JP2005293983A - Spontaneous emission display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve utilization efficiency of an EL device for an organic EL multicolor display. <P>SOLUTION: A light transmittable electrode 7, a luminescent layer 8 having a light emitting function, a metal electrode 9, antireflective films 4, and a color filter layer 3 provided corresponding to each pixel between a light transmittable substrate 2 and the light transmittable electrode 7 are formed on the substrate 2. The antireflective films 4 are formed at a periphery of a display region of the substrate 2, and formed respectively overlapped with an auxiliary wiring 6, by which luminous takeoff efficiency of the EL device is improved removing a circular polarizer, without extremely lowering a display grade with regard to the organic EL multicolor display. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、有機ELディスプレイなどの自発光型表示装置に関する。   The present invention relates to a self-luminous display device such as an organic EL display.

有機エレクトロルミネセンス(以下、有機ELという。)ディスプレイの高コントラストを得る為に、外光の反射防止対策として、ディスプレイに偏光板と位相差板を組み合わせた円偏光板を貼合する方法がある。この方法は、表示エリア内の陰極による外光の反射は円偏光板により、ほとんど遮断される一方、有機EL素子の発光自体は、偏光フィルムの透過率(およそ40%)程度に減衰はするものの、その比率(いわゆるコントラスト比)は非常に高く、表示品位向上に一定の効果をあげている(たとえば、特許文献1参照)。   In order to obtain high contrast of an organic electroluminescence (hereinafter referred to as organic EL) display, there is a method of pasting a circularly polarizing plate that combines a polarizing plate and a retardation plate to the display as an antireflection measure for external light. . In this method, reflection of external light by the cathode in the display area is almost blocked by the circularly polarizing plate, while the light emission of the organic EL element itself is attenuated to the transmittance of the polarizing film (approximately 40%). The ratio (so-called contrast ratio) is very high, and has a certain effect for improving the display quality (for example, see Patent Document 1).

さらに、円偏光板を貼る場合には、反射層を施すことによって均一な偏光状態を形成し、外観上、配線パターンが見えにくくなるようにすることができる。これにより、モジュールの開口部を、ほぼ均一な状態に統一することができる(たとえば、特許文献2参照)。
特開平7−142170号公報 特開2002−203686号公報
Furthermore, when a circularly polarizing plate is pasted, a uniform polarization state can be formed by applying a reflective layer so that the wiring pattern is difficult to see in appearance. Thereby, the opening part of a module can be unified in a substantially uniform state (for example, refer patent document 2).
JP-A-7-142170 JP 2002-203686 A

しかしながら、白色の有機ELにカラーフィルタ各色(RGB)を重ねることによって、カラー表示を実現しようとする場合に、カラーフィルタの透過率(各色により差があるが、平均して30%前後)に加え、円偏光板の透過率(約40%)を介して、ON表示が実現されることとなる。このため、上述のディスプレイに偏光板と位相差板を組み合わせた円偏光板を貼合する手法を採用すると、有機EL素子の利用効率が、極めて悪くなる(約12%)という問題が生じた。   However, when a color display is to be realized by overlaying each color filter color (RGB) on a white organic EL, in addition to the transmittance of the color filter (there is a difference depending on each color, but on average around 30%) The ON display is realized through the transmittance (about 40%) of the circularly polarizing plate. For this reason, when the method of bonding the circularly-polarizing plate which combined the polarizing plate and the phase difference plate to the above-mentioned display is employ | adopted, the problem that the utilization efficiency of an organic EL element became very bad (about 12%) arose.

そのため、従来の技術では円偏光板を用いているが、発光表示部に円偏光板を付加した有機ELパネルは、コントラストは良いが輝度が低下するという問題点があった。この場合、非発光部では、コントラストは良くなる。一方で、発光表示部で円偏光板をなくすと、コントラストが悪くなるが、輝度は高くなる。この場合、非発光部は、コントラストが悪くなるという現象が生じていた。   For this reason, a circularly polarizing plate is used in the prior art. However, an organic EL panel in which a circularly polarizing plate is added to the light emitting display portion has a problem that brightness is lowered although contrast is good. In this case, the contrast is improved in the non-light emitting portion. On the other hand, when the circularly polarizing plate is eliminated from the light emitting display portion, the contrast is deteriorated but the luminance is increased. In this case, the non-light emitting portion has a phenomenon that the contrast is deteriorated.

さらに、表示部に形成されたカラーフィルタ各色(RGB)の繰り返しパターンは、外光に対して、カラーフィルタを往復で通過するので、円偏光板を貼らなくても、OFF表示はある程度黒く見える(約9%)。しかしながら、表示周辺の配線部や、偏光フィルムを貼る前提で配置したダミーパッド(以下、非配線部という。)は、金属反射する。そのため、表示周辺全体に渡って表示品位を保ちつつ、円偏光板を外すのは困難であった。   Furthermore, since the repetitive pattern of each color filter color (RGB) formed on the display portion passes through the color filter in a reciprocating manner with respect to the external light, the OFF display looks black to some extent without attaching a circularly polarizing plate ( About 9%). However, the wiring part around the display and the dummy pad (hereinafter referred to as a non-wiring part) arranged on the premise of attaching the polarizing film reflect the metal. Therefore, it is difficult to remove the circularly polarizing plate while maintaining display quality over the entire display periphery.

そこで、本発明では、カラーフィルタ方式の有機ELマルチカラーディスプレイに関して、非発光部に反射防止膜を形成することにより、表示品質を維持しつつ円偏光板を取り外すことを可能とする。すなわち、本発明は、EL素子の利用効率を高めることを目的とする。   Therefore, in the present invention, with respect to the color filter type organic EL multi-color display, it is possible to remove the circularly polarizing plate while maintaining display quality by forming an antireflection film on the non-light emitting portion. That is, an object of the present invention is to increase the utilization efficiency of EL elements.

上記目的を達成するため、本願における電子装置の第一の解決手段として代表的な発明は、光透過性を有する基板と、基板の上に形成される光透過性を有する電極と、光透過性を有する電極の上に形成される発光機能を有する有機層と、発光機能を有する有機層を、光透過性を有する電極との間に配置するように形成された金属電極と、外光の反射を防止する反射防止膜と、を少なくとも有し、基板は、表示領域と、該表示領域の周辺に形成された非表示領域から少なくとも構成され、反射防止膜は、非表示領域に少なくとも形成されていることを特徴とする。   In order to achieve the above object, a representative invention as a first solving means of an electronic device in the present application includes a light-transmitting substrate, a light-transmitting electrode formed on the substrate, and a light-transmitting property. An organic layer having a light emitting function formed on an electrode having a metal layer, a metal electrode formed so as to dispose the organic layer having a light emitting function between the light transmissive electrode, and reflection of external light An antireflective film that prevents at least a display area, and the substrate includes at least a display area and a non-display area formed around the display area, and the antireflection film is formed at least in the non-display area. It is characterized by being.

このような構成を採用することで、表示周辺全体に渡って表示品位を保ちつつ、円偏光板を外すことが可能となる。   By adopting such a configuration, the circularly polarizing plate can be removed while maintaining display quality over the entire display periphery.

前記基板において、光透過性を有する電極が形成される基板面に対向する基板面には、円偏光板が、少なくとも配置されていないことを特徴としてもよい。   The substrate may be characterized in that at least a circularly polarizing plate is not disposed on a substrate surface opposite to a substrate surface on which a light-transmitting electrode is formed.

前記自発光型表示装置は、表示領域にマトリクス状に形成された複数の画素を有し、各画素は、光透過性を有する電極、発光機能を有する有機層および金属電極を、有することを特徴としてもよい。   The self-luminous display device includes a plurality of pixels formed in a matrix in a display region, and each pixel includes a light-transmitting electrode, an organic layer having a light-emitting function, and a metal electrode. It is good.

このような構成を採用することで、有機EL素子の光取りだし効率を極めて高くすることが出来る。   By adopting such a configuration, the light extraction efficiency of the organic EL element can be extremely increased.

前記反射防止膜は、少なくとも樹脂材料を含む膜を有することを特徴としてもよい。   The antireflection film may include a film containing at least a resin material.

前記自発光型表示装置は、反射防止膜を覆って形成される保護層を有することを特徴としてもよい。   The self-luminous display device may include a protective layer formed to cover the antireflection film.

前記反射防止膜は、少なくとも金属材料を含む膜を有することを特徴としてもよい。   The antireflection film may include a film containing at least a metal material.

前記基板と光透過性を有する電極の間に各画素に対応して設けられたカラーフィルタ層と、カラーフィルタ層を覆って形成される保護層と、反射防止膜は、少なくとも保護層の形成領域外に形成され、光透過性を有する基板全面に亘って、反射防止膜および保護層を被覆するパッシベーション層とを、さらに有することを特徴としてもよい。   A color filter layer provided corresponding to each pixel between the substrate and the light-transmitting electrode, a protective layer formed so as to cover the color filter layer, and an antireflection film, at least a protective layer forming region A passivation layer that covers the entire surface of the light-transmitting substrate that is formed outside and covers the antireflection film and the protective layer may be further included.

このような構成を採用することで、コントラスト比が非常に高く、かつ、引き出し配線部から水分が入りにくい構造となる。   By adopting such a configuration, the contrast ratio is very high, and it is difficult for moisture to enter from the lead-out wiring portion.

前記自発光型表示装置は、パッシベーション層の上に形成され、かつ、光透過性を有する電極に電気的に接続された補助配線と、反射防止膜は、補助配線の一部または少なくとも非表示領域の一部でオーバーラップして配置されていることを特徴としてもよい。   The self-luminous display device includes an auxiliary wiring formed on the passivation layer and electrically connected to the light-transmitting electrode, and the antireflection film is a part of the auxiliary wiring or at least a non-display area. It is good also as the characteristics arrange | positioned so that it may overlap in a part.

このような構成を採用することで、発光部と非発光部でコントラスト比が均一に維持できる。また、反射防止膜には、補助配線と同一の材料(たとえばアルミニウム(Al)やクロム(Cr))を使用することによって腐食に対して強く、引き出し配線部から水分が入りにくい構造となる。   By adopting such a configuration, it is possible to maintain a uniform contrast ratio between the light emitting portion and the non-light emitting portion. Further, by using the same material as the auxiliary wiring (for example, aluminum (Al) or chromium (Cr)) for the antireflection film, the antireflection film is resistant to corrosion and has a structure in which moisture does not easily enter from the lead-out wiring portion.

前記基板と光透過性を有する電極の間に各画素に対応して設けられたカラーフィルタ層と、該カラーフィルタ層を覆って形成される保護層および保護層を被覆するパッシベーション層とを、さらに有し、反射防止膜は、少なくとも保護層の形成領域外で、パッシベーション層の上に形成される膜と、保護層の形成領域内でパッシベーション層の上に形成される膜とを有しており、保護層の形成領域内でパッシベーション層の上に形成された方の反射防止膜は、光透過性を有する電極に電気的に接続された補助配線としても機能することを特徴としてもよい。   A color filter layer provided corresponding to each pixel between the substrate and the light-transmitting electrode; a protective layer formed over the color filter layer; and a passivation layer covering the protective layer; The antireflection film has a film formed on the passivation layer at least outside the protective layer formation region and a film formed on the passivation layer within the protective layer formation region. The antireflection film formed on the passivation layer in the protective layer formation region may also function as an auxiliary wiring electrically connected to the light-transmitting electrode.

前記自発光型表示装置は、基板と光透過性を有する電極の間に各画素に対応して設けられたカラーフィルタ層と、該カラーフィルタ層を覆って形成される保護層および保護層を被覆するパッシベーション層とを、さらに有し、反射防止膜は、カラーフィルタ層を少なくとも有することを特徴としてもよい。   The self-luminous display device covers a color filter layer provided corresponding to each pixel between a substrate and a light-transmitting electrode, a protective layer formed to cover the color filter layer, and a protective layer The antireflection film may further include at least a color filter layer.

前記自発光型表示装置は、パッシベーション層の上に形成され、かつ、光透過性を有する電極に電気的に接続された補助配線を有し、補助配線と電気的に絶縁された補助配線膜は、少なくとも非表示領域の一部において、カラーフィルタ層で形成される反射防止膜と、オーバーラップして配置されることを特徴としてもよい。   The self-luminous display device includes an auxiliary wiring formed on the passivation layer and electrically connected to the light-transmitting electrode, and the auxiliary wiring film electrically insulated from the auxiliary wiring is In at least a part of the non-display area, the antireflection film formed of the color filter layer may be overlapped with the antireflection film.

前記反射防止膜は更に複数有り、少なくとも一方の反射防止膜は、パッシベーション層の上の少なくとも非表示領域の一部で、カラーフィルタ層とオーバーラップして配置され、少なくとも他方の反射防止膜は、パッシベーション層上で表示領域内に形成され、光透過性を有する電極に電気的に接続された補助配線としても機能し、非表示領域に形成された反射防止膜と同一の材料を少なくとも含むことを特徴としてもよい。   There are a plurality of the antireflection films, and at least one of the antireflection films is disposed so as to overlap with the color filter layer in at least a part of the non-display area on the passivation layer. It is formed in the display region on the passivation layer, functions as an auxiliary wiring electrically connected to the light-transmitting electrode, and includes at least the same material as the antireflection film formed in the non-display region. It may be a feature.

前記自発光型表示装置は、基板と光透過性を有する電極の間に各画素に対応して設けられたカラーフィルタ層と、該カラーフィルタ層を覆って形成される保護層および保護層を被覆するパッシベーション層とを、さらに有し、反射防止膜は、カラーフィルタ層を有しており、該カラーフィルタ層は、少なくとも2層以上積層して形成された構造を有していることを特徴としてもよい。   The self-luminous display device covers a color filter layer provided corresponding to each pixel between a substrate and a light-transmitting electrode, a protective layer formed to cover the color filter layer, and a protective layer A passivation layer, the antireflection film has a color filter layer, and the color filter layer has a structure formed by laminating at least two layers. Also good.

前記自発光型表示装置は、基板と光透過性を有する電極の間に、各画素に対応して設けられたカラーフィルタ層と、該カラーフィルタ層を被覆する保護層、および該保護層を被覆するパッシベーション層とを、さらに有し、反射防止膜は、カラーフィルタ層を有しており、該カラーフィルタ層が、画素と同一パターンで形成されていることを特徴としてもよい。   The self-luminous display device includes a color filter layer provided corresponding to each pixel between a substrate and a light-transmissive electrode, a protective layer covering the color filter layer, and a protective layer The antireflection film may further include a color filter layer, and the color filter layer may be formed in the same pattern as the pixels.

EL素子の光取りだし利用効率を高めることが可能となる。   It is possible to increase the light extraction efficiency of the EL element.

図1は、実施例1に使用される有機ELパネルの断面図を示す。有機ELパネル1は、表示領域にマトリクス状に形成された複数の画素を有し、基板2、カラーフィルタ3、反射防止膜4、オーバーコート5、補助配線6、透明電極7、発光層8、反射電極9およびパッシベーション層10から構成されている。   FIG. 1 is a cross-sectional view of an organic EL panel used in Example 1. The organic EL panel 1 has a plurality of pixels formed in a matrix in a display area, and includes a substrate 2, a color filter 3, an antireflection film 4, an overcoat 5, an auxiliary wiring 6, a transparent electrode 7, a light emitting layer 8, It consists of a reflective electrode 9 and a passivation layer 10.

基板2は、たとえばガラス、石英などの非晶質基板を用い、基板2側は通常光取り出し側になるため、光透過性の高い材質が利用される。本実施例では、コーニング製1737のガラス基板を採用している。   As the substrate 2, for example, an amorphous substrate such as glass or quartz is used. Since the substrate 2 side is usually the light extraction side, a material having high light transmittance is used. In this embodiment, a Corning 1737 glass substrate is used.

カラーフィルタ3は、本実施例では、基板2上の表示領域内に形成されており、各画素に対応して設けられたRGBの各色の組み合わせによって、カラー表示を可能にするものである。   In this embodiment, the color filter 3 is formed in the display area on the substrate 2 and enables color display by a combination of RGB colors provided corresponding to each pixel.

具体的には、カラーフィルタ3は、コーニング製1737のガラス基板2上に、青色透過層、緑色透過層、赤色透過層として、フジフィルムオーリン社製のカラーフィルタで、カット光が青は490nm以上の波長の光、緑は560nm以上の波長の光および480nm以下の光、赤は580nm以下の波長の光であるものを用いている。そして、本実施例では、このカラーフィルタ3をそれぞれ100μmの幅でストライプ状に形成した。   Specifically, the color filter 3 is a color filter manufactured by Fujifilm Ohlin as a blue transmissive layer, a green transmissive layer, and a red transmissive layer on a glass substrate 2 made of Corning 1737. Light having a wavelength of 580 nm, green is light having a wavelength of 560 nm or more, light having a wavelength of 480 nm or less, and red is light having a wavelength of 580 nm or less. In this embodiment, the color filters 3 are formed in stripes with a width of 100 μm.

反射防止膜4は、本実施例では、黒色顔料が含有されたアクリル型の樹脂膜で構成されている。この樹脂膜は、液晶表示装置用のブラックマスクに通常用いられるものを採用してもよい。本実施例では、感光性の樹脂の中に黒色化するための着色剤を添加して塗布後、ホトリソグラフィープロセスを用いて、所望の反射防止膜4のパターンを形成する。   In this embodiment, the antireflection film 4 is composed of an acrylic resin film containing a black pigment. As this resin film, a film usually used for a black mask for a liquid crystal display device may be adopted. In this embodiment, a coloring agent for blackening is added to the photosensitive resin and applied, and then a desired pattern of the antireflection film 4 is formed using a photolithography process.

なお、反射防止膜4が形成される基板2の領域には、非配線部が少なくとも非表示領域に配置されオーバーラップしている。すなわち、表示エリア周辺に反射防止膜4を形成することにより、外観上、配線パターンなどからの反射光が見えにくくなるようにすることができる。これにより、表示エリア及び表示エリア周辺のOFF表示を暗く見せて、コントラストを確保することができる。   In addition, in the area | region of the board | substrate 2 in which the anti-reflective film 4 is formed, the non-wiring part is arrange | positioned and overlapped at least in the non-display area | region. That is, by forming the antireflection film 4 around the display area, it is possible to make it difficult to see the reflected light from the wiring pattern or the like in appearance. As a result, the OFF display around the display area and the display area can appear dark, and the contrast can be ensured.

オーバーコート5は、カラーフィルタ3および反射防止膜4を覆って形成される保護層であって、本実施例では、紫外線硬化型アクリル樹脂を用いており、1μmの厚さで形成している。   The overcoat 5 is a protective layer formed so as to cover the color filter 3 and the antireflection film 4. In this embodiment, the overcoat 5 is made of an ultraviolet curable acrylic resin and has a thickness of 1 μm.

そして、その上に、パッシベーション層10を、組成SiOxNy(モル比:x=1.77、y=0.26)とし、成膜速度330nm/minで1μmの厚さに、プラズマCVD(化学気相成長)成膜法で形成した。この時のガス圧は90Paで、温度条件は200℃、投入電力は600W(高周波13.56MHz)、GAPは33mmとした。   Then, the passivation layer 10 has a composition SiOxNy (molar ratio: x = 1.77, y = 0.26), and is formed by plasma CVD (chemical vapor phase) to a thickness of 1 μm at a deposition rate of 330 nm / min. Growth) It was formed by a film forming method. At this time, the gas pressure was 90 Pa, the temperature condition was 200 ° C., the input power was 600 W (high frequency 13.56 MHz), and the GAP was 33 mm.

補助配線6は、透明電極7の一部に、仕事関数の小さな金属膜を、補助配線6として設けることによって、部分的に正孔電荷の注入効率を下げて、外部に放出される発光に寄与しない電流を減少させる。さらに、透明電極7と補助配線6とが、電気的に接続されることによって、全体の抵抗値を低減し、駆動電圧を低下させることができる。このような有機EL素子が、例えば、特開平5−307997号公報等に開示されている。なお、本実施例では、Crを膜厚400nmでカラーフィルタ3の片側の縁に概ね重なる様に線幅20μmでカラーフィルタ3と同様にストライプ状に形成した。   The auxiliary wiring 6 contributes to light emission emitted to the outside by partially reducing the hole charge injection efficiency by providing a metal film having a small work function as a part of the transparent electrode 7 as the auxiliary wiring 6. Don't decrease current. Furthermore, since the transparent electrode 7 and the auxiliary wiring 6 are electrically connected, the overall resistance value can be reduced and the driving voltage can be reduced. Such an organic EL element is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 5-307997. In this example, Cr was formed in a stripe shape in the same manner as the color filter 3 with a film thickness of 400 nm and a line width of 20 μm so as to substantially overlap the edge on one side of the color filter 3.

透明電極7は、特に制限されないが、本実施例では正孔を注入するための電極であって、通常基板2側から発光した光を取り出す構成であるため、透明ないし半透明な電極が好ましい。透明電極7は、特に制限されないが、ITO(錫ドープ酸化インジウム)、IZO(亜鉛ドープ酸化インジウム)、ZnO、SnO、In等が利用される。特に好ましくは、ITO(錫ドープ酸化インジウム)、IZO(亜鉛ドープ酸化インジウム)が利用される。本実施例では、透明電極7が、ITO端部で接触し、かつカラーフィルタ3上に重なるように、256ドット×64ラインの画素(1画素300×300μm)を構成するよう成膜した。このとき、透明電極7は、線幅90μmでストライプ状に形成した。 Although the transparent electrode 7 is not particularly limited, in the present embodiment, it is an electrode for injecting holes, and is usually configured to take out light emitted from the substrate 2 side. Therefore, a transparent or translucent electrode is preferable. The transparent electrode 7 is not particularly limited, but ITO (tin-doped indium oxide), IZO (zinc-doped indium oxide), ZnO, SnO 2 , In 2 O 3 or the like is used. Particularly preferably, ITO (tin-doped indium oxide) or IZO (zinc-doped indium oxide) is used. In this example, the transparent electrode 7 was formed so as to constitute a pixel of 256 dots × 64 lines (one pixel 300 × 300 μm) so that the transparent electrode 7 was in contact with the ITO end and overlapped with the color filter 3. At this time, the transparent electrode 7 was formed in a stripe shape with a line width of 90 μm.

次にポジ型レジストを基板全面にスピンコーティングした後、透明電極7の中央部分に80μm×300μmの開口部が得られるようにパターニングした。そして、逆テーパーレジスト(後述するエッジカバー層92)を基板全面にスピンコーティングした後、ポジレジストが存在し、かつ透明電極7のストライプ方向とは直交するように、線幅10μmで逆テーパーレジストをストライプ状に形成した。   Next, a positive resist was spin-coated on the entire surface of the substrate, and then patterned so that an opening of 80 μm × 300 μm was obtained in the central portion of the transparent electrode 7. Then, after spin-coating a reverse taper resist (edge cover layer 92 described later) over the entire surface of the substrate, a positive resist is present and a reverse taper resist is formed with a line width of 10 μm so as to be orthogonal to the stripe direction of the transparent electrode 7. It was formed in a stripe shape.

そして、ストライプ状に形成された透明電極7が形成された基板2を、中世洗剤を用いて超音波洗浄し、乾燥した後UV/O洗浄を行った。ついで、この基板2を真空成膜室に移動し、真空蒸着の基板ホルダにて固定し、槽内を1×10−4Pa以下まで減圧した。 And the board | substrate 2 with which the transparent electrode 7 formed in the stripe form was formed was ultrasonically cleaned using a medieval detergent, dried, and then UV / O 3 cleaned. Next, the substrate 2 was moved to a vacuum film formation chamber, fixed with a vacuum deposition substrate holder, and the inside of the tank was depressurized to 1 × 10 −4 Pa or less.

さらに、減圧状態を保ったまま、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(N−(4−メチルフェニル)−N−フェニル(4−アミノフェニル))−1,1−ビスフェニル−4,4−ジアミンを、蒸着速度0.1nm/secで40nmの厚さに形成した。減圧状態を保ったまま、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(1−ナフチル)−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミンを、蒸着速度0.1nm/secで10nmの厚さに形成した。   Further, while maintaining the reduced pressure state, N, N′-diphenyl-N, N′-bis (N- (4-methylphenyl) -N-phenyl (4-aminophenyl))-1,1-bisphenyl- 4,4-diamine was formed to a thickness of 40 nm at a deposition rate of 0.1 nm / sec. While maintaining the reduced pressure state, N, N′-diphenyl-N, N′-bis (1-naphthyl) -1,1′-diphenyl-4,4′-diamine was deposited at a deposition rate of 0.1 nm / sec to 10 nm. The thickness was formed.

発光層8は、発光機能を有する化合物である蛍光性物質が用いられる。このような蛍光性物質としては、例えば、以下の化合物1乃至4の化合物から構成される。

Figure 2005293983
Figure 2005293983
Figure 2005293983
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For the light emitting layer 8, a fluorescent material which is a compound having a light emitting function is used. Such a fluorescent substance is composed of, for example, the following compounds 1 to 4.
Figure 2005293983
Figure 2005293983
Figure 2005293983
Figure 2005293983

具体的には、減圧状態を保ったまま、発光層8として、化合物1と化合物2を、100:3の体積率、蒸着速度0.1nm/secで共蒸着し、10nmの厚さに形成した。   Specifically, the compound 1 and the compound 2 were co-deposited at a volume ratio of 100: 3 and a deposition rate of 0.1 nm / sec as the light emitting layer 8 while maintaining the reduced pressure state, and formed to a thickness of 10 nm. .

さらに、減圧状態を保ったまま、発光層8として、化合物3と化合物4を100:3の体積比率、蒸着速度0.1nm/secで共蒸着し、30nmの厚さに形成した。   Further, while maintaining the reduced pressure state, Compound 3 and Compound 4 were co-deposited at a volume ratio of 100: 3 and a deposition rate of 0.1 nm / sec to form a thickness of 30 nm as the light emitting layer 8.

反射電極9は、特に制限されないが、本実施例では電子を注入するための電極であって、低仕事関数の物質が好ましい。例えば、K、Li、Na、Mg、La、Ce、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Zn、Zr等の金属元素単体がある。また、安定性を向上させるために、それらを含む2成分、3成分の合金系を用いることが好ましい。合金系としては、例えばAg・Mg(Ag:0.1〜50at%)、Al・Li(Li:0.01〜14at%)、In・Mg(Mg:50〜80at%)、Al・Ca(Ca:0.01〜20at%)等が好ましい。   The reflective electrode 9 is not particularly limited, but in the present embodiment, it is an electrode for injecting electrons, and a substance having a low work function is preferable. For example, there are simple metal elements such as K, Li, Na, Mg, La, Ce, Ca, Sr, Ba, Al, Ag, In, Sn, Zn, and Zr. In order to improve the stability, it is preferable to use a two-component or three-component alloy system containing them. Examples of the alloy system include Ag · Mg (Ag: 0.1 to 50 at%), Al·Li (Li: 0.01 to 14 at%), In · Mg (Mg: 50 to 80 at%), Al · Ca ( Ca: 0.01 to 20 at%) is preferable.

反射電極9は、蒸着法やスパッタ法で形成することが可能である。反射電極9の厚さは、電子注入を十分行える一定以上の厚さとすれば良く、0.1nm以上、好ましくは1nm以上とすればよい。また、その上限値には特に制限はないが、通常膜厚は1〜500nm程度とすればよい。   The reflective electrode 9 can be formed by vapor deposition or sputtering. The thickness of the reflective electrode 9 may be a certain thickness that can sufficiently inject electrons, and may be 0.1 nm or more, preferably 1 nm or more. Moreover, although there is no restriction | limiting in particular in the upper limit, A normal film thickness should just be about 1-500 nm.

具体的には、本実施例では、IDE120を蒸着速度0.1nm/secで30nmの厚さに形成した。減圧状態を保ったまま、LiFを蒸着速度0.01nm/secで0.7nmの厚さに形成した。さらに減圧状態を保ったまま、反射電極9としてAlを蒸着速度0.8nm/secで300nmの厚さに形成した。   Specifically, in this example, IDE 120 was formed to a thickness of 30 nm at a deposition rate of 0.1 nm / sec. LiF was formed to a thickness of 0.7 nm at a deposition rate of 0.01 nm / sec while maintaining the reduced pressure state. Further, while maintaining the reduced pressure state, Al was formed as the reflective electrode 9 to a thickness of 300 nm at a deposition rate of 0.8 nm / sec.

そして、有機EL素子において、透明電極7から注入された正孔と、金属電極4から注入された電子との再結合によって、発光層8において励起子が生じ、この励起子が再結合する過程で光を放ち、この光が、透明電極7及び基板2を通過して、外部に放出される。そのため、透明電極7には仕事関数の大きなものを、反射電極9には仕事関数の小さなものをそれぞれ用いることで、電荷の注入効率が上がり、発光層8の発光効率が向上する。   In the organic EL element, excitons are generated in the light-emitting layer 8 due to recombination of holes injected from the transparent electrode 7 and electrons injected from the metal electrode 4, and the excitons are recombined. Light is emitted, and the light passes through the transparent electrode 7 and the substrate 2 and is emitted to the outside. Therefore, by using the transparent electrode 7 having a high work function and the reflective electrode 9 having a low work function, the charge injection efficiency is increased, and the light emission efficiency of the light emitting layer 8 is improved.

具体的には、本実施例では、有機ELパネル1を256×64ドット(画素)のパターンで形成し、線順次駆動電圧15Vで駆動し、カラーフィルタと円偏光板がない状態で暗室下で250cd/mの白色発光で色度X:0.32、色度Y:0.36を実現した。 Specifically, in this embodiment, the organic EL panel 1 is formed in a pattern of 256 × 64 dots (pixels), driven with a line sequential drive voltage of 15 V, and without a color filter and a circularly polarizing plate in a dark room. Chromaticity X: 0.32 and chromaticity Y: 0.36 were realized with white light emission of 250 cd / m 2 .

本実施例においては、表示エリア周辺の配線のオーバーラップ部に反射防止膜4を形成することにより、表示パネルの低反射化が実現できる。さらに、表示エリア周辺の配線が存在しない非発光部にも、反射防止膜4が配置されるので、低反射を実現することができる。その結果として、本来必要とされていた円偏光板が不要となる。これにより、円偏光板に吸収される分の発光をさせる必要がないため、モジュールとしての寿命が延び、また、円偏光板を取り外すことによるコストダウンにも繋がることとなる。   In this embodiment, the antireflection film 4 is formed in the overlapping portion of the wiring around the display area, thereby realizing a low reflection of the display panel. Furthermore, since the antireflection film 4 is also disposed in the non-light emitting portion where there is no wiring around the display area, low reflection can be realized. As a result, the circularly polarizing plate that was originally required becomes unnecessary. As a result, it is not necessary to emit light as much as it is absorbed by the circularly polarizing plate, thereby extending the lifetime of the module and leading to cost reduction by removing the circularly polarizing plate.

図2(a)(b)は、実施例2に使用される有機ELパネルの断面図を示す。図2(a)は、有機ELパネル1の断面を示し、図2(b)は、有機ELパネル1の配線部の断面を示している。   2A and 2B are cross-sectional views of the organic EL panel used in Example 2. FIG. FIG. 2A shows a cross section of the organic EL panel 1, and FIG. 2B shows a cross section of the wiring portion of the organic EL panel 1.

ここで、本実施例が、実施例1と異なる点は、反射防止膜4は、黒色で導電率の高い金属材料を含む膜から構成されている。反射防止膜4は、例えば、炭素を含んだ膜、黒色顔料・染料を基材に分散混入させた膜、あるいは、金属の化合物(すなわち、酸化物、窒化物、硫化物、ホウ化物等)、もしくはこれらの混合物を用いることができる。具体的に、本実施例では、Cr、酸化Crあるいはこれらの積層の反射防止膜4を用いている。   Here, the present embodiment is different from the first embodiment in that the antireflection film 4 is composed of a black film containing a metal material having high conductivity. The antireflection film 4 is, for example, a film containing carbon, a film in which a black pigment / dye is dispersed and mixed in a base material, or a metal compound (that is, oxide, nitride, sulfide, boride, etc.), Alternatively, a mixture thereof can be used. Specifically, in this embodiment, Cr, Cr oxide or a laminated antireflection film 4 is used.

そして、本実施例では、反射防止膜4は、図2(a)に示すように、少なくともオーバーコート5が形成されない領域に、形成されている。また、図2(b)に示すように、表示領域外の補助配線6が形成されている場所では、パッシベーション層10を介して、反射防止膜4とオーバーラップして形成されている。このように、反射防止膜4が、補助配線6の配線パターンと同じ形状にオーバーラップしている。   In this embodiment, the antireflection film 4 is formed at least in a region where the overcoat 5 is not formed, as shown in FIG. Further, as shown in FIG. 2B, the auxiliary wiring 6 outside the display area is formed so as to overlap with the antireflection film 4 through the passivation layer 10. Thus, the antireflection film 4 overlaps with the same shape as the wiring pattern of the auxiliary wiring 6.

反射防止膜4は、引き出し配線部まで延在しているが、反射防止膜4の上には、パッシベーション層10が存在し、その上に補助配線6が形成される。そのため、反射防止膜4は、電気的には接続されていない。したがって、反射防止膜4と引き出し配線間に形成される浮遊容量は、反射防止膜4に電位がかかることがないので、電荷が蓄積されることはない。そのため、駆動時において、余計な電荷の充放電がおきないので、表示品位を劣化させることもない。   The antireflection film 4 extends to the lead-out wiring portion, but the passivation layer 10 exists on the antireflection film 4 and the auxiliary wiring 6 is formed thereon. Therefore, the antireflection film 4 is not electrically connected. Therefore, the stray capacitance formed between the antireflection film 4 and the lead-out wiring does not apply a potential to the antireflection film 4, so that no charge is accumulated. For this reason, no extra charge is charged or discharged during driving, and display quality is not deteriorated.

反射防止膜4が、本図でストライプ形状になっているのは、反射防止膜4を面状に形成すると、反射防止膜4と引き出し配線が、2つのコンデンサーの直列と同じ関係になってしまい、これを防ぐためである。反射防止膜4と引き出し配線がコンデンサーの関係になってしまうと、反射防止膜4と引き出し配線の電位の差分の電荷が蓄積されてしまい、表示品位を劣化させる。これを防止するため、本実施例では、反射防止膜4を、ストライプあるいは線上の構成としている。   The antireflection film 4 has a stripe shape in this figure. When the antireflection film 4 is formed in a planar shape, the antireflection film 4 and the lead-out wiring have the same relationship as the series of two capacitors. This is to prevent this. If the antireflection film 4 and the lead-out wiring are in a capacitor relationship, a charge corresponding to the difference in potential between the anti-reflection film 4 and the lead-out wiring is accumulated, and the display quality is deteriorated. In order to prevent this, in this embodiment, the antireflection film 4 has a stripe or line configuration.

反射防止膜がこのような構成を採用することで、パネル全体として均一な低反射化が実現でき、コントラスト比が非常に高くなる。その結果として、本来必要とされていた円偏光板が不要となる。これにより、円偏光板に吸収される分の発光をさせる必要がないため、モジュールとしての寿命が延び、また、円偏光板を取り外すことによるコストダウンにも繋がることとなる。   By adopting such a configuration for the antireflection film, uniform low reflection can be realized for the entire panel, and the contrast ratio becomes very high. As a result, the circularly polarizing plate that was originally required becomes unnecessary. As a result, it is not necessary to emit light as much as it is absorbed by the circularly polarizing plate, thereby extending the lifetime of the module and leading to cost reduction by removing the circularly polarizing plate.

図3(a)(b)は、実施例3に使用される有機ELパネルの断面図を示す。本実施例が、実施例1と異なる点は、カラーフィルタ3が、反射防止膜として機能していることである。さらに、図3(a)に示すとおり、表示領域外の補助配線膜6は、オーバーコート5およびパッシベーション層10の上に配置されている。   3A and 3B are cross-sectional views of the organic EL panel used in Example 3. FIG. The present embodiment is different from the first embodiment in that the color filter 3 functions as an antireflection film. Further, as shown in FIG. 3A, the auxiliary wiring film 6 outside the display area is disposed on the overcoat 5 and the passivation layer 10.

図3(a)では、表示領域および非表示領域の双方の多くの領域において、カラーフィルタ3、補助配線膜6が、均一に配置されている。これにより、表示面全体で表示が均質化される。したがって、本実施例においては、発光部と非発光部でコントラスト比が均一に維持できる。   In FIG. 3A, the color filter 3 and the auxiliary wiring film 6 are uniformly arranged in many areas of both the display area and the non-display area. Thereby, the display is homogenized over the entire display surface. Therefore, in this embodiment, the contrast ratio can be kept uniform between the light emitting portion and the non-light emitting portion.

図3(b)は、表示領域外の補助配線膜6をパッシベーション層10上に形成しない場合を示している。この場合、カラーフィルタ3が、反射防止膜4として機能する。すなわち、カラーフィルタ3により、外観上、配線パターンなどからの反射光が見えにくくなるように構成されている。これにより、表示エリア及び表示エリア周辺のOFF表示を暗く見せて、コントラストを確保することができる。   FIG. 3B shows a case where the auxiliary wiring film 6 outside the display area is not formed on the passivation layer 10. In this case, the color filter 3 functions as the antireflection film 4. That is, the color filter 3 is configured to make it difficult to see the reflected light from the wiring pattern or the like in appearance. As a result, the OFF display around the display area and the display area can appear dark, and the contrast can be ensured.

なお、カラーフィルタ3が、反射防止膜4として機能する場合において、そのカラーフィルタ3を、少なくとも2層以上積層して形成してもよい。このように構成することによって、カラーフィルタ3を1層とする場合に比較して、外光の反射を、さらに防止することができる。   When the color filter 3 functions as the antireflection film 4, the color filter 3 may be formed by stacking at least two layers. By configuring in this way, it is possible to further prevent reflection of external light as compared with the case where the color filter 3 is a single layer.

具体的には、カラーフィルタ3が、2層以上使用されるエリアカラー表示の場合には、反射防止膜4として機能するカラーフィルタ3を、少なくとも2層形成することができる。一方で、フルカラーの場合は、カラーフィルタ3を3層として、反射防止膜4としての機能を向上させることができる。   Specifically, in the case of area color display in which two or more color filters 3 are used, at least two color filters 3 that function as the antireflection film 4 can be formed. On the other hand, in the case of full color, the function as the antireflection film 4 can be improved by forming the color filter 3 into three layers.

この場合、積層して厚くなったカラーフィルタ3を、封止のスペーサとして利用するメリットも生じる。カラーフィルタ3は、エッジカバー層92とセパレータ層102よりも、厚く形成(たとえば、2μm以上)する必要がある。   In this case, there is a merit of using the color filter 3 that has been laminated and thickened as a sealing spacer. The color filter 3 needs to be formed thicker (for example, 2 μm or more) than the edge cover layer 92 and the separator layer 102.

さらに、カラーフィルタ3は、表示領域内の各画素の形成パターンと、同一のパターンで形成されていてもよい。このように形成することによって、表示領域内外でのコントラスト比がより均一に維持できる。   Furthermore, the color filter 3 may be formed in the same pattern as the formation pattern of each pixel in the display area. By forming in this way, the contrast ratio inside and outside the display region can be maintained more uniformly.

図4(a)(b)は、実施例4に使用される有機ELパネルの断面図を示す。図4(a)は、有機ELパネル1の断面を示し、図4(b)は、有機ELパネル1の配線部の断面を示している。   4A and 4B are cross-sectional views of the organic EL panel used in Example 4. FIG. FIG. 4A shows a cross section of the organic EL panel 1, and FIG. 4B shows a cross section of the wiring portion of the organic EL panel 1.

ここで、本実施例が、実施例1と異なる点は、反射防止膜4は、黒色で導電率の高い金属材料を含む膜から構成されている。反射防止膜4は、例えば、炭素を含んだ膜、黒色顔料・染料を基材に分散混入させた膜、あるいは、金属の化合物(すなわち、酸化物、窒化物、硫化物、ホウ化物等)、もしくはこれらの混合物を用いることができる。   Here, the present embodiment is different from the first embodiment in that the antireflection film 4 is composed of a black film containing a metal material having high conductivity. The antireflection film 4 is, for example, a film containing carbon, a film in which a black pigment / dye is dispersed and mixed in a base material, or a metal compound (that is, oxide, nitride, sulfide, boride, etc.), Alternatively, a mixture thereof can be used.

そして、本実施例では、反射防止膜4は、図4(a)に示すように、パッシベーション層10の上であって、かつ、オーバーコート5が形成されない領域に、形成されている。また、図4(b)に示すように、表示領域内の補助配線6は、反射防止膜4として形成されている。すなわち、本実施例において、補助配線6は反射防止膜4自体で構成されている。   In this embodiment, as shown in FIG. 4A, the antireflection film 4 is formed on the passivation layer 10 and in a region where the overcoat 5 is not formed. In addition, as shown in FIG. 4B, the auxiliary wiring 6 in the display area is formed as an antireflection film 4. That is, in this embodiment, the auxiliary wiring 6 is composed of the antireflection film 4 itself.

あるいは、反射防止膜4は、補助配線6の機能を果たすために、仕事関数の小さな金属膜、たとえば、アルミニウム、マグネシウム、インジウム、銀などあるいはこれらの合金などが用いられてもよい。具体的に、本実施例では、Cr、酸化Crあるいはこれらの積層の反射防止膜4を用いている。   Alternatively, the antireflection film 4 may be made of a metal film having a small work function such as aluminum, magnesium, indium, silver, or an alloy thereof in order to fulfill the function of the auxiliary wiring 6. Specifically, in this embodiment, Cr, Cr oxide or a laminated antireflection film 4 is used.

このように構成することによって、本実施例では、表示領域および非表示領域の双方の多くの領域において、カラーフィルタ3および反射防止膜4が、均一に配置されていることによって、表示が均質化され表示品位が改善される。その結果として、本来必要とされていた円偏光板が不要となる。   With this configuration, in this embodiment, the color filter 3 and the antireflection film 4 are uniformly arranged in both the display area and the non-display area, thereby uniforming the display. Display quality is improved. As a result, the circularly polarizing plate that was originally required becomes unnecessary.

図5(a)(b)は、実施例5に使用される有機ELパネルの断面図を示す。図5(a)は、有機ELパネル1の断面を示し、図5(b)は、有機ELパネル1の配線部の断面を示している。   5A and 5B are cross-sectional views of the organic EL panel used in Example 5. FIG. FIG. 5A shows a cross section of the organic EL panel 1, and FIG. 5B shows a cross section of the wiring portion of the organic EL panel 1.

ここで、本実施例が、実施例1と異なる点は、カラーフィルタ3が反射防止膜4として機能していることである。さらに、表示領域外の反射防止膜4は、オーバーコート5およびパッシベーション層10の上に配置されており、表示領域内の反射防止膜4は、補助配線6としても機能する。   Here, the present embodiment is different from the first embodiment in that the color filter 3 functions as the antireflection film 4. Further, the antireflection film 4 outside the display area is disposed on the overcoat 5 and the passivation layer 10, and the antireflection film 4 in the display area also functions as the auxiliary wiring 6.

このように構成することによって、本実施例では、表示領域および非表示領域の双方の多くの領域において、カラーフィルタ3、反射防止膜4が、均一に配置される。これにより、表示面全体で表示が均質化され、表示品位が改善される。その結果として、本来必要とされていた円偏光板が不要となる。   With this configuration, in this embodiment, the color filter 3 and the antireflection film 4 are uniformly arranged in many areas of both the display area and the non-display area. Thereby, the display is homogenized over the entire display surface, and the display quality is improved. As a result, the circularly polarizing plate that was originally required becomes unnecessary.

なお、本実施例では、反射防止膜4には、黒色で導電率の高い金属材料を含む膜が好まれるため、たとえば、炭素を含んだ膜、黒色顔料・染料を基材に分散混入させた膜、あるいは、金属の化合物(すなわち、酸化物、窒化物、硫化物、ホウ化物等)、もしくはこれらの混合物を用いることができる。具体的に、本実施例では、Cr、酸化Crあるいはこれらの積層の反射防止膜4を用いている。   In this embodiment, the antireflection film 4 is preferably a black film containing a metal material having high conductivity. For example, a film containing carbon or a black pigment / dye is dispersed and mixed in the base material. A film, a metal compound (that is, oxide, nitride, sulfide, boride, or the like), or a mixture thereof can be used. Specifically, in this embodiment, Cr, Cr oxide or a laminated antireflection film 4 is used.

本実施例においては、発光部と非発光部でコントラスト比が均一に維持できる効果がある。また、反射防止膜4は、腐食に対して強く、引き出し配線部から水分が入りにくい構造となることも可能である。   In this embodiment, there is an effect that the contrast ratio can be kept uniform between the light emitting portion and the non-light emitting portion. Further, the antireflection film 4 can be resistant to corrosion and can have a structure in which moisture hardly enters from the lead-out wiring portion.

図6は、本実施例に使用される有機ELパネルの製造工程を示す。基板2は、本実施例では、ガラス基板を用いているが、これに限定されることはなく、石英などの他の非晶質基板を用いてもよい。   FIG. 6 shows the manufacturing process of the organic EL panel used in this embodiment. Although the glass substrate is used for the substrate 2 in this embodiment, the present invention is not limited to this, and another amorphous substrate such as quartz may be used.

本実施例では、基板2の上には、パッシベーション層10が形成されている。これは、ガラス基板を基板2として用いているため、基板2からの不純物の成膜側への進入を防止するためである。また、断面60は基板2のA−A’断面を示し、断面61は基板2のB−B’断面を示している。   In the present embodiment, a passivation layer 10 is formed on the substrate 2. This is because a glass substrate is used as the substrate 2, and thus impurities from the substrate 2 are prevented from entering the film formation side. The cross section 60 shows the A-A ′ cross section of the substrate 2, and the cross section 61 shows the B-B ′ cross section of the substrate 2.

そして、この基板2上に後述する各種配線あるいは層を、蒸着、スパッタあるいはプラズマCVD(化学気相成長)などで成膜する。なお、本実施例において、カラーフィルタ3は図示されていない。   Various wirings or layers to be described later are formed on the substrate 2 by vapor deposition, sputtering, plasma CVD (chemical vapor deposition) or the like. In the present embodiment, the color filter 3 is not shown.

図7は、本実施例に使用される有機ELパネルの製造工程を示す。本工程は、図6で示した基板2上に、補助配線6を成膜する工程である。補助配線6は、特に制限されないが、本実施例では、仕事関数の小さな金属膜としてアルミニウムを採用している。具体的には、ガラス基板2上に、配線電極としてアルミニウムをスパッタ法にて300nmの膜厚に成膜し、フォトリソグラフィーによりパターニングを行っている。あるいは、Al−Ti(2wt%)/TiNでもよい。断面70は基板2のA−A’断面を示し、断面71は基板2のB−B’断面を示している。補助配線6は、断面71に示すパターニングで形成されている。   FIG. 7 shows a manufacturing process of the organic EL panel used in this embodiment. This step is a step of forming the auxiliary wiring 6 on the substrate 2 shown in FIG. The auxiliary wiring 6 is not particularly limited, but in this embodiment, aluminum is adopted as a metal film having a small work function. Specifically, aluminum is formed as a wiring electrode with a film thickness of 300 nm on the glass substrate 2 by sputtering, and patterning is performed by photolithography. Alternatively, Al—Ti (2 wt%) / TiN may be used. A section 70 shows an A-A ′ section of the substrate 2, and a section 71 shows a B-B ′ section of the substrate 2. The auxiliary wiring 6 is formed by patterning shown in the cross section 71.

図8は、本実施例に使用される有機ELパネルの製造工程を示す。本工程は、図7で示した基板2上に、透明電極7を形成する工程である。透明電極7は、特に制限されないが、本実施例では、ITO(錫ドープ酸化インジウム)を用いている。具体的には、本工程では、スパッタ法にて約100nmのITOを成膜した。得られたITO薄膜を、フォトリソグラフィーの手法によりパターニング、エッチング処理し、256×64ドット(画素)のパターンを構成する透明電極7を形成した。断面80は基板2のA−A’断面を示し、断面81は基板2のB−B’断面を示している。透明電極7は、断面81に示すように補助配線6と部分的にオーバーラップしており、この部分で電気的に接続されている。透明電極7と補助配線6とが、このように電気的に接続されることによって、全体の抵抗値を低減し、駆動電圧の低下を図ることができる。   FIG. 8 shows a manufacturing process of the organic EL panel used in this embodiment. This step is a step of forming the transparent electrode 7 on the substrate 2 shown in FIG. The transparent electrode 7 is not particularly limited, but ITO (tin-doped indium oxide) is used in this embodiment. Specifically, in this step, an ITO film with a thickness of about 100 nm was formed by sputtering. The obtained ITO thin film was patterned and etched by photolithography to form a transparent electrode 7 constituting a 256 × 64 dot (pixel) pattern. A cross section 80 shows an A-A ′ cross section of the substrate 2, and a cross section 81 shows a B-B ′ cross section of the substrate 2. The transparent electrode 7 partially overlaps the auxiliary wiring 6 as shown in the cross section 81 and is electrically connected at this portion. Since the transparent electrode 7 and the auxiliary wiring 6 are electrically connected in this way, the overall resistance value can be reduced and the drive voltage can be lowered.

本実施例において、透明電極7は、発光波長帯域(通常350〜800nm)で、特に、各発光光に対する光透過率が50%以上、好ましくは60%以上であるように形成されている。発光光は、透明電極7を通って取り出されるため、その透過率が低くなると、発光層からの発光自体が減衰され、発光素子として必要な輝度が得られなくなるからである。ただし、一方のみから発光光を取り出すときには、取り出す側が上記以上であればよい。   In the present embodiment, the transparent electrode 7 is formed so that the light transmittance for each light emission is 50% or more, preferably 60% or more in the emission wavelength band (usually 350 to 800 nm). This is because the emitted light is extracted through the transparent electrode 7, so that if the transmittance is lowered, the emitted light itself from the light emitting layer is attenuated and the luminance necessary for the light emitting element cannot be obtained. However, when the emitted light is taken out from only one side, the side to be taken out may be more than the above.

本実施例において、透明電極7の厚さは、ホール注入を十分行える一定以上の厚さを有すれば良く、好ましくは50〜500nm、さらに好ましくは50〜300nmの範囲としている。また、その上限は特に制限はないが、あまり厚いと剥離などの心配が生じる。厚さが薄すぎると、製造時の膜強度やホール輸送能力、抵抗値の点で問題がある。透明電極7は、蒸着法等によっても形成できるが、スパッタ法により形成することが好ましい。   In the present embodiment, the thickness of the transparent electrode 7 is sufficient if it has a certain thickness that can sufficiently inject holes, and is preferably in the range of 50 to 500 nm, more preferably 50 to 300 nm. The upper limit is not particularly limited, but if it is too thick, there is a concern about peeling. If the thickness is too thin, there are problems in terms of film strength, hole transport capability, and resistance value during manufacture. The transparent electrode 7 can be formed by vapor deposition or the like, but is preferably formed by sputtering.

図9は、本実施例に使用される有機ELパネルの製造工程を示す。本工程は、図8で示した透明電極7上に、エッジカバー層92を形成する工程である。断面90は基板2のA−A’断面を示し、断面91は基板2のB−B’断面を示している。本実施例において、エッジカバー層92は、断面90および91に示すように、発光部が形成される開口部93を除き、フォトレジストを用いてエッジカバー層92をスピンコートで形成している。本実施例では、開口部93は、256×64ドット(画素)のパターンを構成するように形成されている。   FIG. 9 shows a manufacturing process of the organic EL panel used in this embodiment. This step is a step of forming the edge cover layer 92 on the transparent electrode 7 shown in FIG. A cross section 90 shows an A-A ′ cross section of the substrate 2, and a cross section 91 shows a B-B ′ cross section of the substrate 2. In this embodiment, as shown in the cross sections 90 and 91, the edge cover layer 92 is formed by spin coating the edge cover layer 92 using a photoresist except for the opening 93 where the light emitting portion is formed. In this embodiment, the opening 93 is formed so as to form a pattern of 256 × 64 dots (pixels).

図10は、本実施例に使用される有機ELパネルの製造工程を示す。本工程は、図9で示したエッジカバー層92の上に、セパレータ層102を形成する工程である。断面100は基板2のA−A’断面を示し、断面101は基板2のB−B’断面を示している。本実施例において、セパレータ層102は、断面100に示すように、発光部が形成される開口部93を除き、フォトレジストを用いてエッジカバー層92の上にオーバーラップするようにセパレータ層102が、逆テーパーレジストをスピンコートし、ITOのストライプ方向とは概ね直角方向にストライプ状にパターニングされて形成されている。   FIG. 10 shows a manufacturing process of the organic EL panel used in this example. This step is a step of forming the separator layer 102 on the edge cover layer 92 shown in FIG. A cross section 100 shows an A-A ′ cross section of the substrate 2, and a cross section 101 shows a B-B ′ cross section of the substrate 2. In the present embodiment, as shown in the cross section 100, the separator layer 102 is formed so that the separator layer 102 overlaps the edge cover layer 92 using a photoresist, except for the opening 93 where the light emitting portion is formed. The reverse taper resist is spin-coated and patterned in a stripe shape in a direction substantially perpendicular to the ITO stripe direction.

図11は、本実施例に使用される有機ELパネルの製造工程を示す。本工程は、図10で示した開口部93に、発光層8および反射電極9を形成する工程である。断面110は基板2のA−A’断面を示し、断面111は基板2のB−B’断面を示している。   FIG. 11 shows a manufacturing process of the organic EL panel used in this embodiment. This step is a step of forming the light emitting layer 8 and the reflective electrode 9 in the opening 93 shown in FIG. A cross section 110 shows an A-A ′ cross section of the substrate 2, and a cross section 111 shows a B-B ′ cross section of the substrate 2.

本実施例では、特に制限されないが、特許文献2に記載されている製法を用いて、発光層8および反射電極9を形成してもよい。発光層8は、真空蒸着装置によって形成され、反射電極9は、真空蒸着装置からスパッタ装置に移動して、断面110および断面111に示すとおりそれぞれ製膜される。   In the present embodiment, although not particularly limited, the light emitting layer 8 and the reflective electrode 9 may be formed by using the manufacturing method described in Patent Document 2. The light emitting layer 8 is formed by a vacuum vapor deposition apparatus, and the reflective electrode 9 is moved from the vacuum vapor deposition apparatus to the sputtering apparatus, and formed as shown in the cross section 110 and the cross section 111, respectively.

図12(a)(b)は、本実施例に使用される有機ELディスプレイの概念図を示す。図12(a)は、有機ELディスプレイ120の平面図であり、図12(b)は、図12(a)のC−C’断面の断面図である。図12(b)に示すように、有機ELディスプレイ120は、有機ELパネル1に封止基板121を貼り合わせ、両基板の間には封止ガスが充填されている。これは、有機層や電極の劣化を防ぐためで、封止基板121は、湿気の浸入を防ぐために、図12(a)に示すシール材領域122に接着性樹脂127を用いて、封止基板121を基板2と接着し密封する。   FIGS. 12A and 12B are conceptual diagrams of an organic EL display used in this embodiment. FIG. 12A is a plan view of the organic EL display 120, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along the line C-C ′ of FIG. As shown in FIG. 12B, in the organic EL display 120, a sealing substrate 121 is bonded to the organic EL panel 1, and a sealing gas is filled between the substrates. This is to prevent deterioration of the organic layer and the electrode. In order to prevent moisture from entering, the sealing substrate 121 uses an adhesive resin 127 in the sealing material region 122 shown in FIG. 121 is bonded to the substrate 2 and sealed.

封止ガスは、Ar、He、N 等の不活性ガス等が好ましい。また、この封止ガスの水分含有量は、100ppm以下、より好ましくは10ppm以下、特には1ppm以下であることが好ましい。この水分含有量に下限値はないが、通常0.1ppm程度であり、必要に応じて図12(b)に示すように乾燥剤126を封止基板121に貼付する。 Sealing gas, Ar, He, an inert gas such as N 2 is preferable. The moisture content of the sealing gas is preferably 100 ppm or less, more preferably 10 ppm or less, and particularly preferably 1 ppm or less. Although there is no lower limit for this moisture content, it is usually about 0.1 ppm, and a desiccant 126 is affixed to the sealing substrate 121 as shown in FIG.

有機ELディスプレイ120は、図12(a)に示すように、陰極引き出し配線123および陽極引き出し配線124を有しており、陰極引き出し配線123と反射電極9との接続は、図12(b)に示すように、コンタクトパッド形成領域125でコンタクトパッドによって行われる。   As shown in FIG. 12A, the organic EL display 120 has a cathode lead-out wiring 123 and an anode lead-out wiring 124. The connection between the cathode lead-out wiring 123 and the reflective electrode 9 is shown in FIG. As shown, the contact pad formation region 125 is performed with a contact pad.

本実施例では、図示されていないが、反射防止膜4は、シール材領域122の内側である表示領域に配置されている補助配線6の下に形成されている。さらに、本実施例では、シール材領域122の外側である非表示領域に配置されている陰極引き出し配線123、および陽極引き出し配線124の下にも、反射防止膜4は形成されている。なお、発光域に近い場所でのコントラストを向上させた方が、有機ELパネル1全体の高コントラストを発揮できる。そのため、反射防止膜4は、シール材領域122の内側である表示領域に配置されていることが必須である。反射防止膜4には、黒色で導電率の高い金属材料を含む膜から構成されている。   In this embodiment, although not shown, the antireflection film 4 is formed under the auxiliary wiring 6 disposed in the display area inside the sealing material area 122. Further, in this embodiment, the antireflection film 4 is also formed under the cathode lead-out wiring 123 and the anode lead-out wiring 124 arranged in the non-display area outside the seal material area 122. In addition, the direction which improved the contrast in the place close | similar to a light emission area can exhibit the high contrast of the organic electroluminescent panel 1 whole. Therefore, it is essential that the antireflection film 4 is disposed in the display area inside the sealing material area 122. The antireflection film 4 is composed of a black film containing a metal material having high conductivity.

図13は、本実施例に使用される自発光型表示装置の概念図を示す。自発光型表示装置130は、有機ELディスプレイ120に、走査信号ドライバIC131、走査信号ドライバ回路132、映像信号ドライバIC133、映像信号ドライバ回路134、FPC135およびコントローラ136を取り付けて構成されている。   FIG. 13 is a conceptual diagram of a self-luminous display device used in this embodiment. The self-luminous display device 130 is configured by attaching a scanning signal driver IC 131, a scanning signal driver circuit 132, a video signal driver IC 133, a video signal driver circuit 134, an FPC 135, and a controller 136 to an organic EL display 120.

走査信号ドライバIC131は、陰極引き出し配線123に信号を伝達するドライバで、走査信号ドライバ回路132によって構成されている。映像信号ドライバIC133は、陽極引き出し配線124に信号を伝達するドライバで、映像信号ドライバ回路134によって構成されている。そして、それぞれのドライバ回路は、FPC135を介して、コントローラ136に接続されている。コントローラ136は、有機ELディスプレイ120に表示する表示データを制御するコントローラである。   The scanning signal driver IC 131 is a driver that transmits a signal to the cathode lead-out wiring 123, and includes a scanning signal driver circuit 132. The video signal driver IC 133 is a driver that transmits a signal to the anode lead-out wiring 124 and includes a video signal driver circuit 134. Each driver circuit is connected to the controller 136 via the FPC 135. The controller 136 is a controller that controls display data displayed on the organic EL display 120.

図14は、本実施例に使用される有機ELディスプレイの製造プロセスを示す鳥瞰図を示す。なお、本実施例の有機ELディスプレイ120は、図12で説明された有機ELディスプレイ120の鳥瞰図であり、同様の工程で形成されている。   FIG. 14 is a bird's-eye view showing the manufacturing process of the organic EL display used in this embodiment. In addition, the organic EL display 120 of a present Example is a bird's-eye view of the organic EL display 120 demonstrated in FIG. 12, and is formed in the same process.

具体的には、基板2(アルカリガラスを基板2として使用する場合には、パッシベーション層が形成される。)には、カラーフィルタ3、補助配線6、透明電極7が本図に示すようにそれぞれ配置されている。そして、その上には、開口部93およびシール材を除いてエッジカバー層92が被覆されている。カラーフィルタ3と補助配線6の間には、保護層としてオーバーコート5と、アルカリガラスを基板2として使用する場合には、パッシベーション層(図示されない。)が形成されている。   Specifically, the color filter 3, the auxiliary wiring 6, and the transparent electrode 7 are respectively formed on the substrate 2 (a passivation layer is formed when alkali glass is used as the substrate 2) as shown in FIG. Has been placed. And the edge cover layer 92 is coat | covered on it except the opening part 93 and the sealing material. Between the color filter 3 and the auxiliary wiring 6, an overcoat 5 is formed as a protective layer, and a passivation layer (not shown) is formed when alkali glass is used as the substrate 2.

各画素の詳細な説明は、画素拡大図140に示すとおり、補助配線6と電気的に接続された透明電極7の上にエッジカバー層92が被覆され、開口部93が開口されている。そして、このような画素が、本実施例では、256×64画素構成されて、カラー表示の有機ELディスプレイ120を実現している。   The detailed description of each pixel is as follows. As shown in the enlarged pixel view 140, the edge cover layer 92 is covered on the transparent electrode 7 electrically connected to the auxiliary wiring 6, and the opening 93 is opened. In this embodiment, such pixels are configured by 256 × 64 pixels to realize the organic EL display 120 for color display.

補助配線6は、特に制限されないが、本実施例では、陽極引き出し配線124と電気的に接続されている。そして、陰極引き出し配線123は、コンタクトパッド形成領域125に合わせてパターン形成されている。コンタクトパッド形成領域125は、本図では、エッジカバー層92で陰極引き出し配線123が被覆され、陰極引き出し配線123の一部で開口されている部分である。   The auxiliary wiring 6 is not particularly limited, but is electrically connected to the anode lead-out wiring 124 in this embodiment. The cathode lead-out wiring 123 is patterned in accordance with the contact pad formation region 125. In this drawing, the contact pad formation region 125 is a portion that is covered with the cathode lead-out wiring 123 by the edge cover layer 92 and is opened at a part of the cathode lead-out wiring 123.

図示されていないが、反射防止膜4は、本実施例では、表示領域の外側である非表示領域に配置されている陰極引き出し配線123および陽極引き出し配線124の下に形成されている。さらに、本実施例では、反射防止膜4には、黒色で導電率の高い金属材料を含む膜から構成されている。   Although not shown, the antireflection film 4 is formed under the cathode lead-out wiring 123 and the anode lead-out wiring 124 disposed in the non-display area outside the display area in this embodiment. Further, in this embodiment, the antireflection film 4 is made of a film containing a black and high conductivity metal material.

図15は、本実施例に使用される有機ELディスプレイの製造プロセスを示す鳥瞰図を示す。本工程では、図14で示したエッジカバー層92の上に、セパレータ層102を成膜する工程を示している。セパレータ層102は、本図に示すとおり、陽極引き出し配線124と直交するように線状に形成されている。   FIG. 15 is a bird's-eye view showing the manufacturing process of the organic EL display used in this embodiment. In this step, the step of forming the separator layer 102 on the edge cover layer 92 shown in FIG. 14 is shown. As shown in the drawing, the separator layer 102 is formed in a linear shape so as to be orthogonal to the anode lead-out wiring 124.

図16は、本実施例に使用される有機ELディスプレイの製造プロセスを示す鳥瞰図を示す。本工程では、図15で示したセパレータ層102の上に、発光層8および反射電極9を形成する工程を示している。発光層8および反射電極9は、セパレータ層102の間に形成された溝に、陽極引き出し配線124と直交するように線状に形成されている。   FIG. 16 is a bird's-eye view showing the manufacturing process of the organic EL display used in this embodiment. In this step, the step of forming the light emitting layer 8 and the reflective electrode 9 on the separator layer 102 shown in FIG. 15 is shown. The light emitting layer 8 and the reflective electrode 9 are linearly formed in a groove formed between the separator layers 102 so as to be orthogonal to the anode lead-out wiring 124.

なお、反射電極9を成膜した後に、SiO等の無機材料、テフロン(登録商標)、塩素を含むフッ化炭素重合体等の有機材料等を用いた保護膜を形成してもよい。保護膜は、透明でも不透明であってもよく、保護膜の厚さは50〜1200nm程度とする。保護膜は、前記の反応性スパッタ法の他に、一般的なスパッタ法、蒸着法、プラズマCVD(化学気相成長)などにより形成すればよい。 Note that after the reflective electrode 9 is formed, a protective film using an inorganic material such as SiO x, an organic material such as Teflon (registered trademark), a fluorocarbon polymer containing chlorine, or the like may be formed. The protective film may be transparent or opaque, and the thickness of the protective film is about 50 to 1200 nm. The protective film may be formed by a general sputtering method, vapor deposition method, plasma CVD (chemical vapor deposition) or the like in addition to the reactive sputtering method.

図17は、本実施例に使用される有機ELディスプレイの製造プロセスを示す鳥瞰図を示す。本工程では、図14で示した基板2の上に、封止基板121を張り合わせる工程を示している。   FIG. 17 is a bird's-eye view showing the manufacturing process of the organic EL display used in this embodiment. In this step, the step of bonding the sealing substrate 121 on the substrate 2 shown in FIG. 14 is shown.

基板2は、本図に示すように接着性樹脂層127を介して、封止基板121と貼り合わされる。そして、封止基板121の基板2側には乾燥剤126は貼付されている。本図で図示されている乾燥剤126は、乾燥剤126を配置するために設けられた凹凸部であり、乾燥剤126自体は、封止基板121の基板2と対面する側に設けられている。   The substrate 2 is bonded to the sealing substrate 121 through an adhesive resin layer 127 as shown in the figure. A desiccant 126 is attached to the sealing substrate 121 on the substrate 2 side. The desiccant 126 illustrated in the figure is an uneven portion provided for disposing the desiccant 126, and the desiccant 126 itself is provided on the side of the sealing substrate 121 facing the substrate 2. .

図18は、本実施例の表示特性を比較する図である。本図は、本実施例の有機ELパネル1を線順次駆動電圧15Vで駆動し、カラーフィルタと円偏光板がない状態で暗室下で250cd/mの白色発光で色度X:0.32、色度Y:0.36で、有機ELパネル1の表示エリア内および表示エリア周辺のコントラストを比較したものである。本実施例の測定条件は、外光500lx、カラーフィルタ平均透過率30%、円偏光板透過率42%、偏光度99.9%、反射防止膜反射率5%、陰極、補助配線反射率60%である。 FIG. 18 is a diagram for comparing the display characteristics of the present embodiment. In this figure, the organic EL panel 1 of this example is driven at a line sequential drive voltage of 15 V, and a white light emission of 250 cd / m 2 in a dark room without a color filter and a circularly polarizing plate has a chromaticity X of 0.32. The chromaticity Y is 0.36, and the contrast in the display area and the periphery of the display area of the organic EL panel 1 is compared. The measurement conditions of this example are: external light 500 lx, color filter average transmittance 30%, circular polarizer transmittance 42%, polarization degree 99.9%, antireflection film reflectance 5%, cathode, auxiliary wiring reflectance 60 %.

具体的には、本図で比較に用いた有機ELパネル1は、カラーフィルタ3として、コーニング製1737のガラス基板2上に、青色透過層、緑色透過層、赤色透過層として、フジフィルムオーリン社製のカラーフィルタで、カット光が青は490nm以上の波長の光、緑は560nm以上の波長の光および480nm以下の光、赤は580nm以下の波長の光であるものを用いている。そして、本実施例では、このカラーフィルタ3をそれぞれ100μmの幅でストライプ状に形成している。   Specifically, the organic EL panel 1 used for comparison in the figure is a color filter 3 on a Corning 1737 glass substrate 2 with a blue transmissive layer, a green transmissive layer, and a red transmissive layer, as Fujifilm Ohlin. A color filter made of blue, with cut light having a wavelength of 490 nm or more, green having a wavelength of 560 nm or more, light having a wavelength of 480 nm or less, and red having a wavelength of 580 nm or less is used. In this embodiment, the color filters 3 are formed in a stripe shape with a width of 100 μm.

その上に、紫外線硬化型アクリル樹脂で、オーバーコート5を、1μmの厚さで形成している。次に、P−CVD成膜法でパッシベーション層10を、組成SiOxNy(モル比:x=1.77、y=0.26)とし、成膜速度330nm/minで1000nmの厚さに形成している。この時のガス圧は90Paで、温度条件は200℃、投入電力は600W(高周波13.56MHz)、GAPは33mmとした。   On top of this, an overcoat 5 is formed with a thickness of 1 μm using an ultraviolet curable acrylic resin. Next, the passivation layer 10 is formed with a composition SiOxNy (molar ratio: x = 1.77, y = 0.26) by a P-CVD film forming method, and is formed to a thickness of 1000 nm at a film forming speed of 330 nm / min. Yes. At this time, the gas pressure was 90 Pa, the temperature condition was 200 ° C., the input power was 600 W (high frequency 13.56 MHz), and the GAP was 33 mm.

本図における比較では、それぞれ異なるパネル構成の試料A乃至試料Iを比較している。それぞれの試料の特色およびコントラストの測定結果は、以下の通りである。   In comparison in this figure, samples A to I having different panel configurations are compared. The measurement results of the spot color and contrast of each sample are as follows.

試料Aは、カラーフィルタ3、円偏光板、反射防止膜4を、それぞれ配置していない有機ELパネル1に利用している。すなわち、試料Aは、本発明を具備する有機ELパネル1ではない。試料Aでは、表示エリア内のON輝度は、345.5と最も高いが、表示エリア内のOFF輝度は、95.5と最も高い。そのため、表示エリア内のON/OFF(コントラスト比)は、3.62と最も悪い数値となってしまう。表示エリア周辺のOFF輝度は、95.5と悪く、表示エリア周辺のON/OFF(コントラスト比)も、3.62と非常に悪い。すなわち、これらの結果から、試料Aでは、表示エリア内のON輝度は高いが、表示エリア内および表示エリア周辺のOFF輝度が非常に高くなってしまうため、結果として低コントラストの表示パネルということがわかる。つまり、これではディスプレイとして使えない。   The sample A uses the color filter 3, the circularly polarizing plate, and the antireflection film 4 for the organic EL panel 1 in which each is not arranged. That is, the sample A is not the organic EL panel 1 including the present invention. In sample A, the ON luminance in the display area is the highest at 345.5, but the OFF luminance in the display area is the highest at 95.5. Therefore, ON / OFF (contrast ratio) in the display area is the worst value of 3.62. The OFF brightness around the display area is as bad as 95.5, and the ON / OFF (contrast ratio) around the display area is also very bad at 3.62. That is, from these results, in sample A, the ON brightness in the display area is high, but the OFF brightness in the display area and the periphery of the display area becomes very high. As a result, the sample A is a low-contrast display panel. Understand. In other words, it cannot be used as a display.

試料Bは、カラーフィルタ3、反射防止膜4を、それぞれ配置していない有機ELパネル1を利用している。円偏光板が配置されているので、試料Bは、本発明を具備する有機ELパネル1ではない。試料Bでは、表示エリア内のON輝度は、105と高く、表示エリア内のOFF輝度は、0.04ととてもよい。そのため、表示エリア内のON/OFF(コントラスト比)は、2619と非常によい。表示エリア周辺のOFF輝度は、0.04とよく、表示エリア周辺のON/OFF(コントラスト比)は、2619と非常によい。すなわち、これらの結果から、試料Bでは、円偏光板を用いることがある程度のコントラスト比の向上には、役立つという従来の説の正しいことがわかる。   Sample B uses the organic EL panel 1 in which the color filter 3 and the antireflection film 4 are not arranged. Since the circularly polarizing plate is disposed, the sample B is not the organic EL panel 1 including the present invention. In the sample B, the ON luminance in the display area is as high as 105, and the OFF luminance in the display area is very good as 0.04. Therefore, ON / OFF (contrast ratio) in the display area is very good at 2619. The OFF luminance around the display area is as good as 0.04, and the ON / OFF (contrast ratio) around the display area is as good as 2619. That is, from these results, it can be understood that the conventional theory that sample B is useful for improving the contrast ratio to some extent in Sample B is correct.

試料Cは、円偏光板、反射防止膜4を、それぞれ配置していない有機ELパネル1を利用している。すなわち、試料Cは、本発明を具備する有機ELパネル1ではない。試料Cでは、カラーフィルタ3が配置されている。試料Cでは、表示エリア内のON輝度は、83.6と比較的よいが、表示エリア内のOFF輝度は、8.6とあまり良くないが、表示エリア内のON/OFF(コントラスト比)は、9.73と実用的な範囲である。表示エリア周辺のOFF輝度は、95.5と非常に悪く、表示エリア周辺のON/OFF(コントラスト比)は、0.88は最も悪い。すなわち、これらの結果から、試料Cでは、円偏光板あるいは反射防止膜4を配置しないと、表示エリア周辺のコントラストを出すのが非常に困難ということがわかる。   Sample C uses an organic EL panel 1 in which a circularly polarizing plate and an antireflection film 4 are not arranged. That is, the sample C is not the organic EL panel 1 including the present invention. In the sample C, the color filter 3 is arranged. In sample C, the ON brightness in the display area is relatively good at 83.6, but the OFF brightness in the display area is not so good as 8.6, but the ON / OFF (contrast ratio) in the display area is not good. , 9.73, which is a practical range. The OFF luminance around the display area is very low at 95.5, and the ON / OFF (contrast ratio) around the display area is the worst at 0.88. That is, from these results, it can be seen that in Sample C, it is very difficult to obtain contrast around the display area unless the circularly polarizing plate or the antireflection film 4 is arranged.

試料Dは、反射防止膜4を、それぞれ配置していない有機ELパネル1を利用している。試料Dでは、カラーフィルタ3および円偏光板が、配置されている。すなわち、試料Dは、本発明を具備する有機ELパネル1ではない。この試料では輝度を十分に確保するためには発光素子の輝度を十分に確保する必要があり、発光素子の寿命が短いという問題があった。従来のカラーフィルタ方式のカラーパネルである試料Dでは、表示エリア内のON輝度は、31.5と悪いが、表示エリア内のOFF輝度は、0.0036と最も低い。そのため、表示エリア内のON/OFF(コントラスト比)は、8728と最も高い数値となる。この数値は、2番目に高い試料Bの3倍以上という、驚くべき数値となる。表示エリア周辺のOFF輝度は、0.04と最も低く、表示エリア周辺のON/OFF(コントラスト比)は、785.49と非常によい。すなわち、これらの結果から、試料Dでは、表示エリア内および周辺でコントラスト比はよいが、表示エリア内の輝度不足であり、実用上はもっと輝度を上げる必要がある。   The sample D uses the organic EL panel 1 in which the antireflection film 4 is not disposed. In the sample D, the color filter 3 and the circularly polarizing plate are arranged. That is, the sample D is not the organic EL panel 1 including the present invention. In this sample, in order to ensure sufficient luminance, it is necessary to ensure sufficient luminance of the light emitting element, and there is a problem that the life of the light emitting element is short. In the sample D which is a conventional color filter type color panel, the ON luminance in the display area is as bad as 31.5, but the OFF luminance in the display area is the lowest as 0.0036. Therefore, ON / OFF (contrast ratio) in the display area is the highest value of 8728. This value is a surprising value that is more than three times that of the second highest sample B. The OFF brightness around the display area is as low as 0.04, and the ON / OFF (contrast ratio) around the display area is very good at 785.49. That is, from these results, in Sample D, the contrast ratio is good in and around the display area, but the luminance in the display area is insufficient, and it is necessary to increase the luminance in practice.

試料Eは、本実施例1、2および4に記載の有機ELパネル1を利用している。すなわち、試料Eは、本発明を具備する有機ELパネル1である。試料Eでは、表示エリア内のON輝度は、83.6と比較的よく、表示エリア内のOFF輝度は、8.6とあまりよくないが、表示エリア内のON/OFF(コントラスト比)は、9.73と実用的な範囲内である。表示エリア周辺のOFF輝度は、8.0そして表示エリア周辺のON/OFF(コントラスト比)は、10.5である。すなわち、これらの結果から、試料Eでは、輝度およびコントラストの双方の観点から実用的なバランスのよいパネルということがわかる。   Sample E uses the organic EL panel 1 described in Examples 1, 2, and 4. That is, the sample E is the organic EL panel 1 including the present invention. In sample E, the ON brightness in the display area is relatively good at 83.6 and the OFF brightness in the display area is not so good as 8.6, but the ON / OFF (contrast ratio) in the display area is It is within a practical range as 9.73. The OFF luminance around the display area is 8.0, and the ON / OFF (contrast ratio) around the display area is 10.5. That is, from these results, it can be seen that Sample E is a practically balanced panel from the viewpoint of both luminance and contrast.

試料Fは、本実施例3に記載の有機ELパネル1を利用している。すなわち、試料Fは、本発明を具備する有機ELパネル1である。試料Fでは、表示エリア内のON輝度は、83.6と比較的よく、表示エリア内のOFF輝度は、8.6とあまりよくないが、表示エリア内のON/OFF(コントラスト比)は、9.73と実用的な範囲内である。表示エリア周辺のOFF輝度は、8.6と低く、表示エリア周辺のON/OFF(コントラスト比)は、9.73と試料Eよりもよい。すなわち、これらの結果から、試料Fでは、カラーフィルタ3、反射防止膜4、オ−バーコート5およびパッシベーション層10の均一な配置が、表示エリア周辺を含めたコントラスト比の向上に役立つということがわかる。   The sample F uses the organic EL panel 1 described in the third embodiment. That is, the sample F is the organic EL panel 1 including the present invention. In sample F, the ON luminance in the display area is relatively good at 83.6 and the OFF luminance in the display area is not so good as 8.6, but the ON / OFF (contrast ratio) in the display area is It is within a practical range as 9.73. The OFF luminance around the display area is as low as 8.6, and the ON / OFF (contrast ratio) around the display area is 9.73, which is better than that of the sample E. That is, from these results, in Sample F, the uniform arrangement of the color filter 3, the antireflection film 4, the overcoat 5, and the passivation layer 10 is useful for improving the contrast ratio including the periphery of the display area. Understand.

試料Gは、本実施例5に記載の有機ELパネル1を利用している。すなわち、試料Gは、本発明を具備する有機ELパネル1である。試料Gでは、表示エリア内のON輝度は、83.6と比較的よく、表示エリア内のOFF輝度は、8.6とあまりよくないが、表示エリア内のON/OFF(コントラスト比)は、9.73と実用的な範囲内である。表示エリア周辺のOFF輝度は、0.7と低く、表示エリア周辺のON/OFF(コントラスト比)は、116.72と試料Eよりもよい。すなわち、これらの結果から、試料Gでは、カラーフィルタ3、反射防止膜4、の均一な配置が、表示エリア周辺を含めたコントラスト比の向上に役立つということがわかる。   The sample G uses the organic EL panel 1 described in the fifth embodiment. That is, the sample G is the organic EL panel 1 including the present invention. In sample G, the ON brightness in the display area is relatively good at 83.6 and the OFF brightness in the display area is not so good as 8.6, but the ON / OFF (contrast ratio) in the display area is It is within a practical range as 9.73. The OFF luminance around the display area is as low as 0.7, and the ON / OFF (contrast ratio) around the display area is 116.72, which is better than that of the sample E. That is, from these results, it can be seen that in sample G, the uniform arrangement of the color filter 3 and the antireflection film 4 is useful for improving the contrast ratio including the periphery of the display area.

試料Hは、本実施例1、2および4に透過率70%のスモークフィルムを配置した有機ELパネル1を利用している。すなわち、試料Hは、本発明を具備する有機ELパネル1である。試料Hでは、表示エリア内のON輝度は、56.7と比較的よく、表示エリア内のOFF輝度は、4.2と試料Eよりよくなる。そのため、表示エリア内のON/OFF(コントラスト比)は、13.47と実用的な範囲でよく、表示エリア周辺のOFF輝度は、3.9、表示エリア周辺のON/OFF(コントラスト比)は、14.54である。すなわち、これらの結果から、試料Hでは、表示エリア内と表示エリア周辺のコントラスト比のバランスがよいということがわかる。   The sample H uses the organic EL panel 1 in which a smoke film having a transmittance of 70% is arranged in Examples 1, 2, and 4. That is, the sample H is the organic EL panel 1 including the present invention. In sample H, the ON luminance in the display area is relatively good at 56.7, and the OFF luminance in the display area is 4.2, which is better than that of sample E. Therefore, the ON / OFF (contrast ratio) in the display area may be a practical range of 13.47, the OFF luminance around the display area is 3.9, and the ON / OFF (contrast ratio) around the display area is 14.54. That is, it can be seen from these results that the sample H has a good balance of the contrast ratio in the display area and the periphery of the display area.

試料Iは、本実施例5に透過率70%のスモークフィルムを配置した有機ELパネル1を利用している。すなわち、試料Iは、本発明を具備する有機ELパネル1である。試料Iでは、表示エリア内のON輝度は、56.7と比較的よく、表示エリア内のOFF輝度は、4.2と試料Gよりよくなる。表示エリア内のON/OFF(コントラスト比)は、13.47、表示エリア周辺のOFF輝度は、0.4となり、表示エリア周辺のON/OFF(コントラスト比)は、161.6と非常によい。すなわち、これらの結果から、試料Iでは、表示エリア周辺のコントラスト比の向上に役立つということがわかる。   Sample I uses the organic EL panel 1 in which a smoke film having a transmittance of 70% is disposed in Example 5. That is, the sample I is the organic EL panel 1 including the present invention. In sample I, the ON luminance in the display area is relatively good at 56.7, and the OFF luminance in the display area is 4.2, which is better than that of sample G. The ON / OFF (contrast ratio) in the display area is 13.47, the OFF luminance around the display area is 0.4, and the ON / OFF (contrast ratio) around the display area is 161.6. . That is, from these results, it can be seen that Sample I is useful for improving the contrast ratio around the display area.

なお、本発明においては、必要に応じて種々の変更が可能であって、たとえば、製造工程において、反射防止膜4、オーバーコート5、補助配線6、透明電極7、発光層8、反射電極9あるいはパッシベーション層10の膜厚や配置パターンなどは、これに限定されることはなく、種々の変更が可能である。   In the present invention, various modifications can be made as necessary. For example, in the manufacturing process, the antireflection film 4, the overcoat 5, the auxiliary wiring 6, the transparent electrode 7, the light emitting layer 8, and the reflective electrode 9 are used. Or the film thickness of the passivation layer 10, an arrangement pattern, etc. are not limited to this, A various change is possible.

たとえば、透明電極7の厚さなどは、ホール注入を十分行える一定以上の厚さを有すれば良く、さまざまな電極構成の有機ELパネルに本願発明は適用できる。反射電極9の厚さなどに関しても同様である。   For example, the thickness of the transparent electrode 7 only needs to have a certain thickness or more that can sufficiently inject holes, and the present invention can be applied to organic EL panels having various electrode configurations. The same applies to the thickness of the reflective electrode 9 and the like.

さらに、画素が形成されるエリアのカラーフィルタ存在領域に、各画素に対応した反射防止膜(ブラックマトリクス)を、各画素の周辺領域に形成してもよい。この場合、反射防止膜(ブラックマトリクス)は、通常の液晶表示装置で用いられるように、各画素の周辺領域にマトリクス状に形成される。   Further, an antireflection film (black matrix) corresponding to each pixel may be formed in the peripheral region of each pixel in the color filter existence region of the area where the pixel is formed. In this case, the antireflection film (black matrix) is formed in a matrix in the peripheral region of each pixel, as used in a normal liquid crystal display device.

また、本実施例で説明した発光素子とは異なる発光素子を用いる表示装置を、本発明に適用できることはいうまでもない。たとえば蛍光変換方式を用いた表示装置を、本発明に用いても同様の効果を発揮することができる。蛍光変換方式を用いた表示装置としては、特開平5−258860号公報および特開2000−91071号公報に記載されているものがある。有機発光素子を光源として用いた場合に、本発明を用いてコントラスト比の向上をさらに図ることができる。   Needless to say, a display device using a light-emitting element different from the light-emitting element described in this embodiment can be applied to the present invention. For example, even if a display device using a fluorescence conversion method is used in the present invention, the same effect can be exhibited. As display devices using a fluorescence conversion method, there are those described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 5-258860 and 2000-91071. When an organic light emitting device is used as a light source, the contrast ratio can be further improved by using the present invention.

本発明は、有機EL画像表示に代表される画像表示装置に関して、携帯機器、TVなどのカラーディスプレイに使用できる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention relates to an image display device represented by organic EL image display, and can be used for color displays such as portable devices and TVs.

実施例1に使用される有機ELパネルの断面図である。1 is a cross-sectional view of an organic EL panel used in Example 1. FIG. 実施例2に使用される有機ELパネルの断面図である。6 is a cross-sectional view of an organic EL panel used in Example 2. FIG. 実施例3に使用される有機ELパネルの断面図である。6 is a cross-sectional view of an organic EL panel used in Example 3. FIG. 実施例4に使用される有機ELパネルの断面図である。6 is a cross-sectional view of an organic EL panel used in Example 4. FIG. 実施例5に使用される有機ELパネルの断面図である。10 is a cross-sectional view of an organic EL panel used in Example 5. FIG. 本実施例に使用される有機ELパネルの製造工程を示す。The manufacturing process of the organic electroluminescent panel used for a present Example is shown. 本実施例に使用される有機ELパネルの製造工程を示す。The manufacturing process of the organic electroluminescent panel used for a present Example is shown. 本実施例に使用される有機ELパネルの製造工程を示す。The manufacturing process of the organic electroluminescent panel used for a present Example is shown. 本実施例に使用される有機ELパネルの製造工程を示す。The manufacturing process of the organic electroluminescent panel used for a present Example is shown. 本実施例に使用される有機ELパネルの製造工程を示す。The manufacturing process of the organic electroluminescent panel used for a present Example is shown. 本実施例に使用される有機ELパネルの製造工程を示す。The manufacturing process of the organic electroluminescent panel used for a present Example is shown. 本実施例に使用される有機ELディスプレイの概念図である。It is a conceptual diagram of the organic electroluminescent display used for a present Example. 本実施例に使用される自発光型表示装置の概念図である。It is a conceptual diagram of the self-luminous type display apparatus used for a present Example. 本実施例に使用される有機ELディスプレイの製造プロセスを示す鳥瞰図である。It is a bird's-eye view which shows the manufacturing process of the organic electroluminescent display used for a present Example. 本実施例に使用される有機ELディスプレイの製造プロセスを示す鳥瞰図である。It is a bird's-eye view which shows the manufacturing process of the organic electroluminescent display used for a present Example. 本実施例に使用される有機ELディスプレイの製造プロセスを示す鳥瞰図である。It is a bird's-eye view which shows the manufacturing process of the organic electroluminescent display used for a present Example. 本実施例に使用される有機ELディスプレイの製造プロセスを示す鳥瞰図である。It is a bird's-eye view which shows the manufacturing process of the organic electroluminescent display used for a present Example. 本実施例の表示特性を比較する図である。It is a figure which compares the display characteristic of a present Example.

符号の説明Explanation of symbols

1 有機ELパネル
2 基板
3 カラーフィルタ
4 反射防止膜
5 オーバーコート
6 補助配線,補助配線膜
7 透明電極
8 発光層
9 反射電極
10 パッシベーション層
60 A−A’断面
61 B−B’断面
70 A−A’断面
71 B−B’断面
80 A−A’断面
81 B−B’断面
90 A−A’断面
91 B−B’断面
92 エッジカバー層
93 開口部
100 A−A’断面
101 B−B’断面
102 セパレータ層
110 A−A’断面
111 B−B’断面
120 有機ELディスプレイ
121 封止基板
122 シール材領域
123 陰極引き出し配線
124 陽極引き出し配線
125 コンタクトパッド形成領域
126 乾燥剤
127 接着性樹脂層
130 自発光型表示装置
131 走査信号ドライバIC
132 走査信号ドライバ回路
133 映像信号ドライバIC
134 映像信号ドライバ回路
135 FPC
136 コントローラ
140 画素拡大図
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Organic EL panel 2 Board | substrate 3 Color filter 4 Antireflection film 5 Overcoat 6 Auxiliary wiring, auxiliary wiring film 7 Transparent electrode 8 Light emitting layer 9 Reflective electrode 10 Passivation layer 60 AA 'cross section 61 BB' cross section 70 A- A ′ section 71 BB ′ section 80 AA ′ section 81 BB ′ section 90 AA ′ section 91 BB ′ section 92 Edge cover layer 93 Opening 100 AA ′ section 101 BB 'Cross section 102 Separator layer 110 AA' section 111 BB 'section 120 Organic EL display 121 Sealing substrate 122 Sealing material area 123 Cathode extraction wiring 124 Anode extraction wiring 125 Contact pad formation area 126 Desiccant 127 Adhesive resin layer 130 Self-luminous display device 131 Scan signal driver IC
132 Scanning Signal Driver Circuit 133 Video Signal Driver IC
134 Video signal driver circuit 135 FPC
136 Controller 140 Pixel enlarged view

Claims (14)

光透過性を有する基板と、
前記基板の上に形成される光透過性を有する電極と、
前記光透過性を有する電極の上に形成される発光機能を有する有機層と、
前記発光機能を有する有機層を、前記光透過性を有する電極との間に配置するように形成された金属電極と、
外光の反射を防止する反射防止膜と、を少なくとも有し、
前記基板は、表示領域と、該表示領域の周辺に形成された非表示領域から少なくとも構成され、
前記反射防止膜は、前記非表示領域に少なくとも形成されていることを特徴とする自発光型表示装置。
A substrate having optical transparency;
A light transmissive electrode formed on the substrate;
An organic layer having a light emitting function formed on the light-transmitting electrode;
A metal electrode formed so as to dispose the organic layer having the light emitting function between the electrode having light transmittance;
An antireflection film that prevents reflection of outside light, and
The substrate comprises at least a display area and a non-display area formed around the display area,
The self-luminous display device, wherein the antireflection film is formed at least in the non-display area.
前記基板において、前記光透過性を有する電極が形成される基板面に対向する基板面には、円偏光板が、少なくとも配置されていないことを特徴とする請求項1に記載の自発光型表示装置。   2. The self-luminous display according to claim 1, wherein a circularly polarizing plate is not disposed at least on a substrate surface facing the substrate surface on which the light-transmissive electrode is formed. apparatus. 前記自発光型表示装置は、前記表示領域にマトリクス状に形成された複数の画素を有し、
前記各画素は、前記光透過性を有する電極、前記発光機能を有する有機層および前記金属電極を、有することを特徴とする請求項1または2に記載の自発光型表示装置。
The self-luminous display device has a plurality of pixels formed in a matrix in the display area,
3. The self-luminous display device according to claim 1, wherein each pixel includes the light-transmissive electrode, the organic layer having the light emitting function, and the metal electrode.
前記反射防止膜は、少なくとも樹脂材料を含む膜を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の自発光型表示装置。   The self-luminous display device according to any one of claims 1 to 3, wherein the antireflection film includes a film containing at least a resin material. 前記自発光型表示装置は、前記反射防止膜を覆って形成される保護層を有することを特徴とする請求項4に記載の自発光型表示装置。   The self-luminous display device according to claim 4, wherein the self-luminous display device includes a protective layer formed to cover the antireflection film. 前記反射防止膜は、少なくとも金属材料を含む膜を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の自発光型表示装置。   The self-luminous display device according to any one of claims 1 to 3, wherein the antireflection film includes a film containing at least a metal material. 前記基板と前記光透過性を有する電極の間に前記各画素に対応して設けられたカラーフィルタ層と、
前記カラーフィルタ層を覆って形成される保護層と、
前記反射防止膜は、少なくとも前記保護層の形成領域外に形成され、
前記光透過性を有する基板全面に亘って、前記反射防止膜および前記保護層を被覆するパッシベーション層とを、さらに有することを特徴とする請求項6に記載の自発光型表示装置。
A color filter layer provided corresponding to each pixel between the substrate and the light-transmissive electrode;
A protective layer formed to cover the color filter layer;
The antireflection film is formed at least outside the formation region of the protective layer,
The self-luminous display device according to claim 6, further comprising a passivation layer covering the antireflection film and the protective layer over the entire surface of the light transmissive substrate.
前記自発光型表示装置は、前記パッシベーション層の上に形成され、かつ、前記光透過性を有する電極に電気的に接続された補助配線と、
前記反射防止膜は、前記補助配線の一部または少なくとも非表示領域の一部でオーバーラップして配置されていることを特徴とする請求項7に記載の自発光型表示装置。
The self-luminous display device is formed on the passivation layer and electrically connected to the light-transmissive electrode;
The self-luminous display device according to claim 7, wherein the antireflection film is disposed so as to overlap a part of the auxiliary wiring or at least a part of the non-display area.
前記基板と前記光透過性を有する電極の間に前記各画素に対応して設けられたカラーフィルタ層と、
該カラーフィルタ層を覆って形成される保護層および前記保護層を被覆するパッシベーション層とを、さらに有し、
前記反射防止膜は、少なくとも前記保護層の形成領域外で、前記パッシベーション層の上に形成される膜と、前記保護層の形成領域内で前記パッシベーション層の上に形成される膜とを有しており、前記保護層の形成領域内で前記パッシベーション層の上に形成された方の前記反射防止膜は、前記光透過性を有する電極に電気的に接続された補助配線としても機能することを特徴とする請求項6に記載の自発光型表示装置。
A color filter layer provided corresponding to each pixel between the substrate and the light-transmissive electrode;
A protective layer formed over the color filter layer and a passivation layer covering the protective layer,
The antireflection film has a film formed on the passivation layer at least outside the formation region of the protective layer, and a film formed on the passivation layer in the formation region of the protection layer. The antireflection film formed on the passivation layer in the protective layer formation region also functions as an auxiliary wiring electrically connected to the light-transmitting electrode. The self-luminous display device according to claim 6.
前記自発光型表示装置は、前記基板と前記光透過性を有する電極の間に前記各画素に対応して設けられたカラーフィルタ層と、該カラーフィルタ層を覆って形成される保護層および前記保護層を被覆するパッシベーション層とを、さらに有し、
前記反射防止膜は、前記カラーフィルタ層を少なくとも有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の自発光型表示装置。
The self-luminous display device includes a color filter layer provided corresponding to each pixel between the substrate and the light-transmissive electrode, a protective layer formed to cover the color filter layer, and the A passivation layer covering the protective layer,
The self-luminous display device according to claim 1, wherein the antireflection film includes at least the color filter layer.
前記自発光型表示装置は、前記パッシベーション層の上に形成され、かつ、前記光透過性を有する電極に電気的に接続された補助配線を有し、
前記補助配線と電気的に絶縁された補助配線膜は、少なくとも非表示領域の一部において、前記カラーフィルタ層で形成される反射防止膜と、オーバーラップして配置されることを特徴とする請求項10に記載の自発光型表示装置。
The self-luminous display device has an auxiliary wiring formed on the passivation layer and electrically connected to the light-transmissive electrode,
The auxiliary wiring film electrically insulated from the auxiliary wiring is disposed to overlap with the antireflection film formed of the color filter layer at least in a part of the non-display area. Item 11. The self-luminous display device according to Item 10.
前記反射防止膜は更に複数有り、少なくとも一方の反射防止膜は、前記パッシベーション層の上の少なくとも非表示領域の一部で、前記カラーフィルタ層とオーバーラップして配置され、少なくとも他方の反射防止膜は、前記パッシベーション層上で表示領域内に形成され、前記光透過性を有する電極に電気的に接続された補助配線としても機能し、前記非表示領域に形成された前記反射防止膜と同一の材料を少なくとも含むことを特徴とする請求項10に記載の自発光型表示装置。   There are a plurality of the antireflection films, and at least one of the antireflection films is disposed so as to overlap with the color filter layer in at least a part of the non-display area on the passivation layer, and at least the other antireflection film. Is formed in the display region on the passivation layer and functions as an auxiliary wiring electrically connected to the light-transmissive electrode, and is the same as the antireflection film formed in the non-display region The self-luminous display device according to claim 10, comprising at least a material. 前記自発光型表示装置は、前記基板と前記光透過性を有する電極の間に前記各画素に対応して設けられたカラーフィルタ層と、該カラーフィルタ層を覆って形成される保護層および前記保護層を被覆するパッシベーション層とを、さらに有し、
前記反射防止膜は、前記カラーフィルタ層を有しており、該カラーフィルタ層は、少なくとも2層以上積層して形成された構造を有していることを特徴とする請求項10乃至12のいずれか1項に記載の自発光型表示装置。
The self-luminous display device includes a color filter layer provided corresponding to each pixel between the substrate and the light-transmissive electrode, a protective layer formed to cover the color filter layer, and the A passivation layer covering the protective layer,
13. The antireflection film includes the color filter layer, and the color filter layer has a structure formed by stacking at least two layers. The self-luminous display device according to claim 1.
前記自発光型表示装置は、前記基板と前記光透過性を有する電極の間に、前記各画素に対応して設けられたカラーフィルタ層と、該カラーフィルタ層を被覆する保護層、および該保護層を被覆するパッシベーション層とを、さらに有し、
前記反射防止膜は、前記カラーフィルタ層を有しており、該カラーフィルタ層が、画素と同一パターンで形成されていることを特徴とする請求項10乃至12のいずれか1項に記載の自発光型表示装置。
The self-luminous display device includes a color filter layer provided corresponding to each pixel between the substrate and the light-transmitting electrode, a protective layer covering the color filter layer, and the protection A passivation layer covering the layer, and
The self-reflection film according to any one of claims 10 to 12, wherein the antireflection film has the color filter layer, and the color filter layer is formed in the same pattern as a pixel. Light-emitting display device.
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