JP2005275391A - Antireflection film and manufacturing method, polarizing plate, and liquid crystal display device using the same - Google Patents

Antireflection film and manufacturing method, polarizing plate, and liquid crystal display device using the same Download PDF

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Kazuhiro Nakamura
和浩 中村
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film which has a hard coat layer combining correction in dot defects and interference unevenness with solving problems in handling such as curling and brittleness, and which has sufficient antireflective performance, abrasion resistance, and productivity, and to provided a polarizing plate using the antireflection film, and a display device. <P>SOLUTION: The antireflection film has, on a transparent support, the hard coat layer containing at least one layer of transparent resin and a low-refractive-index layer having a lower refractive index than the support and hard coat layer in this order, wherein the transparent resin contains, as a main component, a mixture of a multifunctional (meth)acrylate (A) and multifunctional (meth)acrylate (B) which has the same skeleton with the multifunctional (meth)acrylate and has a spacer group between the skeleton and a (meth)acryloyl group. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、反射防止フィルムに関し、更に詳細には、反射防止性、耐擦傷性に優れ、点欠陥及びハードコートの干渉ムラが低減された反射防止フィルムに関する。   The present invention relates to an antireflection film, and more particularly, to an antireflection film that is excellent in antireflection properties and scratch resistance, and has reduced point defects and hard coat interference unevenness.

反射防止フィルムは、一般に、陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や液晶表示装置(LCD)のようなディスプレイ装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するようディスプレイの最表面に配置される。   In general, the antireflection film is used in a display device such as a cathode ray tube display (CRT), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), or a liquid crystal display (LCD), and a contrast reduction or image due to reflection of external light. In order to prevent reflection of light, it is arranged on the outermost surface of the display so as to reduce the reflectance by using the principle of optical interference.

このような反射防止フィルムは、一般的には、透明支持体上に適切な膜厚の、透明支持体より低屈折率の低屈折率層による皮膜をフィルムの最外層に形成することにより作製されている。低い反射率を実現するために低屈折率層にはできるだけ屈折率の低い材料が望まれる。また反射防止フィルムはディスプレイの最表面に用いられるため高い耐擦傷性が要求される。支持体が厚みが数十μm〜数mmのプラスチックフィルムである場合には、高い耐擦傷性を実現するためには、低屈折率層の皮膜自体の強度、下層との密着性に加えて、支持体の押し込み弾性の低さを補うためのハードコート層が必須である。特に近年、テレビやモニター等のアプリケーションにおいては、高い耐擦傷性が要求されるようになっており、最表層の皮膜の強度に加えてハードコート層による押し込み弾性の改善は大きな課題である。   Such an antireflection film is generally produced by forming a film with a low refractive index layer having an appropriate thickness on the transparent support and having a lower refractive index than that of the transparent support on the outermost layer of the film. ing. In order to realize a low reflectance, a material having a refractive index as low as possible is desired for the low refractive index layer. Further, since the antireflection film is used on the outermost surface of the display, high scratch resistance is required. When the support is a plastic film having a thickness of several tens of μm to several mm, in order to realize high scratch resistance, in addition to the strength of the coating film itself of the low refractive index layer, adhesion to the lower layer, A hard coat layer for supplementing the low indentation elasticity of the support is essential. Particularly in recent years, in applications such as televisions and monitors, high scratch resistance has been demanded, and in addition to the strength of the outermost layer film, improvement of indentation elasticity by the hard coat layer is a major issue.

特許文献1〜4に、シリカ等の無機超微粒子と多官能(メタ)アクリレートモノマーを主成分とする耐磨耗性を有する塗布組成物が開示されている。これらの組成物は概ね1〜50μmの膜厚で使用できることが記載されている。無機超微粒子を含有させることは、ハードコート層の押し込み弾性率の改善、厚膜にしたときのカール悪化の防止等に大きな効果がある一方、このようなハードコート層はロールフィルムの状態から枚葉に打ち抜く工程等で要求されるフィルムの脆性、可とう性が悪化する問題があった。また、そうした問題を回避するために押し込み弾性が許す範囲内で膜厚を薄くすることができるが、ハードコート層の膜厚が6μ以下では透明支持体とハードコート層との界面、ハードコート層と上層或いは空気との界面での反射光の干渉による色味ムラ(干渉ムラと呼ぶ)が悪化する、あるいは点欠陥が増加するという問題を生じ、そのようなフィルムを表示装置に適用するとその表示品位を低下してしまう問題がある。   Patent Documents 1 to 4 disclose a coating composition having abrasion resistance mainly composed of inorganic ultrafine particles such as silica and a polyfunctional (meth) acrylate monomer. It is described that these compositions can be used with a film thickness of about 1 to 50 μm. Inclusion of inorganic ultrafine particles has a great effect in improving the indentation elastic modulus of the hard coat layer and preventing curling deterioration when it is made thick, while such a hard coat layer is formed from a roll film state. There was a problem that the brittleness and flexibility of the film required in the process of punching into the leaves deteriorated. In order to avoid such a problem, the film thickness can be reduced within the range permitted by the indentation elasticity, but when the film thickness of the hard coat layer is 6 μm or less, the interface between the transparent support and the hard coat layer, the hard coat layer When the film is applied to a display device, the color unevenness (referred to as interference unevenness) due to the interference of reflected light at the interface between the surface and the upper layer or air deteriorates, or the point defect increases. There is a problem of degrading the quality.

また、特許文献5には、セルローストリアセテートフィルム上に固形分60〜80重量%の(メタ)アクリレートモノマー、必要に応じてウレタン(メタ)アクリレートやポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等のプレポリマー、オリゴマーを添加してなるハードコート塗布組成物を塗布することで8〜30g/m2の乾燥塗布量のハードコート層を設けることにより、点欠陥をなくすことができ、耐擦傷性、耐薬品性に優れたハードコートフィルムが得られることが開示されている。しかしながら、本特許文献においては、可とう性が要求される場合にはモノマーの量を少なめにしたり、1官能または2官能アクリレートモノマーを使用することで架橋密度を低減することが記載されており、前者では弾性率改善の効果が不十分となり、後者ではモノマーの分子量が小さくなる為、支持体への拡散性が過剰になることによる塗布面状の悪化(白化等)や、皮膚刺激性の悪化を招くという問題があった。
特公昭62−21815号公報 特許第3035402号公報 特許第3096862号公報 特許第3164431号公報 特開平8−80472号公報
In Patent Document 5, a (meth) acrylate monomer having a solid content of 60 to 80% by weight on a cellulose triacetate film, and a prepolymer and an oligomer such as urethane (meth) acrylate, polyester acrylate, and epoxy acrylate as necessary are added. By applying the hard coat coating composition thus formed, by providing a hard coat layer having a dry coating amount of 8 to 30 g / m 2 , point defects can be eliminated, and the scratch resistance and chemical resistance are excellent. It is disclosed that a hard coat film can be obtained. However, in this patent document, it is described that when flexibility is required, the amount of monomer is reduced or the crosslinking density is reduced by using a monofunctional or bifunctional acrylate monomer, In the former, the effect of improving the elastic modulus is insufficient, and in the latter, the molecular weight of the monomer is reduced, so that the surface of the coated surface is deteriorated (whitening, etc.) due to excessive diffusibility to the support, and skin irritation is deteriorated. There was a problem of inviting.
Japanese Patent Publication No.62-21815 Japanese Patent No. 3035402 Japanese Patent No. 3096862 Japanese Patent No. 3164431 Japanese Patent Laid-Open No. 8-80472

要するに、点欠陥や干渉ムラとカールや脆性とを十分に両立したハードコート層を有する反射防止フィルムは提案されてないのが現状である。
従って、本発明の目的は、点欠陥や干渉ムラの改良と、カールや脆性の改良とを両立すると同時に、十分な反射防止性、耐擦傷性、および高い生産性を兼ね備えた反射防止フィルムを提供することにある。
In short, the present situation is that no antireflection film having a hard coat layer in which point defects, interference unevenness, curl and brittleness are sufficiently compatible has been proposed.
Accordingly, an object of the present invention is to provide an antireflection film that has both improvement of point defects and interference unevenness and improvement of curling and brittleness, and at the same time sufficient antireflection, scratch resistance and high productivity. There is to do.

本発明者らは、上述の課題を解消すべく鋭意検討した結果、ハードコート層に含有される透明樹脂の組成と膜厚を調整することにより、前記目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、下記の構成により、前記目的を達成したものである。
1.透明支持体上に少なくとも一層の透明樹脂を含有するハードコート層、該支持体および該ハードコート層の何れの層よりも屈折率の低い低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムにおいて、
該透明樹脂が、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレート(A)と、該多官能(メタ)アクリレートと同一の骨格を有し、且つ該骨格と(メタ)アクリロイル基との間にスペーサー基を有する多官能(メタ)アクリレート(B)との混合物を主成分とすることを特徴とする反射防止フィルム。
2.前記多官能(メタ)アクリレート(A)の平均分子量が200〜600であり、前記多官能(メタ)アクリレート(B)の平均分子量が300〜2000であることを特徴とする、請求項1に記載の反射防止フィルム。
3.前記多官能(メタ)アクリレート(B)におけるスペーサー基が炭素原子数3〜10のラクトン付加、炭素原子数2〜20のアルキレングリコール変性の何れかによって導入された構造を有することを特徴とする、請求項1又は2に記載の反射防止フィルム。
4.前記ハードコート層が、屈折率1.20〜1.50、平均粒子径1〜500nmの無機酸化物超微粒子を含有することを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止フィルム。
5.前記ハードコート層が、下記一般式(1)で表されるオルガノシラン、その加水分解物、及びその部分縮合物の何れか、或いはこれらの混合物を含有することを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止フィルム。
一般式(1):(R10m−Si(X)4-m
(式中、R10は置換及びは無置換のアルキル基並びに置換及び無置換のアリール基の少なくともいずれかを表す。Xは水酸基または加水分解可能な基を表す。mは1〜3の整数を表す。)
6.前記ハードコート層の厚さが6〜15μmであることを特徴とする上記1〜5のいずれかに記載の反射防止フィルム。
7.前記ハードコート層表面において、50μm以上の大きさを有する点欠陥が1平方メートル当り5個以下であることを特徴とする上記1〜6のいずれかに記載の反射防止フィルム。
8.前記透明支持体が厚さ40μm〜120μmのセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする上記1〜7のいずれかに記載の反射防止フィルム。
9.前記低屈折率層の屈折率が1.30〜1.55の層であり、前記低屈折率層が、フッ素原子を35〜80質量%の範囲で含み、且つ架橋性もしくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマー(C)の架橋体もしくは重合体を主成分として有し、該含フッ素ポリマー(C)が、含フッ素ビニルモノマー重合単位および側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する重合単位を含み、主鎖が炭素原子のみからなる共重合体であることを特徴とする上記1〜8のいずれかに記載の反射防止フィルム。
10.前記低屈折率層が、前記含フッ素ポリマー(C)、平均粒径が該低屈折率層の厚みの30%以上150%以下で且つ中空構造からなる屈折率が1.17〜1.40である無機微粒子(D)、下記一般式(1)で表されるオルガノシランの加水分解物および/またはその部分縮合物(E)を、各々少なくとも1種を含有する硬化性組成物を塗布、硬化して形成された硬化膜であるであることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の反射防止フィルム。
一般式(1);(R10)m−Si(X)4-m
(式中、R10は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Xは水酸基または加水分解可能な基を表す。mは1〜3の整数を表す。)
11.偏光板の表面保護フィルムの少なくとも一枚が、上記1〜9のいずれかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
12.前記偏光板の2枚の表面保護フィルムの一枚が、請求項1〜8のいずれかに記載の反射防止フィルムであり、もう一枚の表面保護フィルムが、該表面保護フィルムの偏光膜と貼り合せる面とは反対側の面に光学異方性層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであり、該光学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物を含有し、該ディスコティック構造単位の円盤面が該表面保護フィルム面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と該表面保護フィルム面とのなす角度が、該光学異方層の深さ方向において変化していることを特徴とする請求項11に記載の偏光板。
13.上記11又は12に記載の偏光板を少なくとも1枚有する液晶表示装置。
14.前記ハードコート層を、マイクログラビア方式を用いてリバース塗布し、続いて乾燥風で溶剤を乾燥し、さらに硬化することにより形成することを特徴とする、請求項1〜10のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
15.前記ハードコート層を、マイクログラビア方式を用いて塗布し、続いて乾燥風で溶剤を乾燥し、さらに硬化することにより形成することを特徴とする、請求項1〜10のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
16.前記ハードコート層を、ダイコート方式を用いて塗布し、続いて乾燥風で溶剤を乾燥し、さらに硬化することにより形成することを特徴とする、上記1〜10のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that the object can be achieved by adjusting the composition and film thickness of the transparent resin contained in the hard coat layer. The invention has been completed.
That is, the present invention achieves the object by the following configuration.
1. In an antireflection film having a hard coat layer containing at least one transparent resin on a transparent support, a low refractive index layer having a refractive index lower than that of any one of the support and the hard coat layer in this order,
The transparent resin has a polyfunctional (meth) acrylate (A) having two or more (meth) acryloyl groups, the same skeleton as the polyfunctional (meth) acrylate, and the skeleton and (meth) acryloyl An antireflection film comprising, as a main component, a mixture with a polyfunctional (meth) acrylate (B) having a spacer group between them.
2. The average molecular weight of the polyfunctional (meth) acrylate (A) is 200 to 600, and the average molecular weight of the polyfunctional (meth) acrylate (B) is 300 to 2000. Antireflection film.
3. The spacer group in the polyfunctional (meth) acrylate (B) has a structure introduced by any of lactone addition having 3 to 10 carbon atoms and alkylene glycol modification having 2 to 20 carbon atoms, The antireflection film according to claim 1 or 2.
4). The antireflection according to claim 1, wherein the hard coat layer contains inorganic oxide ultrafine particles having a refractive index of 1.20 to 1.50 and an average particle diameter of 1 to 500 nm. the film.
5). The hard coat layer contains an organosilane represented by the following general formula (1), a hydrolyzate thereof, and a partial condensate thereof, or a mixture thereof. 4. The antireflection film according to any one of 4 above.
Formula (1) :( R 10) m -Si (X) 4-m
(In the formula, R 10 represents at least one of a substituted and unsubstituted alkyl group and a substituted and unsubstituted aryl group. X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. M represents an integer of 1 to 3. Represents.)
6). 6. The antireflection film as described in any one of 1 to 5 above, wherein the hard coat layer has a thickness of 6 to 15 μm.
7). The antireflection film as described in any one of 1 to 6 above, wherein the number of point defects having a size of 50 μm or more is 5 or less per square meter on the surface of the hard coat layer.
8). 8. The antireflection film as described in any one of 1 to 7 above, wherein the transparent support is a cellulose acylate film having a thickness of 40 μm to 120 μm.
9. The low refractive index layer is a layer having a refractive index of 1.30 to 1.55, the low refractive index layer contains a fluorine atom in a range of 35 to 80% by mass, and has a crosslinkable or polymerizable functional group. A fluorine-containing polymer (C) containing a crosslinked or polymer as a main component, the fluorine-containing polymer (C) comprising a fluorine-containing vinyl monomer polymer unit and a polymer unit having a (meth) acryloyl group in the side chain. The antireflection film as described in any one of 1 to 8 above, which is a copolymer comprising a main chain composed only of carbon atoms.
10. The low refractive index layer is the fluoropolymer (C), the average particle size is 30% to 150% of the thickness of the low refractive index layer, and the refractive index comprising a hollow structure is 1.17 to 1.40. A certain curable composition containing at least one kind of inorganic fine particles (D), hydrolyzate of organosilane represented by the following general formula (1) and / or its partial condensate (E) is applied and cured. The antireflection film according to claim 1, wherein the antireflection film is a cured film formed as described above.
Formula (1); (R10) m -Si (X) 4-m
(In the formula, R10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. M represents an integer of 1 to 3.)
11. A polarizing plate, wherein at least one of the surface protective films of the polarizing plate is the antireflection film according to any one of 1 to 9 above.
12 One of the two surface protective films of the polarizing plate is the antireflection film according to claim 1, and the other surface protective film is attached to the polarizing film of the surface protective film. An optical compensation film having an optical compensation layer comprising an optically anisotropic layer on a surface opposite to the surface to be combined, the optically anisotropic layer containing a compound having a discotic structural unit, and the discotic The disk surface of the structural unit is inclined with respect to the surface protective film surface, and the angle formed by the disk surface of the discotic structural unit and the surface protective film surface varies in the depth direction of the optically anisotropic layer. The polarizing plate according to claim 11, wherein:
13. 13. A liquid crystal display device having at least one polarizing plate as described in 11 or 12 above.
14 The hard coat layer is formed by reverse coating using a micro gravure method, subsequently drying the solvent with dry air, and further curing. A method for producing an antireflection film.
15. The reflection according to claim 1, wherein the hard coat layer is formed by coating using a microgravure method, subsequently drying the solvent with a drying wind, and further curing. The manufacturing method of a prevention film.
16. 11. The antireflection film as described in any one of 1 to 10 above, which is formed by applying the hard coat layer using a die coating method, subsequently drying the solvent with a dry air, and further curing. Manufacturing method.

本発明の反射防止フィルムは、点欠陥や干渉ムラが改良され、且つ、カールや脆性といったハンドリング上の問題がなく、更に十分な反射防止性と耐擦傷性、生産性を有するものである。このため、本発明の反射防止フィルムを直接又は該反射防止フィルムを備えた偏光板を介して有する液晶表示装置などのディスプレイ装置は、生産性に優れ、且つ、耐擦傷性に優れ、外光の写り込みや背景の写り込みが少なく、極めて視認性が高いものである。   The antireflection film of the present invention is improved in point defects and interference unevenness, has no handling problems such as curling and brittleness, and has sufficient antireflection properties, scratch resistance and productivity. Therefore, a display device such as a liquid crystal display device having the antireflection film of the present invention directly or via a polarizing plate provided with the antireflection film is excellent in productivity, scratch resistance, and external light. There are few reflections and background reflections, and the visibility is extremely high.

本発明の反射防止フィルムについて好適な実施形態の基本的な構成を図面を参照しながら説明する。
ここで、図1は、本発明の反射防止フィルムの好ましい一実施形態を模式的に示す断面図である。本実施形態は、反射防止層としては低屈折率層のみの、単層反射防止フィルムの好ましい例であり、点欠陥、干渉ムラが低減されていると同時に、脆性、カール特性に優れる。
図1に示す本実施形態の反射防止フィルム1は、透明支持体2と、透明支持体2上に形成されたハードコート層3と、そしてハードコート層3上に形成された低屈折率層4とからなる。
本実施形態においては、ハードコート層は、透明支持体上に直接設けてもよいが、帯電防止層や防湿層等の他の層を介して設けてもよい。
本実施形態においては、C光源下での反射光の色味のa*値が−2〜2であり、b*値が−3〜3であり、380nm〜780nmの範囲内での反射率の最小値と最大値の比が0.5〜0.99であるのが、反射光の色味がニュートラルとなるので好ましい。またC光源下での透過光のb*値を0〜3とすると、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低
減されて好ましい。
A basic configuration of a preferred embodiment of the antireflection film of the present invention will be described with reference to the drawings.
Here, FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a preferred embodiment of the antireflection film of the present invention. The present embodiment is a preferred example of a single-layer antireflection film having only a low refractive index layer as the antireflection layer, and is excellent in brittleness and curl characteristics while reducing point defects and interference unevenness.
The antireflection film 1 of this embodiment shown in FIG. 1 includes a transparent support 2, a hard coat layer 3 formed on the transparent support 2, and a low refractive index layer 4 formed on the hard coat layer 3. It consists of.
In the present embodiment, the hard coat layer may be provided directly on the transparent support, but may be provided via another layer such as an antistatic layer or a moisture-proof layer.
In this embodiment, the a * value of the color of the reflected light under the C light source is −2 to 2, the b * value is −3 to 3, and the reflectance in the range of 380 nm to 780 nm. A ratio between the minimum value and the maximum value is preferably 0.5 to 0.99, because the color of the reflected light becomes neutral. Further, when the b * value of the transmitted light under the C light source is 0 to 3, it is preferable because the yellow color of white display when applied to a display device is reduced.

図2は、本発明の反射防止フィルムの別の好ましい一実施形態を模式的に示す断面図である。本実施形態は、反射防止層として透明支持体6およびハードコート層7より屈折率が高く、高屈折率層9より屈折率が低い中屈折率8、全ての層の中で最も屈折率が高い高屈折率層9、全ての中で最も屈折率が低い低屈折率層10の3層からなる反射防止フィルムの好ましい例であり、平均反射率が0.5%以下まで低減されるため、特にテレビ、モ
ニター用途に好ましく用いることができる。
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing another preferred embodiment of the antireflection film of the present invention. In the present embodiment, the refractive index is higher than that of the transparent support 6 and the hard coat layer 7 as the antireflection layer, the refractive index is lower than that of the high refractive index layer 9, and the refractive index is highest among all the layers. This is a preferred example of an antireflection film consisting of three layers of a high refractive index layer 9 and a low refractive index layer 10 having the lowest refractive index among all, and the average reflectance is reduced to 0.5% or less. It can be preferably used for TV and monitor applications.

本発明の反射防止フィルムの光学特性においては、鏡面反射率が0.5%以下であり、透過率90%以上であるのが、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため好ましい。   In the optical characteristics of the antireflection film of the present invention, it is preferable that the specular reflectance is 0.5% or less and the transmittance is 90% or more because reflection of external light can be suppressed and visibility is improved.

以下に本発明の反射防止フィルムの構成について詳しく説明する。尚、本明細書において、物性値や特性値の範囲を表す「数値A〜数値B」という記載は、「数値A以上数値B以下」の意味を表す。   The structure of the antireflection film of the present invention will be described in detail below. In the present specification, the description “numerical value A to numerical value B” representing the range of physical property values and characteristic values represents the meaning of “numerical value A to numerical value B”.

[ハードコート層]
ハードコート層は、プラスチックフィルムからなる透明支持体の押し込み弾性の低さを補い、鉛筆引掻き等で評価される耐擦傷性をフィルムに付与する目的で形成される。
[Hard coat layer]
The hard coat layer is formed for the purpose of compensating the low indentation elasticity of the transparent support made of a plastic film and imparting scratch resistance to the film as evaluated by pencil scratching or the like.

ハードコート層は、透明樹脂が2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレート(A)と、多官能(メタ)アクリレート(A)と同一の骨格を有し、且つ、該骨格と(メタ)アクリロイル基との間にスペーサー基を有する多官能(メタ)アクリレート(B)との混合物を主成分とする。ハードコート層の膜厚は、6〜15μmが好ましく、7〜10μmがより好ましい。ハードコート層の膜厚が6μm未満では、押し込み弾性の改善効果が小さくなる、数μmの粒径の異物等に起因するハードコート層表面の点欠陥数が増加する、干渉ムラが悪化する、等の問題が発生する。偏光板、液晶表示装置に適用したときの特率の観点から、点欠陥の数として、ハードコート層表面において50μm以上の大きさの点欠陥が1平方メートル当り5個以下であることが好ましい。一方、ハードコート層の膜厚が15μmを超えると、ハードコートフィルム、或いは反射防止層を形成した後の反射防止フィルムのカールが大きくなるため、次工程でのハンドリング適性が悪化するだけでなく、可とう性及び/又は脆性が悪化するため加工適性が悪化する、等の問題が発生する。尚、本明細書において、「(メタ)アクリロイル」、「(メタ)アクリレート」、「(メタ)アクリル酸」等の記載は、それぞれ「アクリロイル及び/又はメタクリロイル」、「アクリレート及び/又はメタクリレート」、「アクリル酸及び/又はメタクリル酸」の意味を表す。   The hard coat layer has the same skeleton as the polyfunctional (meth) acrylate (A) having a transparent resin having two or more (meth) acryloyl groups and the polyfunctional (meth) acrylate (A), and The main component is a mixture of a polyfunctional (meth) acrylate (B) having a spacer group between the skeleton and the (meth) acryloyl group. 6-15 micrometers is preferable and, as for the film thickness of a hard-coat layer, 7-10 micrometers is more preferable. When the thickness of the hard coat layer is less than 6 μm, the effect of improving the indentation elasticity is reduced, the number of point defects on the surface of the hard coat layer due to foreign matters having a particle size of several μm is increased, interference unevenness is deteriorated, etc. Problems occur. From the viewpoint of the characteristic factor when applied to a polarizing plate and a liquid crystal display device, the number of point defects is preferably 5 or less per square meter on the hard coat layer surface. On the other hand, when the film thickness of the hard coat layer exceeds 15 μm, the curl of the antireflection film after forming the hard coat film or the antireflection layer increases, so that not only the handling suitability in the next step is deteriorated, Problems such as deterioration of flexibility and / or brittleness and deterioration of workability occur. In the present specification, the descriptions of “(meth) acryloyl”, “(meth) acrylate”, “(meth) acrylic acid”, etc. are “acryloyl and / or methacryloyl”, “acrylate and / or methacrylate”, respectively. The meaning of “acrylic acid and / or methacrylic acid” is expressed.

<透光性樹脂>
ハードコート層に含有する透光性樹脂は、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールルジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールルジ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレートモノマー(A)と、上記の多官能(メタ)アクリレートモノマー(A)と同一の分子骨格を有し、且つ、該骨格と(メタ)アクリロイル基との間にスペーサー基を有する多官能(メタ)アクリレート(B)との混合物を主成分とする。多官能(メタ)アクリレートモノマー(A)としては、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール及びトリメチロールプロパンから誘導される3個以上の(メタ)アクリロイル基を有するものが好ましい。骨格が異なるモノマーの混合物では、素材の組み合わせ次第では相溶性が低い場合には面状故障となったり、反応速度差が大きい場合には架橋構造が不均一となり、面状故障(散乱等、目視での透明性、均一性を損なう)やカールの悪化等の問題が発生することがある。厚膜にしたときのカールを改良し、可とう性及び/又は脆性の改良と押し込み弾性向上効果の両立のためには、スペーサー基が炭素原子数3〜10のラクトン付加、炭素原子数2〜20のアルキレングリコール変性の何れかによって導入された構造を有することが好ましい。スペーサーとしてはエチレンオキサイドやプロピレンオキサイド変性によるもの、カプロラクトン等の炭素原子数が3〜10のラクトン付加によって導入されたもの、炭素原子数が2〜20のアルキレングリコール変性によるものが好ましい。
<Translucent resin>
The translucent resin contained in the hard coat layer is pentaerythritol tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, dipentaerythritol. Penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol rudi (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediol The polyfunctional (meth) acrylate monomer (A) such as rudi (meth) acrylate has the same molecular skeleton as the polyfunctional (meth) acrylate monomer (A), and the skeleton and the (meth) acrylate As a main component a mixture of a polyfunctional (meth) acrylate (B) having a spacer group between the Royle group. As the polyfunctional (meth) acrylate monomer (A), those having three or more (meth) acryloyl groups derived from pentaerythritol, dipentaerythritol and trimethylolpropane are preferable. In a mixture of monomers with different skeletons, depending on the combination of materials, surface failure occurs when the compatibility is low, or when the reaction rate difference is large, the cross-linked structure becomes non-uniform and surface failure (scattering, etc. May cause problems such as deterioration of transparency and uniformity at the surface) and deterioration of curl. In order to improve the curl when thickened, and to achieve both flexibility and / or brittleness improvement and indentation elasticity enhancement effect, the spacer group is added with a lactone having 3 to 10 carbon atoms, 2 to 2 carbon atoms Preferably it has a structure introduced by any of the 20 alkylene glycol modifications. The spacer is preferably modified by ethylene oxide or propylene oxide, introduced by lactone addition of 3 to 10 carbon atoms such as caprolactone, or modified by alkylene glycol modification of 2 to 20 carbon atoms.

スペーサー基として好ましい構造は、下記一般式(a)又は(b)で表される。
一般式(a) −CO−[C(R41)(R42)]j−O−*
一般式(b) −{[C(R41)(R42)]k−O}q−*
上記一般式中、R41及びR42は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基を表し、j及びkは2〜6の整数を表し、qは1〜5の整数を表し、複数個のR41及び/又はR42は同じでも、異なっていてもよく、*は(メタ)アクリロイル基が結合する位置を表す。R41及び
42は水素原子又はメチル基が好ましく、jは2〜4が好ましく、kは2及び3が好ましく、qは1〜3が好ましい。
A preferable structure as a spacer group is represented by the following general formula (a) or (b).
Formula (a) -CO- [C (R 41) (R 42)] j-O- *
Formula (b) - {[C ( R 41) (R 42)] k-O} q- *
In the general formula, R 41 and R 42 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, j and k is an integer of 2 to 6, q represents an integer of 1 to 5, a plurality of R 41 and / or R 42 may be the same or different, and * represents the position to which the (meth) acryloyl group is bonded. R 41 and R 42 are preferably a hydrogen atom or a methyl group, j is preferably 2 to 4, k is preferably 2 or 3, and q is preferably 1 to 3.

多官能(メタ)アクリレートモノマー(A)の分子量は200〜600の範囲のものが好ましく、多官能(メタ)アクリレート(B)の分子量は、平均分子量で300〜2000の範囲のものが好ましく用いられる。ここで平均分子量を用いているのは、スペーサー基の導入率が均一な化合物は得にくく、導入率の異なる化合物の混合物として使用するのが現実的であるためである。分子量が上記の範囲より低いものは、支持体への拡散(浸透)速度が速すぎる為に面状故障の原因となったり、皮膚への浸透性が大きくなる為に皮膚刺激性、感作性といった安全性の問題が生じる可能性がある。一方、分子量が上記の範囲より高いものは、支持体への拡散(浸透)性が小さすぎる為、密着性に問題を生じたり、塗布液粘度が上昇するため塗布性が悪化したりする問題がある。
多官能(メタ)アクリレートモノマー(A)と、該多官能(メタ)アクリレートモノマー(A)と同一の分子骨格を有し、且つ、該骨格と(メタ)アクリロイル基との間にスペーサー基を有する多官能(メタ)アクリレート(B)の混合比は、10対1〜1対10(重量比)の範囲で、設計膜厚におけるカール、脆性、引掻き強度等のバランスの良い混合比を選択すればよい。
多官能(メタ)アクリレートモノマー(A)と、該多官能(メタ)アクリレートモノマー(A)と同一の分子骨格を有し、且つ、該骨格と(メタ)アクリロイル基との間にスペーサー基を有する多官能(メタ)アクリレート(B)の混合物の添加量は、ハードコート層の全固形分量に対して50〜99.8質量%であり、70〜99.5質量%が好ましく、80〜98質量%がさらに好ましい。
The molecular weight of the polyfunctional (meth) acrylate monomer (A) is preferably in the range of 200 to 600, and the molecular weight of the polyfunctional (meth) acrylate (B) is preferably in the range of 300 to 2000 in terms of average molecular weight. . The reason why the average molecular weight is used here is that it is difficult to obtain a compound having a uniform introduction ratio of spacer groups, and it is practical to use it as a mixture of compounds having different introduction ratios. If the molecular weight is lower than the above range, the diffusion (penetration) rate to the support is too fast, which may cause surface defects or increase skin permeability, resulting in skin irritation and sensitization. Such a safety problem may occur. On the other hand, when the molecular weight is higher than the above range, the diffusion (penetration) property to the support is too small, which causes a problem in adhesion or a problem that the coating property deteriorates because the coating solution viscosity increases. is there.
The polyfunctional (meth) acrylate monomer (A) has the same molecular skeleton as the polyfunctional (meth) acrylate monomer (A), and has a spacer group between the skeleton and the (meth) acryloyl group. If the mixing ratio of the polyfunctional (meth) acrylate (B) is in the range of 10 to 1 to 10 (weight ratio), a well-balanced mixing ratio such as curl, brittleness, and scratching strength in the design film thickness is selected. Good.
The polyfunctional (meth) acrylate monomer (A) has the same molecular skeleton as the polyfunctional (meth) acrylate monomer (A), and has a spacer group between the skeleton and the (meth) acryloyl group. The addition amount of the mixture of polyfunctional (meth) acrylate (B) is 50-99.8 mass% with respect to the total solid content of the hard coat layer, preferably 70-99.5 mass%, and 80-98 mass. % Is more preferable.

<無機酸化物超微粒子>
本発明のハードコート層には、特に透明支持体にトリアセチルセルロースを用いる場合には、屈折率1.20〜1.50、平均粒子径1〜500nmの無機酸化物超微粒子を添加するのが好ましい。このような素材を最適量添加することで、透明支持体の屈折率(1.49)とハードコート層の屈折率との差が小さくなる為、ハードコート層の干渉ムラが低減される。
本発明で使用する透光性樹脂は、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレート(A)と、該多官能(メタ)アクリレートと同一の骨格を有し、且つ該骨格と(メタ)アクリロイル基との間にスペーサー基を有する多官能(メタ)アクリレート(B)との混合物を主成分とするため、このような素材を添加しても、打ち抜き適性等、可とう性に対する大きな悪化は起こらない。
<Inorganic oxide ultrafine particles>
In particular, when triacetyl cellulose is used for the transparent support, inorganic oxide ultrafine particles having a refractive index of 1.20 to 1.50 and an average particle diameter of 1 to 500 nm are added to the hard coat layer of the present invention. preferable. By adding an optimal amount of such a material, the difference between the refractive index (1.49) of the transparent support and the refractive index of the hard coat layer is reduced, so that the interference unevenness of the hard coat layer is reduced.
The translucent resin used in the present invention has a polyfunctional (meth) acrylate (A) having two or more (meth) acryloyl groups, the same skeleton as the polyfunctional (meth) acrylate, and Since the main component is a mixture of a polyfunctional (meth) acrylate (B) having a spacer group between the skeleton and the (meth) acryloyl group, even if such a material is added, the punching suitability and the like are flexible. There is no major deterioration in sex.

<オルガノシラン、ゾル成分>
本発明のハードコート層には、その層を形成する塗布液中にオルガノシラン化合物、その加水分解物およびその部分縮合物のいずれか、或いはこれらの混合物、(以降、オルガノシラン化合物の加水分解物およびその部分縮合物のいずれか、或いはこれらの混合物をゾル成分と称する)を含有することが耐擦傷性の点で好ましい。具体例等の詳細については、低屈折率層の説明文中で後述する。
<Organosilane, sol component>
The hard coat layer of the present invention includes an organosilane compound, a hydrolyzate thereof and a partial condensate thereof, or a mixture thereof (hereinafter referred to as an organosilane compound hydrolyzate) in the coating solution for forming the layer. And any of the partial condensates thereof or a mixture thereof are referred to as a sol component). Details of specific examples will be described later in the description of the low refractive index layer.

上記オルガノシラン化合物、ゾル成分は、本発明のハードコート層、低屈折率層の何れか一方に添加しても効果があるが、ハードコート層と低屈折率層が直接接する場合においては、両方の層に添加することで特に耐擦傷性の改善効果が顕著である。この場合、ハードコート層にはオルガノシランを、低屈折率層にはゾル成分を用いるのが特に好ましい。   The organosilane compound and the sol component are effective when added to either the hard coat layer or the low refractive index layer of the present invention, but in the case where the hard coat layer and the low refractive index layer are in direct contact, By adding to this layer, the effect of improving the scratch resistance is particularly remarkable. In this case, it is particularly preferable to use an organosilane for the hard coat layer and a sol component for the low refractive index layer.

<光重合開始剤>
これらの透光性樹脂の重合は、以下の光ラジカル重合開始剤に電離放射線を照射することで開始される。光ラジカル重合開始剤の例として、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノンおよび2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新UV硬化技術(P.159,発行人;高薄一弘,発行所;(株)技術情報協会,1
991年発行)にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー(株)製のイルガキュア(651,184,907)等が好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
<Photopolymerization initiator>
Polymerization of these translucent resins is started by irradiating ionizing radiation to the following photo radical polymerization initiator. Examples of photo radical polymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds , Fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone is included. Examples of benzoins include benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of the benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
Latest UV curing technology (P.159, publisher: Kazuhiro Takasato, publisher) Technical Information Association, 1
(Published in 1999) also describes various examples and is useful for the present invention.
Preferable examples of commercially available photocleavable photoradical polymerization initiators include Irgacure (651, 184, 907) manufactured by Nippon Ciba-Geigy Co., Ltd.
It is preferable to use a photoinitiator in the range of 0.1-15 mass parts with respect to 100 mass parts of polyfunctional monomers, More preferably, it is the range of 1-10 mass parts.
In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone.

上記に透明樹脂が多官能(メタ)アクリレート(A)と、該多官能(メタ)アクリレートと同一の骨格を有し、且つ、該骨格と(メタ)アクリロイル基との間にスペーサー基を有する多官能(メタ)アクリレート(B)に加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
The transparent resin has a polyfunctional (meth) acrylate (A) and the same skeleton as the polyfunctional (meth) acrylate, and a spacer group between the skeleton and the (meth) acryloyl group. In addition to the functional (meth) acrylate (B), a crosslinkable functional group is introduced into the polymer using a monomer having a crosslinkable functional group, and a crosslinked structure is introduced into the binder polymer by the reaction of the crosslinkable functional group. May be.
Examples of the crosslinkable functional group include isocyanate group, epoxy group, aziridine group, oxazoline group, aldehyde group, carbonyl group, hydrazine group, carboxyl group, methylol group and active methylene group. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester and urethane, and metal alkoxide such as tetramethoxysilane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. That is, in the present invention, the crosslinkable functional group may not react immediately but may exhibit reactivity as a result of decomposition.
These binder polymers having a crosslinkable functional group can form a crosslinked structure by heating after coating.

<界面活性剤>
本発明のハードコート層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者をハードコート層形成用の塗布組成物中に含有してもよい。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。
面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。
<Surfactant>
The hard coat layer of the present invention has a hard coat layer formed of either a fluorine-based surfactant or a silicone-based surfactant, or both, in order to ensure surface uniformity such as coating unevenness, drying unevenness, and point defects. It may be contained in the coating composition for use. In particular, a fluorine-based surfactant is preferably used because an effect of improving surface defects such as coating unevenness, drying unevenness, and point defects of the antireflection film of the present invention appears in a smaller addition amount.
The purpose is to increase productivity by giving high-speed coating suitability while improving the surface uniformity.

フッ素系の界面活性剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基含有共重合体(「フッ素系ポリマー」と略記することもある)が挙げられ、該フッ素系ポリマーは、下記(i)のモノマーに相当する繰り返し単位及び下記(ii)のモノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とするアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が有用である。   Preferable examples of the fluorosurfactant include a fluoroaliphatic group-containing copolymer (sometimes abbreviated as “fluorine polymer”), and the fluoropolymer includes the following monomer (i): An acrylic resin, a methacrylic resin, and a copolymer with a vinyl monomer copolymerizable therewith are useful, which include a corresponding repeating unit and a repeating unit corresponding to the monomer (ii) below.

(i)下記一般式(2)で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
一般式(2)
(I) Fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the following general formula (2) General formula (2)

Figure 2005275391
Figure 2005275391

一般式(2)においてR11は水素原子またはメチル基を表し、Xは酸素原子、イオウ原子または−N(R12)−を表し、mは1以上6以下の整数、nは1〜6の整数を表す。R12は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Xは酸素原子が好ましい。mは1以上4以下の整数が好ましく、2が特に好ましい。nは1〜4が好ましく、1〜4の混合物を用いてもよい。 In the general formula (2), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 12 ) —, m is an integer of 1-6, and n is 1-6. Represents an integer. R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, specifically a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group. X is preferably an oxygen atom. m is preferably an integer of 1 or more and 4 or less, and 2 is particularly preferable. n is preferably 1 to 4, and a mixture of 1 to 4 may be used.

(ii)前記(i)と共重合可能な下記一般式(3)で表されるモノマー
一般式(3)
(Ii) Monomer general formula (3) represented by the following general formula (3) copolymerizable with the above (i)

Figure 2005275391
Figure 2005275391

一般式(3)において、R13は水素原子またはメチル基を表し、Yは酸素原子、イオウ原子または‐N(R15)‐を表し、R15は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Yは酸素原子、−N(H)−、および−N(CH3)−が好ましい。
14は置換基を有しても良い炭素数4以上20以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す。R14のアルキル基の置換基としては、アルコキシ基、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげられるがこの限りではない。炭素数2以上20以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基としては、直鎖及び分岐してもよいエチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基、等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。R14として、−(C2H4O)a−R141又は−(C36O)b−R141で表されるポリアルキレンオキシ基も好ましく(a及びbは1〜30の整数を表し、a−R141は炭素数1〜4のアルキル基を表す。)、(C24O)で表されるユニットと、(C36O)で表されるユニットを併せ持つ混合ポリアルキレンオキシ基も好ましい。
In the general formula (3), R 13 represents a hydrogen atom or a methyl group, Y represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 15 ) —, and R 15 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Specifically, it represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group. Y is an oxygen atom, -N (H) -, and -N (CH 3) - it is preferred.
R 14 represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 4 to 20 carbon atoms which may have a substituent. Examples of the substituent for the alkyl group of R 14 include alkoxy groups, hydroxyl groups, alkylcarbonyl groups, arylcarbonyl groups, carboxyl groups, alkyl ether groups, aryl ether groups, halogen atoms such as fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, and nitro groups. , Cyano group, amino group and the like, but not limited thereto. The linear, branched or cyclic alkyl group having 2 to 20 carbon atoms may be a linear or branched ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group. Decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, octadecyl group, eicosanyl group, etc. A polycyclic cycloalkyl group such as a tricycloundecyl group, a tetracyclododecyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, or a tetracyclodecyl group is preferably used. As R 14, - (C2H4O) a -R 141 or - (C 3 H 6 O) a polyalkyleneoxy group preferably represented by b-R 141 (a and b is an integer of 1 to 30, a- R 141 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.), A mixed polyalkyleneoxy group having both a unit represented by (C 2 H 4 O) and a unit represented by (C 3 H 6 O) preferable.

本発明で用いられるフッ素系ポリマー界面活性剤中に用いられるこれらの下記一般式(2)で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該フッ素系ポリマーの各単量体に基づいて10モル%以上であり、好ましくは15〜70モル%であり、より好ましくは20〜60モル%の範囲である。   The amount of the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the following general formula (2) used in the fluoropolymer surfactant used in the present invention is 10 mol based on each monomer of the fluoropolymer. % Or more, preferably 15 to 70 mol%, more preferably 20 to 60 mol%.

本発明で用いられるフッ素系ポリマー界面活性剤の好ましい質量平均分子量は、3000〜100,000が好ましく、5,000〜80,000がより好ましい。
更に、本発明で用いられるフッ素系ポリマーの好ましい添加量は、塗布液に対して0.001〜5質量%の範囲であり、好ましくは0.005〜3質量%の範囲であり、更に好ましくは0.01〜1質量%の範囲である。フッ素系ポリマーの添加量が0.001質量%未満では効果が不十分であり、また5質量%より多くなると、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、塗膜としての性能(例えば反射率、耐擦傷性)に悪影響を及ぼす。
The preferable mass average molecular weight of the fluoropolymer surfactant used in the present invention is preferably 3000 to 100,000, more preferably 5,000 to 80,000.
Furthermore, the preferable addition amount of the fluoropolymer used in the present invention is in the range of 0.001 to 5% by mass, preferably in the range of 0.005 to 3% by mass, and more preferably, with respect to the coating solution. It is the range of 0.01-1 mass%. If the addition amount of the fluorine-based polymer is less than 0.001% by mass, the effect is insufficient. Adversely affect the scratch resistance).

以下、上記で説明したフッ素系ポリマー界面活性剤の具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Mwは質量平均分子量を表す。   Examples of the specific structure of the fluoropolymer surfactant described above are shown below, but this is not restrictive. In addition, the number in a formula shows the molar ratio of each monomer component. Mw represents a mass average molecular weight.

Figure 2005275391
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Figure 2005275391
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界面活性剤として、上層を塗布する時には上層を形成する溶剤に抽出されるようなフッ素系ポリマーを選択することで、下層表面(下層との界面)に偏在することがなくなり上層と下層の密着性を持たせることで、高速塗布においても面状の均一性を保ち、かつ耐擦傷性の強い反射防止フィルムを提供できる。そのような素材の例は、下記(iv)のモノマーに相当する繰り返し単位を有する単独重合体、又は下記(iii)のモノマーに相当する繰り返し単位と下記(iv)のモノマーに相当する繰り返し単位を含む共重合体が有用である。   By selecting a fluoropolymer that can be extracted by the solvent that forms the upper layer when the upper layer is applied as a surfactant, there is no uneven distribution on the lower layer surface (interface with the lower layer), and the adhesion between the upper layer and the lower layer By providing this, it is possible to provide an antireflection film that maintains surface uniformity even during high-speed application and has high scratch resistance. Examples of such materials include a homopolymer having a repeating unit corresponding to the monomer (iv) below, or a repeating unit corresponding to the monomer (iii) below and a repeating unit corresponding to the monomer (iv) below. Copolymers containing are useful.

(iii)下記一般式(4)で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
一般式(4)
(Iii) Fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the following general formula (4) General formula (4)

Figure 2005275391
Figure 2005275391

一般式(4)においてR16は水素原子またはハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Xは酸素原子、イオウ原子または−N(R17)−を表し、酸素原子または−N(R17)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。一般式(4)において、mは1以上6以下の整数、nは1以上18以下の整数を表す。R17は水素原子または置換基を有しても良い炭素数1〜8のアルキル基を表し、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。一般式(4)において、mは1〜3が好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることがさらに好ましい。nは2〜12が好ましく、4〜8がさらに好ましい。
(iv)前記(iii)と共重合可能な下記一般式(5)で表されるモノマー
一般式(5)
In the general formula (4), R 16 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. X represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 17 ) —, more preferably an oxygen atom or —N (R 17 ) —, and still more preferably an oxygen atom. In the general formula (4), m represents an integer of 1 to 6, and n represents an integer of 1 to 18. R 17 represents a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group. In the general formula (4), m is preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2, and still more preferably 1. n is preferably from 2 to 12, and more preferably from 4 to 8.
(Iv) Monomer general formula (5) represented by the following general formula (5) copolymerizable with the above (iii)

Figure 2005275391
Figure 2005275391

一般式(5)において、R18は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Yは酸素原子、イオウ原子または‐N(R20)‐を表し、酸素原子または−N(R20)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。R19は置換基を有しても良い炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基、ポリ(アルキレンオキシ)基を含むアルキル基、置換基を有していても良い芳香族基(例えば、フェニル基またはナフチル基)を表す。炭素数1〜12の直鎖、分岐、または環状のアルキル基、または総炭素数6〜18の芳香族がより好ましく、炭素数1〜8の直鎖、分岐、または環状のアルキル基が更に好ましい。
以下、上記で説明したフッ素系ポリマー界面活性剤の具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Mwは質量平均分子量を表す。
In the general formula (5), R 18 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. Y represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 20 ) —, more preferably an oxygen atom or —N (R 20 ) —, and still more preferably an oxygen atom. R 19 is a C 1-20 linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent, an alkyl group containing a poly (alkyleneoxy) group, and an aromatic group which may have a substituent. (For example, a phenyl group or a naphthyl group). A linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 18 carbon atoms is more preferable, and a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable. .
Examples of the specific structure of the fluoropolymer surfactant described above are shown below, but this is not restrictive. In addition, the number in a formula shows the molar ratio of each monomer component. Mw represents a mass average molecular weight.

Figure 2005275391
Figure 2005275391

<溶剤>
本発明のハードコート層は、直接透明支持体上にウエット塗布されるケースがあるため、特に塗布組成物に用いる溶剤は重要な要因となる。要件としては、各種溶質を充分に溶解すること、塗布〜乾燥過程で塗布ムラ、乾燥ムラを発生しないこと、支持体をあまりひどく溶解しないこと(平面性悪化、白化等の故障防止に必要)、逆に最低限の程度には支持体を膨潤させること(密着性に必要)、等が挙げられる。
具体例としては、支持体にトリアセチルセルロースを用いる場合には、各種ケトン(メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、各種セロソルブ(エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等)、膨潤性調整のために酢酸メチル、酢酸エチル等の溶解性の高いもの、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノール等の膨潤させにくいもの等を、適宜、混合して用いることができる。
<Solvent>
Since there are cases where the hard coat layer of the present invention is wet-coated directly on a transparent support, the solvent used in the coating composition is an important factor. The requirements are to dissolve various solutes sufficiently, to avoid coating unevenness and drying unevenness in the coating to drying process, not to dissolve the support too much (necessary for preventing deterioration of flatness, whitening, etc.), Conversely, the minimum degree includes swelling the support (necessary for adhesion) and the like.
As specific examples, when triacetyl cellulose is used for the support, various ketones (methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), various cellosolves (ethyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, etc.), swelling property adjustment Therefore, a highly soluble material such as methyl acetate or ethyl acetate, or a material that is difficult to swell such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, 2-butanol, or tert-butanol may be appropriately mixed and used. it can.

[低屈折率層]
本発明の反射防止フィルムにおける低屈折率層の屈折率は、1.30〜1.55であり、好ましくは1.35〜1.45の範囲である。
屈折率が1.30未満であると、反射防止性能は向上するが、膜の機械強度が低下し、1.55を超えると、反射防止性能が著しく悪化してしまう。
さらに、低屈折率層は下記数式(I)を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式(I):(m/4)×0.7<n1×d1<(m/4)×1.3
式中、mは正の奇数であり、n1は低屈折率層の屈折率であり、そして、d1は低屈折率層の膜厚(nm)である。また、λは波長であり、500〜550nmの範囲の値である。
なお、前記数式(I)を満たすとは、前記波長の範囲において数式(I)を満たすm(正の奇数、通常1である)が存在することを意味している。
[Low refractive index layer]
The refractive index of the low refractive index layer in the antireflection film of the present invention is 1.30 to 1.55, preferably 1.35 to 1.45.
When the refractive index is less than 1.30, the antireflection performance is improved, but the mechanical strength of the film is lowered, and when it exceeds 1.55, the antireflection performance is remarkably deteriorated.
Further, the low refractive index layer preferably satisfies the following formula (I) from the viewpoint of reducing the reflectance.
Formula (I): (m / 4) × 0.7 <n1 × d1 <(m / 4) × 1.3
In the formula, m is a positive odd number, n1 is the refractive index of the low refractive index layer, and d1 is the film thickness (nm) of the low refractive index layer. Further, λ is a wavelength, which is a value in the range of 500 to 550 nm.
In addition, satisfy | filling said numerical formula (I) means that m (positive odd number, usually 1) which satisfy | fills numerical formula (I) exists in the said wavelength range.

低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
本発明の反射防止フィルムの低屈折率層は、バインダー成分、少量添加剤、溶剤からなる。バインダー成分は低屈折率を有するものが好ましく、後述する含フッ素ポリマー、無機微粒子等が挙げられる。また、層の凝集力の向上のために、オルガノシラン化合物、その加水分解/縮合物(ゾル成分と呼ぶ)、硬化性化合物等をバインダー成分の一部として含有させることができる。少量添加剤としては、防汚剤、滑り剤、防塵剤、帯電防止剤、重合開始剤等が挙げられる。
The material for forming the low refractive index layer will be described below.
The low refractive index layer of the antireflection film of the present invention comprises a binder component, a small amount of additives, and a solvent. The binder component preferably has a low refractive index, and examples thereof include a fluorine-containing polymer and inorganic fine particles described later. In order to improve the cohesive strength of the layer, an organosilane compound, a hydrolysis / condensation product thereof (referred to as a sol component), a curable compound, or the like can be contained as a part of the binder component. Examples of the small amount additive include an antifouling agent, a slip agent, a dustproof agent, an antistatic agent, and a polymerization initiator.

<含フッ素ポリマー>
本発明の低屈折率層の好ましい一つの例としては、低屈折率バインダーとして含フッ素ポリマーを含む。フッ素ポリマーとしては動摩擦係数0.03〜0.20、水に対する接触角90〜120°、純水の滑落角が70°以下の熱または電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。屈折率の低下と凝集力、下層との密着性を付与するためには、フッ素原子を35〜80質量%の範囲で含有する含フッ素ポリマーが好ましい。本発明の反射防止フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなり好ましく、500gf以下が好ましく、300gf以下がより好ましく、100gf以下が最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難く、0.3GPa以上が好ましく、0.5GPa以上がより好ましい。
<Fluoropolymer>
As a preferable example of the low refractive index layer of the present invention, a fluorine-containing polymer is included as a low refractive index binder. The fluorine polymer is preferably a fluorine-containing polymer that is crosslinked by heat or ionizing radiation with a coefficient of dynamic friction of 0.03 to 0.20, a contact angle with water of 90 to 120 °, and a sliding angle of pure water of 70 ° or less. In order to impart a decrease in refractive index, cohesive strength, and adhesion to the lower layer, a fluorine-containing polymer containing fluorine atoms in the range of 35 to 80% by mass is preferable. When the antireflection film of the present invention is mounted on an image display device, the lower the peel strength from a commercially available adhesive tape, the easier it is to peel off after sticking a seal or memo, preferably 500 gf or less, more preferably 300 gf or less, 100 gf or less is most preferable. Further, the higher the surface hardness measured with a microhardness meter, the harder it is to scratch, preferably 0.3 GPa or more, more preferably 0.5 GPa or more.

低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリエトキシシラン)の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing polymer used in the low refractive index layer include hydrolysis and dehydration condensate of perfluoroalkyl group-containing silane compounds (for example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) triethoxysilane). And a fluorine-containing copolymer having a fluorine-containing monomer unit and a structural unit for imparting crosslinking reactivity as structural components.

含フッ素モノマー単位の他の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。   Other specific examples of the fluorine-containing monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, perfluorooctylethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3. -Dioxoles, etc.), (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (produced by Osaka Organic Chemical) or M-2020 (produced by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, etc. Of these, perfluoroolefins are preferred, and hexafluoropropylene is particularly preferred from the viewpoints of refractive index, solubility, transparency, availability, and the like.

架橋反応性付与のための構成単位としてはグリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって(メタ)アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位(例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる)が挙げられる。ポリマー構造中にカルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホ基等を有する場合には熱架橋性を付与することができ、(メタ)アクリルロイル基等を有する場合には、電離放射線架橋性を付与することができる。   As structural units for imparting crosslinking reactivity, structural units obtained by polymerizing monomers having a self-crosslinkable functional group in advance such as glycidyl (meth) acrylate and glycidyl vinyl ether, carboxyl groups, hydroxyl groups, amino groups , A monomer having a sulfo group or the like (for example, obtained by polymerization of (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, maleic acid, crotonic acid, etc. Structural units, structural units in which a crosslinking reactive group such as a (meth) acryloyl group is introduced into these structural units by a polymer reaction (for example, it can be introduced by a technique such as allowing acrylic acid chloride to act on a hydroxy group) When the polymer structure has a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, a sulfo group, etc., it is possible to impart thermal crosslinkability, and when it has a (meth) acryloyl group, etc., ionizing radiation crosslinking is possible. Sex can be imparted.

また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリルアミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。   In addition to the above-mentioned fluorine-containing monomer units and structural units for imparting crosslinking reactivity, monomers not containing fluorine atoms can be copolymerized as appropriate from the viewpoints of solubility in solvents and film transparency. There are no particular limitations on the monomer units that can be used in combination. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2) -Ethylhexyl), methacrylates (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl) Vinyl ether, ethyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-silane) B hexyl acrylamide), methacrylamides, and acrylonitrile derivatives.

上記のポリマーに対しては特開平10−25388号および特開平10−147739号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。   As described in JP-A-10-25388 and JP-A-10-147739, a curing agent may be appropriately used in combination with the above polymer.

本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基((メタ)アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等)を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の5〜70mol%を占めていることが好ましく、特に好ましくは30〜60mol%を占めていることである。   The fluorine-containing polymer particularly useful in the present invention is a random copolymer of perfluoroolefin and vinyl ethers or vinyl esters. In particular, it preferably has a group capable of undergoing a crosslinking reaction alone (a radical reactive group such as a (meth) acryloyl group, a ring-opening polymerizable group such as an epoxy group or an oxetanyl group). These cross-linking reactive group-containing polymer units preferably occupy 5 to 70 mol%, particularly preferably 30 to 60 mol% of the total polymer units of the polymer.

本発明に用いられる含フッ素ポリマーの好ましい形態として一般式1のものが挙げられる。   A preferred form of the fluorine-containing polymer used in the present invention is that of general formula 1.

Figure 2005275391
Figure 2005275391

一般式1中、Lは炭素数1〜10の連結基を表し、より好ましくは炭素数1〜6の連結基であり、特に好ましくは2〜4の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、O、N、Sから選ばれるヘテロ原子を有していても良い。
好ましい例としては、*‐(CH2)2-O-**, *-(CH2)2-NH-**, *-(CH2)4-O-**, *-(CH2)6-O-**, *-(CH2)2-O-(CH2)2-O-**, *-CONH-(CH2)3-O-**, *-CH2CH(OH)CH2-O-**, *-CH2CH2OCONH(CH2)3-O-**(*はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は(メタ)アクリロイル基側の連結部位を表す。)等が挙げられる。mは0または1を表わす。
In General Formula 1, L represents a linking group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a linking group having 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably a linking group having 2 to 4 carbon atoms, It may have a branched structure, may have a ring structure, and may have a heteroatom selected from O, N, and S.
Preferred examples include *-(CH 2 ) 2 -O-**, *-(CH 2 ) 2 -NH-**, *-(CH 2 ) 4 -O-**, *-(CH 2 ) 6 -O-**, *-(CH 2 ) 2 -O- (CH 2 ) 2 -O-**, * -CONH- (CH 2 ) 3 -O-**, * -CH 2 CH (OH ) CH 2 -O-**, * -CH 2 CH 2 OCONH (CH 2 ) 3 -O-** (* represents the linking site on the polymer main chain side, ** is the linking on the (meth) acryloyl group side) Represents a part). m represents 0 or 1;

一般式1中、Xは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。   In general formula 1, X represents a hydrogen atom or a methyl group. From the viewpoint of curing reactivity, a hydrogen atom is more preferable.

一般式1中、Aは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのTg(皮膜硬度に寄与する)、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていても良い。   In the general formula 1, A represents a repeating unit derived from an arbitrary vinyl monomer, and is not particularly limited as long as it is a constituent component of a monomer copolymerizable with hexafluoropropylene. Tg (contributes to film hardness), solubility in solvents, transparency, slipperiness, dust / antifouling properties, etc., can be selected as appropriate, depending on the purpose, depending on the single or multiple vinyl monomers It may be configured.

好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の(メタ)アクリレート類、スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。   Preferred examples include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, glycidyl vinyl ether, vinyl ethers such as allyl vinyl ether, vinyl acetate, vinyl propionate, butyric acid. (Meth) such as vinyl esters such as vinyl, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl methacrylate, allyl (meth) acrylate, (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane Acrylates, styrene, styrene derivatives such as p-hydroxymethylstyrene, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid Can be mentioned unsaturated carboxylic acids and derivatives thereof, more preferably ether derivatives, vinyl ester derivatives, particularly preferably a vinyl ether derivative.

x、y、zはそれぞれの構成成分のモル%を表し、30≦x≦60、5≦y≦70、0≦z≦65を満たす値を表す。好ましくは、35≦x≦55、30≦y≦60、0≦z≦20の場合であり、特に好ましくは40≦x≦55、40≦y≦55、0≦z≦10の場合である。   x, y, and z represent mol% of each constituent component, and represent values satisfying 30 ≦ x ≦ 60, 5 ≦ y ≦ 70, and 0 ≦ z ≦ 65. Preferably, 35 ≦ x ≦ 55, 30 ≦ y ≦ 60, and 0 ≦ z ≦ 20, and particularly preferably 40 ≦ x ≦ 55, 40 ≦ y ≦ 55, and 0 ≦ z ≦ 10.

本発明に用いられる共重合体の特に好ましい形態として一般式2が挙げられる。   A particularly preferred form of the copolymer used in the present invention is General Formula 2.

Figure 2005275391
Figure 2005275391

一般式2においてX、x、yは一般式1と同じ意味を表し、好ましい範囲も同じである。
nは2≦n≦10の整数を表し、2≦n≦6であることが好ましく、2≦n≦4であることが特に好ましい。
Bは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を単位を表し、単一組成であっても複数の組成によって構成されていても良い。例としては、前記一般式1におけるAの例として説明したものが当てはまる。
z1およびz2はそれぞれの繰返し単位のmol%を表し、0≦z1≦65、0≦z2≦65を満たす値を表す。それぞれ0≦z1≦30、0≦z2≦10であることが好ましく、0≦z1≦10、0≦z2≦5であることが特に好ましい。
In general formula 2, X, x, and y have the same meaning as in general formula 1, and the preferred ranges are also the same.
n represents an integer of 2 ≦ n ≦ 10, preferably 2 ≦ n ≦ 6, and particularly preferably 2 ≦ n ≦ 4.
B represents a repeating unit derived from an arbitrary vinyl monomer, and may be composed of a single composition or a plurality of compositions. As an example, what was demonstrated as an example of A in the said General formula 1 is applicable.
z1 and z2 represent mol% of each repeating unit, and represent values satisfying 0 ≦ z1 ≦ 65 and 0 ≦ z2 ≦ 65. It is preferable that 0 ≦ z1 ≦ 30 and 0 ≦ z2 ≦ 10 respectively, and it is particularly preferable that 0 ≦ z1 ≦ 10 and 0 ≦ z2 ≦ 5.

以下に一般式1又は一般式2で表される含フッ素ポリマーの具体例を示すが、本発明はこれらによって限定されない。   Specific examples of the fluorine-containing polymer represented by General Formula 1 or General Formula 2 are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2005275391
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一般式1又は2で表される共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法により(メタ)アクリロイル基を導入することにより合成できる。再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。
本発明の低屈折率層は、含フッ素ポリマー中にフッ素原子を35〜80質量%の範囲で含み、且つ架橋性もしくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーの架橋体もしくは重合体を主成分として有することが好ましく、ここで主成分として含むとは、低屈折率層を形成している固形分の中でもっとも含有量(質量)が多いものを示す。
For the copolymer represented by the general formula 1 or 2, for example, a (meth) acryloyl group is introduced into a copolymer comprising a hexafluoropropylene component and a hydroxyalkyl vinyl ether component by any one of the methods described above. Can be synthesized. As the reprecipitation solvent, isopropanol, hexane, methanol and the like are preferable.
The low refractive index layer of the present invention is mainly composed of a crosslinked or polymer of a fluorine-containing polymer containing fluorine atoms in the range of 35 to 80% by mass in the fluorine-containing polymer and containing a crosslinkable or polymerizable functional group. It is preferable to contain as a main component here, and it indicates what has the largest content (mass) in the solid content which forms the low refractive index layer.

<無機微粒子>
本発明の低屈折率層は、少なくとも一種類の無機微粒子を含有していてもよい。
無機微粒子の塗設量は、1mg/m2〜100mg/m2が好ましく、より好ましくは5mg/m2〜80mg/m2、更に好ましくは10mg/m2〜60mg/m2である。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。
該無機微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが望ましい。例えば、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点で、シリカ微粒子が好ましい。シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上150%以下が好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、シリカ微粒子の粒径は30nm以上100nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上80nm以下、更に好ましくは、40nm以上60nm以下である。
シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。以上シリカ微粒子について述べたことは、他の無機粒子についても適用される。
ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
<Inorganic fine particles>
The low refractive index layer of the present invention may contain at least one kind of inorganic fine particles.
The coating amount of the inorganic fine particles is preferably 1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~80mg / m 2 , more preferably from 10mg / m 2 ~60mg / m 2 . If the amount is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. If the amount is too large, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and the integrated reflectance are deteriorated.
Since the inorganic fine particles are contained in the low refractive index layer, it is desirable that the inorganic fine particles have a low refractive index. Examples thereof include fine particles of magnesium fluoride and silica. In particular, silica fine particles are preferable in terms of refractive index, dispersion stability, and cost. The average particle diameter of the silica fine particles is preferably 30% or more and 150% or less of the thickness of the low refractive index layer, more preferably 35% or more and 80% or less, and further preferably 40% or more and 60% or less. That is, when the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle size of the silica fine particles is preferably 30 nm to 100 nm, more preferably 35 nm to 80 nm, and still more preferably 40 nm to 60 nm.
If the particle size of the silica fine particles is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. If it is too large, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and the integrated reflectance are deteriorated. The silica fine particles may be either crystalline or amorphous, and may be monodispersed particles or aggregated particles as long as a predetermined particle size is satisfied. The shape is most preferably a spherical diameter, but there is no problem even if the shape is indefinite. What has been described above for silica fine particles also applies to other inorganic particles.
Here, the average particle diameter of the inorganic fine particles is measured by a Coulter counter.

低屈折率層の屈折率上昇をより一層少なくするために、中空のシリカ微粒子を用いることが好ましく、該中空シリカ微粒子は屈折率が1.17〜1.40、より好ましくは1.17〜1.35、さらに好ましくは1.17〜1.30である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、下記数式(II)で表される空隙率Xは好ましくは10〜60%、さらに好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。
数式(II)
x=(4πa3/3)/(4πb3/3)×100
中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から1.17未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
なお、これら中空シリカ粒子の屈折率はアッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定をおこなった。
In order to further reduce the increase in the refractive index of the low refractive index layer, it is preferable to use hollow silica fine particles, and the hollow silica fine particles have a refractive index of 1.17 to 1.40, more preferably 1.17 to 1. .35, more preferably 1.17 to 1.30. The refractive index here represents the refractive index of the entire particle, and does not represent the refractive index of only the outer shell silica forming the hollow silica particles. At this time, when the radius of the cavity in the particle is a and the radius of the particle shell is b, the porosity X represented by the following formula (II) is preferably 10 to 60%, more preferably 20 to 60%. Most preferably, it is 30 to 60%.
Formula (II)
x = (4πa 3/3) / (4πb 3/3) × 100
If the hollow silica particles are made to have a lower refractive index and a higher porosity, the thickness of the outer shell becomes thinner and the strength of the particles becomes weaker. From the viewpoint of scratch resistance, the low refractive index is less than 1.17. Rate particles do not hold.
The refractive index of these hollow silica particles was measured with an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.).

また、平均粒径が低屈折率層の厚みの25%未満であるシリカ微粒子(「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)の少なくとも1種を上記の粒径のシリカ微粒子(「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)と併用してもよい。
小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層が100nmの場合、1nm以上20nm以下が好ましく、5nm以上15nm以下が更に好ましく、10nm以上15nm以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。
Further, at least one kind of silica fine particles having an average particle size of less than 25% of the thickness of the low refractive index layer (referred to as “small size particle size silica particles”) is used as silica fine particles having the above particle size (“large size particles”). May be used in combination with a silica fine particle having a diameter).
Since the fine silica particles having a small size can be present in the gaps between the fine silica particles having a large size, the fine particles can contribute as a retaining agent for the fine silica particles having a large size.
When the low refractive index layer is 100 nm, the average particle size of the silica fine particles having a small size is preferably from 1 nm to 20 nm, more preferably from 5 nm to 15 nm, and particularly preferably from 10 nm to 15 nm. Use of such silica fine particles is preferable in terms of raw material costs and a retaining agent effect.

シリカ微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
上記カップリング剤は、低屈折率層の無機フィラーの表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
シリカ微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
Silica fine particles are treated with a physical surface treatment such as plasma discharge treatment or corona discharge treatment in order to stabilize dispersion in the dispersion or coating solution, or to increase the affinity and binding to the binder component. Further, chemical surface treatment with a surfactant, a coupling agent or the like may be performed. The use of a coupling agent is particularly preferred. As the coupling agent, an alkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. Among these, silane coupling treatment is particularly effective.
The above coupling agent is used as a surface treatment agent for the inorganic filler of the low refractive index layer in advance for surface treatment prior to the preparation of the layer coating solution, and is further added as an additive during preparation of the layer coating solution. It is preferable to make it contain in a layer.
The silica fine particles are preferably dispersed in the medium in advance before the surface treatment in order to reduce the load of the surface treatment.

<硬化性化合物>
低屈折率層には硬化性化合物を添加することができる。硬化性化合物としては、(メタ)アクリレートモノマーが好ましく用いられる。(メタ)アクリレートモノマーとしては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、上記のエチレンオキサイド変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは2種以上併用してもよい。添加量は、中空粒子等、低屈折率を有する材量の含率によって調整すればよく、低屈折率層全体に対して重量で0〜70%までが好ましい。それ以上添加すると、層の屈折率が上昇してしまい、好ましい反射防止層の設計ができない。
<Curable compound>
A curable compound can be added to the low refractive index layer. As the curable compound, a (meth) acrylate monomer is preferably used. Examples of the (meth) acrylate monomer include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, 1,4 -Cyclohexane diacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, di Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate, Side modified products, vinylbenzene and derivatives thereof (eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinylsulfone (eg, divinylsulfone), acrylamide ( Examples include methylenebisacrylamide) and methacrylamide. Two or more of these monomers may be used in combination. The addition amount may be adjusted by the content of the material having a low refractive index such as hollow particles, and is preferably 0 to 70% by weight with respect to the entire low refractive index layer. If it is added more than that, the refractive index of the layer increases, and a preferable antireflection layer cannot be designed.

<オルガノシラン、ゾル成分>
本発明の反射防止フィルムを構成する低屈折率層は、その層を形成する塗布液中にオルガノシラン化合物および/またはその加水分解物および/またはその部分縮合物、いわゆるゾル成分(以降このように称する)を含有することが耐擦傷性の点で好ましい。このゾル成分は、塗布液を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成し上記層のバインダーとなる。また、該硬化物が重合性不飽和結合を有する場合、活性光線の照射により3次元構造を有するバインダーが形成される。
オルガノシラン化合物は、下記一般式(1)で表されるものが好ましい。
一般式(1):(R10m−Si(X)4-m
上記一般式(1)において、R10は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは1〜6のものである。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Xは水酸基または加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基(炭素数1〜5のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる)、ハロゲン原子(例えばCl、Br、I等)、及びR2COO(R2は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基が好ましい。例えばCH3COO、C25COO等が挙げられる)で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
mは1〜3の整数を表し、好ましくは1または2であり、特に好ましくは1である。
<Organosilane, sol component>
The low refractive index layer constituting the antireflection film of the present invention comprises an organosilane compound and / or a hydrolyzate thereof and / or a partial condensate thereof, a so-called sol component (hereinafter referred to as such) in the coating liquid forming the layer. From the viewpoint of scratch resistance. This sol component is condensed by a drying and heating process after coating the coating solution to form a cured product, which becomes a binder for the layer. Moreover, when this hardened | cured material has a polymerizable unsaturated bond, the binder which has a three-dimensional structure is formed by irradiation of actinic light.
The organosilane compound is preferably represented by the following general formula (1).
Formula (1) :( R 10) m -Si (X) 4-m
In the general formula (1), R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, hexyl, decyl, hexadecyl and the like. The alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms. Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl, and a phenyl group is preferable.
X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, for example, an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, such as a methoxy group or an ethoxy group), a halogen atom (for example, Cl, Br, I, etc.) And R 2 COO (R 2 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. Examples include CH 3 COO, C 2 H 5 COO, etc.), preferably alkoxy. A group, particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group.
m represents an integer of 1 to 3, preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.

10あるいはXが複数存在するとき、複数のR10あるいはXはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素等)、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチル、エチル、i−プロピル、プロピル、t−ブチル等)、アリール基(フェニル、ナフチル等)、芳香族ヘテロ環基(フリル、ピラゾリル、ピリジル等)、アルコキシ基(メトキシ、エト
キシ、i−プロポキシ、ヘキシルオキシ等)、アリールオキシ(フェノキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、エチルチオ等)、アリールチオ基(フェニルチオ等)、アルケニル基(ビニル、1−プロペニル等)、アシルオキシ基(アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−メチル−N−オクチルカルバモイル等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等)等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
When R 10 or X there are a plurality, a plurality of R 10 or X groups may be different, even the same, respectively.
The substituent contained in R 10 is not particularly limited, but a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, etc.), hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, epoxy group, alkyl group (methyl, ethyl, i-propyl, propyl, t-butyl etc.), aryl groups (phenyl, naphthyl etc.), aromatic heterocyclic groups (furyl, pyrazolyl, pyridyl etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, i-propoxy, hexyloxy etc.), aryloxy (phenoxy etc.) ), Alkylthio groups (methylthio, ethylthio, etc.), arylthio groups (phenylthio, etc.), alkenyl groups (vinyl, 1-propenyl, etc.), acyloxy groups (acetoxy, acryloyloxy, methacryloyloxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (methoxycarbonyl, ethoxy) Carbonyl, etc.), aryloxy Carbonyl groups (phenoxycarbonyl, etc.), carbamoyl groups (carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-methyl-N-octylcarbamoyl, etc.), acylamino groups (acetylamino, benzoylamino, acrylicamino, methacrylamino) Etc.), and these substituents may be further substituted.

10が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましく、中でも、下記一般式(1a)で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
一般式(1a)
When there are a plurality of R 10 , at least one is preferably a substituted alkyl group or a substituted aryl group, and among them, an organosilane compound having a vinyl polymerizable substituent represented by the following general formula (1a) is preferable.
General formula (1a)

Figure 2005275391
Figure 2005275391

上記一般式(1a)において、R10及びXは一般式(1)におけるR10及びXと同じ意味の基を表す。Yは単結合もしくは*-COO-**、*-CONH-**又は*-O-**を表し、単結合、*-COO-**および*-CONH-**が好ましく、単結合および*-COO-**が更に好
ましく、*-COO-**が特に好ましい。*は=C(R1)−に結合する位置を、**はLに結合する位置を表す。
In formula (1a), R 10 and X represents a group having the same meaning as R 10 and X in the general formula (1). Y represents a single bond or * -COO-**, * -CONH-** or * -O-**, preferably a single bond, * -COO-** or * -CONH-**, * -COO-** is more preferred, and * -COO-** is particularly preferred. * Represents a position bonded to ═C (R 1 ) —, and ** represents a position bonded to L.

Lは2価の連結鎖を表す。具体的には、炭素数1〜20の置換もしくは無置換のアルキレン基、炭素数6〜20の置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基(例えば、エーテル、エステル、アミドなど)を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。   L represents a divalent linking chain. Specifically, a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 20 carbon atoms, and a substituent having a linking group (for example, ether, ester, amide, etc.) inside. Or an unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group having a linking group inside, and a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, and an alkylene group having a linking group inside are preferable. Further, an unsubstituted alkylene group, an unsubstituted arylene group, and an alkylene group having an ether or ester linking group inside are more preferred, and an unsubstituted alkylene group and an alkylene group having an ether or ester linking group inside are particularly preferred. Examples of the substituent include a halogen, a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, and an aryl group, and these substituents may be further substituted.

nは0または1を表す。Xが複数存在するとき、複数のXはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。nとして好ましくは0である。   n represents 0 or 1. When there are a plurality of Xs, the plurality of Xs may be the same or different. n is preferably 0.

一般式(1)又は一般式(1a)で表される化合物は2種類以上を併用しても良い。以下に一般式(1)又は一般式(1a)で表される化合物の具体例を示すが、限定されるものではない。   Two or more kinds of the compounds represented by the general formula (1) or the general formula (1a) may be used in combination. Although the specific example of a compound represented by General formula (1) or General formula (1a) below is shown, it is not limited.

Figure 2005275391
Figure 2005275391

Figure 2005275391
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これらのうち、(M−1)、(M−2)、および(M−5)が特に好ましい。   Of these, (M-1), (M-2), and (M-5) are particularly preferable.

オルガノシランの加水分解反応および/または縮合反応は、一般に触媒の存在下で行われる。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類;シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類;トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類;トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類;Zr、Ti又はAlなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。無機酸では塩酸、硫酸、有機酸では、水中での酸解離定数(pKa値(25℃))が4.5以下のものが好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が3.0以下の有機酸がより好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が更に好ましく、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が更に好ましく、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましく、金属キレート化合物も好ましい。   The hydrolysis reaction and / or condensation reaction of organosilane is generally performed in the presence of a catalyst. Catalysts include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid; organic acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid, methanesulfonic acid and toluenesulfonic acid; inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia; triethylamine, Examples thereof include organic bases such as pyridine; metal alkoxides such as triisopropoxyaluminum and tetrabutoxyzirconium; metal chelate compounds having a metal such as Zr, Ti or Al as a central metal. Among inorganic acids, hydrochloric acid, sulfuric acid, and organic acids preferably have an acid dissociation constant (pKa value (25 ° C.)) of 4.5 or less in water, and an acid dissociation constant in hydrochloric acid, sulfuric acid, or water of 3.0 or less. More preferred is an organic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, an organic acid having an acid dissociation constant of 2.5 or less in water is more preferred, an organic acid having an acid dissociation constant in water of 2.5 or less is more preferred, and methanesulfonic acid Further, oxalic acid, phthalic acid, and malonic acid are more preferable, oxalic acid is particularly preferable, and metal chelate compounds are also preferable.

金属キレート化合物は、Zr、TiまたはAlから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、2種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる金属キレート化合物の具体例としては、トリ-n-ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ-n-ブトキシビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、n-ブトキシトリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(n-プロピルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(エチルアセトアセテート)ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物;ジイソプロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセトン)チタニウムなどのチタニウムキレート化合物;ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、イソプロポキシビス(アセチルアセトナート)アルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(アセチルアセトナート)アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス(エチルアセトアセテート)アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ-n-ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトナート)チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、1種単独であるいは2種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
The metal chelate compound can be suitably used without particular limitation as long as it has a metal selected from Zr, Ti or Al as a central metal. Within this category, two or more metal chelate compounds may be used in combination. Specific examples of the metal chelate compound used in the present invention include tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, di-n-butoxybis (ethylacetoacetate) zirconium, n-butoxytris (ethylacetoacetate) zirconium, tetrakis (n Zirconium chelate compounds such as -propylacetoacetate) zirconium, tetrakis (acetylacetoacetate) zirconium, tetrakis (ethylacetoacetate) zirconium; diisopropoxy bis (ethylacetoacetate) titanium, diisopropoxy bis (acetylacetate) titanium , Titanium chelate compounds such as diisopropoxy bis (acetylacetone) titanium; diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, diiso Ropoxyacetylacetonate aluminum, isopropoxybis (ethylacetoacetate) aluminum, isopropoxybis (acetylacetonate) aluminum, tris (ethylacetoacetate) aluminum, tris (acetylacetonato) aluminum, monoacetylacetonate bis ( Examples include aluminum chelate compounds such as ethyl acetoacetate) aluminum.
Among these metal chelate compounds, tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, diisopropoxybis (acetylacetonato) titanium, diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, and tris (ethyl acetoacetate) aluminum are preferable. These metal chelate compounds can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Moreover, the partial hydrolyzate of these metal chelate compounds can also be used.

加水分解・縮合反応は、通常、オルガノシランの加水分解性基1モルに対して0.3〜2モル、好ましくは0.5〜1モルの水を添加し、上記溶媒の存在下あるいは非存在下に、そして好ましくは触媒の存在下に、25〜100℃で、撹拌することにより行われる。
加水分解性基がアルコキシドで触媒が有機酸の場合には、有機酸のカルボキシル基やスルホ基がプロトンを供給するために、水の添加量を減らすことができ、オルガノシランのアルコキシド基1モルに対する水の添加量は、0〜2モル、好ましくは0〜1.5モル、より好ましくは、0〜1モル、特に好ましくは、0〜0.5モルである。アルコールを溶媒に用いた場合には、実質的に水を添加しない場合も好適である。
The hydrolysis / condensation reaction is usually performed by adding 0.3 to 2 mol, preferably 0.5 to 1 mol of water to 1 mol of the hydrolyzable group of organosilane, and in the presence or absence of the solvent. Under stirring and preferably in the presence of a catalyst at 25-100 ° C.
When the hydrolyzable group is an alkoxide and the catalyst is an organic acid, the carboxyl group or sulfo group of the organic acid supplies protons, so the amount of water added can be reduced, and the amount of the alkoxide group of the organosilane can be reduced to 1 mol. The amount of water added is 0 to 2 mol, preferably 0 to 1.5 mol, more preferably 0 to 1 mol, and particularly preferably 0 to 0.5 mol. When alcohol is used as the solvent, it is also preferred that substantially no water is added.

触媒の使用量は、触媒が無機酸の場合には加水分解性基に対して0.01〜10モル%、好ましくは0.1〜5モル%であり、触媒が有機酸の場合には、水の添加量によって最適な使用量が異なるが、水を添加する場合には加水分解性基に対して0.01〜10モル%、好ましくは0.1〜5モル%であり、実質的に水を添加しない場合には、加水分解性基に対して1〜500モル%、好ましくは10〜200モル%であり、より好ましくは20〜200モル%であり、更に好ましくは50〜150モル%であり、特に好ましくは50〜120モル%である。
反応は25〜100℃で撹拌することにより行われるが、オルガノシランの反応性により適宜調節されることが好ましい。
The catalyst is used in an amount of 0.01 to 10 mol%, preferably 0.1 to 5 mol% based on the hydrolyzable group when the catalyst is an inorganic acid, and when the catalyst is an organic acid, The optimum amount used varies depending on the amount of water added, but in the case of adding water, it is 0.01 to 10 mol%, preferably 0.1 to 5 mol% with respect to the hydrolyzable group. When water is not added, it is 1 to 500 mol%, preferably 10 to 200 mol%, more preferably 20 to 200 mol%, still more preferably 50 to 150 mol%, based on the hydrolyzable group. And particularly preferably 50 to 120 mol%.
Although the reaction is carried out by stirring at 25 to 100 ° C., it is preferably adjusted as appropriate depending on the reactivity of the organosilane.

本発明の金属キレート化合物は、縮合反応の速度および塗膜にした場合の膜強度の観点から、オルガノシランに対し、好ましくは、0.01〜50質量%、より好ましくは、0.1〜50質量%、さらに好ましくは、0.5〜10質量%の割合で用いられる。   The metal chelate compound of the present invention is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 50%, based on the organosilane, from the viewpoint of the speed of the condensation reaction and the film strength when formed into a coating film. It is used at a ratio of 0.5% by mass, more preferably 0.5-10% by mass.

本発明に用いられる低屈折率層の塗布液には上記オルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮合物および金属キレート化合物を含む組成物に加えて、β−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物が添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。   In addition to the composition containing the hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound and the metal chelate compound, the coating solution for the low refractive index layer used in the present invention includes a β-diketone compound and / or a β-ketoester. Preferably a compound is added. This will be further described below.

本発明で使用されるのは、一般式R4COCH2COR5で表されるβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物であり、本発明に用いられる組成物の安定性向上剤として作用するものである。すなわち、前記金属キレート化合物(ジルコニウム、チタニウムおよび/またはアルミニウム化合物)中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮合物の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。β−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物を構成するR4およびR5は、前記金属キレート化合物を構成するR4およびR5と同様である。 The β-diketone compound and / or β-ketoester compound represented by the general formula R 4 COCH 2 COR 5 is used in the present invention and acts as a stability improver for the composition used in the present invention. Is. That is, by coordinating with a metal atom in the metal chelate compound (zirconium, titanium and / or aluminum compound), the condensation reaction of the hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound by these metal chelate compounds is performed. It is considered that the promoting action is suppressed and the storage stability of the resulting composition is improved. R 4 and R 5 constituting the β- diketone compound and / or β- ketoester compound are the same as R 4 and R 5 constituting the metal chelate compound.

このβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−n−プロピル、アセト酢酸−i−プロピル、アセト酢酸−n−ブチル、アセト酢酸−sec-ブチル、アセト酢酸−t−ブチル、2,4−ヘキサン−ジオン、2,4−ヘプタン−ジオン、3,5−ヘプタン−ジオン、2,4−オクタン−ジオン、2,4−ノナン−ジオン、5−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物は、1種単独でまたは2種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物は、金属キレート化合物1モルに対し好ましくは2モル以上、より好ましくは3〜20モル用いられる。2モル未満では得られる組成物の保存安定性に劣るおそれがあり好ましいものではない。   Specific examples of the β-diketone compound and / or β-ketoester compound include acetylacetone, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, acetoacetate-n-propyl, acetoacetate-i-propyl, acetoacetate-n-butyl, acetoacetate. Acetic acid-sec-butyl, acetoacetic acid-t-butyl, 2,4-hexane-dione, 2,4-heptane-dione, 3,5-heptane-dione, 2,4-octane-dione, 2,4-nonane -Dione, 5-methyl-hexane-dione and the like can be mentioned. Of these, ethyl acetoacetate and acetylacetone are preferred, and acetylacetone is particularly preferred. These β-diketone compounds and / or β-ketoester compounds may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the β-diketone compound and / or β-ketoester compound is preferably used in an amount of 2 mol or more, more preferably 3 to 20 mol, per 1 mol of the metal chelate compound. If it is less than 2 mol, the storage stability of the resulting composition may be inferior, which is not preferable.

上記オルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮合物の含有量は、比較的薄膜である表面層の場合は少なく、厚膜である下層の場合は多いことが好ましい。低屈折率層のような表面層の場合は含有層(添加層)の全固形分の0.1〜50質量%が好ましく、0.5〜20質量%がより好ましく、1〜10質量%が最も好ましい。
低屈折率層以外の層への添加量は、含有層(添加層)の全固形分の0.001〜50質量%が好ましく、0.01〜20質量%がより好ましく、0.05〜10質量%が更に好ましく、0.1〜5質量%が特に好ましい。
本発明においてはまず前記オルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮合物および金属キレート化合物を含有する組成物を調製し、これにβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物を添加した液をハードコートもしくは低屈折率層の少なくとも1層の塗布液に含有せしめて塗設することが好ましい。
The content of the hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound is preferably small for a surface layer that is a relatively thin film and large for a lower layer that is a thick film. In the case of a surface layer such as a low refractive index layer, 0.1 to 50% by mass of the total solid content of the containing layer (addition layer) is preferable, 0.5 to 20% by mass is more preferable, and 1 to 10% by mass is preferable. Most preferred.
The amount added to the layers other than the low refractive index layer is preferably 0.001 to 50 mass%, more preferably 0.01 to 20 mass%, and more preferably 0.05 to 10 mass% of the total solid content of the containing layer (addition layer). More preferably, it is 0.1 to 5% by mass.
In the present invention, first, a composition containing a hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound and a metal chelate compound is prepared, and a liquid obtained by adding a β-diketone compound and / or a β-ketoester compound thereto is prepared. It is preferable to coat by coating it in at least one coating solution of a hard coat or a low refractive index layer.

低屈折率層における、含フッ素ポリマーに対するオルガノシランのゾル成分の使用量は、5〜100質量%が好ましく、5〜40質量%がより好ましく、8〜35質量%が更に好ましく、10〜30質量%が特に好ましい。使用量が少ないと本発明の効果が得にくく、使用量が多すぎると屈折率が増加したり、膜の形状・面状が悪化したりするので好ましくない。   5-100 mass% is preferable, the usage-amount of the sol component of the organosilane with respect to a fluorine-containing polymer in a low refractive index layer has more preferable 5-40 mass%, 8-35 mass% is still more preferable, 10-30 mass % Is particularly preferred. If the amount used is small, it is difficult to obtain the effect of the present invention, and if the amount used is too large, the refractive index increases or the shape / surface shape of the film deteriorates.

<防汚剤、滑り剤>
防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には低n層全固形分の0.01〜20質量%の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは0.05〜10質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは0.1〜5質量%の場合である。
<Anti-fouling agent, slip agent>
For the purpose of imparting properties such as antifouling properties, water resistance, chemical resistance, and slipping properties, known silicone-based or fluorine-based antifouling agents, slipping agents, and the like can be appropriately added. When these additives are added, it is preferably added in the range of 0.01 to 20% by mass, more preferably in the range of 0.05 to 10% by mass of the total solid content of the low n layer. Particularly preferably 0.1 to 5% by mass.

シリコーン系化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端および/または側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、10万以下であることが好ましく、5万以下であることが特に好ましく、3000〜30000であることが最も好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが18.0質量%以上であることが好ましく、25.0〜37.8質量%であることが特に好ましく、30.0〜37.0質量%であることが最も好ましい。好ましいシリコーン系化合物の例としては信越化学(株)製、X-22-174DX、X-22-2426、X-22-164B、X22-164C、X-22-170DX、X-22-176D、X-22-1821(以上商品名)やチッソ(株)製、FM-0725、FM-7725、DMS-U22、RMS-033、RMS-083、UMS-182(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。   Preferable examples of the silicone compound include those having a substituent at the terminal and / or side chain of a compound chain containing a plurality of dimethylsilyloxy units as repeating units. The compound chain containing dimethylsilyloxy as a repeating unit may contain a structural unit other than dimethylsilyloxy. The substituents may be the same or different, and a plurality of substituents are preferable. Examples of preferred substituents include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, fluoroalkyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, amino group and the like. It is done. Although there is no restriction | limiting in particular in molecular weight, It is preferable that it is 100,000 or less, It is especially preferable that it is 50,000 or less, It is most preferable that it is 3000-30000. Although there is no restriction | limiting in particular in silicone atom content of a silicone type compound, it is preferable that it is 18.0 mass% or more, it is especially preferable that it is 25.0-37.8 mass%, and 30.0-37.0. Most preferably, it is mass%. Examples of preferable silicone compounds include X-22-174DX, X-22-2426, X-22-164B, X22-164C, X-22-170DX, X-22-176D, X, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. -22-1821 (named above), Chisso Corporation, FM-0725, FM-7725, DMS-U22, RMS-033, RMS-083, UMS-182 (named above), etc. It is not limited to.

フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数1〜20であることが好ましく、より好ましくは1〜10であり、直鎖(例えば−CF2CF3、−CH2(CF24H、−CH2(CF28CF3、−CH2CH2(CF24H等)であっても、分岐構造(例えば−CH(CF32、−CH2CF(CF32、−CH(CH3)CF2CF3、−CH(CH3)(CF26H等)であっても、脂環式構造(好ましくは5員環または6員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等)であっても良く、エーテル結合を有していても良い(例えば、−CH2OCH2CF2CF3、−CH2CH2OCH2(CF24H、−CH2CH2OCH2CH2817、−CH2CH2OCF2CF2OCF2CF2H等)。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
フッ素系化合物は、さらに低屈折率層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが20質量%以上であることが好ましく、30〜70質量%であることが特に好ましく、40〜70質量%であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としてはダイキン化学工業(株)製、R-2020、M-2020、R-3833、M-3833(以上商品名)、大日本インキ(株)製、メガファックF-171、F-172、F-179A、ディフェンサMCF-300(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
As the fluorine compound, a compound having a fluoroalkyl group is preferable. The fluoroalkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and a straight chain (for example, —CF 2 CF 3 , —CH 2 (CF 2 ) 4 H, —CH 2 (CF 2 ) 8 CF 3 , —CH 2 CH 2 (CF 2 ) 4 H, etc.), even branched structures (eg, —CH (CF 3 ) 2 , —CH 2 CF (CF 3 ) 2 , —CH (CH 3 ) CF 2 CF 3 , —CH (CH 3 ) (CF 2 ) 6 H, etc.), and alicyclic structures (preferably 5-membered or 6-membered rings such as perfluorocyclohexyl groups, per A fluorocyclopentyl group or an alkyl group substituted with these, and may have an ether bond (for example, —CH 2 OCH 2 CF 2 CF 3 , —CH 2 CH 2 OCH 2 (CF 2) 4 H, -CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 C 8 F 17, -CH 2 C H 2 OCF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 H, etc.). A plurality of the fluoroalkyl groups may be contained in the same molecule.
It is preferable that the fluorine-based compound further has a substituent that contributes to bond formation or compatibility with the low refractive index layer film. The substituents may be the same or different, and a plurality of substituents are preferable. Examples of preferred substituents include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, amino group and the like. The fluorine-based compound may be a polymer or an oligomer with a compound not containing a fluorine atom, and the molecular weight is not particularly limited. Although there is no restriction | limiting in particular in fluorine atom content of a fluorine-type compound, It is preferable that it is 20 mass% or more, It is especially preferable that it is 30-70 mass%, It is most preferable that it is 40-70 mass%. Examples of preferred fluorine-based compounds include Daikin Chemical Industries, R-2020, M-2020, R-3833, M-3833 (named above), Dainippon Ink, Megafac F-171. , F-172, F-179A, Defender MCF-300 (named above), but not limited thereto.

<防塵剤、帯電防止剤>
防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいはポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低n層全固形分の0.01〜20質量%の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは0.05〜10質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは0.1〜5質量%の場合である。好ましい化合物の例としては大日本インキ(株)製、メガファックF-150(商品名)、東レダウコーニング(株)製、SH-3748(商品名)などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
<Dustproofing agent, antistatic agent>
For the purpose of imparting properties such as dust resistance and antistatic property, a known cationic surfactant or a dustproof agent such as a polyoxyalkylene compound, an antistatic agent, or the like may be added as appropriate. These dustproofing agent and antistatic agent may contain the structural unit as a part of the function in the above-mentioned silicone compound or fluorine compound. When these are added as additives, it is preferably added in the range of 0.01 to 20% by mass, more preferably in the range of 0.05 to 10% by mass of the total solid content of the low n layer. Particularly preferably 0.1 to 5% by mass. Examples of preferable compounds include, but are not limited to, Dainippon Ink Co., Ltd., MegaFuck F-150 (trade name), Toray Dow Corning Co., Ltd., SH-3748 (trade name), and the like. Do not mean.

<重合開始剤>
電離放射線によりラジカルを発生する重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノンおよび2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新UV硬化技術(P.159,発行人;高薄一弘,発行所;(株)技術情報協会,1
991年発行)にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の電離放射線開裂型の電離放射線ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー(株)製のイルガキュア(651,184,907)等が好ましい例として挙げられる。
電離放射線重合開始剤は、多官能モノマー100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。
電離放射線重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
また、特開2000−80068号公報に記載の化合物(1〜21)として記載されている、例示化合物(I−1〜21)が、耐擦傷性の改良効果が著しく、好ましく用いることができる。
<Polymerization initiator>
Polymerization initiators that generate radicals by ionizing radiation include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds , Disulfide compounds, fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone is included. Examples of benzoins include benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of the benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
Latest UV curing technology (P.159, publisher: Kazuhiro Takasato, publisher) Technical Information Association, 1
(Published in 1999) also describes various examples and is useful for the present invention.
Preferable examples of the commercially available ionizing radiation cleavage type ionizing radiation radical polymerization initiator include Irgacure (651, 184, 907) manufactured by Ciba Geigy Japan.
The ionizing radiation polymerization initiator is preferably used in the range of 0.1 to 15 parts by mass, more preferably in the range of 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyfunctional monomer.
In addition to the ionizing radiation polymerization initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone.
Further, the exemplified compounds (I-1 to 21) described as the compounds (1 to 21) described in JP-A No. 2000-80068 are remarkably effective in improving the scratch resistance and can be preferably used.

Figure 2005275391
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Figure 2005275391
Figure 2005275391

熱によりラジカルを発生する重合開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として2−アゾービスーイソブチロニトリル、2−アゾービスープロピオニトリル、2−アゾ−ビスーシクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
As the polymerization initiator that generates radicals by heat, organic or inorganic peroxides, organic azo, diazo compounds, and the like can be used.
Specifically, benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide as organic peroxides, hydrogen peroxide, peroxides as inorganic peroxides. Ammonium sulfate, potassium persulfate, etc., 2-azo-bis-isobutyronitrile, 2-azo-bis-propionitrile, 2-azo-bis-cyclohexanedinitrile, etc. as diazo compounds, diazoaminobenzene, p-nitrobenzenediazonium Etc.

<溶剤>
本発明の低屈折率層を形成するための塗布組成物に用いられる溶剤としては、各成分を溶解または分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。乾燥負荷の観点からは、常圧、室温における沸点が100℃以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が100℃以上の溶剤を少量含有することが好ましい。
沸点が100℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン(沸点68.7℃)、ヘプタン(98.4℃)、シクロヘキサン(80.7℃)、ベンゼン(80.1℃)などの炭化水素類、ジクロロメタン(39.8℃)、クロロホルム(61.2℃)、四塩化炭素(76.8℃)、1,2−ジクロロエタン(83.5℃)、トリクロロエチレン(87.2℃)などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル(34.6℃)、ジイソプロピルエーテル(68.5℃)、ジプロピルエーテル(90.5℃)、テトラヒドロフラン(66℃)などのエーテル類、ギ酸エチル(54.2℃)、酢酸メチル(57.8℃)、酢酸エチル(77.1℃)、酢酸イソプロピル(89℃)などのエステル類、アセトン(56.1℃)、2−ブタノン(メチルエチルケトンと同じ、79.6℃)などのケトン類、メタノール(64.5℃)、エタノール(78.3℃)、2−プロパノール(82.4℃)、1−プロパノール(97.2℃)などのアルコール類、アセトニトリル(81.6℃)、プロピオニトリル(97.4℃)などのシアノ化合物類、二硫化炭素(46.2℃)などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では2−ブタノンが特に好ましい。
沸点が100℃を以上の溶剤としては、例えば、オクタン(125.7℃)、トルエン(110.6℃)、キシレン(138℃)、テトラクロロエチレン(121.2℃)、クロロベンゼン(131.7℃)、ジオキサン(101.3℃)、ジブチルエーテル(142.4℃)、酢酸イソブチル(118℃)、シクロヘキサノン(155.7℃)、2−メチル−4−ペンタノン(MIBKと同じ、115.9℃)、1−ブタノール(117.7℃)、N,N−ジメチルホルムアミド(153℃)、N,N−ジメチルアセトアミド(166℃)、ジメチルスルホキシド(189℃)などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、2−メチル−4−ペンタノンである。
<Solvent>
As a solvent used in the coating composition for forming the low refractive index layer of the present invention, it is possible to dissolve or disperse each component, to easily form a uniform surface in the coating process and the drying process, and liquid storage stability. Can be used, and various solvents selected from the viewpoint of having an appropriate saturated vapor pressure can be used. From the viewpoint of the drying load, it is preferable that a solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower at normal pressure and room temperature as a main component and a small amount of a solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher for adjusting the drying speed.
Examples of the solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower include hydrocarbons such as hexane (boiling point 68.7 ° C.), heptane (98.4 ° C.), cyclohexane (80.7 ° C.), benzene (80.1 ° C.), Halogenated carbonization such as dichloromethane (39.8 ° C), chloroform (61.2 ° C), carbon tetrachloride (76.8 ° C), 1,2-dichloroethane (83.5 ° C), trichloroethylene (87.2 ° C) Hydrogens, diethyl ether (34.6 ° C), diisopropyl ether (68.5 ° C), dipropyl ether (90.5 ° C), tetrahydrofuran (66 ° C) and other ethers, ethyl formate (54.2 ° C), Esters such as methyl acetate (57.8 ° C.), ethyl acetate (77.1 ° C.), isopropyl acetate (89 ° C.), acetone (56.1 ° C.), 2-butanone (methyl ethyl) Ketones such as ketone (79.6 ° C.), methanol (64.5 ° C.), ethanol (78.3 ° C.), 2-propanol (82.4 ° C.), 1-propanol (97.2 ° C.), etc. Alcohols, cyano compounds such as acetonitrile (81.6 ° C.) and propionitrile (97.4 ° C.), carbon disulfide (46.2 ° C.) and the like. Of these, ketones and esters are preferable, and ketones are particularly preferable. Among the ketones, 2-butanone is particularly preferable.
Examples of the solvent having a boiling point of 100 ° C. or more include, for example, octane (125.7 ° C.), toluene (110.6 ° C.), xylene (138 ° C.), tetrachloroethylene (121.2 ° C.), and chlorobenzene (131.7 ° C.). , Dioxane (101.3 ° C.), dibutyl ether (142.4 ° C.), isobutyl acetate (118 ° C.), cyclohexanone (155.7 ° C.), 2-methyl-4-pentanone (same as MIBK, 115.9 ° C.) 1-butanol (117.7 ° C.), N, N-dimethylformamide (153 ° C.), N, N-dimethylacetamide (166 ° C.), dimethyl sulfoxide (189 ° C.) and the like. Cyclohexanone and 2-methyl-4-pentanone are preferable.

[高屈折率層、中屈折率層]
本発明の反射防止フィルムでは、より良い反射防止能を付与するために、高屈折率層や中屈折率層を設けることができる。
前記高屈折率層の屈折率は屈折率1.55〜2.40であり、この範囲内の層があれば、本発明における高屈折率層が存在するといえる。この屈折率の範囲は、いわゆる高屈折率層あるいは中屈折率層といわれる範囲であるが、以下の本明細書では、これらの層を総称して高屈折率層と呼ぶことがある。
また、高屈折率層と中屈折率層とが混在する場合、屈折率が支持体、ハードコート層、中屈折率層よりも高い層を高屈折率層といい、屈折率が支持体、ハードコート層、中屈折率層よりも高く高屈折率層より低い層を中屈折率層という。屈折率は、添加する無機微粒子やバインダーの使用量などを調節することにより適宜調節できる。
[High refractive index layer, middle refractive index layer]
In the antireflection film of the present invention, a high refractive index layer or a medium refractive index layer can be provided in order to impart better antireflection performance.
The refractive index of the high refractive index layer is 1.55 to 2.40, and if there is a layer within this range, it can be said that the high refractive index layer in the present invention exists. The range of this refractive index is a range called a so-called high refractive index layer or medium refractive index layer, but in the following specification, these layers may be collectively referred to as a high refractive index layer.
When a high refractive index layer and a medium refractive index layer are mixed, a layer having a refractive index higher than that of the support, hard coat layer, and medium refractive index layer is referred to as a high refractive index layer. A layer higher than the coat layer and the medium refractive index layer and lower than the high refractive index layer is referred to as a medium refractive index layer. The refractive index can be adjusted as appropriate by adjusting the amount of inorganic fine particles to be added and the amount of binder used.

本発明の反射防止フィルムにおける中屈折率層の屈折率は、1.55〜1.85であり、好ましくは1.60〜1.75の範囲である。
本発明の反射防止フィルムにおける高屈折率層の屈折率は、1.65〜2.20であり、好ましくは1.80〜1.95の範囲である。
さらに、中屈折率層は下記数式(III)を、高屈折率層は下記数式(IV)を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式(III) (l/4)×0.7<n2×d2<(l/4)×1.3
数式(IV) (p/4)×0.7<n3×d3<(p/4)×1.3
式中、pは1または2であり、n3は高屈折率層の屈折率であり、そして、d3は高屈折率層の膜厚(nm)である。また、λは波長であり、500〜550nmの範囲の値である。
なお、前記数式(III)、(IV)を満たすとは、前記波長の範囲において数式(III)、(IV)を満たすl、pが存在することを意味している。
The refractive index of the medium refractive index layer in the antireflection film of the present invention is 1.55-1.85, preferably 1.60-1.75.
The refractive index of the high refractive index layer in the antireflection film of the present invention is 1.65 to 2.20, preferably 1.80 to 1.95.
Furthermore, it is preferable in terms of low reflectivity that the medium refractive index layer satisfies the following mathematical formula (III) and the high refractive index layer satisfies the following mathematical formula (IV).
Formula (III) (l / 4) × 0.7 <n2 × d2 <(l / 4) × 1.3
Formula (IV) (p / 4) × 0.7 <n3 × d3 <(p / 4) × 1.3
In the formula, p is 1 or 2, n3 is the refractive index of the high refractive index layer, and d3 is the film thickness (nm) of the high refractive index layer. Further, λ is a wavelength, which is a value in the range of 500 to 550 nm.
In addition, satisfy | filling said numerical formula (III) and (IV) means that l and p which satisfy | fill numerical formula (III) and (IV) exist in the said wavelength range.

<二酸化チタンを主成分とする無機微粒子>
前記高屈折率層及び/又は中屈折率層には、コバルト、アルミニウム、ジルコニウムから選ばれる少なくとも1つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子が含有される。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。
本発明における二酸化チタンを主成分とする無機微粒子は、屈折率が1.90〜2.80であることが好ましく、2.20〜2.80であることが最も好ましい。一次粒子の質量平均径は1〜200nmであることが好ましく、さらに好ましくは2〜100nm、特に好ましくは2〜80nmである。
<Inorganic fine particles mainly composed of titanium dioxide>
The high refractive index layer and / or the medium refractive index layer contains inorganic fine particles mainly composed of titanium dioxide containing at least one element selected from cobalt, aluminum, and zirconium. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles.
The inorganic fine particles mainly composed of titanium dioxide in the present invention preferably have a refractive index of 1.90 to 2.80, and most preferably 2.20 to 2.80. The mass average diameter of the primary particles is preferably 1 to 200 nm, more preferably 2 to 100 nm, and particularly preferably 2 to 80 nm.

二酸化チタンを主成分とする無機微粒子に、Co、Al及びZrから選ばれる少なくとも1つの元素を含有させることで、二酸化チタンが有する光触媒活性を抑えることができ、高屈折率層及び/又は中屈折率層の耐候性を改良することができる。
本発明に用いる二酸化チタンを主成分とする無機微粒子は表面処理してもよい。表面処理は、コバルトを含有する無機化合物、Al(OH)3、Zr(OH)4のような無機化合物または、シランカップリング剤のような有機化合物を用いて実施する。本発明の二酸化チタンを主成分とする無機微粒子は、表面処理により特開2001−166104号公報記載のごとく、コア/シェル構造を有していても良い。
高屈折率層及び/又は中屈折率層に含有される二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であることが好ましく、特に好ましくは不定形状、紡錘形状である。
By containing at least one element selected from Co, Al, and Zr in inorganic fine particles mainly composed of titanium dioxide, the photocatalytic activity of titanium dioxide can be suppressed, and a high refractive index layer and / or medium refraction. The weather resistance of the rate layer can be improved.
The inorganic fine particles mainly composed of titanium dioxide used in the present invention may be surface-treated. The surface treatment is performed using an inorganic compound containing cobalt, an inorganic compound such as Al (OH) 3 or Zr (OH) 4 , or an organic compound such as a silane coupling agent. The inorganic fine particles mainly composed of titanium dioxide of the present invention may have a core / shell structure by surface treatment as described in JP-A No. 2001-166104.
The shape of the inorganic fine particles mainly composed of titanium dioxide contained in the high refractive index layer and / or the medium refractive index layer is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape or an indefinite shape, and particularly preferably. Are indefinite shape and spindle shape.

<分散剤>
前記無機微粒子の分散には、分散剤を用いることができる。分散には、アニオン性基を有する分散剤を用いることが特に好ましい。
アニオン性基としては、カルボキシル基、スルホン酸基(及びスルホ基)、リン酸基(及びホスホノ基)、スルホンアミド基等の酸性プロトンを有する基、またはその塩が有効であり、特にカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基及びその塩が好ましく、カルボキシル基及びリン酸基が特に好ましい。1分子当たりの分散剤に含有されるアニオン性基の数は、1個以上含有されていればよいが、平均で2個以上であることが好ましく、より好ましくは5個以上、特に好ましくは10個以上である。アニオン性基は、1分子中に複数種類が含有されていてもよい。さらに、分散剤は架橋又は重合性官能基を含有することが好ましい。
<Dispersant>
A dispersant can be used for dispersing the inorganic fine particles. For dispersion, it is particularly preferable to use a dispersant having an anionic group.
As the anionic group, a group having an acidic proton such as a carboxyl group, a sulfonic acid group (and a sulfo group), a phosphoric acid group (and a phosphono group), or a sulfonamide group, or a salt thereof is effective. A sulfonic acid group, a phosphoric acid group and a salt thereof are preferable, and a carboxyl group and a phosphoric acid group are particularly preferable. The number of anionic groups contained in the dispersant per molecule may be one or more, but it is preferably 2 or more on average, more preferably 5 or more, and particularly preferably 10 It is more than one. Multiple types of anionic groups may be contained in one molecule. Furthermore, the dispersant preferably contains a cross-linkable or polymerizable functional group.

<高屈折率層及び/又は中屈折率層、その形成法>
高屈折率層及び/又は中屈折率層に用いる二酸化チタンを主成分とする無機微粒子は、分散物の状態で高屈折率層の形成に使用する。
無機微粒子の分散において、前記の分散剤の存在下で、分散媒体中に分散する。
分散媒体は、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散媒体の例には、水、アルコール、ケトン、エステル、脂肪族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、アミド、エーテル、エーテルアルコールが含まれる。トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノールが好ましい。
特に好ましい分散媒体は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンである。
<High refractive index layer and / or medium refractive index layer, formation method thereof>
The inorganic fine particles mainly composed of titanium dioxide used for the high refractive index layer and / or the medium refractive index layer are used for forming the high refractive index layer in a dispersion state.
In the dispersion of the inorganic fine particles, it is dispersed in a dispersion medium in the presence of the dispersant.
As the dispersion medium, a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. is preferably used. Examples of the dispersion medium include water, alcohol, ketone, ester, aliphatic hydrocarbon, halogenated hydrocarbon, aromatic hydrocarbon, amide, ether, ether alcohol. Toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are preferred.
Particularly preferred dispersion media are methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone.

無機微粒子は、分散機を用いて分散する。分散機の例には、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライターおよびコロイドミルが含まれる。サンドグラインダーミルおよび高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダーおよびエクストルーダーが含まれる。
無機微粒子分散物は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、質量平均径は1〜200nmである。好ましくは5〜150nmであり、さらに好ましくは10〜100nm、特に好ましくは10〜80nmである。
無機微粒子を200nm以下に微細化することで透明性を損なわない高屈折率層を形成できる。
The inorganic fine particles are dispersed using a disperser. Examples of dispersers include sand grinder mills (eg, pin bead mills), high speed impeller mills, pebble mills, roller mills, attritors and colloid mills. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.
The inorganic fine particle dispersion is preferably made as fine as possible in the dispersion medium, and has a mass average diameter of 1 to 200 nm. Preferably it is 5-150 nm, More preferably, it is 10-100 nm, Most preferably, it is 10-80 nm.
By refining the inorganic fine particles to 200 nm or less, a high refractive index layer that does not impair the transparency can be formed.

本発明に用いる高屈折率層及び/又は中屈折率層は、前記のようにして分散媒体中に無
機微粒子を分散した分散液に、好ましくは、さらにマトリックス形成に必要なバインダー前駆体(電離放射線硬化性化合物等)、光重合開始剤等を加えて高屈折率層形成用の塗布組成物とし、透明支持体上に高屈折率層形成用の塗布組成物を塗布して、電離放射線硬化性化合物(例えば、多官能モノマーや多官能オリゴマーなどで、ハードコート層で説明した多官能(メタ)アクリレート(A)及び(B)が好ましい。)の架橋反応又は重合反応により硬化させて形成することが好ましい。
The high-refractive index layer and / or medium-refractive index layer used in the present invention is preferably a binder precursor (ionizing radiation) necessary for forming a matrix in a dispersion liquid in which inorganic fine particles are dispersed in a dispersion medium as described above. Curable compound, etc.), photopolymerization initiator, etc. are added to form a coating composition for forming a high refractive index layer, and the coating composition for forming a high refractive index layer is applied on a transparent support to form ionizing radiation curable. It is formed by curing by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of a compound (for example, a polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer, and the polyfunctional (meth) acrylates (A) and (B) described in the hard coat layer are preferable)). Is preferred.

光重合性多官能モノマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。光ラジカル重合開始剤としては、前述のハードコート層と同様のものが用いられる。   It is preferable to use a photopolymerization initiator for the polymerization reaction of the photopolymerizable polyfunctional monomer. As the photopolymerization initiator, a photoradical polymerization initiator and a photocationic polymerization initiator are preferable, and a photoradical polymerization initiator is particularly preferable. As the radical photopolymerization initiator, the same hard coat layer as described above is used.

高屈折率層及び/又は中屈折率層においてバインダーは、さらにシラノール基を有することが好ましい。バインダーがさらにシラノール基を有することで、高屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性がさらに改良される。
シラノール基は、例えば架橋又は重合性官能基を有する化合物を前記の高屈折率層形成用の塗布組成物に添加し、塗布組成物を透明支持体上に塗布して前記の分散剤、多官能モノマーや多官能オリゴマー等を架橋反応、又は、重合反応させることによりバインダーに導入することができる。
In the high refractive index layer and / or the medium refractive index layer, the binder preferably further has a silanol group. When the binder further has a silanol group, the physical strength, chemical resistance, and weather resistance of the high refractive index layer are further improved.
For example, a silanol group may be formed by adding a compound having a cross-linkable or polymerizable functional group to the coating composition for forming the high refractive index layer, and coating the coating composition on a transparent support. Monomers, polyfunctional oligomers, and the like can be introduced into the binder by a crosslinking reaction or a polymerization reaction.

高屈折率層及び/又は中屈折率層においてバインダーは、アミノ基または四級アンモニウム基を有することも好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基を有するモノマーは、高屈折率層における無機微粒子の良好な分散性を維持し、物理強度、耐薬品性、耐候性に優れた高屈折率層を作製することができる。   In the high refractive index layer and / or the medium refractive index layer, the binder preferably has an amino group or a quaternary ammonium group. A monomer having an amino group or a quaternary ammonium group maintains good dispersibility of the inorganic fine particles in the high refractive index layer, and can produce a high refractive index layer excellent in physical strength, chemical resistance, and weather resistance. .

架橋又は重合しているバインダーは、ポリマーの主鎖が架橋又は重合している構造を有する。ポリマーの主鎖の例には、ポリオレフィン(飽和炭化水素)、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミドおよびメラミン樹脂が含まれる。ポリオレフィン主鎖、ポリエーテル主鎖およびポリウレア主鎖が好ましく、ポリオレフィン主鎖およびポリエーテル主鎖がさらに好ましく、ポリオレフィン主鎖が最も好ましい。   The crosslinked or polymerized binder has a structure in which the main chain of the polymer is crosslinked or polymerized. Examples of the polymer main chain include polyolefin (saturated hydrocarbon), polyether, polyurea, polyurethane, polyester, polyamine, polyamide and melamine resin. A polyolefin main chain, a polyether main chain and a polyurea main chain are preferable, a polyolefin main chain and a polyether main chain are more preferable, and a polyolefin main chain is most preferable.

バインダーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋又は重合構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、2〜96mol%であることが好ましく、4〜94mol%であることがさらに好ましく、6〜92mol%であることが最も好ましい。繰り返し単位は、二以上のアニオン性基を有していてもよい。コポリマー中の架橋又は重合構造を有する繰り返し単位の割合は、4〜98mol%であることが好ましく、6〜96mol%であることがさらに好ましく、8〜94mol%であることが最も好ましい。   The binder is preferably a copolymer having a repeating unit having an anionic group and a repeating unit having a crosslinked or polymerized structure. The proportion of the repeating unit having an anionic group in the copolymer is preferably 2 to 96 mol%, more preferably 4 to 94 mol%, and most preferably 6 to 92 mol%. The repeating unit may have two or more anionic groups. The proportion of the repeating unit having a crosslinked or polymerized structure in the copolymer is preferably 4 to 98 mol%, more preferably 6 to 96 mol%, and most preferably 8 to 94 mol%.

高屈折率層及び/又は中屈折率層は前述の二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の他にも微細な無機微粒子を含むことができる。
高屈折率層及び/又は中屈折率層における無機微粒子の含有量は、高屈折率層の質量に対し10〜90質量%であることが好ましく、より好ましくは15〜80質量%、特に好ましくは15〜75質量%である。無機微粒子は高屈折率層内で二種類以上を併用してもよい。
高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、高屈折率層の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましい。
高屈折率層及び/又は中屈折率層に、芳香環を含む電離放射線硬化性化合物、フッ素以外のハロゲン化元素(例えば、Br,I,Cl等)を含む電離放射線硬化性化合物、S,N,P等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。
高屈折率層の上に低屈折率層を構築して、反射防止フィルムを作製するためには、高屈折率層の屈折率は1.55〜2.40であることが好ましく、より好ましくは1.60〜2.20、更に好ましくは、1.65〜2.10、最も好ましくは1.80〜2.00である。
The high refractive index layer and / or the medium refractive index layer can contain fine inorganic fine particles in addition to the inorganic fine particles mainly composed of titanium dioxide.
The content of the inorganic fine particles in the high refractive index layer and / or the medium refractive index layer is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 15 to 80% by mass, particularly preferably the mass of the high refractive index layer. It is 15 to 75% by mass. Two or more inorganic fine particles may be used in combination in the high refractive index layer.
When the low refractive index layer is provided on the high refractive index layer, the refractive index of the high refractive index layer is preferably higher than the refractive index of the transparent support.
An ionizing radiation curable compound containing an aromatic ring in a high refractive index layer and / or a medium refractive index layer, an ionizing radiation curable compound containing a halogenated element other than fluorine (for example, Br, I, Cl, etc.), S, N Binders obtained by crosslinking or polymerization reactions such as ionizing radiation curable compounds containing atoms such as, P can also be preferably used.
In order to construct an antireflection film by constructing a low refractive index layer on a high refractive index layer, the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.40, more preferably 1.60 to 2.20, more preferably 1.65 to 2.10, and most preferably 1.80 to 2.00.

高屈折率層及び/又は中屈折率層には、前記の成分(無機微粒子、重合開始剤、光増感剤など)以外に、樹脂、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、防眩性付与粒子、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、導電性の金属微粒子、などを添加することもできる。
高屈折率層及び/又は中屈折率層の膜厚は用途により適切に設計することができる。高屈折率層を後述する光学干渉層として用いる場合、30〜200nmが好ましく、より好ましくは50〜170nm、特に好ましくは60〜150nmである。
For the high refractive index layer and / or medium refractive index layer, in addition to the above components (inorganic fine particles, polymerization initiator, photosensitizer, etc.), resin, surfactant, antistatic agent, coupling agent, thickening agent Agents, anti-coloring agents, coloring agents (pigments, dyes), anti-glare particles, antifoaming agents, leveling agents, flame retardants, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, adhesion promoters, polymerization inhibitors, antioxidants, A surface modifier, conductive metal fine particles, and the like can also be added.
The film thickness of the high refractive index layer and / or the medium refractive index layer can be appropriately designed depending on the application. When using a high refractive index layer as an optical interference layer described later, the thickness is preferably 30 to 200 nm, more preferably 50 to 170 nm, and particularly preferably 60 to 150 nm.

高屈折率層及び/又は中屈折率層の形成において、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応は、酸素濃度が10体積%以下、好ましくは酸素濃度が6体積%以下、特に好ましくは酸素濃度が2体積%以下、最も好ましくは1体積%以下の雰囲気で実施することが好ましい。   In the formation of the high refractive index layer and / or the medium refractive index layer, the crosslinking reaction or polymerization reaction of the ionizing radiation curable compound is preferably an oxygen concentration of 10% by volume or less, preferably an oxygen concentration of 6% by volume or less. Is preferably carried out in an atmosphere having an oxygen concentration of 2% by volume or less, most preferably 1% by volume or less.

[透明支持体]
本発明の反射防止フィルムの透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースアシレート(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、代表的には富士写真フイルム社製TAC−TD80U,TD80UFなど)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製)、非晶質ポリオレフィン(ゼオネックス:商品名、日本ゼオン社製)、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ノルボルネン系樹脂、非晶質ポリオレフィンが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
セルロースアシレートは、単層または複数の層からなる。単層のトリアセチルセルロースは、特開平7−11055号等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等により作成され、後者の複数の層からなるトリアセチルセルロースは、公開特許公報の特開昭61−94725号、特公昭62−43846号等で開示されている、いわゆる共流延法により作成される。すなわち、原料フレークをハロゲン化炭化水素類(ジクロロメタン等、アルコール類(メタノール、エタノール、ブタノール等)、エステル類(蟻酸メチル、酢酸メチル等)、エーテル類(ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等)等の溶剤にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液(ドープと称する)を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段(ダイと称する)により流延する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースアシレートドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与されたフィルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させて溶剤を除去することからなる方法である。
[Transparent support]
As the transparent support of the antireflection film of the present invention, a plastic film is preferably used. As the polymer forming the plastic film, cellulose acylate (eg, triacetylcellulose, diacetylcellulose, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, typically TAC-TD80U, TD80UF, etc. manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), Polyamide, polycarbonate, polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate), polystyrene, polyolefin, norbornene resin (Arton: trade name, manufactured by JSR), amorphous polyolefin (ZEONEX: trade name, manufactured by ZEON Corporation), Etc. Among these, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, norbornene resin, and amorphous polyolefin are preferable, and triacetyl cellulose is particularly preferable.
Cellulose acylate consists of a single layer or a plurality of layers. Single-layer triacetyl cellulose is prepared by drum casting or band casting disclosed in JP-A-7-11055, and the latter triacetyl cellulose is a special feature of the published patent publication. It is prepared by the so-called co-casting method disclosed in Japanese Utility Model Publication Nos. 61-94725 and 62-43846. That is, the raw material flakes are solvents such as halogenated hydrocarbons (dichloromethane, alcohols (methanol, ethanol, butanol, etc.), esters (methyl formate, methyl acetate, etc.), ethers (dioxane, dioxolane, diethyl ether, etc.), etc. A solution (called a dope) with various additives such as a plasticizer, an ultraviolet absorber, an anti-degradation agent, a slipping agent, and a peeling accelerator is added to the horizontal endless as necessary. When casting by a dope supply means (called a die) on a support composed of a metal belt or a rotating drum, a single dope is cast in a single layer if it is a single layer, and a high concentration in the case of multiple layers. A low-concentration dope is co-cast on both sides of the cellulose acylate dope, and the film is dried to some extent on the support and peeled off from the support. A process comprising passed through a drying unit to remove the solvent by various transport means.

前記のような、セルロースアシレートを溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的である。しかし地球環境や作業環境の観点から、溶剤はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶
剤中のハロゲン化炭化水素の割合が5質量%未満(好ましくは2質量%未満)であることを意味する。
A typical solvent for dissolving cellulose acylate as described above is dichloromethane. However, from the viewpoint of the global environment and working environment, the solvent preferably does not substantially contain a halogenated hydrocarbon such as dichloromethane. “Substantially free” means that the proportion of halogenated hydrocarbon in the organic solvent is less than 5% by mass (preferably less than 2% by mass).

前記のような種々のセルロースアシレート(トリアセチルセルロースなどからなるフィルム)およびその製造法については発明協会公開技報(公技番号2001−1745、2001年3月15日発行、以下公開技報2001−1745号と略す)に記載されている。   As for the above-mentioned various cellulose acylates (films made of triacetyl cellulose and the like) and methods for producing the same, the Japan Society for Invention and Technology (Publication No. 2001-1745, published on March 15, 2001, the following public technical bulletin 2001) -1745).

セルロースアシレートの厚みとしては40μm〜120μmが好ましい。ハンドリング適性、塗布適性等を考慮すると80μm前後が好ましいが、近年の表示装置の薄手化の傾向から、偏光板の薄手化のニーズが大きく、偏光板薄手化の観点では40μm〜60μm前後が好ましい。このような薄手のセルロースアシレートを本発明の反射防止フィルムの透明支持体として用いる場合には、セルロースアシレートに直接塗布する層の溶剤、膜厚、架橋収縮率等を最適化することにより前記のハンドリング、塗布適性等の問題を回避することが好ましい。   The thickness of the cellulose acylate is preferably 40 μm to 120 μm. In consideration of handling suitability, coating suitability, etc., about 80 μm is preferable, but from the recent trend of thinning display devices, there is a great need for thinning the polarizing plate. From the viewpoint of thinning the polarizing plate, about 40 μm to 60 μm is preferable. When such a thin cellulose acylate is used as the transparent support of the antireflection film of the present invention, the solvent, film thickness, crosslinking shrinkage ratio, etc. of the layer directly applied to the cellulose acylate are optimized. It is preferable to avoid problems such as handling and application suitability.

<他の層について>
透明支持体と本発明のハードコート層の間に設けても良い他の層として、帯電防止層(ディスプレイ側からの表面抵抗値を下げる等の要求がある場合、表面等へのゴミつきが問題となる場合)、防湿層、密着改良層、虹ムラ(干渉ムラ)防止層等が挙げられる。
これらの層は、公知の方法にて形成することができる。
<About other layers>
As another layer that may be provided between the transparent support and the hard coat layer of the present invention, an antistatic layer (when there is a request to reduce the surface resistance value from the display side, there is a problem of dust on the surface, etc. A moisture-proof layer, an adhesion improving layer, a rainbow unevenness (interference unevenness) preventing layer, and the like.
These layers can be formed by a known method.

本発明の反射防止フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
[塗布液の調整]
The antireflection film of the present invention can be formed by the following method, but is not limited to this method.
[Adjustment of coating solution]

まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。その際、溶剤の揮発量を最小限に抑制することにより、塗布液中の含水率の上昇を抑制できる。塗布液中の含水率は5%以下が好ましく、2%以下がより好ましい。溶剤の揮発量の抑制は、各素材をタンクに投入後の攪拌時の密閉性を向上すること、移液作業時の塗布液の空気接触面積を最小化すること等で達成される。また、塗布中、或いはその前後に塗布液中の含水率を低減する手段を設けてもよい。   First, a coating solution containing components for forming each layer is prepared. In that case, the raise of the moisture content in a coating liquid can be suppressed by suppressing the volatilization amount of a solvent to the minimum. The moisture content in the coating solution is preferably 5% or less, more preferably 2% or less. The suppression of the volatilization amount of the solvent is achieved by improving the sealing property at the time of stirring after putting each material into the tank, minimizing the air contact area of the coating liquid at the time of liquid transfer operation, and the like. Moreover, you may provide the means to reduce the moisture content in a coating liquid during application | coating, or before and behind that.

ハードコート層等を形成する塗布液中には、直接その上に形成される層(低屈折率層、中屈折率層等)の乾燥膜厚(50nm〜120nm程度)に相当する異物を概ね全て(90%以上を指す)除去できるろ過をすることが好ましい。光拡散性を付与する為の透光性粒子が低屈折率層や中屈折率層の膜厚と同等以上であるため、前記ろ過は、透光性粒子以外の全ての素材を添加した中間液に対して行うことが好ましい。また、前記のような粒径の小さな異物を除去可能なフィルターが入手できない場合には、少なくとも直接その上に形成される層のウエット膜厚(1〜10μm程度)に相当する異物を概ね全て除去できるろ過をすることが好ましい。このような手段により、直接その上に形成される層の点欠陥を減少することができる。   In the coating solution for forming the hard coat layer etc., almost all foreign matters corresponding to the dry film thickness (about 50 nm to 120 nm) of the layer (low refractive index layer, medium refractive index layer, etc.) directly formed thereon are obtained. It is preferable to perform filtration that can be removed (points to 90% or more). Since the translucent particles for imparting light diffusivity are equal to or greater than the film thickness of the low refractive index layer or the middle refractive index layer, the filtration is an intermediate solution to which all materials other than the translucent particles are added. It is preferable to carry out with respect to. In addition, when a filter capable of removing foreign substances having a small particle diameter as described above is not available, almost all foreign substances corresponding to the wet film thickness (about 1 to 10 μm) of the layer directly formed thereon are removed. It is preferable to perform filtration. By such means, the point defects of the layer formed directly thereon can be reduced.

[塗布・乾燥]
次に、ハードコート層等、直接支持体上の塗布する層を形成するための塗布液を、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法(米国特許2681294号明細書参照)により透明支持体上に塗布し、乾燥風等で加熱・乾燥する。その後、光照射および/または加熱して、硬化する。これによりハードコート層等が形成される。
ここで、必要であればハードコート層を複数層とすることができる。
次に、同様にして低屈折率層を形成するための塗布液をハードコート層上に塗布し、溶剤を乾燥した後に光照射および/または加熱し低屈折率層が形成される。このようにして、本発明の反射防止フィルムが得られる。
[Coating / Drying]
Next, a coating solution for directly forming a layer to be applied on a support such as a hard coat layer, a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method They are coated on a transparent support by a micro gravure coating method or an extrusion coating method (see US Pat. No. 2,681,294), and heated and dried with a drying air or the like. Thereafter, it is cured by light irradiation and / or heating. Thereby, a hard coat layer or the like is formed.
Here, a plurality of hard coat layers can be formed if necessary.
Next, in the same manner, a coating liquid for forming a low refractive index layer is applied onto the hard coat layer, and after drying the solvent, light irradiation and / or heating is performed to form the low refractive index layer. In this way, the antireflection film of the present invention is obtained.

ハードコート層を形成する際には、基材フィルム上に直接又は他の層を介してウエット塗布膜厚として6〜30μmの範囲で前記塗液を塗布するのが好ましい。また、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層を形成する際には、ハードコート層上に直接、或いは他の層を介してウエット塗布膜厚として1〜10μmの範囲で塗布組成物を塗布するのが好ましく、2〜5μmの範囲で塗布されるのがより好ましい。   When forming the hard coat layer, it is preferable to apply the coating solution on the base film directly or via another layer in the range of 6 to 30 μm as the wet coating thickness. When forming a low refractive index layer, a medium refractive index layer, or a high refractive index layer, the coating composition is in the range of 1 to 10 μm as the wet coating thickness directly on the hard coat layer or via another layer. It is preferable to apply | coat a thing, and it is more preferable to apply | coat in the range of 2-5 micrometers.

ハードコート層および低屈折率層は、基材フィルム上に直接又は他の層を介して塗布された後、溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送される。その際の乾燥ゾーンの温度は25℃〜140℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。但し、各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂と併用される市販の光ラジカル発生剤のなかには120℃の温風中で数分以内にその数10%前後が揮発してしまうものもあり、また、単官能、2官能のアクリレートモノマー等は100℃の温風中で揮発が進行するものもある。そのような場合には、前記のように各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。   The hard coat layer and the low refractive index layer are applied directly on the base film or via other layers, and then conveyed by a web to a heated zone to dry the solvent. In this case, the temperature of the drying zone is preferably 25 ° C. to 140 ° C., the first half of the drying zone is relatively low temperature, and the second half is preferably relatively high temperature. However, it is preferably below the temperature at which components other than the solvent contained in the coating composition of each layer start to volatilize. For example, some of the commercially available photo radical generators used in combination with ultraviolet curable resins volatilize around several tens of percent within a few minutes in warm air at 120 ° C. Some acrylate monomers and the like undergo volatilization in warm air at 100 ° C. In such a case, it is preferable that it is below the temperature at which components other than the solvent contained in the coating composition of each layer start to volatilize as described above.

また、各層の塗布組成物を基材フィルム上に塗布した後の乾燥風は、前記塗布組成物の固形分濃度が1〜50%の間は塗膜表面の風速が0.1〜2m/秒の範囲にあることが、乾燥ムラを防止するために好ましい。
また、各層の塗布組成物を基材フィルム上に塗布した後、乾燥ゾーン内で基材フィルムの塗布面とは反対の面に接触する搬送ロールと基材フィルムとの温度差が0℃〜20℃以内とすると、搬送ロール上での伝熱ムラによる乾燥ムラが防止でき、好ましい。
Moreover, the dry wind after apply | coating the coating composition of each layer on a base film is 0.1-2 m / sec on the surface of a coating film, when the solid content concentration of the said coating composition is 1 to 50%. It is preferable to be in the range in order to prevent drying unevenness.
Moreover, after apply | coating the coating composition of each layer on a base film, the temperature difference of the conveyance roll and base film which contacts the surface opposite to the coating surface of a base film in a drying zone is 0 degreeC-20. Within the range of ° C., drying unevenness due to heat transfer unevenness on the transport roll can be prevented, which is preferable.

[硬化]
次に、本発明のハードコート層、低屈折率層、必要に応じて形成する中屈折率層、高屈折率層の硬化手段について説明する。
本発明のハードコート層、低屈折率層、必要に応じて形成する中屈折率層、高屈折率層は、溶剤の乾燥ゾーンの後に、ウェブで電離放射線および/または熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化する。例えば紫外線で硬化する場合には、紫外線ランプにより10mJ/cm2〜1000mJ/cm2の照射量の紫外線を照射して各層を硬化するのが好ましい。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて50〜100%の分布が好ましく、80〜100%の分布がより好ましい。本発明において、電離放射線とは、通常用いられている意味で用いており、物質中を通過するときに励起やイオン化を引き起こす放射線、すなわち単に放射線とも呼んでいる粒子線及び電磁波を指しており、具体的にはα線、β線、γ線、高エネルギー粒子、中性子、電子線、光線(紫外線及び可視光線)などである。特に本発明に好ましい電離放射線は、紫外線及び可視光線である。
[Curing]
Next, the hard coat layer, the low refractive index layer, the medium refractive index layer and the high refractive index layer that are formed as necessary will be described.
The hard coat layer, the low refractive index layer, the intermediate refractive index layer and the high refractive index layer which are formed according to the present invention are cured by ionizing radiation and / or heat on the web after the solvent drying zone. Pass through the zone to be cured and cure the coating. For example, when curing by ultraviolet rays, it is preferable to cure each layer by irradiating an irradiation amount of ultraviolet rays of 10mJ / cm 2 ~1000mJ / cm 2 by an ultraviolet lamp. At that time, the irradiation distribution in the width direction of the web is preferably 50 to 100%, more preferably 80 to 100%, including both ends with respect to the central maximum irradiation. In the present invention, ionizing radiation is used in the commonly used meaning, and refers to radiation that causes excitation and ionization when passing through a substance, that is, particle radiation and electromagnetic waves that are also simply called radiation, Specifically, α rays, β rays, γ rays, high energy particles, neutrons, electron beams, light rays (ultraviolet rays and visible rays), and the like. Particularly preferred ionizing radiation for the present invention is ultraviolet rays and visible rays.

硬化時の酸素濃度は、15体積%以下が好ましく、より好ましくは1体積%以下であり、さらに好ましくは0.3体積%以下である。硬化時の酸素濃度が15体積%を超えると、本発明の各層の溶剤乾燥後の膜厚が0.1μm〜数十μm程度と薄い(体積あたりの表面積が大きい)等の理由から、酸素によるラジカルの失活が顕著となり、その結果、硬化後の膜の耐擦傷性、具体的には後述する耐擦傷性が致命的に劣ってしまう、上層を塗布した際に表面が一部膨潤、または溶解してしまうために界面混合が起こり、反射特性が悪化してしまう、等の問題が起こる。
硬化時の酸素濃度を上記のように制御するためには、窒素ガス等をパージして酸素濃度を低下するのが好ましい。
The oxygen concentration at the time of curing is preferably 15% by volume or less, more preferably 1% by volume or less, and still more preferably 0.3% by volume or less. When the oxygen concentration at the time of curing exceeds 15% by volume, the film thickness after solvent drying of each layer of the present invention is as thin as about 0.1 μm to several tens μm (the surface area per volume is large). Inactivation of radicals becomes prominent, and as a result, the scratch resistance of the cured film, specifically, the scratch resistance described later is fatally inferior, the surface partially swells when the upper layer is applied, or Since it dissolves, interfacial mixing occurs, causing problems such as deterioration in reflection characteristics.
In order to control the oxygen concentration at the time of curing as described above, it is preferable to reduce the oxygen concentration by purging nitrogen gas or the like.

また、ハードコート層の硬化率(100−残存官能基含率)が100%未満のある値となった場合、その上に本発明の低屈折率層を設けて電離放射線および/または熱により低屈折率層を硬化した際に下層のハードコート層の硬化率が低屈折率層を設ける前よりも高くなると、ハードコート層と低屈折率層との間の密着性が改良され、好ましい。   Further, when the hard coat layer has a curing rate (100-residual functional group content) of a value of less than 100%, the low refractive index layer of the present invention is provided on the hard coat layer to reduce it by ionizing radiation and / or heat. When the refractive index layer is cured, it is preferable that the lower hard coat layer has a higher curing rate than before the low refractive index layer is provided, because the adhesion between the hard coat layer and the low refractive index layer is improved.

前記のようにして製造された本発明の反射防止フィルムは、これを用いて偏光板を作成することにより液晶表示装置に用いることができる。この場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。本発明の反射防止フィルムは、偏光板における偏光膜を両面から挟む2枚の保護フィルムのうち少なくとも1枚に用いることが好ましい。本発明の反射防止フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の反射防止フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐擦傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。   The antireflection film of the present invention produced as described above can be used for a liquid crystal display device by making a polarizing plate using the antireflection film. In this case, it arrange | positions on the outermost surface of a display by providing an adhesive layer on one side. The antireflection film of the present invention is preferably used for at least one of the two protective films sandwiching the polarizing film in the polarizing plate from both sides. Since the antireflection film of the present invention also serves as a protective film, the production cost of the polarizing plate can be reduced. Further, by using the antireflection film of the present invention as the outermost layer, reflection of external light and the like can be prevented, and a polarizing plate having excellent scratch resistance, antifouling property and the like can be obtained.

本発明の反射防止フィルムを2枚の偏光膜の表面保護フイルムの内の一方として用いて偏光板を作成する際には、前記の反射防止フィルムを、反射防止構造を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。   When producing a polarizing plate using the antireflection film of the present invention as one of the surface protective films of two polarizing films, the antireflection film is on the side opposite to the side having the antireflection structure. It is preferable to improve the adhesion on the adhesive surface by hydrophilizing the surface of the transparent support, that is, the surface to be bonded to the polarizing film.

[鹸化処理]
(1)アルカリ液に浸漬する法
アルカリ液の中に反射防止フィルムを適切な条件で浸漬して、フイルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は0.5〜3規定であり、特に好ましくは1〜2規定である。好ましいアルカリ液の液温は30〜75℃、特に好ましくは40〜60℃である。
前記の鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、反射防止フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
[Saponification]
(1) Method of immersing in alkaline solution This is a technique in which an antireflection film is immersed in an alkaline solution under appropriate conditions to saponify all surfaces reactive with alkali on the entire surface of the film. Is preferable from the viewpoint of cost. The alkaline liquid is preferably a sodium hydroxide aqueous solution. A preferred concentration is 0.5 to 3 N, particularly preferably 1 to 2 N. The liquid temperature of a preferable alkali liquid is 30-75 degreeC, Most preferably, it is 40-60 degreeC.
The combination of the saponification conditions is preferably a combination of relatively mild conditions, but can be set depending on the material and configuration of the antireflection film and the target contact angle.
After being immersed in the alkaline solution, it is preferable to sufficiently wash with water or neutralize the alkaline component by immersing in a dilute acid so that the alkaline component does not remain in the film.

鹸化処理することにより、透明支持体の反射防止層を有する表面と反対の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に低屈折率層を有する表面から内部のハードコート層までアルカリによるダメージを受ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる反射防止層の受けるダメージの指標として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは10度〜50度、より好ましくは30度〜50度、さらに好ましくは40度〜50度となる。50度以上では、偏光膜との接着性に問題が生じる為、好ましくない。一方、10度未満では、反射防止膜の受けるダメージが大きすぎる為、物理強度を損ない、好ましくない。
By saponification treatment, the surface of the transparent support opposite to the surface having the antireflection layer is hydrophilized. The protective film for polarizing plate is used by adhering the hydrophilic surface of the transparent support to the polarizing film.
The hydrophilized surface is effective for improving the adhesiveness with the adhesive layer mainly composed of polyvinyl alcohol.
In the saponification treatment, the lower the contact angle with water on the surface of the transparent support opposite to the side having the low refractive index layer, the better from the viewpoint of adhesion to the polarizing film, while the dipping method simultaneously reduces the low refractive index. Since it is damaged by alkali from the surface having the rate layer to the internal hard coat layer, it is important to set the reaction conditions to the minimum necessary. As an index of the damage received by the antireflection layer due to alkali, when the contact angle to water of the transparent support on the opposite surface is used, particularly when the transparent support is triacetylcellulose, preferably 10 to 50 degrees, More preferably, it is 30 to 50 degrees, and further preferably 40 to 50 degrees. If it is 50 degrees or more, a problem arises in the adhesion to the polarizing film, which is not preferable. On the other hand, if the angle is less than 10 degrees, the damage received by the antireflection film is too large, so that the physical strength is impaired, which is not preferable.

(2)アルカリ液を塗布する方法
上述の浸漬法における反射防止膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でア
ルカリ液を反射防止膜を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることも含む。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では(1)の浸漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。
(2) Method of applying alkaline solution As a means for avoiding damage to the antireflection film in the above immersion method, the alkaline solution is applied only to the surface opposite to the surface having the antireflection film under appropriate conditions, heated, An alkaline solution coating method of washing with water and drying is preferably used. The application in this case means that an alkaline solution or the like is brought into contact only with the surface to be saponified, and in addition to the application, it may be carried out by spraying or contacting a belt containing the solution. Including. By adopting these methods, a separate facility and process for applying an alkaline solution are required, which is inferior to the immersion method (1) from the viewpoint of cost. On the other hand, since the alkali solution contacts only the surface to be saponified, the opposite surface can have a layer using a material that is weak against the alkali solution. For example, vapor deposition films and sol-gel films have various effects such as corrosion, dissolution, peeling, etc. caused by alkaline liquids. Is possible.

前記(1)、(2)のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、前述の反射防止フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行っても良い。さらに、同様に巻き出した支持体からなる偏光板との張り合わせ工程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率良く偏光板を作成することができる。   In any of the saponification methods (1) and (2), since each layer can be formed by unwinding from a roll-shaped support, a series of operations can be performed in addition to the above-described antireflection film manufacturing process. You can go. Furthermore, the polarizing plate can be produced more efficiently than the same operation with a single wafer by continuously performing the pasting step with the polarizing plate made of the unwound support.

(3)反射防止膜をラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
前記(2)と同様に、ハードコート層および/または低屈折率層がアルカリ液に対する耐性が不足している場合に、低屈折率層まで形成した後に低屈折率層を形成した面にラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで低屈折率層を形成した面とは反対側のセルロースアシレート面だけを親水化し、然る後にラミネートフィルムを剥離することができる。この方法でも、ハードコート層、低屈折率層へのダメージなしに偏光板保護フィルムとして必要なだけの親水化処理をセルロースアシレートの反射防止層を形成した面とは反対の面だけに施すことができる。前記(2)の方法と比較して、ラミネートフィルムが廃棄物として発生する半面、特別なアルカリ液を塗布する装置が不要である利点がある。
(3) Method of saponification by protecting the antireflection film with a laminate film As in the case of (2) above, when the hard coat layer and / or the low refractive index layer has insufficient resistance to an alkaline solution, the low refractive index After laminating the laminated film on the surface on which the low refractive index layer is formed after forming the layer, the cellulose acylate surface opposite to the surface on which the low refractive index layer is formed is hydrophilized by immersing in an alkali solution, Thereafter, the laminate film can be peeled off. Even in this method, only the surface opposite to the surface on which the cellulose acylate antireflection layer is formed is subjected to the hydrophilic treatment necessary as a polarizing plate protective film without damaging the hard coat layer and the low refractive index layer. Can do. Compared with the method (2), there is an advantage that a laminate film is generated as waste, but a device for applying a special alkaline solution is unnecessary.

(4)ハードコート層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
ハードコート層まではアルカリ液に対する耐性があるが、低屈折率層がアルカリ液に対する耐性不足である場合には、ハードコート層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後にハードコート層上に低屈折率層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、特に低屈折率層がフッ素含有ゾル−ゲル膜等、親水基を有する場合にはハードコート層と低屈折率層との層間密着性が向上する利点がある。
(4) Method of immersing in alkali solution after forming up to hard coat layer Up to hard coat layer is resistant to alkaline solution, but if the low refractive index layer is insufficient in resistance to alkaline solution, after forming up to hard coat layer It is also possible to soak both surfaces in an alkali solution to hydrophilize both surfaces, and then form a low refractive index layer on the hard coat layer. Although the manufacturing process is complicated, there is an advantage that the interlayer adhesion between the hard coat layer and the low refractive index layer is improved particularly when the low refractive index layer has a hydrophilic group such as a fluorine-containing sol-gel film.

(5)予め鹸化済のセルロースアシレートに反射防止膜を形成する方法
セルロースアシレートを予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に直接または他の層を介してハードコート層、低屈折率層を形成してもよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、ハードコート層または他の層と鹸化により親水化されたセルロースアシレート面との層間密着性が悪化することがある。そのような場合には、鹸化後、ハードコート層または他の層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処理をすることで親水化面を除去してからハードコート層または他の層を形成することで対処できる。また、ハードコート層または他の層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。
(5) Method of forming an antireflection film on cellulose acylate that has been saponified in advance Cellulose acylate has been saponified, for example, by immersing it in an alkali solution in advance, and either one of the surfaces is hard-coated directly or via another layer A layer or a low refractive index layer may be formed. When saponifying by immersing in an alkaline solution, interlayer adhesion between the hard coat layer or other layers and the cellulose acylate surface hydrophilized by saponification may deteriorate. In such a case, after saponification, only the surface on which the hard coat layer or other layer is formed is treated with corona discharge, glow discharge or the like to remove the hydrophilic surface, and then the hard coat layer or other layer. It can be dealt with by forming. Further, when the hard coat layer or other layer has a hydrophilic group, the interlayer adhesion may be good.

以下に、本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板及び該偏光板を用いた液晶表示装置について説明する。
[偏光板]
本発明の好ましい偏光板は、偏光膜の保護フィルム(偏光板用保護フィルム)の少なくとも一方として、本発明の反射防止フィルムを有する。偏光板用保護フィルムは、前記のように、反射防止構造を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が10度〜50度の範囲にあることが好ましい。
本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、耐光性に優れた反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
また、本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、後述する光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、さらに、液晶表示装置の明室でのコントラストを改良し、上下左右の視野角が非常に広げることができる偏光板を作製できる。
Below, the polarizing plate using the antireflection film of this invention and the liquid crystal display device using this polarizing plate are demonstrated.
[Polarizer]
The preferable polarizing plate of this invention has the antireflection film of this invention as at least one of the protective film (protective film for polarizing plates) of a polarizing film. As described above, the polarizing plate protective film has a contact angle with water of 10 to 50 degrees on the surface of the transparent support opposite to the side having the antireflection structure, that is, the surface to be bonded to the polarizing film. It is preferable to be in the range.
By using the antireflection film of the present invention as a protective film for a polarizing plate, a polarizing plate having an antireflection function excellent in physical strength and light resistance can be produced, and the cost can be greatly reduced and the display device can be thinned. .
Further, by preparing a polarizing plate using the antireflection film of the present invention as one of the protective films for polarizing plates and an optical compensation film having optical anisotropy described later as the other protective film of the polarizing film, Thus, a polarizing plate capable of improving the contrast in the bright room of the liquid crystal display device and greatly widening the vertical and horizontal viewing angles can be produced.

[光学補償層]
偏光板には光学補償層(位相差層)を設けることにより、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償層としては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開2001−100042号に記載されているディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方性を有する層を有し、該ディスコティック化合物と透明支持体とのなす角度が透明支持体からの距離に伴って変化していることを特徴とする光学補償層が好ましい。
該角度は光学異方性層の透明支持体面側からの距離の増加とともに増加していることが好ましい。
光学補償層を偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、偏光膜と貼り合わせる側の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好ましい。
また、光学異方性層が更にセルロースエステルを含んでいる態様、光学異方性層と透明支持体との間に配向層が形成されている態様、該光学異方性層を有する光学補償層の透明支持体が、光学的に負の一軸性を有し、且つ該透明支持体面の法線方向に光軸を有し、更に下記の条件を満足する態様も好ましい。
[Optical compensation layer]
By providing the polarizing plate with an optical compensation layer (retardation layer), the viewing angle characteristics of the liquid crystal display screen can be improved.
A known layer can be used as the optical compensation layer, but it has optical anisotropy made of a compound having a discotic structural unit described in JP-A-2001-100042 in terms of widening the viewing angle. An optical compensation layer having a layer, wherein the angle formed by the discotic compound and the transparent support varies with the distance from the transparent support, is preferable.
The angle preferably increases as the distance from the transparent support surface side of the optically anisotropic layer increases.
When the optical compensation layer is used as a protective film for a polarizing film, the surface on the side to be bonded to the polarizing film is preferably saponified, and is preferably performed according to the saponifying process.
Further, an aspect in which the optically anisotropic layer further contains a cellulose ester, an aspect in which an alignment layer is formed between the optically anisotropic layer and the transparent support, and an optical compensation layer having the optically anisotropic layer It is also preferable that the transparent support has an optically negative uniaxial property, has an optical axis in the normal direction of the transparent support surface, and further satisfies the following conditions.

20 < [{(nx+ny)/2}−nz]×d < 400       20 <[{(nx + ny) / 2} -nz] × d <400

前記の条件式において、nxは、層面内の遅相軸方向(屈折率が最大となる方向)の屈折率、nyは、層面内の進相軸方向(屈折率が最小となる方向)の屈折率、nzは、層の厚み方向の屈折率であり、またdは光学補償層の厚みを表す。   In the above conditional expression, nx is the refractive index in the slow axis direction (direction in which the refractive index is maximum) in the layer surface, and ny is the refraction in the fast axis direction (direction in which the refractive index is minimum) in the layer surface. The ratio, nz, is the refractive index in the thickness direction of the layer, and d represents the thickness of the optical compensation layer.

[偏光膜]
偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に1.1〜20.0倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が3%以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、20〜70゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に45°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
[Polarizing film]
As the polarizing film, a known polarizing film or a polarizing film cut out from a long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction may be used. A long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction is produced by the following method.
That is, with a polarizing film stretched by applying tension while holding both ends of a continuously supplied polymer film by a holding means, stretched at least 1.1 to 20.0 times in the film width direction, The progress of the film is such that the difference between the moving speeds in the longitudinal direction of the holding device is within 3%, and the angle formed between the moving direction of the film at the exit of the process of holding both ends of the film and the substantial stretching direction of the film is inclined by 20 to 70 °. It can be produced by a stretching method in which the direction is bent while holding both ends of the film. In particular, those inclined by 45 ° are preferably used from the viewpoint of productivity.

ポリマーフィルムの延伸方法については、特開2002−86554号公報の段落0020〜0030に詳しい記載がある。   The method for stretching the polymer film is described in detail in paragraphs 0020 to 0030 of JP-A-2002-86554.

[液晶表示装置]
本発明の反射防止フィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置に適用することができる。本発明の反射防止フィルムは透明支持体を有しているので、透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して用いられる。
[Liquid Crystal Display]
The antireflection film of the present invention can be applied to an image display device such as a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), or a cathode ray tube display device (CRT). Since the antireflection film of the present invention has a transparent support, the transparent support side is adhered to the image display surface of the image display device.

本発明の反射防止フィルムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル(OCB)等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。   The antireflection film of the present invention, when used as one side of the surface protective film of the polarizing film, is twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching (IPS), optical It can be preferably used for a transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display device of a mode such as a curry compensate bend cell (OCB).

VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(MVAモードの)液晶セル(SID97、Digest of tech. Papers(予稿集)28(1997)845記載)、(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)記載)および(4)SURVAIVALモードの液晶セル(LCDインターナショナル98で発表)が含まれる。   The VA mode liquid crystal cell includes (1) a narrowly defined VA mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied, and substantially horizontally when a voltage is applied (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 2-). (2) In addition to (2) Liquid crystal cell (SID97, Digest of tech. Papers (Preliminary Collection) 28 (1997) 845 in which the VA mode is converted into a multi-domain (MVA mode) for viewing angle expansion ), (3) A liquid crystal cell in a mode (n-ASM mode) in which rod-like liquid crystalline molecules are substantially vertically aligned when no voltage is applied and twisted multi-domain alignment is applied when a voltage is applied (Preliminary collections 58-59 of the Japan Liquid Crystal Society) (1998)) and (4) SURVAVAL mode liquid crystal cells (announced at LCD International 98).

OCBモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許4583825号、同5410422号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。   The OCB mode liquid crystal cell is a liquid crystal display device using a bend alignment mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned in a substantially opposite direction (symmetrically) between the upper part and the lower part of the liquid crystal cell. It is disclosed in the specifications of Japanese Patent Nos. 45882525 and 5410422. Since the rod-like liquid crystal molecules are symmetrically aligned at the upper and lower portions of the liquid crystal cell, the bend alignment mode liquid crystal cell has a self-optical compensation function. Therefore, this liquid crystal mode is also called an OCB (Optically Compensatory Bend) liquid crystal mode. The bend alignment mode liquid crystal display device has an advantage of high response speed.

ECBモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向しており、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。例えば「EL、PDP、LCDディスプレイ」東レリサーチセンター発行(2001)などに記載されている。   In an ECB mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystal molecules are substantially horizontally aligned when no voltage is applied, and is most frequently used as a color TFT liquid crystal display device, and is described in many documents. For example, it is described in “EL, PDP, LCD display” published by Toray Research Center (2001).

特にTNモードやIPSモードの液晶表示装置に対しては、特開2001−100043等に記載されているように、視野角拡大効果を有する光学補償フィルムを偏光膜の裏表2枚の保護フィルムの内の本発明の反射防止フィルムとは反対側の面に用いることにより、1枚の偏光板の厚みで反射防止効果と視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができ、特に好ましい。   In particular, for TN mode and IPS mode liquid crystal display devices, as described in JP-A-2001-100043, an optical compensation film having a viewing angle widening effect is included in the two protective films on the back and front of the polarizing film. By using it on the surface opposite to the antireflection film of the present invention, a polarizing plate having an antireflection effect and a viewing angle expansion effect can be obtained with the thickness of one polarizing plate, which is particularly preferable.

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「%」は質量基準である。   In order to describe the present invention in detail, examples will be described below, but the present invention is not limited thereto. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.

(パーフルオロオレフィン共重合体(1)の合成) (Synthesis of perfluoroolefin copolymer (1))

Figure 2005275391
Figure 2005275391

内容量100mlのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル40ml、ヒドロキシエチルビニルエーテル14.7gおよび過酸化ジラウロイル0.55gを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン(HFP)25gをオートクレーブ中に導入して65℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が65℃に達した時点の圧力は5.4kg/cm2であった。該温度を保持し8時間反応を続け、圧力が3.2kg/cm2に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから2回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー28gを得た。次に該ポリマーの20gをN,N-ジメチルアセトアミド100mlに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド11.4gを滴下した後、室温で10時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体(1)を19g得た。得られたポリマーの屈折率は1.421であった。 Into a stainless steel autoclave with a stirrer of 100 ml, 40 ml of ethyl acetate, 14.7 g of hydroxyethyl vinyl ether and 0.55 g of dilauroyl peroxide were charged, and the inside of the system was deaerated and replaced with nitrogen gas. Furthermore, 25 g of hexafluoropropylene (HFP) was introduced into the autoclave and the temperature was raised to 65 ° C. The pressure when the temperature in the autoclave reached 65 ° C. was 5.4 kg / cm 2 . The reaction was continued for 8 hours while maintaining the temperature, and when the pressure reached 3.2 kg / cm 2 , the heating was stopped and the mixture was allowed to cool. When the internal temperature dropped to room temperature, unreacted monomers were driven out, the autoclave was opened, and the reaction solution was taken out. The obtained reaction solution was poured into a large excess of hexane, and the polymer was precipitated by removing the solvent by decantation. Further, this polymer was dissolved in a small amount of ethyl acetate and reprecipitated twice from hexane to completely remove the residual monomer. After drying, 28 g of polymer was obtained. Next, 20 g of the polymer was dissolved in 100 ml of N, N-dimethylacetamide, and 11.4 g of acrylic acid chloride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 10 hours. Ethyl acetate was added to the reaction solution, washed with water, the organic layer was extracted and concentrated, and the resulting polymer was reprecipitated with hexane to obtain 19 g of perfluoroolefin copolymer (1). The resulting polymer had a refractive index of 1.421.

(パーフルオロオレフィン共重合体(2)の合成)
上記パーフルオロオレフィン共重合体(1)の合成において、アクリル酸クロライドをメタクリル酸クロライドに変更した以外はパーフルオロオレフィン共重合体(1)の合成と同様にして、パーフルオロオレフィン共重合体(2)を合成した。
(Synthesis of perfluoroolefin copolymer (2))
In the synthesis of the perfluoroolefin copolymer (1), a perfluoroolefin copolymer (2) was prepared in the same manner as the synthesis of the perfluoroolefin copolymer (1) except that acrylic acid chloride was changed to methacrylic acid chloride. ) Was synthesized.

(オルガノシランゾル液の調製)
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業(株)製)100部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3部を加え混合したのち、イオン交換水30部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、オルガノシランゾル液を得た。質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
(Preparation of organosilane sol solution)
A stirrer, a reactor equipped with a reflux condenser, 120 parts of methyl ethyl ketone, 100 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed. After that, 30 parts of ion exchange water was added and reacted at 60 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature to obtain an organosilane sol solution. The mass average molecular weight was 1600, and among the components higher than the oligomer component, the component having a molecular weight of 1000 to 20000 was 100%. Further, from the gas chromatography analysis, the raw material acryloyloxypropyltrimethoxysilane did not remain at all.

(ハードコート層用塗布液Aの調製)
・KAYARAD DPCA−30、日本化薬(株)製
(部分カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、未変成物を含む、平均3(ユニット/1分子)付加) 100質量部
・KAYARAD DPHA、日本化薬(株)製 20質量部
・メチルエチルケトン 100質量部
・シクロヘキサノン 20質量部
・イルガキュア907、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製
3質量部
上記の混合物を、攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過した。
(Preparation of coating liquid A for hard coat layer)
・ KAYARAD DPCA-30, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (mixture of partially caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate, including unmodified product, average 3 (units per molecule) added) 100 parts by mass ・ KAYARAD DPHA, Nippon Kayaku 20 parts by mass, manufactured by Yakuhin Co., Ltd. • 100 parts by mass of methyl ethyl ketone • 20 parts by mass of cyclohexanone • Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals
3 parts by mass The above mixture was stirred and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 µm.

(ハードコート層用塗布液Bの調製)
・KAYARAD DPCA−20、日本化薬(株)製
(部分カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、未変成物を含む、平均2(ユニット/1分子)付加) 100質量部
・メチルエチルケトン 90質量部
・シクロヘキサノン 10質量部
・イルガキュア907、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製
3質量部
上記の混合物を、攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過した。
(Preparation of coating liquid B for hard coat layer)
・ KAYARAD DPCA-20, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (mixture of partially caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate, including unmodified product, average 2 (unit / molecule) addition) 100 parts by mass 10 parts by mass of cyclohexanone ・ Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
3 parts by mass The above mixture was stirred and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 µm.

(ハードコート層用塗布液Cの調製)
・ビスコート295、大阪有機化学(株)製
(トリメチロールプロパントリアクリレート) 100質量部
・ビスコート360、大阪有機化学(株)製
(部分エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、
平均3(ユニット/1分子)変性) 20質量部
・メチルエチルケトン 90質量部
・シクロヘキサノン 10質量部
・イルガキュア907、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製
5質量部
上記の混合物を、攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過した。
(Preparation of coating liquid C for hard coat layer)
-Biscoat 295, Osaka Organic Chemical Co., Ltd. (trimethylolpropane triacrylate) 100 parts by mass-Biscote 360, Osaka Organic Chemicals Co., Ltd. (partial ethylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate,
Average 3 (unit / 1 molecule) modification) 20 parts by mass • 90 parts by weight of methyl ethyl ketone • 10 parts by weight of cyclohexanone • Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals
5 parts by mass The above mixture was stirred and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm.

(ハードコート層用塗布液Dの調製)
・KAYARAD DPHA、日本化薬(株)製 100質量部
・メチルエチルケトン 90質量部
・シクロヘキサノン 10質量部
・イルガキュア907、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製
3質量部
上記の混合物を、攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過した。
(Preparation of coating liquid D for hard coat layer)
・ KAYARAD DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd. 100 mass parts ・ Methyl ethyl ketone 90 mass parts ・ Cyclohexanone 10 mass parts ・ Irgacure 907, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
3 parts by mass The above mixture was stirred and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 µm.

(ハードコート層用塗布液Eの調製)
・KAYARAD DPCA−20、日本化薬(株)製
(部分カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、未変成物を含む、平均2(ユニット/1分子)付加) 100質量部
・メチルエチルケトン 67質量部
・シクロヘキサノン 15質量部
・イルガキュアー184、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製
8質量部
・MEK−ST(屈折率1.47、平均粒径15nmのシリカ超微粒子、日産化学(株)製)
103質量部
・KBM−5103(アクリロイル基含有オルガノシラン、信越化学(株)製)
15質量部
上記の混合物を、攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過した。
(Preparation of coating solution E for hard coat layer)
-KAYARAD DPCA-20, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (addition of partial caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate, including unmodified product, average 2 (units per molecule) addition) 100 parts by mass Cyclohexanone 15 parts by mass ・ Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
8 parts by mass-MEK-ST (refractive index: 1.47, silica ultrafine particles with an average particle size of 15 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.)
103 parts by mass-KBM-5103 (acryloyl group-containing organosilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
15 parts by mass The above mixture was stirred and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm.

(二酸化チタン微粒子分散液の調製)
・MPT−129C、石原産業(株)製(TiO2:Co34:Al23
ZrO2=90.5:3.0:4.0:0.5質量比) 257.1質量部
・下記分散剤 38.6質量部
・シクロヘキサノン 704.3質量部
上記の混合物を、ダイノミルにより質量平均径70nmになるまで分散した。
(Preparation of titanium dioxide fine particle dispersion)
MPT-129C, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. (TiO 2 : Co 3 O 4 : Al 2 O 3 :
ZrO 2 = 90.5: 3.0: 4.0: 0.5 mass ratio) 257.1 parts by mass • The following dispersant: 38.6 parts by mass • Cyclohexanone 704.3 parts by mass The above mixture was massed by dynomill. Dispersion was performed until the average diameter reached 70 nm.

Figure 2005275391
Figure 2005275391

(中屈折率層用塗布液の調製)
・上記の二酸化チタン分散液 88.9質量部
・KAYARAD DPHA、日本化薬(株)製 58.4質量部
・イルガキュア907、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製
3.1質量部
・カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製 1.1質量部
・メチルエチルケトン 482.4質量部
・シクロヘキサノン 1869.8質量部
上記の混合物を、攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過した。
(Preparation of coating solution for medium refractive index layer)
-Titanium dioxide dispersion 88.9 parts by mass-KAYARAD DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. 58.4 parts by mass-Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
3.1 parts by mass-Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. 1.1 parts by mass-Methyl ethyl ketone 482.4 parts by mass-Cyclohexanone 1869.8 parts by mass After stirring the above mixture, polypropylene having a pore size of 0.4 µm It filtered with the filter made from.

(高屈折率層用塗布液の調製)
・上記の二酸化チタン分散液 586.8質量部
・KAYARAD DPHA、日本化薬(株)製 47.9質量部
・イルガキュア907、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製
4.0質量部
・カヤキュア−DETX、日本化薬(株)製 1.3質量部
・メチルエチルケトン 455.8質量部
・シクロヘキサノン 1427.8質量部
上記の混合物を、攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過した。
(Preparation of coating solution for high refractive index layer)
・ 586.8 parts by mass of the above titanium dioxide dispersion ・ KAYARAD DPHA, 47.9 parts by mass manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. ・ Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
4.0 parts by mass ・ Kayacure-DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. 1.3 parts by mass ・ Methyl ethyl ketone 455.8 parts by mass ・ Cyclohexanone 1427.8 parts by mass It filtered with the filter made from a polypropylene.

(中空シリカ分散液の調製)
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業(株)製CS60−IPA、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20%、シリカ粒子の屈折率1.31)500部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株)製、KBM−5103)30部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水を9部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加し、中空シリカ分散液を得た。得られた中空シリカ分散液の固形分濃度は18質量%、溶剤乾燥後の屈折率は1.31であった。
(Preparation of hollow silica dispersion)
Hollow silica fine particle sol (Isopropyl alcohol silica sol, CS60-IPA manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd., average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20%, silica particle refractive index 1.31) in 500 parts, acryloyloxypropyl After adding 30 parts of trimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM-5103) and 1.5 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetate, 9 parts of ion-exchanged water were added. After reacting at 60 ° C. for 8 hours, the mixture was cooled to room temperature, and 1.8 parts of acetylacetone was added to obtain a hollow silica dispersion. The resulting hollow silica dispersion had a solid content concentration of 18% by mass and a refractive index after solvent drying of 1.31.

(低屈折率層用塗布液Aの調整)
・KAYARAD DPHA、日本化薬(株)製 1.4質量部
・パーフルオロオレフィン共重合体(1) 5.6質量部
・中空シリカ分散液 20.0質量部
・RMS−033(反応性シリコーン、Gelest(株)製)
0.7質量部
・イルガキュア907、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製
0.2質量部
・オルガノシランゾル液 6.2質量部
・MEK 305.9質量部
・シクロヘキサノン 10.0質量部
上記の混合物を、攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過した。
(Adjustment of coating solution A for low refractive index layer)
-KAYARAD DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd. 1.4 mass parts-Perfluoroolefin copolymer (1) 5.6 mass parts-Hollow silica dispersion 20.0 mass parts-RMS-033 (reactive silicone, (Gelest Co., Ltd.)
0.7 parts by mass ・ Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
0.2 parts by mass-Organosilane sol solution 6.2 parts by mass-MEK 305.9 parts by mass-Cyclohexanone 10.0 parts by mass The above mixture was stirred and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 µm.

(低屈折率層用塗布液Bの調整)
・KAYARAD DPHA、日本化薬(株)製 1.4質量部
・パーフルオロオレフィン共重合体(2) 5.6質量部
・中空シリカ分散液 20.0質量部
・RMS−033(反応性シリコーン、Gelest(株)製)
0.7質量部
・イルガキュア907、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製
0.2質量部
・オルガノシランゾル液 6.2質量部
・MEK 305.9質量部
・シクロヘキサノン 10.0質量部
上記の混合物を、攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過した。
(Adjustment of coating liquid B for low refractive index layer)
-KAYARAD DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd. 1.4 mass parts-Perfluoroolefin copolymer (2) 5.6 mass parts-Hollow silica dispersion 20.0 mass parts-RMS-033 (reactive silicone, (Gelest Co., Ltd.)
0.7 parts by mass ・ Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
0.2 parts by mass-Organosilane sol solution 6.2 parts by mass-MEK 305.9 parts by mass-Cyclohexanone 10.0 parts by mass The above mixture was stirred and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 µm.

(低屈折率層用塗布液Cの調整)
・KAYARAD DPHA、日本化薬(株)製 3.6質量部
・中空シリカ分散液 40.0質量部
・RMS−033(反応性シリコーン、Gelest(株)製)
0.7質量部
・イルガキュア907、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製
0.2質量部
・オルガノシランゾル液 8.0質量部
・MEK 276.0質量部
・シクロヘキサノン 8.2質量部
上記の混合物を、攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過した。
(Adjustment of coating liquid C for low refractive index layer)
-KAYARAD DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. 3.6 parts by mass-Hollow silica dispersion 40.0 parts by mass-RMS-033 (reactive silicone, manufactured by Gelest Co., Ltd.)
0.7 parts by mass ・ Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
0.2 parts by mass-Organosilane sol solution 8.0 parts by mass-MEK 276.0 parts by mass-Cyclohexanone 8.2 parts by mass The above mixture was stirred and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 µm.

(低屈折率層用塗布液Dの調整)
・パーフルオロオレフィン共重合体(1) 10.0質量部
・X-22−164C(信越化学(株)製) 0.3質量部
・イルガキュア907、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製
0.5質量部
・MEK 232.8質量部
・シクロヘキサノン 7.2質量部
上記の混合物を、攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過した。
(Adjustment of coating liquid D for low refractive index layer)
-Perfluoroolefin copolymer (1) 10.0 parts by mass-X-22-164C (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.3 parts by mass-Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
0.5 parts by mass-MEK 232.8 parts by mass-Cyclohexanone 7.2 parts by mass The above mixture was stirred and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 µm.

(低屈折率層用塗布液Eの調整)
イルガキュア907、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製0.2質量部を上記例示化合物(I−21、下記構造式)0.2質量部に置き換えた以外は上記低屈折率層用塗布液Aと同様にして、低屈折率層用塗布液Eを調整した。
(Adjustment of coating liquid E for low refractive index layer)
Irgacure 907, the same as the coating solution A for low refractive index layer, except that 0.2 parts by mass of Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. was replaced with 0.2 parts by mass of the exemplified compound (I-21, the following structural formula). Thus, a coating solution E for a low refractive index layer was prepared.

Figure 2005275391
Figure 2005275391

[実施例1]
(1)ハードコート(HC)層の塗設
80μmの厚さのトリアセチルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士写真フイルム(株)製)をロール形態で巻き出して、ハードコート層用塗布液Aを線数80本/インチ、深度40μmのグラビアパターンを有する直径50mmのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数60rpm、搬送速度20m/分の条件で塗布し、60℃の乾燥風を風速0.1m/秒〜2m/秒に乾燥ゾーンの前半から後半にいく程速い風速で、トータル150秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度200mW/cm2、照射量120mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、屈折率1.51、厚さ8.5μmのハードコート層を形成し、巻き取った。
[Example 1]
(1) Coating of hard coat (HC) layer A triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm is unwound in a roll form, and coating liquid A for hard coat layer is obtained. Using a micro gravure roll with a diameter of 50 mm and a doctor blade having a gravure pattern of 80 lines / inch and a depth of 40 μm, a gravure roll is applied at a rotational speed of 60 rpm and a conveying speed of 20 m / min. An air-cooled metal halide lamp (air graphics Co., Ltd.) with a wind speed of 0.1 m / sec to 2 m / sec. Ltd.) using illuminance 200 mW / cm 2, and an irradiation dose of 120 mJ / cm 2 to cure the coating layer, Oriritsu 1.51, to form a hard coat layer having a thickness of 8.5 .mu.m, was wound.

(2)低屈折率層の塗設
上記ハードコート層を塗設したトリアセチルセルロースフイルムを再び巻き出して、前記低屈折率層用塗布液Aを線数180本/インチ、深度40μmのグラビアパターンを有する直径50mmのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数30rpm、搬送速度15m/分の条件で塗布し、90℃で150秒乾燥の後、窒素パージ下で酸素濃度0.1体積%の雰囲気中で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量900mJ/cm2の紫外線を照射して硬化し、屈折率1.43、厚さ100nmの低屈折率層を形成し、巻き取った。
(3)反射防止フィルムの鹸化処理
上記低屈折率層を塗設したフィルムについて、以下の処理を行った。
1.5mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、55℃に保温した。0.005mol/Lの希硫酸水溶液を調製し、35℃に保温した。作製した反射防止フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に2分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に1分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を120℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済み反射防止フィルムを作製した。これを実施例1試料1とする。
(2) Coating of low refractive index layer The triacetyl cellulose film coated with the hard coat layer is unwound again, and the coating liquid A for low refractive index layer is 180 lines / inch and a gravure pattern with a depth of 40 μm. Using a micro gravure roll having a diameter of 50 mm and a doctor blade, the coating was applied under the conditions of a gravure roll rotation speed of 30 rpm and a conveyance speed of 15 m / min, dried at 90 ° C. for 150 seconds, and an oxygen concentration of 0.1 under a nitrogen purge. Using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) in a volume% atmosphere, the composition is cured by irradiating with ultraviolet rays having an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 900 mJ / cm 2. A low refractive index layer having a thickness of 100 nm was formed and wound up.
(3) Saponification treatment of antireflection film The following treatment was performed on the film coated with the low refractive index layer.
A 1.5 mol / L aqueous sodium hydroxide solution was prepared and kept at 55 ° C. A 0.005 mol / L dilute sulfuric acid aqueous solution was prepared and kept at 35 ° C. The prepared antireflection film was immersed in the aqueous sodium hydroxide solution for 2 minutes, and then immersed in water to sufficiently wash away the aqueous sodium hydroxide solution. Subsequently, after being immersed in the dilute sulfuric acid aqueous solution for 1 minute, it was immersed in water to sufficiently wash away the dilute sulfuric acid aqueous solution. Finally, the sample was thoroughly dried at 120 ° C.
In this way, a saponified antireflection film was produced. This is designated as Example 1 Sample 1.

(反射防止フィルムの評価)
得られたフィルムについて、以下の項目の評価を行った。結果を表1に示す。
(Evaluation of antireflection film)
About the obtained film, the following items were evaluated. The results are shown in Table 1.

(1)平均反射率
分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における分光反射率を測定した。結果には450〜650nmの平均反射率を用いた。
(1) Average reflectance Using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation), the spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured in a wavelength region of 380 to 780 nm. The average reflectance of 450-650 nm was used for the result.

(2)スチールウール耐擦傷性評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなった。
評価環境条件:25℃、60%RH
こすり材:試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)にスチールウール(日本スチールウール(株)製、グレードNo.0000)を巻いて、動かないようバンド固定した。
移動距離(片道):13cm、こすり速度:13cm/秒、荷重:500g/cm2、先端部接触面積:1cm×1cm、こすり回数:10往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
非常に注意深く見ても、全く傷が見えない ◎
非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える ○
弱い傷が見える ○△
中程度の傷が見える △
一目見ただけで分かる傷がある △×〜×
(2) Evaluation of steel wool scratch resistance A rubbing test was performed using a rubbing tester under the following conditions.
Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 60% RH
Rub material: Steel wool (manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd., grade No. 0000) was wound around the rubbing tip (1 cm × 1 cm) of a tester that was in contact with the sample, and the band was fixed so as not to move.
Moving distance (one way): 13 cm, rubbing speed: 13 cm / sec, load: 500 g / cm 2 , tip contact area: 1 cm × 1 cm, rubbing frequency: 10 reciprocations.
An oil-based black ink was applied to the back side of the rubbed sample and visually observed with reflected light, and scratches on the rubbed portion were evaluated according to the following criteria.
Even if you look very carefully, you can not see any scratches ◎
If you look very carefully, you can see slightly weak scratches.
I see weak scratches ○ △
I see moderate scratches △
There are scratches that can be seen at first glance △ × 〜 ×

(3)鉛筆引掻き試験
JIS K−5600−5−4に準じて鉛筆硬度を評価した。
(4)消しゴムこすり耐性評価
ラビングテスターのこすり先端部に消しゴム(MONO、(株)トンボ鉛筆製)を固定し、平滑皿中で試料の上下をクリップで固定し、室温25℃で、消しゴムに250gの荷重をかけて(面圧:500g/cm)、こすり回数を変えてこすりテストを行った。こすり条件は以下のとおり。
こすり距離(片道):1cm、 こすり速度:約1往復/秒
こすり終えた試料を観察して、膜剥がれが起こった回数で、こすり耐性を以下のように評価した。
0〜10往復で膜剥がれ ×
10〜30往復で膜剥がれ ×△
30〜50往復で膜剥がれ △
50〜100往復で膜剥がれ ○△
100〜150往復で膜剥がれ ○
200往復でも膜剥がれなし ◎
(5)干渉ムラ
3波長蛍光管に散乱カバーを被せた散乱光源下で、反射防止フィルムの反射防止層の反対側の面に黒色フィルムを貼付けて裏面反射を無くした状態で反射防止層側から目視観察し、以下のように評価した。
強い干渉ムラが見える ×
やや強い干渉ムラが見える △×
僅かに見えるが、気にならない △
殆ど見えない ○
全く見えない ◎
(6)カール
反射防止フィルムを長手方向:500mm、幅方向:1340mm(原反と同一)にサンプリングし、平滑な台上に反射防止層側を上にして置いた時のカール状態を目視観察し、以下のように評価した。
カールが強く、ハンドリングに懸念あり ×
カールが強いが、ハンドリングに問題なし △
カールが弱く、ハンドリングに問題なし ○
(7)脆性
JIS K−5600−5−1に準じてマンドレル試験を実施し、以下のように評価した。
5mmでワレなし ◎
〜8mmまでワレなし ○
〜20mmまでワレなし △
25mm〜32mmでワレ発生 ×
(8)点欠陥
点光源下で、長さ1mのハードコート層塗布フィルムを100枚サンプリングし、それぞれについて、ハードコート層の反対側の面に黒色フィルムを貼付けて裏面反射を無くした状態でハードコート層側から目視観察によりカウントし、それらの平均値として1平方メートル当りの点欠陥の数を算出した。目視でカウントされた点欠陥を光学顕微鏡で観察したところ、全て大きさが50μm以上であった。
(3) Pencil scratch test Pencil hardness was evaluated according to JIS K-5600-5-4.
(4) Eraser rubbing resistance evaluation An eraser (MONO, manufactured by Dragonfly Pencil Co., Ltd.) is fixed to the rubbing tip of a rubbing tester, and the sample is fixed with clips on the top and bottom of a smooth dish. Was applied (surface pressure: 500 g / cm 2 ), and the rubbing test was performed by changing the number of rubbing. The rubbing conditions are as follows.
Rubbing distance (one way): 1 cm, rubbing speed: about 1 reciprocation / second The sample after rubbing was observed, and the rubbing resistance was evaluated as follows by the number of film peeling.
0-10 round trip film peeling ×
Film peeling after 10 to 30 round trips
30-50 reciprocating film peeling
50-100 reciprocating film peeling
100-150 round trip film peeling ○
No film peeling even after 200 round trips ◎
(5) Interference unevenness From the antireflection layer side in a state where a black film is pasted on the surface opposite to the antireflection layer of the antireflection film and the back surface reflection is eliminated under a scattering light source with a three-wavelength fluorescent tube covered with a scattering cover. Visual observation was made and the evaluation was as follows.
Strong interference unevenness is visible ×
Slightly strong interference unevenness is visible △ ×
Slightly visible but not bothering △
Almost invisible ○
Invisible at all ◎
(6) Curling The antireflection film was sampled in the longitudinal direction: 500 mm and the width direction: 1340 mm (same as the original fabric), and the curl state when the antireflection layer side was placed on a smooth table was visually observed. The evaluation was as follows.
Strong curl and concerns about handling ×
Strong curl but no problem with handling △
The curl is weak and there is no problem in handling ○
(7) Brittleness A mandrel test was performed according to JIS K-5600-5-1 and evaluated as follows.
No crack at 5mm ◎
No crack up to 8mm ○
No crack to ~ 20mm △
Cracking occurs between 25mm and 32mm ×
(8) Point defect Under a point light source, 100 hard coat layer coated films with a length of 1 m were sampled, and each was hard with a black film pasted on the opposite side of the hard coat layer to eliminate back reflection. Counting was performed by visual observation from the coat layer side, and the number of point defects per square meter was calculated as an average value thereof. When the point defects visually counted were observed with an optical microscope, they were all 50 μm or more in size.

[実施例1試料2、3、6〜14(本発明)4、5(比較例)]
表1の記載の通りに、実施例1試料1のハードコート層用塗布液および/あるいは低屈折率層用塗布液を変更した以外は、実施例1試料1と同様にして試料を作製し、評価した。結果を表1に示した。
[Example 1 Samples 2, 3, 6-14 (present invention) 4, 5 (comparative example)]
As described in Table 1, a sample was prepared in the same manner as in Example 1 Sample 1 except that the hard coat layer coating solution and / or the low refractive index layer coating solution of Example 1 Sample 1 were changed. evaluated. The results are shown in Table 1.

Figure 2005275391
Figure 2005275391

表1に示される結果より、以下のことが明らかである。
本発明のハードコート層を用いた試料は膜厚の厚い領域(7〜10μm)で反射防止層塗布後の耐擦傷性とカール、脆性のバランスがとれた反射防止フィルムが得られる。また、点欠陥も良好である。また、実施例12、13、および14の試料はスチールウール擦り、消しゴム擦りによる耐擦傷性が特に良好であった。また、実施例14から重合開始剤を例示化合物(I−1)〜(I−20)にそれぞれ置き換えたところ、実施例14と同様に耐擦傷性が特に良好であった。一方、比較例の試料は、上記膜厚の厚い領域ではカール、脆性に問題が生じ、膜厚の薄い領域においては点欠陥が増加してしまい、好ましくない。
以上のように、本発明により優れた反射防止特性と高い耐擦傷性を持つ反射防止膜が得られる。
From the results shown in Table 1, the following is clear.
In the sample using the hard coat layer of the present invention, an antireflection film having a balance between scratch resistance, curl and brittleness after application of the antireflection layer is obtained in a thick region (7 to 10 μm). Moreover, a point defect is also favorable. Further, the samples of Examples 12, 13, and 14 were particularly excellent in scratch resistance due to steel wool rubbing and eraser rubbing. Further, when the polymerization initiator was replaced with Exemplified compounds (I-1) to (I-20) from Example 14, scratch resistance was particularly good as in Example 14. On the other hand, the sample of the comparative example is not preferable because a problem of curling and brittleness occurs in the thick region, and point defects increase in the thin region.
As described above, an antireflection film having excellent antireflection properties and high scratch resistance can be obtained by the present invention.

[実施例2]
(1)ハードコート層/3層反射防止層の塗設、鹸化処理
膜厚80μmのトリアセチルセルロースフィルム(TDY80UF、富士オプトマテリアルズ(株)製)上に、実施例1試料1と同様のHC層を形成し、続いてその上に前記中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液Aを実施例1の低屈折率層と同様の塗布条件で塗布後、下表2の記載の条件にて溶剤の乾燥、UV照射により硬化することで、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層をこの順番に形成してハードコート層/3層反射防止層を形成したフィルムを得、実施例1と同様に鹸化処理することで、実施例2試料1を作製した。
[Example 2]
(1) Coating of hard coat layer / 3-layer antireflection layer, saponification treatment HC similar to sample 1 of Example 1 on a triacetyl cellulose film (TDY80UF, manufactured by Fuji Opto Materials Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm Then, the medium refractive index layer coating solution, the high refractive index layer coating solution, and the low refractive index layer coating solution A are applied thereon under the same coating conditions as those of the low refractive index layer. After coating, the medium refractive index layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer are formed in this order by drying the solvent under the conditions described in Table 2 below and curing by UV irradiation. Example 2 Sample 1 was prepared by obtaining a film on which an antireflection layer was formed and subjecting it to a saponification treatment in the same manner as in Example 1.

Figure 2005275391
Figure 2005275391

また、ハードコート層用の塗布液および層厚、低屈折率層用塗布液を表3に記載の通りとする以外は実施例2試料1と同様にして、実施例2試料2、3、6〜11(本発明)、試料4、5(比較例)を作製した。   In addition, Example 2 Samples 2, 3, 6 were the same as Example 2 Sample 1 except that the coating liquid for the hard coat layer, the layer thickness, and the coating liquid for the low refractive index layer were as shown in Table 3. To 11 (invention) and Samples 4 and 5 (comparative examples) were prepared.

Figure 2005275391
Figure 2005275391

表3に示される結果より、以下のことが明らかである。
本発明のハードコート層を用いた試料は膜厚の厚い領域(7〜10μm)で反射防止層塗布後の耐擦傷性とカール、脆性のバランスがとれた反射防止フィルムが得られる。また、点欠陥も良好である。一方、比較例の試料は、上記膜厚の厚い領域ではカール、脆性に問題が生じ、膜厚の薄い領域においては点欠陥が増加してしまい、好ましくない。
From the results shown in Table 3, the following is clear.
In the sample using the hard coat layer of the present invention, an antireflection film having a balance between scratch resistance, curl and brittleness after application of the antireflection layer is obtained in a thick region (7 to 10 μm). Moreover, a point defect is also favorable. On the other hand, the sample of the comparative example is not preferable because a problem of curling and brittleness occurs in the thick region, and point defects increase in the thin region.

[実施例3]
PVAフィルムをヨウ素2.0g/l、ヨウ化カリウム4.0g/lの水溶液に25℃にて240秒浸漬し、さらにホウ酸10g/lの水溶液に25℃にて60秒浸漬後、特開2002−86554号公報に記載の図2の形態のテンター延伸機に導入し、5.3倍に
延伸し、テンターを延伸方向に対し図2の如く屈曲させ、以降幅を一定に保った。80℃雰囲気で乾燥させた後テンターから離脱した。左右のテンタークリップの搬送速度差は、0.05%未満であり、導入されるフィルムの中心線と次工程に送られるフィルムの中心線のなす角は、46゜であった。ここで|L1−L2|は0.7m、Wは0.7mであり、|L1−L2|=Wの関係にあった。テンター出口における実質延伸方向Ax−Cxは、次工程へ送られるフィルムの中心線22に対し45゜傾斜していた。テンター出口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかった。
さらに、PVA((株)クラレ製PVA−117H)3%水溶液を接着剤としてケン化処理した富士写真フィルム(株)製セルローストリアセテートフィルム(TD80UL、レターデーション値3.0nm)と貼り合わせ、さらに80℃で乾燥して有効幅650mmの偏光板を得た。得られた偏光板の吸収軸方向は、長手方向に対し45゜傾斜していた。この偏光板の550nmにおける透過率は43.7%、偏光度は99.97%であった。さらに図2の如く310×233mmサイズに裁断したところ、91.5%の面積効率で辺に対し45゜吸収軸が傾斜した偏光板を得た。
次に、実施例1試料1、実施例2試料1(何れも鹸化処理済み)のフィルムを前記偏光板と貼り合わせて反射防止付き偏光板を作製した。この偏光板を用いて反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作製したところ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、優れた視認性を有していた。特に実施例2試料1のフィルムを用いた場合には、反射率が低い為コントラストに優れた表示装置が得られた。
[Example 3]
The PVA film was immersed in an aqueous solution of 2.0 g / l iodine and 4.0 g / l potassium iodide at 25 ° C. for 240 seconds, and further immersed in an aqueous solution of boric acid 10 g / l at 25 ° C. for 60 seconds. It introduced into the tenter drawing machine of the form of FIG. 2 described in 2002-86554, it extended | stretched 5.3 time, the tenter was bent like FIG. 2 with respect to the extending | stretching direction, and the width | variety was kept constant hereafter. After drying in an atmosphere of 80 ° C., it was detached from the tenter. The difference in transport speed between the left and right tenter clips was less than 0.05%, and the angle between the center line of the introduced film and the center line of the film sent to the next process was 46 °. Here, | L1-L2 | is 0.7 m, W is 0.7 m, and | L1-L2 | = W. The substantial stretching direction Ax-Cx at the tenter outlet was inclined by 45 ° with respect to the center line 22 of the film sent to the next process. Wrinkles and film deformation at the tenter exit were not observed.
Furthermore, it was bonded to a cellulose triacetate film (TD80UL, retardation value 3.0 nm) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., which had been saponified with an aqueous solution of PVA (manufactured by Kuraray Co., Ltd., PVA-117H) 3%, and further 80 A polarizing plate having an effective width of 650 mm was obtained by drying at ° C. The absorption axis direction of the obtained polarizing plate was inclined 45 ° with respect to the longitudinal direction. The polarizing plate had a transmittance at 550 nm of 43.7% and a polarization degree of 99.97%. Further, as shown in FIG. 2, when the substrate was cut into a size of 310 × 233 mm, a polarizing plate having an absorption efficiency of 91.5% and a 45 ° absorption axis inclined with respect to the side was obtained.
Next, the film of Example 1 Sample 1 and Example 2 Sample 1 (both saponified) was bonded to the polarizing plate to produce a polarizing plate with antireflection. When a liquid crystal display device having an antireflection layer disposed on the outermost layer using this polarizing plate was produced, excellent contrast was obtained because there was no reflection of external light, and excellent visibility was obtained. In particular, when the film of Sample 2 of Example 2 was used, a display device excellent in contrast was obtained because of the low reflectance.

[実施例4]
1.5mol/L、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬したあと中和、水洗した、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士写真フイルム(株)製)と、実施例1試料1および実施例2試料1の鹸化処理済みトリアセチルセルロースフィルムを、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した公知の偏光子の両面に接着、保護して偏光板を作製した。このようにして作製した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型TN液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置(偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友3M(株)製のD−BEFをバックライトと液晶セルとの間に有する)の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
[Example 4]
An 80 μm-thick triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), immersed in a 1.5 mol / L, 55 ° C. NaOH aqueous solution for 2 minutes, neutralized and washed with water, and Examples 1 Sample 1 and Example 2 A saponified triacetyl cellulose film of Sample 1 was bonded to and protected on both sides of a known polarizer prepared by adsorbing iodine on polyvinyl alcohol and stretching to prepare a polarizing plate. A liquid crystal display device of a notebook personal computer equipped with a transmissive TN liquid crystal display device (Sumitomo 3M Co., Ltd., which is a polarization separation film having a polarization selection layer) so that the anti-reflection film side is the outermost surface. When the polarizing plate on the viewing side of D-BEF made of the product between the backlight and the liquid crystal cell was replaced, a display device with very high display quality was obtained with very little background reflection.

[実施例5]
実施例1試料1および実施例2試料1のフィルムを貼りつけた透過型TN液晶セルの視認側の偏光板の液晶セル側の保護フィルム、およびバックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムとして、ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している光学補償層を有する視野角拡大フィルム(ワイドビューフィルムSA 12B、富士写真フイルム(株)製)を用いたところ、明室でのコントラストに優れ、且つ上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。特に実施例2試料1のフィルムを用いた場合には、反射率が低い為特にコントラストに優れた表示装置が得られた。
[Example 5]
Example 1 Protective film on the liquid crystal cell side of the polarizing plate on the viewing side of the transmissive TN liquid crystal cell to which the film of Sample 1 and Example 2 Sample 1 was attached, and the protective film on the liquid crystal cell side of the polarizing plate on the backlight side The disc surface of the discotic structural unit is inclined with respect to the transparent support surface, and the angle formed by the disc surface of the discotic structural unit and the transparent support surface changes in the depth direction of the optical anisotropic layer. When the viewing angle widening film (wide view film SA 12B, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having an optical compensation layer is used, the contrast in the bright room is excellent, and the viewing angles in the vertical and horizontal directions are very wide. A liquid crystal display device having excellent visibility and high display quality was obtained. In particular, when the film of Example 2 Sample 1 was used, a display device having excellent contrast was obtained because of the low reflectance.

[実施例6]
実施例2試料1を用いて、片面反射防止フィルム付き偏光板を作製し、偏光板の反射防止膜を有している側の反対面にλ/4板を張り合わせ、有機EL表示装置の表示面側の最表面に貼り付けたところ、表面反射および、表面ガラスの内部からの反射がカットされ、極めて視認性の高い表示が得られた。
[Example 6]
Example 2 A polarizing plate with a single-sided antireflection film was prepared using Sample 1, and a λ / 4 plate was bonded to the opposite surface of the polarizing plate on the side having the antireflection film to display a display surface of an organic EL display device. When applied to the outermost surface on the side, surface reflection and reflection from the inside of the surface glass were cut, and a display with extremely high visibility was obtained.

図1は、本発明の反射防止フィルムの層構成を模式的に示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the layer structure of the antireflection film of the present invention. 図2は、本発明の多層反射防止フィルムの層構成を模式的に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the layer structure of the multilayer antireflection film of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 反射防止フィルム
2 透明支持体
3 ハードコート層
4 低屈折率層
5 多層反射防止フィルム
6 透明支持体
7 ハードコート層
8 中屈折率層
9 高屈折率層
10 低屈折率層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Antireflection film 2 Transparent support 3 Hard coat layer 4 Low refractive index layer 5 Multilayer antireflection film 6 Transparent support 7 Hard coat layer 8 Medium refractive index layer 9 High refractive index layer 10 Low refractive index layer

Claims (16)

透明支持体上に少なくとも一層の透明樹脂を含有するハードコート層、該支持体および該ハードコート層の何れの層よりも屈折率の低い低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムにおいて、
該透明樹脂が、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレート(A)と、該多官能(メタ)アクリレートと同一の骨格を有し、且つ該骨格と(メタ)アクリロイル基との間にスペーサー基を有する多官能(メタ)アクリレート(B)との混合物を主成分とすることを特徴とする反射防止フィルム。
In an antireflection film having a hard coat layer containing at least one transparent resin on a transparent support, a low refractive index layer having a refractive index lower than that of any one of the support and the hard coat layer in this order,
The transparent resin has a polyfunctional (meth) acrylate (A) having two or more (meth) acryloyl groups, the same skeleton as the polyfunctional (meth) acrylate, and the skeleton and (meth) acryloyl An antireflection film comprising, as a main component, a mixture with a polyfunctional (meth) acrylate (B) having a spacer group between them.
前記多官能(メタ)アクリレート(A)の平均分子量が200〜600であり、前記多官能(メタ)アクリレート(B)の平均分子量が300〜2000であることを特徴とする、請求項1に記載の反射防止フィルム。   The average molecular weight of the polyfunctional (meth) acrylate (A) is 200 to 600, and the average molecular weight of the polyfunctional (meth) acrylate (B) is 300 to 2000. Antireflection film. 前記多官能(メタ)アクリレート(B)におけるスペーサー基が炭素原子数3〜10のラクトン付加、炭素原子数2〜20のアルキレングリコール変性の何れかによって導入された構造を有することを特徴とする、請求項1又は2に記載の反射防止フィルム。   The spacer group in the polyfunctional (meth) acrylate (B) has a structure introduced by either a lactone addition having 3 to 10 carbon atoms or an alkylene glycol modification having 2 to 20 carbon atoms, The antireflection film according to claim 1 or 2. 前記ハードコート層が、屈折率1.20〜1.50、平均粒子径1〜500nmの無機酸化物超微粒子を含有することを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The antireflection according to claim 1, wherein the hard coat layer contains inorganic oxide ultrafine particles having a refractive index of 1.20 to 1.50 and an average particle diameter of 1 to 500 nm. the film. 前記ハードコート層が、下記一般式(1)で表されるオルガノシラン、その加水分解物、及びその部分縮合物の何れか、或いはこれらの混合物を含有することを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止フィルム。
一般式(1):(R10m−Si(X)4-m
(式中、R10は置換及びは無置換のアルキル基並びに置換及び無置換のアリール基の少なくともいずれかを表す。Xは水酸基または加水分解可能な基を表す。mは1〜3の整数を表す。)
The hard coat layer contains an organosilane represented by the following general formula (1), a hydrolyzate thereof, and a partial condensate thereof, or a mixture thereof. 4. The antireflection film according to any one of 4 above.
Formula (1) :( R 10) m -Si (X) 4-m
(In the formula, R 10 represents at least one of a substituted and unsubstituted alkyl group and a substituted and unsubstituted aryl group. X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. M represents an integer of 1 to 3. Represents.)
前記ハードコート層の厚さが6〜15μmであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The thickness of the said hard-coat layer is 6-15 micrometers, The antireflection film in any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned. 前記ハードコート層表面において、50μm以上の大きさを有する点欠陥が1平方メートル当り5個以下であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the number of point defects having a size of 50 μm or more is 5 or less per square meter on the surface of the hard coat layer. 前記透明支持体が厚さ40μm〜120μmのセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the transparent support is a cellulose acylate film having a thickness of 40 μm to 120 μm. 前記低屈折率層の屈折率が1.30〜1.55の層であり、前記低屈折率層が、フッ素原子を35〜80質量%の範囲で含み、且つ架橋性もしくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマー(C)の架橋体もしくは重合体を主成分として有し、該含フッ素ポリマー(C)が、含フッ素ビニルモノマー重合単位および側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する重合単位を含み、主鎖が炭素原子のみからなる共重合体であることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の反射防止フィルム。   The low refractive index layer is a layer having a refractive index of 1.30 to 1.55, the low refractive index layer contains a fluorine atom in a range of 35 to 80% by mass, and has a crosslinkable or polymerizable functional group. A fluorine-containing polymer (C) containing a crosslinked or polymer as a main component, the fluorine-containing polymer (C) comprising a fluorine-containing vinyl monomer polymer unit and a polymer unit having a (meth) acryloyl group in the side chain. The antireflection film according to claim 1, wherein the antireflection film contains a main chain consisting of only carbon atoms. 前記低屈折率層が、前記含フッ素ポリマー(C)、平均粒径が該低屈折率層の厚みの30%以上150%以下で且つ中空構造からなる屈折率が1.17〜1.40である無機微粒子(D)、下記一般式(1)で表されるオルガノシランの加水分解物および/またはその部分縮合物(E)を、各々少なくとも1種を含有する硬化性組成物を塗布、硬化して形成された硬化膜であるであることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の反射防止フィルム。
一般式(1);(R10m−Si(X)4-m
(式中、R10は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Xは水酸基または加水分解可能な基を表す。mは1〜3の整数を表す。)
The low refractive index layer is the fluoropolymer (C), the average particle size is 30% to 150% of the thickness of the low refractive index layer, and the refractive index comprising a hollow structure is 1.17 to 1.40. A certain curable composition containing at least one kind of inorganic fine particles (D), hydrolyzate of organosilane represented by the following general formula (1) and / or its partial condensate (E) is applied and cured. The antireflection film according to claim 1, wherein the antireflection film is a cured film formed as described above.
Formula (1); (R 10) m -Si (X) 4-m
(In the formula, R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. M represents an integer of 1 to 3.)
偏光板の表面保護フィルムの少なくとも一枚が、請求項1〜9のいずれかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。   A polarizing plate, wherein at least one of the surface protective films of the polarizing plate is the antireflection film according to claim 1. 前記偏光板の2枚の表面保護フィルムの一枚が、請求項1〜8のいずれかに記載の反射防止フィルムであり、もう一枚の表面保護フィルムが、該表面保護フィルムの偏光膜と貼
り合せる面とは反対側の面に光学異方性層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであり、該光学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物を含有し、該ディスコティック構造単位の円盤面が該表面保護フィルム面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と該表面保護フィルム面とのなす角度が、該光学異方層の深さ方向において変化していることを特徴とする請求項11に記載の偏光板。
One of the two surface protective films of the polarizing plate is the antireflection film according to claim 1, and the other surface protective film is attached to the polarizing film of the surface protective film. An optical compensation film having an optical compensation layer comprising an optically anisotropic layer on a surface opposite to the surface to be combined, the optically anisotropic layer containing a compound having a discotic structural unit, and the discotic The disk surface of the structural unit is inclined with respect to the surface protective film surface, and the angle formed by the disk surface of the discotic structural unit and the surface protective film surface varies in the depth direction of the optically anisotropic layer. The polarizing plate according to claim 11, wherein:
請求項11又は12に記載の偏光板を少なくとも1枚有する液晶表示装置。   A liquid crystal display device comprising at least one polarizing plate according to claim 11. 前記ハードコート層を、マイクログラビア方式を用いてリバース塗布し、続いて乾燥風で溶剤を乾燥し、さらに硬化することにより形成することを特徴とする、請求項1〜10のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。   The hard coat layer is formed by reverse coating using a micro gravure method, subsequently drying the solvent with dry air, and further curing. A method for producing an antireflection film. 前記ハードコート層を、マイクログラビア方式を用いて塗布し、続いて乾燥風で溶剤を乾燥し、さらに硬化することにより形成することを特徴とする、請求項1〜10のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。   The reflection according to claim 1, wherein the hard coat layer is formed by coating using a microgravure method, subsequently drying the solvent with a drying wind, and further curing. The manufacturing method of a prevention film. 前記ハードコート層を、ダイコート方式を用いて塗布し、続いて乾燥風で溶剤を乾燥し、さらに硬化することにより形成することを特徴とする、請求項1〜10のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。   The antireflection according to any one of claims 1 to 10, wherein the hard coat layer is formed by applying a die coat method, subsequently drying the solvent with a dry air, and further curing. A method for producing a film.
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