JP2005300628A - Exposure apparatus having local alignment function - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、被描画体に所定のパターンを描画する露光装置に関し、特に単一の基板上に複数のパターンの描画を行う露光装置に関する。 The present invention relates to an exposure apparatus that draws a predetermined pattern on an object to be drawn, and more particularly to an exposure apparatus that draws a plurality of patterns on a single substrate.
従来の描画の代表例としては、フォトリゾグラフィの手法によるプリント回路基板への回路パターンの印刷が挙げられる。この場合、被描画体は、上面にフォトレジスト層を形成された基板であり、描画装置により、基板上のフォトレジスト層に面付パターンが描画される。そして、回路パターン(面付パターン)の描画の後、種々の処理が施されることによりプリント回路基板が得られる。 A typical example of conventional drawing is printing of a circuit pattern on a printed circuit board by a photolithographic technique. In this case, the object to be drawn is a substrate having a photoresist layer formed on the upper surface, and an imposition pattern is drawn on the photoresist layer on the substrate by a drawing apparatus. And after drawing a circuit pattern (surface pattern), a printed circuit board is obtained by performing various processes.
面付パターンは、プリント基板上の予め定められた位置に描画される必要があるが、基板には、描画後の熱処理などにより微細な変形を生じる。そこで、例えば、基板上の四隅といった所定の位置に予め位置決めマークを設け、基板の変形による位置決めマークの位置ずれを予め測定し、この位置ずれを補正することにより、面付パターンの描画位置は調整されている。 The imposition pattern needs to be drawn at a predetermined position on the printed circuit board, but the substrate undergoes minute deformation due to heat treatment after the drawing. Therefore, for example, positioning marks are set in advance at predetermined positions such as the four corners on the substrate, the positional deviation of the positioning marks due to the deformation of the substrate is measured in advance, and the positional deviation is corrected by correcting the positional deviation. Has been.
また、比較的小さなサイズの面付パターンをいくつか含む領域(以下、描画領域という)を複数個、同一基板上に割付ける場合には、それぞれの描画領域の位置を補正するための位置決めマークが設けられる。そして、各描画領域の重心位置のずれを検出し、基板上での各描画領域の配置を修正することにより、描画位置を補正することが知られている(例えば特許文献1参照)。
各描画領域の重心のずれに基づいて、基板に対する描画領域の配置のみを修正した場合、描画領域自体の変形を反映した補正は施されない。従って、複数の方向に沿って延びを生じるなど、基板が複雑に変形した場合、描画領域内の歪やゆがみが問題となる可能性があり、正確なアライメント補正が困難である。 When only the arrangement of the drawing area with respect to the substrate is corrected based on the shift of the center of gravity of each drawing area, correction that reflects the deformation of the drawing area itself is not performed. Therefore, when the substrate is deformed in a complicated manner such as extending along a plurality of directions, distortion and distortion in the drawing region may become a problem, and accurate alignment correction is difficult.
そこで本発明においては、複数の描画領域を同一基板上に描画する場合において、描画領域ごとの配置の修正に加え、各描画領域自体に生じる変形についても個別に補正することにより、高精度の描画位置調整が可能である露光装置の提供を目的とする。 Therefore, in the present invention, when drawing a plurality of drawing areas on the same substrate, in addition to correcting the arrangement of each drawing area, the deformation generated in each drawing area itself is individually corrected, thereby enabling high-precision drawing. An object of the present invention is to provide an exposure apparatus capable of adjusting the position.
本発明の露光装置は、面付パターンを含む複数の描画領域の位置と輪郭とを定めるためのマークが表面に表された被描画体を描画する。露光装置は、マークの実際の位置を検出するマーク位置検出手段と、マークの実際の位置を示すマーク位置データを生成するマーク位置データ生成手段と、面付パターンを被描画体の表面に露光させて描画する描画手段を備える。露光装置は、さらに、描画すべき面付パターンを示すベクタデータと、マークの本来の位置を示すマーク位置情報とを含む描画データを記録する描画データ記録手段と、描画データを読出す描画データ読出し手段と、マーク位置データに基づいて実際の描画領域の位置と輪郭とを検出し、実際の描画領域の位置と輪郭とに基づいて、描画データを、対応する描画領域ごとに補正して補正描画データとする描画データ補正手段とを備え、、補正描画データに基づいて、面付パターンを被描画体に露光させて描画する。 The exposure apparatus of the present invention draws an object to be drawn on which marks for defining the positions and contours of a plurality of drawing areas including an imposition pattern are represented on the surface. An exposure apparatus exposes a surface of a drawing object with mark position detection means for detecting an actual position of the mark, mark position data generation means for generating mark position data indicating the actual position of the mark, and an imposition pattern. Drawing means for drawing. The exposure apparatus further includes drawing data recording means for recording drawing data including vector data indicating an imposition pattern to be drawn and mark position information indicating an original position of the mark, and drawing data reading for reading the drawing data Detecting the actual drawing area position and contour based on the means and the mark position data, and correcting the drawing data by correcting the drawing data for each corresponding drawing area based on the actual drawing area position and contour Drawing data correction means for data, and draws the imposition pattern on the object to be drawn based on the corrected drawing data.
描画データ補正手段は、実際の描画領域と、描画データにおける描画領域とのサイズ比と、重心の位置の差と、描画データにおける描画領域に対する実際の描画領域の回転角とに基づいて、描画データを補正して補正描画データとすることが好ましい。 The drawing data correction means determines whether the drawing data is based on the size ratio between the actual drawing area and the drawing area in the drawing data, the difference in the position of the center of gravity, and the rotation angle of the actual drawing area with respect to the drawing area in the drawing data. Is preferably used as corrected drawing data.
描画領域は、例えば、矩形状の領域を有する。また、マークは、描画領域の端部にあることが好ましく、描画領域ごとに少なくとも3つあることがさらに好ましい。 The drawing area has, for example, a rectangular area. Further, the mark is preferably at the end of the drawing area, and more preferably at least three for each drawing area.
露光装置は、被描画体を設置するための描画テーブルと、描画テーブルを所定の方向に移動させる被描画体移動手段とをさらに有することが望ましく、マーク位置検出手段は、例えば、所定の方向に移動する被描画体を撮影するカメラである。この場合、マーク位置データ生成手段は、カメラの撮影範囲の座標系におけるマークの位置に基づいて、マーク位置データを生成することが好ましい。 The exposure apparatus preferably further includes a drawing table for installing the drawing object, and a drawing object moving unit that moves the drawing table in a predetermined direction. The mark position detection unit includes, for example, a predetermined direction. This is a camera for photographing a moving drawing object. In this case, it is preferable that the mark position data generation unit generates the mark position data based on the position of the mark in the coordinate system of the shooting range of the camera.
描画データ補正手段は、描画データを、対応する描画領域ごとに補正した後に単一の補正描画データとすることが望ましい。この場合、描画手段は、全ての面付パターンを被描画体に連続的に露光させて描画することがより望ましい。 It is desirable that the drawing data correction unit corrects the drawing data for each corresponding drawing area and sets it as a single corrected drawing data. In this case, it is more desirable that the drawing unit draws all the imposition patterns by continuously exposing the drawing object to the drawing object.
本発明の描画方法は、面付パターンを含む複数の描画領域の位置と輪郭とを定めるマークが表面に表された被描画体を描画する方法である。描画方法においては、描画すべき面付パターンを示すベクタデータと、マークの本来の位置を示すマーク位置情報とを含む描画データを記録し、描画データを読出し、描画データに基づいてマークの実際の位置を検出し、マークの実際の位置を示すマーク位置データを生成し、マーク位置データに基づき、実際の描画領域の位置と輪郭とを検出し、実際の描画領域の位置と輪郭とに基づいて、描画データを、対応する描画領域ごとに補正して補正描画データとして、補正描画データとする。露光装置は、補正描画データに基づいて面付パターンを被描画体に露光させて描画する。 The drawing method of the present invention is a method of drawing an object to be drawn in which marks that define the positions and contours of a plurality of drawing regions including an imposition pattern are represented on the surface. In the drawing method, the drawing data including the vector data indicating the imposition pattern to be drawn and the mark position information indicating the original position of the mark is recorded, the drawing data is read out, and the actual mark is determined based on the drawing data. Detects the position, generates mark position data indicating the actual position of the mark, detects the position and contour of the actual drawing area based on the mark position data, and based on the position and contour of the actual drawing area The drawing data is corrected for each corresponding drawing area to obtain corrected drawing data as corrected drawing data. The exposure apparatus draws the imposition pattern by exposing the object to be drawn based on the corrected drawing data.
本発明によれば、同一基板上にある各描画領域の配置の修正に加え、描画領域内に生じる変形についても補正し、高精度の描画が可能な露光装置を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide an exposure apparatus capable of performing highly accurate drawing by correcting the deformation in the drawing area in addition to correcting the arrangement of each drawing area on the same substrate.
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。図1は、本実施形態の露光装置10を概略的に示す図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 schematically shows an
露光装置10は、被描画体を露光させて描画する描画装置14と、描画すべき面付パターンを示すベクタデータ等を含む描画データの編集や、描画装置14への送信を行う描画制御部12とを備える。描画制御部12は、第1シーケンス制御部18、通信処理部20、制御部側データ処理部22、データ記録部23を備える。ユーザは、描画制御部12の操作パネル16を操作することにより、描画制御部12に所定の指示を与える。第1シーケンス制御部18は、操作パネル16を介したユーザの指示に基づいて、描画装置14に対する様々な指示信号を通信処理部20に送信させ、制御部側データ処理部22に描画データを処理させる。データ記録部23は、描画データを記録する。
The
描画装置14は、第2シーケンス制御部24、装置側データ処理部26等を備える。第2シーケンス制御部24は、通信処理部20から送信される指示信号に従って、装置側データ処理部26、計測制御部28、描画テーブル制御部30、露光制御部32を制御する。装置側データ処理部26は、第2シーケンス制御部24を介して描画データを受信し、この描画データに基づいて、被描画体上に描画するためのイメージ画像データ等を生成する。計測制御部28は、補正前の描画データに基づき、被描画体上に予め設けられているアライメント穴の位置を検出するために、穴計測用カメラ(ここでは図示せず)がアライメント穴を撮影するように制御する。また、描画テーブル制御部30は、被描画体が設置された描画テーブル36の移動を制御する。露光制御部32は、被描画体の露光のために、ビーム光を照射する光源37を制御する。
The
図2は、描画テーブル36に設置された被描画体を示す上面図である。 FIG. 2 is a top view showing the drawing object installed on the drawing table 36.
表面が矩形板状である被描画体38は、原点Pを基準とする描画テーブル36のX―Y座標系(以下、描画座標系という)のX軸、及びY軸に輪郭が平行になるように、描画テーブル36上に設置される。また、被描画体38には、描画データの補正のための基準の穴である第1〜第16アライメント穴40〜55が開けられている。被描画体38の表面に描画されるべき面付パターンは、それぞれ同じ矩形状の領域を有する独立した4つの領域である第1〜第4描画領域60〜63に分かれている。第1〜第16アライメント穴40〜55は、X軸に平行な4本の直線と、Y軸に平行な4本の直線上にあるように、第1〜第4描画領域60〜63の端部に設けられている。ここでは、第1〜第4描画領域60〜63に、F字型のいずれも同じ面付パターンが形成される。
The
データ記録部23に記録されている描画データには、描画装置14が被描画体に描画すべき面付パターンを示すベクタデータと共に、被描画体38の設置位置を示す被描画体情報と、被描画体38に設けられた第1〜第16アライメント穴40〜55の位置等を示す情報である穴情報とが含まれる。すなわち、第1〜第4描画領域60〜63のそれぞれにF字型の図形を描くためのベクタデータに加え、被描画体38の端点Qが配置されるべき位置を示す描画座標系上の座標(BOX、BOY)、(1)式および(2)式に例示する第1〜第16アライメント穴40〜55の数HN、径HR、および被描画体38において端点Qを原点とした座標系(以下、被描画体座標系という)において第1〜第16アライメント穴40〜55の中心点が位置すべき座標を含む。
HN=16 ・・・(1)
HR=1.0(mm) ・・・(2)
The drawing data recorded in the
HN = 16 (1)
HR = 1.0 (mm) (2)
図3は、描画テーブル36に設置された被描画体38を示す上面図であり、図4は、描画テーブル36に設置された被描画体38を示す斜視図である。図5は、被描画体38の撮影のために描画テーブル36が移動する移動量を示す図である。
FIG. 3 is a top view showing a
第1〜第16アライメント穴40〜55は、処理工程によって被描画体38に生じる微細な変形量を予め把握するために設けられ、被描画体38には、実際の処理工程が予め施されている。このため、描画データに含まれる、第1〜第16アライメント穴40〜55の中心点が位置すべき点H[G][N]の座標(HX[G][N]、HY[G][N])(図3参照)は、実際に計測された被描画体38上の第1〜第16アライメント穴40〜55の中心位置の座標とは、わずかに異なっている。
The first to
なお、「G」及び「N」は、添字であって、「G」は、第1〜第4描画領域60〜63に対応する描画領域番号、「N」は、各描画領域内のアライメント穴を識別する穴番号である。そして、いずれも0〜3の4つの整数である描画領域番号「G」及び穴番号「N」を用いて、全てのアライメント穴の座標を識別する。すなわち、第1描画領域60の第1〜第4アライメント穴40〜43の中心が位置すべき点は、描画領域番号G=0を用いて、H[0][0](HX[0][0]、HY[0][0])〜H[0][3](HX[0][3]、HY[0][3])と表し、第2描画領域61に含まれる第5〜第8アライメント穴44〜47の中心が位置すべき点は、描画領域番号G=1を用いて、H[1][0](HX[1][0]、HY[1][0])〜H[1][3](HX[1][3]、HY[1][3])として表す。以下、第3、及び第4描画領域62、63についても同様である。
“G” and “N” are subscripts, “G” is a drawing area number corresponding to the first to
以下に説明するように、第1〜第16アライメント穴40〜55の実際の位置と、本来位置すべき位置との差を算出することにより、第1〜第4描画領域60〜63の各描画データが補正される。なお、第1〜第16アライメント穴40〜55の位置のずれの算出は、装置側データ処理部26で行われ、描画データの補正は、後述のように、制御部側データ処理部22にて実施される。
As will be described below, each drawing in the first to
まず、実際の被描画体上の第1〜第16アライメント穴40〜55を撮影するために、描画データが、制御部側データ処理部22、通信処理部20、第2シーケンス制御部24を介して制御部側データ処理部22に送られる。そして、(3)式及び(4)式に示すように、第1〜第16アライメント穴40〜55の中心点が位置すべき点H[G][N]の座標(HX[G][N]、HY[G][N])に、被描画体38の端点Qの座標(BOX、BOY)が加算され、被描画体座標系における座標(HX[G]、HY[N])が、描画座標系の座標(HX’[G][N]、HY’[G][N])に変換される。
HX’[G][N]=HX[G][N]+BOX(G、N=0、1、2、3)・・(3)
HY’[G][N]=HY[G][N]+BOY(G、N=0、1、2、3)・・(4)
First, in order to photograph the first to sixteenth alignment holes 40 to 55 on the actual drawing object, drawing data is transmitted via the control unit side
HX ′ [G] [N] = HX [G] [N] + BOX (G, N = 0, 1, 2, 3) (3)
HY ′ [G] [N] = HY [G] [N] + BOY (G, N = 0, 1, 2, 3) (4)
続いて、第2シーケンス制御部24は、第1〜第16アライメント穴40〜55の描画座標系における座標(HX’[G][N]、HY’[G][N])に基づいて計測制御部28と描画テーブル制御部30とを制御して、以下のように、第1〜第3穴計測用カメラ56〜58(図3および図4参照)に第1〜第16アライメント穴40〜55を撮影させる。
Subsequently, the second
描画テーブル制御部30は、描画テーブル36を矢印Aが示すX軸の正の方向に沿って移動させ、第1〜第16アライメント穴40〜55のいずれかが、第1〜第3穴計測用カメラ56〜58の撮影範囲内に位置したところで描画テーブル36を停止させる。そして、計測制御部28の制御のもと、第1〜第3穴計測用カメラ56〜58が各撮影範囲56A〜58Aに含まれる第1〜第16アライメント穴40〜55のいずれかを撮影する。この描画テーブル36の移動距離である第1〜第3移動距離X1〜X3が、後述のように算出される。なお、第1〜第3穴計測用カメラ56〜58は、描画座標系のY軸と平行に設置されていて、描画座標系における第1〜第3穴計測用カメラ56〜58の撮影範囲の中心のX座標はいずれも等しく、これらのX座標は、COXで表される(図5参照)。
The drawing
描画テーブル制御部30は、被描画体38の設置後、まず、第11及び第12アライメント穴50、51、第15及び第16アライメント穴54、55(以下、第1アライメント穴群という)を撮影するために、これらの中心点のX座標であるHX3が、第1〜第3穴計測用カメラ56〜58のX座標COXと一致するまで、描画テーブル36を移動させる。従って、描画テーブル36の最初の移動量である第1移動距離X1は、(5)式が示すように算出される。なお、第1アライメント穴群の各アライメント穴のX座標は、被描画体38の変形に伴ってわずかに異なる可能性があるため、予め定めておいた第1アライメント穴群のいずれか一つの位置に基づいて第1移動距離X1を算出する。以下の移動量の算出においても同様である。
X1=COX−HX3 ・・・(5)
描画テーブル36が、第1移動距離X1だけ移動して停止すると、第1〜第3穴計測用カメラ56〜58が、第1アライメント穴群を撮影する。
The drawing
X1 = COX−HX3 (5)
When the drawing table 36 moves by the first movement distance X1 and stops, the first to third
この撮影結果に基づいて、描画座標系における第1アライメント穴群に属する第11及び第12アライメント穴50、51、第15及び第16アライメント穴54、55の中心点の実際の位置を示す座標(hx[G] [N]、hy[G] [N])が、以下のように算出される。まず、第1〜第3穴計測用カメラ56〜58の各撮影範囲である、第1〜第3撮影範囲56A〜58Aにおける、原点Rを有する座標系(以下、撮影座標系という)におけるアライメント穴の中心点(cx[G] [N]、cy[G] [N])が占める位置が、アライメント穴の径HRを用いた撮影画像の解析によって算出される。第1穴計測用カメラ56の第1撮影範囲56A内で撮影された第11アライメント穴51を例にすると、描画座標系における位置が(hx[2] [3]、hy[2] [3])である中心点の撮影座標系における座標は、(cx[2] [3]、cy[2] [3])となる(図5参照)。
Based on this imaging result, coordinates indicating the actual positions of the center points of the eleventh and twelfth alignment holes 50 and 51, the fifteenth and sixteenth alignment holes 54 and 55 belonging to the first alignment hole group in the drawing coordinate system ( hx [G] [N], hy [G] [N]) are calculated as follows. First, alignment holes in a coordinate system having an origin R (hereinafter referred to as an imaging coordinate system) in the first to third imaging ranges 56A to 58A, which are the imaging ranges of the first to third
なお、撮影座標系の原点RのX座標は、描画座標系における第1〜第3穴計測用カメラ56〜58のX座標であるCOXと一致する。また、第1〜第3穴計測用カメラ56〜58は、設置場所が異なるものの、いずれも同一のカメラであるため、第2撮影範囲57A、及び第3撮影範囲58Aについても、第1撮影範囲56Aと同じ座標系が定義される。従って、第11及び第12アライメント穴50、51、第15及び第16アライメント穴54、55の中心点の実際の位置を示す座標(hx[G] [N]、hy[G] [N])は、(6)式および(7)式のように示される。
hx[G] [N]=COX−HX3+cx[G] [N] ・・・(6)
hy[G] [N]=cy[G] [N] ・・・(7)
Note that the X coordinate of the origin R in the imaging coordinate system coincides with COX, which is the X coordinate of the first to third
hx [G] [N] = COX−HX3 + cx [G] [N] (6)
hy [G] [N] = cy [G] [N] (7)
第1アライメント穴群の撮影に続き、第3及び第4アライメント穴42、43、第7〜第10アライメント穴46〜49、第13及び第14アライメント穴52、53(以下第2アライメント穴群という)が撮影される。このため、描画テーブル制御部30は、第3及び第4アライメント穴42、43、第7、第8アライメント穴46、47の中心点のX座標であるHX2が、第1〜第3穴計測用カメラ56〜58のX座標COXと一致するまで、描画テーブル36を移動させる。よって、描画テーブル36の2回目の移動量である第2移動距離X2は、(8)式が示すように算出される。
X2=HX3−HX2 ・・・(8)
描画テーブル36が、第2移動距離X2だけ移動して停止すると、第1〜第3穴計測用カメラ56〜58が第2アライメント穴群を撮影する。
Following the photographing of the first alignment hole group, the third and fourth alignment holes 42 and 43, the seventh to tenth alignment holes 46 to 49, the thirteenth and fourteenth alignment holes 52 and 53 (hereinafter referred to as the second alignment hole group). ) Is shot. For this reason, the drawing
X2 = HX3-HX2 (8)
When the drawing table 36 moves and stops by the second movement distance X2, the first to third
撮影結果に基づいて、描画座標系における第2アライメント穴群に属する各アライメント穴の中心点の実際の位置を示す座標(hx[G] [N]、hy[G] [N])が、第1アライメント穴群と同様に算出され、(9)式および(10)式のように示される。
hx[G] [N]=COX−HX2+cx[G] [N] ・・・(9)
hy[G] [N]=cy[G] [N] ・・・(10)
なお、第2アライメント穴群のうち、中心点のX座標の値が同一である第9及び第10アライメント穴48、49、第13及び第14アライメント穴52、53についても、第1〜第3撮影範囲56A〜58Aに含まれるため、第2アライメント穴群を構成する全てのアライメント穴は、同時に撮影可能である。
Based on the imaging result, coordinates (hx [G] [N], hy [G] [N]) indicating the actual position of the center point of each alignment hole belonging to the second alignment hole group in the drawing coordinate system are It is calculated in the same manner as for one alignment hole group, and is expressed as in equations (9) and (10).
hx [G] [N] = COX−HX2 + cx [G] [N] (9)
hy [G] [N] = cy [G] [N] (10)
In the second alignment hole group, the ninth and tenth alignment holes 48 and 49, the thirteenth and fourteenth alignment holes 52 and 53 having the same X-coordinate value at the center point are also the first to third. Since it is included in the imaging ranges 56A to 58A, all the alignment holes constituting the second alignment hole group can be simultaneously imaged.
第2アライメント穴群の撮影後、第1及び第2アライメント穴40、41、第5及び第6アライメント穴44、45(以下第3アライメント穴群という)を撮影するために、これらのアライメント穴の中心点のX座標であるHX1が、第1〜第3穴計測用カメラ56〜58のX座標COXと一致するまで移動するように、描画テーブル36は制御される。よって、描画テーブル36の3回目の移動の移動量X3は、(11)式が示すように算出される。
X3=HX2−HX1 ・・・(11)
描画テーブル36が、移動量X3だけ移動して停止すると、第1〜第3穴計測用カメラ56〜58が第3アライメント穴群を撮影する。
After photographing the second alignment hole group, in order to photograph the first and second alignment holes 40 and 41, the fifth and sixth alignment holes 44 and 45 (hereinafter referred to as the third alignment hole group), The drawing table 36 is controlled so that HX1, which is the X coordinate of the center point, moves until it matches the X coordinate COX of the first to third hole measurement cameras 56-58. Therefore, the movement amount X3 of the third movement of the drawing table 36 is calculated as shown in the equation (11).
X3 = HX2-HX1 (11)
When the drawing table 36 moves and stops by the movement amount X3, the first to third
撮影結果に基づいて、描画座標系における第3アライメント穴群に属する各アライメント穴の中心点の実際の位置を示す座標(hx[G] [N]、hy[G] [N])が、第1及び第2アライメント穴群と同様に算出され、(12)式および(13)式のように示される。
hx[G] [N]=COX−HX1+cx[G] [N] ・・・(12)
hy[G] [N]=cy[G] [N] ・・・(13)
Based on the imaging result, coordinates (hx [G] [N], hy [G] [N]) indicating the actual position of the center point of each alignment hole belonging to the third alignment hole group in the drawing coordinate system are It is calculated in the same manner as the first and second alignment hole groups, and is expressed as in Expression (12) and Expression (13).
hx [G] [N] = COX−HX1 + cx [G] [N] (12)
hy [G] [N] = cy [G] [N] (13)
このように、描画テーブル36の移動と、停止後の第1〜第3穴計測用カメラ56〜58による撮影は、第2シーケンス制御部24の制御のもとで繰り返され、第1〜第16アライメント穴40〜55の実際の位置を示す座標の算出が終了する。こうして算出された座標値は、被描画体38上における第1〜第16アライメント穴40〜55の実際の位置を示す、マーク位置データとして、第2シーケンス制御部24、通信処理部20を介して、制御部側データ処理部22に送られる。
As described above, the movement of the drawing table 36 and the photographing by the first to third
図6は、描画データに基づく描画領域と、マーク位置データに基づく実際の描画領域とを概略的に示す図である。 FIG. 6 is a diagram schematically showing a drawing area based on the drawing data and an actual drawing area based on the mark position data.
制御部側データ処理部22は、マーク位置データから、実際の描画領域である第1〜第4実測描画領域70〜73の位置と輪郭とを検出する(図6(a)参照)。そして、第1〜第4実測描画領域70〜73と、第1〜第4描画領域60〜63との重心の位置の差、サイズ比、および第1〜第4描画領域60〜63に対する第1〜第4実測描画領域70〜73の回転角に基づいて、制御部側データ処理部22は、描画データを補正する。以下に、第1描画領域60と第1実測描画領域70を例に、制御部側データ処理部22による描画データの補正について説明する(図6(b)参照)。なお、第1〜第4描画領域60〜63と、それぞれ対応する第1〜第4実測描画領域70〜73との差は、実際にはわずかであるものの、ここでは、説明を容易にするために誇張されている。
The control unit side
第1描画領域60の重心Cの描画座標系における座標GCX[0]、GCY[0]は、第1〜第4アライメント穴40〜43の座標(HX’[G][N]、HY’[G][N])(G=0、N=0、1、2、3)を用いて、(14)式および(15)式のように示される。
GCX[0]=(HX’[0][0]+HX’[0][3])/2 ・・・(14)
GCY[0]=(HY’[0][0]+HY’[0][1])/2 ・・・(15)
一方、第1実測描画領域70の重心C’の座標gcx[0]、gcy[0]は、第1〜第4アライメント穴40〜43が、それぞれ実際に計測された点である第1〜第4実測アライメント穴80〜83の位置座標(hx[G][N]、hy[G][N])(G=0、N=0、1、2、3)を用いて、(16)式および(17)式のように示される。
gcx[0]=(hx[0][0]+hx[0][1]+hx[0][2]+hx[0][3])/4 ・・・(16)
gcy[0]=(hy[0][0]+hy[0][1]+hy[0][2]+hy[0][3])/4 ・・・(17)
The coordinates GCX [0], GCY [0] in the drawing coordinate system of the center of gravity C of the
GCX [0] = (HX ′ [0] [0] + HX ′ [0] [3]) / 2 (14)
GCY [0] = (HY ′ [0] [0] + HY ′ [0] [1]) / 2 (15)
On the other hand, the coordinates gcx [0] and gcy [0] of the center of gravity C ′ of the first actually measured drawing
gcx [0] = (hx [0] [0] + hx [0] [1] + hx [0] [2] + hx [0] [3]) / 4 (16)
gcy [0] = (hy [0] [0] + hy [0] [1] + hy [0] [2] + hy [0] [3]) / 4 (17)
第2〜第4描画領域61〜63、及び第2〜第4実測描画領域71〜73についても同様に算出されることから、各実測描画領域と対応する描画領域との重心位置の差を示すベクタデータである配置オフセットoff[G](offx[G]、offy[G])は、(18)式〜(23)式のように表される(G=0、1、2、3)。
offx[G]=gcx[G]−GCX[G] ・・・(18)
gcx[G]=(hx[G][0])+hx[G][1]+hx[G][2]+hx[G][3])/4 ・・・(19) GCX[G]=(HX’[G][0]+HX’[G][3])/2 ・・・(20)
offy[G]=gcy[G]−GCY[G] ・・・(21)
gcy[G]=(hy[G][0]+hy[G][1]+hy[G][2]+hy[G][3])/4 ・・・(22)
GCY[G]=(HY’[G][0]+HY’[G][1])/2 ・・・(23)
Since the second to
offx [G] = gcx [G] −GCX [G] (18)
gcx [G] = (hx [G] [0]) + hx [G] [1] + hx [G] [2] + hx [G] [3]) / 4 (19) GCX [G] = ( HX ′ [G] [0] + HX ′ [G] [3]) / 2 (20)
offy [G] = gcy [G] −GCY [G] (21)
gcy [G] = (hy [G] [0] + hy [G] [1] + hy [G] [2] + hy [G] [3]) / 4 (22)
GCY [G] = (HY ′ [G] [0] + HY ′ [G] [1]) / 2 (23)
次に、第1〜第4実測描画領域70〜73と、第1〜第4描画領域60〜63とのサイズ比(スケール比)による補正データの算出について説明する。第1描画領域60の輪郭のうち、長辺(X軸に平行な辺)の長さをMDX、短辺(Y軸に平行な辺)の長さをMDYとすると、これらは(24)式および(25)式のように示される。
MDX=(HX’[0][3]−HX’[0][0]) ・・・(24)
MDY=(HY’[0][1]−HY’[0][0]) ・・・(25)
Next, calculation of correction data based on a size ratio (scale ratio) between the first to fourth
MDX = (HX ′ [0] [3] −HX ′ [0] [0]) (24)
MDY = (HY ′ [0] [1] −HY ′ [0] [0]) (25)
一方、第1実測描画領域70の長辺の平均長さmdx[0]、および短辺の平均長さmdy[0]は、第1〜第4実測アライメント穴80〜83の位置座標(hx[G][N]、hy[G][N])(G=0、N=0、1、2、3)を用いて、(26)式および(27)式のように示される。
mdx[0]=(hx[0][3]−hx[0][0]+hx[0][2]−hx[0][1])/2 ・・・(26)
mdy[0]=(hy[0][1]−hy[0][0]+hy[0][2]−hy[0][3])/2 ・・・(27)
従って、第1実測描画領域70の輪郭の長さが、第1描画領域60の輪郭の長さに対する割合を示すX軸スケール比scx[0]、及びY軸スケール比scy[0]は、(28)式および(29)式のように示される。
scx[0]=mdx[0]/MDX ・・・(28)
scy[0]=mdy[0]/MDY ・・・(29)
On the other hand, the average length mdx [0] of the long side and the average length mdy [0] of the short side of the first actually measured drawing
mdx [0] = (hx [0] [3] −hx [0] [0] + hx [0] [2] −hx [0] [1]) / 2 (26)
mdy [0] = (hy [0] [1] −hy [0] [0] + hy [0] [2] −hy [0] [3]) / 2 (27)
Accordingly, the X-axis scale ratio scx [0] and the Y-axis scale ratio scy [0] indicating the ratio of the contour length of the first actual
scx [0] = mdx [0] / MDX (28)
scy [0] = mdy [0] / MDY (29)
第2〜第4描画領域61〜63、及び第2〜第4実測描画領域71〜73についても同様に算出され、長辺の長さMDXと短辺の長さMDYは、第1〜第4描画領域共通60〜63において共通であることから、各実測描画領域の輪郭の長さが、対応する描画領域の輪郭の長さに対する割合である、X軸スケール比scx[G]、及びY軸スケール比scy[G]は、(30)式および(31)式のように示される(G=0、1、2、3)。
scx[G]=mdx[G]/MDX
=((hx[G][3]−hx[G][0]+hx[G][2]−hx[G][1])/2)/(HX’[0][3]−HX’[0][0]) ・・・(30)
scy[G]=mdy[G]/MDY
=((hy[G][1]−hy[G][0]+hy[G][2]−hy[G][3])/2)/(HY’[0][1]−HY’[0][0]) ・・・(31)
The second to
scx [G] = mdx [G] / MDX
= ((Hx [G] [3] −hx [G] [0] + hx [G] [2] −hx [G] [1]) / 2) / (HX ′ [0] [3] −HX ′ [0] [0]) (30)
scy [G] = mdy [G] / MDY
= ((Hy [G] [1] -hy [G] [0] + hy [G] [2] -hy [G] [3]) / 2) / (HY '[0] [1] -HY' [0] [0]) (31)
続いて、第1〜第4描画領域60〜63に対して、対応する第1〜第4実測描画領域の傾きである回転角θの算出について説明する。第1実測描画領域70の輪郭を形成する4辺のうち、第1実測アライメント穴80の外周と第4実測アライメント穴83の外周とを結ぶ辺が、対応する第1描画領域60の輪郭の辺に対する傾きθ0(dy/dx)は、(32)式のように示される。そして、第1実測描画領域70が、第1描画領域60に対する回転角θ[0](rad)は、実際に計測された描画領域の輪郭を形成する4辺の傾きθ0〜θ3(dy/dx)の平均であるので、(32)式の演算を4辺全てについて行って、それらを平均化することにより求められる。従って、第1実測描画領域70の回転角θ[0](rad)は、(33)〜(35)式のように示される。
θ0=(hy[0][3]−hy[0][0])/(hx[0][3]−hx[0][0]) ・・・(32)
θ[0](rad)=ATAN(dy/dx) ・・・(33)
dx=(hx[0][3]−hx[0][0]+hy[0][2]−hy[0][3]+hx[0][2]−hx[0][1]+hy[0][1]−hy[0][0])
・・・(34)
dy=(hy[0][3]−hy[0][0]+hx[0][3]−hx[0][2]+hy[0][2]−hy[0][1]+hx[0][0]−hx[0][1])
・・・(35)
Next, calculation of the rotation angle θ, which is the inclination of the corresponding first to fourth actual drawing areas, for the first to
θ 0 = (hy [0] [3] −hy [0] [0]) / (hx [0] [3] −hx [0] [0]) (32)
θ [0] (rad) = ATAN (dy / dx) (33)
dx = (hx [0] [3] −hx [0] [0] + hy [0] [2] −hy [0] [3] + hx [0] [2] −hx [0] [1] + hy [ 0] [1] -hy [0] [0])
... (34)
dy = (hy [0] [3] −hy [0] [0] + hx [0] [3] −hx [0] [2] + hy [0] [2] −hy [0] [1] + hx [ 0] [0] -hx [0] [1])
... (35)
第1実測描画領域70と同様に、第2〜第4描画領域71〜73についても回転角θ[1〜3]が算出されることから、回転角θ[G]の一般式は(36)〜(38)式のように示される。
θ[G](rad)=ATAN(dy/dx) ・・・(36)
dx=(hx[G][3]−hx[G][0]+hy[G][2]−hy[G][3]+hx[G][2]−hx[G][1]+hy[G][1]−hy[G][0])
・・・(37)
dy=(hy[G][3]−hy[G][0]+hx[G][3]−hx[G][2]+hy[G][2]−hy[G][1]+hx[G][0]−hx[G][1])
・・・(38)
Since the rotation angle θ [1-3] is calculated for the second to
θ [G] (rad) = ATAN (dy / dx) (36)
dx = (hx [G] [3] −hx [G] [0] + hy [G] [2] −hy [G] [3] + hx [G] [2] −hx [G] [1] + hy [ G] [1] -hy [G] [0])
... (37)
dy = (hy [G] [3] −hy [G] [0] + hx [G] [3] −hx [G] [2] + hy [G] [2] −hy [G] [1] + hx [ G] [0] -hx [G] [1])
... (38)
こうして、第1〜第4実測描画領域70〜73のそれぞれについて算出された配置オフセットoff[G]、X軸及びY軸スケール比scx[G]、scy[G]回転角θ[G](いずれも、G=0、1、2、3)に基づいて、元の描画データである第1〜第4描画領域60〜63に含まれる全ての面付パターンを示すベクタデータを補正し、補正描画データへと変換する。すなわち、まず、始点と終点とから成るベクタデータである描画データの、始点の座標に配置オフセットoff[G]を加算して補正後の始点座標とする。次に、補正後の始点を基準として、新たな終点とのX軸方向、及びY軸方向の長さがそれぞれ元の長さにX軸及びY軸スケール比scx[G]、scy[G]を乗じた長さになるように、新たな終点の座標が仮に定められる。さらに、補正後の始終点から成る補正後のベクタデータが、元のベクタデータに対して、回転角θ[G]だけ回転するように、補正後の終点を最終的に定める。こうして、第1〜第4描画領域60〜63に対応する描画データは、補正後の始終点から成る補正描画データへとそれぞれ変換される。
Thus, the arrangement offset off [G], the X-axis and Y-axis scale ratios scx [G], scy [G] rotation angle θ [G] calculated for each of the first to fourth actually measured
以上のように、描画領域毎に対応する描画データを補正描画データに変換すると、制御部側データ処理部22は、さらに描画領域毎の補正描画データを統合して、被描画体38全体についての単一の補正描画データを生成する。こうして生成された単一の補正描画データは、通信処理部20、第2シーケンス制御部24を介して、装置側データ処理部26に送られる。装置側データ処理部26は、補正描画データに基づき、被描画体38上に描画するためのイメージ画像を形成する。その結果、露光制御部32が、被描画体38上に全ての面付パターンを、連続的に露光するように光源37を制御し、被描画体38を描画する。
As described above, when the drawing data corresponding to each drawing area is converted into the corrected drawing data, the control unit side
図7は、描画制御部12において行なわれる、描画データ通知ルーチンを示すフローチャートである。
FIG. 7 is a flowchart showing a drawing data notification routine performed in the
ユーザが、操作パネル16を操作して、被描画体38の第1〜第16アライメント穴40〜55の位置(マーク位置)を計測するよう指示すると、描画データ通知ルーチンが開始される。ステップS701においては、制御部側データ処理部22が、データ記録部23に記録されていた描画データのうち穴情報および被描画体情報を読出し、ステップS702に進む。ステップS702では、通信処理部20が、制御部側データ処理部22によって読出された穴情報および被描画体情報を描画装置14側の第2シーケンス制御部24に送信し、ステップS703に進む。ステップS703では、通信処理部20が、マーク位置を計測する指示を伝える信号を、第2シーケンス制御部24に送信し、描画データ通知ルーチンは終了する。
When the user operates the
図8は、描画装置14において行なわれる、マーク位置計測ルーチンを示すフローチャートである。
FIG. 8 is a flowchart showing a mark position measurement routine performed in the
マーク位置計測ルーチンは、描画装置14側の第2シーケンス制御部24が、マーク位置計測の開始を促す信号を受信すると開始される。ステップS801では、第2シーケンス制御部24が、通信処理部20から受信していた穴情報および被描画体情報を、装置側データ処理部26に送信し、ステップS802に進む。ステップS802では、装置側データ処理部26が、被描画体座標系で規定されているマーク位置の座標(HX[G][N]、HY[G][N])(G、N=0、1、2、3)を、描画座標系に変換する処理を行い((3)式および(4)式を参照)、ステップS803に進む。ステップS803では、装置側データ処理部26が、描画座標系に変換されたマーク位置に基づいて、第1〜第3穴計測用カメラ56〜58によるアライメント穴撮影のために必要な描画テーブル36の移動量である第1〜第3移動距離X1〜X3を算出され((5)式、(8)式および(11)式を参照)、ステップS804に進む。ステップS804においては、装置側データ処理部26が、描画座標系のマーク位置と、第1〜第3移動距離X1〜X3とを第2シーケンス制御部24に送信し、ステップS805に進む。
The mark position measurement routine is started when the second
ステップS805では、描画データに含まれる第1〜第16アライメント穴40〜55の数HNに基づき、第2シーケンス制御部24が、全てのマーク位置の撮影が終了したか否かを判断する。全てのマーク位置の撮影が終了していないと判断した場合、ステップS806に進み、全てのマーク位置の撮影が終了したと判断した場合、ステップS808に進む。ステップS806では、描画テーブル36を、所定の移動量だけ移動するように、第2シーケンス制御部24が描画テーブル制御部30を制御し、さらに第1〜第3穴計測用カメラ56〜58にマーク位置を撮影させるように計測制御部28を制御して、ステップS807に進む。ステップS807では、撮影画像の解析によって算出されたマーク位置に基づき、計測制御部28が実際のアライメント穴の座標を算出し((6)式、(7)式、(9)式、(10)式、(12)式および(13)式を参照)、算出された座標データを第2シーケンス制御部24に送信し、再びステップS805に進む。
In step S805, based on the number HN of the first to sixteenth alignment holes 40 to 55 included in the drawing data, the second
一方、ステップS808では、第2シーケンス制御部24が、算出された全てのマーク位置を示すデータ(マーク位置データ)を描画制御部12側の通信処理部20に送信して、マーク位置計測ルーチンは終了する。
On the other hand, in step S808, the second
図9は、描画制御部12において行なわれる、描画データ補正ルーチンを示すフローチャートである。
FIG. 9 is a flowchart showing a drawing data correction routine performed in the
描画データ補正ルーチンは、通信処理部20を介して、制御部側データ処理部22がマーク位置データを受信すると開始される。ステップS901では、制御部側データ処理部22が、各実測描画領域と対応する描画領域との重心位置の差を示すベクタデータである配置オフセットoff[G]を算出((14)式〜(23)式を参照)し、ステップS902に進む。
The drawing data correction routine is started when the control unit side
ステップS902では、制御部側データ処理部22が、各実測描画領域と対応する描画領域とのサイズ比であるスケール比scx[G]、scy[G]を算出((24)式〜(31)式を参照)し、ステップS903に進む。
In step S902, the control unit side
ステップS903では、制御部側データ処理部22が、各描画領域に対する第1〜第4実測描画領域の傾きである回転角θ[G]を算出((32)式〜(38)式を参照)し、ステップS904に進む。
In step S903, the control unit side
ステップS904では、算出された配置オフセットoff[G]、スケール比scx[G]、scy[G]および回転角θ[G](G=0、1、2、3)に基づいて、制御部側データ処理部22が、描画データを第1〜第4描画領域60〜63毎にそれぞれ補正することにより、補正描画データに変換してステップS905に進む。ステップS905では、制御部側データ処理部22が、描画領域毎の補正描画データを統合することにより、被描画体38全体についての単一の補正描画データを生成する。そして、制御部側データ処理部22が、生成した補正描画データをデータ記録部23に送信して記録させることにより、描画データ補正ルーチンは終了する。
In step S904, based on the calculated arrangement offset off [G], scale ratio scx [G], scy [G], and rotation angle θ [G] (G = 0, 1, 2, 3), the control unit side The
図10は、描画装置14において行なわれる、描画ルーチンを示すフローチャートである。
FIG. 10 is a flowchart showing a drawing routine performed in the
ユーザが、操作パネル16を操作して、被描画体38の描画を開始するように指示すると、描画ルーチンが開始される。ステップS101においては、第1シーケンス制御部18の制御のもとで、データ記録部23から、制御部側データ処理部22、通信処理部20を介して送信される補正描画データを第2シーケンス制御部24が受信し、ステップS102に進む。ステップS102では、第2シーケンス制御部24が、補正描画データに基づいて、所定の面付パターンを被描画体38に描画させるように、露光制御部32を制御しその結果、光源37が被描画体38にビーム光を露光させることにより描画を行う。被描画体38の描画が終了すると、露光制御部32が、描画の終了を操作パネル16に示すための信号を、第2シーケンス制御部24を介して描画制御部12側の通信処理部20に送信することにより、描画ルーチンは終了する。
When the user operates the
以上のように、本実施形態によれば、被描画体38上にある第1〜第4描画領域60〜63の配置のみならず、各描画領域内の変形についても補正を施した描画データが生成できる。この補正描画データに基づいて被描画体を露光させることにより、精度の高い描画が可能になる。
As described above, according to the present embodiment, not only the arrangement of the first to
第1〜第4描画領域60〜63に開けられるアライメント穴は、補正描画データの精度を高めるために、各描画領域の端部に設けることが好ましいが、アライメント穴の配置、数、径は本実施形態に限定されない。ただし、補正描画データの精度を維持するため、各描画領域に対してアライメント穴を3点以上設けることが必要である。また、アライメント穴の一部が、互いに隣接する描画領域によって共有化されても良い。例えば、図11における被描画体36が示すように、第1〜第4描画領域60〜63のうちで、互いに隣接する描画領域が共有するものを含めて、各描画領域に3点のアライメント穴を設けても良い。
The alignment holes that are opened in the first to
描画領域の形状や数は、本実施形態に限定されない。 The shape and number of drawing areas are not limited to this embodiment.
穴計測用カメラの数や配置は、本実施形態に限定されないが、アライメント穴計測の精度を高め、かつ計測時間を短縮するために、穴計測用カメラを移動させることなしに全てのアライメント穴が撮影できることが好ましい。このため、複数の穴計測用カメラを設置することが好ましい。 The number and arrangement of hole measurement cameras are not limited to this embodiment, but in order to increase the accuracy of alignment hole measurement and shorten the measurement time, all alignment holes are not moved without moving the hole measurement camera. It is preferable that photography can be performed. For this reason, it is preferable to install a plurality of hole measurement cameras.
10 露光装置
12 描画制御部
14 描画装置
20 通信処理部
22 制御部側データ処理部(描画データ読出し手段・描画データ補正手段)
23 データ記録部(描画データ記録手段)
24 第2シーケンス制御部
26 装置側データ処理部(マーク位置データ生成手段)
30 描画テーブル制御部(被描画体移動手段)
32 露光制御部(描画手段)
36 描画テーブル
37 光源(描画手段)
40〜55 第1〜第16アライメント穴(マーク)
56〜58 第1〜第3穴計測用カメラ(マーク位置検出手段・カメラ)
60〜63 第1〜第4描画領域(描画データの描画領域)
70〜73 第1〜第4実測描画領域(実際の描画領域)
DESCRIPTION OF
23 Data recording unit (drawing data recording means)
24 second
30 Drawing table control unit (drawing object moving means)
32 Exposure control unit (drawing means)
36 Drawing table 37 Light source (drawing means)
40 to 55 1st to 16th alignment holes (marks)
56-58 Cameras for measuring first to third holes (mark position detecting means / camera)
60-63 1st-4th drawing area (drawing data drawing area)
70-73 1st-4th measurement drawing area (actual drawing area)
Claims (10)
前記マークの実際の位置を検出するマーク位置検出手段と、
前記マークの実際の位置を示すマーク位置データを生成するマーク位置データ生成手段と、
前記面付パターンを前記被描画体の表面に露光させる描画手段と、
描画すべき前記面付パターンを示すベクタデータと前記マークの本来の位置を示すマーク位置情報とを含む描画データを記録する描画データ記録手段と、
前記描画データを読出す描画データ読出し手段と、
前記マーク位置データに基づき、実際の描画領域の位置と輪郭とを検出し、前記実際の描画領域の位置と輪郭とに基づいて、前記描画データを対応する描画領域ごとに補正して補正描画データとする描画データ補正手段とを備え、
前記補正描画データに基づいて前記面付パターンを前記被描画体に露光させて描画することを特徴とする露光装置。 An exposure apparatus for drawing an object to be drawn in which marks for defining positions and contours of a plurality of drawing areas including an imposition pattern are represented on the surface,
Mark position detecting means for detecting the actual position of the mark;
Mark position data generating means for generating mark position data indicating the actual position of the mark;
Drawing means for exposing the surface of the drawing object with the imposition pattern;
Drawing data recording means for recording drawing data including vector data indicating the imposition pattern to be drawn and mark position information indicating an original position of the mark;
Drawing data reading means for reading the drawing data;
Based on the mark position data, the actual drawing area position and outline are detected, and the drawing data is corrected for each corresponding drawing area based on the actual drawing area position and outline, thereby correcting the drawing data. Drawing data correction means
An exposure apparatus that draws the imposition pattern by exposing the object to be drawn based on the corrected drawing data.
前記マーク位置検出手段が、前記所定の方向に移動する前記被描画体を撮影するカメラであることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 A drawing table for installing the drawing object; and a drawing object moving means for moving the drawing table in a predetermined direction;
The exposure apparatus according to claim 1, wherein the mark position detection unit is a camera that photographs the drawing object moving in the predetermined direction.
描画すべき前記面付パターンを示すベクタデータと前記マークの本来の位置を示すマーク位置情報とを含む描画データを記録し、
前記描画データを読出し、
前記描画データに基づいて前記マークの実際の位置を検出し、
前記マークの実際の位置を示すマーク位置データを生成し、
前記マーク位置データに基づき、実際の描画領域の位置と輪郭とを検出し、前記実際の描画領域の位置と輪郭とに基づいて、前記描画データを対応する描画領域ごとに補正して補正描画データとし、
前記補正描画データに基づいて前記面付パターンを前記被描画体に露光させて描画することを特徴とする描画方法。
A drawing method for drawing a drawing object in which marks for defining positions and contours of a plurality of drawing areas including an imposition pattern are represented on a surface,
Recording drawing data including vector data indicating the imposition pattern to be drawn and mark position information indicating an original position of the mark;
Read the drawing data,
Detecting the actual position of the mark based on the drawing data;
Generating mark position data indicating the actual position of the mark;
Based on the mark position data, the actual drawing area position and outline are detected, and the drawing data is corrected for each corresponding drawing area based on the actual drawing area position and outline, thereby correcting the drawing data. age,
A drawing method comprising: drawing the imposition pattern by exposing the object to be drawn based on the corrected drawing data.
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