JP2005281714A - 銅合金およびその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】コネクタなどの電気電子部品用材料に要求される引張強さ、導電率、耐応力緩和特性、曲げ加工性、せん断加工性、熱間加工性およびコストなどの諸特性を兼備した銅合金を提供する。
【解決手段】Znを20〜41重量%、Snを0.5〜1.9重量%、Bi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.01〜0.2重量%含有する銅合金組成の原料を溶解し、液相線温度から600℃までの温度域において50℃/分以上の冷却速度で冷却して鋳塊を得た後、900℃以下の温度で熱間圧延を行い、次いで冷間圧延と300〜650℃の温度域における焼鈍を繰り返すことによって焼鈍後の結晶粒径を25μm以下にし、次いで30%以上の加工率の最終冷間圧延と450℃以下の低温焼鈍を行って、引張強さが700N/mm2以上、導電率が20%IACS以上、熱間圧延による割れ深さが0.3mm以下、せん断加工後の破壊面割合が50%以上、応力緩和率が20%以下の銅合金を得る。
【選択図】 なし

Description

本発明は、コネクタ、リードフレーム、リレー、スイッチなどの電気電子部品用材料として好適な強度、導電性、耐応力緩和特性、曲げ加工性、せん断加工性などを有し、さらに熱間加工性やコストに優れた銅合金およびその製造方法に関するものである。
近年のエレクトロニクスの発達に伴い、コネクタなどの電気電子部品の高集積化、小型化、高信頼性化および低コスト化が強く要求されている。これらの要求を満たすために、銅合金材料の強度、導電性、耐応力緩和性、曲げ加工性およびせん断加工性が良好でなければならない。
従来、黄銅は低コストの材料として使用され、成形加工性には優れているが、引張強さの点で十分満足できず、また、耐食性、耐応力腐食割れ性および耐応力緩和特性にも劣っている。一方、りん青銅は、強度、曲げ加工性、耐応力腐食割れ性および耐応力緩和特性のバランスに優れているが、例えば、ばね用りん青銅の場合、導電率が12%IACSと低く、且つ熱間加工することができず、また、せん断加工性に劣り、コスト的にも不利である。
また、コネクタ用の材料は、Snめっきされる機会が多くなり、合金にSnを含んでいる方が原料としての利用度が高まる。さらに、黄銅に代表されるように、Znを含むと、強度、加工性およびコストのバランスに優れた合金が得られ易い。このような見地から、Cu−Zn−Sn合金は注目に値する合金系である。しかしながら、上記の要求される諸特性を維持するためには、一定量以上のZnとSnを含有する必要がある。しかし、Zn量とSn量が増加すると、熱間割れを生じ易く、歩留まりの低下によるコストアップの問題がある。
このような現状から、適量のZnとSnを含有させ、適切な製造方法を採ることにより、諸特性のバランスに優れているCu−Zn−Sn合金が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。また、耐応力腐食割れ性を向上するために、Siなどを含有させたCu−Zn−Sn−Si合金が提案され(例えば、特許文献2参照。)、さらに、打抜加工性を改善するために、Pb、Bi、Se、Te、Caなどを添加しPd層で被覆したCu−Zn−Sn系合金が提案された(例えば、特許文献3参照。)。
特開2001−294957号公報 特開2002−088428号公報 特許第3014673号公報
まず、引張強さが700N/mm2以上であることが要求されている。また、通電によるジュ−ル熱の発生を抑えるために、導電率が20%IACS以上であることが好ましい。さらに、耐食性や耐応力腐食割れ性に優れていることが必要である。また、熱的負荷が加わるため、耐応力緩和特性にも優れていなければならない。具体的には、応力腐食割れ寿命が従来の黄銅一種の3倍以上であり、応力緩和率が150℃において黄銅一種の半分以下、好ましくは25%以下、さらに好ましくは20%以下であることが必要である。さらに、形状と寸法精度を確保するために、曲げ加工性及びせん断加工性が良好でなければならない。
さらに、黄銅とりん青銅の特長を兼備し、黄銅に近い価格で、引張強さが700N/mm2以上、導電率が20%IACS以上、耐応力腐食割れ性、耐応力緩和特性およびせん断加工性とも良好な材料が望まれている。
しかしながら、従来の方法では、Zn量、Sn量、不純物量及び熱間圧延条件の制御が非常に厳しく、また、微細なひび割れによる歩留まりの低下を生じる場合があるため、熱間圧延性にも優れた銅合金を提供することが望まれている。
特に近年、環境重視および省資源の見地から銅スクラップの大量使用が進み、それに伴ってCu−Zn−Sn合金にBi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sなどの元素が混入する機会が大きくなった。これらの元素は合金のせん断加工性(打抜加工性)や半田付け性などを向上する効果があるが、Snと低融点共晶組織を形成しやすく、Snの粒界への偏析を助長し、極微量(数ppm程度)でも合金の熱間加工性に大きい影響を与えるという問題があった。
本発明は、このような従来の問題点に鑑み、エレクトロニクスの発達に伴ってコネクタなどの電気電子部品用材料に要求される上記のような諸特性を兼備した銅合金、すなわち、引張強さ、導電率、耐応力緩和特性、曲げ加工性、せん断加工性、熱間加工性およびコストに優れた銅合金およびその製造方法を提供することを目的とする。
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、本発明をなすに至ったものである。すなわち、本発明は第1に、Znを20〜41重量%、Snを0.5〜1.9重量%、Bi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.01〜0.2重量%含有し、残部がCuおよび不可避的不純物からなる銅合金;第2に、Znを20〜41重量%、Snを0.5〜1.9重量%、Bi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.01〜0.2重量%、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zrのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.05〜2.0重量%含有し、残部がCuおよび不可避的不純物からなる銅合金;第3に、Znを20〜41重量%、Snを0.5〜1.9重量%、Bi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.01〜0.2重量%、B、C、Mg、Sc、Y、La、Ceのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.005〜0.5重量%含有し、残部がCuおよび不可避的不純物からなる銅合金;第4に、Znを20〜41重量%、Snを0.5〜1.9重量%、Bi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.01〜0.2重量%、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zrのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.05〜2.0重量%、B、C、Mg、Sc、Y、La、Ceのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.005〜0.5重量%含有し、残部がCuおよび不可避的不純物からなる銅合金;第5に、前記銅合金が、引張強さが700N/mm2以上、導電率が20%IACS以上、熱間圧延による割れ深さが0.3mm以下、せん断加工後の破壊面割合が50%以上、応力緩和率が20%以下である、第1〜4のいずれかに記載の銅合金である。
さらに、上記本発明に係る銅合金の製造方法として、第6に、前記組成の銅合金の原料を溶解し、液相線温度から600℃までの温度域において50℃/分以上の冷却速度で冷却して鋳塊を得た後、900℃以下の温度で熱間圧延を行い、次いで冷間圧延と300〜650℃の温度域における焼鈍を繰り返すことによって焼鈍後の結晶粒径を25μm以下にし、次いで30%以上の加工率の最終冷間圧延と450℃以下の低温焼鈍を行う、第1〜5のいずれかに記載の銅合金を製造する方法;第7に、前記熱間圧延において、1パス目の熱間圧延における圧下率を5〜30%とし、次のパスの熱間圧延における圧下率を5〜40%とし、最終パス目の熱間圧延における圧下率を25%以上とする、第6記載の製造方法;第8に、前記1パス目の熱間圧延における圧下率を10〜20%とする、第7記載の製造方法;第9に、前記焼鈍後の結晶粒径を15μm以下とする、第6〜8のいずれかに記載の製造方法;第10に、前記最終冷間圧延の加工率を60%以上とする、第6〜9のいずれかに記載の製造方法である。
本発明に係る銅合金は、コネクタなどの電気電子部品用材料に要求される諸特性を兼備した銅合金であって、従来の黄銅やりん青銅などと比較して、0.2%耐力、引張強さ、導電率、曲げ加工性およびせん断加工性のバランスや、耐応力緩和率特性および耐応力腐食割れ性などに優れ、さらに熱間加工性が良い。
また本発明に係る製造方法によれば、銅より安価な成分を添加することにより、すなわち、Snメッキ屑、快削黄銅屑などの大量使用によって、低コスト化を図りつつ、優れたコネクタなどの電気電子部品用材料に最適な銅合金を提供することができる。
本発明による銅合金の実施の形態は、Znを20〜41重量%、Snを0.5〜1.9重量%、Bi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.01〜0.2重量%含有し、さらに必要に応じて、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zrのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.05〜2.0重量%、および/または、B、C、Mg、Sc、Y、La、Ceのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.005〜0.5重量%含有し、残部がCuおよび不可避的不純物からなるものである。このように銅合金の成分の量を限定した理由は以下の通りである。
Znを添加すると、銅合金の強度やばね性が向上し、また、ZnはCuより安価であるため、Znを多量に添加することが望ましい。しかし、Zn量が41重量%を超えると、Snとの共存下で粒界偏析が激しくなり、銅合金の熱間加工性が著しく低下する。また、銅合金の冷間加工性、耐食性および耐応力腐食割れ性も低下する。一方、Zn量が20重量%より少ないと、銅合金の強度やばね性が不足し、さらに、Snを表面処理したスクラップを原料とする場合には、銅合金原料の溶解時の水素ガス吸蔵が多くなり、インゴットのブローホールが発生し易くなる。また、安価なZnの量が少なく、経済的にも不利になる。したがって、Zn量は20〜41重量%の範囲、好ましくは24〜35重量%の範囲、更に好ましくは24〜30重量%の範囲である。
Snは、強度や弾性などの機械的特性を向上させる効果を有する。また、SnめっきなどのSnで表面処理した材料の再利用の点からも、銅合金が添加元素としてSnを含有するのが好ましい。しかし、Sn含有量が増加すると、銅合金の導電率が急激に低下し、また、Znとの共存下で粒界偏析が激しくなり、熱間加工性が著しく低下する。熱間加工性を確保するためには、Sn含有量は1.9重量%を超えない範囲でなければならない。一方、Sn含有量が0.5重量%より少ないと、銅合金の機械的特性向上の効果が少なく、また、Snめっきなどを施したプレスくずなどを原料として利用し難くなる。したがって、Sn含有量は0.5〜1.9重量%の範囲であり、0.6〜1.6重量%の範囲が好ましい。
Bi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sはせん断加工性を向上する効果がある。その総量が0.01重量%より少ないと、上記効果が十分に得られず、また、これらの元素を含有する黄銅屑を原料として大量に使用し難くなる。一方その総量が0.2重量%を超えると、これらの元素はSnと低融点共晶組織を形成しやすく、Snの粒界への偏析を助長し、熱間加工性を著しく低下させる。したがって、その総量は0.01〜0.2重量%の範囲、好ましくは0.01〜0.1重量%の範囲である。
Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni及びZrは、合金強度を高め、かつ応力緩和を小さくする作用をそれぞれ有する。特に、Bi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sと高融点化合物を形成しやすく、熱間加工性を向上する作用を有する。その総量を0.05重量%未満にすると、前記作用が十分に発揮されず、2.0重量%を超えると熱間加工性及び冷間加工性が低下する。また、経済的にも不利になる。したがって、その総量は0.05〜2.0重量%の範囲、好ましくは0.1〜1.0重量%の範囲、更に好ましくは0.2〜1.0重量%の範囲である。
B、C、Mg、Sc、Y、La及びCeは、SnおよびBi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sの粒界析出並びに粒界酸化を抑制する効果を有し、熱間加工性及び冷間加工性を向上する作用を有する。その総量を0.005重量%未満にすると、前記作用が十分に発揮されず、0.5重量%を超えると逆に熱間加工性及び冷間加工性が低下する。したがって、その総量は0.005〜0.5重量%の範囲、好ましくは0.01〜0.2重量%の範囲である。
また、以上のように限定された成分であれば、引張強さが700N/mm2以上、好ましくは800N/mm2以上、導電率が20%IACS以上、応力緩和率が20%以下、好ましくは15%以下であり、さらに他の必要な諸特性、具体的には、耐食性、耐応力腐食割れ性(アンモニア蒸気中での割れ寿命が黄銅一種の3倍以上)、耐応力緩和特性(150℃における緩和率が黄銅一種の半分以下でりん青銅並)、せん断加工性(プレス打ち抜き性)などを満足する銅合金を作成することができる。
上記の銅合金がさらに、0.01〜5重量%のAl、0.01〜1重量%のCa、0.01〜3重量%のSi、0.01〜3重量%のCd、0.01〜3重量%のBe、0.01〜1重量%のBa、0.01〜5重量%のAu、0.01〜5重量%のAg、0.005〜0.5重量%のPのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.01〜5重量%含有しても良い。
これらの元素は、導電率、ヤング率および成形加工性を大きく損なうことなく、強度をさらに向上させることができる。また、各種の銅合金屑を原料として使用する場合にも有利である。各元素の含有範囲からはずれると、所望の効果を得られないか、または、熱間加工性、冷間加工性、導電率およびコスト面などにおいて不利になる。
次に、本発明に係る銅合金の製造方法の実施の形態を説明する。
最初に、本発明による銅合金の原料を溶解して鋳造する。雰囲気は大気雰囲気で十分であるが、不活性ガスでシ−ルした方が酸化防止の面から好ましい。ただし、還元ガス雰囲気では、高温になると水分の分解による水素の吸収や拡散によって不利になる。
次に、原料の溶解後、インゴットを連続鋳造によって鋳造するのが望ましい。この連続鋳造は、縦型と横型のいずれでも構わない。ただし、液相線温度から600℃まで温度域において50℃/分以上の冷却速度で冷却する。冷却速度が50℃/分未満では、粒界にSnおよびBi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sの偏析が生じ易く、その後の熱間加工性を悪化させ、歩留まりの低下を引き起こす。冷却速度を規定する温度域は、液相線温度から600℃までの温度域で良い。液相線以上の温度域を規定しても効果がなく、一方、600℃より低温域では、鋳造時の冷却工程の時間程度では粒界へのSnおよびBi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sの過度な偏析を生じないので、冷却速度を規定する温度域は、液相線温度から600℃までの温度域とする。
溶解鋳造後に熱間圧延を行う。熱間圧延の加熱温度は900℃以下とする。900℃を超える温度では、SnとBi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sの共晶組織による熱間割れが生じ、歩留まりが低下する。900℃以下の温度で1パス目の熱間圧延を行う際の圧下率を好ましくは5〜30%とする。圧下率が30%を超えると、鋳造結晶粒界に沿って割れが発生し易い。一方、圧下率が5%未満であると、動的再結晶またはパス間の静的再結晶が発生し難く、2パス目の圧延時に熱間割れが発生する場合もある。また、圧延パス回数が多くなり効率的ではない。2〜3パス後に動的再結晶することによって、鋳造時のミクロな偏析および鋳造組織の消失により、本発明による銅合金の組成のZn量およびSn量を含んでも、組織的に均質な材料を得ることができる。さらに好ましくは1パス目の圧下率を10〜20%とする。次のパスでは、圧下率が5〜40%が好ましく、熱間割れの発生を防止し、続いて効率良く圧延することができる。さらに、最終パス目の圧下率はできるだけ大きくなることが好ましく、具体的には圧下率25%以上が好ましい。これにより、熱間圧延後の結晶粒径を好ましくは35μm以下、さらに好ましくは15μm以下に制御することができる。熱間圧延後の結晶粒径が35μmを越えると、その後の冷間加工率や焼鈍条件の管理幅が狭く、少しでも逸脱すると、結晶粒が混粒になり易く、特性が劣化する。
熱間圧延後に必要に応じて表面を面削する。その後、冷間圧延と300〜650℃の温度域における焼鈍を繰り返し、焼鈍後の結晶粒径を25μm以下とする。300℃未満の温度では、結晶粒の制御に要する時間が長くなって不経済であり、650℃を越えると、短時間で結晶粒が粗大化する。焼鈍後の結晶粒径が25μmを越えると、0.2%耐力などの機械特性や加工性が低下する。焼鈍後の結晶粒径は、好ましくは15μm以下、さらに好ましくは10μm以下である。
このようにして得られた焼鈍材を、30%以上の加工率による最終冷間圧延と450℃以下の低温焼鈍を行うことによって、0.2%耐力が650N/mm2以上、引張強さが700N/mm2以上、導電率が20%IACS以上、応力緩和率が20%以下である銅合金を得る。最終冷間加工率が30%未満では、加工硬化による強度の向上が不十分であり、機械特性の向上が不十分であり、好ましくは60%以上の加工率とする。低温焼鈍は、0.2%耐力、引張強さ、ばね限界値および耐応力緩和特性をさらに向上させるために必要である。450℃を越える温度では短時間で軟化し、また、バッチ式と連続式のいずれの場合でもワ−ク内における特性ばらつきが発生し易くなる。したがって、低温焼鈍の温度条件を450℃以下とする。
このようにして得られた材料を端子にプレスした後に、100〜280℃の温度で1〜180分間熱処理しても良い。この熱処理によって、プレス加工によって低下したばね限界値や耐応力緩和特性が改善され、さらに、ウイスカ対策を実現することができる。100℃未満の温度では、このような効果が十分でなく、280℃を超えると、拡散や酸化により、接触抵抗、はんだ付け性および加工性が低下する。また、熱処理時間が1分未満では効果が十分でなく、180分を超えると拡散や酸化による前述の特性の低下が起こり、また経済的でもない。
以下、本発明による銅合金およびその製造方法についてさらに詳細に説明するが、本発明の技術的範囲はこれに限定されるものではない。
[実施例1〜15、比較例1〜14] 表1に化学成分組成(重量%)を示す各銅合金原料を、液相線温度より70℃高い温度で溶解した後、縦型の小型連続鋳造機を用いて、30×70×1000(mm、最初の厚さは30mmである。)の鋳塊に鋳造した。ただし、鋳型による一次冷却と水シャワ−による二次冷却を調整することにより、液相線から600℃までの冷却速度は50℃/分を大きく上回る条件であった(冷却速度は熱電対を鋳塊に一緒に鋳込みながら測定した。具体的には冷却速度範囲は70〜90℃/分であった)。
その後、各鋳塊を800〜860℃に加熱した後、厚さ5mmにまで熱間圧延し、表面やエッジの割れによって熱間加工性を評価した。但し、熱間圧延は10パス行い、1パス当たりの圧下率を15%として、最終パスの圧下率を25%とした。酸洗後に50倍の光学顕微鏡により割れが全く確認されないものを◎、割れ深さが0.3mm以下(すなわち、片面0.3mmで面削またはミ−リングした後に割れが全く確認されない)のものを○、割れ深さが0.3mmを超えるものを×とした。さらに、熱間圧延終了温度を600℃とし、熱間圧延後の急冷によって結晶粒径が約20μmになるように制御した。
次に、冷間圧延によって厚さ1mmまで圧延し、450〜520℃の温度で熱処理し、結晶粒径が約10μmになるように調整した。酸洗後に、厚さ0.25mmまで最終冷間圧延し、最終工程で230℃の低温焼鈍を施した。このようにして得られた条材から試験片を採取した。
以上のようにして得られた条材を用いて、引張強さ、導電率、応力緩和率、せん断加工性および応力腐食割れ寿命の測定を行った。引張強さの測定はJIS−Z−2241、導電率はJIS−H−0505に従って行った。応力緩和試験は、試料表面に0.2%耐力の80%に当たる曲げ応力を加え、150℃で500時間保持し、曲げぐせを測定することによって行った。応力緩和率は下記の式によって計算した。
応力緩和率(%)=[(L1−L2)/(L1−L0)]×100
[L0:治具の長さ(mm) 、L1:開始時の試料の長さ(mm)、L2:処理後の試料端間の水平距離(mm)]
せん断加工性の評価はICBA−T310(伸銅協会標準規格、銅および銅合金薄板条のせん断試験方法)に従って行った。せん断加工後の破面を観察することで行い、破断面割合(破断部厚さ/板厚×100)が大きい程、せん断加工性は良好である。
応力腐食割れ試験は、0.2%耐力の80%に当たる曲げ応力を加え、12.5%のアンモニア水を入れたデシケ−タ内に保持することによって行った。暴露時間は、10分単位とし、150分まで試験した。暴露後に各時間の試験片を取り出し、必要に応じて皮膜を酸洗除去し、光学顕微鏡で100倍の倍率で割れを観察した。そして、割れを確認した10分前の時間を応力腐食割れ寿命とした。
これらの結果を表1に示す。
Figure 2005281714
表1に示す結果から、規定した成分範囲内の実施例1〜15の銅合金は、熱間加工性に優れ、製造面でも有利であり、且つ、せん断加工性、引張強さおよび導電率のバランスに優れ、また、耐応力緩和特性および耐応力腐食割れ性も良好である。したがって、実施例1〜15の銅合金は、コネクタなどの電気電子用材料として極めて優れた特性を有する銅合金である。
これに対して、Bi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sなどの含有量が少ない(または含有されない)比較例1〜5の銅合金はいずれも破断部割合が50%未満であってせん断加工性が劣っている。また、Sn含有量が多い比較例4と比較例5の銅合金は熱間加工性が悪く、Sn含有量が少ない比較例1と比較例2の銅合金は、熱間加工性は劣っていないが、引張強さおよび耐応力緩和特性が劣り、せん断加工性も上記のとおり劣っている。
比較例6〜10のBi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sなどの含有量が多い銅合金は、せん断加工性に優れるが、熱間加工性に劣っており、歩留まり低下によるコストアップの問題がある。
さらに、Ti、Mn、FeおよびBの含有量の多い比較例11〜13の銅合金は、引張強さ、耐応力緩和特性およびせん断加工性に劣っていないが、熱間圧延の途中で割れが入り、その後の冷間加工との兼ね合いで最終板厚まで歩留まり良く製造することができなかった。また、Sn、Bの含有量の少ない比較例14の銅合金は、引張強さ、せん断加工性、耐応力緩和特性、応力腐食割れ寿命に劣っている。
[実施例16、比較例15、16] 表1に示す実施例11の銅合金と同じ銅合金(実施例16)と、市販の黄銅1種(C26000−H08、比較例15)と、ばね用りん青銅(C52100−H08、比較例16)について、実施例1〜15と同様の方法により、引張強さ、導電率、破断面割合、応力緩和率および応力腐食割れ寿命を測定した。これらの結果を表2に示す。なお、これらの市販の材料は、質別がH08(ばね材用)であり、同一成分の中でも高強度な質別である。
Figure 2005281714
表2に示す結果から、実施例16の銅合金は、従来の代表的なコネクタなどの電気電子用材料である黄銅(比較例15)と比較して、引張強さ、耐応力緩和特性、破断面割合、耐応力腐食割れ性などが向上していることがわかる。また、ばね用りん青銅(比較例16)と比較しても、導電率に優れている。また、ばね用りん青銅は、高価なSnを8%も含有し、原料費が高騰し易く、且つ熱間圧延できないため、製法が限定され、製造費を含めたト−タルコスト面で劣っている。したがって、実施例16の銅合金は、従来の黄銅やりん青銅と比較して十分に優れているといえる。
[実施例17、18、19、比較例17、18] 表1に示す実施例1と11の銅合金を、熱間圧延時の加熱温度を変えることによって、熱間圧延後の表面とエッジの割れ状況を観察した。この結果、860℃以下(具体的には800〜850℃)の加熱温度で(実施例17、18)、熱間割れが全く生じなかった。特に、0.12%B含有の実施例11の銅合金は、熱間圧延温度を900℃に上げても(実施例19)熱間割れが全く生じなかった。これに対して表1に示す実施例1と11の銅合金であっても、920℃の加熱温度(比較例17、18)では、熱間割れが発生し、適切な成分範囲であっても、加熱温度によっては熱間割れを生じることがあり、歩留まり低下をもたらす場合があることがわかった。
[実施例20、比較例19、20] 表1に示す実施例11と同じ組成の銅合金の鋳塊を840℃に加熱し、熱間圧延を2パス行った。各パスの圧延直後に水冷して得たサンプルをリン酸と蒸留水(1:1)の溶液中で電解研磨して腐食させた後、光学顕微鏡により300倍の倍率で結晶粒組織を観察した。但し、1パス目の圧下率をそれぞれ15%(実施例20)、4%(比較例19)、35%(比較例20)として、2パス目の圧下率をいずれも25%とした。
実施例20の銅合金の組織では、1パス目の圧延後にすべての結晶粒界に沿って動的再結晶粒が生じ、2パス目の圧延後にほぼ全域にわたって動的再結晶粒組織が観察された。これに対し、比較例19の組織では、1パス目の圧延後に動的再結晶粒がほとんど観察されず、2パス目の圧延後に一部の結晶粒界に沿ってクラックが観察された。また、比較例20の組織では、1パス目の圧延後に動的再結晶粒が不均一に分布して、一部の結晶粒界に沿ってクラックが観察され、2パス目の圧延後にこれらのクラックがさらに拡大した。したがって、1パス目の圧下率によっては熱延割れを生じることがあり、歩留まり低下をもたらす場合があることがわかった。
引張強さ、導電率、耐応力緩和特性、曲げ加工性、せん断加工性、熱間加工性およびコストなどを兼備した銅合金を提供するものであって、コネクタなどの電気電子部品用材料に適用することができる。

Claims (10)

  1. Znを20〜41重量%、Snを0.5〜1.9重量%、Bi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.01〜0.2重量%含有し、残部がCuおよび不可避的不純物からなる銅合金。
  2. Znを20〜41重量%、Snを0.5〜1.9重量%、Bi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.01〜0.2重量%、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zrのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.05〜2.0重量%含有し、残部がCuおよび不可避的不純物からなる銅合金。
  3. Znを20〜41重量%、Snを0.5〜1.9重量%、Bi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.01〜0.2重量%、B、C、Mg、Sc、Y、La、Ceのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.005〜0.5重量%含有し、残部がCuおよび不可避的不純物からなる銅合金。
  4. Znを20〜41重量%、Snを0.5〜1.9重量%、Bi、Se、Te、Sb、Pb、As、Ge、Sのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.01〜0.2重量%、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zrのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.05〜2.0重量%、B、C、Mg、Sc、Y、La、Ceのうち少なくとも1種以上の元素を総量で0.005〜0.5重量%含有し、残部がCuおよび不可避的不純物からなる銅合金。
  5. 前記銅合金が、引張強さが700N/mm2以上、導電率が20%IACS以上、熱間圧延による割れ深さが0.3mm以下、せん断加工後の破壊面割合が50%以上、応力緩和率が20%以下である、請求項1〜4のいずれかに記載の銅合金。
  6. 前記組成の銅合金の原料を溶解し、液相線温度から600℃までの温度域において50℃/分以上の冷却速度で冷却して鋳塊を得た後、900℃以下の温度で熱間圧延を行い、次いで冷間圧延と300〜650℃の温度域における焼鈍を繰り返すことによって焼鈍後の結晶粒径を25μm以下にし、次いで30%以上の加工率の最終冷間圧延と450℃以下の低温焼鈍を行う、請求項1〜5のいずれかに記載の銅合金を製造する方法。
  7. 前記熱間圧延において、1パス目の熱間圧延における圧下率を5〜30%とし、次のパスの熱間圧延における圧下率を5〜40%とし、最終パス目の熱間圧延における圧下率を25%以上とする、請求項6記載の製造方法。
  8. 前記1パス目の熱間圧延における圧下率を10〜20%とする、請求項7記載の製造方法。
  9. 前記焼鈍後の結晶粒径を15μm以下とする、請求項6〜8のいずれかに記載の製造方法。
  10. 前記最終冷間圧延の加工率を60%以上とする、請求項6〜9のいずれかに記載の製造方法。
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