JP2005294388A - Tape carrier for semiconductor device and semiconductor device using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体装置用テープキャリアおよびこれを用いた半導体装置に関し、特に、折曲げやすく、折曲げてもリード配線が破断し難い半導体装置用テープキャリアおよびこれを用いた半導体装置に関する。 The present invention relates to a tape carrier for a semiconductor device and a semiconductor device using the same, and more particularly to a tape carrier for a semiconductor device which is easy to bend and a lead wiring is not easily broken even if it is bent, and a semiconductor device using the same.
近年の携帯端末・携帯電話などの多機能化・小型化により、それら機器に搭載される半導体装置はメモリやロジックICをひとつのTABテープやパッケージ内に格納することが行われている。特に、半導体パッケージ内に高いデバイス密度を確保できる点において、TABテープや基板を使用して三次元に折り曲げて配線する半導体チップを積層する半導体装置が知られている(例えば、特許文献1参照。)。 2. Description of the Related Art With the recent increase in functionality and miniaturization of mobile terminals and mobile phones, semiconductor devices mounted on these devices store memories and logic ICs in a single TAB tape or package. In particular, a semiconductor device in which semiconductor chips that are three-dimensionally bent and wired using a TAB tape or a substrate are stacked is known in that a high device density can be secured in a semiconductor package (see, for example, Patent Document 1). ).
図4は、従来のTABテープの概略平面図を示す。このTABテープ50は、耐熱性・耐薬品性にすぐれたポリイミドなどからなる絶縁テープ51と、この絶縁テープ51上に形成されたシグナルパターン52(「銅箔回路パターン」以下、単に、「シグナルパターン」という)と、このシグナルパターン52,52間を接続する直線状のリード配線53、53と、シグナルパターン52およびリード配線53上を覆うソルダーレジスト層54とを備える。このTABテープ50は、折曲部80でシグナルパターン52,52が内側になるように折曲される。
FIG. 4 shows a schematic plan view of a conventional TAB tape. The TAB tape 50 includes an insulating tape 51 made of polyimide having excellent heat resistance and chemical resistance, and a signal pattern 52 (hereinafter referred to as “copper foil circuit pattern”) formed on the insulating tape 51. ”) And
図5は、図4に示す従来のTABテープのB−B線に沿う断面を示す。このTABテープ50は、ポリイミドからなる絶縁テープ51と、絶縁テープ51を挟んで形成されたシグナルパターン52および銅パターン68上に形成されたグランドパターン55と、シグナルパターン52とグランドパターン55とを接続するためのスルーホールビア56と、シグナルパターン52およびグランドパターン55に形成された、金めっき層からなる電極パッド59と、シグナルパターン52,52間を接続するリード配線53と、シグナルパターン52およびリード配線53等を保護するソルダーレジスト63,63とを備える。このTABテープ50は、折曲部80においてシグナルパターン52,52が内側になるように折曲される。
FIG. 5 shows a cross section taken along line BB of the conventional TAB tape shown in FIG. The TAB tape 50 connects an insulating tape 51 made of polyimide, a
図6は、従来のTABテープ50に半導体チップを搭載して折曲部80において折曲されて形成された半導体装置60を示す。この半導体装置60は、図5に示す従来のTABテープ50のシグナルパターン52に半導体チップ58を搭載し、電極パッド59を介してシグナルパターン52と半導体チップ58とを接続する金めっき線61と、金めっき線61、半導体チップ58等を覆うモールド樹脂57と、電極パッド59を介して外部端子としての役目を果たす半田ボール70とを備え、シグナルパターン52が内側となるようにして折曲部80のところで折曲したものであり、半導体チップ58が内部に包み込まれるように配置される。
FIG. 6 shows a semiconductor device 60 formed by mounting a semiconductor chip on a conventional TAB tape 50 and bending it at a
従来の半導体装置60によれば、シグナルパターン52を相対向するよう配置して折曲部80で折曲するため、図示しないマザーボードに対して半導体チップの実装密度が向上する。
しかし、従来の半導体装置用テープキャリアおよびこれを用いた半導体装置によれば、(1)折り曲げ部のリード配線が直線であるため折り曲げにくいこと、(2)直線状のリード配線のため折り曲げ曲率が偏って大きくなった点に応力が集中し破断するおそれがあること、および(3)Tサイクル試験(温度サイクル試験)においてテープの伸縮にリード配線が追従できずリード配線が破断するおそれがある、という問題があった。 However, according to a conventional tape carrier for a semiconductor device and a semiconductor device using the same, (1) the lead wiring in the bent portion is straight and difficult to bend, and (2) the bending curvature is high because of the straight lead wiring. There is a possibility that stress concentrates on a point that is unbalanced and breaks, and (3) the lead wiring may not follow the expansion and contraction of the tape in the T cycle test (temperature cycle test), and the lead wiring may break. There was a problem.
従って、本発明の目的は、折曲げやすく、折曲げてもリード配線が破断し難い半導体装置用テープキャリアおよびこれを用いた半導体装置を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a tape carrier for a semiconductor device that is easy to bend and in which a lead wiring is not easily broken even if it is bent, and a semiconductor device using the same.
本発明は、上記目的を達成するため、基材としての絶縁テープと、前記絶縁テープの少なくとも1面に形成された導体パターンと、前記絶縁テープおよび前記導体パターンを一体に折り曲げ可能な折曲部とを有する半導体装置用テープキャリアにおいて、前記折曲部の前記導体パターンは、波形に形成されていることを特徴とする半導体装置用テープキャリアを提供する。
In order to achieve the above object, the present invention provides an insulating tape as a base material, a conductor pattern formed on at least one surface of the insulating tape, and a bent portion capable of bending the insulating tape and the conductor pattern integrally. The tape carrier for a semiconductor device according to
前記波形は、折曲げ曲率を少なくとも0.1mmとすることが好ましい。 The waveform preferably has a bending curvature of at least 0.1 mm.
前記折曲部は、前記絶縁テープの1面に形成され、折曲げられる際に内側に配置される第1のソルダーレジスト層と、前記絶縁テープの他面に形成された第2のソルダーレジスト層とを有し、前記第1のソルダーレジスト層の厚さは、前記第2のソルダーレジストの厚さと同一あるいは薄く形成されていることが好ましい。 The bent portion is formed on one surface of the insulating tape, and is disposed on the inner side when bent, and a second solder resist layer formed on the other surface of the insulating tape. It is preferable that the thickness of the first solder resist layer is the same as or thinner than the thickness of the second solder resist.
本発明は、上記目的を達成するため、基材としての絶縁テープと、前記絶縁テープの1面に形成された第1の導体パターンと、前記絶縁テープの他面に形成された第2の導体パターンと、前記絶縁テープおよび前記第1および第2の導体パターンを、前記第1の導体パターンを内側にして一体に折り曲げ可能な折曲部とを有する半導体装置用テープキャリアにおいて、前記折曲部は、前記第1の導体パターンの厚みを前記第2の導体パターンの厚みと同一あるいは薄く形成することを特徴とする半導体装置用テープキャリアを提供する。 In order to achieve the above object, the present invention provides an insulating tape as a base material, a first conductor pattern formed on one surface of the insulating tape, and a second conductor formed on the other surface of the insulating tape. In the tape carrier for a semiconductor device, comprising: a pattern; and a bent portion capable of bending the insulating tape and the first and second conductor patterns integrally with the first conductor pattern inside. Provides a tape carrier for a semiconductor device, wherein the thickness of the first conductor pattern is the same as or thinner than the thickness of the second conductor pattern.
本発明は、上記目的を達成するため、基材としての絶縁テープと、前記絶縁テープの少なくとも1面に形成され、半導体素子が搭載された導体パターンを折曲部で前記絶縁テープとともに一体的に折り曲げた半導体装置において、前記折曲部における前記導体パターンは、波形に形成されていることを特徴とする半導体装置を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention provides an insulating tape as a base material and a conductive pattern formed on at least one surface of the insulating tape, on which a semiconductor element is mounted, together with the insulating tape at a bent portion. In the bent semiconductor device, the conductor pattern in the bent portion is formed in a waveform.
前記波形は、折曲げ曲率を少なくとも0.1mmとすることが好ましい。 The waveform preferably has a bending curvature of at least 0.1 mm.
前記折曲部は、前記絶縁テープの1面に形成され、折り曲げられる際に内側に配置される第1のソルダーレジスト層と、前記絶縁テープの他面に形成された第2のソルダーレジスト層とを有し、前記第1のソルダーレジスト層の厚さは、前記第2のソルダーレジストの厚さと同一あるいは薄く形成することが好ましい。 The bent portion is formed on one surface of the insulating tape, and is disposed on the inner side when bent, and a second solder resist layer formed on the other surface of the insulating tape; It is preferable that the thickness of the first solder resist layer is the same as or thinner than the thickness of the second solder resist layer.
本発明は、上記目的を達成するため、基材としての絶縁テープと、前記絶縁テープを挟んだ1面に形成され、半導体チップを搭載した第1の導体パターンと、前記絶縁テープを挟んだ他面に形成された第2の導体パターンと、前記絶縁テープおよび前記第1および第2の導体パターンを、前記第1の導体パターンを内側にして一体に折り曲げられた半導体装置において、前記折曲部は、前記第1の導体パターンの厚みを前記第2の導体パターンの厚みと同一あるいは薄く形成することを特徴とする半導体装置を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention provides an insulating tape as a base material, a first conductor pattern formed on one surface with the insulating tape sandwiched therebetween, on which a semiconductor chip is mounted, and the insulating tape in between. In the semiconductor device in which the second conductor pattern formed on the surface, the insulating tape, and the first and second conductor patterns are bent integrally with the first conductor pattern inside, the bent portion Provides a semiconductor device characterized in that the thickness of the first conductor pattern is the same as or thinner than the thickness of the second conductor pattern.
本発明の半導体装置用テープキャリアによれば、折曲部における導体パターンは、波形に形成したため、応力の一点集中を避けることができ、折り曲げにしたがって導体パターンが伸縮するので、折り曲げやすく、かつ、導体パターンの断線を防止することができる。 According to the tape carrier for a semiconductor device of the present invention, since the conductor pattern in the bent portion is formed in a waveform, it is possible to avoid stress concentration at one point, and the conductor pattern expands and contracts in accordance with the bending. The disconnection of the conductor pattern can be prevented.
本発明の半導体装置用テープキャリアによれば、折曲部が折曲げ曲率を少なくとも0.1mmである波形とするため、折曲部において導体パターンを折り曲げても曲率にしたがって導体パターンが伸縮するので、折り曲げやすく、かつ、導体パターンの断線を防止することができる。 According to the tape carrier for a semiconductor device of the present invention, since the bent portion has a waveform with a bending curvature of at least 0.1 mm, the conductor pattern expands and contracts according to the curvature even if the conductor pattern is bent at the bent portion. It is easy to bend and the conductor pattern can be prevented from being disconnected.
本発明の半導体装置用テープキャリアによれば、折曲する際に内側となる第1のソルダーレジストの厚さを、折曲する際の外側となる第2のソルダーレジストの厚さと同一あるいは薄くしたため、折曲に応じて第1および第2のソルダーレジストが伸縮できるので、第1および第2のソルダーレジストの伸縮に応じて導体パターンが伸縮することになり、導体パターンの断線を防止することができる。 According to the tape carrier for a semiconductor device of the present invention, the thickness of the first solder resist that becomes the inner side when bent is equal to or thinner than the thickness of the second solder resist that becomes the outer side when bent. Since the first and second solder resists can be expanded and contracted according to the bending, the conductor pattern is expanded and contracted according to the expansion and contraction of the first and second solder resists, thereby preventing the conductor pattern from being disconnected. it can.
本発明の半導体装置用テープキャリアによれば、折曲部において折り曲げられる際に外側になる第2の導体パターンの厚さを内側になる第1の導体パターンの厚さと同一あるいは厚く形成したため、第1および第2の導体パターンの伸縮に応じた強度を有することになるので、導体パターンの断線を防止することができる。 According to the tape carrier for a semiconductor device of the present invention, since the thickness of the second conductor pattern that becomes the outer side when bent at the bent portion is the same as or thicker than the thickness of the first conductor pattern that becomes the inner side, Since it has the intensity | strength according to the expansion-contraction of the 1st and 2nd conductor pattern, the disconnection of a conductor pattern can be prevented.
本発明の半導体装置によれば、折曲部の導体パターンを折り曲げられた導体パターンが受ける伸縮を緩和する形状に形成したため、応力の一点集中を避けることができ、折り曲げにしたがって導体パターンが伸縮するので、折り曲げやすく、かつ、導体パターンの断線を防止することができる。 According to the semiconductor device of the present invention, since the conductor pattern of the bent portion is formed in a shape that relaxes the expansion and contraction received by the bent conductor pattern, it is possible to avoid stress concentration at one point and the conductor pattern expands and contracts according to the bending. Therefore, it is easy to bend and the disconnection of the conductor pattern can be prevented.
本発明の半導体装置によれば、前記折曲部は、折曲部が折曲げ曲率を少なくとも0.1mmである波形とするため、折曲部においてリード配線を折り曲げても導体パターンが伸縮するので、折り曲げやすく、かつ、導体パターンの断線を防止することができる。 According to the semiconductor device of the present invention, since the bent portion has a waveform in which the bent portion has a bending curvature of at least 0.1 mm, the conductor pattern expands and contracts even if the lead wiring is bent at the bent portion. It is easy to bend and the conductor pattern can be prevented from being disconnected.
本発明の半導体装置によれば、折曲する際に内側となる第1のソルダーレジストの厚さを、折曲する際の外側となる第2のソルダーレジストの厚さと同一あるいは薄くしたため、折曲に応じて第1および第2のソルダーレジストが伸縮できるので、第1および第2のソルダーレジストの伸縮に応じて導体パターンが伸縮することになり、導体パターンの断線を防止することができる。 According to the semiconductor device of the present invention, the thickness of the first solder resist that becomes the inner side when bent is the same as or thinner than the thickness of the second solder resist that becomes the outer side when bent. Since the first and second solder resists can be expanded and contracted accordingly, the conductor pattern is expanded and contracted according to the expansion and contraction of the first and second solder resists, and disconnection of the conductor pattern can be prevented.
本発明の半導体装置によれば、折曲部において折り曲げられる際に外側になる第2の導体パターンの厚さを内側になる第1の導体パターンの厚さと同一あるいは厚く形成したため、第1および第2の導体パターンの伸縮に応じた強度を有することになるので、導体パターンの断線を防止することができる。 According to the semiconductor device of the present invention, the thickness of the second conductor pattern that becomes the outer side when bent at the bent portion is the same as or thicker than the thickness of the first conductor pattern that becomes the inner side. Since it has the intensity | strength according to expansion / contraction of 2 conductor patterns, the disconnection of a conductor pattern can be prevented.
図1は、本発明の実施の形態に係るTABテープの概略平面図を示す。このTABテープ1は、耐熱性・耐薬品性にすぐれたポリイミドなどからなる絶縁テープ11と、この絶縁テープ11上に形成されたシグナルパターン12と、このシグナルパターン12,12間を接続するリード配線13、13と、シグナルパターン12およびリード配線13上を覆うソルダーレジスト14とを備える。このTABテープ1は、折曲部2でシグナルパターン12,12が内側になるように折曲される。
FIG. 1 is a schematic plan view of a TAB tape according to an embodiment of the present invention. The
ここでリード配線13は、波形に形成し、波形の折曲げ曲率が少なくとも0.1mmの曲線を含む形状に形成する。波形に形成するのは、このリード配線13部分を折曲するときの伸びあるいは収縮に対応させるためである。 Here, the lead wiring 13 is formed in a waveform, and is formed in a shape including a curve having a waveform bending curvature of at least 0.1 mm. The reason why the waveform is formed is to cope with the expansion or contraction when the lead wiring 13 is bent.
図2は、図1に示す本発明の実施の形態に係るTABテープのA−A線に沿う断面を示す。このTABテープ1は、厚さ25〜50μmのポリイミドからなる絶縁テープ11と、絶縁テープ11を挟んで形成された厚さ9〜15μmの銅箔からなるシグナルパターン12および銅箔40上に形成された厚さ9〜30μmの銅箔からなるグランドパターン19と、シグナルパターン12とグランドパターン19とを接続するためのスルーホールビア15と、シグナルパターン12およびグランドパターン19に形成された金めっき層からなる電極パッド21と、シグナルパターン12,12間を接続するリード配線13と、シグナルパターン12、リード配線13等を保護するソルダーレジスト14,14とを備える。
FIG. 2 shows a cross section taken along line AA of the TAB tape according to the embodiment of the present invention shown in FIG. The
絶縁テープ11の内側のソルダーレジスト14の厚さは、5〜35μm、および絶縁テープ11の外側のソルダーレジスト14の厚さは、5〜40μmとする。このTABテープ1は、折曲部2においてシグナルパターン12が形成された面が内側になるように折曲される。
The thickness of the solder resist 14 inside the
図3−1〜図3−3は、本発明の実施の形態に係るTABテープの製造方法の説明図である。このTABテープ1は、以下のようにして製造する。
FIGS. 3-1 to 3-3 are explanatory diagrams of the method for manufacturing the TAB tape according to the embodiment of the present invention. The
まず、ベース材が厚さ25μmのポリイミド(ポリイミド樹脂性絶縁フィルム)からなる絶縁テープ11の両面に導体層となる厚さ12μmの銅箔30および厚さ12μmの銅箔40を貼った3層構造を持つ両面銅張りフレキシブルテープを準備する(図3−1(a))。
First, a three-layer structure in which a base material is a 12 μm
次に、フレキシブルテープを金型によりプレスすることによりパーフォレーション31を打ち抜き形成する(同図(b))。
Next, the
次に、銅箔30,40上に、厚さ15μmのネガ型フィルム状の感光性レジスト32をロールラミネートにより貼り付け(同図(c))、グランド面G側には図示しないマスクをして感光性レジスト32を露光し、直径60μmのビアパターンをグランド面Gに焼き付け、炭酸ナトリウム溶液にて感光性レジスト32の現像を行い、ビアパターン34を形成する(同図(d))。 Next, a negative film-like photosensitive resist 32 having a thickness of 15 μm is pasted on the copper foils 30 and 40 by roll lamination (FIG. 3C), and a mask (not shown) is provided on the ground plane G side. The photosensitive resist 32 is exposed, a via pattern having a diameter of 60 μm is baked on the ground surface G, and the photosensitive resist 32 is developed with a sodium carbonate solution to form a via pattern 34 (FIG. 4D).
次に、ビアパターン34を形成したグランド面Gを塩化第二鉄溶液のシャワーでエッチングすることにより銅パターン35を形成した(同図(e))。
Next, a
次に、水酸化ナトリウム溶液により感光性レジストを除去し、UVレーザーにてポリイミドを除去し、さらにポリイミドカスを除去するためデスミア処理を行い、スルーホールビア15を形成する(図3−2(f))。 Next, the photosensitive resist is removed with a sodium hydroxide solution, the polyimide is removed with a UV laser, and desmear treatment is performed to remove the polyimide residue, thereby forming a through-hole via 15 (FIG. 3-2 (f )).
次に、加工したスルーホールビア15にパラジウムの導電性皮膜を付着させ、シグナル面Sは、図示しないカバーフィルムを貼り付け銅メッキされないようにし、グランド面Gに厚さ約10μmの銅めっき層38を形成してシグナル面Sとグランド面Gとの導通をとる(同図(g))。
Next, a conductive film of palladium is attached to the processed through-hole via 15 so that the signal surface S is attached with a cover film (not shown) so as not to be plated with copper, and a
次に、テープ両面にネガ型フィルム状の感光性レジスト32をロールラミネーターにより貼り付け(同図(h))、シグナル面Sおよびグランド面Gに図示しないマスキングをして露光し、炭酸ナトリウム溶液にて現像を行いシグナル面Sおよびグランド面Gに感光性レジストのビアパターン34を形成した(同図(i))。次に、塩化第二鉄溶液のシャワーにて両面エッチングを行いシグナルパターン12、グランドパターン19を形成し、その後、水酸化ナトリウム溶液により感光性レジストを除去する(同図(j))。
Next, a negative film-like photosensitive resist 32 is pasted on both sides of the tape with a roll laminator (FIG. 11 (h)), and the signal surface S and the ground surface G are masked (not shown) and exposed to a sodium carbonate solution. Development was performed to form a via
このとき、シグナル面Sの折り曲げ部の配線パターンをラインL、スペースsとしたときL/s=30/40μmとなるように設定した。また、屈曲点が5箇所で曲率500μmの波状の配線とした。 At this time, when the wiring pattern of the bent portion of the signal surface S is a line L and a space s, L / s = 30/40 μm is set. In addition, a wavy wiring with five bending points and a curvature of 500 μm was used.
次に、シグナルパターン12、グランドパターン19の保護および絶縁のためにシグナル面S及びグランド面Gに絶縁性のポリイミド感光性ソルダーレジストを塗布し、露光、現像してソルダーレジスト14のパターンを形成する(図3−3(k))。
Next, in order to protect and insulate the
次に、開口されたシグナルパターン12、グランドパターン19に金メッキ層からなる電極パッド21を形成した(図3−3(l))。
Next, an
本発明の実施の形態に係るTABテープによれば、下記の効果を奏する。
(イ)リード配線13を波状に形成するため、実装時の折り曲げにおいて応力の一点集中を避けることができるので、リード配線13の断線を防止することができる。
(ロ)折曲部2においてリード配線13が伸びる方向にストレスがかかるが、波形とすることによりその伸びる方向に対応する長さの伸び代を確保でき、これにより、リード配線13にかかるストレスが緩和される。
(ハ)折曲部2のリード配線13が折り曲げ方向に対し垂直にならないこと、および波形に形成することで横方向への応力緩和が期待できる。
(ニ)絶縁テープ11の伸縮に伴ってリード配線13も伸縮するため、リード配線13の破断を防止することができる。
(ホ)折曲部2のリード配線13の厚さを変えることにより、折曲部2におけるリード配線13が受ける伸縮に応じた強度を有することになるので、リード配線13の断線を防止することができる。
(ヘ)折曲部2における絶縁テープ11に対して内側に配置されるソルダーレジスト14と外側に配置されるソルダーレジスト14の厚さを変えたため、それらのソルダーレジスト14,14の伸縮に応じてリード配線13が伸縮することになり、リード配線13の断線を防止することができる。
The TAB tape according to the embodiment of the present invention has the following effects.
(A) Since the lead wiring 13 is formed in a wave shape, it is possible to avoid a stress concentration at the time of bending at the time of mounting, and thus the disconnection of the lead wiring 13 can be prevented.
(B) Although stress is applied in the direction in which the lead wiring 13 extends in the
(C) It is expected that the lead wiring 13 of the
(D) Since the lead wiring 13 expands and contracts as the insulating
(E) By changing the thickness of the lead wiring 13 of the
(F) Since the thickness of the solder resist 14 arranged on the inner side and the solder resist 14 arranged on the outer side with respect to the insulating
なお、本発明の実施の形態に係るTABテープは、2メタルTABテープについて説明してきたが、1メタルTABテープにも適用可能である。また、折り曲げ用の半導体装置について説明してきたが、LCD用TABテープにも適用可能である。 Note that although the TAB tape according to the embodiment of the present invention has been described with respect to a two-metal TAB tape, it is also applicable to a one-metal TAB tape. Further, although the semiconductor device for bending has been described, it can also be applied to a TAB tape for LCD.
また、感光性レジストは、ネガ型フィルム状のものを使用したが、ポジ型であってもよく、また、液体状のものであってもよい。 Moreover, although the negative resist-form thing was used for the photosensitive resist, a positive type may be sufficient and a liquid form may be sufficient.
1,50 TABテープ
2 折曲部
11,51 絶縁テープ
12,52 シグナルパターン
13,53 リード配線
14,54,63 ソルダーレジスト
15,56 スルーホールビア
19,55 グランドパターン
21,59 電極パッド
30,40 銅箔
31 パーフォレーション
32 感光性レジスト
34 ビアパターン
35 銅パターン
38 銅めっき層
58 半導体チップ
57 モールド樹脂
60 半導体装置
61 金めっき線
68 銅パターン
70 半田ボール
S シグナル面
G グランド面
1,50
Claims (8)
前記折曲部の前記導体パターンは、波形に形成されていることを特徴とする半導体装置用テープキャリア。 In a tape carrier for a semiconductor device having an insulating tape as a base material, a conductor pattern formed on at least one surface of the insulating tape, and a bent portion capable of bending the insulating tape and the conductor pattern integrally,
The tape carrier for a semiconductor device, wherein the conductor pattern of the bent portion is formed in a waveform.
前記第1のソルダーレジスト層の厚さは、前記第2のソルダーレジストの厚さと同一あるいは薄く形成されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置用テープキャリア。 The bent portion is formed on one surface of the insulating tape, and is disposed on the inner side when bent, and a second solder resist layer formed on the other surface of the insulating tape. And
2. The tape carrier for a semiconductor device according to claim 1, wherein the thickness of the first solder resist layer is the same as or thinner than the thickness of the second solder resist.
前記折曲部は、前記第1の導体パターンの厚みを前記第2の導体パターンの厚みと同一あるいは薄く形成することを特徴とする半導体装置用テープキャリア。 An insulating tape as a base material; a first conductor pattern formed on one surface of the insulating tape; a second conductor pattern formed on the other surface of the insulating tape; the insulating tape; In the tape carrier for a semiconductor device having a second conductor pattern and a bent portion that can be bent integrally with the first conductor pattern inside.
The tape carrier for a semiconductor device, wherein the bent portion is formed such that a thickness of the first conductor pattern is the same as or thinner than a thickness of the second conductor pattern.
前記折曲部における前記導体パターンは、波形に形成されていることを特徴とする半導体装置。 In a semiconductor device in which an insulating tape as a base material is formed on at least one surface of the insulating tape and a conductor pattern on which a semiconductor element is mounted is bent together with the insulating tape at a bent portion.
The semiconductor device, wherein the conductor pattern in the bent portion is formed in a waveform.
前記第1のソルダーレジスト層の厚さは、前記第2のソルダーレジストの厚さと同一あるいは薄く形成することを特徴とする請求項5記載の半導体装置。 The bent portion is formed on one surface of the insulating tape and is disposed on the inner side when the folded portion is bent; and a second solder resist layer formed on the other surface of the insulating tape; Have
6. The semiconductor device according to claim 5, wherein the thickness of the first solder resist layer is the same as or thinner than the thickness of the second solder resist layer.
前記折曲部は、前記第1の導体パターンの厚みを前記第2の導体パターンの厚みと同一あるいは薄く形成することを特徴とする半導体装置。
An insulating tape as a base material, a first conductor pattern formed on one surface sandwiching the insulating tape and mounting a semiconductor chip, and a second conductor pattern formed on the other surface sandwiching the insulating tape In the semiconductor device in which the insulating tape and the first and second conductor patterns are bent integrally with the first conductor pattern inside,
The semiconductor device according to claim 1, wherein the bent portion is formed such that a thickness of the first conductor pattern is equal to or thinner than a thickness of the second conductor pattern.
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JP2013145842A (en) * | 2012-01-16 | 2013-07-25 | Nippon Mektron Ltd | Flexible circuit board |
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2004
- 2004-03-31 JP JP2004104741A patent/JP2005294388A/en active Pending
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