JP2005271587A - Optical recording material and optical recording medium - Google Patents

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隆司 宮沢
Hideyuki Kubo
秀之 久保
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秀樹 長野
Hiroki Ota
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical recording material which is capable of recording and reconstruction by a blue laser with a short wavelength and has a high level. <P>SOLUTION: The optical recording material comprises an organic coloring matter compound A with the maximum absorption wavelength (λmax) of 340-440 nm and a metal complex compound B with the maximum absorption wavelength (λmax) of 500-900 nm, has the content of the organic coloring matter compound A being larger than the content of the metal complex compound B, and has a light resistance x measured by a specified test method of 30% or more. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は光記録材料等に関し、より詳しくは、青色レーザ対応の光記録材料等に関する。   The present invention relates to an optical recording material and the like, and more particularly to an optical recording material and the like for blue laser.

現在、CD−R/RW、DVD−R/RW、MO等の各種光学記録媒体は、大容量の情報を記憶でき、ランダムアクセスが容易であるために、コンピュータのような情報処理装置における外部記憶装置として広く認知され普及している。これらの中でも、CD−RやDVD−Rに代表される有機色素系光学記録媒体は、低コスト、且つ、製造が容易であるという点で、優位性を有するものと考えられている。
また、取り扱う情報量の増大により、媒体の記録密度を高めることが望まれている。近年、開発が著しい青色レーザ等の発振波長の短い(以下、短波長という。)レーザ光を用いた高密度の記録再生可能な光学記録媒体が提唱されつつある。
Currently, various optical recording media such as CD-R / RW, DVD-R / RW, and MO can store a large amount of information and are easily accessible at random. Therefore, external storage in an information processing apparatus such as a computer is possible. Widely recognized and popular as a device. Among these, organic dye-based optical recording media represented by CD-R and DVD-R are considered to have an advantage in that they are low in cost and easy to manufacture.
Further, it is desired to increase the recording density of the medium by increasing the amount of information handled. In recent years, an optical recording medium capable of high-density recording / reproduction using a laser beam having a short oscillation wavelength (hereinafter referred to as a short wavelength) such as a blue laser which has been remarkably developed has been proposed.

しかし、一般に、CD−RやDVD−R等として市販されている光学記録媒体の場合、例えば、CD−Rは波長780nm程度のレーザ光による記録・再生に適するように、またDVD−Rは波長600nm〜700nm程度のレーザ光による記録・再生に適するように設計されている。このような、比較的長波長のレーザ光を用いる光学的記録・再生用に適合する光学記録媒体では、より短波長のレーザを用いて記録・再生すると、反射率が低く記録・再生ができないという問題を有している。   However, in general, in the case of an optical recording medium that is commercially available as a CD-R or DVD-R, for example, the CD-R is suitable for recording / reproduction with a laser beam having a wavelength of about 780 nm, and the DVD-R has a wavelength. It is designed to be suitable for recording / reproduction with a laser beam of about 600 nm to 700 nm. In such an optical recording medium suitable for optical recording / reproduction using a laser beam having a relatively long wavelength, recording / reproduction with a shorter wavelength laser has a low reflectance and cannot be recorded / reproduced. Have a problem.

よって、このような短波長のレーザ光による記録・再生に適する光学記録媒体の記録層に使用される有機色素化合物についても、従来から使用されているレーザ光の波長より短い波長において吸収特性を有する色素が検討され、このような色素を記録層に用いた光学記録媒体が報告されている(特許文献1参照)。また、特定の分子構造のカルボスチリル化合物が記録層に含有される光学記録媒体についても報告がある(特許文献2、特許文献3参照)。   Therefore, the organic dye compound used in the recording layer of the optical recording medium suitable for recording / reproducing with such a short wavelength laser beam also has an absorption characteristic at a wavelength shorter than the wavelength of the conventionally used laser beam. Dyes have been studied, and an optical recording medium using such a dye as a recording layer has been reported (see Patent Document 1). There are also reports on optical recording media in which a carbostyril compound having a specific molecular structure is contained in a recording layer (see Patent Document 2 and Patent Document 3).

特開2001−096918号公報JP 2001-096918 A 特開2001−287466号公報JP 2001-287466 A 特開2003−127542号公報JP 2003-127542 A

ところで、青色レーザを利用した光学記録媒体に使用される記録用色素に求められる性能は前述の反射率のほか、ディスクにした際の記録特性はもちろん、記録感度、基板上への塗布時の塗膜性、保存安定性、耐光性等様々な性能が要求される。しかしながら、これらの特性を同時に満たすような青色レーザ用の記録用色素は、未だ実現されていない。   By the way, in addition to the reflectance described above, the performance required for the recording dye used in the optical recording medium using a blue laser is not only the recording characteristics when made into a disk, but also the recording sensitivity and the coating during coating on the substrate. Various performances such as film properties, storage stability, and light resistance are required. However, recording dyes for blue lasers that satisfy these characteristics simultaneously have not been realized yet.

このような記録層の記録特性を向上させるために、CD−RやDVD−R等において、特性を補う性質を持つ添加剤を任意の割合で色素に混合させる方法等が検討されている。   In order to improve the recording characteristics of such a recording layer, a method of mixing an additive having a property of supplementing characteristics with a dye at an arbitrary ratio in CD-R, DVD-R, or the like has been studied.

しかし、短波長のレーザ光による記録・再生に適する光学記録媒体の記録層に使用される有機色素化合物の記録感度を損なわず、記録特性を向上させるのに最適な添加剤及び添加量は未だ見出されておらず、基板上への塗布時の塗膜性、保存安定性、耐光性等を高い水準で満たす有機色素系光学記録媒体は実現されていない。   However, the optimum additives and addition amounts for improving the recording characteristics without losing the recording sensitivity of the organic dye compound used in the recording layer of the optical recording medium suitable for recording / reproducing with a short wavelength laser beam have not yet been found. An organic dye-based optical recording medium satisfying a high level of coating properties, storage stability, light resistance and the like at the time of application on a substrate has not been realized.

本発明は、このような青色レーザを利用した光学記録媒体等に使用される光記録材料を開発する際の問題を解決すべくなされたものである。特に、本発明は、単独では、例えば耐光性が30%未満という多くの青色レーザ用の記録用色素であっても、耐光性が30%以上となるべくなされたものである。   The present invention has been made to solve the problems in developing an optical recording material used for such an optical recording medium using a blue laser. In particular, the present invention alone is intended to achieve a light resistance of 30% or more, even for many blue laser recording dyes having a light resistance of less than 30%.

即ち、本発明の目的は、短波長の青色レーザによって記録・再生が可能であり、高水準の光記録材料を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、短波長の青色レーザによって記録・再生が可能な光学記録媒体を提供することにある。
That is, an object of the present invention is to provide a high-level optical recording material that can be recorded and reproduced by a short wavelength blue laser.
Another object of the present invention is to provide an optical recording medium capable of recording / reproducing with a short wavelength blue laser.

本発明者等は、鋭意検討の結果、青色レーザに高い感受性を有し、吸収極大が波長340nm〜440nmにある化合物と、特定の金属錯体と、を組み合わせることにより、耐光性等を高い水準で満たす光記録材料が得られることを見出し、この知見に基づき本発明を完成した。
即ち、本発明によれば、最大吸収波長(λmax)が340nm以上440nm以下である有機色素化合物Aと、最大吸収波長(λmax)が500nm以上900nm以下である金属錯体化合物Bと、を含有し、有機色素化合物Aの含有量が、金属錯体化合物Bの含有量よりも多く、下記式で算出された耐光性xが30%以上であることを特徴とする光記録材料が提供される。
耐光性x={(I/I)×100}
(但し、上記式中、Iは、有機色素化合物A及び金属錯体化合物B混合物の分光光度計により測定された膜の吸収スペクトルにおいて、波長範囲340nm〜440nmに存在する吸収極大の吸光度である。Iは、有機色素化合物A及び金属錯体化合物B混合物の膜に光照射処理を施した後、分光光度計により測定された膜の吸収スペクトルにおいて、波長範囲340nm〜440nmに存在する吸収極大の吸光度である。)
As a result of intensive studies, the present inventors have a high level of light resistance and the like by combining a compound having a high sensitivity to a blue laser and having an absorption maximum at a wavelength of 340 nm to 440 nm with a specific metal complex. The present inventors have found that an optical recording material satisfying the requirements can be obtained, and have completed the present invention based on this finding.
That is, according to the present invention, the organic dye compound A having a maximum absorption wavelength (λmax) of 340 nm to 440 nm and the metal complex compound B having a maximum absorption wavelength (λmax) of 500 nm to 900 nm are contained, There is provided an optical recording material characterized in that the content of the organic dye compound A is larger than the content of the metal complex compound B, and the light resistance x calculated by the following formula is 30% or more.
Light resistance x = {(I 1 / I 0 ) × 100}
(In the above formula, I 0 is the absorbance at the absorption maximum existing in the wavelength range of 340 nm to 440 nm in the absorption spectrum of the film measured by the spectrophotometer of the organic dye compound A and the metal complex compound B mixture). I 1 is the absorbance of the absorption maximum present in the wavelength range of 340 nm to 440 nm in the absorption spectrum of the film measured by a spectrophotometer after the film of the organic dye compound A and the metal complex compound B mixture is irradiated with light. .)

本発明が適用される光記録材料において、前述した有機色素化合物Aは、分光光度計により測定された膜の吸収スペクトルの波長範囲340nm〜440nmに存在する吸収極大の吸光度(IA0)と、有機色素化合物Aの膜に光照射処理を施した後に測定された膜の吸収スペクトルの波長範囲340nm〜440nmに存在する吸収極大の吸光度(IA1)と、を用いて算出された耐光性x={(IA1/IA0)×100}が30%未満である場合に、本発明の効果がより一層発揮される。 In the optical recording material to which the present invention is applied, the above-mentioned organic dye compound A includes an absorption maximum absorbance (I A0 ) existing in the wavelength range of 340 nm to 440 nm of the absorption spectrum of the film measured by a spectrophotometer, and organic Light absorption x = {calculated using the absorption maximum absorbance (I A1 ) existing in the wavelength range of 340 nm to 440 nm of the absorption spectrum of the film measured after the film of the dye compound A was subjected to light irradiation treatment The effect of the present invention is further exhibited when (I A1 / I A0 ) × 100} is less than 30%.

ここで、上記耐光性xは、好ましくは、下記操作ステップにより算出される。
(操作ステップ)
(ステップ1)有機色素化合物Aと金属錯体化合物Bとを含有する溶液を透明基板上にスピンコートした後に乾燥し、色素塗布ディスクを調製する。
(ステップ2)分光光度計を用いて、波長300nm〜900nmにおいて、(ステップ1)で調製した色素塗布ディスクの吸収スペクトルを測定し、波長範囲340nm〜440nmに存在する吸収極大の吸光度をIとする。
(ステップ3)(ステップ1)で調製した色素塗布ディスクに、キセノンランプを250W/mで8時間照射する光照射処理を施した後、(ステップ2)と同じ条件で吸収スペクトルを測定し、波長範囲340nm〜440nmに存在する吸収極大の吸光度をIとする。
(ステップ4)(ステップ2)における(I)と、(ステップ3)における(I)に基づき、{(I/I)×100}を算出する。
尚、ステップ1における「溶液」は、吸収極大の吸光度が0.1〜1.0となる程度の有機色素化合物Aと金属錯体化合物Bとの固形分を含む液体を意味する。
Here, the light resistance x is preferably calculated by the following operation steps.
(Operation steps)
(Step 1) A solution containing the organic dye compound A and the metal complex compound B is spin-coated on a transparent substrate and then dried to prepare a dye-coated disk.
(Step 2) Using a spectrophotometer, the absorption spectrum of the dye-coated disk prepared in (Step 1) is measured at a wavelength of 300 nm to 900 nm, and the absorbance of the absorption maximum existing in the wavelength range of 340 nm to 440 nm is expressed as I 0 . To do.
(Step 3) The dye-coated disk prepared in (Step 1) was subjected to a light irradiation treatment in which a xenon lamp was irradiated at 250 W / m 2 for 8 hours, and then the absorption spectrum was measured under the same conditions as in (Step 2). the absorbance of the absorption maximum present in the wavelength range 340nm~440nm and I 1.
(Step 4) Based on (I 0 ) in (Step 2) and (I 1 ) in (Step 3), {(I 1 / I 0 ) × 100} is calculated.
In addition, the “solution” in Step 1 means a liquid containing a solid content of the organic dye compound A and the metal complex compound B having an absorption maximum absorbance of 0.1 to 1.0.

本発明が適用される光記録材料において、最大吸収波長(λmax)が340nm以上440nm以下に有する有機色素化合物Aに、金属錯体化合物Bを含有することにより、有機色素化合物Aの耐光性の弱さを補うものことが可能となる。それは、金属が配位することにより、配位しない場合よりも耐光性が向上する場合があり、そもそも金属錯体化合物Bの耐光性が強い、ということが要因として挙げられる。   In the optical recording material to which the present invention is applied, the organic dye compound A having a maximum absorption wavelength (λmax) of 340 nm or more and 440 nm or less contains the metal complex compound B, whereby the light resistance of the organic dye compound A is weak. It is possible to compensate for this. The reason for this is that the light resistance may be improved by coordination of the metal as compared with the case where the metal is not coordinated, and the light resistance of the metal complex compound B is strong in the first place.

また、特に、本発明での短波長領域においては、金属錯体化合物Bが、有機色素化合物Aの最大吸収極大波長(λmax)の近傍に、微弱な吸収帯を有することにより、その吸収帯が、有機色素化合物Aの吸収帯の光劣化をシールドする、あるいはマスキングするものと考えられる。かかる“弱い吸収帯”は、金属イオンに由来する、配位子との相互作用が小さい吸収や、配位子の弱い吸収帯と考えられる。その吸収帯が光学的あるいは熱的に安定であればなお好ましい。   In particular, in the short wavelength region of the present invention, the metal complex compound B has a weak absorption band in the vicinity of the maximum absorption maximum wavelength (λmax) of the organic dye compound A. It is considered to shield or mask the photodegradation of the absorption band of the organic dye compound A. Such a “weak absorption band” is considered to be an absorption having a small interaction with a ligand derived from a metal ion or a weak absorption band of a ligand. More preferably, the absorption band is optically or thermally stable.

また、金属錯体化合物Bが、有機色素化合物Aよりも嵩高い立体構造をとるために、例えば、有機色素化合物A単独では結晶化しやすい構造のものでも、金属錯体化合物Bによって適度に分散されたアモルファス状になり、塗膜性を向上することができると考えられる。   In addition, since the metal complex compound B has a bulky steric structure as compared with the organic dye compound A, for example, an amorphous structure in which the organic dye compound A alone is easily crystallized is appropriately dispersed by the metal complex compound B. It is considered that the coating properties can be improved.

かかる金属錯体化合物Bは、耐光性、あるいは塗布性の観点などから、アゾ系金属錯体化合物あるいはインドアニリン系金属錯体化合物であることが好ましい。
本発明が適用される光記録材料において、アゾ系金属錯体化合物は、下記一般式(I)に示すアゾ化合物と、金属イオンとの金属錯体化合物であることを特徴とすれば、基板上への塗布時の塗膜性、保存安定性、耐光性、記録感度等の記録特性を向上させることが出来る。
The metal complex compound B is preferably an azo metal complex compound or an indoaniline metal complex compound from the viewpoint of light resistance or coating properties.
In the optical recording material to which the present invention is applied, the azo metal complex compound is a metal complex compound of an azo compound represented by the following general formula (I) and a metal ion. It is possible to improve recording properties such as coating properties at the time of coating, storage stability, light resistance, and recording sensitivity.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

(式(I)中、環Aは、炭素原子及び窒素原子とともに形成される含窒素複素芳香環であり、XLは、Lが脱離することによりXが陰イオンとなり金属が配位可能となる置換基を表す。R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、アラルキル基又はアルケニル基を表し、これらは各々隣接する置換基同士または互いに縮合環を形成してもよい。R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルケニル基、炭素数7〜18のアラルキル基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、単環の飽和複素環基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ホルミル基、−COR34で表されるアシル基、−NR3536で表されるアミノ基、−NHCOR37で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR38で表されるカーバメート基、−COOR39で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR40で表されるアシルオキシ基、−CONR4142で表されるカルバモイル基、−SO43で表されるスルホニル基、−SOR44で表されるスルフィニル基、−SONR4546で表されるスルファモイル基、−SO47で表されるスルホン酸エステル基、−NHSO48で表されるスルホンアミド基を表す。(但しR34、R37、R38、R39、R40、R43、R44、R47、R48は、それぞれ独立に、炭化水素基、または複素環基を表し、R35、R36、R41、R42、R45、R46は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、複素環基のいずれかを表す。)) (In Formula (I), Ring A is a nitrogen-containing heteroaromatic ring formed together with a carbon atom and a nitrogen atom, and XL is capable of coordinating a metal with X becoming an anion when L is eliminated. R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, a cyclic alkyl group, an aralkyl group or an alkenyl group, which are each condensed with adjacent substituents or with each other. R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, carbon A linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a linear or branched alkylthio group having 1 to 12 carbon atoms, A monocyclic saturated heterocyclic group, Androgenic atom, a nitro group, a cyano group, a mercapto group, hydroxy group, formyl group, acyl group represented by -COR 34, amino group represented by -NR 35 R 36, an acylamino group represented by -NHCOR 37, A carbamate group represented by —NHCOOR 38; a carboxylic acid ester group represented by —COOR 39; an acyloxy group represented by —OCOR 40; a carbamoyl group represented by —CONR 41 R 42 ; and —SO 2 R 43 . the sulfonyl group represented, sulfinyl group represented by -SOR 44, a sulfamoyl group represented by -SO 2 NR 45 R 46, sulfonic acid ester group represented by -SO 3 R 47, at -NHSO 2 R 48 Represents a sulfonamide group represented (provided that R 34 , R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 43 , R 4). 4 , R 47 and R 48 each independently represent a hydrocarbon group or a heterocyclic group, and R 35 , R 36 , R 41 , R 42 , R 45 and R 46 each independently represent a hydrogen atom, It represents either a hydrocarbon group or a heterocyclic group.))

前記一般式(I)で表されるアゾ化合物において、環Aが5〜6員環の単環または2縮合環の含窒素複素芳香環を表し、XLがヒドロキシ基、スルホン酸基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、メルカプト基、カルボキシル基を表し、R、Rが、それぞれ独立に、炭素数1〜12の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数7〜12アラルキル基を表す、または各々隣接する置換基同士または互いに飽和縮合環を形成し、R、R、Rは、各々独立に水素原子または炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基、炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、単環の5〜6員環の飽和複素環基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、−COR34で表されるアシル基、−NR3536で表されるアミノ基、−NHCOR37で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR38で表されるカーバメート基、−COOR39で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR40で表されるアシルオキシ基、−CONR4142で表されるカルバモイル基、−SO43で表されるスルホニル基、−SONR4546で表されるスルファモイル基、−NHSO48で表されるスルホンアミド基を表すものであることが好ましい。 In the azo compound represented by the general formula (I), ring A represents a 5- or 6-membered monocyclic or bicondensed nitrogen-containing heteroaromatic ring, XL represents a hydroxy group, a sulfonic acid group, an acylamino group, Represents a sulfonamide group, a mercapto group, or a carboxyl group, and R 1 and R 2 each independently represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or 7 carbon atoms. -12 represents an aralkyl group, or each forms a saturated condensed ring with adjacent substituents or each other, R 3 , R 4 , and R 5 are each independently a hydrogen atom or a linear or branched group having 1 to 8 carbon atoms Alkyl group, C 7-12 aralkyl group, C 1-8 linear or branched alkoxy group, C 1-8 linear or branched alkylthio group, monocyclic 5-6 membered saturated Heterocyclic group, halogen atom, di B group, a cyano group, a mercapto group, hydroxy group, acyl group represented by -COR 34, amino group represented by -NR 35 R 36, an acylamino group represented by -NHCOR 37, represented by -NHCOOR 38 A carbamate group, a carboxylate group represented by -COOR 39 , an acyloxy group represented by -OCOR 40 , a carbamoyl group represented by -CONR 41 R 42 , a sulfonyl group represented by -SO 2 R 43 , It preferably represents a sulfamoyl group represented by —SO 2 NR 45 R 46 and a sulfonamide group represented by —NHSO 2 R 48 .

また、本発明が適用される光記録材料において、インドアニリン系金属錯体化合物は、下記一般式(II)に示す化合物と、金属イオン及び任意のアニオンと、からなる金属錯体化合物であることが好ましい。   In the optical recording material to which the present invention is applied, the indoaniline-based metal complex compound is preferably a metal complex compound comprising a compound represented by the following general formula (II), a metal ion, and an arbitrary anion. .

Figure 2005271587
Figure 2005271587

(式(II)中、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、アラルキル基、アルケニル基を表し、これらは各々隣接する置換基同士または互いに縮合環を形成してもよい。R〜R16は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルケニル基、炭素数7〜18のアラルキル基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、飽和または不飽和の複素環基、炭素数6〜18のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ホルミル基、−COR34で表されるアシル基、−NR3536で表されるアミノ基、−NHCOR37で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR38で表されるカーバメート基、−COOR39で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR40で表されるアシルオキシ基、−CONR4142で表されるカルバモイル基、−SO43で表されるスルホニル基、−SOR44で表されるスルフィニル基、−SONR4546で表されるスルファモイル基、−SO47で表されるスルホン酸エステル基、−NHSO48で表されるスルホンアミド基を表す。(但しR34、R37、R38、R39、R40、R43、R44、R47、R48は、それぞれ独立に、炭化水素基、または複素環基を表し、R35、R36、R41、R42、R45、R46は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、複素環基のいずれかを表す。)) (In the formula (II), R 6 and R 7 each independently represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, a cyclic alkyl group, an aralkyl group, or an alkenyl group, each of these being adjacent substituents or R 8 to R 16 may each independently form a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a carbon number. 2-12 linear or branched alkenyl group, C7-18 aralkyl group, C1-12 linear or branched alkoxy group, C1-12 linear or branched alkylthio group, saturation Or an unsaturated heterocyclic group, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a mercapto group, a hydroxy group, a formyl group, an acyl group represented by —COR 34 , —NR 35 R 3 An amino group represented by 6; an acylamino group represented by —NHCOR 37; a carbamate group represented by —NHCOOR 38; a carboxylic acid ester group represented by —COOR 39; an acyloxy group represented by —OCOR 40 ; A carbamoyl group represented by —CONR 41 R 42; a sulfonyl group represented by —SO 2 R 43; a sulfinyl group represented by —SOR 44; a sulfamoyl group represented by —SO 2 NR 45 R 46 ; 3 represents a sulfonic acid ester group represented by R 47 and a sulfonamide group represented by —NHSO 2 R 48 (provided that R 34 , R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 43 , R 44 , R 47 and R 48 each independently represent a hydrocarbon group or a heterocyclic group, and R 35 , R 36 , R 41 , R 42 , R 45 , R 46 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or a heterocyclic group.))

本発明が適用される光記録材料において使用する任意のアニオンは、1価の一座配位子であることが好ましい。   The arbitrary anion used in the optical recording material to which the present invention is applied is preferably a monovalent monodentate ligand.

また、金属錯体化合物Bが、2価または3価の遷移金属イオンを有する金属錯体化合物であることが好ましい。さらに、このような遷移金属が、ニッケル、コバルト、銅、鉄、亜鉛、白金、パラジウム及びマンガンからなる群から選ばれるものであることが好ましい。   The metal complex compound B is preferably a metal complex compound having a divalent or trivalent transition metal ion. Furthermore, it is preferable that such a transition metal is selected from the group consisting of nickel, cobalt, copper, iron, zinc, platinum, palladium and manganese.

次に、本発明が適用される光記録材料において、有機色素化合物Aは、γ―ピロン系有機色素、γ−チオピロン系有機色素、γ−1,1−ジオキソチオピロン系有機色素、γ−ピリドン系有機色素、クマリン系有機色素、カルボスチリル系有機色素、及び1−チオクマリン系有機色素から選ばれる化合物であることが挙げられる。
本発明が適用される光記録材料において、γ―ピロン系有機色素としては、例えば、下記一般式(III)及び(IV)に示す化合物(一般的には、下記一般式(III)及び(IV)において、Z=Oのものをピロン、Z=Sのものをチオピロン、Z=SOのものをジオキソチオピロン、Z=Nのものをピリドンと呼ぶ。)から選ばれるものが挙げられる。
Next, in the optical recording material to which the present invention is applied, the organic dye compound A includes a γ-pyrone organic dye, a γ-thiopyrone organic dye, a γ-1,1-dioxothiopyrone organic dye, γ- It may be a compound selected from pyridone organic dyes, coumarin organic dyes, carbostyryl organic dyes, and 1-thiocoumarin organic dyes.
In the optical recording material to which the present invention is applied, examples of the γ-pyrone organic dye include compounds represented by the following general formulas (III) and (IV) (generally, the following general formulas (III) and (IV) in), pyrone those Z = O, thiopyrone those Z = S, a di-oxo-thio-pyrones as the Z = SO 2, includes one selected ones Z = N from called a pyridone.).

Figure 2005271587
Figure 2005271587

Figure 2005271587
Figure 2005271587

(式(III)又は(IV)中、R17〜R20及びR17’〜R20’は、それぞれ独立に、水素原子、または炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルケニル基、炭素数7〜18のアラルキル基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、飽和または不飽和の複素環基、炭素数6〜18のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ホルミル基、−COR34で表されるアシル基、−NR3536で表されるアミノ基、−NHCOR37で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR38で表されるカーバメート基、−COOR39で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR40で表されるアシルオキシ基、−CONR4142で表されるカルバモイル基、−SO43で表されるスルホニル基、−SOR44で表されるスルフィニル基、−SONR4546で表されるスルファモイル基、−SO47で表されるスルホン酸エステル基、−NHSO48で表されるスルホンアミド基を表す(但しR34、R37、R38、R39、R40、R43、R44、R47、R48は、それぞれ独立に、炭化水素基、または複素環基を表し、R35、R36、R41、R42、R45、R46は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、複素環基のいずれかを表す。 (In the formula (III) or (IV), R 17 to R 20 and R 17 ′ to R 20 ′ each independently represent a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a carbon number. C3-C12 cyclic alkyl group, C2-C12 linear or branched alkenyl group, C7-C18 aralkyl group, C1-C12 linear or branched alkoxy group, C1-C12 A linear or branched alkylthio group, a saturated or unsaturated heterocyclic group, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a mercapto group, a hydroxy group, a formyl group, and —COR 34 An acyl group represented by —NR 35 R 36 , an acylamino group represented by —NHCOR 37 , a carbamate group represented by —NHCOOR 38 , and a carboxylic acid group represented by —COOR 39 Steryl group, acyloxy group represented by —OCOR 40 , carbamoyl group represented by —CONR 41 R 42 , sulfonyl group represented by —SO 2 R 43 , sulfinyl group represented by —SOR 44 , —SO 2 A sulfamoyl group represented by NR 45 R 46 , a sulfonic acid ester group represented by —SO 3 R 47 , and a sulfonamide group represented by —NHSO 2 R 48 (provided that R 34 , R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 43 , R 44 , R 47 , R 48 each independently represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group, and R 35 , R 36 , R 41 , R 42 , R 45 , R Each 46 independently represents any of a hydrogen atom, a hydrocarbon group, and a heterocyclic group.

但し、R17とR18、R19とR20、R17’とR18’、R19’とR20’は、各々縮合して炭化水素環または複素環構造を形成してもよい。当該炭化水素環及び当該複素環は、置換基を有していてもよい。)。Xは、電子吸引性基であり、Xは、水素原子または−Q−Y(Qは、直接結合、炭素数1または2のアルキレン基、アリーレン基またはヘテロアリーレン基であり、Yは、電子吸引性基であり、当該アルキレン基、当該アリーレン基、当該ヘテロアリーレン基は、Y以外に任意の置換基を有していてもよい。)である。環Cは、C=Oと共に置換基を有していてもよい炭素環式ケトン環または複素環式ケトン環である。Z及びZ’は、それぞれ−O−、−S−、−SO−、−NR21−(ここで、R21は、水素原子、置換されてもよい炭化水素基、置換されてもよい複素環基、シアノ基、ヒドロキシ基)、−NR2223で表されるアミノ基(R22、R23は、各々独立に、水素原子、炭化水素基または複素環基)、若しくは−COR24(R24は、炭化水素基または複素環基である)、−COR25(R25は、炭化水素基または複素環基である)で表されるアシル基のいずれかを表す。) However, R 17 and R 18 , R 19 and R 20 , R 17 ′ and R 18 ′, and R 19 ′ and R 20 ′ may be condensed to form a hydrocarbon ring or a heterocyclic structure. The hydrocarbon ring and the heterocycle may have a substituent. ). X 1 is an electron-withdrawing group, X 2 is a hydrogen atom or -QY (Q is a direct bond, an alkylene group having 1 or 2 carbon atoms, an arylene group or a heteroarylene group, and Y is It is an electron-withdrawing group, and the alkylene group, the arylene group, and the heteroarylene group may have any substituent other than Y. Ring C is a carbocyclic ketone ring or heterocyclic ketone ring which may have a substituent together with C═O. Z and Z ′ are each —O—, —S—, —SO 2 —, —NR 21 — (wherein R 21 is a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted complex; A cyclic group, a cyano group, a hydroxy group), an amino group represented by —NR 22 R 23 (R 22 and R 23 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a heterocyclic group), or —COR 24 ( R 24 represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group), or represents an acyl group represented by —COR 25 (R 25 represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group). )

また、本発明が適用される光記録材料において、クマリン系有機色素(下記構造式で、X=O),カルボスチリル系有機色素(下記構造式で、X=NR33)、1−チオクマリン系有機色素(下記構造式で、X=S)としては、下記一般式(V)に示す化合物が挙げられる。 Further, in the optical recording material to which the present invention is applied, a coumarin organic dye (in the following structural formula, X = O), a carbostyryl organic dye (in the following structural formula, X = NR 33 ), a 1-thiocoumarin organic. Examples of the dye (in the following structural formula, X = S) include compounds represented by the following general formula (V).

Figure 2005271587
Figure 2005271587

(式(V)中、Xは−O−、−S−、−NR33−を表す。R26、R27、R28、R29、R30は、それぞれ独立して水素原子または炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルケニル基、炭素数7〜18のアラルキル基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、炭素数6〜18のアリール基、飽和または不飽和の複素環基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ホルミル基、−COR34で表されるアシル基、−NR3536で表されるアミノ基、−NHCOR37で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR38で表されるカーバメート基、−COOR39で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR40で表されるアシルオキシ基、−CONR4142で表されるカルバモイル基、−SO43で表されるスルホニル基、−SOR44で表されるスルフィニル基、−SONR4546で表されるスルファモイル基、−NHSO47で表されるスルホンアミド基を表す。 (In formula (V), X represents —O—, —S—, —NR 33 —. R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , and R 30 each independently represents a hydrogen atom or a carbon number of 1; -12 linear or branched alkyl group, C3-C12 cyclic alkyl group, C2-C12 linear or branched alkenyl group, C7-C18 aralkyl group, C1-C12 Linear or branched alkoxy group, linear or branched alkylthio group having 1 to 12 carbon atoms, aryl group having 6 to 18 carbon atoms, saturated or unsaturated heterocyclic group, halogen atom, nitro group, cyano group, mercapto Group, hydroxy group, formyl group, acyl group represented by -COR 34 , amino group represented by -NR 35 R 36 , acylamino group represented by -NHCOR 37 , carbamate group represented by -NHCOOR 38 , -CO Carboxylic acid ester group represented by R 39, an acyloxy group represented by -OCOR 40, a carbamoyl group represented by -CONR 41 R 42, a sulfonyl group represented by -SO 2 R 43, tables in -SOR 44 A sulfinyl group represented by —SO 2 NR 45 R 46 , a sulfonamido group represented by —NHSO 2 R 47 .

31、R32、R33は、それぞれ独立して、水素原子、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、アラルキル基、直鎖または分岐のアルケニル基、アシル基を表す。またR26〜R33のうち隣接する2つが結合して飽和炭化水素環または飽和複素環を形成していてもよい。)
(但しR34、R37、R38、R39、R40、R43、R44、R47、R48は、それぞれ独立に、炭化水素基、または複素環基を表し、R35、R36、R41、R42、R45、R46は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、複素環基のいずれかを表す。)
R 31 , R 32 and R 33 each independently represent a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, a cyclic alkyl group, an aralkyl group, a linear or branched alkenyl group or an acyl group. Two adjacent R 26 to R 33 may be bonded to form a saturated hydrocarbon ring or a saturated heterocyclic ring. )
(However, R 34 , R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 43 , R 44 , R 47 , R 48 each independently represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group, and R 35 , R 36 , R 41 , R 42 , R 45 , and R 46 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or a heterocyclic group.)

前記一般式(V)において、Xが、−O−、−NR33−であり、R26、R27、R28、R29、R30が、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜8の環状アルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基、炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、炭素数6〜12のアリール基、飽和または不飽和の単環または2縮合環の複素環基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ホルミル基、−COR34で表されるアシル基、−NR3536で表されるアミノ基、−NHCOR37で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR38で表されるカーバメート基、−COOR39で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR40で表されるアシルオキシ基、−CONR4142で表されるカルバモイル基、−NHSO48で表されるスルホンアミド基であることが好ましい。 In the general formula (V), X is —O— or —NR 33 —, and R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , and R 30 are each independently a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 8 straight or branched alkyl groups, 3 to 8 carbon cyclic alkyl groups, 7 to 12 carbon aralkyl groups, 1 to 8 straight or branched alkoxy groups, 1 to 8 carbon atoms Chain or branched alkylthio group, aryl group having 6 to 12 carbon atoms, saturated or unsaturated monocyclic or bicyclic heterocyclic group, halogen atom, nitro group, cyano group, mercapto group, hydroxy group, formyl group, acyl group represented by -COR 34, amino group represented by -NR 35 R 36, an acylamino group represented by -NHCOR 37, carbamate group represented by -NHCOOR 38, carbo represented by -COOR 39 Ester group, an acyloxy group represented by -OCOR 40, a carbamoyl group represented by -CONR 41 R 42, it is preferably a sulfonamide group represented by -NHSO 2 R 48.

尚、前記一般式(V)において、R31、R32、R33がそれぞれ独立して、炭素数1〜12の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数7〜18のアラルキル基であり、R29とR31、R30とR32の一方または両方が飽和炭化水素環または飽和複素環を形成していてもよい構造をもつものが好ましい。 In the general formula (V), R 31 , R 32 and R 33 are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, It is preferably an aralkyl group having 7 to 18 and a structure in which one or both of R 29 and R 31 , R 30 and R 32 may form a saturated hydrocarbon ring or a saturated heterocyclic ring.

また、本発明が適用される光記録材料において、金属錯体化合物Bが有機色素化合物Aの結晶化を阻害するものであることが好ましい。
さらに、金属錯体化合物Bの分解開始温度が有機色素化合物Aの分解開始温度以下であることが好ましい。
In the optical recording material to which the present invention is applied, the metal complex compound B preferably inhibits the crystallization of the organic dye compound A.
Furthermore, it is preferable that the decomposition start temperature of the metal complex compound B is not higher than the decomposition start temperature of the organic dye compound A.

次に、本発明によれば、基板と、基板上に設けられ、光による情報の記録又は再生が可能な記録層と、を有し、記録層は、前述した光記録材料を含有することを特徴とする光学記録媒体が提供される。
光学記録媒体の情報の記録又は再生に使用される光は、波長350nm〜530nmのレーザ光であることが好ましい。
また、記録層に含有される光記録材料の金属錯体化合物Bの吸収強度を測定することにより、記録層の膜厚の測定及び膜厚の管理がされることが好ましい。
Next, according to the present invention, it has a substrate and a recording layer provided on the substrate and capable of recording or reproducing information by light, and the recording layer contains the optical recording material described above. An optical recording medium is provided.
The light used for recording or reproducing information on the optical recording medium is preferably laser light having a wavelength of 350 nm to 530 nm.
Moreover, it is preferable to measure the film thickness of the recording layer and manage the film thickness by measuring the absorption intensity of the metal complex compound B of the optical recording material contained in the recording layer.

尚、本発明が適用される光記録材料における“最大吸収波長(λmax)”は、クロロホルム溶液又はメタノール溶液中で測定した吸収極大の波長のことを言い、どちらかの溶液中での最大吸収波長(λmax)が340nm以上、440nm以下、又は、500nm以上、900nm以下の範囲にあればよい。尚、光記録材料を膜状に形成した場合の極大吸収は、クロロホルム溶液又はメタノール溶液中で測定した値から、−10nm〜10nm程度変動すると考えられる。   The “maximum absorption wavelength (λmax)” in the optical recording material to which the present invention is applied refers to the wavelength of the absorption maximum measured in a chloroform solution or a methanol solution, and the maximum absorption wavelength in either solution. (Λmax) may be in the range of 340 nm to 440 nm, or 500 nm to 900 nm. The maximum absorption when the optical recording material is formed into a film is considered to vary by about −10 nm to 10 nm from the value measured in a chloroform solution or a methanol solution.

また、本発明における試験方法に記載された“吸収極大”は、上述したように光記録材料を膜状に形成した場合の吸収極大を意味する。尚、本発明において「吸収スペクトル」とは、「試験片を膜状に形成した場合に測定された吸収スペクトル」を意味する。また、試験片を「膜状に形成」する方法としては、例えば、前述した耐光性xを算出するための操作ステップにおける「色素塗布ディスク」を調製する方法が挙げられる。   The “absorption maximum” described in the test method of the present invention means the absorption maximum when the optical recording material is formed in a film shape as described above. In the present invention, “absorption spectrum” means “absorption spectrum measured when a test piece is formed into a film”. Examples of the method of “forming a film” of the test piece include a method of preparing a “dye-coated disk” in the operation step for calculating the light resistance x described above.

かくして本発明によれば、短波長の青色レーザによって記録・再生が可能であり、高水準の光記録材料が提供される。   Thus, according to the present invention, recording / reproduction is possible with a short-wavelength blue laser, and a high-level optical recording material is provided.

以下、本発明を実施するための最良の形態(以下、発明の実施の形態と言う。)について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することが出来る。また、使用する図面は、本実施の形態を説明するために使用するものであり、実際の大きさを表すものではない。
本実施の形態が適用される光記録材料は、最大吸収波長(λmax)が340nm以上440nm以下である有機色素化合物Aと、最大吸収波長(λmax)が500nm以上900nm以下である金属錯体化合物Bとを含有し、有機色素化合物Aの含有量が金属錯体化合物Bの含有量よりも多く、下記式で算出された耐光性xが30%以上となるように有機色素化合物Aと金属錯体化合物Bとを含有する。
Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as an embodiment of the present invention) will be described in detail. The present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications can be made within the scope of the invention. Also, the drawings used are used to describe the present embodiment and do not represent the actual size.
The optical recording material to which the present embodiment is applied includes an organic dye compound A having a maximum absorption wavelength (λmax) of 340 nm to 440 nm, a metal complex compound B having a maximum absorption wavelength (λmax) of 500 nm to 900 nm, and The organic dye compound A and the metal complex compound B so that the content of the organic dye compound A is greater than the content of the metal complex compound B and the light resistance x calculated by the following formula is 30% or more. Containing.

耐光性x={(I/I)×100}
(但し、上記式中、Iは、有機色素化合物A及び金属錯体化合物B混合物の分光光度計により測定された膜の吸収スペクトルにおいて、波長範囲340nm〜440nmに存在する吸収極大の吸光度である。Iは、有機色素化合物A及び金属錯体化合物B混合物の膜に光照射処理を施した後、分光光度計により測定された膜の吸収スペクトルにおいて、波長範囲340nm〜440nmに存在する吸収極大の吸光度である。)
Light resistance x = {(I 1 / I 0 ) × 100}
(In the above formula, I 0 is the absorbance at the absorption maximum existing in the wavelength range of 340 nm to 440 nm in the absorption spectrum of the film measured by the spectrophotometer of the organic dye compound A and the metal complex compound B mixture). I 1 is the absorbance of the absorption maximum present in the wavelength range of 340 nm to 440 nm in the absorption spectrum of the film measured by a spectrophotometer after the film of the organic dye compound A and the metal complex compound B mixture is irradiated with light. .)

ここで、上記耐光性xは、下記操作ステップにより算出される。
(操作ステップ)
(ステップ1)有機色素化合物Aと金属錯体化合物Bとを含有する溶液を透明基板上にスピンコートした後に乾燥し、色素塗布ディスクを調製する。
(ステップ2)分光光度計を用いて、波長300nm〜900nmにおいて、(ステップ1)で調製した色素塗布ディスクの吸収スペクトルを測定し、波長範囲340nm〜440nmに存在する吸収極大の吸光度をIとする。
(ステップ3)(ステップ1)で調製した色素塗布ディスクに、キセノンランプを250W/mで8時間照射する光照射処理を施した後、(ステップ2)と同じ条件で吸収スペクトルを測定し、波長範囲340nm〜440nmに存在する吸収極大の吸光度をIとする。
(ステップ4)(ステップ2)における(I)と、(ステップ3)における(I)に基づき、{(I/I)×100}を算出する。
Here, the light resistance x is calculated by the following operation steps.
(Operation steps)
(Step 1) A solution containing the organic dye compound A and the metal complex compound B is spin-coated on a transparent substrate and then dried to prepare a dye-coated disk.
(Step 2) Using a spectrophotometer, the absorption spectrum of the dye-coated disk prepared in (Step 1) is measured at a wavelength of 300 nm to 900 nm, and the absorbance of the absorption maximum existing in the wavelength range of 340 nm to 440 nm is expressed as I 0 . To do.
(Step 3) The dye-coated disk prepared in (Step 1) was subjected to a light irradiation treatment in which a xenon lamp was irradiated at 250 W / m 2 for 8 hours, and then the absorption spectrum was measured under the same conditions as in (Step 2). the absorbance of the absorption maximum present in the wavelength range 340nm~440nm and I 1.
(Step 4) Based on (I 0 ) in (Step 2) and (I 1 ) in (Step 3), {(I 1 / I 0 ) × 100} is calculated.

上記のようにすることにより、(a)記録感度等の記録特性を向上させることが出来、(b)耐光性を向上させることができ、さらに、(c)光学記録媒体の基板上への塗布時の塗膜性を向上させることができる。
尚、有機色素化合物Aの最大吸収波長(λmax)が340nm以上440nm以下であれば、青色レーザの波長域に適切な吸収をもつ。このため、有機色素化合物Aを用いることにより、青色レーザに用いることができる記録感度を有する光学記録媒体を得ることができる。有機色素化合物Aの最大吸収波長(λmax)がこの範囲を超える場合には、吸収が少なすぎて十分な記録が行えない、あるいは、吸収が大きすぎて十分な反射率が得られないという問題が起こりうる。
By doing as described above, (a) recording characteristics such as recording sensitivity can be improved, (b) light resistance can be improved, and (c) optical recording medium is coated on a substrate. The coating property at the time can be improved.
If the maximum absorption wavelength (λmax) of the organic dye compound A is 340 nm or more and 440 nm or less, the organic dye compound A has appropriate absorption in the wavelength region of the blue laser. Therefore, by using the organic dye compound A, an optical recording medium having a recording sensitivity that can be used for a blue laser can be obtained. When the maximum absorption wavelength (λmax) of the organic dye compound A exceeds this range, there is a problem that the absorption is too small to perform sufficient recording, or the absorption is too large to obtain a sufficient reflectance. It can happen.

(a)については、本実施の形態で使用する金属錯体化合物Bは、記録再生に直接関与する有機色素化合物Aの吸収スペクトルに影響を与えないために、最大吸収波長(λmax)が通常500nm以上、好ましくは550nm以上、好ましくは620nm以上、より好ましくは680nm以上、通常900nm以下、好ましくは850nm以下、さらに好ましくは800nm以下、のような、可視光から近赤外の領域に最大吸収波長(λmax)をもつことが必要である。また、重量比は、有機色素化合物A>金属錯体化合物Bである必要がある。そうでないと、波長の異なる成分が記録特性にかかわることになり、記録特性が損なわれる可能性がある。有機色素化合物Aと金属錯体化合物Bとの合計量を100重量%としたときの金属錯体化合物Bの含有量は40重量%以下、より好ましくは35重量%以下、さらに好ましくは30重量%以下である。   As for (a), the metal complex compound B used in the present embodiment does not affect the absorption spectrum of the organic dye compound A directly involved in recording / reproduction, so that the maximum absorption wavelength (λmax) is usually 500 nm or more. , Preferably 550 nm or more, preferably 620 nm or more, more preferably 680 nm or more, usually 900 nm or less, preferably 850 nm or less, more preferably 800 nm or less, and the maximum absorption wavelength (λmax ). The weight ratio needs to be organic dye compound A> metal complex compound B. Otherwise, the components having different wavelengths are related to the recording characteristics, and the recording characteristics may be impaired. When the total amount of the organic dye compound A and the metal complex compound B is 100% by weight, the content of the metal complex compound B is 40% by weight or less, more preferably 35% by weight or less, and further preferably 30% by weight or less. is there.

また、金属錯体化合物Bが、このような可視光領域の吸収を有することにより、この領域の光が金属錯体化合物Bに吸収され、有機色素化合物Aへの光学的ダメージが軽減され、(b)の目的が達成されると考えられる。
上記のように、金属錯体化合物Bは、まず、有機色素化合物Aの光学的ダメージを軽減するために含有させる。具体的には、金属錯体化合物Bを含有させて、上記試験方法で測定される耐光性xを30%以上とする。従って、有機色素化合物A及び金属錯体化合物Bのそれぞれの含有量は、有機色素化合物A単独での耐光性、金属錯体化合物B単独での耐光性を考慮して決めることができる。
Further, since the metal complex compound B has such absorption in the visible light region, the light in this region is absorbed by the metal complex compound B, and optical damage to the organic dye compound A is reduced, (b) It is thought that the purpose of is achieved.
As described above, the metal complex compound B is first contained in order to reduce the optical damage of the organic dye compound A. Specifically, the metal complex compound B is contained, and the light resistance x measured by the above test method is set to 30% or more. Therefore, the respective contents of the organic dye compound A and the metal complex compound B can be determined in consideration of the light resistance of the organic dye compound A alone and the light resistance of the metal complex compound B alone.

つまり、有機色素化合物Aは、単独で用いた場合の耐光性xが30%未満となるような材料である。従って、有機色素化合物Aの単独での耐光性xが、30%未満の範囲において比較的高い値となる場合は、金属錯体化合物Bの含有量を比較的少なくすることができる。一方で、有機色素化合物Aの単独での耐光性xが、30%未満の範囲において比較的低い値となる場合は、金属錯体化合物Bの含有量を比較的多くする必要がある。このように、有機色素化合物Aの単独での耐光性xの程度によって、金属錯体化合物Bの含有量が決まってくる。
また、金属錯体化合物Bを単独で使用した場合の耐光性xの程度によって、金属錯体化合物Bの含有量が決まる。つまり、金属錯体化合物Bは、単独での耐光性xが高ければ高いほど、少ない含有量で光記録材料の耐光性xを30%以上に確保することができる。
That is, the organic dye compound A is a material having a light resistance x of less than 30% when used alone. Therefore, when the light resistance x of the organic dye compound A alone is a relatively high value in the range of less than 30%, the content of the metal complex compound B can be relatively reduced. On the other hand, when the light resistance x of the organic dye compound A alone is a relatively low value in the range of less than 30%, the content of the metal complex compound B needs to be relatively large. Thus, the content of the metal complex compound B is determined by the degree of the light resistance x of the organic dye compound A alone.
Further, the content of the metal complex compound B is determined by the degree of light resistance x when the metal complex compound B is used alone. That is, the higher the light resistance x alone of the metal complex compound B, the light resistance x of the optical recording material can be secured to 30% or more with a small content.

本発明者等は、光記録材料の耐光性xと金属錯体化合物Bとの間に以下のような関係が存在するのではないかと推察している。つまり、光記録材料の耐光性xを向上させるためには、金属錯体化合物Bの波長300nm〜400nm近傍の”弱い吸収体”を利用することが好ましいと考えられる。この“弱い吸収帯”は、金属イオン由来の配位子との相互作用の小さい吸収帯あるいは配位子由来の弱い吸収帯と考えられる。その“弱い吸収帯”が、有機色素化合物Aの最大吸収波長(λmax)の光劣化をシールドする、あるいはマスキングするもの効果を有すると考えられる。この“弱い吸収帯”は金属錯体化合物Bの最大吸収波長(λmax)と連動していることが多い。   The present inventors presume that the following relationship exists between the light resistance x of the optical recording material and the metal complex compound B. That is, in order to improve the light resistance x of the optical recording material, it is considered preferable to use a “weak absorber” of the metal complex compound B in the vicinity of a wavelength of 300 nm to 400 nm. This “weak absorption band” is considered to be an absorption band having a small interaction with a ligand derived from a metal ion or a weak absorption band derived from a ligand. The “weak absorption band” is considered to have an effect of shielding or masking the photodegradation of the organic dye compound A at the maximum absorption wavelength (λmax). This “weak absorption band” is often linked to the maximum absorption wavelength (λmax) of the metal complex compound B.

具体的には、金属錯体化合物Bの最大吸収波長(λmax)が短波長側であれば、この“弱い吸収帯”も短波長側に見られる。本発明者らの検討で、耐光性試験で最も色素の劣化に関与すると考えられる350nm〜500nm近傍、特に400nm近傍にこの“弱い吸収帯”を有する金属錯体化合物Bは、最大吸収波長(λmax)を620nmよりも長波長側に、より具体的には680nm以上に有するものであることがわかった(図7参照)。500nm〜620nmに最大吸収波長(λmax)を有する金属錯体化合物Bは、かかる“弱い吸収帯”が350nmよりも短波長となり、400nm近傍の吸光度が非常に小さくなることが多い(図8参照)。   Specifically, if the maximum absorption wavelength (λmax) of the metal complex compound B is on the short wavelength side, this “weak absorption band” is also found on the short wavelength side. The metal complex compound B having this “weak absorption band” in the vicinity of 350 nm to 500 nm, particularly in the vicinity of 400 nm, which is considered to be most involved in the deterioration of the dye in the light resistance test, is the maximum absorption wavelength (λmax). Was found to be longer than 620 nm, more specifically 680 nm or more (see FIG. 7). In the metal complex compound B having the maximum absorption wavelength (λmax) at 500 nm to 620 nm, the “weak absorption band” is shorter than 350 nm, and the absorbance near 400 nm is often very small (see FIG. 8).

従って、400nm近傍に“弱い吸収帯”を有する、680nm以上に最大吸収波長(λmax)を有する金属錯体化合物Bを用いる場合は、金属錯体化合物Bの含有量を少なくできると考えられる。一方、500nm以上620nm以下に最大吸収波長(λmax)を有する金属錯体化合物Bは、有機色素化合物Aの耐光性向上に対する効果が小さいため、所望の耐光性を確保するための金属錯体化合物Bの量をより多く必要とすることになると考えられる。   Therefore, when the metal complex compound B having a “weak absorption band” in the vicinity of 400 nm and having the maximum absorption wavelength (λmax) at 680 nm or more is used, it is considered that the content of the metal complex compound B can be reduced. On the other hand, since the metal complex compound B having the maximum absorption wavelength (λmax) in the range of 500 nm to 620 nm is small in the effect of improving the light resistance of the organic dye compound A, the amount of the metal complex compound B for ensuring the desired light resistance Will be needed more.

本実施の形態においては、上記で説明したように、金属錯体化合物Bの最大吸収波長(λmax)や有機色素化合物Aそのものの耐光性により、実用性のある耐光性が確保されるための金属錯体化合物Bの重量比が異なり、重量比を一義的に数値表現することはできない。従って、本実施の形態においては、所定の耐光性が30%以上となるように有機色素化合物Aと金属錯体化合物Bとを含有させればよい。   In the present embodiment, as described above, the metal complex for ensuring practical light resistance by the maximum absorption wavelength (λmax) of the metal complex compound B and the light resistance of the organic dye compound A itself. The weight ratio of Compound B is different, and the weight ratio cannot be expressed numerically uniquely. Therefore, in the present embodiment, the organic dye compound A and the metal complex compound B may be contained so that the predetermined light resistance is 30% or more.

上記の理由により、金属錯体化合物Bの最大吸収波長(λmax)が500nm〜620nmの時は、有機色素化合物Aと金属錯体化合物Bとの合計量を100重量%としたときの金属錯体化合物Bの含有量を20重量%以上40重量%以下とすることが好ましい。それ以外の波長範囲の金属錯体化合物Bの含有量としては、5重量%以上が好ましく、より好ましくは10重量%以上である。上限は40重量%以下である。   For the above reasons, when the maximum absorption wavelength (λmax) of the metal complex compound B is 500 nm to 620 nm, the total amount of the organic dye compound A and the metal complex compound B is 100% by weight. The content is preferably 20% by weight or more and 40% by weight or less. The content of the metal complex compound B in the other wavelength range is preferably 5% by weight or more, more preferably 10% by weight or more. The upper limit is 40% by weight or less.

金属錯体化合物Bの最大吸収波長(λmax)が680nm以上900nm以下の場合には、400nm近傍に“弱い吸収帯”が位置することになるため、より少ない量で所望の耐光性を確保することが可能である。   When the maximum absorption wavelength (λmax) of the metal complex compound B is 680 nm or more and 900 nm or less, a “weak absorption band” is located in the vicinity of 400 nm, so that it is possible to secure desired light resistance with a smaller amount. Is possible.

尚、上記の理由で、金属錯体化合物Bの最大吸収波長(λmax)と有機色素化合物Aの最大吸収波長(λmax)との差は100nm以上が好ましく、より好ましくは150nm、さらに好ましくは200nm以上、より一層好ましくは300nm以上であり(図10参照)、上限は500nm、より好ましくは450nm、さらに好ましくは400nmである。   For the above reason, the difference between the maximum absorption wavelength (λmax) of the metal complex compound B and the maximum absorption wavelength (λmax) of the organic dye compound A is preferably 100 nm or more, more preferably 150 nm, still more preferably 200 nm or more, More preferably, it is 300 nm or more (see FIG. 10), and the upper limit is 500 nm, more preferably 450 nm, and still more preferably 400 nm.

また、(c)塗布時の塗膜性(製膜性)が向上するのは、金属錯体化合物Bが、有機色素化合物Aに比べ、非常に嵩高い立体構造をとるため、例えば有機色素化合物A単独では結晶化しやすい構造のものでも、金属錯体化合物Bにより適度に分散されアモルファス状になり、結晶化が妨げられるためと考えられる。   In addition, (c) the coating property (film forming property) at the time of coating is improved because the metal complex compound B has a very bulky three-dimensional structure as compared with the organic dye compound A. For example, the organic dye compound A Even if it has a structure that is easily crystallized by itself, it is considered that the metal complex compound B is appropriately dispersed and becomes amorphous, thereby preventing crystallization.

また、光記録材料における金属錯体化合物Bの金属錯体化合物の含有量が過度に小さいと、塗布時の塗膜性、保存安定性、耐光性等の記録特性の向上が見られない。また、含有量が過度に大きいと、有機色素化合物Aの含有量が低減し、十分な記録を行うことが出来ない。   Further, when the content of the metal complex compound B of the metal complex compound B in the optical recording material is excessively small, no improvement in recording properties such as coating properties at the time of coating, storage stability, and light resistance is observed. On the other hand, if the content is excessively large, the content of the organic dye compound A is reduced, and sufficient recording cannot be performed.

尚、耐光性xは0%でなければ実際には使用できる。しかしながら、紫外線硬化樹脂を使用して貼り合わせやカバー層、保護コート層を形成したり、記録部を繰り返し再生する際の劣化を防止するという観点から、通常、耐光性xは、好ましくは30%以上、より好ましくは50%以上、さらに好ましくは80%以上、より一層好ましくは90%以上であると考えられる。
耐光性xの評価に用いる光源、即ち、光照射処理としては、太陽光暴露、キセノンランプ光照射等の方法が知られている(ISO−105−B02参照)。例えば、太陽光(自然昼光)の波長分布に類似した分布を有する光(キセノンランプが一般的である。)を、WoolScale5級(または、European Reference #5)に相当する量だけサンプルに照射したときの(I/I)を測定すればよい。尚、かかる光照射処理は、通常、色素の膜を光源側に向けて行う。
If the light resistance x is not 0%, it can be actually used. However, the light resistance x is preferably 30% from the viewpoint of forming a laminate, a cover layer, a protective coat layer using an ultraviolet curable resin, or preventing deterioration when the recording portion is repeatedly reproduced. Thus, more preferably 50% or more, still more preferably 80% or more, and even more preferably 90% or more.
As a light source used for evaluation of light resistance x, that is, light irradiation treatment, methods such as sunlight exposure and xenon lamp light irradiation are known (see ISO-105-B02). For example, the sample is irradiated with light having a distribution similar to the wavelength distribution of sunlight (natural daylight) (a xenon lamp is generally used) by an amount corresponding to WoolScale 5 (or European Reference # 5). (I 1 / I 0 ) may be measured. Such light irradiation treatment is usually performed with the dye film facing the light source.

本実施の形態における耐光性xは、より具体的には、下記(1)〜(4)の操作を行うことによって求める。
(1)有機色素化合物Aと金属錯体化合物Bとを有機溶媒に含有させ、透明基板にスピンコートした後に乾燥し、色素塗布ディスクを得る。
(2)波長300nm〜900nmまでの(1)の色素塗布ディスクの吸収スペクトルを紫外・可視分光光度計で測定し、340nm〜440nmの波長範囲にある吸収極大の吸光度をIとする。
(3)(1)の塗布ディスクを耐光性試験機内において、キセノンランプを250W/mで8時間照射した後、(2)と同じ条件で吸収スペクトルを測定し、340nm〜440nmの波長範囲にある吸収極大の吸光度をIとする。
(4)(I/I)×100を算出し、それを耐光性xとする。
More specifically, the light resistance x in the present embodiment is obtained by performing the following operations (1) to (4).
(1) An organic dye compound A and a metal complex compound B are contained in an organic solvent, spin-coated on a transparent substrate, and then dried to obtain a dye-coated disk.
(2) The absorption spectrum of the dye-coated disk (1) having a wavelength of 300 nm to 900 nm is measured with an ultraviolet / visible spectrophotometer, and the absorbance at the absorption maximum in the wavelength range of 340 nm to 440 nm is defined as I 0 .
(3) After irradiating the coated disk of (1) in a light resistance tester for 8 hours with a xenon lamp at 250 W / m 2 , an absorption spectrum is measured under the same conditions as in (2), and the wavelength range of 340 nm to 440 nm is obtained. The absorbance at a certain absorption maximum is I 1 .
(4) Calculate (I 1 / I 0 ) × 100 and set it as light fastness x.

以下、(1)〜(4)の操作についてさらに詳細に説明する。
(1)の操作
有機溶媒は、有機色素化合物Aと金属錯体化合物Bとを含有した時に、その吸収を、分光光度計が検出することが可能な程度溶解するものであり、基板材料を溶かすものでなければ、特に制限されない。尚、溶解このような溶媒としては例えば、アルコール系溶媒を挙げることができる。より具体的には、例えば、テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール等を挙げることができる。本実施の形態の実施例においては、テトラフルオロプロパノールを使用した。上記化合物を有機溶媒に含有させたところで、超音波分散器にかけて、なるべく固形分(有機色素化合物Aと金属錯体化合物B)上記を上記有機溶媒に溶解させることが好ましい(以下、溶液とする。)。上記固形分は、可能な限り、ろ過により除去する。何故ならば、固形分が膜中に存在する場合には、それを核として、膜の結晶化が起こる可能性があるからである。
Hereinafter, the operations (1) to (4) will be described in more detail.
Operation of (1) When the organic solvent contains the organic dye compound A and the metal complex compound B, its absorption is dissolved to such an extent that the spectrophotometer can detect it, and dissolves the substrate material. Otherwise, there is no particular limitation. Examples of the solvent that dissolves include alcohol solvents. More specifically, for example, tetrafluoropropanol, octafluoropentanol and the like can be mentioned. In the examples of the present embodiment, tetrafluoropropanol was used. When the above compound is contained in an organic solvent, it is preferable to dissolve the solid content (the organic dye compound A and the metal complex compound B) in the organic solvent as much as possible through an ultrasonic disperser (hereinafter referred to as a solution). . The solid content is removed by filtration as much as possible. This is because if a solid is present in the film, the film may crystallize using it as a nucleus.

次に、有機色素化合物A及び金属錯体化合物Bの含有する溶液(本実施の形態の実施例では有機色素化合物Aと金属錯体化合物Bとの合計量を、溶液重量の0.6重量%とした。)を基板上に塗布する。この溶液濃度は、有機色素化合物A及び金属錯体化合物Bの溶解性も考慮して決める。   Next, a solution containing the organic dye compound A and the metal complex compound B (in the example of the present embodiment, the total amount of the organic dye compound A and the metal complex compound B was 0.6% by weight of the solution weight) .) Is applied onto the substrate. This solution concentration is determined in consideration of the solubility of the organic dye compound A and the metal complex compound B.

基板としては、可視光に対する透明性が確保されるものであればよい。基板としては、例えば、ガラス基板や樹脂基板が挙げられるが、上記溶液の表面張力との兼ね合いから、良好な膜が形成できるという点で、樹脂基板を用いることが好ましい。より好ましくは、CDやDVDで実用的に用いられているポリカーボネート基板を用いる。ポリカーボネート基板を用いる場合には、例えば、厚さ0.6mmあるいは1.2mmのものを用いればよい。   Any substrate can be used as long as transparency to visible light is ensured. Examples of the substrate include a glass substrate and a resin substrate, but it is preferable to use a resin substrate in that a good film can be formed in consideration of the surface tension of the solution. More preferably, a polycarbonate substrate that is practically used in CDs and DVDs is used. When a polycarbonate substrate is used, for example, a substrate having a thickness of 0.6 mm or 1.2 mm may be used.

また、基板への塗布は、特に制限されないが、光記録媒体の記録層の塗布に汎用的に用いられている方法として、スピンコート塗布が挙げられる。スピンコート塗布を用いる場合の具体的な方法としては、厚さ0.6mm/直径120mmの円盤状のポリカーボネート基板を800rpmで回転させながら、有機色素化合物A及び金属錯体化合物Bの含有する溶液を円盤の中心部分付近に滴下して塗布する方法が挙げられる。この時の溶液濃度、スピンコートの回転数は、吸収が検出できる限り特に制限されないが、吸収極大の吸光度は0.1以上、より好ましくは0.2以上、さらに好ましくは0.3以上である。上限は、およそ1.0である。できれば、記録再生に好適な膜厚となるように、上記濃度および回転数の条件設定することが好ましい。
塗布後、塗膜から有機溶媒を除去するために塗膜を乾燥する。乾燥温度は、有機溶媒が蒸発するような温度範囲で、特に制限はされないが、60℃〜100℃が好ましい。
Application to the substrate is not particularly limited, but spin coating is used as a method generally used for applying the recording layer of the optical recording medium. As a specific method when spin coating is used, a solution containing the organic dye compound A and the metal complex compound B is rotated while rotating a disk-shaped polycarbonate substrate having a thickness of 0.6 mm / diameter of 120 mm at 800 rpm. The method of dripping and apply | coating to the center part vicinity is mentioned. The solution concentration and the rotational speed of spin coating at this time are not particularly limited as long as absorption can be detected, but the absorbance at the absorption maximum is 0.1 or more, more preferably 0.2 or more, and still more preferably 0.3 or more. . The upper limit is approximately 1.0. If possible, it is preferable to set conditions for the density and the number of rotations so that the film thickness is suitable for recording and reproduction.
After coating, the coating is dried to remove the organic solvent from the coating. The drying temperature is a temperature range in which the organic solvent evaporates and is not particularly limited, but is preferably 60 ° C to 100 ° C.

(2)の操作
(1)で得られた色素塗布ディスクの300nm〜900nmまでの吸収スペクトルを紫外・可視分光光度計で測定する。紫外・可視分光光度計としては、公知の装置を用いることができる。このような装置としては、例えば、株式会社日立製作所製U−3300が挙げられる。そして、300nm〜900nmまでの吸収スペクトルにおいて、340nm〜440nmの波長範囲における最大の吸光度を示す波長(吸収極大波長)の吸光度Iを求める。
(2) Operation The absorption spectrum from 300 nm to 900 nm of the dye-coated disk obtained in (1) is measured with an ultraviolet / visible spectrophotometer. A known apparatus can be used as the ultraviolet / visible spectrophotometer. An example of such an apparatus is U-3300 manufactured by Hitachi, Ltd. Then, in the absorption spectrum from 300 nm to 900 nm, the absorbance I 0 of the wavelength (absorption maximum wavelength) showing the maximum absorbance in the wavelength range of 340 nm to 440 nm is obtained.

(3)の操作
(1)の色素塗布ディスクに対して、キセノンランプを250W/mで8時間照射する。キセノンランプの照射は、例えば、耐光性試験機を用いて行えばよい。その後、上記(2)と同様にして、色素塗布ディスクの300nm〜900nmまでの吸収スペクトルを紫外・可視分光光度計で測定し、340nm〜440nmの波長範囲における最大の吸光度を示す波長の吸光度Iを求める。
Operation (3) The xenon lamp is irradiated at 250 W / m 2 for 8 hours to the dye-coated disk of (1). Irradiation with a xenon lamp may be performed using, for example, a light resistance tester. Thereafter, in the same manner as in the above (2), the absorption spectrum from 300 nm to 900 nm of the dye-coated disk was measured with an ultraviolet / visible spectrophotometer, and the absorbance I 1 having a wavelength indicating the maximum absorbance in the wavelength range of 340 nm to 440 nm. Ask for.

(4)の操作
上記(2)、(3)で求めた、I、Iを用いて(I/I)×100を算出し、これを耐光性xとする。
尚、有機色素化合物A又は金属錯体化合物Bの単独での耐光性xを求める場合には、上記有機色素化合物Aと金属錯体化合物Bの併用のかわりに、耐光性xを求めたい有機色素化合物A又は金属錯体化合物Bを単独で用いればよい。
(4) Operation (I 0 / I 1 ) × 100 is calculated using I 0 and I 1 obtained in (2) and (3) above, and this is defined as light resistance x.
In addition, when calculating | requiring the light fastness x of the organic dye compound A or the metal complex compound B alone, instead of the combined use of the organic dye compound A and the metal complex compound B, the organic dye compound A for which the light fastness x is desired. Alternatively, the metal complex compound B may be used alone.

本実施の形態で用いる金属錯体化合物Bとしては、例えば、アゾ系金属錯体化合物あるいはインドアニリン系金属錯体化合物を挙げることができる。これらアゾ系金属錯体化合物あるいはインドアニリン系金属錯体化合物は、光記録材料の用途を考慮して、水難溶性であることが好ましい。以下、これらアゾ系金属錯体化合物あるいはインドアニリン系金属錯体化合物の具体例について説明する。   Examples of the metal complex compound B used in the present embodiment include an azo metal complex compound or an indoaniline metal complex compound. These azo metal complex compounds or indoaniline metal complex compounds are preferably poorly water-soluble in consideration of the use of optical recording materials. Hereinafter, specific examples of these azo metal complex compounds or indoaniline metal complex compounds will be described.

本実施の形態で使用する金属錯体化合物Bとしては、一般式(I)で示されるアゾ色素と金属イオンからなるアゾ系金属錯体化合物、一般式(II)で示される化合物と金属イオン、任意のアニオンからなる金属錯体化合物を挙げることができる。尚、金属錯体化合物は同一種に限らず、複数種の金属錯体化合物を使用しても良い。   As the metal complex compound B used in the present embodiment, an azo metal complex compound composed of an azo dye represented by the general formula (I) and a metal ion, a compound represented by the general formula (II) and a metal ion, any Mention may be made of metal complex compounds composed of anions. In addition, a metal complex compound is not restricted to the same kind, You may use multiple types of metal complex compounds.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

一般式(I)で示される化合物と金属とがキレート結合することにより金属錯体化合物が形成される。一般式(I)で表されるアゾ化合物の分子量は、通常、2000以下であり、好ましくは1500以下である。   A metal complex compound is formed by a chelate bond between the compound represented by the general formula (I) and a metal. The molecular weight of the azo compound represented by the general formula (I) is usually 2000 or less, preferably 1500 or less.

本実施の形態で使用する金属錯体化合物Bを構成する金属は、一般式(I)と配位形成能力があれば特に限定されず、遷移元素または典型元素でもよく、その酸化数も限定されない。また、錯体における金属とアゾ化合物の比も特に問わないが、遷移金属1に対してアゾ化合物2の割合で配位した構造が好ましい。安定な錯体構造をとるためには、2価あるいは3価のイオンを有する遷移金属が好ましい。中でも特に、ニッケル、コバルト、銅、鉄、亜鉛、白金、パラジウム、マンガンからなる群から選ばれることが好ましい。   The metal constituting the metal complex compound B used in the present embodiment is not particularly limited as long as it has the ability to form coordination with the general formula (I), and may be a transition element or a typical element, and the oxidation number is not limited. Moreover, the ratio of the metal and the azo compound in the complex is not particularly limited, but a structure coordinated at a ratio of the azo compound 2 to the transition metal 1 is preferable. In order to obtain a stable complex structure, a transition metal having a divalent or trivalent ion is preferable. Among these, it is particularly preferable to be selected from the group consisting of nickel, cobalt, copper, iron, zinc, platinum, palladium, and manganese.

一般式(I)で表される化合物において、環Aは、環Aが結合している炭素原子及び窒素原子とともに形成される含窒素複素芳香環を表す。芳香環の構造は、配位可能な位置に窒素原子を有していれば単環でも縮合環でも良く、例えば、以下に例示するような芳香環が挙げられる。   In the compound represented by the general formula (I), the ring A represents a nitrogen-containing heteroaromatic ring formed together with the carbon atom and the nitrogen atom to which the ring A is bonded. The structure of the aromatic ring may be a single ring or a condensed ring as long as it has a nitrogen atom at a coordinateable position, and examples thereof include aromatic rings as exemplified below.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

ここで、D〜Dは、水素原子または置換されてもよいアルキル基、アシル基のいずれかを表す。また、芳香環は水素原子以外に任意の置換基を有していてもよく、その置換基の数も位置にも特に制限はない。この中で、環Aとして好ましい構造としては、5〜6員環の単環及び2縮合環であり、中でも、合成の容易さと溶解性の点からベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンズイミダゾール環、イミダゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、ピリジン環、ピラゾール環、イソキサゾール環が好ましい。尚、一般式(I)で示されるアゾ化合物と金属とがキレート結合する結合には、例えば、次のaとa’,bとb’の様な形態を含むものとする。
尚、Mは中心金属を表す。
Here, D 1 to D 9 is a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group, and an acyl group. The aromatic ring may have an arbitrary substituent other than a hydrogen atom, and the number and position of the substituent are not particularly limited. Among these, preferable structures as the ring A include a 5-membered monocyclic ring and a 2-condensed ring. Among them, a benzothiazole ring, a benzoxazole ring, a benzimidazole ring, from the viewpoint of ease of synthesis and solubility, An imidazole ring, thiazole ring, thiadiazole ring, triazole ring, oxazole ring, pyridine ring, pyrazole ring and isoxazole ring are preferred. The bond in which the azo compound represented by the general formula (I) and the metal are chelate-bonded includes, for example, the following forms such as a and a ′, b and b ′.
M represents a central metal.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

以下、一般式(I)におけるR〜Rについて説明する。
一般式(I)において、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等の直鎖または分岐のアルキル基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の環状アルキル基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;ビニル基、プロペニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基を表す。
Hereinafter, R 1 to R 5 in the general formula (I) will be described.
In the general formula (I), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert- A linear or branched alkyl group such as a butyl group; a cyclic alkyl group such as a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, or a cyclohexyl group; an aralkyl group such as a benzyl group or a phenethyl group; an alkenyl group such as a vinyl group, a propenyl group, or a hexenyl group; Represent.

これらのR、Rが示す構造は、一般的にアルキル鎖部分の炭素数を増やしたり後述するような縮合環構造をとることにより、より長波長にλmaxがシフトするが、あまり炭素数が多すぎても波長的にはそれほど効果が見られず、逆にグラムあたりの吸収強度が下がる、生成物が固形化しないなどの問題も起こりうる。 These structures represented by R 1 and R 2 generally shift λmax to a longer wavelength by increasing the number of carbon atoms in the alkyl chain portion or by taking a condensed ring structure as described later, but the number of carbon atoms is not so much. If the amount is too large, the wavelength is not so effective, and conversely the absorption intensity per gram may be lowered, and the product may not be solidified.

そのためR、Rとして好ましくは炭素数1〜12の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数7〜20のアラルキル基(これらの芳香族環部分は任意の置換基を有していてもよい)、であり、特に好ましくは炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜8の環状アルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基である。 Therefore, as R 1 and R 2 , a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms (these aromatic ring portions are optional) Particularly preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms. It is.

また、R及びRの一方もしくは双方が隣接するベンゼン環のRまたはRと結合して飽和炭素環(縮合環)を形成しても良く、またR、Rがそれぞれ独立に酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子を有し、その先でR、Rと縮合して飽和複素環(縮合環)を形成してもよい。さらにRとRとは、相互に結合して飽和炭素環構造(縮合環)を形成してもよい。またこのとき炭素原子以外に他のヘテロ原子を1ないし複数個含む飽和複素環(縮合環)を形成していてもよい。このようにして形成される環(縮合環)は、5〜7員環が好ましく、更に好ましくは5〜6員環である。更にこれらのR及びRが結合して形成される環(縮合環)や、R、Rがベンゼン環と結合して形成される環には、置換基が結合していてもよい。 One or both of R 1 and R 2 may be bonded to R 3 or R 5 of the adjacent benzene ring to form a saturated carbocycle (fused ring), and R 3 and R 5 are each independently It may have a heteroatom such as an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom, and may be condensed with R 1 or R 2 to form a saturated heterocyclic ring (condensed ring). Further, R 1 and R 2 may be bonded to each other to form a saturated carbocyclic structure (condensed ring). At this time, a saturated heterocyclic ring (condensed ring) containing one or more other hetero atoms in addition to the carbon atom may be formed. The ring (fused ring) thus formed is preferably a 5- to 7-membered ring, more preferably a 5- to 6-membered ring. Furthermore, a substituent may be bonded to a ring (condensed ring) formed by combining R 1 and R 2 or a ring formed by combining R 1 and R 2 with a benzene ring. .

ここで、(−NR)が環構造である場合の例としては、以下に示すものが挙げられる。 Here, as an example when (-NR < 1 > R < 2 >) is a ring structure, what is shown below is mentioned.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

ここで、D10〜D12は、水素原子または置換されてもよいアルキル基、アシル基のいずれかを表す。また芳香環は任意の置換基を有していてもよく、その置換基の数や位置も、本発明の要旨の範囲内であれば特に制限はない。 Here, D < 10 > -D < 12 > represents either a hydrogen atom or the alkyl group and acyl group which may be substituted. The aromatic ring may have an arbitrary substituent, and the number and position of the substituent are not particularly limited as long as they are within the scope of the gist of the present invention.

、R、Rは、水素原子または、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−へプチル基等の炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等の炭素数3〜12の環状アルキル基;ビニル基、プロペニル基、ヘキセニル基等の炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルケニル基、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数7〜18のアラルキル基;メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等の炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルコキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基等炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキルチオ基;4−ピペリジル基、モルホリノ基等の単環の飽和複素環基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;メルカプト基;ヒドロキシ基;ホルミル基;−COR34で表されるアシル基;−NR3536で表されるアミノ基;−NHCOR37で表されるアシルアミノ基;−NHCOOR38で表されるカーバメート基;−COOR39で表されるカルボン酸エステル基;−OCOR40で表されるアシルオキシ基;−CONR4142で表されるカルバモイル基;−SO43で表されるスルホニル基;−SOR44で表されるスルフィニル基;−SONR4546で表されるスルファモイル基;−SO47で表されるスルホン酸エステル基;−NHSO48で表されるスルホンアミド基を表す。 R 3 , R 4 and R 5 are each a hydrogen atom or a carbon number such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an n-heptyl group. A linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms such as cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, and adamantyl group; and 2 carbon atoms such as vinyl group, propenyl group, and hexenyl group. 12 straight-chain or branched alkenyl groups, benzyl groups, phenethyl groups and other aralkyl groups having 7 to 18 carbon atoms; methoxy groups, ethoxy groups, n-propoxy groups, isopropoxy groups, n-butoxy groups, sec-butoxy groups A linear or branched alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms such as tert-butoxy group; methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, n-buty A linear or branched alkylthio group having 1 to 12 carbon atoms such as a thio group, a sec-butylthio group, a tert-butylthio group; a monocyclic saturated heterocyclic group such as a 4-piperidyl group and a morpholino group; a fluorine atom, a chlorine atom, represented by -NHCOR 37; amino group represented by -NR 35 R 36; nitro group; cyano group; a mercapto group; hydroxy group; acyl group represented by -COR 34; formyl group halogen atom such as a bromine atom A carbamate group represented by —NHCOOR 38 ; a carboxylic acid ester group represented by —COOR 39 ; an acyloxy group represented by —OCOR 40 ; a carbamoyl group represented by —CONR 41 R 42 ; sulfinyl group represented by -SOR 44;; sulfonyl group represented by 2 R 43 represented by -SO 2 NR 45 R 46 That a sulfamoyl group; represents a sulfonamide group represented by -NHSO 2 R 48; sulfonate group represented by -SO 3 R 47.

ここで、R34、R37、R38、R39、R40、R43、R44、R47、R48は、炭化水素基、または複素環基を表し、R35、R36、R41、R42、R45、R46は水素原子、炭化水素基、複素環基のいずれかを表す。 Here, R 34 , R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 43 , R 44 , R 47 , R 48 represent a hydrocarbon group or a heterocyclic group, and R 35 , R 36 , R 41 , R 42 , R 45 and R 46 represent any of a hydrogen atom, a hydrocarbon group and a heterocyclic group.

34〜R48で表される炭化水素基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−へプチル基等の炭素数1〜18の直鎖または分岐のアルキル基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等の炭素数3〜18の環状アルキル基;ビニル基、プロペニル基、ヘキセニル基等の炭素数2〜18の直鎖または分岐のアルケニル基;シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の炭素数3〜18の環状アルケニル基;ベンジル基、フェネチル基等の炭素数7〜20のアラルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基等の炭素数6〜18アリール基を表す。これらの基のアルキル鎖部分及びアリール基部分は後述するアルキル鎖部分が有し得る置換基で更に置換されていてもよい。 The hydrocarbon group represented by R 34 to R 48 is a carbon such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an n-heptyl group. A linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms; a cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms such as cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and adamantyl group; 2 carbon atoms such as vinyl group, propenyl group and hexenyl group A linear or branched alkenyl group of -18; a cyclic alkenyl group of 3-18 carbon atoms such as a cyclopentenyl group or a cyclohexenyl group; an aralkyl group of 7-20 carbon atoms such as a benzyl group or a phenethyl group; a phenyl group, tolyl Represents an aryl group having 6 to 18 carbon atoms such as a group, a xylyl group and a mesityl group. The alkyl chain part and aryl group part of these groups may be further substituted with a substituent which the alkyl chain part described later may have.

また、R34〜R48で表される複素環基は、4−ピペリジル基、モルホリノ基、2−モルホリニル基、ピペラジル基等の飽和複素環でも、2−フリル基、2−ピリジル基、2−チアゾリル基、2−キノリル基等の芳香族複素環でもよい。これらは複数のヘテロ原子を含んでいても、さらに置換基を有していてもよく、また結合位置も問わない。複素環として好ましい構造のものは、5〜6員環の飽和複素環、5〜6員環の単環及びその2縮合環の芳香族複素環である。 The heterocyclic group represented by R 34 to R 48 may be a saturated heterocyclic ring such as 4-piperidyl group, morpholino group, 2-morpholinyl group, piperazyl group, 2-furyl group, 2-pyridyl group, 2- An aromatic heterocyclic ring such as a thiazolyl group and a 2-quinolyl group may be used. These may contain a plurality of heteroatoms, may further have a substituent, and may have any bonding position. Preferred structures for the heterocyclic ring are a 5- or 6-membered saturated heterocyclic ring, a 5- or 6-membered monocyclic ring and an aromatic heterocyclic ring thereof.

−COR34で表されるアシル基;−NR3536で表されるアミノ基;−NHCOR37で表されるアシルアミノ基;−NHCOOR38で表されるカーバメート基;−COOR39で表されるカルボン酸エステル基;−OCOR40で表されるアシルオキシ基;−CONR4142で表されるカルバモイル基;−SO43で表されるスルホニル基;−SOR44で表されるスルフィニル基;−SONR4546で表されるスルファモイル基;−SO47で表されるスルホン酸エステル基;−NHSO48で表されるスルホンアミド基の具体例としては、以下に示すものが挙げられる。 An acyl group represented by —COR 34 ; an amino group represented by —NR 35 R 36 ; an acylamino group represented by —NHCOR 37 ; a carbamate group represented by —NHCOOR 38 ; a carvone represented by —COOR 39 Acid ester group; acyloxy group represented by -OCOR 40 ; carbamoyl group represented by -CONR 41 R 42 ; sulfonyl group represented by -SO 2 R 43 ; sulfinyl group represented by -SOR 44 ; -SO sulfonic acid ester group represented by -SO 3 R 47;; sulfamoyl group represented by 2 NR 45 R 46 examples of the sulfonamide group represented by -NHSO 2 R 48, include those shown below It is done.

アシル基(−COR34)としては、以下の構造の置換基が挙げられる。 Examples of the acyl group (—COR 34 ) include substituents having the following structure.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

アミノ基(−NR3536)としては、以下の構造の置換基が挙げられる。 Examples of the amino group (—NR 35 R 36 ) include substituents having the following structure.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

アシルアミノ基(−NHCOR37)としては、以下の構造の置換基が挙げられる。 Examples of the acylamino group (—NHCOR 37 ) include substituents having the following structure.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

カーバメート基(−NHCOOR38)としては、以下の構造の置換基が挙げられる。 Examples of the carbamate group (—NHCOOR 38 ) include substituents having the following structure.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

カルボン酸エステル基(−COOR39)としては、以下の構造の置換基が挙げられる。 Examples of the carboxylic acid ester group (—COOR 39 ) include substituents having the following structure.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

アシルオキシ基(−OCOR40)としては、以下の構造の置換基が挙げられる。 Examples of the acyloxy group (—OCOR 40 ) include substituents having the following structure.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

カルバモイル基(−CONR4142)としては、以下の構造の置換基が挙げられる。 Examples of the carbamoyl group (—CONR 41 R 42 ) include substituents having the following structure.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

スルホニル基(−SO43)としては、以下の構造の置換基が挙げられる。 Examples of the sulfonyl group (—SO 2 R 43 ) include substituents having the following structure.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

スルフィニル基(−SOR44)としては、以下の構造の置換基が挙げられる。 Examples of the sulfinyl group (—SOR 44 ) include substituents having the following structure.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

スルファモイル基(−SONR4546)としては、以下の構造の置換基が挙げられる。 Examples of the sulfamoyl group (—SO 2 NR 45 R 46 ) include substituents having the following structure.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

スルホン酸エステル基(−SO47)としては、以下の構造の置換基が挙げられる。 Examples of the sulfonic acid ester group (—SO 3 R 47 ) include substituents having the following structure.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

スルホンアミド基(−NHSO48)としては、以下の構造の置換基が挙げられる。 Examples of the sulfonamide group (—NHSO 2 R 48 ) include substituents having the following structure.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

、R、Rとして好ましいものは、水素原子または炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基、炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、単環の5〜6員環の飽和複素環基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、−COR34で表されるアシル基、−NR3536で表されるアミノ基、−NHCOR37で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR38で表されるカーバメート基、−COOR39で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR40で表されるアシルオキシ基、−CONR4142で表されるカルバモイル基、−SO43で表されるスルホニル基、−SONR4546で表されるスルファモイル基、−NHSO48で表されるスルホンアミド基である。 Preferred as R 3 , R 4 , and R 5 are a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, a linear or branched group having 1 to 8 carbon atoms. In an alkoxy group, a linear or branched alkylthio group having 1 to 8 carbon atoms, a monocyclic 5- to 6-membered saturated heterocyclic group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a mercapto group, a hydroxy group, and —COR 34 An acyl group represented by: an amino group represented by —NR 35 R 36; an acylamino group represented by —NHCOR 37; a carbamate group represented by —NHCOOR 38; a carboxylic acid ester group represented by —COOR 39 ; acyloxy group represented by -OCOR 40, a carbamoyl group represented by -CONR 41 R 42, a sulfonyl group represented by -SO 2 R 43, in -SO 2 NR 45 R 46 It is the sulfamoyl group, a sulfonamide group represented by -NHSO 2 R 48.

一般式(I)において、XLは、脱離基Lが脱離することにより金属と配位することが可能な置換基を表す。具体的にXLで表される置換基としては、ヒドロキシ基(−O;X、H;L)、スルホン酸基(−SO;X、H;L)、アミノ基(−N−H;X、H;L)、アシルアミノ基(−N−COR37、H;L)、スルホンアミド基(−N−SO48、H;L)、メルカプト基(−S;X、H;L)、カルボキシル基(−COO;X、H;L)等が挙げられる。 In general formula (I), XL represents a substituent capable of coordinating with a metal when the leaving group L is eliminated. Specific examples of the substituent represented by XL include a hydroxy group (—O ; X, H + ; L), a sulfonic acid group (—SO 3 H ; X, H + ; L), an amino group (— N—H; X, H + ; L), acylamino group (—N—COR 37 , H + ; L), sulfonamide group (—N—SO 2 R 48 , H + ; L), mercapto group (—S) - ; X, H <+> ; L), a carboxyl group (-COO < - > ; X, H <+> ; L), etc. are mentioned.

一般式(I)で示されるアゾ化合物の好ましい構造は、以下(1)〜(48−2)に示される。   Preferred structures of the azo compound represented by the general formula (I) are shown in the following (1) to (48-2).

Figure 2005271587
Figure 2005271587

Figure 2005271587
Figure 2005271587

Figure 2005271587
Figure 2005271587

Figure 2005271587
Figure 2005271587

Figure 2005271587
Figure 2005271587

Figure 2005271587
Figure 2005271587

本実施の形態が適用される光記録材料の金属錯体化合物Bとしては、一般式(II)で示される化合物と、金属イオン及びアニオンとが結合することにより形成されたインドアニリン系金属錯体化合物を使用することができる。一般式(II)で表される化合物の分子量は、配位子と金属との配位構造にも左右されるが、通常、4500以下であり、好ましくは3000以下である。   As the metal complex compound B of the optical recording material to which the present embodiment is applied, an indoaniline-based metal complex compound formed by combining a compound represented by the general formula (II) with a metal ion and an anion is used. Can be used. The molecular weight of the compound represented by the general formula (II) is usually 4500 or less, preferably 3000 or less, although it depends on the coordination structure between the ligand and the metal.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

前記一般式(II)で表される化合物において、R、Rは水素原子、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、アラルキル基、直鎖または分岐のアルケニル基を表す。
これらのR、Rが示す構造も、前述のR,Rと同様の理由から、好ましくは炭素数1〜12の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数7〜20のアラルキル基(これらの芳香族環部分は任意の置換基を有していてもよい)、であり、特に好ましくは炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜8の環状アルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基である。
In the compound represented by the general formula (II), R 6 and R 7 each represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, a cyclic alkyl group, an aralkyl group, or a linear or branched alkenyl group.
The structure represented by these R 6 and R 7 is also preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms for the same reason as R 1 and R 2 described above. , An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms (these aromatic ring portions may have an arbitrary substituent), particularly preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, They are a C3-C8 cyclic alkyl group and a C7-C12 aralkyl group.

また、R及びRの一方もしくは双方が隣接するベンゼン環のRまたはR10と縮合して飽和炭素環(縮合環)を形成しても良く、またR、R10がそれぞれ独立に酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子を有し、その先でR、Rと縮合して飽和複素環(縮合環)を形成してもよい。さらにRとRとは、相互に縮合して飽和炭素環(縮合環)構造を形成してもよい。またこのとき炭素原子以外に他のヘテロ原子を1ないし複数個含む飽和複素環を形成していてもよい。このようにして形成される環は、5〜7員環が好ましく、更に好ましくは5〜6員環である。更にこれらのR及びRが結合して形成される環や、R、Rがベンゼン環と結合して形成される環には、置換基が結合していてもよい。 One or both of R 6 and R 7 may be condensed with R 8 or R 10 of the adjacent benzene ring to form a saturated carbocycle (condensed ring), and R 8 and R 10 are each independently It may have a heteroatom such as an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom, and may be condensed with R 6 or R 7 to form a saturated heterocyclic ring (condensed ring). Further, R 6 and R 7 may be condensed with each other to form a saturated carbocyclic (condensed ring) structure. At this time, a saturated heterocyclic ring containing one or more other hetero atoms in addition to the carbon atom may be formed. The ring thus formed is preferably a 5- to 7-membered ring, more preferably a 5- to 6-membered ring. Furthermore, a substituent may be bonded to the ring formed by combining these R 6 and R 7 or the ring formed by combining R 6 and R 7 with a benzene ring.

このような構造は、前述の(−NR)が環構造である場合の例としては示されたものと同様の構造を用いることができる。 As such a structure, a structure similar to that shown as an example in the case where the aforementioned (—NR 1 R 2 ) is a ring structure can be used.

一般式(II)において、R〜R16は、水素原子または炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルケニル基、炭素数7〜18のアラルキル基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、単環の飽和複素環基、炭素数6〜18のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ホルミル基、−COR34で表されるアシル基;−NR3536で表されるアミノ基;−NHCOR37で表されるアシルアミノ基;−NHCOOR38で表されるカーバメート基;−COOR39で表されるカルボン酸エステル基;−OCOR40で表されるアシルオキシ基;−CONR4142で表されるカルバモイル基;−SO43で表されるスルホニル基;−SOR44で表されるスルフィニル基;−SONR4546で表されるスルファモイル基;−SO47で表されるスルホン酸エステル基;−NHSO48で表されるスルホンアミド基を表す(ここで、R34、R37、R38、R39、R40、R43、R44、R47、R48は、それぞれ独立に、炭化水素基、または複素環基を表し、R35、R36、R41、R42、R45、R46は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、複素環基のいずれかを表す。)。 In the general formula (II), R 8 to R 16 are each a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, a straight chain having 2 to 12 carbon atoms, or A branched alkenyl group, an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a linear or branched alkylthio group having 1 to 12 carbon atoms, a monocyclic saturated heterocyclic group, Aryl group having 6 to 18 carbon atoms, halogen atom, nitro group, cyano group, mercapto group, hydroxy group, formyl group, acyl group represented by —COR 34 ; amino group represented by —NR 35 R 36 ; acyloxy group represented by -OCOR 40;; carboxylic acid ester group represented by -COOR 39; carbamate group represented by -NHCOOR 38; acylamino group represented by NHCOR 37 -C Sulfamoyl group represented by -SO 2 NR 45 R 46;; NR 41 carbamoyl group represented by R 42; sulfinyl group represented by -SOR 44; -SO 2 sulfonyl group represented by R 43 -SO 3 A sulfonic acid ester group represented by R 47 ; a sulfonamide group represented by —NHSO 2 R 48 (where R 34 , R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 43 , R 44 , R 47 and R 48 each independently represent a hydrocarbon group or a heterocyclic group, and R 35 , R 36 , R 41 , R 42 , R 45 and R 46 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon Represents either a group or a heterocyclic group.)

〜R16として好ましくは、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数7〜18のアラルキル基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、炭素数6〜18のアリール基、飽和または不飽和の単環または2縮合環の複素環基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、−COR34で表されるアシル基、−NR3536で表されるアミノ基、−NHCOR37で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR38で表されるカーバメート基、−COOR39で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR40で表されるアシルオキシ基、−CONR4142で表されるカルバモイル基、−SO43で表されるスルホニル基、−SONR4546で表されるスルファモイル基、−NHSO48で表されるスルホンアミド基である。 R 8 to R 16 are preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or 1 to 1 carbon atoms. 12 straight chain or branched alkylthio groups, aryl groups having 6 to 18 carbon atoms, saturated or unsaturated monocyclic or bicyclic heterocyclic groups, halogen atoms, nitro groups, cyano groups, mercapto groups, hydroxy groups, An acyl group represented by —COR 34 , an amino group represented by —NR 35 R 36 , an acylamino group represented by —NHCOR 37 , a carbamate group represented by —NHCOOR 38 , and a carvone group represented by —COOR 39 ester group, an acyloxy group represented by -OCOR 40, a carbamoyl group represented by -CONR 41 R 42, a sulfonyl group represented by -SO 2 R 43, The sulfamoyl group represented by SO 2 NR 45 R 46, a sulfonamide group represented by -NHSO 2 R 48.

本実施の形態で使用する金属錯体化合物Bを構成する金属は、一般式(II)に示す化合物と配位形成能力があれば特に限定されず、遷移元素または典型元素でもよく、その酸化数も限定されない。また、錯体における金属とアゾ化合物の比も特に問わないが、遷移金属1に対してアゾ化合物2の割合で配位した構造が好ましい。安定な錯体構造をとるためには、2価あるいは3価のイオンを有する遷移金属が好ましい。中でも特に、ニッケル、コバルト、銅、鉄、亜鉛、白金、パラジウム、マンガンからなる群から選ばれることが好ましい。   The metal constituting the metal complex compound B used in the present embodiment is not particularly limited as long as it has a coordination formation ability with the compound represented by the general formula (II), and may be a transition element or a typical element, and its oxidation number is also It is not limited. Moreover, the ratio of the metal and the azo compound in the complex is not particularly limited, but a structure coordinated at a ratio of the azo compound 2 to the transition metal 1 is preferable. In order to obtain a stable complex structure, a transition metal having a divalent or trivalent ion is preferable. Among these, it is particularly preferable to be selected from the group consisting of nickel, cobalt, copper, iron, zinc, platinum, palladium, and manganese.

インドアニリン化合物と、上記金属のイオンとともに錯体を形成するアニオンは、トータルとして錯体全体が電荷的に中性になればよく、任意のアニオンを用いることができる。例えば、ハロゲン原子、硝酸イオン、塩素酸イオン、過塩素酸イオンのように1価の電荷のものが挙げられる。さらに、このようなアニオンとしては、シュウ酸イオン、硫酸イオン、炭酸イオンのように2価の電荷のものが挙げられる。また、このようなアニオンとしては、それ以上の電荷をもつものでもよい。また、配座数は単座配位子でも、二座配位子、三座配位子等のように複数の配位原子をもつ多座配位子でもよい。好ましくは、アニオンが1価の一座配位子である。アニオンが1価の一座配位子であると、単一成分の化合物が合成しやすいので好ましい。価数が1価であることにより、比較的容易に合成しやすいため好ましい。また、アニオンは配位子として金属原子に直接配位する形でも、塩のように離れて存在する形でもよい。   The anion that forms a complex with the indoaniline compound and the metal ion may be any anion as long as the whole complex is neutral in terms of charge. Examples thereof include those having a monovalent charge such as halogen atoms, nitrate ions, chlorate ions, and perchlorate ions. Further, examples of such anions include those having a divalent charge such as oxalate ions, sulfate ions, and carbonate ions. Moreover, as such an anion, what has the electric charge beyond it may be sufficient. In addition, the number of conformations may be a monodentate ligand or a multidentate ligand having a plurality of coordination atoms such as a bidentate ligand or a tridentate ligand. Preferably, the anion is a monovalent monodentate ligand. It is preferable that the anion is a monovalent monodentate ligand because a single component compound can be easily synthesized. A monovalent valence is preferable because it is relatively easy to synthesize. Further, the anion may be directly coordinated to a metal atom as a ligand, or may be separated from each other like a salt.

これらの配位子としては、例えば以下のものが挙げられる。   Examples of these ligands include the following.

Figure 2005271587
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一般式(II)で示す化合物と金属イオン及びアニオンとの割合は特に特定されず、金属イオンの電荷、金属錯体化合物の配位構造により様々に変化してもよいが、好ましい構造としては、金属イオン1に対して、一般式(II)で示す化合物が2個または3個が配位した構造である。このような構造の化合物は、以下の示される錯体を形成しやすい。尚、下記構造式では、Mは金属イオン、Xはアニオンを示す。   The ratio of the compound represented by the general formula (II) to the metal ion and the anion is not particularly specified, and may vary depending on the charge of the metal ion and the coordination structure of the metal complex compound. This is a structure in which two or three compounds represented by the general formula (II) are coordinated with the ion 1. A compound having such a structure tends to form the following complex. In the following structural formula, M represents a metal ion and X represents an anion.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

これらが配位する際に、同種の一般式(II)で示される化合物と金属イオン及びアニオンとからなる金属錯体化合物のほか、複数種の一般式(II)で示される化合物またはアニオンが配位した形でもよい。以下に、一般式(II)で示される化合物の好ましい構造を示す。   When these are coordinated, a compound or anion represented by a plurality of types of general formula (II) is coordinated in addition to a metal complex compound composed of the same type of compound represented by general formula (II) and a metal ion and an anion. It may be shaped. Below, the preferable structure of the compound shown by general formula (II) is shown.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

Figure 2005271587
Figure 2005271587

Figure 2005271587
Figure 2005271587

次に、本実施の形態が適用される光記録材料における有機色素化合物Aについて説明する。本実施の形態が適用される光記録材料で使用する有機色素化合物Aとしては、吸収極大が340nmから440nmの範囲にある、いわゆる青色レーザで記録可能なものであれば、公知の任意のものを用いることができる。尚、青色レーザでの記録を可能とするような有機色素化合物Aは、一般に、単独で用いた場合における上記試験方法で測定した耐光性xが30%未満となるものが多い。このような有機色素化合物Aとしては、特に限定されないが、なかでも、γ―ピロン系有機色素、クマリン系有機色素、カルボスチリル系有機色素、1−チオクマリン系有機色素が挙げられる。   Next, the organic dye compound A in the optical recording material to which this embodiment is applied will be described. As the organic dye compound A used in the optical recording material to which the present embodiment is applied, any known one can be used as long as it can record with a so-called blue laser having an absorption maximum in the range of 340 nm to 440 nm. Can be used. In general, organic dye compounds A capable of recording with a blue laser generally have a light resistance x measured by the above test method of less than 30% when used alone. Such an organic dye compound A is not particularly limited, and includes γ-pyrone organic dyes, coumarin organic dyes, carbostyryl organic dyes, and 1-thiocoumarin organic dyes.

γ―ピロン系有機色素、クマリン系有機色素、カルボスチリル系有機色素、1−チオクマリン系の分子量は特に限定されないが、通常、ピロン系有機色素の場合、分子量900以下、好ましくは600以下である。クマリン系有機色素又はカルボスチリル系有機色素の場合、通常、分子量700以下、好ましくは500以下である。分子量が過度に大きいと、特に吸収に寄与しない部分でOD値が低下するため記録に必要な吸収を確保できなくなるので好ましくない。   The molecular weights of γ-pyrone organic dyes, coumarin organic dyes, carbostyryl organic dyes, and 1-thiocoumarin organic dyes are not particularly limited, but in the case of pyrone organic dyes, the molecular weight is usually 900 or less, preferably 600 or less. In the case of a coumarin organic dye or a carbostyril organic dye, the molecular weight is usually 700 or less, preferably 500 or less. If the molecular weight is excessively large, the OD value decreases particularly in a portion that does not contribute to absorption, and it is not preferable because it is impossible to ensure the absorption necessary for recording.

より具体的には、前述した一般式(III)、(IV)及び(V)に示す化合物から選ばれるものを使用することが好ましい。   More specifically, it is preferable to use a compound selected from the compounds represented by the aforementioned general formulas (III), (IV) and (V).

Figure 2005271587
Figure 2005271587

Figure 2005271587
Figure 2005271587

Figure 2005271587
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以下、まず、一般式(III)又は一般式(IV)について説明する。尚、一般式(III)又は(IV)におけるR17’〜R20’については、R17〜R20と同様なものが挙げられる。 Hereinafter, first, general formula (III) or general formula (IV) will be described. In addition, about R < 17 '>-R < 20 >' in general formula (III) or (IV), the same thing as R < 17 > -R < 20 > is mentioned.

一般式(III)又は一般式(IV)において、R17〜R20は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルケニル基、炭素数7〜18のアラルキル基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、飽和または不飽和の複素環基、炭素数6〜18のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ホルミル基、−COR34で表されるアシル基;−NR3536で表されるアミノ基;−NHCOR37で表されるアシルアミノ基;−NHCOOR38で表されるカーバメート基;−COOR39で表されるカルボン酸エステル基;−OCOR40で表されるアシルオキシ基;−CONR4142で表されるカルバモイル基;−SO43で表されるスルホニル基;−SOR44で表されるスルフィニル基;−SONR4546で表されるスルファモイル基;−SO47で表されるスルホン酸エステル基;−NHSO48で表されるスルホンアミド基を表す。 In General Formula (III) or General Formula (IV), R 17 to R 20 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms. , A linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a linear or branched alkylthio group having 1 to 12 carbon atoms Group, saturated or unsaturated heterocyclic group, aryl group having 6 to 18 carbon atoms, halogen atom, nitro group, cyano group, mercapto group, hydroxy group, formyl group, acyl group represented by —COR 34 ; An amino group represented by 35 R 36 ; an acylamino group represented by —NHCOR 37 ; a carbamate group represented by —NHCOOR 38 ; a carboxylic acid ester group represented by —COOR 39 ; An acyloxy group represented by —OCOR 40 ; a carbamoyl group represented by —CONR 41 R 42 ; a sulfonyl group represented by —SO 2 R 43 ; a sulfinyl group represented by —SOR 44 ; and —SO 2 NR 45 R. A sulfamoyl group represented by 46 ; a sulfonic acid ester group represented by —SO 3 R 47 ; a sulfonamide group represented by —NHSO 2 R 48 .

但し、R17とR18、R19とR20、R17’とR18’、R19’とR20’は、各々縮合して炭化水素環または複素環構造を形成してもよい。当該炭化水素環及び当該複素環は、置換基を有していてもよい。Xは、電子吸引性基であり、Xは、水素原子または−Q−Y(Qは、直接結合、炭素数1または2のアルキレン基、アリーレン基またはヘテロアリーレン基であり、Yは、電子吸引性基であり、当該アルキレン基、当該アリーレン基、当該ヘテロアリーレン基は、Y以外に任意の置換基を有していてもよい。)である。環Cは、C=Oと共に置換基を有していてもよい炭素環式ケトン環または複素環式ケトン環である。Z及びZ’は、それぞれ−O−、−S−、−SO−、−NR21−(ここで、R21は、水素原子、置換されてもよい炭化水素基、置換されてもよい複素環基、シアノ基、ヒドロキシ基、−NR2223で表されるアミノ基(R22、R23は、各々独立に、水素原子、炭化水素基または複素環基、若しくは−COR24(R24は、炭化水素基または複素環基である)、−COR25(R25は、炭化水素基または複素環基である)で表されるアシル基を表す。)のいずれかを表す)。 However, R 17 and R 18 , R 19 and R 20 , R 17 ′ and R 18 ′, and R 19 ′ and R 20 ′ may be condensed to form a hydrocarbon ring or a heterocyclic structure. The hydrocarbon ring and the heterocycle may have a substituent. X 1 is an electron-withdrawing group, X 2 is a hydrogen atom or -QY (Q is a direct bond, an alkylene group having 1 or 2 carbon atoms, an arylene group or a heteroarylene group, and Y is It is an electron-withdrawing group, and the alkylene group, the arylene group, and the heteroarylene group may have any substituent other than Y. Ring C is a carbocyclic ketone ring or heterocyclic ketone ring which may have a substituent together with C═O. Z and Z ′ are each —O—, —S—, —SO 2 —, —NR 21 — (wherein R 21 is a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted complex; A cyclic group, a cyano group, a hydroxy group, an amino group represented by —NR 22 R 23 (R 22 and R 23 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a heterocyclic group, or —COR 24 (R 24 Is a hydrocarbon group or a heterocyclic group), or -COR 25 (R 25 represents an acyl group represented by a hydrocarbon group or a heterocyclic group).

上記置換基のうち、R17〜R20として好ましいものは、炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜8の環状アルキル基、炭素数2〜8の直鎖又は分岐のアルケニル基、炭素数7〜12のアラルキル基、炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、飽和または不飽和の単環又は2縮合環の複素環基、炭素数6〜12のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、−COR34で表されるアシル基;−NR3536で表されるアミノ基;−NHCOR37で表されるアシルアミノ基;−NHCOOR38で表されるカーバメート基;−COOR39で表されるカルボン酸エステル基;−OCOR40で表されるアシルオキシ基;−CONR4142で表されるカルバモイル基;−SO43で表されるスルホニル基;−SONR4546で表されるスルファモイル基;−NHSO48で表されるスルホンアミド基である。 Among the above substituents, preferred as R 17 to R 20 are linear or branched alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms, cyclic alkyl groups having 3 to 8 carbon atoms, linear or branched chains having 2 to 8 carbon atoms. An alkenyl group having 7 to 12 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a linear or branched alkylthio group having 1 to 8 carbon atoms, a saturated or unsaturated monocyclic ring, or 2 Condensed heterocyclic group, aryl group having 6 to 12 carbon atoms, halogen atom, nitro group, cyano group, mercapto group, hydroxy group, acyl group represented by —COR 34 ; represented by —NR 35 R 36 acyloxy group represented by -OCOR 40; carboxylic acid ester group represented by -COOR 39; carbamate group represented by -NHCOOR 38; acylamino group represented by -NHCOR 37; amino group; In a sulfonamide group represented by -NHSO 2 R 48; sulfamoyl group represented by -SO 2 NR 45 R 46; sulfonyl group represented by -SO 2 R 43; carbamoyl groups represented by CONR 41 R 42 is there.

17とR18、R19とR20、R17’とR18’、R19’とR20’が、各々縮合して炭化水素環または複素環構造を形成する場合の好ましいものとしては、以下の縮合環構造が挙げられる。 R 17 and R 18 , R 19 and R 20 , R 17 ′ and R 18 ′, R 19 ′ and R 20 ′ are preferably condensed to form a hydrocarbon ring or heterocyclic structure, The following condensed ring structures are mentioned.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

(上記縮合環構造において、D13〜D15は、水素原子または置換されてもよいアルキル基、アシル基のいずれかを表す。また芳香環は任意の置換基を有していてもよく、その置換基の数や位置も、本発明の要旨の範囲内であれば特に制限はない。)またこれらの縮合環は前述したような置換または未置換のアルキル基で置換されていてもよい。このアルキル基が有し得る置換基としては、例えば、後述するR17〜R20のアルキル鎖部分が有し得る置換基と同種のものが挙げられる。 (In the condensed ring structure, D 13 to D 15 each represents a hydrogen atom, an alkyl group which may be substituted, or an acyl group. The aromatic ring may have an arbitrary substituent, and The number and position of the substituents are not particularly limited as long as they are within the scope of the present invention.) These condensed rings may be substituted with a substituted or unsubstituted alkyl group as described above. As a substituent which this alkyl group may have, the same kind as the substituent which the alkyl chain part of R < 17 > -R < 20 > mentioned later may have is mentioned, for example.

有機色素化合物Aの一般式(III)又は一般式(IV)において、X及びXにおけるYの電子吸引性基としては、一般にハメット則においてシグマ定数σ(σm及びσp、特にσp)が正の値を持つものが挙げられる。これらの例としては、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、ホルミル基、アシル基、カルボン酸エステル基、カルバモイル基、トリアルキルアミノ基、トリフルオロメチル基等のハロゲン置換アルキル基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、スルホニル基、スルファモイル基、スルフィニル基等が挙げられる。アシル基、カルボン酸エステル基、カルバモイル基、トリアルキルアミノ基、トリフルオロメチル基等のハロゲン置換アルキル基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、スルホニル基、スルファモイル基、スルフィニル基については、前述と同様なものが挙げられる。 In the general formula (III) or general formula (IV) of the organic dye compound A, as the electron withdrawing group of Y in X 1 and X 2 , generally, the sigma constant σ (σm and σp, particularly σp) is positive in Hammett's rule. Those with the value of. Examples of these include halogen-substituted alkyl groups such as cyano group, nitro group, nitroso group, halogen atom, carboxyl group, formyl group, acyl group, carboxylic acid ester group, carbamoyl group, trialkylamino group, trifluoromethyl group, etc. Sulfonic acid group, sulfonic acid ester group, sulfonyl group, sulfamoyl group, sulfinyl group and the like. As for the halogen-substituted alkyl group such as acyl group, carboxylic acid ester group, carbamoyl group, trialkylamino group, trifluoromethyl group, sulfonic acid group, sulfonic acid ester group, sulfonyl group, sulfamoyl group, sulfinyl group as described above The thing is mentioned.

有機色素化合物Aの一般式(III)又は一般式(IV)において、Qの連結基は、直接結合(Xは−Yとなる。)、炭素数1〜2のアルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基を表す。ここで、Yは、電子吸引性基であり、当該アルキレン基、当該アリーレン基、当該ヘテロアリーレン基は、Y以外に任意の置換基を有していてもよい。Qがアルキレン基の場合、炭素原子は水素原子以外に、後述するR〜R48がアルキル鎖となる場合に有し得る置換基を有していても、そこから分岐したアルキル鎖を有していてもよい。Qが6員環のアリーレン基、ヘテロアリーレン基を表す場合、電子吸引性基Yが結合部に対してオルト位かパラ位にあることが好ましく、5員環のヘテロアリーレン基である場合は、結合部と電子吸引性基が、2位と4位にあることが好ましい。またこれら連結基に結合するYは複数個でもよい。またYが結合している以外の箇所に置換基を有していてもよい。これらの連結基と電子吸引性基の好ましい結合を下記に例示する。 Formula of the organic dye compound A (III) or general formula (IV), linking group Q is a direct bond (X 2 becomes -Y.), An alkylene group, an arylene group having 1 to 2 carbon atoms, a hetero Represents an arylene group. Here, Y is an electron-withdrawing group, and the alkylene group, the arylene group, and the heteroarylene group may have any substituent other than Y. When Q is an alkylene group, the carbon atom has an alkyl chain branched therefrom, even if it has a substituent other than a hydrogen atom that may be possessed when R 1 to R 48 described later are an alkyl chain. It may be. When Q represents a 6-membered arylene group or heteroarylene group, the electron-withdrawing group Y is preferably in the ortho or para position with respect to the bond, and when it is a 5-membered heteroarylene group, It is preferable that the bonding portion and the electron-withdrawing group are in the 2-position and 4-position. A plurality of Ys may be bonded to these linking groups. Moreover, you may have a substituent in places other than Y couple | bonded. Preferred bonds between these linking groups and electron-withdrawing groups are exemplified below.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

(上記の例示中、G〜Gは、炭素数1〜4の任意の置換基または置換されてもよいアルキル鎖を表し、X、Yは電子吸引性基を示す。Xとしては、より好ましくは、シアノ基、ニトロ基、アシル基、カルボン酸エステル基、カルバモイル基、ハロゲン置換アルキル基、スルホニル基、スルファモイル基、スルフィニル基が挙げられる。また、Yとしては、より好ましくは、シアノ基、ニトロ基、アシル基、カルボン酸エステル基、カルバモイル基、ハロゲン置換アルキル基、スルホニル基、スルファモイル基、スルフィニル基が挙げられる。さらに、Qの連続基としてより好ましくは、アリーレン基、ヘテロアリレーン基が挙げられる。) (In the above illustration, G 1 ~G 6 represents an optional substituent or an optionally substituted alkyl chain be of from 1 to 4 carbon atoms, X 1, Y is as .X 1 having an electron-withdrawing group More preferably, a cyano group, a nitro group, an acyl group, a carboxylic acid ester group, a carbamoyl group, a halogen-substituted alkyl group, a sulfonyl group, a sulfamoyl group, and a sulfinyl group can be mentioned. A nitro group, an acyl group, a carboxylic acid ester group, a carbamoyl group, a halogen-substituted alkyl group, a sulfonyl group, a sulfamoyl group, a sulfinyl group, and more preferably an arylene group or heteroarylene as a continuous group of Q. Group).

有機色素化合物Aの一般式(III)又は一般式(IV)において、環Cは、>C=Oと共に炭素環式ケトン構造または複素環式ケトン構造を表す。炭素環式ケトン、複素環式ケトンとは、不飽和または芳香環系の環内の−CH−や=CH−が、>C=Oに置き換わったものである。また点線で示した環Cの環構造部にも、複数の>C=O、>C=Sや>C=NH等を有していてもよい。環Cが形成する炭素環式ケトン構造や複素環式ケトン構造は、飽和でも不飽和でもよく、環の員数も特に問わない。また複素環においてはヘテロ原子の数も特に問わない。また環内の炭化水素基部や環を構成する−NH−の水素原子は、任意の置換基で置換されていてもよい。置換基としては、特にアルキル基やアリール基が好ましい。 In general formula (III) or general formula (IV) of organic dye compound A, ring C represents a carbocyclic ketone structure or a heterocyclic ketone structure together with> C═O. The carbocyclic ketone and heterocyclic ketone are those in which —CH 2 — or ═CH— in an unsaturated or aromatic ring system is replaced by> C═O. Also, the ring structure portion of the ring C indicated by the dotted line may have a plurality of> C = O,> C = S,> C = NH, and the like. The carbocyclic ketone structure or heterocyclic ketone structure formed by the ring C may be saturated or unsaturated, and the number of ring members is not particularly limited. In the heterocycle, the number of heteroatoms is not particularly limited. Moreover, the hydrocarbon group part in a ring and the hydrogen atom of -NH- which comprises a ring may be substituted by arbitrary substituents. As the substituent, an alkyl group or an aryl group is particularly preferable.

これらの炭素環式ケトン構造や複素環式ケトン構造は、環の一部に更なる環が縮合して、縮合環構造を形成してもよい。環式ケトン構造に縮合する環構造は、炭化水素環、複素環を問わないが、好ましくは、ベンゼン環または5〜6員環の複素芳香環である。以下に、環式ケトンが示す構造を例示する。   These carbocyclic ketone structures and heterocyclic ketone structures may form a condensed ring structure by condensing a further ring with a part of the ring. The ring structure condensed to the cyclic ketone structure may be a hydrocarbon ring or a heterocyclic ring, but is preferably a benzene ring or a 5- to 6-membered heteroaromatic ring. Below, the structure which a cyclic ketone shows is illustrated.

Figure 2005271587
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環Cが形成する炭素環式ケトン構造と複素環式ケトン構造の好ましい例としては、5〜6員環の飽和炭化水素環、5〜6員環の飽和または不飽和の複素環のものである。   Preferable examples of the carbocyclic ketone structure and the heterocyclic ketone structure formed by the ring C include a 5- or 6-membered saturated hydrocarbon ring or a 5- or 6-membered saturated or unsaturated heterocyclic ring. .

有機色素化合物Aの一般式(III)又は一般式(IV)において、Zの−NR21−の、R21における炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−へプチル基等の炭素数1〜18の直鎖または分岐のアルキル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等の炭素数3〜18の環状アルキル基、ビニル基、プロペニル基、ヘキセニル基等の炭素数2〜18の直鎖または分岐のアルケニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の炭素数3〜18の環状アルケニル基、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数7〜20のアラルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基等の炭素数6〜18アリール基を表す。これらの基のアルキル鎖部分及びアリール基部分は後述するR〜R48がアルキル鎖となる場合に有し得る置換基で更に置換されていてもよい。 In the general formula (III) or general formula (IV) of the organic dye compound A, the hydrocarbon group in R 21 of —NR 21 — of Z is methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl. Group having 3 to 18 carbon atoms such as a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms such as a group, sec-butyl group, tert-butyl group and n-heptyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and adamantyl group -18-cyclic alkyl group, vinyl group, propenyl group, hexenyl group, etc., straight-chain or branched alkenyl group having 2-18 carbon atoms, cyclopentenyl group, cyclic alkenyl group having 3-18 carbon atoms, such as cyclohexenyl group, 6 to 18 carbon atoms such as aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms such as benzyl group and phenethyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group and mesityl group It represents an aryl group. The alkyl chain part and aryl group part of these groups may be further substituted with a substituent which R 1 to R 48 described later may have when it becomes an alkyl chain.

21で表される複素環基としては、4−ピペリジル基、モルホリノ基、2−モルホリニル基、ピペラジル基等の飽和複素環でも、2−フリル基、2−ピリジル基、2−チアゾリル基、2−キノリル基等の芳香族複素環でもよい。これらは複数のヘテロ原子を含んでいても、さらに置換基を有していてもよく、また結合位置も問わない。複素環として好ましい構造のものは、5〜6員環の飽和複素環、5〜6員環の単環及びその2縮合環の芳香族複素環である。これらの基は後述するR〜R48がアルキル鎖となる場合に有し得る置換基で更に置換されていてもよい。 The heterocyclic group represented by R 21 may be a saturated heterocyclic ring such as 4-piperidyl group, morpholino group, 2-morpholinyl group, piperazyl group, 2-furyl group, 2-pyridyl group, 2-thiazolyl group, 2 -An aromatic heterocyclic ring such as a quinolyl group may be used. These may contain a plurality of heteroatoms, may further have a substituent, and may have any bonding position. Preferred structures for the heterocyclic ring are a 5- or 6-membered saturated heterocyclic ring, a 5- or 6-membered monocyclic ring and an aromatic heterocyclic ring thereof. These groups may be further substituted with a substituent that may be possessed when R 1 to R 48 described later are alkyl chains.

21が置換されてもよい炭化水素基としてアルキル鎖を有する場合、R18またはR20、R18’またはR20’と結合して、飽和または不飽和の炭化水素環や、飽和または不飽和の複素環構造を形成してもよい。環状構造の員数は特に制限されないが、炭化水素環、複素環共に好ましいのは5〜6員環である。これらの好ましい縮合環構造を下記に示す。 When R 21 has an alkyl chain as an optionally substituted hydrocarbon group, it is bonded to R 18 or R 20 , R 18 ′ or R 20 ′ to form a saturated or unsaturated hydrocarbon ring, saturated or unsaturated A heterocyclic structure of The number of members in the cyclic structure is not particularly limited, but a hydrocarbon ring and a heterocyclic ring are preferably 5 to 6 membered rings. These preferred fused ring structures are shown below.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

−NR2223のR22、R23は、R21として例示した炭化水素基および複素環基と同様の基が挙げられる。−COR24のR24は、R21と同様の炭化水素基、複素環基と同様な基が挙げられる。−COR25のR25は、炭化水素基、複素環基のいずれかを表し、R21と同様に、炭化水素基、複素環基と同様な基が挙げられる。以下に、好ましい―NR21―の例を挙げる。 Examples of R 22 and R 23 in —NR 22 R 23 include the same groups as the hydrocarbon groups and heterocyclic groups exemplified as R 21 . Examples of R 24 of —COR 24 include the same hydrocarbon groups and heterocyclic groups as those of R 21 . R 25 in —COR 25 represents either a hydrocarbon group or a heterocyclic group, and the same group as the hydrocarbon group and the heterocyclic group may be mentioned in the same manner as R 21 . Examples of preferred —NR 21 — are given below.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

Figure 2005271587
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有機色素化合物Aの一般式(III)又は一般式(IV)で表される化合物の好ましい例として下記のもの(A(1)〜A(103))が挙げられる。なお、Etはエチル基を、Buはブチル基を、Phはフェニル基を表す。   Preferred examples of the compound represented by the general formula (III) or the general formula (IV) of the organic dye compound A include the following (A (1) to A (103)). Et represents an ethyl group, Bu represents a butyl group, and Ph represents a phenyl group.

Figure 2005271587
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Figure 2005271587
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次に、本実施の形態が適用される光記録材料における有機色素化合物Aとしては、前述した一般式(V)に示す化合物を使用することが好ましい。
一般式(V)において、Xは酸素原子、硫黄原子または−N−R33を表す。R26、R27、R28、R29、R30はそれぞれ独立して水素原子または炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルケニル基、炭素数7〜18のアラルキル基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、炭素数6〜18のアリール基、飽和または不飽和の複素環基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ホルミル基、−COR34で表されるアシル基、−NR3536で表されるアミノ基、−NHCOR37で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR38で表されるカーバメート基、−COOR39で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR40で表されるアシルオキシ基、−CONR4142で表されるカルバモイル基、−SO43で表されるスルホニル基、−SOR44で表されるスルフィニル基、−SONR4546で表されるスルファモイル基、−NHSO47で表されるスルホンアミド基を表す。
Next, as the organic dye compound A in the optical recording material to which the present embodiment is applied, it is preferable to use the compound represented by the general formula (V) described above.
In the general formula (V), X represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N—R 33 . R 26 , R 27 , R 28 , R 29 and R 30 are each independently a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or 2 to 2 carbon atoms. 12 straight or branched alkenyl groups, 7 to 18 aralkyl groups, 1 to 12 straight or branched alkoxy groups, 1 to 12 straight or branched alkylthio groups, 6 carbon atoms -18 aryl group, saturated or unsaturated heterocyclic group, halogen atom, nitro group, cyano group, mercapto group, hydroxy group, formyl group, acyl group represented by -COR 34 , represented by -NR 35 R 36 amino group, an acylamino group represented by -NHCOR 37, carbamate group represented by -NHCOOR 38, a carboxylate group represented by -COOR 39, in -OCOR 40 Is the acyloxy group, a carbamoyl group represented by -CONR 41 R 42, a sulfonyl group represented by -SO 2 R 43, a sulfinyl group represented by -SOR 44, represented by -SO 2 NR 45 R 46 sulfamoyl group, a sulfonamide group represented by -NHSO 2 R 47.

31、R32、R33は、それぞれ独立して、水素原子、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、アラルキル基、直鎖または分岐のアルケニル基、アシル基を表す。またR26〜R33のうち隣接する2つが結合して飽和炭化水素環または飽和複素環を形成していてもよい(但し、R34、R37、R38、R39、R40、R43、R44、R47、R48は、それぞれ独立に、炭化水素基、または複素環基を表し、R35、R36、R41、R42、R45、R46は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、複素環基のいずれかを表す。) R 31 , R 32 and R 33 each independently represent a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, a cyclic alkyl group, an aralkyl group, a linear or branched alkenyl group or an acyl group. Further, two adjacent R 26 to R 33 may be bonded to form a saturated hydrocarbon ring or a saturated heterocyclic ring (provided that R 34 , R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 43). , R 44 , R 47 , R 48 each independently represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group, and R 35 , R 36 , R 41 , R 42 , R 45 , R 46 are each independently hydrogen Represents any of atoms, hydrocarbon groups, and heterocyclic groups.)

上記基の中でも、R26、R27、R28、R29、R30として好ましくは、水素原子または炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜8の環状アルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基、炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、炭素数6〜12のアリール基、飽和または不飽和の単環または2縮合環の複素環基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ホルミル基、−COR34で表されるアシル基、−NR3536で表されるアミノ基、−NHCOR37で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR38で表されるカーバメート基、−COOR39で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR40で表されるアシルオキシ基、−CONR4142で表されるカルバモイル基、−NHSO48で表されるスルホンアミド基である。 Among the above groups, R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 are preferably a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, Aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, linear or branched alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, linear or branched alkylthio group having 1 to 8 carbon atoms, aryl group having 6 to 12 carbon atoms, saturated or unsaturated A monocyclic or bicyclic heterocyclic group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a mercapto group, a hydroxy group, a formyl group, an acyl group represented by —COR 34 , an amino group represented by —NR 35 R 36 group, an acylamino group represented by -NHCOR 37, carbamate group represented by -NHCOOR 38, a carboxylate group represented by -COOR 39, Ashiruo represented by -OCOR 40 Shi group, a carbamoyl group represented by -CONR 41 R 42, a sulfonamide group represented by -NHSO 2 R 48.

これらの置換基は、塗布溶媒に対する溶解性を上げる効果(特にアルキル基部分を持つもの)や、最大吸収波長(λmax)をより長波長にシフトさせることができる(特に、アリール基、不飽和複素環、ハロゲン化アルキル基やシアノ基などの電子吸引性基)点で有用であり、特にこれらをR26、R27に持つものが好ましい。 These substituents can increase the solubility in coating solvents (especially those having an alkyl group moiety), and can shift the maximum absorption wavelength (λmax) to longer wavelengths (especially aryl groups, unsaturated complexes). It is useful in terms of a ring, an electron-withdrawing group such as a halogenated alkyl group and a cyano group, and those having these in R 26 and R 27 are particularly preferable.

31、R32、R33は、それぞれ独立に、水素原子、置換されてもよい直鎖または分岐のアルキル基、置換されてもよい環状アルキル基、置換されてもよいアラルキル基、置換されてもよい直鎖または分岐のアルケニル基、アシル基を表す。
31、R32、R33として好ましくは、水素原子、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数7〜18のアラルキル基である。
R 31 , R 32 and R 33 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group which may be substituted, a cyclic alkyl group which may be substituted, an aralkyl group which may be substituted, or a substituted group. Or a straight-chain or branched alkenyl group or acyl group.
R 31 , R 32 , and R 33 are preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, and an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms.

特にR31、R32においては、アミノ基の電子供与性を増す事により最大吸収波長(λmax)が長波長側にシフトするので、青色レーザに対する吸収をより持たせることができる。このため、R31、R32は、無置換の直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基であることが特に好ましい。しかし、炭素数が多すぎても波長的にはそれほど効果が見られず逆に吸収強度が下がる、生成物が固形化しないなどの問題も考えられるので、R31、R32の炭素数は1から8程度が好ましい。 In particular, in R 31 and R 32 , the maximum absorption wavelength (λmax) is shifted to the longer wavelength side by increasing the electron donating property of the amino group, so that the absorption to the blue laser can be further increased. Therefore, R 31 and R 32 are particularly preferably an unsubstituted linear or branched alkyl group or a cyclic alkyl group. However, even if there are too many carbon atoms, there is a problem that the effect is not so much seen in the wavelength and the absorption intensity is lowered, and the product is not solidified. Therefore, the carbon number of R 31 and R 32 is 1 To about 8 are preferable.

また、R26〜R33のうち隣接する2つが結合して飽和炭化水素環を形成していてもよく、また、R26〜R30それぞれが独立に酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子を表し、その先で縮合した飽和複素環を形成してもよい。
上記縮合環構造として好ましいのは、R29とR31またはR30とR32が縮合した5〜7員環構造である。アミノ基構造をもつR31,R32は隣接置換基と縮合構造をとることにより、よりλmaxを長波長にシフトさせることができ、なおかつ溶解性の向上も期待できることから好ましい。更にこれらが結合して形成される環には、さらに置換基を有していてもよい。環構造の具体例としは、以下に示される構造が挙げられる。
Further, two adjacent R 26 to R 33 may be bonded to form a saturated hydrocarbon ring, and each of R 26 to R 30 is independently heterogeneous such as an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom. A saturated heterocyclic ring which represents an atom and is condensed at the end may be formed.
The condensed ring structure is preferably a 5- to 7-membered ring structure in which R 29 and R 31 or R 30 and R 32 are condensed. R 31 and R 32 having an amino group structure are preferable since they can shift λmax to a longer wavelength by taking a condensed structure with an adjacent substituent and can be expected to improve solubility. Furthermore, the ring formed by combining these may further have a substituent. Specific examples of the ring structure include the structures shown below.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

ここでDはR31、R32と同様の置換基を表す。 Here, D represents the same substituent as R 31 and R 32 .

一般式(V)で示される化合物の好ましい具体例を以下に示す。   Preferred specific examples of the compound represented by formula (V) are shown below.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

Figure 2005271587
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尚、上記説明したR〜R48が示す直鎖又は分岐のアルキル基、環状アルキル基、直鎖または分岐のアルケニル基、環状アルケニル基、アラルキル基、直鎖または分岐のアルコキシ基、直鎖または分岐のアルキルチオ基となる場合、これらの置換基のアルキル鎖部分は、必要に応じて置換基を有していてもよい。ただしその場合の置換基あるいは、“置換されてもよい”“置換基を有していてもよい”なる記載における“置換基”は、スルホン酸基やカルボン酸基、水酸基のような水溶性基を含まない。 In addition, the linear or branched alkyl group, cyclic alkyl group, linear or branched alkenyl group, cyclic alkenyl group, aralkyl group, linear or branched alkoxy group, linear or linear represented by R 1 to R 48 described above When it becomes a branched alkylthio group, the alkyl chain part of these substituents may have a substituent as needed. However, the substituent in that case or “substituent” in the description “may be substituted” or “may have a substituent” is a water-soluble group such as a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, or a hydroxyl group. Not included.

その置換基としては、例えば以下のものが挙げられる。メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキシ基;メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、プロポキシメトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、メトキシブトキシ基等の炭素数2〜12のアルコキシアルコキシ基;メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、メトキシエトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、エトキシエトキシメトキシ基等の炭素数3〜15のアルコキシアルコキシアルコキシ基;フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基等の炭素数6〜12のアリールオキシ基;アリルオキシ基、ビニルオキシ基等の炭素数2〜12のアルケニルオキシ基等が例示される。   Examples of the substituent include the following. Alkoxy groups having 1 to 10 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group; methoxymethoxy group, ethoxymethoxy group, propoxymethoxy Groups, ethoxyethoxy groups, propoxyethoxy groups, methoxybutoxy groups, etc., alkoxyalkoxy groups having 2 to 12 carbon atoms; methoxymethoxymethoxy groups, methoxymethoxyethoxy groups, methoxyethoxymethoxy groups, methoxymethoxyethoxy groups, ethoxyethoxymethoxy groups, etc. An alkoxyalkoxyalkoxy group having 3 to 15 carbon atoms; an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms such as a phenoxy group, a tolyloxy group, a xylyloxy group and a naphthyloxy group; an alkenyl having 2 to 12 carbon atoms such as an allyloxy group and a vinyloxy group Aryloxy group and the like.

更に、他の置換基として、2−チエニル基、2−ピリジル基、4−ピペリジル基、モルホリノ基等の複素環基;シアノ基;ニトロ基;ヒドロキシ基;メルカプト基;メチルメルカプト基、エチルメルカプト基等のアルキルチオ基;アミノ基;N、N−ジメチルアミノ基、N、N−ジエチルアミノ基等の炭素数1〜10のアルキルアミノ基;メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、n−プロピルスルホニルアミノ基等の炭素数1〜6のアルキルスルホニルアミノ基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メチルカロボニル基、エチルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基等のアルキルカルボニル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基等の炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基;メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基等の炭素数2〜7のアルキルカルボニルオキシ基;メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、n−プロポキシカルボニルオキシ基、イソプロポキシカルボニルオキシ基、n−ブトキシカルボニルオキシ基等の炭素数2〜7のアルコキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。これらの置換基の位置は特に限定されず、置換基の数は、1〜4個の範囲で可能である。複数の置換基を有する場合、種でも異なってもよい。   Further, as other substituents, heterocyclic groups such as 2-thienyl group, 2-pyridyl group, 4-piperidyl group, morpholino group; cyano group; nitro group; hydroxy group; mercapto group; methyl mercapto group, ethyl mercapto group An alkylthio group such as N, N-dimethylamino group, N, N-diethylamino group, etc .; a methylsulfonylamino group, an ethylsulfonylamino group, an n-propylsulfonylamino group; An alkylsulfonylamino group having 1 to 6 carbon atoms such as: a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom; an alkylcarbonyl group such as a methylcarbocarbonyl group, an ethylcarbonyl group or an isopropylcarbonyl group; a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, n-propoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl C2-C7 alkoxycarbonyl groups such as n-butoxycarbonyl group; carbon numbers such as methylcarbonyloxy group, ethylcarbonyloxy group, n-propylcarbonyloxy group, isopropylcarbonyloxy group, n-butylcarbonyloxy group An alkoxycarbonyloxy group having 2 to 7 carbon atoms such as a methoxycarbonyloxy group, an ethoxycarbonyloxy group, an n-propoxycarbonyloxy group, an isopropoxycarbonyloxy group, and an n-butoxycarbonyloxy group; Etc. The position of these substituents is not particularly limited, and the number of substituents can be in the range of 1 to 4. In the case of having a plurality of substituents, the species may be different.

(光学記録媒体)
次に、光学記録媒体について説明する。
本実施の形態が適用される光学記録媒体は、少なくとも、基板と、クロロホルムまたはメタノール溶液中の吸収極大が340nm以上、440nm以下の有機色素化合物A及びクロロホルムまたはメタノール溶液中の吸収極大が500nm以上、900nm以下の金属錯体化合物Bとを含有する記録層とから構成される。尚、必要に応じて、更に、下引き層、反射層、保護層等を設けても良い。
(Optical recording medium)
Next, the optical recording medium will be described.
The optical recording medium to which the present embodiment is applied is at least a substrate, an organic dye compound A having an absorption maximum in a chloroform or methanol solution of 340 nm or more and 440 nm or less, and an absorption maximum in a chloroform or methanol solution of 500 nm or more, And a recording layer containing a metal complex compound B of 900 nm or less. If necessary, an undercoat layer, a reflective layer, a protective layer and the like may be further provided.

図1は、本実施の形態が適用される光学記録媒体を説明する図である。図1(a)は、第1の実施の形態であり、図1(b)は、第2の実施の形態である。図1(a)に示される光学記録媒体10は、光透過性材料からなる基板1と、基板1上に設けられた記録層2と、記録層2上に積層された反射層3及び保護層4とが順番に積層されている。光学記録媒体10は、基板1側から照射されるレーザ光により、情報の記録・再生が行われる。
なお、説明の便宜上、光学記録媒体10において、保護層4が存在する側を上方、基板1が存在する側を下方とし、これらの方向に対応する各層の各面を、それぞれ各層の上面及び下面とする。
FIG. 1 is a diagram for explaining an optical recording medium to which the present embodiment is applied. FIG. 1 (a) is a first embodiment, and FIG. 1 (b) is a second embodiment. An optical recording medium 10 shown in FIG. 1A includes a substrate 1 made of a light-transmitting material, a recording layer 2 provided on the substrate 1, a reflective layer 3 and a protective layer laminated on the recording layer 2. 4 are stacked in order. In the optical recording medium 10, information is recorded / reproduced by laser light emitted from the substrate 1 side.
For convenience of explanation, in the optical recording medium 10, the side where the protective layer 4 exists is the upper side, the side where the substrate 1 exists is the lower side, and the surfaces of each layer corresponding to these directions are the upper and lower surfaces of each layer, respectively. And

基板1は、基本的に記録光及び再生光の波長において透明な材料であれば、様々な材料を使用することができる。具体的には、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂(特に、非晶質ポリオレフィン)、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂;ガラスが挙げられる。また、ガラス上に光硬化性樹脂等の放射線硬化性樹脂からなる樹脂層を設けた構造が挙げられる。中でも、高生産性、コスト、耐吸湿性等の観点からは、射出成型法にて使用されるポリカーボネート樹脂、耐薬品性及び耐吸湿性等の観点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。更に、高速応答等の観点からは、ガラスが好ましい。   As the substrate 1, various materials can be used as long as they are basically transparent at the wavelengths of recording light and reproducing light. Specific examples include resins such as acrylic resins, methacrylic resins, polycarbonate resins, polyolefin resins (particularly amorphous polyolefins), polyester resins, polystyrene resins, and epoxy resins; and glass. Moreover, the structure which provided the resin layer which consists of radiation curable resins, such as photocurable resin, on glass is mentioned. Among these, from the viewpoints of high productivity, cost, moisture absorption resistance, etc., the polycarbonate resin used in the injection molding method, and from the viewpoints of chemical resistance and moisture absorption resistance, amorphous polyolefin is preferable. Furthermore, glass is preferable from the viewpoint of high-speed response and the like.

樹脂製の基板1を使用した場合、又は、記録層と接する側(上側)に樹脂層を設けた基板1を使用した場合には、上面に、記録再生光の案内溝やピットを形成してもよい。案内溝の形状としては、光学記録媒体10の中心を基準とした同心円状の形状やスパイラル状の形状が挙げられる。スパイラル状の案内溝を形成する場合には、溝ピッチが0.2μm〜1.2μm程度であることが好ましい。   When a resin substrate 1 is used, or when a substrate 1 having a resin layer provided on the side in contact with the recording layer (upper side) is used, guide grooves and pits for recording / reproducing light are formed on the upper surface. Also good. Examples of the shape of the guide groove include a concentric shape and a spiral shape based on the center of the optical recording medium 10. When forming spiral guide grooves, the groove pitch is preferably about 0.2 μm to 1.2 μm.

記録層2は、基板1の上側に直接、又は必要に応じて基板1上に設けた下引き層等の上側に形成され、有機色素化合物Aの、クロロホルムまたはメタノール溶液中の最大吸収波長(λmax)が340nm以上、440nm以下の化合物と、クロロホルム溶液またはメタノール溶液中の最大吸収波長(λmax)が500nm以上、900nm以下の金属錯体化合物Bと、を含有する。記録層2中の有機色素化合物Aの含有量が、金属錯体化合物Bの含有量よりも多く、下記試験方法で測定したときの耐光性xが30%以上となるように有機色素化合物Aと金属錯体化合物Bとを含有する。   The recording layer 2 is formed directly on the upper side of the substrate 1 or on the upper side of an undercoat layer or the like provided on the substrate 1 as necessary, and the maximum absorption wavelength (λmax) of the organic dye compound A in a chloroform or methanol solution. ) Contains a compound having a wavelength of 340 nm or more and 440 nm or less, and a metal complex compound B having a maximum absorption wavelength (λmax) in a chloroform solution or a methanol solution of 500 nm or more and 900 nm or less. The organic dye compound A and the metal so that the content of the organic dye compound A in the recording layer 2 is greater than the content of the metal complex compound B and the light resistance x when measured by the following test method is 30% or more. Complex compound B is contained.

金属錯体化合物Bの分解開始温度は、有機色素化合物Aの分解開始温度以下であることが好ましい。金属錯体化合物Bの分解温度が有機色素化合物Aの分解温度より低いことにより、記録層2全体としての分解温度を低下させることができ、記録層2の記録感度を向上させることが出来る。
好ましくは金属錯体化合物Bの分解温度と有機色素化合物Aの分解温度の差が5℃以上、さらに好ましくは10℃以上あることであり、好ましくは50℃以下、さらに好ましくは40℃以下である。
The decomposition start temperature of the metal complex compound B is preferably not higher than the decomposition start temperature of the organic dye compound A. When the decomposition temperature of the metal complex compound B is lower than the decomposition temperature of the organic dye compound A, the decomposition temperature of the entire recording layer 2 can be lowered, and the recording sensitivity of the recording layer 2 can be improved.
The difference between the decomposition temperature of the metal complex compound B and the decomposition temperature of the organic dye compound A is preferably 5 ° C or higher, more preferably 10 ° C or higher, preferably 50 ° C or lower, more preferably 40 ° C or lower.

尚、本実施の形態の分解開始温度は、大気中もしくは窒素フロー中で昇温速度10℃/min(分)で、色素量3mg〜4mgをアルミニウム製のパンに入れて示差熱天秤法によって30℃〜600℃までのTG−DTAを測定して求めたものである。減量が10%以上ある減量過程において、減量前後の減量線の接線の交点をその減量過程の減量開始温度とする。   The decomposition start temperature of the present embodiment is 30 by a differential thermal balance method in which a pigment amount of 3 mg to 4 mg is placed in an aluminum pan at a heating rate of 10 ° C./min (min) in the air or in a nitrogen flow. It is determined by measuring TG-DTA from ℃ to 600 ℃. In the weight loss process where the weight loss is 10% or more, the intersection of the tangent lines of the weight loss before and after the weight loss is set as the weight loss start temperature of the weight loss process.

記録層2の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等、一般に行なわれている様々な薄膜形成法が挙げられる。量産性やコストの観点からは、スピンコート法が好ましく、均一な厚みの記録層2が得られるという観点からは、塗布法よりも真空蒸着法等の方が好ましい。スピンコート法による成膜の場合、回転数は500rpm〜15000rpmが好ましい。また、場合によっては、スピンコートの後に、加熱する、溶媒蒸気にあてる等の処理を施しても良い。   Examples of the method for forming the recording layer 2 include various commonly used thin film forming methods such as a vacuum deposition method, a sputtering method, a doctor blade method, a casting method, a spin coating method, and an immersion method. From the viewpoint of mass productivity and cost, the spin coating method is preferable, and from the viewpoint of obtaining the recording layer 2 having a uniform thickness, the vacuum evaporation method or the like is more preferable than the coating method. In the case of film formation by a spin coating method, the rotation speed is preferably 500 rpm to 15000 rpm. In some cases, after spin coating, a treatment such as heating or solvent vapor may be applied.

ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布法により記録層2を形成する場合に、有機色素化合物Aと金属錯体化合物Bとを溶解させて基板1に塗布するために使用する塗布溶媒は、基板1を侵食せず、分光光度計で吸収が検出可能な濃度の溶液を作製できうる程度の、有機色素化合物Aと金属錯体化合物Bの溶解性のある溶媒であれば特に限定されない。具体的には、例えばジアセトンアルコール、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒;n−ヘキサン、n−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、n−ブチルシクロヘキサン、tert−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒;テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒;乳酸メチル、乳酸エチル、2−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。   When the recording layer 2 is formed by a coating method such as a doctor blade method, a cast method, a spin coating method, or a dipping method, the organic dye compound A and the metal complex compound B are dissolved and applied to the substrate 1. The coating solvent is not particularly limited as long as it is a solvent that does not erode the substrate 1 and is capable of producing a solution having a concentration that can be detected with a spectrophotometer, and is soluble in the organic dye compound A and the metal complex compound B. Not. Specifically, for example, ketone alcohol solvents such as diacetone alcohol and 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone; cellosolv solvents such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve; chain forms such as n-hexane and n-octane Hydrocarbon solvents: Cyclic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane, n-butylcyclohexane, tert-butylcyclohexane, cyclooctane; tetrafluoropropanol, octafluoropentanol, hexafluorobutanol, etc. Examples include perfluoroalkyl alcohol solvents; hydroxycarboxylic acid ester solvents such as methyl lactate, ethyl lactate, and methyl 2-hydroxyisobutyrate.

真空蒸着法を用いる場合には、例えば、必要に応じて他の色素や各種添加剤等の記録層成分とを、真空容器内に設置されたるつぼに入れ、この真空容器内を適当な真空ポンプで10−2Pa〜10−5Pa程度にまで排気した後、るつぼを加熱して記録層成分を蒸発させ、るつぼと向き合って置かれた基板上に蒸着させることによって、記録層2を形成する。 When using the vacuum deposition method, for example, if necessary, recording layer components such as other dyes and various additives are placed in a crucible installed in the vacuum vessel, and the inside of this vacuum vessel is filled with an appropriate vacuum pump. Then, after evacuating to about 10 −2 Pa to 10 −5 Pa, the crucible is heated to evaporate the components of the recording layer, and vapor deposited on the substrate placed facing the crucible to form the recording layer 2. .

また、記録層2には、安定性や耐光性の向上のために、さらに一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物(例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等)等を含有させたり、記録感度の向上のために、金属系化合物等の記録感度向上剤を含有させたりしても良い。ここで、金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものを言い、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属であることが好ましい。なお、ここで列挙した遷移金属キレート化合物や金属系化合物は、クロロホルムまたはメタノール溶液中の吸収極大が500nm以上、900nm以下にはない。   Further, in order to improve stability and light resistance, the recording layer 2 further includes a transition metal chelate compound (for example, acetylacetonate chelate, bisphenyldithiol, salicylaldehyde oxime, bisdithio-α-) as a singlet oxygen quencher. Diketone and the like) or a recording sensitivity improver such as a metal compound may be added to improve the recording sensitivity. Here, the metal compound refers to a compound in which a metal such as a transition metal is included in the compound in the form of atoms, ions, clusters, etc., for example, ethylenediamine complex, azomethine complex, phenylhydroxyamine complex, phenanthroline complex. Organic metal compounds such as dihydroxyazobenzene complex, dioxime complex, nitrosoaminophenol complex, pyridyltriazine complex, acetylacetonate complex, metallocene complex, and porphyrin complex. Although it does not specifically limit as a metal atom, It is preferable that it is a transition metal. The transition metal chelate compounds and metal compounds listed here do not have an absorption maximum in a chloroform or methanol solution of 500 nm or more and 900 nm or less.

なお、記録層2には、必要に応じて、有機色素化合物Aを複数種類併用しても良い。その場合には、複数種類全部(総和)を有機色素化合物Aと見なす。更に、記録層2には、有機色素化合物Aに加え、併用する金属錯体化合物により、異なる波長帯域に属する複数種のレーザ光を用いた記録・再生に対応する光学記録媒体10を製造することもできる。   The recording layer 2 may be used in combination with a plurality of organic dye compounds A as required. In that case, all the plural types (total) are regarded as the organic dye compound A. Furthermore, in the recording layer 2, an optical recording medium 10 corresponding to recording / reproduction using a plurality of types of laser beams belonging to different wavelength bands can be manufactured by using the metal complex compound used in combination with the organic dye compound A. it can.

有機色素化合物A以外の他系統の色素としては、本実施の形態の金属錯体化合物のほか、必要に応じてベンゾフェノン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、シアニン系色素、アゾ系化合物、スクアリリウム系色素、トリアリールメタン系色素、メロシアニン系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、キサンテン系色素、オキサジン系色素、ピリリウム系色素等が挙げられる。更に、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。   In addition to the metal complex compound of the present embodiment, other types of dyes other than the organic dye compound A include benzophenone dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, cyanine dyes, azo compounds, squarylium as necessary. And dyes such as azo dyes, triarylmethane dyes, merocyanine dyes, azurenium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, indophenol dyes, xanthene dyes, oxazine dyes, and pyrylium dyes. Furthermore, a binder, a leveling agent, an antifoaming agent, etc. can also be used together as needed. Preferable binders include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resin, acrylic resin, polystyrene resin, urethane resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyolefin and the like.

記録層2の膜厚は、記録方法等により適した膜厚が異なる為、特に限定するものではないが、記録を可能とするためにはある程度の膜厚が必要とされるため、通常、少なくとも1nm以上であり、好ましくは5nm以上である。但しあまり厚すぎても記録が良好に行えなくなるおそれがあり、通常300nm以下、好ましくは200nm以下、より好ましくは100nm以下である。
また、記録層2は、記録および再生光波長における消衰係数(複素屈折率の虚部)kが0〜0.50、好ましくは0.05〜0.35の範囲である。さらに、屈折率(複素屈折率の実部)nが1〜3、好ましくは1.5〜2.5の範囲である。
The film thickness of the recording layer 2 is not particularly limited because a suitable film thickness varies depending on the recording method and the like. It is 1 nm or more, preferably 5 nm or more. However, if it is too thick, there is a possibility that recording cannot be performed satisfactorily, and it is usually 300 nm or less, preferably 200 nm or less, more preferably 100 nm or less.
The recording layer 2 has an extinction coefficient (imaginary part of complex refractive index) k at a recording and reproducing light wavelength of 0 to 0.50, preferably 0.05 to 0.35. Further, the refractive index (real part of the complex refractive index) n is in the range of 1 to 3, preferably 1.5 to 2.5.

記録層2の膜厚を測定し、膜厚が所定の値になるように管理する方法としては、記録層2にレーザ光を照射し、記録層2を構成する記録用色素層の吸収強度、即ち透過スペクトルを測定することにより記録層2の膜厚を測定して管理する方法がある。
尤も、この方法は、極大吸収が400nm以下の記録層2の膜厚を測定することが困難な場合があった。記録層2の膜厚の測定が困難になる理由としては、光学記録媒体10の基板1に使用される材料の極大吸収が400nm以下であることが多く、記録層2の極大吸収と重なってしまうこと、照射するレーザ光の波長が小さくなると(特に500nm以下)、基板1に形成した案内溝によるレーザ光の回折の影響が大きくなり、正確なデータを測定できないことが考えられる。
As a method of measuring the film thickness of the recording layer 2 and managing the film thickness so as to have a predetermined value, the recording layer 2 is irradiated with laser light, and the absorption intensity of the recording dye layer constituting the recording layer 2 is determined. That is, there is a method of measuring and managing the film thickness of the recording layer 2 by measuring the transmission spectrum.
However, in this method, it may be difficult to measure the film thickness of the recording layer 2 having a maximum absorption of 400 nm or less. The reason why it is difficult to measure the film thickness of the recording layer 2 is that the maximum absorption of the material used for the substrate 1 of the optical recording medium 10 is often 400 nm or less, which overlaps with the maximum absorption of the recording layer 2. In addition, if the wavelength of the laser beam to be irradiated becomes small (especially 500 nm or less), the influence of the diffraction of the laser beam by the guide groove formed on the substrate 1 becomes large, and it is considered that accurate data cannot be measured.

本実施の形態において、記録層2中に含まれる有機色素化合物A(極大吸収が340nm以上、440nm以下にある)ではなく、極大吸収が500nm以上、900nm以下にある金属錯体化合物Bの透過スペクトルを測定することにより、上述したような問題を解決し、正確な記録層2の膜厚を測定することができ、最適な膜厚を持つ光学記録媒体10を提供することが出来る。   In the present embodiment, the transmission spectrum of the metal complex compound B having a maximum absorption of 500 nm or more and 900 nm or less, not the organic dye compound A (maximum absorption of 340 nm or more and 440 nm or less) contained in the recording layer 2 is shown. By measuring, the above-described problems can be solved, the accurate film thickness of the recording layer 2 can be measured, and the optical recording medium 10 having an optimum film thickness can be provided.

反射層3は、記録層2の上に形成されている。反射層3の膜厚は、好ましくは50nm〜300nmである。反射層3の材料としては、再生光の波長において十分高い反射率を有する材料、例えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、Pt、Ta、Pd等の金属を、単独あるいは合金にして用いることができる。これらの中でもAu、Al、Agは反射率が高く、反射層3の材料として適している。   The reflective layer 3 is formed on the recording layer 2. The thickness of the reflective layer 3 is preferably 50 nm to 300 nm. As the material of the reflective layer 3, a material having a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, a metal such as Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, Pt, Ta, Pd, alone or an alloy Can be used. Among these, Au, Al, and Ag have high reflectivity and are suitable as the material for the reflective layer 3.

また、これらの金属を主成分とした上で、加えて他の材料を含有させても良い。ここで主成分とは、含有率が50%以上のものをいう。主成分以外の他の材料としては、例えば、Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Cu、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi、Ta、Ti、Pt、Pd、Nd等の金属及び半金属を挙げることができる。   In addition to these metals as main components, other materials may be added. Here, the main component means one having a content of 50% or more. Examples of materials other than the main component include Mg, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Cu, Zn, Cd, Ga, In, Si, Mention may be made of metals and semi-metals such as Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi, Ta, Ti, Pt, Pd, Nd.

中でもAgを主成分とするものは、コストが安い点、高反射率が出やすい点、後述する印刷受容層を設けた場合に地色が白く美しいものが得られる点等から、特に好ましい。例えば、AgにAu、Pd、Pt、Cu、及びNdから選ばれる一種以上を0.1原子%〜5原子%程度含有させた合金は、高反射率、高耐久性、高感度且つ低コストであり好ましい。具体的には、例えば、AgPdCu合金、AgCuAu合金、AgCuAuNd合金、AgCuNd合金等である。金属以外の材料としては、低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、これを反射層3として用いることも可能である。   Among them, those containing Ag as a main component are particularly preferable because they are low in cost, easily produce high reflectivity, and obtain a beautiful white background when a print receiving layer described later is provided. For example, an alloy containing about 0.1 atomic% to 5 atomic% of one or more selected from Au, Pd, Pt, Cu, and Nd in Ag has high reflectivity, high durability, high sensitivity, and low cost. It is preferable. Specifically, for example, an AgPdCu alloy, an AgCuAu alloy, an AgCuAuNd alloy, an AgCuNd alloy, or the like. As a material other than metal, a multilayer film can be formed by alternately stacking low refractive index thin films and high refractive index thin films, and this can be used as the reflective layer 3.

反射層3を形成する方法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、基板1の上や反射層3の下に、反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために、公知の無機系又は有機系の中間層、接着層を設けることもできる。   Examples of the method for forming the reflective layer 3 include sputtering, ion plating, chemical vapor deposition, and vacuum vapor deposition. In addition, a known inorganic or organic intermediate layer or adhesive layer may be provided on the substrate 1 or under the reflective layer 3 in order to improve reflectivity, improve recording characteristics, and improve adhesion. it can.

保護層4は、反射層3の上に形成される。保護層4の材料は、反射層3を外力から保護するものであれば、特に限定されない。有機物質の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げることができる。
また、無機物質としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、MgF、SnO等が挙げられる。
The protective layer 4 is formed on the reflective layer 3. The material of the protective layer 4 is not particularly limited as long as it protects the reflective layer 3 from external force. Examples of the organic material include thermoplastic resins, thermosetting resins, electron beam curable resins, and UV curable resins.
Examples of the inorganic substance include silicon oxide, silicon nitride, MgF 2 and SnO 2 .

熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等を用いる場合は、適当な溶剤に溶解して調製した塗布液を反射層3の上に塗布して乾燥させれば、保護層4を形成することができる。UV硬化性樹脂を用いる場合は、そのまま反射層3の上に塗布するか、又は適当な溶剤に溶解して調製した塗布液を反射層3の上に塗布し、UV光を照射して硬化させることによって、保護層4を形成することができる。UV硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等のアクリレート系樹脂を用いることができる。これらの材料は、単独で用いても、複数種を混合して用いても良い。また、保護層4は、単層として形成しても、多層として形成してもよい。   When a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or the like is used, the protective layer 4 can be formed by applying a coating solution prepared by dissolving in a suitable solvent on the reflective layer 3 and drying it. When a UV curable resin is used, it is directly applied on the reflective layer 3, or a coating solution prepared by dissolving in a suitable solvent is applied on the reflective layer 3 and cured by irradiation with UV light. Thus, the protective layer 4 can be formed. Examples of the UV curable resin include acrylate resins such as urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate. These materials may be used alone or as a mixture of plural kinds. The protective layer 4 may be formed as a single layer or a multilayer.

保護層4の形成方法としては、記録層2と同様に、スピンコート法やキャスト法等の塗布法や、スパッタリング法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、中でもスピンコート法が好ましい。保護層4の膜厚は、その保護機能を果たすためにはある程度の厚みが必要とされるため、一般に0.1μm以上であり、好ましくは3μm以上である。但しあまり厚すぎると、効果が変わらないだけでなく保護層4の形成に時間がかかったりコストが高くなるおそれがあるので通常100μm以下であり、好ましくは30μm以下である。   As a method for forming the protective layer 4, as with the recording layer 2, a coating method such as a spin coating method and a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, and the like are used. Among these, a spin coating method is preferable. The film thickness of the protective layer 4 is generally 0.1 μm or more, preferably 3 μm or more because a certain degree of thickness is required to fulfill its protective function. However, if it is too thick, not only does the effect not change, but it may take a long time to form the protective layer 4 and the cost may increase, so it is usually 100 μm or less, preferably 30 μm or less.

上述したように、光学記録媒体10の層構造として、基板、記録層、反射層、保護層をこの順に積層して成る構造を例に採って説明したが、この他の層構造を採っても構わない。
例えば、上例の層構造における保護層4の上面に、又は上例の層構造から保護層4を省略して反射層3の上面に、更に別の基板1を貼り合わせてもよい。この際の基板1は、何ら層を設けていない基板そのものであってもよく、貼り合わせ面又はその反対面に反射層3等任意の層を有するものでも良い。また、同じく上例の層構造を有する光学記録媒体10や、上例の層構造から保護層4を省略した光学記録媒体10を、それぞれの保護層4及び/又は反射層3の上面を相互に対向させて2枚貼り合わせてもよい。
As described above, the layer structure of the optical recording medium 10 has been described by taking as an example the structure in which the substrate, the recording layer, the reflective layer, and the protective layer are laminated in this order. However, other layer structures may be employed. I do not care.
For example, another substrate 1 may be bonded to the upper surface of the protective layer 4 in the above layer structure, or to the upper surface of the reflective layer 3 by omitting the protective layer 4 from the above layer structure. The substrate 1 at this time may be the substrate itself without any layer, or may have an arbitrary layer such as the reflective layer 3 on the bonded surface or the opposite surface. Similarly, the optical recording medium 10 having the layer structure of the above example, or the optical recording medium 10 in which the protective layer 4 is omitted from the layer structure of the above example, the upper surfaces of the protective layer 4 and / or the reflective layer 3 are mutually connected. Two sheets may be bonded to face each other.

次に、光学記録媒体の第2の実施の形態について説明する。
図1(b)は、光学記録媒体の第2の実施の形態を説明する図である。第1の実施の形態の光学記録媒体10と共通する部分は同じ符号を付し、説明を省略する。図1(b)に示される光学記録媒体20は、光透過性材料からなる基板1と、基板1上に設けられた反射層3と、反射層3上に積層された記録層2及び保護被膜5とが順番に積層されている。光学記録媒体20は、保護被膜5側から照射されるレーザ光により、情報の記録・再生が行われる。
Next, a second embodiment of the optical recording medium will be described.
FIG. 1B is a diagram for explaining a second embodiment of the optical recording medium. Portions common to the optical recording medium 10 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. An optical recording medium 20 shown in FIG. 1B includes a substrate 1 made of a light transmissive material, a reflective layer 3 provided on the substrate 1, a recording layer 2 laminated on the reflective layer 3, and a protective film. 5 are stacked in order. Information is recorded / reproduced on the optical recording medium 20 by a laser beam irradiated from the protective coating 5 side.

保護被膜5は、フィルム又はシート状のものを接着剤によって貼り合わせてもよく、また、前述の保護層4と同様の材料を用い、成膜用の塗液を塗布し硬化又は乾燥することにより形成しても良い。保護被膜5の厚さは、その保護機能を果たすためにはある程度の厚さが必要とされるため、一般に0.1μm以上であり、好ましくは3μm以上である。但しあまり厚すぎると、効果が変わらないだけでなく保護被膜5の形成に時間がかかったりコストが高くなるおそれがあるので通常300μm以下であり、好ましくは200μm以下である。尚、記録層2、反射層3等の各層は通常、前述の光学記録媒体10と同様のものが用い得る。但し、本層構成では基板1は透明である必要はなく、従って、前述の材料以外にも、不透明な樹脂、セラミック、金属(合金を含む)等が用いられる。このような層構成においても、上記各層間には、本発明の特性を損なわない限り、必要に応じて任意の層を有してよい。   The protective coating 5 may be a film or a sheet-like material bonded together by an adhesive, and by using the same material as the protective layer 4 described above, applying a coating liquid for film formation, and curing or drying. It may be formed. The thickness of the protective coating 5 is generally 0.1 μm or more, preferably 3 μm or more because a certain amount of thickness is required to fulfill its protective function. However, if it is too thick, not only the effect does not change, but also the formation of the protective coating 5 may take time and the cost may increase, and therefore it is usually 300 μm or less, preferably 200 μm or less. Incidentally, the recording layer 2, the reflective layer 3 and the like can usually be the same as those in the optical recording medium 10 described above. However, in this layer structure, the substrate 1 does not have to be transparent, and therefore, in addition to the above-described materials, opaque resin, ceramic, metal (including alloy), and the like are used. Even in such a layer structure, an arbitrary layer may be provided between the above-described layers as necessary as long as the characteristics of the present invention are not impaired.

ところで、光学記録媒体10、20の記録密度を上げるための一つの手段として、対物レンズの開口数を上げることがある。これにより情報記録面に集光される光スポットを微小化できる。しかしながら、対物レンズの開口数を上げると、記録・再生を行うためにレーザ光を照射した際に、光学記録媒体10、20の反り等に起因する光スポットの収差が大きくなりやすいため、良好な記録再生信号が安定して得られない場合がある。   Incidentally, as one means for increasing the recording density of the optical recording media 10 and 20, there is a case where the numerical aperture of the objective lens is increased. Thereby, the light spot condensed on the information recording surface can be miniaturized. However, if the numerical aperture of the objective lens is increased, the aberration of the light spot due to the warp of the optical recording media 10 and 20 tends to increase when the laser beam is irradiated for recording / reproduction. There are cases where a recording / reproducing signal cannot be obtained stably.

このような収差は、レーザ光が透過する透明な基板1や保護被膜5の膜厚が厚いほど大きくなりやすいので、収差を小さくするためには基板1や保護被膜5をできるだけ薄くするのが好ましい。ただし、通常、基板1は光学記録媒体10、20の強度を確保するためにある程度の厚みを要するので、この場合、光学記録媒体20の構造(基板1、反射層3、記録層2、保護被膜5なる基本的層構成の光学記録媒体20)を採用するのが好ましい。光学記録媒体10の基板1を薄くするのに比べると、光学記録媒体20の保護被膜5は薄くしやすいため、好ましくは光学記録媒体20を用いる。   Such aberration tends to increase as the film thickness of the transparent substrate 1 and the protective coating 5 through which the laser beam passes increases. Therefore, in order to reduce the aberration, it is preferable to make the substrate 1 and the protective coating 5 as thin as possible. . However, since the substrate 1 usually requires a certain thickness in order to ensure the strength of the optical recording media 10 and 20, in this case, the structure of the optical recording medium 20 (the substrate 1, the reflective layer 3, the recording layer 2, the protective film). It is preferable to employ an optical recording medium 20) having a basic layer structure of 5. Since the protective film 5 of the optical recording medium 20 can be easily made thinner than making the substrate 1 of the optical recording medium 10 thinner, the optical recording medium 20 is preferably used.

但し、光学記録媒体10の構造(基板1、記録層2、反射層3、保護層4なる基本的層構成の光学記録媒体10)であっても、記録・再生用レーザ光が通過する透明な基板1の厚さを50μm〜300μm程度にまで薄くすることにより、収差を小さくして使用できるようになる。
また、他の各層の形成後に、記録・再生レーザ光の入射面(通常は、基板1の下面)に、表面の保護やゴミ等の付着防止の目的で、紫外線硬化樹脂層や無機系薄膜等を成膜形成してもよく、記録・再生レーザ光の入射面ではない面(通常は、反射層3や保護層4の上面)に、インクジェット、感熱転写等の各種プリンタ、あるいは各種筆記具を用いて記入や印刷が可能な印刷受容層を設けてもよい。
However, even in the structure of the optical recording medium 10 (the optical recording medium 10 having a basic layer structure including the substrate 1, the recording layer 2, the reflective layer 3, and the protective layer 4), the recording / reproducing laser beam is transparent. By reducing the thickness of the substrate 1 to about 50 μm to 300 μm, it becomes possible to use it with a reduced aberration.
In addition, after the other layers are formed, an ultraviolet curable resin layer, an inorganic thin film, etc. are used for the purpose of protecting the surface and preventing dust from adhering to the recording / reproducing laser beam incident surface (usually the lower surface of the substrate 1). May be formed on the surface that is not the recording / reproducing laser light incident surface (usually the upper surface of the reflective layer 3 or the protective layer 4) using various printers such as inkjet and thermal transfer, or various writing instruments. A print-receiving layer that can be filled in and printed may be provided.

本実施の形態が適用される光学記録媒体10、20において、情報の記録・再生のために使用するレーザ光は、高密度記録を実現する観点から波長が短いほど好ましいが、特に波長350nm〜530nmのレーザ光が好ましい。かかるレーザ光の代表例として、中心波長約405nm、約410nm、約515nmのレーザ光が挙げられる(約は、±5nm程度の波長シフトを許容する)。   In the optical recording media 10 and 20 to which the present embodiment is applied, the laser light used for recording / reproducing information is preferably as short as possible from the viewpoint of realizing high-density recording, but in particular, the wavelength is from 350 nm to 530 nm. The laser beam is preferable. Typical examples of such laser light include laser light having center wavelengths of about 405 nm, about 410 nm, and about 515 nm (about allows a wavelength shift of about ± 5 nm).

波長350〜530nmのレーザ光は、波長405nm、410nmの青色又は515nmの青緑色の高出力半導体レーザ光を使用することによって得られる。また、その他にも、例えば、(a)基本発振波長が740nm〜960nmの連続発振可能な半導体レーザ光、及び(b)半導体レーザ光によって励起される基本発振波長740nm〜960nmの連続発振可能な固体レーザ光の何れかの発振レーザ光を、第二高調波発生素子(SHG)により波長変換することによっても得られる。   Laser light with a wavelength of 350 to 530 nm can be obtained by using a blue or green 515 nm high-power semiconductor laser light with a wavelength of 405 nm, 410 nm. In addition, for example, (a) a semiconductor laser beam capable of continuous oscillation having a fundamental oscillation wavelength of 740 nm to 960 nm, and (b) a solid capable of continuous oscillation having a fundamental oscillation wavelength of 740 nm to 960 nm excited by the semiconductor laser beam. It can also be obtained by converting the wavelength of any laser light of the laser light by a second harmonic generation element (SHG).

尚、SHGとしては、反転対称性を欠くピエゾ素子であればいかなるものでもよいが、KDP、ADP、BNN、KN、LBO、化合物半導体等が好ましい。第二高調波の具体例として、基本発振波長が860nmの半導体レーザ光の場合には、その基本発振波長の倍波である430nm、また、半導体レーザ光励起の固体レーザ光の場合には、CrドープしたLiSrAlF結晶(基本発振波長860nm)からの倍波の430nm等が挙げられる。 SHG may be any piezoelectric element that lacks inversion symmetry, but KDP, ADP, BNN, KN, LBO, compound semiconductors, and the like are preferable. As a specific example of the second harmonic, in the case of semiconductor laser light having a fundamental oscillation wavelength of 860 nm, 430 nm which is a harmonic of the fundamental oscillation wavelength, and in the case of solid laser light excited by semiconductor laser light, Cr-doped And 430 nm of a double wave from the LiSrAlF 6 crystal (basic oscillation wavelength 860 nm).

記録再生に用いる波長としては、高密度化に有利な短波長で、かつ、実用的なレーザダイオードが供給されている波長405nmを用いることが最も好ましい。この波長を用いる場合は、有機色素化合物Aの最大吸収波長(λmax)は、340nm〜400nmにあることが好ましく、より好ましくは350nm〜400nmにあることであり、さらに好ましくは370nm〜400nmにあることである。   As a wavelength used for recording / reproducing, it is most preferable to use a wavelength of 405 nm, which is a short wavelength advantageous for increasing the density and for which a practical laser diode is supplied. When this wavelength is used, the maximum absorption wavelength (λmax) of the organic dye compound A is preferably 340 nm to 400 nm, more preferably 350 nm to 400 nm, and still more preferably 370 nm to 400 nm. It is.

本実施の形態が適用される光学記録媒体10、20に、情報の記録を行なう際には、記録層2に対して(通常は、基板1側から基板1を透過させ)、通常、0.4〜0.6μm程度に集束したレーザ光を照射する。記録層2のレーザ光が照射された部分は、レーザ光のエネルギーを吸収することによって分解、発熱、溶解等の熱的変形、複素屈折率の変化を起こすため、光学的特性が変化する。
記録層2に記録された情報の再生を行なう際には、同じく記録層2に対して(通常は、記録時と同じ方向から)、よりエネルギーの低いレーザ光を照射する。記録層2において、光学的特性(光学定数や位相差等)の変化が起きた部分(即ち、情報が記録された部分)の反射率と、変化が起きていない部分の反射率との差を読みとることにより、情報の再生が行なわれる。
When recording information on the optical recording media 10 and 20 to which the present embodiment is applied, the recording layer 2 (usually, the substrate 1 is transmitted from the substrate 1 side) is usually 0. A laser beam focused to about 4 to 0.6 μm is irradiated. The portion of the recording layer 2 irradiated with the laser beam is subjected to thermal deformation such as decomposition, heat generation and dissolution and a change in the complex refractive index by absorbing the energy of the laser beam, so that the optical characteristics change.
When the information recorded on the recording layer 2 is reproduced, the recording layer 2 is irradiated with a laser beam having a lower energy (usually from the same direction as when recording). In the recording layer 2, the difference between the reflectance of the portion where the change in optical characteristics (optical constant, phase difference, etc.) has occurred (that is, the portion where information is recorded) and the reflectance of the portion where no change has occurred. By reading, information is reproduced.

以下、実施例に基づき本実施の形態をさらに具体的に説明する。尚、本実施の形態は実施例に限定されるものではない。また、下記の表では、有機色素化合物Aを(A)成分、金属錯体化合物Bを(B)成分、金属錯体化合物Bの比較としての化合物を(C)成分と記載する。   Hereinafter, the present embodiment will be described more specifically based on examples. The present embodiment is not limited to the examples. Moreover, in the following table | surface, the organic pigment compound A is described as (A) component, the metal complex compound B as (B) component, and the compound as a comparison with the metal complex compound B is described as (C) component.

(化合物の合成例)
本実施の形態において使用する化合物の合成方法は、特に限定されるものではないが、式(I)で示されるアゾ化合物の合成方法としては、例えば、特開平6−329616号公報等に記載されている合成方法が挙げられる。また、式(II)で示される化合物の合成方法としては、例えば、特開昭63−057846号公報等が挙げられる。式(III)や式(IV)で示される化合物の合成方法としては、例えば、特願2001−372199(USP6815033)、式(V)で示される化合物の合成方法としては、例えば、特願2001−027599等に記載されている方法により合成することができる。
(Example of compound synthesis)
The method for synthesizing the compound used in the present embodiment is not particularly limited, but the method for synthesizing the azo compound represented by the formula (I) is described in, for example, JP-A-6-329616. The synthesis method is mentioned. Examples of the method for synthesizing the compound represented by the formula (II) include JP-A-63-057846. Examples of the method for synthesizing the compounds represented by formula (III) and formula (IV) include Japanese Patent Application No. 2001-372199 (USP6815033), and methods for synthesizing the compound represented by formula (V) include, for example, Can be synthesized by the method described in U.S. Pat.

(1)金属錯体化合物Bの合成
前述した例示化合物(45)、(46)、(47)のメタノール溶液に、それぞれ酢酸ニッケルのメタノール溶液(0.6当量)を滴下した後濾別し、表1で示す金属錯体化合物B(B成分:B1〜B3)を合成した。また、例示化合物(63)のエタノール溶液中に塩化ニッケル水溶液及びNHPF水溶液を滴下した後濾別し、金属錯体化合物(B成分:B4)を合成した。クロロホルム溶液中の最大吸収波長λmaxとモル吸光係数εとを表1に示す。
(1) Synthesis of metal complex compound B To each methanol solution of the exemplified compounds (45), (46), and (47), a methanol solution of nickel acetate (0.6 equivalents) was added dropwise, followed by filtration. 1 was synthesized as a metal complex compound B (B component: B1 to B3). Also, filtered off was added dropwise aqueous nickel chloride solution and NH 4 PF 6 aqueous ethanol solution of Exemplified Compound (63), a metal complex compound (B component: B4) was synthesized. Table 1 shows the maximum absorption wavelength λmax and the molar extinction coefficient ε in the chloroform solution.

Figure 2005271587
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(2)耐光性試験
有機色素化合物Aと金属錯体化合物Bとを所定の組成比で調製した光記録材料の0.6重量%テトラフルオロプロパノール溶液を、厚さ0.6mm、直径12cmの射出成形型ポリカーボネート製樹脂基板上に回転800rpmでスピンコートした後で乾燥し、次いで、適当な大きさにカットして調製してディスク切片に、耐光性試験機(株式会社東洋精機製作所製:サンテストXLS+)を使用して、Xeランプを45℃、250W/mで8時間照射した。
(2) Light resistance test An injection molding of a 0.6 wt% tetrafluoropropanol solution of an optical recording material prepared by mixing an organic dye compound A and a metal complex compound B at a predetermined composition ratio with a thickness of 0.6 mm and a diameter of 12 cm. A spin-coated polycarbonate resin substrate was spin-coated at 800 rpm, dried, then cut to a suitable size, prepared into a disk slice, a light resistance tester (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho: Suntest XLS +) The Xe lamp was irradiated for 8 hours at 45 ° C. and 250 W / m 2 .

尚、光記録材料中の有機色素化合物A(即ち、340nm〜440nmの波長範囲の吸収極大)をモニターできる吸収帯について、Xeランプの照射前の吸収極大の吸光度Iと、Xeランプの照射後の吸収極大の吸光度Iとをそれぞれ測定し、耐光性x=I/Iを算出した。通常、IとIの波長は同じである。数値が大きいほど耐光性が良好である。
尚、混合したB成分自身の440nm以下の吸収は、A成分と比較して非常に小さく、混合時の含量を考慮するとλmaxの吸収の大きさは、ほぼA成分の吸収としてみなすことができる。
For the absorption band capable of monitoring the organic dye compound A (that is, the absorption maximum in the wavelength range of 340 nm to 440 nm) in the optical recording material, the absorbance I 0 of the absorption maximum before irradiation of the Xe lamp and the irradiation of the Xe lamp The absorbance I 1 at the absorption maximum was measured, and light resistance x = I 1 / I 0 was calculated. Usually, the wavelengths of I 1 and I 0 are the same. The higher the value, the better the light resistance.
Incidentally, the absorption of 440 nm or less of the mixed B component itself is very small compared to the A component, and considering the content at the time of mixing, the magnitude of the absorption of λmax can be regarded as almost the absorption of the A component.

(実施例1〜13、比較例1〜7)
表2に示した組成の光記録材料について試験を行い耐光性xを評価した。結果を表2に示す。尚、有機色素化合物Aは以下の化合物(A1、A2)を使用した。
(Examples 1-13, Comparative Examples 1-7)
The optical recording material having the composition shown in Table 2 was tested to evaluate the light resistance x. The results are shown in Table 2. In addition, the organic pigment compound A used the following compounds (A1, A2).

Figure 2005271587
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Figure 2005271587
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表2の結果から、有機色素化合物Aの重量/金属錯体化合物Bの重量(以下「(A)成分/(B)成分」と記載する場合がある。)(A)成分/(B)成分=85/15〜70/30である光記録材料(実施例1〜13)は、前述の(2)耐光性試験方法で実施した耐光性xが50%以上あり、耐光性に優れることが確認できた。
一方、(A)成分/(B)成分=100/0及び、例えば、実施例10を除く90/10である光記録材料(比較例1〜7)は、耐光性xが30%未満であり、耐光性に劣ることが分かる。
From the results of Table 2, the weight of the organic dye compound A / the weight of the metal complex compound B (hereinafter sometimes referred to as “(A) component / (B) component”) (A) component / (B) component = It can be confirmed that the optical recording materials (Examples 1 to 13) of 85/15 to 70/30 have a light resistance x of 50% or more carried out by the above-mentioned (2) light resistance test method and are excellent in light resistance. It was.
On the other hand, (A) component / (B) component = 100/0 and, for example, optical recording materials (Comparative Examples 1 to 7) of 90/10 excluding Example 10 have a light resistance x of less than 30%. It turns out that it is inferior to light resistance.

尚、実施例13で使用した光記録材料をオクタフルオロペンタノールに溶解し、0.6wt%に調整した。これをろ過してできた溶解液を直径120mm、厚さ0.6mmの射出成型ポリカーボネート樹脂基板上に滴下し、スピナー法により塗布し、塗布後、100℃で30分間乾燥した。この塗布膜の最大吸収波長(λmax)は、388.5nm、次に大きな最大吸収波長は803.5nmであった。図2に吸収スペクトルを示す。   The optical recording material used in Example 13 was dissolved in octafluoropentanol and adjusted to 0.6 wt%. A solution obtained by filtering this was dropped onto an injection-molded polycarbonate resin substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm, applied by a spinner method, and dried at 100 ° C. for 30 minutes after application. The maximum absorption wavelength (λmax) of this coating film was 388.5 nm, and the next largest absorption wavelength was 803.5 nm. FIG. 2 shows an absorption spectrum.

(比較例8〜11)
実施例1で使用した化合物A1と、以下に示す化合物C(C成分:C1〜C4)とを表3に示す組成で調製し、耐光性試験を行った。結果を表3に示す。尚、C1は、500nm〜900nmの範囲にλmaxを有するアントラキノン色素であり、C2は、シアニン色素であり、C3は、B1の金属イオンに配位していないアゾ化合物であり、C4は、λmaxが500nm〜900nmの範囲外にあるアゾ系金属錯体化合物である。また、化合物Cの最大吸収波長(λmax)とεの値は、C1、C2、C4、C5はクロロホルム溶液中、C3はメタノール溶液中の測定値である。
(Comparative Examples 8-11)
The compound A1 used in Example 1 and the following compounds C (C components: C1 to C4) were prepared with the compositions shown in Table 3 and subjected to a light resistance test. The results are shown in Table 3. C1 is an anthraquinone dye having λmax in the range of 500 nm to 900 nm, C2 is a cyanine dye, C3 is an azo compound that is not coordinated to the metal ion of B1, and C4 is λmax It is an azo metal complex compound outside the range of 500 nm to 900 nm. The maximum absorption wavelength (λmax) and ε of compound C are measured values in a chloroform solution for C1, C2, C4, and C5, and C3 in a methanol solution.

Figure 2005271587
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Figure 2005271587
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Figure 2005271587
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表3の結果から、これら(比較例8〜11)は、いずれも耐光性の向上は見られないことが分かる。   From the results of Table 3, it can be seen that none of these (Comparative Examples 8 to 11) shows improvement in light resistance.

(実施例14〜17、比較例12〜15)
(1)光学記録媒体の作製例
表4に示す組成の光記録材料のオクタフルオロペンタノール溶液(0.6wt%)を、トラックピッチ425nm、溝幅163nm、溝深さ90nmの溝を有する直径120mm、厚さ0.6mmの射出成型ポリカーボネート樹脂基板に滴下し、スピナー法により塗布した。なお、塗布は、回転数600rpmから4900rpmへ25秒かけて回転数を上げ、4900rpmで5秒間保持して行った。更に、100℃で30分間乾燥し、記録層とした。次いで、スパッタリング法にて銀合金を100nmの厚さで成膜し、反射層を形成した。その後、UV硬化性樹脂からなる保護コート剤をスピナー法により塗布し、UV光を照射して厚さ5μmの保護層を形成させた。更に、遅延硬化型接着剤を用いて、保護層のある面に、厚さ0.6mmのポリカーボネート製基板を接着して、評価用の光学記録媒体を作成した。
(Examples 14-17, Comparative Examples 12-15)
(1) Production Example of Optical Recording Medium An octafluoropentanol solution (0.6 wt%) of an optical recording material having the composition shown in Table 4 was formed with a groove having a track pitch of 425 nm, a groove width of 163 nm, and a groove depth of 90 nm and a diameter of 120 mm. Then, it was dropped onto an injection molded polycarbonate resin substrate having a thickness of 0.6 mm and applied by a spinner method. The coating was performed by increasing the rotation speed from 600 rpm to 4900 rpm over 25 seconds and holding at 4900 rpm for 5 seconds. Further, the recording layer was dried at 100 ° C. for 30 minutes. Next, a silver alloy film was formed to a thickness of 100 nm by a sputtering method to form a reflective layer. Thereafter, a protective coating agent made of a UV curable resin was applied by a spinner method, and UV light was irradiated to form a protective layer having a thickness of 5 μm. Furthermore, an optical recording medium for evaluation was prepared by adhering a 0.6 mm thick polycarbonate substrate to the surface having the protective layer using a delayed curable adhesive.

(2)記録例
前述した光学記録媒体を線速度5.7m/secで回転させながら、波長405nm(対物レンズの開口数NA=0.65)のレーザ光で、(8Tマーク/8Tスペース)及び(3Tマーク/3Tペース)の単一周波数信号を溝上に記録し、それぞれの記録特性を測定した。結果を表4に示す。尚、Tは、周波数66MHzに対応する基準クロック周期である。記録パルスストラテジとして、分割パルス数はマーク長をnTとして(n−1)、先頭記録パルス幅2T、後続記録パルス幅0.6T、バイアスパワー0.2mW、再生パワー0.2mW、記録パワーを可変とした。
(2) Recording Example While rotating the optical recording medium described above at a linear velocity of 5.7 m / sec, with a laser beam having a wavelength of 405 nm (numerical aperture NA = 0.65 of the objective lens), (8T mark / 8T space) and A single frequency signal of (3T mark / 3T pace) was recorded on the groove, and each recording characteristic was measured. The results are shown in Table 4. T is a reference clock period corresponding to a frequency of 66 MHz. As a recording pulse strategy, the number of divided pulses is nT (n-1), the head recording pulse width is 2T, the subsequent recording pulse width is 0.6T, the bias power is 0.2mW, the reproduction power is 0.2mW, and the recording power is variable. It was.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

表4の結果から、(A)成分/(B)成分=80/20、70/30の光記録材料を使用した光学記録媒体(実施例14〜17)の記録特性及び記録感度が向上することが分かる。   From the results of Table 4, the recording characteristics and the recording sensitivity of the optical recording media (Examples 14 to 17) using the optical recording material of (A) component / (B) component = 80/20, 70/30 are improved. I understand.

(実施例18〜21、比較例16〜19)
実施例14〜17及び比較例12〜15において使用した光学記録媒体について、それぞれ、再生光パワー0.2mWで10回読み込み、8TのC/Nの減少dBを測定し、再生光劣化を比較した。数値が小さいほど再生光劣化が良好である。結果を表5に示す。
(Examples 18 to 21, Comparative Examples 16 to 19)
The optical recording media used in Examples 14 to 17 and Comparative Examples 12 to 15 were each read 10 5 times with a reproducing light power of 0.2 mW, and the C / N reduction dB of 8T was measured to compare the deterioration of the reproducing light. did. The smaller the value, the better the degradation of the reproduction light. The results are shown in Table 5.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

表5の結果から、(A)成分/(B)成分=80/20、70/30の光記録材料を使用した光学記録媒体(実施例18〜21)の再生光劣化が良好であることが分かる。   From the results of Table 5, it is understood that the reproduction light deterioration of the optical recording media (Examples 18 to 21) using the optical recording material of (A) component / (B) component = 80/20, 70/30 is good. I understand.

(実施例22、比較例20)
表6に示した組成の光記録材料を用いて、実施例14と同様に光学記録媒体を調製し、記録感度等について測定した。尚、有機色素化合物Aは以下の化合物(A3)を使用した。結果を表6に示す。
(Example 22, Comparative Example 20)
Using the optical recording material having the composition shown in Table 6, an optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 14, and the recording sensitivity and the like were measured. The organic dye compound A used the following compound (A3). The results are shown in Table 6.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

Figure 2005271587
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表6の結果から、記録感度が向上することが分かる。   From the results in Table 6, it can be seen that the recording sensitivity is improved.

(実施例23〜26、比較例21〜26)
表7及び表8に示した組成の光記録材料について、TG−DTA(DTG)測定を行い、熱分解挙動を観察した。TG−DTA(DTG)測定は、光記録材料の粉末を乳鉢で均一になるようすりつぶし、それぞれのサンプル(約3.5mg)を、TG−DTA(DTG)(セイコーインスツルメンツ株式会社製:TG/DTA 6200)を用いて、30℃から600℃まで、10℃/minの速度で昇温しながら、フローガスとして窒素、空気のそれぞれの条件で行った。結果を表7及び表8に示す、また、測定チャートを、図3〜図5に示す。
(Examples 23 to 26, Comparative Examples 21 to 26)
The optical recording materials having the compositions shown in Tables 7 and 8 were subjected to TG-DTA (DTG) measurement, and the thermal decomposition behavior was observed. In the TG-DTA (DTG) measurement, the powder of the optical recording material was ground in a mortar to make it uniform, and each sample (about 3.5 mg) was TG-DTA (DTG) (manufactured by Seiko Instruments Inc .: TG / DTA). 6200), the temperature was increased from 30 ° C. to 600 ° C. at a rate of 10 ° C./min, under the respective conditions of nitrogen and air as the flow gas. The results are shown in Tables 7 and 8, and the measurement charts are shown in FIGS.

Figure 2005271587
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Figure 2005271587
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表7及び表8の結果から、(A)成分/(B)成分=80/20、70/30の光記録材料は、単純な重量比以上にTGの分解開始温度が低温側にシフトし、そのDTG(TGの微分ピーク)ピーク温度が低下することが分かる。このような熱分解挙動により、光学記録媒体の記録感度等が向上していると考えられる。   From the results of Tables 7 and 8, in the optical recording material (A) component / (B) component = 80/20, 70/30, the decomposition start temperature of TG shifts to a low temperature side beyond a simple weight ratio, It turns out that the DTG (differential peak of TG) peak temperature falls. Such thermal decomposition behavior is considered to improve the recording sensitivity of the optical recording medium.

(実施例27、28、比較例27〜30) (Examples 27 and 28, Comparative Examples 27 to 30)

Figure 2005271587
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実施例23〜26と同様に、表9に記載した割合でA5とB1,B3、C5を混合した粉末をTG−DTA(DTG)測定を行い、熱分解挙動を観察した。TG−DTA(DTG)測定の条件は前項と同様である。結果を表9、表10に示す。また、比較例27の測定チャートを図6に示す。   Similarly to Examples 23 to 26, TG-DTA (DTG) measurement was performed on the powder in which A5, B1, B3, and C5 were mixed at the ratio shown in Table 9, and the thermal decomposition behavior was observed. The conditions for TG-DTA (DTG) measurement are the same as in the previous section. The results are shown in Tables 9 and 10. A measurement chart of Comparative Example 27 is shown in FIG.

Figure 2005271587
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Figure 2005271587
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表9及び表10の結果から、こちらも同様に(A)成分/(B)成分=70/30混合粉末が、単純な重量比以上にTGの分解開始温度が低温側にシフトし、そのDTG(TGの微分ピーク)ピーク温度も低下することが分かる。
一方、比較例として用いた未含金のモノアゾ化合物であるC5を混合した粉末は、図6を見て明らかな様に、C5単体の分解温度で先に混合比の分だけ分解してしまい、記録用である有機色素化合物Aの分解開始温度の低下に寄与しないことが明らかである。
From the results of Tables 9 and 10, the (A) component / (B) component = 70/30 mixed powder also has a TG decomposition start temperature shifted to a low temperature side above a simple weight ratio. (TG differential peak) It can be seen that the peak temperature also decreases.
On the other hand, the powder mixed with C5, which is a non-gold-containing monoazo compound used as a comparative example, was decomposed by the mixing ratio first at the decomposition temperature of C5 alone, as is apparent from FIG. It is clear that it does not contribute to the decrease in the decomposition start temperature of the organic dye compound A for recording.

(実施例29〜44、比較例31〜39)
前述の実施例1〜13と同様にして、有機色素化合物A2,A4,A5に、金属錯体化合物B5、B6、B3、B4を表11に示す割合で調合し、色素塗布ディスクを作成し、耐光性試験を行い、耐光性xを算出した結果を表11に示す。また、B5、B6の成分を表12に示した。
(Examples 29-44, Comparative Examples 31-39)
In the same manner as in Examples 1 to 13, the organic dye compounds A2, A4 and A5 were mixed with the metal complex compounds B5, B6, B3 and B4 in the ratios shown in Table 11 to prepare a dye-coated disk, and light resistance Table 11 shows the results of the light resistance test and the light resistance x calculated. In addition, Table 12 shows components of B5 and B6.

Figure 2005271587
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この結果から、A2,A4,A5がそれぞれ100%の結果に比べて、金属錯体化合物B3、B4、B5を含有することにより耐光性が極めて向上することが明らかである。   From this result, it is clear that the light resistance is significantly improved by containing the metal complex compounds B3, B4, and B5 as compared with the results of 100% for A2, A4, and A5.

また、図9には、実施例1〜13、比較例1〜7、実施例29〜44、比較例31〜39の結果をまとめて図示した。図9から、所望の耐光性xを得ることができるA/Bは、金属錯体化合物Bが0重量%の時の有機色素化合物Aの耐光性と金属錯体化合物Bとの組み合わせにより、異なることが分かる。   Moreover, in FIG. 9, the result of Examples 1-13, Comparative Examples 1-7, Examples 29-44, and Comparative Examples 31-39 was shown in figure collectively. From FIG. 9, the A / B at which the desired light resistance x can be obtained differs depending on the combination of the light resistance of the organic dye compound A and the metal complex compound B when the metal complex compound B is 0% by weight. I understand.

また、A2に対する最大吸収波長(λmax)がそれぞれ793.5nm、577nm、579.5nmであるB4、B5、B6の耐光性への効果を比較するとわかるように、最大吸収波長(λmax)が620nm以下であるB5、B6の必要量はそれよりも長波長側に最大吸収波長(λmax)を有するB4よりも大きく、この例では金属錯体化合物Bは15重量%以上と見積もれる。耐光性xを50%以上とするには、20重量%程度は必要である。   Further, as can be seen by comparing the effects on light resistance of B4, B5, and B6 whose maximum absorption wavelength (λmax) for A2 is 793.5 nm, 577 nm, and 579.5 nm, respectively, the maximum absorption wavelength (λmax) is 620 nm or less. The required amounts of B5 and B6 are larger than B4 having the maximum absorption wavelength (λmax) on the longer wavelength side, and in this example, the metal complex compound B is estimated to be 15% by weight or more. In order to make the light resistance x 50% or more, about 20% by weight is necessary.

図10に、有機色素化合物A2と金属錯体化合物Bとの最大吸収波長(λmax)の差(Δλ=λmax(B)−λmax(A))と耐光性xとの関係を示す。
即ち、比較例1(A2=100% Δλ=0)と、実施例13(A2/B4=70/30,Δλ=404.5nm),実施例30(A2/B5=70/30,Δλ=188nm)、実施例32(A2/B6=70/30,Δλ=190.5nm)の耐光性xを示す。図10には、有機色素化合物Aに対する金属錯体化合物Bの最大吸収波長(λmax)は長い方が耐光性xへの効果が大きいという傾向が見られる。この例では、耐光性x50%以上を得るには、波長は100nm以上長い方が良いことが分かる。耐光性x80%以上を得るには、波長は200nm以上長い方が良い。さらに好ましい耐光性x90%以上を得るには、波長は300nm以上長い方が良い。
FIG. 10 shows the relationship between the difference in maximum absorption wavelength (λmax) between the organic dye compound A2 and the metal complex compound B (Δλ = λmax (B) −λmax (A)) and the light resistance x.
That is, Comparative Example 1 (A2 = 100% Δλ = 0), Example 13 (A2 / B4 = 70/30, Δλ = 404.5 nm), Example 30 (A2 / B5 = 70/30, Δλ = 188 nm) ), Light resistance x of Example 32 (A2 / B6 = 70/30, Δλ = 190.5 nm) is shown. FIG. 10 shows that the longer the maximum absorption wavelength (λmax) of the metal complex compound B with respect to the organic dye compound A, the greater the effect on the light resistance x. In this example, it is understood that the wavelength is preferably longer by 100 nm or more in order to obtain the light resistance x50% or more. In order to obtain light resistance of 80% or more, the wavelength is preferably longer by 200 nm or more. In order to obtain more preferable light resistance x 90% or more, the wavelength is preferably longer by 300 nm or more.

(比較例40)
金属錯体化合物ではなく、また、最大吸収波長(λmax)が354.5nmとA4(最大吸収波長(λmax)=377nm)よりも短波長であるC4を、実施例43と同様にしてA4/C4=70/30として色素塗布ディスクを作製し、耐光性xを調べたところ、13.3%と、耐光性の向上は見られなかった。結果を表13に示す。
(Comparative Example 40)
C4, which is not a metal complex compound and has a maximum absorption wavelength (λmax) of 354.5 nm and shorter than A4 (maximum absorption wavelength (λmax) = 377 nm), is converted into A4 / C4 = When a dye-coated disk was prepared as 70/30 and the light resistance x was examined, no improvement in light resistance was seen at 13.3%. The results are shown in Table 13.

Figure 2005271587
Figure 2005271587

尚、本出願は、2004年2月26日付きで出願された日本出願(特願2004−052421)に基づいており、その全体が引用により援用される。   In addition, this application is based on the Japanese application (Japanese Patent Application No. 2004-052421) for which it applied on February 26, 2004, The whole is used by reference.

本実施の形態が適用される光学記録媒体を説明する図である。図1(a)は、第1の実施の形態であり、図1(b)は、第2の実施の形態である。It is a figure explaining the optical recording medium with which this Embodiment is applied. FIG. 1 (a) is a first embodiment, and FIG. 1 (b) is a second embodiment. 実施例13で使用した光記録材料の吸収スペクトルである。14 is an absorption spectrum of the optical recording material used in Example 13. 比較例24で使用した光記録材料の空気中で測定したTG−DTAのチャートである。16 is a TG-DTA chart measured in the air of the optical recording material used in Comparative Example 24. 実施例26で使用した光記録材料の空気中で測定したTG−DTAのチャートである。27 is a TG-DTA chart measured in the air of the optical recording material used in Example 26. FIG. 比較例26で使用した光記録材料の空気中で測定したTG−DTAのチャートである。27 is a chart of TG-DTA measured in the air of the optical recording material used in Comparative Example 26. FIG. 比較例27で使用した光記録材料の空気中でTG−DTAのチャートである。27 is a TG-DTA chart in the air of the optical recording material used in Comparative Example 27. FIG. 400nm近傍に「弱い吸収帯」をもつ金属錯体化合物Bからなる膜の吸収スペクトルである。It is an absorption spectrum of a film made of a metal complex compound B having a “weak absorption band” in the vicinity of 400 nm. 400nm近傍に「弱い吸収帯」をもたない金属錯体化合物Bからなる膜の吸収スペクトルである。It is an absorption spectrum of a film made of the metal complex compound B having no “weak absorption band” in the vicinity of 400 nm. 表2及び表11に示した光記録材料の耐光性xを示す図である。It is a figure which shows the light resistance x of the optical recording material shown in Table 2 and Table 11. 有機色素化合物A2と金属錯体化合物Bとの最大吸収波長(λmax)の差((Δλ=λmax(B)−λmax(A))と耐光性xとの関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the difference (((DELTA) (lambda) = (lambda) max (B)-(lambda) max (A))) of the maximum absorption wavelength ((lambda) max) of the organic pigment | dye compound A2 and the metal complex compound B, and light resistance x.

符号の説明Explanation of symbols

1…基板、2…記録層、3…反射層、4…保護層、5…保護被膜、10,20…光学記録媒体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate, 2 ... Recording layer, 3 ... Reflective layer, 4 ... Protective layer, 5 ... Protective film, 10, 20 ... Optical recording medium

Claims (22)

最大吸収波長(λmax)が340nm以上440nm以下である有機色素化合物Aと、
最大吸収波長(λmax)が500nm以上900nm以下である金属錯体化合物Bと、を含有し、
前記有機色素化合物Aの含有量が、前記金属錯体化合物Bの含有量よりも多く、
下記式で算出された耐光性xが30%以上であることを特徴とする光記録材料。
耐光性x={(I/I)×100}
(但し、上記式中、Iは、前記有機色素化合物A及び前記金属錯体化合物B混合物の分光光度計により測定された膜の吸収スペクトルにおいて、波長範囲340nm〜440nmに存在する吸収極大の吸光度である。Iは、前記有機色素化合物A及び前記金属錯体化合物B混合物の膜に光照射処理を施した後、分光光度計により測定された膜の吸収スペクトルにおいて、波長範囲340nm〜440nmに存在する吸収極大の吸光度である。)
An organic dye compound A having a maximum absorption wavelength (λmax) of 340 nm to 440 nm;
A metal complex compound B having a maximum absorption wavelength (λmax) of 500 nm or more and 900 nm or less,
The content of the organic dye compound A is greater than the content of the metal complex compound B,
An optical recording material having a light resistance x calculated by the following formula of 30% or more.
Light resistance x = {(I 1 / I 0 ) × 100}
(However, in the above formula, I 0 is the absorbance of the absorption maximum existing in the wavelength range of 340 nm to 440 nm in the absorption spectrum of the film measured by a spectrophotometer of the organic dye compound A and the metal complex compound B mixture). I 1 is present in a wavelength range of 340 nm to 440 nm in the absorption spectrum of the film measured by a spectrophotometer after the film of the organic dye compound A and the metal complex compound B mixture is subjected to light irradiation treatment. It is the absorbance at the absorption maximum.)
前記有機色素化合物Aは、分光光度計により測定された膜の吸収スペクトルの波長範囲340nm〜440nmに存在する吸収極大の吸光度(IA0)と、当該有機色素化合物Aの膜に光照射処理を施した後に測定された膜の吸収スペクトルの波長範囲340nm〜440nmに存在する吸収極大の吸光度(IA1)と、を用いて算出された耐光性x={(IA1/IA0)×100}が30%未満であることを特徴とする請求項1記載の光記録材料。 The organic dye compound A is subjected to a light irradiation treatment on the absorption maximum (I A0 ) existing in the wavelength range of 340 nm to 440 nm of the absorption spectrum of the film measured by a spectrophotometer, and the organic dye compound A film. And the light absorption x = {(I A1 / I A0 ) × 100} calculated using the absorbance (I A1 ) of the absorption maximum existing in the wavelength range 340 nm to 440 nm of the absorption spectrum of the film measured after 2. The optical recording material according to claim 1, wherein the content is less than 30%. 前記耐光性xは、下記操作ステップにより算出されることを特徴とする請求項1または2記載の光記録材料。
(操作ステップ)
(ステップ1)前記有機色素化合物Aと前記金属錯体化合物Bとを含有する溶液を透明基板上にスピンコートした後に乾燥し、色素塗布ディスクを調製する。
(ステップ2)分光光度計を用いて、波長300nm〜900nmにおいて、前記(ステップ1)で調製した前記色素塗布ディスクの吸収スペクトルを測定し、波長範囲340nm〜440nmに存在する吸収極大の吸光度をIとする。
(ステップ3)前記(ステップ1)で調製した前記色素塗布ディスクに、キセノンランプを250W/mで8時間照射する光照射処理を施した後、前記(ステップ2)と同じ条件で吸収スペクトルを測定し、波長範囲340nm〜440nmに存在する吸収極大の吸光度をIとする。
(ステップ4)前記(ステップ2)における前記(I)と、前記(ステップ3)における前記(I)に基づき、{(I/I)×100}を算出する。
3. The optical recording material according to claim 1, wherein the light resistance x is calculated by the following operation steps.
(Operation steps)
(Step 1) A solution containing the organic dye compound A and the metal complex compound B is spin-coated on a transparent substrate and then dried to prepare a dye-coated disk.
(Step 2) Using a spectrophotometer, the absorption spectrum of the dye-coated disk prepared in (Step 1) above is measured at a wavelength of 300 nm to 900 nm, and the absorbance of the absorption maximum existing in the wavelength range of 340 nm to 440 nm is expressed as I. 0 .
(Step 3) The dye-coated disk prepared in (Step 1) was subjected to a light irradiation treatment in which a xenon lamp was irradiated at 250 W / m 2 for 8 hours, and then an absorption spectrum was obtained under the same conditions as in (Step 2). Measure and set the absorbance at the absorption maximum existing in the wavelength range of 340 nm to 440 nm as I 1 .
(Step 4) Based on (I 0 ) in (Step 2) and (I 1 ) in (Step 3), {(I 1 / I 0 ) × 100} is calculated.
前記金属錯体化合物Bの最大吸収波長(λmax)が500nm〜620nmの場合は、前記有機色素化合物Aと前記金属錯体化合物Bとの合計量を100重量%としたときの前記金属錯体化合物Bの含有量%を20重量%以上40重量%以下とすることを特徴とする請求項1乃至3いずれか1項記載の光記録材料。   When the maximum absorption wavelength (λmax) of the metal complex compound B is 500 nm to 620 nm, the content of the metal complex compound B when the total amount of the organic dye compound A and the metal complex compound B is 100% by weight 4. The optical recording material according to claim 1, wherein the amount% is 20% by weight or more and 40% by weight or less. 前記有機色素化合物Aの最大吸収波長(λmax)と前記金属錯体化合物Bの最大吸収波長(λmax)との差が、100nm以上であることを特徴とする請求項1乃至4いずれか1項記載の光記録材料。   The difference between the maximum absorption wavelength (λmax) of the organic dye compound A and the maximum absorption wavelength (λmax) of the metal complex compound B is 100 nm or more. Optical recording material. 前記金属錯体化合物Bの最大吸収波長(λmax)が680nm〜900nmであることを特徴とする請求項1又は5記載の光記録材料。   6. The optical recording material according to claim 1, wherein the metal complex compound B has a maximum absorption wavelength (λmax) of 680 nm to 900 nm. 前記耐光性xが50%以上であることを特徴とする請求項1乃至6いずれか1項記載の光記録材料。   The optical recording material according to claim 1, wherein the light resistance x is 50% or more. 前記有機色素化合物Aが、γ―ピロン系有機色素、γ−チオピロン系有機色素、γ−1,1−ジオキソチオピロン系有機色素、γ−ピリドン系有機色素、クマリン系有機色素、カルボスチリル系有機色素及び1−チオクマリン系有機色素から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1乃至7いずれか1項記載の光記録材料。   The organic dye compound A is a γ-pyrone organic dye, γ-thiopyrone organic dye, γ-1,1-dioxothiopyrone organic dye, γ-pyridone organic dye, coumarin organic dye, carbostyril 8. The optical recording material according to claim 1, wherein the optical recording material is at least one selected from organic dyes and 1-thiocoumarin organic dyes. 前記金属錯体化合物Bがアゾ系金属錯体化合物またはインドアニリン系金属錯体化合物であることを特徴とする請求項1乃至8いずれか1項記載の光記録材料。   9. The optical recording material according to claim 1, wherein the metal complex compound B is an azo metal complex compound or an indoaniline metal complex compound. 前記金属錯体化合物Bが、金属イオンと、下記一般式(I)で表されるアゾ化合物と、からなるアゾ系金属錯体化合物であることを特徴とする請求項9記載の光記録材料。
Figure 2005271587
(式(I)中、環Aは、炭素原子及び窒素原子とともに形成される含窒素複素芳香環であり、XLは、Lが脱離することによりXが陰イオンとなり金属が配位可能となる置換基を表す。R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、アラルキル基又はアルケニル基を表し、これらは各々隣接する置換基同士または互いに縮合環を形成してもよい。R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルケニル基、炭素数7〜18のアラルキル基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、単環の飽和複素環基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ホルミル基、−COR34で表されるアシル基、−NR3536で表されるアミノ基、−NHCOR37で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR38で表されるカーバメート基、−COOR39で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR40で表されるアシルオキシ基、−CONR4142で表されるカルバモイル基、−SO43で表されるスルホニル基、−SOR44で表されるスルフィニル基、−SONR4546で表されるスルファモイル基、−SO47で表されるスルホン酸エステル基、−NHSO48で表されるスルホンアミド基を表す。(但し、R34、R37、R38、R39、R40、R43、R44、R47、R48は、それぞれ独立に、炭化水素基、または複素環基を表し、R35、R36、R41、R42、R45、R46は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、複素環基のいずれかを表す。))
The optical recording material according to claim 9, wherein the metal complex compound B is an azo metal complex compound comprising a metal ion and an azo compound represented by the following general formula (I).
Figure 2005271587
(In Formula (I), Ring A is a nitrogen-containing heteroaromatic ring formed together with a carbon atom and a nitrogen atom, and XL is capable of coordinating a metal with X becoming an anion when L is eliminated. R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, a cyclic alkyl group, an aralkyl group or an alkenyl group, which are each condensed with adjacent substituents or with each other. R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, carbon A linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a linear or branched alkylthio group having 1 to 12 carbon atoms, A monocyclic saturated heterocyclic group, Androgenic atom, a nitro group, a cyano group, a mercapto group, hydroxy group, formyl group, acyl group represented by -COR 34, amino group represented by -NR 35 R 36, an acylamino group represented by -NHCOR 37, A carbamate group represented by —NHCOOR 38; a carboxylic acid ester group represented by —COOR 39; an acyloxy group represented by —OCOR 40; a carbamoyl group represented by —CONR 41 R 42 ; and —SO 2 R 43 . the sulfonyl group represented, sulfinyl group represented by -SOR 44, a sulfamoyl group represented by -SO 2 NR 45 R 46, sulfonic acid ester group represented by -SO 3 R 47, at -NHSO 2 R 48 Represents a sulfonamide group represented by the formula (However, R 34 , R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 43 , R) 44 , R 47 , R 48 each independently represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group, and R 35 , R 36 , R 41 , R 42 , R 45 , R 46 each independently represent a hydrogen atom, It represents either a hydrocarbon group or a heterocyclic group.))
前記一般式(I)で表されるアゾ化合物において、環Aが5〜6員環の単環または2縮合環の含窒素複素芳香環を表し、XLがヒドロキシ基、スルホン酸基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、メルカプト基、カルボキシル基を表し、R、Rが、それぞれ独立に、炭素数1〜12の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数7〜12アラルキル基を表す、または各々隣接する置換基同士または互いに飽和縮合環を形成し、R、R、Rは、各々独立に水素原子または炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基、炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、単環の5〜6員環の飽和複素環基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、−COR34で表されるアシル基、−NR3536で表されるアミノ基、−NHCOR37で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR38で表されるカーバメート基、−COOR39で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR40で表されるアシルオキシ基、−CONR4142で表されるカルバモイル基、−SO43で表されるスルホニル基、−SONR4546で表されるスルファモイル基、−NHSO48で表されるスルホンアミド基を表すことを特徴とする請求項10記載の光記録材料。 In the azo compound represented by the general formula (I), ring A represents a 5- or 6-membered monocyclic or bicondensed nitrogen-containing heteroaromatic ring, XL represents a hydroxy group, a sulfonic acid group, an acylamino group, Represents a sulfonamide group, a mercapto group, or a carboxyl group, and R 1 and R 2 each independently represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or 7 carbon atoms. -12 represents an aralkyl group, or each forms a saturated condensed ring with adjacent substituents or each other, R 3 , R 4 , and R 5 are each independently a hydrogen atom or a linear or branched group having 1 to 8 carbon atoms Alkyl group, C 7-12 aralkyl group, C 1-8 linear or branched alkoxy group, C 1-8 linear or branched alkylthio group, monocyclic 5-6 membered saturated Heterocyclic group, halogen atom, di B group, a cyano group, a mercapto group, hydroxy group, acyl group represented by -COR 34, amino group represented by -NR 35 R 36, an acylamino group represented by -NHCOR 37, represented by -NHCOOR 38 A carbamate group, a carboxylate group represented by -COOR 39 , an acyloxy group represented by -OCOR 40 , a carbamoyl group represented by -CONR 41 R 42 , a sulfonyl group represented by -SO 2 R 43 , The optical recording material according to claim 10, wherein the optical recording material represents a sulfamoyl group represented by —SO 2 NR 45 R 46 and a sulfonamide group represented by —NHSO 2 R 48 . 前記金属錯体化合物Bは、金属イオン及び任意のアニオンと、下記一般式(II)に示す化合物と、からなる金属錯体化合物であることを特徴とする請求項9記載の光記録材料。
Figure 2005271587
(式(II)中、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、アラルキル基、アルケニル基を表し、これらは各々隣接する置換基同士または互いに縮合環を形成してもよい。R〜R16は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルケニル基、炭素数7〜18のアラルキル基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、飽和または不飽和の複素環基、炭素数6〜18のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ホルミル基、−COR34で表されるアシル基、−NR3536で表されるアミノ基、−NHCOR37で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR38で表されるカーバメート基、−COOR39で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR40で表されるアシルオキシ基、−CONR4142で表されるカルバモイル基、−SO43で表されるスルホニル基、−SOR44で表されるスルフィニル基、−SONR4546で表されるスルファモイル基、−SO47で表されるスルホン酸エステル基、−NHSO48で表されるスルホンアミド基を表す。(但し、R34、R37、R38、R39、R40、R43、R44、R47、R48は、それぞれ独立に、炭化水素基、または複素環基を表し、R35、R36、R41、R42、R45、R46は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、複素環基のいずれかを表す。))
10. The optical recording material according to claim 9, wherein the metal complex compound B is a metal complex compound composed of a metal ion and an arbitrary anion and a compound represented by the following general formula (II).
Figure 2005271587
(In the formula (II), R 6 and R 7 each independently represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, a cyclic alkyl group, an aralkyl group, or an alkenyl group, each of these being adjacent substituents or R 8 to R 16 may each independently form a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a carbon number. 2-12 linear or branched alkenyl group, C7-18 aralkyl group, C1-12 linear or branched alkoxy group, C1-12 linear or branched alkylthio group, saturation Or an unsaturated heterocyclic group, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a mercapto group, a hydroxy group, a formyl group, an acyl group represented by —COR 34 , —NR 35 R 3 An amino group represented by 6; an acylamino group represented by —NHCOR 37; a carbamate group represented by —NHCOOR 38; a carboxylic acid ester group represented by —COOR 39; an acyloxy group represented by —OCOR 40 ; A carbamoyl group represented by —CONR 41 R 42; a sulfonyl group represented by —SO 2 R 43; a sulfinyl group represented by —SOR 44; a sulfamoyl group represented by —SO 2 NR 45 R 46 ; 3 represents a sulfonic acid ester group represented by R 47 and a sulfonamide group represented by —NHSO 2 R 48. (However, R 34 , R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 43 , R 44) , R 47 and R 48 each independently represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group, and R 35 , R 36 , R 41 , R 42 , R 45. And R 46 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or a heterocyclic group.))
前記任意のアニオンが、1価の一座配位子であることを特徴とする請求項12記載の光記録材料。   The optical recording material according to claim 12, wherein the arbitrary anion is a monovalent monodentate ligand. 前記金属錯体化合物Bが、2価または3価の遷移金属イオンを有する金属錯体化合物であることを特徴とする請求項1乃至13いずれか1項記載の光記録材料。   14. The optical recording material according to claim 1, wherein the metal complex compound B is a metal complex compound having a divalent or trivalent transition metal ion. 前記遷移金属が、ニッケル、コバルト、銅、鉄、亜鉛、白金、パラジウム及びマンガンからなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項14記載の光記録材料。   The optical recording material according to claim 14, wherein the transition metal is at least one selected from the group consisting of nickel, cobalt, copper, iron, zinc, platinum, palladium, and manganese. 前記有機色素化合物Aが、下記一般式(III)及び(IV)に示す化合物から選ばれるものであることを特徴とする請求項1乃至15いずれか1項記載の光記録材料。
Figure 2005271587
Figure 2005271587
(式(III)又は(IV)中、R17〜R20及びR17’〜R20’は、それぞれ独立に、水素原子、または炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルケニル基、炭素数7〜18のアラルキル基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、飽和または不飽和の複素環基、炭素数6〜18のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ホルミル基、−COR34で表されるアシル基、−NR3536で表されるアミノ基、−NHCOR37で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR38で表されるカーバメート基、−COOR39で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR40で表されるアシルオキシ基、−CONR4142で表されるカルバモイル基、−SO43で表されるスルホニル基、−SOR44で表されるスルフィニル基、−SONR4546で表されるスルファモイル基、−SO47で表されるスルホン酸エステル基、−NHSO48で表されるスルホンアミド基を表す(但しR34、R37、R38、R39、R40、R43、R44、R47、R48は、それぞれ独立に、炭化水素基、または複素環基を表し、R35、R36、R41、R42、R45、R46は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、複素環基のいずれかを表す。但し、R17とR18、R19とR20、R17’とR18’、R19’とR20’は、各々縮合して炭化水素環または複素環構造を形成してもよい。当該炭化水素環及び当該複素環は、置換基を有していてもよい。)。Xは、電子吸引性基であり、Xは、水素原子または−Q−Y(Qは、直接結合、炭素数1または2のアルキレン基、アリーレン基またはヘテロアリーレン基であり、Yは、電子吸引性基であり、当該アルキレン基、当該アリーレン基、当該ヘテロアリーレン基は、Y以外に任意の置換基を有していてもよい。)である。環Cは、C=Oと共に置換基を有していてもよい炭素環式ケトン環または複素環式ケトン環である。Z及びZ’は、それぞれ−O−、−S−、−SO−、−NR21−(ここで、R21は、水素原子、置換されてもよい炭化水素基、置換されてもよい複素環基、シアノ基、ヒドロキシ基)、−NR2223で表されるアミノ基(R22、R23は、各々独立に、水素原子、炭化水素基または複素環基)、若しくは−COR24(R24は、炭化水素基または複素環基である)、−COR25(R25は、炭化水素基または複素環基である)で表されるアシル基のいずれかを表す)。
16. The optical recording material according to claim 1, wherein the organic dye compound A is selected from compounds represented by the following general formulas (III) and (IV).
Figure 2005271587
Figure 2005271587
(In the formula (III) or (IV), R 17 to R 20 and R 17 ′ to R 20 ′ each independently represent a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a carbon number. C3-C12 cyclic alkyl group, C2-C12 linear or branched alkenyl group, C7-C18 aralkyl group, C1-C12 linear or branched alkoxy group, C1-C12 A linear or branched alkylthio group, a saturated or unsaturated heterocyclic group, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a mercapto group, a hydroxy group, a formyl group, and —COR 34 An acyl group represented by —NR 35 R 36 , an acylamino group represented by —NHCOR 37 , a carbamate group represented by —NHCOOR 38 , and a carboxylic acid group represented by —COOR 39 Steryl group, acyloxy group represented by —OCOR 40 , carbamoyl group represented by —CONR 41 R 42 , sulfonyl group represented by —SO 2 R 43 , sulfinyl group represented by —SOR 44 , —SO 2 A sulfamoyl group represented by NR 45 R 46 , a sulfonic acid ester group represented by —SO 3 R 47 , and a sulfonamide group represented by —NHSO 2 R 48 (provided that R 34 , R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 43 , R 44 , R 47 , R 48 each independently represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group, and R 35 , R 36 , R 41 , R 42 , R 45 , R 46 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group, and a heterocyclic group. However, R 17 and R 18, R 19 and R 20, R 17 'and R 18', and R 19 ' 20 'are each fused hydrocarbon ring or heterocyclic structure may be formed. The hydrocarbon ring and the heterocyclic ring may have a substituent.). X 1 is an electron withdrawing X 2 is a hydrogen atom or -QY (Q is a direct bond, an alkylene group having 1 or 2 carbon atoms, an arylene group or a heteroarylene group, and Y is an electron-withdrawing group. The alkylene group, the arylene group, and the heteroarylene group may have any substituent other than Y. The ring C may have a substituent together with C═O. Good carbocyclic ketone ring or heterocyclic ketone ring, wherein Z and Z ′ are —O—, —S—, —SO 2 —, —NR 21 — (wherein R 21 represents a hydrogen atom, Optionally substituted hydrocarbon group, optionally substituted heterocyclic group, cyano group Hydroxy group), - NR 22 R 23 amino groups (R 22, R 23 represented by each independently, a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a heterocyclic group), or -COR 24 (R 24 is a hydrocarbon Or an acyl group represented by —COR 25 (wherein R 25 is a hydrocarbon group or a heterocyclic group).
前記有機色素化合物Aは、下記一般式(V)に示す化合物であることを特徴とする
請求項1乃至15いずれか1項記載の光記録材料。
Figure 2005271587
(式(V)中、Xは−O−、−S−、−NR33−を表す。R26、R27、R28、R29、R30は、それぞれ独立して水素原子または炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数2〜12の直鎖又は分岐のアルケニル基、炭素数7〜18のアラルキル基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜12の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、炭素数6〜18のアリール基、飽和または不飽和の複素環基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ホルミル基、−COR34で表されるアシル基、−NR3536で表されるアミノ基、−NHCOR37で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR38で表されるカーバメート基、−COOR39で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR40で表されるアシルオキシ基、−CONR4142で表されるカルバモイル基、−SO43で表されるスルホニル基、−SOR44で表されるスルフィニル基、−SONR4546で表されるスルファモイル基、−SO47で表されるスルホン酸エステル基、−NHSO48で表されるスルホンアミド基を表す。R31、R32、R33は、それぞれ独立して、水素原子、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、アラルキル基、直鎖または分岐のアルケニル基、アシル基を表す。またR26〜R33のうち隣接する2つが結合して飽和炭化水素環または飽和複素環を形成していてもよい。但し、R34、R37、R38、R39、R40、R43、R44、R47、R48は、それぞれ独立に、炭化水素基、または複素環基を表し、R35、R36、R41、R42、R45、R46は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、複素環基のいずれかを表す。)
16. The optical recording material according to claim 1, wherein the organic dye compound A is a compound represented by the following general formula (V).
Figure 2005271587
(In formula (V), X represents —O—, —S—, —NR 33 —. R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , and R 30 each independently represents a hydrogen atom or a carbon number of 1; -12 linear or branched alkyl group, C3-C12 cyclic alkyl group, C2-C12 linear or branched alkenyl group, C7-C18 aralkyl group, C1-C12 Linear or branched alkoxy group, linear or branched alkylthio group having 1 to 12 carbon atoms, aryl group having 6 to 18 carbon atoms, saturated or unsaturated heterocyclic group, halogen atom, nitro group, cyano group, mercapto Group, hydroxy group, formyl group, acyl group represented by -COR 34 , amino group represented by -NR 35 R 36 , acylamino group represented by -NHCOR 37 , carbamate group represented by -NHCOOR 38 , -CO Carboxylic acid ester group represented by R 39, an acyloxy group represented by -OCOR 40, a carbamoyl group represented by -CONR 41 R 42, a sulfonyl group represented by -SO 2 R 43, tables in -SOR 44 .R 31 representing the the sulfinyl group, a sulfamoyl group represented by -SO 2 NR 45 R 46, sulfonic acid ester group represented by -SO 3 R 47, sulfonamide group represented by -NHSO 2 R 48 , R 32 and R 33 each independently represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, a cyclic alkyl group, an aralkyl group, a linear or branched alkenyl group, or an acyl group, and R 26 to R 33. Adjacent two of them may combine to form a saturated hydrocarbon ring or a saturated heterocyclic ring, provided that R 34 , R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 43 , R 44 , R 47 , R 48 each independently represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group, and R 35 , R 36 , R 41 , R 42 , R 45 , R 46 are Each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or a heterocyclic group.)
前記一般式(V)において、Xが、−O−、−NR33−であり、R26、R27、R28、R29、R30が、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数3〜8の環状アルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基、炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数1〜8の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、炭素数6〜12のアリール基、飽和または不飽和の単環または2縮合環の複素環基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ホルミル基、−COR34で表されるアシル基、−NR3536で表されるアミノ基、−NHCOR37で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR38で表されるカーバメート基、−COOR39で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR40で表されるアシルオキシ基、−CONR4142で表されるカルバモイル基、−NHSO48で表されるスルホンアミド基であり、R31、R32、R33が、それぞれ独立して、炭素数1〜12の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数3〜12の環状アルキル基、炭素数7〜18のアラルキル基であり、R29とR31、R30とR32の一方または両方が飽和炭化水素環または飽和複素環を形成していてもよい構造であることを特徴とする請求項15記載の光記録材料。 In the general formula (V), X is —O— or —NR 33 —, and R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , and R 30 are each independently a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 8 straight or branched alkyl groups, 3 to 8 carbon cyclic alkyl groups, 7 to 12 carbon aralkyl groups, 1 to 8 straight or branched alkoxy groups, 1 to 8 carbon atoms Chain or branched alkylthio group, aryl group having 6 to 12 carbon atoms, saturated or unsaturated monocyclic or bicyclic heterocyclic group, halogen atom, nitro group, cyano group, mercapto group, hydroxy group, formyl group, acyl group represented by -COR 34, amino group represented by -NR 35 R 36, an acylamino group represented by -NHCOR 37, carbamate group represented by -NHCOOR 38, carbo represented by -COOR 39 Ester group, an acyloxy group represented by -OCOR 40, a carbamoyl group represented by -CONR 41 R 42, a sulfonamide group represented by -NHSO 2 R 48, R 31, R 32, R 33 is Are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms, and R 29 and R 31 , R 30 and 16. The optical recording material according to claim 15, wherein one or both of R 32 has a structure which may form a saturated hydrocarbon ring or a saturated heterocyclic ring. 前記金属錯体化合物Bが、前記有機色素化合物Aの結晶化を阻害することを特徴とする請求項1乃至18いずれか1項記載の光記録材料。   The optical recording material according to claim 1, wherein the metal complex compound B inhibits crystallization of the organic dye compound A. 前記金属錯体化合物Bの分解開始温度が、前記有機色素化合物Aの分解開始温度以下であることを特徴とする請求項1乃至19いずれか1項記載の光記録材料。   The optical recording material according to any one of claims 1 to 19, wherein a decomposition start temperature of the metal complex compound B is not higher than a decomposition start temperature of the organic dye compound A. 情報の記録または再生が可能な光学記録媒体であって、
基板と、
前記基板上に設けられ、光照射による前記情報の記録又は再生が可能な記録層と、を有し、
前記記録層は、請求項1乃至20いずれか1項記載の光記録材料を含有することを特徴とする光学記録媒体。
An optical recording medium capable of recording or reproducing information,
A substrate,
A recording layer provided on the substrate and capable of recording or reproducing the information by light irradiation;
21. An optical recording medium, wherein the recording layer contains the optical recording material according to any one of claims 1 to 20.
前記光は、波長350nm〜530nmのレーザ光であることを特徴とする請求項21記載の光学記録媒体。   The optical recording medium according to claim 21, wherein the light is laser light having a wavelength of 350 nm to 530 nm.
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