JP2005283520A - 変位測定装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 LD変調方式を用いた変位測定装置において、変位ストロークを長く、分解能を高く、応答速度を早くできる変位測定装置を提供すること。
【解決手段】 半導体レーザを用いる周波数変調型ヘテロダイン干渉方式によって可動部の変位を測定するように構成された変位測定装置において、干渉計を少なくとも2段にわたって設置するようにしたので、測定可能な変位ストロークの延長、応答特性、測定精度、分解能の向上を図ることが可能になった。
又、第1段の干渉計の位相差が第2段の干渉計の位相差より大きいもの。
又、干渉後のビート波を参照信号として用いるもの。
【選択図】 図1

Description

本発明は、半導体レーザを用いる周波数変調型ヘテロダイン干渉方式によって可動部の変位を測定するように構成された変位測定装置に係り、特に、測定可能な変位ストロークの延長、応答特性の向上、測定精度と分解能の向上を図ることができるように工夫したものに関する。
半導体レーザ(以下、LDという)を用いた周波数変調型のヘテロダイン干渉式変位測定装置は、小型で低コストのヘテロダイン干渉式変位測定装置として知られている。これは、大型のヘリウムネオンレーザとファラデー変調器の代わりに小型で低コストのLDを用いているからである(半導体レーザ変調方式、以下、LD変調方式という)。
そのようなLD変調方式の変位測定装置を開示するものとして、例えば、特許文献1、特許文献2等がある。
特許2521872号公報 特開平7―174511号公報
上記LD変調方式の変位測定装置の構成を図2に示す。図2は、従来のLD変調方式による変位測定装置の構成を概念的に示す図であり、まず、信号発生器101がある。この信号発生器101によって、鋸歯状波又は三角波信号を形成・出力する。上記鋸歯状波の周期(T
)は次の式(I)によって表される。
T=2π/ωS ―――(I)
但し、
ωS :鋸歯状波の角周波数
又、半導体レーザ用ドライバ103があり、この半導体レーザ用ドライバ103はLD105を駆動するものであり、上記信号発生器101より出力される鋸歯状波又は三角波信号によってLD105を駆動するものである。
上記LD105からはレーザ光が出射される。このレーザ光は鋸歯状又は三角波状に周波数変調されている。上記LD105より出射されるレーザ光はコリメータレンズ107によって集光され、偏光ビームスプリッタ(以下、PBSという)109に入射される。PBS109に入射されたレーザ光は、このPBS109によって透過光と反射光とに分割される。
まず、PBS109によって反射された光は1/4波長板111を透過し、固定鏡113にて反射して、再び上記1/4波長板111を透過する。そして、上記PBS109
を透過してアナライザ115に到達する。
一方、PBS109を透過した光は、1/4波長板117を透過し、可動鏡119にて反射し、再び上記1/4波長板117を透過する。そして、上記PBS109にて反射して上記アナライザ115に到達する。
すなわち、PBS109において分岐された反射光と透過光は、固定鏡113で反射される光路と、可動鏡119で反射される光路とを夫々通り、アナライザ115にて干渉してそれらの光路差(距離の差、L)に応じたビート信号となる。このビート信号はコリメータレンズ121において集光されフォトダイオード123によって電気信号に変換される。そして、信号処理回路125に入力された後変位検出・演算回路127に入力され、該変位検出・演算回路127によって変位、すなわち、可動鏡119の変位が測定されることになる。
その際、ビート信号の角周波数(ωb)は次の式(II)で表される。
ωb=(ωS×β/c)×Im×L ―――(II)
但し、
ωS :鋸歯状波の角周波数
β :電流変調効率
c :光速度
:鋸歯状波電流の変調振幅
:光路差
又、この時の位相差(φ)は、光波長を(λ )とすると式(III)で表される。
φ=2π×L/λ―――(III)
尚、可動鏡119の変位量(ΔL)は、次の式(IV)に示すように、光路差の変化量(ΔL)の1/2である。
ΔL=ΔL/2―――(IV)
上記式(II)〜(IV)を用いて、信号発生器101より参照信号を入力し、且つ、フォトダイオード123よりビート信号を入力して、上記信号処理回路125及び変位検出・演算回路127によって可動鏡119の変位量(ΔL)が演算されるものである。
上記従来の構成によると次のような問題があった。
すなわち、上記特許文献1、特許文献2におけるLD変調方式の変位測定装置の場合には、式(II)に示すように、被測定対象物までの変位の大きさにより、干渉によるビート信号の角周波数(ωb)が大きく変化するため、バンドパスフィルター(以下、BPFという)の帯域制限によるストローク(測定可能変位範囲)に制限があるという問題があった。
又、応答速度の制限、測定精度や分解能の制限があるという問題もあった。
本発明はこのような点に基づいてなされたものでその目的とするところは、LD変調方式を用いた変位測定装置において、測定可能な変位ストロークの延長、応答特性の向上、測定精度や分解能の向上を計ることが可能な変位測定装置を提供することにある。
上記目的を達成するべく本願発明の請求項1による変位測定装置は、半導体レーザを用いる周波数変調型ヘテロダイン干渉方式によって可動部の変位を測定するように構成された変位測定装置において、干渉計を少なくとも2段にわたって設置するようにしたことを特徴とするものである。
又、請求項2による変位測定装置は、請求項1記載の変位測定装置において、 干渉計を2段にわたって設置し、第1段目干渉計の位相差が第2段目干渉計の位相差より大きいことを特徴とするものである。
又、請求項3による変位測定装置は、半導体レーザを用いる周波数変調型ヘテロダイン干渉方式によって可動部の変位を測定するように構成された変位測定装置において、干渉後のビート波を参照信号として用いることを特徴とするものである。
又、請求項4による変位測定装置は、請求項1又は請求項2記載の変位測定装置において、第1段目干渉計による干渉ビート波を参照信号として用いることを特徴とするものである。
以上述べたように本願発明による変位測定装置によると、半導体レーザを用いる周波数変調型ヘテロダイン干渉方式によって可動部の変位を測定するように構成された変位測定装置において、干渉計を少なくとも2段にわたって設置するようにしたので、測定可能な変位ストロークの延長、応答特性、測定精度、分解能の向上を図ることが可能になった。
又、干渉計を2段にわたって設置し、第1段目干渉計の位相差を第2段目干渉計の位相差より大きくした場合には、ビート信号の角周波数(ωb)は殆ど変動しなくなり、それによって、従来懸念されていたストローク制限の問題は効果的に解消される。
又、干渉後のビート波を参照信号として用いるようにした場合には、光源部における外乱の影響をなくして、測定精度や分解能の向上を図ることができる。
以下、図1を参照して本発明の一実施の形態を説明する。図1は本実施の形態による変位測定装置の構成を示す図であり、まず、信号発生器1がある。この信号発生器1によって、鋸歯状波又は三角波信号を形成・出力する。又、半導体レーザ用ドライバ3があり、この半導体レーザ用ドライバ3はLD5を駆動するものである。LD5は上記信号発生器1より出力される鋸歯状波又は三角波信号によって上記半導体レーザ用ドライバ3を介して駆動される。
上記LD5からはレーザ光が出射される。このレーザ光は鋸歯状又は三角波状に周波数変調されている。上記LD5より出射されるレーザ光はコリメータレンズ7によって集光されてPBS9に入射される。PBS9に入射されたレーザ光は、このPBS9によって透過光と反射光とに分割される。
まず、PBS9によって反射された光は1/4波長板11を透過し、固定鏡13にて反射して、再び上記1/4波長板11を透過する。そして、PBS9
を透過してビームスプリッタ(以下、BSと称す)15に到達する。
一方、PBS9を透過した光は、1/4波長板17を透過し、固定鏡19にて反射し、再び上記1/4波長板17を透過する。そして、PBS9にて反射して上記BS15に到達することになる。
ここまでの構成は、図2に示した従来例の構成と略同じであるが、従来例では可動鏡119としていたのに対して、本実施の形態では固定鏡19としている点が異なる。
又、信号発生器1、半導体レーザ用ドライバ3、LD5、コリメータレンズ7までの構成が「光源部」に相当する構成であり、又、PBS9、1/4波長板11、固定鏡13、1/4波長板17、固定鏡19までの構成が「第1段目干渉計」に相当する構成である。
上記BS15に入力された2光波の内の一部はアナライザ21へと分岐入力される。アナライザ21に入力された2光波は干渉し、第1段目干渉計における光路差(L)に応じたビート信号となる。これをコリメータレンズ23で集光してフォトダイオード25にて電気信号に変換する。この時の角周波数(ωb)及び位相(φ)は、従来例の説明で示した式(II)、(III)によって表される。又、上記BS15、アナライザ21、コリメータレンズ23、フォトダイオード25までの部分が「ビート参照信号検出部」となる。
上記BS15を透過した2光波はPBS27によって分離される。上記PBS27において反射された偏光は、1/4波長板29を透過して可動鏡31にて反射され、再び1/4波長板29を透過する。そして、上記PBS27を透過してアナライザ33に到達する。
一方、上記PBS27を透過した偏光は、1/4波長板35を透過して固定鏡37によって反射され、再び1/4波長板35を透過する。そして、上記PBS27によって反射されて上記アナライザ33に到達する。
そして、可動鏡31にて反射され再びPBS27に戻ってくる光路と、PBS27を透過した透過光が固定鏡37にて反射され再びPBS27に戻ってくる光路との光路差を(L)とすると、PBS27で分岐された光は光路差(L)が付加された2光波となってアナライザ33にて干渉し、それらの光路差に応じたビート信号となる。
その時のビート信号の角周波数(ωb)及び位相差(φ)は、次の式(V)、(VI)によって表される。
ωb=(ωS×β/c)×Im×(L+L)―――(V)
φ=2π×(L+L)/λ―――(VI)
そして、PBS27、1/4波長板29、可動鏡31、1/4波長板35、固定鏡37までの構成が「第2段目干渉計」に相当する。
尚、可動鏡31の変位量(ΔL)は、次の式(VII)に示すように、光路差の変化量(ΔL)の1/2である。
ΔL=ΔL/2―――(VII)
上記第2段目干渉計より出射された2光波はアナライザ33にて干渉し、光路差(L+L)に応じたビート信号となる。このビート信号の光は、コリメータレンズ35で集光されフォトダイオード37により電気信号に変換される。
この部分が「ビート信号検出部」となる。
前述したビート参照信号検出部から得られた参照信号及び上記ビート信号検出部から得られたビート信号は信号処理回路39に入力される。この信号処理回路39において、BPF等を用いてノイズ除去、波形成形等を行い、変位検出・演算回路41によって参照信号との周波数差あるいは位相差より可動鏡31の変位量を演算・算出する。
以上本実施の形態によると次のような効果を奏することができる。
まず、変位測定可能な変位ストロークを長くすることが可能になった。すなわち、従来のLD周波数変調型の変位測定装置の場合には、変位測定可能なストローク長には限界があった。それは式(II)に示されるように、従来のLD周波数変調型では変位量の2倍である光路差(L)が変化すると、ビート信号の角周波数(ωb)もそれに比例して変化し、よって、変位測定可能なストローク範囲を拡大しようとすれば周波数帯域が広がってしまい、結局、信号処理においてBPFによって信号減衰が生じてしまうためである。
これに対して、本実施の形態の場合には、第1段目干渉計、第2段目干渉計と干渉計を2段にわたって設置しているので、そのような変位ストロークの制限を改善することができる。すなわち、干渉計を2段にわたって設置した場合のビート信号の角周波数(ωb)は式(V)に示されているように、測定したい変位量と比例関係にある光路差(L)以外の別変数である光路差(L)との和になっている。よって、光路差(L)の変動に対してビート信号の角周波数(ωb)の変動はより少なくなり、特に、光路差(L)を光路差(L)より十分大きくすればビート信号の角周波数(ωb)は殆ど変動しなくなる。それによって、従来懸念されていたストローク制限は解消されることになる。
又、第1段目干渉計の光路差(L)を十分長くした場合、外乱ノイズに対して弱くなることが懸念されるが、本実施の形態の場合には、干渉計が2段にわたって設置されていて、第1段目干渉計は固定光路であり、よって、そのような外乱に対する対策は容易である。具体的には、空気中ではなくて光導波路を使用して光路差を設けるように構成することが一案として考えられる。
又、本実施の形態の場合には応答特性の向上を図ることができるようになった。応答速度は式(V)に示されるビート信号の角周波数(ωb)が高ければより早くなる。そして、式(V)から明らかなように、LD電流変調の鋸歯状波の周波数(ωS)、LD電流振幅(Im)又は光路差(L+L)の何れかを大きくすればビート信号の角周波数(ωb)が増加し、高い応答速度が得られる。しかしながら、LD電流変調の鋸歯状波周波数(ωS)やLD電流振幅(Im)を大きくすることについては半導体レーザ素子の制限がある。つまり、LD電流変調の鋸歯状波周波数(ωS)やLD電流振幅(Im)をあまり大きくすると非線形性を生じて変位測定精度が低下してしまう。
これに対して、この実施の形態の場合には、式(V)において光路差(L)と独立に光路差(L)を設定することができ、この光路差(L)を長くすることによって、ビート信号の角周波数(ωb)を上げることができ、それによって、応答速度の向上を図ることができるものである。
又、測定精度、分解能の向上を図ることができる。すなわち、図2に示した従来例の場合には、参照信号を信号発生器101のモニター電気信号より取り込み、それとビート干渉信号とを比較演算している。しかしながら、LD及び光学系は温度変化、空気密度変化、熱膨張、電磁ノイズ、機械振動等の外乱の影響を受け、そのような外乱の影響を受けたビート干渉信号と信号発生器101から出力される安定した(外乱の影響を受けていない)参照電気信号とを比較しても精度上限界があった。
これに対して、本実施の形態では、第1段目干渉計による干渉後のビート波を参照信号として使用するようにしているので、光源部での外乱の影響は参照信号である上記ビート波にも反映されており、それによって、従来懸念されていた測定精度の劣化についてはこれを解消することができるものである。
又、ビート参照信号検出部を第1段目干渉計の後に設置することにより、第1段目干渉計の光路差(L)が長くなって外乱の影響を受け易くなっても、参照信号はその後で検出しているのでその外乱も反映されることになる。
尚、ビート参照信号検出部と変位検出用の干渉計とはその光路がより近いことが望ましく、具体的には、BS15とPBS27が近いことが望ましい。止む終えず光路を伸ばすときは、PBS9とBS15の間を伸ばす方が良い。
尚、本発明は前記一実施の形態に限定されるものではない。
例えば、前記一実施の形態の場合には、干渉計を二段にわたって設置したが、三段以上にわたって設置することも考えられる。
本発明は、半導体レーザを用いる周波数変調型ヘテロダイン干渉方式によって可動部の変位を測定するように構成された変位測定装置に係り、特に、変位ストロークを延長、応答特性の向上、測定精度と分解精度の向上を計ることができるように工夫したものに関し、各種変位を測定する変位測定装置に好適である。
本発明の一実施の形態を示す図で、変位測定装置の構成を示す図である。 従来例を示す図で、変位測定装置の構成を示す図である。
符号の説明
1 信号発生器
3 半導体レーザドライバ
5 半導体レーザ(LD)
7 コリメータレンズ
9 偏光ビームスプリッタ(PBS)
11 1/4波長板
13 固定鏡
15 ビームスプリッタ(BS)
17 1/4波長板
19 固定鏡
21 アナライザ
23 コリメータレンズ
25 フォトダイオード
27 偏光ビームスプリッタ(PBS)
29 1/4波長板
31 可動鏡
33 アナライザ
35 コリメータ
37 フォトダイオード
39 信号処理回路
41 変位検出・演算回路

Claims (4)

  1. 半導体レーザを用いる周波数変調型ヘテロダイン干渉方式によって可動部の変位を測定するように構成された変位測定装置において、
    干渉計を少なくとも2段にわたって設置するようにしたことを特徴とする変位測定装置。
  2. 請求項1記載の変位測定装置において、
    干渉計を2段にわたって設置し、第1段目干渉計の位相差が第2段目干渉計の位相差より大きいことを特徴とする変位測定装置。
  3. 半導体レーザを用いる周波数変調型ヘテロダイン干渉方式によって可動部の変位を測定するように構成された変位測定装置において、
    干渉後のビート波を参照信号として用いることを特徴とする変位測定装置。
  4. 請求項1又は請求項2記載の変位測定装置において、
    第1段目干渉計による干渉ビート波を参照信号として用いることを特徴とする変位測定装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100538260C (zh) * 2007-02-07 2009-09-09 中国科学院上海光学精密机械研究所 微位移高精度实时干涉测量仪
CN102581704A (zh) * 2012-03-22 2012-07-18 成都工具研究所有限公司 用激光干涉仪测量数控机床圆轨迹的装置
US20130148129A1 (en) * 2010-08-19 2013-06-13 Isis Innovation Limited Apparatus and method for measuring distance
CN103322925A (zh) * 2013-06-09 2013-09-25 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 基于锁相环滤波法消除非线性误差的光外差干涉法
CN106989678A (zh) * 2017-06-14 2017-07-28 山东同其智能科技有限公司 一种利用激光干涉测量位移的装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03285102A (ja) * 1990-03-30 1991-12-16 Yokogawa Electric Corp Fmヘテロダイン法を用いたアブソリュート測長方法およびアブソリュート測長器
JPH0652166B2 (ja) * 1989-01-17 1994-07-06 横河電機株式会社 アブソリュート測長器
JP2002107118A (ja) * 2000-10-03 2002-04-10 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 長さ情報伝送方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012141189A1 (ja) * 2011-04-11 2012-10-18 日本電気株式会社 暗号化方法、暗号化装置および暗号化プログラム

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0652166B2 (ja) * 1989-01-17 1994-07-06 横河電機株式会社 アブソリュート測長器
JPH03285102A (ja) * 1990-03-30 1991-12-16 Yokogawa Electric Corp Fmヘテロダイン法を用いたアブソリュート測長方法およびアブソリュート測長器
JP2002107118A (ja) * 2000-10-03 2002-04-10 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 長さ情報伝送方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100538260C (zh) * 2007-02-07 2009-09-09 中国科学院上海光学精密机械研究所 微位移高精度实时干涉测量仪
US20130148129A1 (en) * 2010-08-19 2013-06-13 Isis Innovation Limited Apparatus and method for measuring distance
US9030670B2 (en) * 2010-08-19 2015-05-12 Isis Innovation Limited Apparatus and method for measuring distance
CN102581704A (zh) * 2012-03-22 2012-07-18 成都工具研究所有限公司 用激光干涉仪测量数控机床圆轨迹的装置
CN103322925A (zh) * 2013-06-09 2013-09-25 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 基于锁相环滤波法消除非线性误差的光外差干涉法
CN106989678A (zh) * 2017-06-14 2017-07-28 山东同其智能科技有限公司 一种利用激光干涉测量位移的装置

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