、可視光域フィルター１０を用いてＵＶ光２による影響を少なくした。 The workpiece used for the measurement was obtained by depositing Alq3 by 70 nm patterning on HOYA NA35 alkali-free glass. The substrate size is 360 mm × 460 mm × 0.7 mm. As the UV light source, MUV-250 manufactured by Morritex was used. The UV light collecting lens 8 was used from a fiber having a diameter of 7 mm, and UV light was further irradiated from the ultraviolet light filter 9. By using the UV light condensing lens 8, it becomes possible to perform spot irradiation, and by using an ultraviolet light region filter, the wavelength in the visible light region generated from the UV light source 1 can be excluded. The CCD camera 7 for imaging was a 1/2 inch color camera, and the lens 6 was a 2 × fixed magnification lens. When imaging the excitation light from the organic film 3 with the CCD camera 7, the visible light region filter 10 was used to reduce the influence of the UV light 2.
上記の効果を確認する方法として、画像処理を行う事により確認を行った。画像処理は２値化によりエッジ検出を行い、１０回の繰り返し精度を求めた。紫外光域フィルター９を用いる事により、ＵＶ光源１から発生する可視光域の波長を除外できるため、有機膜３からの励起光を効率よく撮像する事が可能となった。また、ＣＣＤカメラ７で撮像するにあたり、可視光域フィルター１０を用いたため、ＵＶ光２による影響を除去する事ができた。測定条件と結果を表４に示す。 As a method of confirming the above effect, confirmation was performed by performing image processing. In image processing, edge detection was performed by binarization, and the accuracy of 10 repetitions was obtained. By using the ultraviolet light region filter 9, the wavelength in the visible light region generated from the UV light source 1 can be excluded, so that the excitation light from the organic film 3 can be efficiently imaged. Moreover, since the visible light region filter 10 was used for imaging with the CCD camera 7, the influence of the UV light 2 could be removed. Table 4 shows the measurement conditions and results.
実施例１乃至実施例４の有機ＥＬ素子検査装置及び検査方法を用いて、有機ＥＬ製造装置に導入した例である。各発光層をパターニング蒸着した後の着膜エリアについて検査を行った。その結果を表５に示す。表中の◎、○、△、×の意味を次に示す。
◎：各発光色において良好な画像処理を行う事ができた。
This is an example in which the organic EL element inspection apparatus and inspection method of Examples 1 to 4 are used to introduce an organic EL manufacturing apparatus. The film deposition area after patterning vapor deposition of each light emitting layer was inspected. The results are shown in Table 5. The meanings of ◎, ○, Δ, × in the table are as follows.
A: Good image processing could be performed for each emission color.
○：一部ばらつきが大きいが、略良好な画像処理を行う事ができた。 ○: Some variation was large, but substantially good image processing could be performed.
△：画像を取り込むことは可能であるが、画像処理をしたときにばらつきが比較的大きい。 Δ: An image can be captured, but variation is relatively large when image processing is performed.
×：画像処理が行えなかった。 X: Image processing could not be performed.
有機ＥＬ素子製造に関する検査に関しては、フォトルミネッセンスを用いて励起光を画像処理して検査を行う事が非常に有効である。 Regarding the inspection relating to the manufacture of the organic EL element, it is very effective to perform the inspection by performing image processing on the excitation light using photoluminescence.
１ ＵＶ光源
２ ＵＶ光
３ 有機膜
４ 基板
５ ハーフミラー
６ 撮像レンズ
７ ＣＣＤカメラ
８ 集光レンズ
９ 紫外光域フィルター
１０ 可視光域フィルター
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 UV light source 2 UV light 3 Organic film 4 Board |
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101101132B1 (en) | 2007-11-23 | 2012-01-12 | 삼성엘이디 주식회사 | LED inspection apparatus and inspection method using the same |
| KR101292150B1 (en) * | 2006-11-29 | 2013-08-09 | 엘지디스플레이 주식회사 | Method for fabricating and system for inspecting organic electro-luminescent panel |
| JP2013211139A (en) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Hitachi High-Technologies Corp | Deposition device and deposition method |
| US8628982B2 (en) | 2010-02-22 | 2014-01-14 | Samsung Display Co., Ltd. | Method of depositing and inspecting an organic light emitting display panel |
-
2004
- 2004-04-23 JP JP2004128063A patent/JP2005310636A/en not_active Withdrawn
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